JP2017111827A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 第１の時間に第１のバッチを製造する間に測定される第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、複数のパラメータについて分布特性を決定することと、
   前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、モデルバッチを生成することと、
   シミュレートされたバッチの第１のセットに対応するシミュレートされたバッチデータセットの第１のセットを、前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、
   前記モデルバッチに基づいて、前記複数のパラメータの値を生成すること、及び
   前記生成された値に基づいて、品質予測を決定すること、によって、生成することと、
   前記シミュレートされたバッチデータセットの第１のセット及び前記第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、後続の第２のバッチの製造をモニタするために実装されるモデルを生成することと、を含む、方法。
2. 前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、前記複数のパラメータの値が、ランダムまたは擬似ランダム計算によって生成される、請求項１に記載の方法。
3. 前記シミュレートされたバッチの量が、全バッチの閾値量及びヒストリカルバッチの量によって決定される、請求項１又は請求項２に記載の方法。
4. 前記第１の時間後の第２の時間における前記第２のバッチの前記製造後、
   前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のバッチを製造する間に測定される前記複数のパラメータを含む第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記複数のパラメータについて前記分布特性を決定することと、
   前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、前記モデルバッチを生成することと、
   前記分布特性に基づいて、シミュレートされたバッチデータセットの第２のセットを生成することと、
   前記シミュレートされたバッチデータセットの第２のセット、前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記モデルを生成することと、を含む、請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の方法。
5. 前記モデルバッチが、前記分布特性に基づく、前記複数のパラメータの特性評価を含む、請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の方法。
6. 前記生成された値に基づいて前記品質予測を決定することが、前記第１のヒストリカルバッチデータセットとともに含まれる品質測定基準に基づいて、品質モデルを生成することをさらに含む、請求項１〜請求項５の何れか１項に記載の方法。
7. 第１の時間に第１のバッチを製造する間に測定される複数のパラメータを含む第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記複数のパラメータについて分布特性を決定し、前記複数のパラメータについて前記決定された分布特性に基づいて、モデルバッチを生成するための、パラメータ分析装置と、
   シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、前記モデルバッチに基づいて、前記複数のパラメータの値を生成するための、パラメータ生成装置であって、前記生成された値が、シミュレートされたバッチデータセットの第１のセット内に含まれる、パラメータ生成装置と、
   前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、前記生成された値に基づいて、前記シミュレートされたバッチデータセットの第１のセット内に含まれる品質予測を決定するための、品質予測装置と、
   前記シミュレートされたバッチデータセットの第１のセット及び前記第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、後続の第２のバッチの製造をモニタするために実装されるモデルを生成するための、バッチ分析装置と、を備える、装置。
8. 前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、前記複数のパラメータの値が、ランダムまたは擬似ランダム計算によって生成される、請求項７に記載の装置。
9. 前記シミュレートされたバッチの量が、全バッチの閾値量及びヒストリカルバッチの量によって決定される、請求項７又は請求項８に記載の装置。
10. 前記第１の時間後の第２の時間における前記第２のバッチの前記製造後、
    前記パラメータ分析装置が、
    前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のバッチを製造する間に測定される前記複数のパラメータを含む第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記複数のパラメータの前記分布特性を決定し、
    前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、前記モデルバッチを生成するものであり、
    前記パラメータ生成装置が、前記モデルバッチに基づいて、シミュレートされたバッチデータセットの第２のセットを生成し、
    前記バッチ分析装置が、前記シミュレートされたバッチデータセットの第２のセット、前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記モデルを生成するものである、請求項７〜請求項９の何れか１項に記載の装置。
11. 前記モデルバッチが、前記分布特性に基づく、前記複数のパラメータの特性評価を含む、請求項７〜請求項１０の何れか１項に記載の装置。
12. 前記生成された値に基づいて前記品質予測を決定するために、前記品質予測装置が、前記第１のヒストリカルバッチデータセットとともに含まれる品質測定基準に基づいて、品質モデルを生成するものである、請求項７〜請求項１１の何れか１項に記載の装置。
13. 実行されると、機械に、少なくとも、
    第１の時間に第１のバッチを製造する間に測定される第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、複数のパラメータについて分布特性を決定させ、
    前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、モデルバッチを生成させ、
    シミュレートされたバッチの第１のセットに対応するシミュレートされたバッチデータセットの第１のセットを、前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、
    前記モデルバッチに基づいて、前記複数のパラメータの値を生成すること、及び
    前記生成された値に基づいて、品質予測を決定すること、によって、生成させ、
    前記シミュレートされたバッチデータセットの第１のセット及び前記第１のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、後続の第２のバッチの製造をモニタするために実装されるモデルを生成させる、命令を含む、製品。
14. 前記シミュレートされたバッチの第１のセットのうちの１つごとに、前記複数のパラメータの値が、ランダムまたは擬似ランダム計算によって生成される、請求項１３に記載の製品。
15. 前記シミュレートされたバッチの量が、全バッチの閾値量及びヒストリカルバッチの量によって決定される、請求項１３又は請求項１４に記載の製品。
16. 前記第１の時間後の第２の時間における前記第２のバッチの製造後、前記命令が、実行されると、前記機械に、
    前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のバッチを製造する間に測定される前記複数のパラメータを含む第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記複数のパラメータについて前記分布特性を決定させ、
    前記複数のパラメータの前記分布特性に基づいて、前記モデルバッチを生成させ、
    前記分布特性に基づいて、シミュレートされたバッチデータセットの第２のセットを生成させ、
    前記シミュレートされたバッチデータセットの第２のセット、前記第１のヒストリカルバッチデータセット、及び前記第２のヒストリカルバッチデータセットに基づいて、前記モデルを生成させる、請求項１３〜請求項１５の何れか１項に記載の製品。
17. 前記モデルバッチが、前記分布特性に基づく、前記複数のパラメータの特性評価を含む、請求項１３〜請求項１６の何れか１項に記載の製品。
18. 前記生成された値に基づいて前記品質予測を決定するために、前記命令が、前記機械に、前記第１のヒストリカルバッチデータセットとともに含まれる品質測定基準に基づいて、品質モデルを生成させる、請求項１３〜請求項１７の何れか１項に記載の製品。