JP2017115219A - 撥水性基材とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
該アルミニウム基材の表面に設けられたアルマイト層(3)と、
該アルマイト層の表面に設けられた撥水皮膜(4)と、を備えており、
上記アルマイト層は、上記アルミニウム基材と一体の基層(31)と、該基層の表面に並立する多数のピン状突起(32)とからなる凹凸構造(33)を有し、該凹凸構造の十点平均粗さRzjisに対し、上記凹凸構造の最大高さ位置からRzjisカット率20%となる高さの仮想切断面(A)において、上記ピン状突起の接触面積率が0.01以下であり、
上記撥水皮膜は、炭化水素系撥水材料からなる皮膜である、撥水性基材(1)にある。
該アルミニウム基材の表面に設けられたアルマイト層(3)と、
該アルマイト層の表面に設けられた撥水皮膜(4)と、を備えており、
上記アルマイト層は、上記アルミニウム基材と一体の基層(31)と、該基層の表面に並立する多数のピン状突起(32)とからなる凹凸構造(33)を有し、該凹凸構造の十点平均粗さRzjisに対し、上記凹凸構造の最大高さ位置からRzjisカット率20%となる高さの仮想切断面(A)において、上記ピン状突起の接触面積率が0.01以下であり、
上記撥水皮膜は、炭化水素系撥水材料からなる皮膜である、撥水性基材(1)の製造方法であって、
上記アルミニウム基材の表面に、アルマイト化処理とエッチング処理とにより、上記凹凸構造を有する上記アルマイト層を形成する工程と(S1、S2)、
上記炭化水素系撥水材料を含むコーティング液を調合する工程(S11)と、
上記コーティング液に、炭化水素系溶剤を添加して、水分を分離させて除去する工程(S12)と、
水分を除去した上記コーティング液に、上記アルマイト層を形成した上記アルミニウム基材を浸漬する工程(S13)と、
上記コーティング液が塗布された上記アルミニウム基材を焼成する工程(S15)と、を備える、撥水性基材の製造方法にある。
なお、括弧内の符号は、参考のために付したものであり、本発明はこれら符号により限定されるものではない。
次に、撥水性基材の実施形態について、図面を参照して説明する。本形態の撥水性基材は、例えば、熱交換器用のフィン材として使用することができ、車載用ヒートポンプシステムの室外機等に適用されて、低温高湿度の環境下における着霜を防止する。図1に示すように、撥水性基材1は、板状のアルミニウム基材2と、アルミニウム基材2の表面に形成されるアルマイト層3と、アルマイト層3の表面に形成される撥水皮膜4とから構成される。アルミニウム基材2は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。
以下に、撥水性基材1の詳細構造について、詳述する。
式1:接触面積率=[測定エリアA内のピン状突起32の総面積(単位:μm2)]/[測定エリアAの面積(単位:μm2)]
この接触面積率が、0.01以下、好適には、0.005以下となるように構成することで、最表層となる撥水皮膜4との組み合わせにより、超撥水性を発現することができる。
接触面積率と超撥水性の関係については、後述する。
[アルマイト成膜反応式]
・陽極:2Al+3H2O→Al2O3+6H++6e−
・陰極:2H++2e−→H2↑
式2:cosθ=[A1/(A1+A2)]cosθ1+[A2/(A1+A2)]cosθ2
式中、A1:撥水皮膜4の水滴5に対する接触面積、A2:空気層11の水滴5に対する接触面積、θ1:撥水皮膜4の凹凸がない表面の対水接触角、θ2:空気層11の対水接触角
アルマイト層3は、ピン状突起32が並立する規則正しい凹凸構造33を有するので、A1、A2は略一定であり、撥水性基材1の表面の撥水性は均一となる。また、θ1、θ2は定数であり、例えば、θ2=180°(すなわち、cosθ2=−1)であるから、最表層となる撥水皮膜4に撥水性の高い材料を用い、A2に対するA1の面積比率を小さくすると、対水接触角θは大きくなる。
このとき、式3に示すように、式2の第1項の係数は、撥水性基材1の接触面積率であり、最外表面において水滴5と接触する撥水皮膜4の接触面積率である。
式3:撥水性基材1の接触面積率=A1/(A1+A2)
この接触面積率は、上述したアルマイト層3の凹凸構造33の接触面積率と相関があり、Rzjisカット率20%の接触面積率が小さいほど、撥水性基材1の接触面積率も小さくなる。
炭化水素系撥水皮膜4の凹凸がない表面に対する対水接触角をθ1=90°とすると、図7に示されるように、撥水性基材1の接触面積率が小さいほど、対水接触角θが大きくなり、理論上は、接触面積率0.13以下で、対水接触角θが150°以上となる。つまり、ピン状突起32が一定間隔で配置されるとき、水滴5に接するピン状突起32の幅Wをより小さくし、突起間隔Dをより大きくするのがよく、ピン状突起32を覆う撥水皮膜4の接触面積がより小さくなる。具体的には、上述したRzjisカット率20%の接触面積率が、0.01以下であるとき、炭化水素系撥水材料からなる撥水皮膜4との組み合わせにより、対水接触角θを150°より大きくすることができる。
図8左図において、対向壁間に空気層11を形成する凹状部12について、ピン状突起32に相当する対向壁が、表面から深さ方向に均一な間隔を有して配置されるとき、凝縮水51が生成する空気層11の幅w(すなわち、突起間隔Dに相当)が排出性に影響する。例えば、高さhの凹状部12を含む立方体の一辺の長さLx、Lyが、Lx=Ly=2hの関係にあり、h:w=20:2〜13の範囲で変化させたとき、図8右図に示すように、目詰まりや滞留を生じずに、凝縮水51が排出される幅w(例えば、w2=6)が存在する。幅wがこれより小さいと、凝縮水51が目詰まりし(例えば、w1=3)、幅wがこれより大きいと、凝縮水51が滞留する(例えば、w3=11)。
式4:F=kwγ(cosθR−cosθA)
式中、k:係数、w:接触幅、γ:表面張力、cosθA:前進接触角、cosθR:後退接触角
式4から、重力mgが作用する側の前進接触角cosθAとその逆側の後退接触角cosθRとの差である、動的θ差(すなわち、cosθR−cosθA)が小さいほど、付着力Fが小さくなり、滑落しやすくなる。このとき、成長する凝縮水は、例えば、熱交換器用のフィン間の通路を閉塞しないように、フィン間隔より小さいことが望ましい。好適には、水滴直径が、フィン間隔の半分の大きさ(例えば、0.7mm)以下であればよく、例えば、動的θ差が0.01以下であるとき、水滴直径は0.7mmより十分小さくなる。
上記図5に示した方法で、アルマイト化処理工程S1とエッチング処理工程S2とを順に実施して、アルミニウム基材2の表面に、基層31と多数のピン状突起32からなるアルマイト層3を形成した。アルミニウム基材2には、熱交換器用のフィン材に用いられるAl−Mg−Si系アルミニウム合金(例えば、BA4104)を用いた。まず、アルマイト化処理工程S1において、アルミニウム基材2の表面を酸洗浄した。酸洗浄用の薬剤としては、硝酸(例えば、濃度67質量%)を用い、常温で1分間浸漬処理した。その後、燐酸浴中で電圧を印加して陽極酸化することにより、アルミニウム基材2の表面の全面に、六角形セル構造のアルマイト層3を形成した。陽極酸化は、以下に示す条件で行った。
[陽極酸化]
・薬剤:燐酸、濃度2質量%
・電圧:50V
・時間:50秒
[エッチング]
・薬剤:燐酸、濃度2質量%
・温度:40℃
・時間:10分
このアルマイト化とエッチングを繰り返し行って、アルミニウム基材2の表面に、凹凸構造33を有するアルマイト層3を形成した(すなわち、実施例1)。
実験例1で得られた、実施例1のアルミニウム基材2に、さらに、上記図9に示した工程で、アルマイト層3の凹凸構造33を被覆する、撥水皮膜4を形成した。まず、調合工程S11において、以下に示すように、エタノールを溶剤として用い、主剤41として、炭素数C8のオクチルアルコキシシランと、架橋剤42であるTEOSを添加して、30分間攪拌した(すなわち、S111)。さらに、触媒として0.05mol/Lの塩酸を添加して30分間攪拌し、主剤41と架橋剤42を架橋反応させて、ゲル化した(すなわち、S112)。
溶剤:エタノール(例えば、和光純薬工業(株)製)
主剤41:オクチルトリエトキシシラン(例えば、L04407;ジョンソン・マッセイ・ジャパン合同会社製、商品名)
架橋剤42:TEOS(例えば、KBE−04;信越化学工業(株)製、商品名)
触媒:塩酸0.05mol/L(例えば、和光純薬工業(株)製)
実験例1で得られた、実施例1のアルミニウム基材2に、実験例2と同様の方法で、撥水皮膜4を形成した。このとき、調合工程S11において、撥水皮膜4の主剤41として、以下に示すように、炭素数の異なるアルキルアルコキシシランを用いた。
炭素数C3:トリメトキシプロピルシラン(例えば、B21033;ジョンソン・マッセイ・ジャパン合同会社製、商品名)
炭素数C6:ヘキシルトリメトキシシラン(例えば、KBM−3063;信越化学工業(株)製、商品名)
炭素数C8:オクチルトリエトキシシラン(例えば、L04407;ジョンソン・マッセイ・ジャパン合同会社製、商品名)
炭素数C10:デシルトリメトキシシラン(例えば、KBM−3103;信越化学工業(株)製、商品名)
炭素数C12:ドデシルトリエトキシシラン(例えば、D3383;東京化成工業(株)製、商品名)
炭素数C18:オクタデシルトリエトキシシラン(例えば、S12325;和光純薬工業(株)製、商品名)
2 アルミニウム基材
3 アルマイト層
32 ピン状突起
33 凹凸構造
4 撥水皮膜
43 アルキル基
5 凝縮水
A 仮想切断面
Claims (7)
- アルミニウム基材(2)と、
該アルミニウム基材の表面に設けられたアルマイト層(3)と、
該アルマイト層の表面に設けられた撥水皮膜(4)と、を備えており、
上記アルマイト層は、上記アルミニウム基材と一体の基層(31)と、該基層の表面に並立する多数のピン状突起(32)とからなる凹凸構造(33)を有し、該凹凸構造の十点平均粗さRzjisに対し、上記凹凸構造の最大高さ位置からRzjisカット率20%となる高さの仮想切断面(A)において、上記ピン状突起の接触面積率が0.01以下であり、
上記撥水皮膜は、炭化水素系撥水材料からなる皮膜である、撥水性基材(1)。 - 上記接触面積率が、0.005以下である、請求項1に記載の撥水性基材。
- 上記炭化水素系撥水材料は、アルキル基(43)を有する金属アルコキシドからなる主剤(41)と有機シランからなる架橋剤(42)を含む、請求項1又は2に記載の撥水性基材。
- 上記金属アルコキシドは、炭素数3〜18のアルキル基を有するアルキルアルコキシシランであり、上記有機シランは、テトラアルコキシシランである、請求項3に記載の撥水性基材。
- 上記主剤と上記架橋剤のモル比は、7〜13:93〜87である、請求項3又は4項に記載の撥水性基材。
- アルミニウム基材(2)と、
該アルミニウム基材の表面に設けられたアルマイト層(3)と、
該アルマイト層の表面に設けられた撥水皮膜(4)と、を備えており、
上記アルマイト層は、上記アルミニウム基材と一体の基層(31)と、該基層の表面に並立する多数のピン状突起(32)とからなる凹凸構造(33)を有し、該凹凸構造の十点平均粗さRzjisに対し、上記凹凸構造の最大高さ位置からRzjisカット率20%となる高さの仮想切断面(A)において、上記ピン状突起の接触面積率が0.01以下であり、
上記撥水皮膜は、炭化水素系撥水材料からなる皮膜である、撥水性基材(1)の製造方法であって、
上記アルミニウム基材の表面に、アルマイト化処理とエッチング処理とにより、上記凹凸構造を有する上記アルマイト層を形成する工程と(S1、S2)、
上記炭化水素系撥水材料を含むコーティング液を調合する工程(S11)と、
上記コーティング液に、炭化水素系溶剤を添加して、水分を分離させて除去する工程(S12)と、
水分を除去した上記コーティング液に、上記アルマイト層を形成した上記アルミニウム基材を浸漬する工程(S13)と、
上記コーティング液が塗布された上記アルミニウム基材を焼成する工程(S15)と、を備える、撥水性基材の製造方法。 - 上記アルマイト層を形成する工程において、上記アルミニウム基材の表面を陽極酸化することによりアルマイト化処理する工程(S1)と、アルマイト化処理した上記アルミニウム基材をエッチング処理する工程(S2)と、を繰り返し行う、請求項6記載の撥水性基材の製造方法。
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