JP2017111150A - 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法 - Google Patents

欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017111150A
JP2017111150A JP2016243605A JP2016243605A JP2017111150A JP 2017111150 A JP2017111150 A JP 2017111150A JP 2016243605 A JP2016243605 A JP 2016243605A JP 2016243605 A JP2016243605 A JP 2016243605A JP 2017111150 A JP2017111150 A JP 2017111150A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imaging
defect inspection
film
imaging region
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016243605A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6902347B2 (ja
Inventor
麻耶 尾崎
Maya Ozaki
麻耶 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Publication of JP2017111150A publication Critical patent/JP2017111150A/ja
Priority to JP2021066416A priority Critical patent/JP7184954B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6902347B2 publication Critical patent/JP6902347B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8861—Determining coordinates of flaws
    • G01N2021/8864—Mapping zones of defects
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

【課題】異なる検査系列を統合して検査系列数を削減することが可能な欠陥検査用撮像装置を提供する。【解決手段】欠陥検査用撮像装置２０は、偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査のための撮像装置であって、フィルム１１０の撮像領域Ｒに光を照射する光照射手段２１と、フィルム１１０の撮像領域Ｒを２次元画像として撮像する撮像手段２２と、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように、光照射手段２１とフィルム１１０の撮像領域Ｒとの間に配置される第１の偏光フィルタ２３１と、光照射手段２１、撮像手段２２及び偏光フィルタ２３に対してフィルム１１０を搬送方向Ｙに相対的に搬送する搬送手段とを備え、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第１の撮像領域Ｒ１及び第２の撮像領域Ｒ２を含み、第１の偏光フィルタ２３１は、光照射手段２１と第１の撮像領域Ｒ１との間に配置される。【選択図】図３

Description

本発明は、フィルムの欠陥を検査するための欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法に関する。
偏光フィルム及び位相差フィルム等の光学フィルム、電池のセパレータに用いられるフィルム等の欠陥を検出する欠陥検査システムが知られている。この種の欠陥検査システムは、搬送手段によってフィルムを搬送し、光照射手段によってフィルムの撮像領域に光を照射し、撮像手段によってフィルムの撮像領域を撮像し、撮像した画像に基づいて欠陥検査を行う。この種の欠陥検査システムによる欠陥検査方法の種類として、大きくは透過法と反射法とに分類される。より詳細には、透過法としては、正透過法、クロスニコル透過法、透過散乱法があり、反射法としては、正反射法、クロスニコル反射法、反射散乱法がある。特許文献１には、透過法として正透過法、透過散乱法を用いた欠陥検査システムが、また、反射法として正反射法、反射散乱法を用いた欠陥検査システムが開示されており、特許文献２には、透過法としてクロスニコル透過法を用いた欠陥検査システムが開示されている。
例えば、正透過法は、フィルム貼合工程での混入や付着による黒異物の検出に適しており、クロスニコル透過法は、粘着材塗布工程での混入や付着による輝点の検出に適しており、透過散乱法は、フィルム搬送工程での付着異物による傷転写による変形の検出に適している。一方、反射法（正反射法、クロスニコル反射法、反射散乱法）は、貼合工程での噛み込みによる気泡の検出に適している。
特開２０１２−１６７９７５号公報 特開２００７−２１２４４２号公報
黒異物、輝点、変形、気泡といった異なる複数の欠陥を検出するために、異なる複数種類の検査方法（検査系列）を用いることが考えられる。しかしながら、検査系列数が多くなると、導入コストや管理コストが高くなるため、検査系列数の削減が望まれている。
そこで、本発明は、異なる検査系列を統合して検査系列数を削減することが可能な欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の欠陥検査用撮像装置は、偏光特性を有するフィルムの欠陥検査のための撮像装置であって、フィルムの撮像領域に光を照射する光照射手段と、フィルムの撮像領域を２次元画像として撮像する撮像手段と、フィルムとクロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段とフィルムの撮像領域との間、又は、フィルムの撮像領域と撮像手段との間に配置される第１の偏光フィルタと、光照射手段、撮像手段及び第１の偏光フィルタに対してフィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送手段とを備え、撮像領域は、搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、第１の偏光フィルタは、光照射手段と第１の撮像領域との間、又は、第１の撮像領域と撮像手段との間に配置される。
また、本発明の欠陥検査用撮像方法は、光照射手段と、撮像手段と、第１の偏光フィルタと、搬送手段とを備える欠陥検査用撮像装置を用いて、偏光特性を有するフィルムの欠陥検査のための撮像を行う撮像方法であって、第１の偏光フィルタを、フィルムとクロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段とフィルムの撮像領域との間、又は、フィルムの撮像領域と撮像手段との間に配置する第１の偏光フィルタ配置工程と、搬送手段によって光照射手段、撮像手段及び第１の偏光フィルタに対してフィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送工程と、光照射手段によってフィルムの撮像領域に光を照射する光照射工程と、撮像手段によってフィルムの撮像領域を２次元画像として撮像する撮像工程とを含み、撮像領域は、搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、第１の偏光フィルタ配置工程では、第１の偏光フィルタを、光照射手段と第１の撮像領域との間、又は、第１の撮像領域と撮像手段との間に配置する。
ここで、クロスニコル状態とは、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）がフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）と実質的に直交する状態、すなわち、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）とフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）とが実質的に９０度の角度で交差する状態を示す。一方、ハーフクロスニコル状態とは、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）がフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）と実質的に直交せずに交差する状態、すなわち、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）とフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）とが実質的に９０度以外の角度で交差する状態を示す。
この欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法によれば、例えば、第１の偏光フィルタが、光照射手段と第１の撮像領域との間、又は、第１の撮像領域と撮像手段との間に、フィルムとクロスニコル状態を形成するように配置され、撮像手段が、第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含む撮像領域を２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域におけるクロスニコル透過検査用画像（又はクロスニコル反射検査用画像）と、第２の撮像領域における例えば正透過検査用画像（又は正反射検査用画像）とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）と例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）とを統合することができる。その結果、クロスニコル透過検査系列（又はクロスニコル反射検査系列）と例えば正透過検査系列（又は正反射検査系列）とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
上記した欠陥検査用撮像装置では、第１の偏光フィルタが、光照射手段と第１の撮像領域との間に配置される形態であってもよい。また、上記した欠陥検査用撮像方法では、第１の偏光フィルタ配置工程において、第１の偏光フィルタを、光照射手段と第１の撮像領域との間に配置する形態であってもよい。
ところで、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）と例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）とでは、適切な光の輝度値が異なる。
そこで、上記した欠陥検査用撮像装置は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える形態であってもよい。
これによれば、輝度調整手段によって、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整することができるので、第１の撮像領域及び第２の撮像領域の撮像において適切な光の輝度値を設定でき、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）及び例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）に応じた光の輝度値で検査を行える。
上記した輝度調整手段は、第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整してもよい。
クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）における適切な光の輝度値は比較的に大きく、正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）における適切な光の輝度値は比較的に小さい場合がある。このような場合であっても、上記したように、輝度調整手段が、第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整する形態であれば、例えば、光照射手段から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）のための第１の撮像領域に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、輝度調整手段によって、正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）のための第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
また、上記した輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段との間に配置される減衰フィルタであってもよい。
また、上記した輝度調整手段は、光照射手段に配置され、第１の撮像領域に照射する光の輝度値と第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整してもよい。
上記した欠陥検査用撮像装置では、第１の偏光フィルタは、フィルムの第１の撮像領域とクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段との間に、フィルムの第２の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第１の輝度調整用偏光フィルタを含む形態であってもよい。
ここで、本願発明者らは、正透過法は黒異物の検出に適しており、クロスニコル透過法は輝点の検出に適しているという知見を得ているが、クロスニコル透過法は強い輝点に比べて一部の弱い輝点を検出し難いことを見出した。この点に関し、本願発明者らは、クロスニコル透過法では検出し難い、黒異物や一部の弱い輝点の検出にハーフクロス透過法を用いることを見出した。
この点に関し、この欠陥検査用撮像装置によれば、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第２の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した欠陥検査用撮像装置では、第１の偏光フィルタは、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段の間に配置される減衰フィルタである形態であってもよい。
この欠陥検査用撮像装置によれば、第１の偏光フィルタが、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した欠陥検査用撮像装置では、第１の偏光フィルタは、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段に配置され、第１の撮像領域に照射する光の輝度値と第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する形態であってもよい。
この欠陥検査用撮像装置でも、第１の偏光フィルタが、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した欠陥検査用撮像装置では、撮像領域は、搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、輝度調整手段は、光照射手段と第３の撮像領域との間、又は、第３の撮像領域と撮像手段の間に、フィルムの第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第２の輝度調整用偏光フィルタを含み、第３の撮像領域に照射される光の輝度値を調整する形態であってもよい。
この欠陥検査用撮像装置によれば、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第２の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した欠陥検査用撮像装置では、撮像領域は、搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、光照射手段と第３の撮像領域との間、又は、第３の撮像領域と撮像手段との間に配置され、フィルムの第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成する第２の偏光フィルタを更に備える形態であってもよい。
この欠陥検査用撮像装置によれば、第１の偏光フィルタが、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、第２の偏光フィルタが、フィルムの第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した欠陥検査用撮像装置では、第１の偏光フィルタは、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段の間に、フィルムの第２の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第１の輝度調整用偏光フィルタを含む形態であってもよい。
この欠陥検査用撮像装置によれば、第１の偏光フィルタが、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第２の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
本発明の別の欠陥検査用撮像装置は、偏光特性を有さないフィルムの欠陥検査のための撮像装置であって、フィルムの撮像領域に光を照射する光照射手段と、フィルムの撮像領域を２次元画像として撮像する撮像手段と、クロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段とフィルムの撮像領域との間、及び、フィルムの撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ配置される一対の第１の偏光フィルタと、光照射手段、撮像手段及び一対の第１の偏光フィルタに対してフィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送手段とを備え、撮像領域は、搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、一対の第１の偏光フィルタは、光照射手段と第１の撮像領域との間、及び、第１の撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ配置される。
また、本発明の別の欠陥検査用撮像方法は、光照射手段と、撮像手段と、一対の第１の偏光フィルタと、搬送手段とを備える欠陥検査用撮像装置を用いて、偏光特性を有さないフィルムの欠陥検査のための撮像を行う撮像方法であって、一対の第１の偏光フィルタを、クロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段とフィルムの撮像領域との間、及び、フィルムの撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ配置する第１の偏光フィルタ配置工程と、搬送手段によって光照射手段、撮像手段及び一対の第１の偏光フィルタに対してフィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送工程と、光照射手段によってフィルムの撮像領域に光を照射する光照射工程と、撮像手段によってフィルムの撮像領域を２次元画像として撮像する撮像工程とを含み、撮像領域は、搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、第１の偏光フィルタ配置工程では、一対の第１の偏光フィルタを、光照射手段と第１の撮像領域との間、及び、第１の撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ配置する。
この別の欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法によれば、例えば、一対の第１の偏光フィルタが、光照射手段と第１の撮像領域との間、及び、第１の撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ、クロスニコル状態を形成するように配置され、撮像手段が、第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含む撮像領域を２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域におけるクロスニコル透過検査用画像（又はクロスニコル反射検査用画像）と、第２の撮像領域における例えば正透過検査用画像（又は正反射検査用画像）とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）と例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）とを統合することができる。その結果、クロスニコル透過検査系列（又はクロスニコル反射検査系列）と例えば正透過検査系列（又は正反射検査系列）とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
ところで、上述のように、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）と例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）とでは、適切な光の輝度値が異なる。
そこで、上記した別の欠陥検査用撮像装置は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える形態であってもよい。
これによれば、輝度調整手段によって、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整することができるので、第１の撮像領域及び第２の撮像領域の撮像において適切な光の輝度値を設定でき、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）及び例えば正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）に応じた光の輝度値で検査を行える。
上記した輝度調整手段は、第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整してもよい。
上述のように、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）における適切な光の輝度値は比較的に大きく、正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）における適切な光の輝度値は比較的に小さい場合がある。このような場合であっても、上記したように、輝度調整手段が、第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整する形態であれば、例えば、光照射手段から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列（又はクロスニコル反射検査用撮像系列）のための第１の撮像領域に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、輝度調整手段によって、正透過検査用撮像系列（又は正反射検査用撮像系列）のための第２の撮像領域に照射される又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域で反射した光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
また、上記した輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段との間に配置される減衰フィルタであってもよい。
また、上記した輝度調整手段は、光照射手段に配置され、第１の撮像領域に照射する光の輝度値と第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整してもよい。
上記した別の欠陥検査用撮像装置では、一対の第１の偏光フィルタは、クロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段と第２の撮像領域との間、及び、第２の撮像領域と撮像手段の間に配置される一対の第１の輝度調整用偏光フィルタを含む形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置によれば、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した別の欠陥検査用撮像装置では、一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段と第２の撮像領域との間、又は、第２の撮像領域と撮像手段の間に配置される減衰フィルタである形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置によれば、一対の第１の偏光フィルタが、フィルムの第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した別の欠陥検査用撮像装置では、一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、光照射手段に配置され、第１の撮像領域に照射する光の輝度値と第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置でも、一対の第１の偏光フィルタが、第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した別の欠陥検査用撮像装置では、撮像領域は、搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、輝度調整手段は、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段と第３の撮像領域との間、及び、第３の撮像領域と撮像手段の間に配置される一対の第２の輝度調整用偏光フィルタを含み、第３の撮像領域に照射される光の輝度値を調整する形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置によれば、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第２の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、一対の第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、フィルムの第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した別の欠陥検査用撮像装置では、撮像領域は、搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段と第３の撮像領域との間、及び、第３の撮像領域と撮像手段との間にそれぞれ配置される一対の第２の偏光フィルタを更に備える形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置によれば、一対の第１の偏光フィルタが、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、一対の第２の偏光フィルタが、第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
また、上記した別の欠陥検査用撮像装置では、一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、輝度調整手段は、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、光照射手段と第２の撮像領域との間、及び、第２の撮像領域と撮像手段の間に配置される一対の第１の輝度調整用偏光フィルタを含む形態であってもよい。
この別の欠陥検査用撮像装置によれば、一対の第１の偏光フィルタが、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）が、第２のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び上記一部の弱い輝点の検出を高めることができる。
本発明の欠陥検査システムは、上記した欠陥検査用撮像装置又は別の欠陥検査用撮像装置と、欠陥検査用撮像装置又は別の欠陥検査用撮像装置によって撮像された２次元画像に基づいて、フィルムに存在する欠陥を検出する検出部とを備える。また、本発明の欠陥検査方法は、上記した欠陥検査用撮像方法又は別の欠陥検査用撮像方法を含み、欠陥検査用撮像方法又は別の欠陥検査用撮像方法によって撮像した２次元画像に基づいて、フィルムに存在する欠陥を検出する欠陥検出工程を含む。
本発明のフィルム製造装置は、上記した欠陥検査システムを備える。また、本発明のフィルムの製造方法は、上記した欠陥検査方法を含む。
本発明によれば、フィルムの欠陥検査において、異なる検査系列を統合して検査系列数を削減することができる。
本発明の一実施形態に係るフィルムの製造装置及び製造方法を示す図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法を示す図である。 本発明の第１の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第２の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第３の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第４の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第５の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第６の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 第２の実施形態の欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法の検証結果を示す図である。 本発明の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法を示す図である。 本発明の第７の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第８の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第９の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第１０の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第１１の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の第１２の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 本発明の変形例に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。 第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法の検証結果を示す図である。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
本発明の実施形態に係るフィルムの製造装置及び製造方法は、偏光特性を有する偏光フィルム（光学フィルム）、及び、偏光特性を有さない位相差フィルム（光学フィルム）や電池用セパレータフィルム等を製造するためのものである。図１に、偏光特性を有するフィルム（偏光フィルム）の製造装置及び製造方法の一例を示すが、偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法の説明は省略する。
図１に示す製造装置（フィルム製造装置）１００は、まず、偏光子の主面両側に保護フィルムを貼りあわせて、偏光フィルム本体部（光学フィルム本体部）１１１を生成する。次いで、製造装置１００は、セパレートフィルム（離型フィルム）が粘着材に貼り合わされたセパレートフィルム付き粘着材１１２を原反ロール１０１から取り出し、貼合ローラ１０４によってセパレートフィルム付き粘着材１１２を偏光フィルム本体部１１１の一方の主面側に貼り合わせる。次いで、製造装置１００は、表面保護フィルム１１３を原反ロール１０２から取り出し、貼合ローラ１０５によって表面保護フィルム１１３を偏光フィルム本体部１１１の他方の主面側に貼り合わせて、偏光特性を有するフィルム１１０を生成する。次いで、製造装置１００は、生成したフィルム１１０を、搬送ローラ１０６によって搬送して原反ロール１０３によって巻き取る。
偏光フィルム本体部１１１における偏光子の材料としては、ＰＶＡ（PolyvinylAlcohol）等が挙げられ、偏光フィルム本体部１１１における保護フィルムの材料としては、ＴＡＣ（Triacetylcellulose）等が挙げられる。また、セパレートフィルム付き粘着材１１２におけるセパレートフィルム及び表面保護フィルム１１３の材料としては、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）等が挙げられる。セパレートフィルムを剥がすことにより、フィルム１１０は、粘着材によって液晶パネルや他の光学フィルム等に貼り合わせることが可能となる。
また、製造装置１００は、フィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０、及び、偏光フィルム本体部１１１の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０を備える。なお、これらの欠陥検査システム１０は同一のため、以下では、フィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０について説明する。
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法を示す図であり、図３は、本発明の第１の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。
図２に示す欠陥検査システム１０は、欠陥検査用撮像装置２０と、画像解析部（検出部）３０と、マーキング装置４０とを備え、図３に示す欠陥検査用撮像装置２０は、光源（光照射手段）２１と、複数のエリアセンサ（撮像手段）２２と、第１の偏光フィルタ２３１とを備える。図２及び図３には、ＸＹＺ直交座標が示されており、Ｘ方向は偏光フィルムの幅方向を示し、Ｙ方向は偏光フィルムの搬送方向を示す。
本実施形態では、主に、図１に示す搬送ローラ１０６及び原反ロール１０３が搬送手段として機能する。これらの搬送手段によって、フィルム１１０が、搬送方向Ｙに、光源２１、エリアセンサ２２及び第１の偏光フィルタ２３１に対して相対的に搬送される。
光源２１は、フィルム１１０の他方の主面側に設けられており、フィルム１１０の撮像領域Ｒに光を照射する。例えば、光源２１は、幅方向Ｘに延在する線状の光源である。
エリアセンサ２２は、フィルム１１０の一方の主面側に配置され、幅方向Ｘに配列されている。エリアセンサ２２は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）又はＣＭＯＳ（ComplementaryMetal-OxideSemiconductor）２２ａとレンズ２２ｂとを含む。エリアセンサ２２は、フィルム１１０を透過した光を受光することによって、フィルム１１０の撮像領域Ｒを２次元画像として、時間的に連続して撮像する。
各エリアセンサ２２が撮像した２次元画像の搬送方向Ｙの長さは、各エリアセンサ２２が２次元画像を取り込んでから次の２次元画像を取り込むまでの区間にフィルム１１０が搬送される搬送距離の少なくとも２倍以上であることが好ましい。つまり、フィルム１１０の同一領域を２回以上撮像することが好ましい。このように、２次元画像の搬送方向Ｙの長さを画像取込区間における搬送距離よりも大きくし、フィルム１１０の同一部分の撮像数を増加させることにより、高精度に欠陥を検査することが可能となる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第１の撮像領域Ｒ１及び第２の撮像領域Ｒ２を含む。また、撮像領域Ｒは、第１の撮像領域Ｒ１と第２の撮像領域Ｒ２との間における中間撮像領域Ｒ０を含む。
第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１とフィルム１１０との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１と撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２３１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。また、第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成している。ここで、クロスニコル状態とは、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）がフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）と実質的に直交する状態、すなわち、偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とが実質的に９０度の角度でクロスする状態を示す。上記「実質的に９０度」とは、例えば、８５度以上９５度未満、より好ましくは９０度である。
これにより、第１の撮像領域Ｒ１ではクロスニコル透過検査用画像を、第２の撮像領域Ｒ２では正透過検査用画像を、中間撮像領域Ｒ０では透過散乱検査用画像を撮像することができる。
画像解析部３０は、エリアセンサ２２からの２次元画像に基づいて、フィルム１１０に存在する欠陥を検出する。また、画像解析部３０は、２次元画像の画素座標と、画像撮像間隔にフィルムが搬送される距離とに基づいて、２次元画像上の座標位置をフィルム１１０上の座標位置に変換して欠陥位置情報を生成する。画像解析部３０は、欠陥位置情報に基づいてフィルム１１０の全領域に対応する画像を合成して欠陥マップを作成する。
マーキング装置４０は、画像解析部３０からの欠陥マップに基づいて、フィルム上にマーキングを行う。
次に、本発明の第１の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。
次に、搬送手段によって、光源２１、エリアセンサ２２及び第１の偏光フィルタ２３１に対して相対的に、フィルム１１０を搬送方向Ｙに搬送し（搬送工程）、光源２１によって、フィルム１１０の撮像領域Ｒに光を照射し（光照射工程）、エリアセンサ２２によって、フィルム１１０の撮像領域Ｒを２次元画像として撮像する（撮像工程）。
次に、画像解析部３０によって、エリアセンサ２２からの２次元画像に基づいて、フィルム１１０に存在する欠陥を検出すると共に、欠陥位置情報に基づいて欠陥マップを作成する（欠陥検出工程）。次に、マーキング装置４０によって、画像解析部３０からの欠陥マップに基づいて、フィルム１１０上にマーキングを行う（マーキング工程）。
この第１の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法によれば、第１の偏光フィルタ２３１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル透過検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正透過検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における透過散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列と、正透過検査用撮像系列と、透過散乱検査用撮像系列とを統合することができる。
その結果、第１の実施形態の欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法によれば、クロスニコル透過検査系列と、正透過検査系列と、透過散乱検査系列とを統合することができる。
したがって、第１の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法によれば、検査系列数を削減することができる。
［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。
本発明の第２の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ａは、図２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ａを備える構成で第１の実施形態と異なる。また、図４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ａは、図３に示す欠陥検査用撮像装置２０において減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を更に備える構成で第１の実施形態と異なる。
減衰フィルタ２６は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置されている。これにより、減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度を低減させてもよい。
次に、本発明の第２の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、減衰フィルタ２６を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度を低減させてもよい。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第２の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ａ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ａ、及び、欠陥検査方法でも、第１の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
ところで、クロスニコル透過検査用撮像系列と正透過検査用撮像系列とでは、適切な光の輝度値が異なる。より具体的には、クロスニコル透過検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に大きく、正透過検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に小さい。
この点に関し、この第２の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法によれば、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６によって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができるので、例えば、光源（光照射手段）２１から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６によって、正透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。前述したように、減衰フィルタ２６を第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置し、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を調整しても同様の効果が期待できる。
以下では、上記効果の検証を行う。図２１（ａ）に、クロスニコル透過法及び正透過法において、光源光量を変化したときの各種欠陥（黒異物、弱い輝点、強い輝点）の検出画像を示す。また、図２１（ｂ）に、図２１（ａ）のクロスニコル透過法による検出画像の欠陥信号をグラフ化した図を示し、図２１（ｃ）に、図２１（ａ）の正透過法による検出画像の欠陥信号をグラフ化した図を示す。なお、光源光量は、画像上の輝度値が１２８となるときの光源光量（正透過において最適な光量）を基準として１倍〜４０倍として示す。
図２１（ａ）及び図２１（ｃ）によれば、正透過法では、光源光量は１倍程度が好ましく、光源光量を２倍以上とすると、画像上での輝度が高過ぎて、画像全体が白くなってしまう。一方、図２１（ａ）及び図２１（ｂ）によれば、クロスニコル透過法では、光源光量が１倍程度では、画面上での輝度が低過ぎて、欠陥を認識できず、光源光量は２０倍以上が好ましく、４０倍以上が更に好ましいことがわかる。
上記の検証では、撮像領域へ照射する光源の光量を調整することによって、画像上の輝度値を調整したが、輝度調整方法として、前述したように、減衰フィルタを用いた方法でも同様の効果が期待できる。
［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。
本発明の第３の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｂは、図２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｂを備える構成で第１の実施形態と異なる。また、図５に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｂは、図３に示す欠陥検査用撮像装置２０において光源２１に代えて光源２１Ａを備える構成で第１の実施形態と異なる。
光源２１Ａは、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する輝度調整機能を有する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることができ、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
次に、本発明の第３の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることが可能となり、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることが可能となる（輝度調整工程）。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第３の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｂ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｂ、及び、欠陥検査方法でも、第１の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
また、この第３の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法によれば、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整することができるので、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、正透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第４の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法に適用され得る。偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法において、第４の実施形態で説明する欠陥検査システム及び欠陥検査方法以外の点は公知であるため、前述したように説明を省略する。偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法に関する他の実施形態及び変形例についても同様の観点から偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法についての説明は省略する。第４の実施形態では、フィルム１１０は、偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第４の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｃは、図２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｃを備える構成で第１の実施形態と異なる。また、図６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃは、図３に示す欠陥検査用撮像装置２０において第１の偏光フィルタ２３１に代えて一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１を備える構成で第１の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１は、第１の実施形態と同様に、光源２１とフィルム１１０との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１と撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２３１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。
一方、第１の偏光フィルタ２４１は、フィルム１１０とエリアセンサ２２との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２４１は、撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２４１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。
また、第１の偏光フィルタ２３１と第１の偏光フィルタ２４１とは、クロスニコル状態を形成する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１ではクロスニコル透過検査用画像を、第２の撮像領域Ｒ２では正透過検査用画像を、中間撮像領域Ｒ０では透過散乱検査用画像を撮像することができる。
次に、本発明の第４の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、クロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第４の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間、及び、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間にそれぞれ、クロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル透過検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正透過検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における透過散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列と、正透過検査用撮像系列と、透過散乱検査用撮像系列とを統合することができる。
その結果、第４の実施形態の欠陥検査システム１０Ｃ及び欠陥検査方法によれば、クロスニコル透過検査系列と、正透過検査系列と、透過散乱検査系列とを統合することができる。
したがって、第４の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法によれば、検査系列数を削減することができる。
［第５の実施形態］
本発明の第５の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第５の実施形態では、フィルム１１０は偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第５の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｄは、図２に示す欠陥検査システム１０Ｃにおいて欠陥検査用撮像装置２０Ｃに代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｄを備える構成で第４の実施形態と異なる。また、図７に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｄは、図６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を更に備える構成で第４の実施形態と異なる。
減衰フィルタ２６は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置されている。これにより、減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ（撮像手段）２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度を低減させても良い。
次に、本発明の第５の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、減衰フィルタ２６を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ（撮像手段）２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度を低減させても良い。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第５の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｄ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｄ、及び、欠陥検査方法でも、第４の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
また、この第５の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法によれば、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６によって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができるので、例えば、光源（光照射手段）２１から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６によって、正透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。また、減衰フィルタ２６を第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ（撮像手段）２２の間に配置し、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を調整しても同様の効果が期待できる。
［第６の実施形態］
本発明の第６の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第６の実施形態では、フィルム１１０は、偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第６の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｅは、図２に示す欠陥検査システム１０Ｃにおいて欠陥検査用撮像装置２０Ｃに代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｅを備える構成で第４の実施形態と異なる。また、図８に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｅは、図６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて光源２１に代えて光源２１Ａを備える構成で第４の実施形態と異なる。
光源２１Ａは、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する輝度調整機能を有する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることができ、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
次に、本発明の第６の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることが可能となり、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることが可能となる（輝度調整工程）。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第６の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｅ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｅ、及び、欠陥検査方法でも、第４の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
また、この第６の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法によれば、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整することができるので、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、正透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、第１、第２及び第３の実施形態では、透過法を用いた欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、本発明の特徴は、図９、図１０及び図１１に示すように、反射法を用いた欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法にも適用可能である。
図９、図１０及び図１１に示す欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法によれば、第１の偏光フィルタ２３１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル反射検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正反射検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における反射散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル反射検査用撮像系列と、正反射検査用撮像系列と、反射散乱検査用撮像系列とを統合することができる。その結果、欠陥検査システム１０，１０Ａ，１０Ｂ及び欠陥検査方法において、クロスニコル反射検査系列と、正反射検査系列と、反射散乱検査系列とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
ところで、クロスニコル反射検査用撮像系列と正反射検査用撮像系列とでは、適切な光の輝度値が異なる。より具体的には、クロスニコル反射検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に大きく、正反射検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に小さい。
この点に関し、図１０及び図１１に示す欠陥検査用撮像装置２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法によれば、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができるので、例えば、光源（光照射手段）２１及び光源（輝度調整手段）２１Ａから比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル反射検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、正反射検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を利用する場合（例えば図１０に例示した形態）では、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ（撮像手段）２２との間に減衰フィルタ２６を配置して、第２の撮像領域Ｒ２で反射光の輝度値を調整してもよい。
同様に、第４、第５及び第６の実施形態では、透過法を用いた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、本発明の特徴は、図１２、図１３及び図１４に示すように、反射法を用いた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法にも適用可能である。
図１２、図１３及び図１４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間、及び、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間にそれぞれ、クロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル反射検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正反射検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における反射散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル反射検査用撮像系列と、正反射検査用撮像系列と、反射散乱検査用撮像系列とを統合することができる。その結果、欠陥検査システム１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ及び欠陥検査方法において、クロスニコル反射検査系列と、正反射検査系列と、反射散乱検査系列とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
また、図１３及び図１４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法によれば、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができるので、例えば、光源（光照射手段）２１及び光源（輝度調整手段）２１Ａから比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル反射検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、正反射検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を利用する場合（例えば図１３に例示した形態）では、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ（撮像手段）２２との間に減衰フィルタ２６を配置して、第２の撮像領域Ｒ２で反射光の輝度値を調整してもよい。
また、第１，第２及び第３の実施形態、及び、図９，図１０及び図１１に示す形態では、第１の偏光フィルタ２３１が光源（光照射手段）２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置される形態を例示したが、図１５、図１６、図１７，図１８，図１９及び図２０に示すように、第１の偏光フィルタ２３１はフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間に配置される形態であってもよい。
［第７の実施形態］
本発明の第７の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。図２２は、本発明の第７の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法を示す図であり、図２３は、本発明の第７の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置及び欠陥検査用撮像方法を示す図である。
図２２に示す欠陥検査システム１０は、欠陥検査用撮像装置２０と、画像解析部（検出部）３０と、マーキング装置４０とを備え、図２３に示す欠陥検査用撮像装置２０は、光源（光照射手段）２１と、複数のエリアセンサ（撮像手段）２２と、第１の偏光フィルタ２３１と、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１とを備える。図２２及び図２３には、ＸＹＺ直交座標が示されており、Ｘ方向は偏光フィルムの幅方向を示し、Ｙ方向は偏光フィルムの搬送方向を示す。
本実施形態では、主に、図１に示す搬送ローラ１０６及び原反ロール１０３が搬送手段として機能する。これらの搬送手段によって、フィルム１１０が、搬送方向Ｙに、光源２１、エリアセンサ２２及び第１の偏光フィルタ２３１に対して相対的に搬送される。
光源２１は、フィルム１１０の他方の主面側に設けられており、フィルム１１０の撮像領域Ｒに光を照射する。例えば、光源２１は、幅方向Ｘに延在する線状の光源である。
エリアセンサ２２は、フィルム１１０の一方の主面側に配置され、幅方向Ｘに配列されている。エリアセンサ２２は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）又はＣＭＯＳ（ComplementaryMetal-OxideSemiconductor）２２ａとレンズ２２ｂとを含む。エリアセンサ２２は、フィルム１１０を透過した光を受光することによって、フィルム１１０の撮像領域Ｒを２次元画像として、時間的に連続して撮像する。
各エリアセンサ２２が撮像した２次元画像の搬送方向Ｙの長さは、各エリアセンサ２２が２次元画像を取り込んでから次の２次元画像を取り込むまでの区間にフィルム１１０が搬送される搬送距離の少なくとも２倍以上であることが好ましい。つまり、フィルム１１０の同一領域を２回以上撮像することが好ましい。このように、２次元画像の搬送方向Ｙの長さを画像取込区間における搬送距離よりも大きくし、フィルム１１０の同一部分の撮像数を増加させることにより、高精度に欠陥を検査することが可能となる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第１の撮像領域Ｒ１及び第２の撮像領域Ｒ２を含む。また、撮像領域Ｒは、第１の撮像領域Ｒ１と第２の撮像領域Ｒ２との間における中間撮像領域Ｒ０を含む。
第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１とフィルム１１０との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１と撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２３１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。また、第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成している。ここで、クロスニコル状態とは、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）がフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）と実質的に直交する状態、すなわち、偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とが実質的に９０度の角度でクロスする状態を示す。上記「実質的に９０度」とは、例えば、８５度以上９５度未満、より好ましくは９０度である。
第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成していればよく、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置してもよい。
第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、ハーフクロスニコル状態とは、偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）がフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）と実質的に直交せずに交差する状態、すなわち、偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とが実質的に９０度以外の角度でクロスする状態を示す。ハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸（偏光吸収軸）とフィルムの偏光軸（偏光吸収軸）との角度は撮像手段による撮像対象であるフィルムの透過率及び光源から出射される光の輝度値等に応じて異なるが、例えば、撮像領域Ｒの所定の領域（図２３の例では第２の撮像領域Ｒ２）を透過してエリアセンサ２２で撮像した際の画像上の輝度値が２００以下となるような角度であり、画像上の輝度値が１３０以下となるような角度であることが好ましい。例えば、後述するように、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１の偏光軸とフィルム１１０の偏光軸とのクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。これにより、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。本明細書において、「輝度値」は、８ビットグレースケール画像上での各画素の持つ値である。
また、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間のみに配置され、照射される光の輝度を調整してもよいし、フィルム１１０とエリアセンサ２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度を調整しても良い。
これにより、第１の撮像領域Ｒ１ではクロスニコル透過検査用画像を、第２の撮像領域Ｒ２ではハーフクロスニコル（第１のハーフクロスニコル）透過検査用画像を、中間撮像領域Ｒ０では透過散乱検査用画像を撮像することができる。
画像解析部３０は、エリアセンサ２２からの２次元画像に基づいて、フィルム１１０に存在する欠陥を検出する。また、画像解析部３０は、２次元画像の画素座標と、画像撮像間隔にフィルムが搬送される距離とに基づいて、２次元画像上の座標位置をフィルム１１０上の座標位置に変換して欠陥位置情報を生成する。画像解析部３０は、欠陥位置情報に基づいてフィルム１１０の全領域に対応する画像を合成して欠陥マップを作成する。
マーキング装置４０は、画像解析部３０からの欠陥マップに基づいて、フィルム上にマーキングを行う。
次に、本発明の第７の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。第１の偏光フィルタ２３１を、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置してもよい。次に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間のみに配置してもよいし、フィルム１１０とエリアセンサ２２の間に配置してもよい。
次に、搬送手段によって、光源２１、エリアセンサ２２及び第１の偏光フィルタ２３１に対して相対的に、フィルム１１０を搬送方向Ｙに搬送し（搬送工程）、光源２１によって、フィルム１１０の撮像領域Ｒに光を照射し（光照射工程）、エリアセンサ２２によって、フィルム１１０の撮像領域Ｒを２次元画像として撮像する（撮像工程）。
次に、画像解析部３０によって、エリアセンサ２２からの２次元画像に基づいて、フィルム１１０に存在する欠陥を検出すると共に、欠陥位置情報に基づいて欠陥マップを作成する（欠陥検出工程）。次に、マーキング装置４０によって、画像解析部３０からの欠陥マップに基づいて、フィルム１１０上にマーキングを行う（マーキング工程）。
この第７の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法によれば、第１の偏光フィルタ２３１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル透過検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２におけるハーフクロスニコル（第１のハーフクロスニコル透過）検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における透過散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列と、ハーフクロスニコル透過検査用撮像系列と、透過散乱検査用撮像系列とを統合することができる。
その結果、第７の実施形態の欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法によれば、クロスニコル透過検査系列と、ハーフクロスニコル透過検査系列と、透過散乱検査系列とを統合することができる。
したがって、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法によれば、検査系列数を削減することができる。
第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法によれば、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１によって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができる。そのため、例えば、光源（光照射手段）２１から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１によって、ハーフクロスニコル（第１のハーフクロスニコル）透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
ところで、本願発明者らは、正透過法は黒異物の検出に適しており、クロスニコル透過法は輝点の検出に適しているという知見を得ているが、クロスニコル透過法は強い輝点に比べて一部の弱い輝点を検出し難いことを見出した。この点に関し、本願発明者らは、クロスニコル透過法では検出し難い、黒異物や一部の弱い輝点の検出にハーフクロス透過法を用いることを見出した。
この点に関し、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法によれば、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１が、フィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２と第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び弱い輝点（上記一部の弱い輝点を含む）の検出を高めることができる。本明細書において、以下では、弱い輝点は、上記「一部の弱い輝点」を含む概念である。
以下では、上記効果の検証を行う。図４５（ａ）に、光源光量４０倍のときの、フィルムに対する偏光フィルタのクロス角度を変化したときの各種欠陥（黒異物、弱い輝点、強い輝点）の検出画像を示し、図４５（ｂ）に、図４５（ａ）の検出画像の輝度値をグラフ化した図を示す。同様に、図４５（ｃ）に、光源光量２０倍のときの、フィルムに対する偏光フィルタのクロス角度を変更したときの各種欠陥（黒異物、弱い輝点、強い輝点）の検出画像の輝度値をグラフ化した図を示し、図４５（ｄ）に、光源光量１０倍のときの、フィルムに対する偏光フィルタのクロス角度を変更したときの各種欠陥（黒異物、弱い輝点、強い輝点）の検出画像の輝度値をグラフ化した図を示す。なお、光源光量４０倍，２０倍，１０倍とは、画像上の輝度値が１２８となるときの光源光量（正透過において最適な光量）を１倍として示すものである。
図４５（ａ），（ｂ）によれば、光源光量が４０倍の場合、強い輝点の欠陥の検出については、クロス角度が実質的に９０度、すなわちクロスニコル透過法が適しており、弱い輝点の欠陥の検出については、クロス角度が１０５度、すなわちハーフクロスニコル透過法が適していることがわかる。なお、クロス角度７０度以下及び１１０度以上では、画像上での輝度が高過ぎて、画像全体が白くなってしまう。また、黒異物の欠陥の検出については、正透過法が適しているという知見を得ているが、正透過法において輝度調整として偏光フィルタを用いる場合、クロス角度が７５度以上８５度未満、または９５度以上１０５度以下、すなわちハーフクロスニコル透過法が適していることがわかる。
また、図４５（ｂ），（ｃ），（ｄ）によれば、光源光量によって、弱い輝点の欠陥の検出、及び、黒異物の欠陥の検出について、ハーフクロスニコル透過法における最適なクロス角度が異なることがわかる。
これより、正透過法において輝度調整として偏光フィルタを用いる場合、すなわちハーフクロスニコル透過法を用いる場合、クロス角度が実質的に９０度以外で欠陥信号が高くなる欠陥、例えば弱い輝点、黒異物の検出に有利である。
また、２つのクロス角度での検査を総合的に考慮して、欠陥レベルの強弱を判断することができる。例えば、クロス角度が実質的に９０度のクロスニコル透過法、及び、クロス角度が７５度以上８５度未満、または９５度以上１０５度以下のハーフクロスニコル透過法の両方で欠陥信号が確認される場合、換言すれば広い角度範囲で欠陥信号が確認される場合には、欠陥レベル強と判断し、クロス角度が実質的に９０度のクロスニコル透過法のみで欠陥信号が確認される場合には、欠陥レベル弱と判断してもよい。
上記の検証では、光源と撮像領域との間に偏光フィルタを配置し、撮像領域に照射される光の輝度を調整しているが、撮像領域を透過した光に対し偏光フィルタを用いたハーフクロス透過法により輝度調整を行っても同様の効果が期待できる。
［第７の実施形態の変形例］
第７の実施形態では、クロスニコル透過法とハーフクロスニコル透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、クロスニコル透過法と２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせてもよい。以下では、クロスニコル透過法と２つの異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法を第７の実施形態の変形例として例示する。
図３９に示す変形例の欠陥検査用撮像装置２０は、図２３に示す欠陥検査用撮像装置２０において、第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２を更に備える構成で第７の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第２の撮像領域Ｒ２に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１に隣接して、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度と異なる。これより、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２は、第３の撮像領域Ｒ３に照射される光の輝度値を低減することができる。第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２は、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成すれば良く、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間で、第３の撮像領域Ｒ３を透過した光の輝度値を調整しても良い。
次に、第７の実施形態の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、上記したように、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。次に、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２を、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２及び第３の撮像領域Ｒ３に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２を、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置してもよい。次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第７の実施形態の変形例の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第８の実施形態］
本発明の第８の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。
本発明の第８の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ａは、図２２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ａを備える構成で第７の実施形態と異なる。また、図２４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ａは、図２３に示す欠陥検査用撮像装置２０において第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１に代えて減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を備える構成で第７の実施形態と異なる。また、欠陥検査用撮像装置２０Ａは、欠陥検査用撮像装置２０においてフィルム１１０に対する第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸（偏光吸収軸）のクロス角度が異なる点で第７の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１と第１のハーフクロスニコル状態を形成する。例えば、後述するように、第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸とフィルム１１０の偏光軸とのクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。また、第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１と第１のハーフクロスニコル状態を形成していれば、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２の間に配置されていてもよい（図３５参照）。
減衰フィルタ２６は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置されている。これにより、減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。また、減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を低減させてもよい。
次に、本発明の第８の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。第１の偏光フィルタ２３１を、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２の間に配置してもよい。次に、減衰フィルタ２６を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。減衰フィルタ２６を、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置してもよい。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第８の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ａ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ａ、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第８の実施形態の第１の変形例］
第８の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を第８の実施形態の第１の変形例として例示する。
図４０に示す第１の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ａは、図２４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ａにおいて、第２の偏光フィルタ２３２を更に備える構成で第７の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第１の撮像領域Ｒ１に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の偏光フィルタ２３２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度と異なる。第２の偏光フィルタ２３２は、第３の撮像領域Ｒ３と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されていれば、第１の偏光フィルタ２３１とは独立して第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２の間に配置されていてもよい。
次に、第８の実施形態の第１の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第２の偏光フィルタ２３２を、光源２１とフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３との間に、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第２の偏光フィルタ配置工程）。第２の偏光フィルタ２３２を、第１の偏光フィルタ２３１とは独立して第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２の間に配置してもよい。次に、上記した輝度調整工程、搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第８の実施形態の第１の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ａ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ａ、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第８の実施形態の第２の変形例］
第８の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を第８の実施形態の第２の変形例として例示する。
第２の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ａは、図２４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ａにおいて、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６に代えて第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１を備える構成で第８の実施形態と異なる。
第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度と異なる。これより、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。
第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成すればよく、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置され、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を調整してもよい。
次に、第８の実施形態の第２の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置し、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を調整してもよい。次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第８の実施形態の第２の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ａ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ａ、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第９の実施形態］
本発明の第９の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有するフィルム１１０の欠陥検査を行う欠陥検査システム１０及び欠陥検査方法である。
本発明の第９の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｂは、図２２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｂを備える構成で第７の実施形態と異なる。また、図２５に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｂは、図２３に示す欠陥検査用撮像装置２０において光源２１及び第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１に代えて光源２１Ａを備える構成で第７の実施形態と異なる。また、欠陥検査用撮像装置２０Ｂは、欠陥検査用撮像装置２０においてフィルム１１０に対する第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸（偏光吸収軸）のクロス角度が異なる点で第７の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１と第１のハーフクロスニコル状態を形成する。例えば、後述するように、第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸とフィルム１１０の偏光軸とのクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。第１の偏光フィルタ２３１は、フィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１と第１のハーフクロスニコル状態を形成すればよく、光源２１Ａと、第１の撮像領域Ｒ１との間に配置されてもよいし（図２５参照）、又は、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置されてもよい（図３６参照）。
光源２１Ａは、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する輝度調整機能を有する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることができ、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
次に、本発明の第９の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。第１の偏光フィルタ２３１を、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置してもよい。次に、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることが可能となり、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることが可能となる（輝度調整工程）。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第９の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｂ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｂ、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第９の実施形態の変形例］
第９の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を第９の実施形態の変形例として例示する。
図４１に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｂは、図２５に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｂにおいて、第２の偏光フィルタ２３２を更に備える構成で第７の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第１の撮像領域Ｒ１に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の偏光フィルタ２３２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸とフィルムの偏光軸とのクロス角度と異なる。第２の偏光フィルタ２３２は、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成すれば良く、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置されてもよい。
次に、第９の実施形態の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を、光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第２の偏光フィルタ２３２を、光源２１とフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３との間に、フィルム１１０と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第２の偏光フィルタ配置工程）。第２の偏光フィルタ２３２を、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置してもよい。次に、上記した輝度調整工程、搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第９の実施形態の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｂ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｂ、及び、欠陥検査方法でも、第７の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１０の実施形態］
本発明の第１０の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第１０の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法に適用され得る。偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法において、第１０の実施形態で説明する欠陥検査システム及び欠陥検査方法以外の点は公知であるため、前述したように説明を省略する。偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法に関する他の実施形態及び変形例についても同様の観点から偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の製造装置及び製造方法についての説明は省略する。第１０の実施形態及びその変形例の説明において、フィルム１１０は、偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第１０の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｃは、図２２に示す欠陥検査システム１０において欠陥検査用撮像装置２０に代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｃを備える構成で第７の実施形態と異なる。また、図２６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃは、図２３に示す欠陥検査用撮像装置２０において第１の偏光フィルタ２３１に代えて一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１を備え、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１に加えて第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１と対を為す第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３を備える構成で第７の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１は、第７の実施形態と同様に、光源２１とフィルム１１０との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２３１は、光源２１と撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２３１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。
一方、第１の偏光フィルタ２４１は、フィルム１１０とエリアセンサ２２との間に配置されている。具体的には、第１の偏光フィルタ２４１は、撮像領域Ｒにおける第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置されている。本実施形態では、第１の偏光フィルタ２４１は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分が隠れるように配置されている（ナイフエッジ）。
また、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１，２５３のうち第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、第７の実施形態と同様に、光源２１とフィルム１１０との間に配置されている。一方、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３は、フィルム１１０とエリアセンサ２２との間に配置されている。具体的には、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３は、撮像領域Ｒにおける第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置されている。第１０の実施形態では、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３は、エリアセンサ２２からみて、搬送方向Ｙにおける撮像領域Ｒの半分（図２６の例では、第２の撮像領域Ｒ２側の部分）が隠れるように配置されている。
また、第１の偏光フィルタ２３１と第１の偏光フィルタ２４１とは、クロスニコル状態を形成する。一方、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１は、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３と第１のハーフクロスニコル状態を形成する。例えば、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１と第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３の偏光軸のクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。これにより、第１の撮像領域Ｒ１ではクロスニコル透過検査用画像を、第２の撮像領域Ｒ２ではハーフクロスニコル透過検査用画像を、中間撮像領域Ｒ０では透過散乱検査用画像を撮像することができる。
次に、本発明の第１０の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、クロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。
次に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３をフィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１と第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３が、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２を透過し、エリアセンサ２２で観測される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間のみに配置してもよい。
また、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３の代わりに、第１の偏光フィルタ２４１を第２の撮像領域Ｒ２まで拡張させてもよい、その場合、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を第１の偏光フィルタ２４１に対し第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置すればよい。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１０の実施形態に係る欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間、及び、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間にそれぞれ、クロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル透過検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２におけるハーフクロスニコル（第１のハーフクロスニコル透過）検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における透過散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル透過検査用撮像系列と、ハーフクロスニコル（第１のハーフクロスニコル）透過検査用撮像系列と、透過散乱検査用撮像系列とを統合することができる。
その結果、第１０の実施形態の欠陥検査システム１０Ｃ及び欠陥検査方法によれば、クロスニコル透過検査系列と、ハーフクロスニコル透過検査系列と、透過散乱検査系列とを統合することができる。
したがって、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法によれば、検査系列数を削減することができる。
また、この第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３によって、第２の撮像領域Ｒ２を透過し、エリアセンサ２２で観測される光の輝度値を調整することができる。そのため、例えば、光源（光照射手段）２１から比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル透過検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３によって、ハーフクロスニコル透過検査用撮像系列のための第２の撮像領域Ｒ２を透過し、エリアセンサ２２で観測される光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
また、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３が、第１のハーフクロスニコル状態を形成するので、黒異物及び弱い輝点の検出を高めることができる。
［第１０の実施形態の変形例］
第１０の実施形態では、クロスニコル透過法とハーフクロスニコル透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、クロスニコル透過法と２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせてもよい。以下では、クロスニコル透過法と２つの異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法を第１０の実施形態の変形例として例示する。
図４２に示す変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｃは、図２６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて、一対の第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２，２５４を更に備える構成で第７の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第２の撮像領域Ｒ２に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１に隣接して配置される一方、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５４は、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３に隣接して配置される。一対の第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２，２５４は、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、一対の第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２，２５４が形成する第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度と異なると共に、これより、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２，２５４は、第３の撮像領域Ｒ３を透過し、エリアセンサ２２で観測される光の輝度値を低減することができる。
次に、第１０の実施形態の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記した第１の偏光フィルタ配置工程が行われる。次に、上記したように、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第１の偏光フィルタ２３１との間、及び、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置すると共に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３をフィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１，２５３が、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。次に、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２を、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に配置すると共に、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５４をフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２，２５４が、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２及び第３の撮像領域Ｒ３を透過し、エリアセンサ２２で観測される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間のみに配置してもよい。
また、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３の代わりに、第１の偏光フィルタ２４１を第２の撮像領域Ｒ２まで拡張させてもよい、その場合、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を第１の偏光フィルタ２４１に対し第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置すればよい。或いは、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５４の代わりに、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３を第３の撮像領域Ｒ３まで拡張させてもよい、その場合、第２の輝度調整用偏光フィルタ２５２を第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３に対し第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置すればよい。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１０の実施形態の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１１の実施形態］
本発明の第１１の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第１１の実施形態及びその変形例の説明において、フィルム１１０は、偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第１１の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｄは、図２２に示す欠陥検査システム１０Ｃにおいて欠陥検査用撮像装置２０Ｃに代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｄを備える構成で第１０の実施形態と異なる。また、図２７に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｄは、図２６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１に代えて減衰フィルタ（輝度調整手段）２６を備える構成で第１０の実施形態と異なる。また、欠陥検査用撮像装置２０Ｄは、欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１の偏光軸（偏光吸収軸）のクロス角度が異なる点で第１０の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１と第１の偏光フィルタ２４１とは、第１のハーフクロスニコル状態を形成する。例えば、第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸と第１の偏光フィルタ２４１の偏光軸とのクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。
減衰フィルタ２６は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置されている。これにより、減衰フィルタ２６は、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することができる。
次に、本発明の第１１の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、減衰フィルタ２６を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。減衰フィルタ２６を、フィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置し、第２の撮像領域Ｒ２を透過する光の輝度値を低減させてもよい。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１１の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｄ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｄ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１１の実施形態の第１の変形例］
第１１の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法を第１１の実施形態の第１の変形例として例示する。
図４３に示す第１の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｄは、図２７に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｄにおいて、一対の第２の偏光フィルタ２３２，２４２を更に備える構成で第１１の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第１の撮像領域Ｒ１に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の偏光フィルタ２３２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して配置されており、第２の偏光フィルタ２４２は、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の偏光フィルタ２４１に隣接して配置されている。一対の第２の偏光フィルタ２３２，２４２は、第２のハーフクロスニコル状態を形成する。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度と異なる。
次に、第１１の実施形態の第１の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第２の偏光フィルタ２３２を光源２１とフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３との間に配置し、第２の偏光フィルタ２４２をフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第２の偏光フィルタ２３２及び第２の偏光フィルタ２４２を、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第２の偏光フィルタ配置工程）。次に、上記した輝度調整工程、搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１１の実施形態の第１の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｄ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｄ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１１の実施形態の第２の変形例］
第１１の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法を第１１の実施形態の第２の変形例として例示する。
第２の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｄは、図２７に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｄにおいて、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６に代えて一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３を備える構成で第１１の実施形態と異なる。
第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１は、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置され、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３は、フィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置される。その際、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１，２５３は第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置されている。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度と異なる。これより、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１，２５３は、第２の撮像領域Ｒ２を透過する光の輝度値を低減することができる。
次に、第１１の実施形態の第２の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置し、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３をフィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２の間に配置する。その際、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１，２５３を第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する。これにより、第２の撮像領域Ｒ２を透過した光の輝度値を低減することが可能となる（輝度調整工程）。次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１１の実施形態の第２の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｄ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｄ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１２の実施形態］
本発明の第１２の実施形態に係る欠陥検査システム及び欠陥検査方法は、上記した偏光特性を有さない位相差フィルムや電池用セパレータフィルム等の欠陥検査を行う欠陥検査システム及び欠陥検査方法である。第１２の実施形態及びその変形例の説明において、フィルム１１０は、偏光特性を有さないフィルムである。
本発明の第１２の実施形態に係る欠陥検査システム１０Ｅは、図２２に示す欠陥検査システム１０Ｃにおいて欠陥検査用撮像装置２０Ｃに代えて欠陥検査用撮像装置２０Ｅを備える構成で第１０の実施形態と異なる。また、図２８に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｅは、図２６に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて光源２１及び第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１に代えて光源２１Ａを備える構成で第１０の実施形態と異なる。また、欠陥検査用撮像装置２０Ｅは、欠陥検査用撮像装置２０Ｃにおいて一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１の偏光軸（偏光吸収軸）のクロス角度が異なる点で第１０の実施形態と異なる。
第１の偏光フィルタ２３１と第１の偏光フィルタ２４１とは、第１のハーフクロスニコル状態を形成する。例えば、第１の偏光フィルタ２３１の偏光軸と第１の偏光フィルタ２４１の偏光軸とのクロス角度が７５度以上８５度未満，または９５度以上１０５度以下である。
光源２１Ａは、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する輝度調整機能を有する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることができ、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
次に、本発明の第１２の実施形態に係る欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、光源２１Ａによって、第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値と第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値とを個別に調整する。これにより、第１の撮像領域Ｒ１に照射される光の輝度値を比較的に大きくすることが可能となり、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を比較的に小さくすることが可能となる（輝度調整工程）。
次に、上記した搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１２の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｅ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｅ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
［第１２の実施形態の変形例］
第１２の実施形態では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよい。以下では、２つの異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法を第１２の実施形態の変形例として例示する。
図４４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｅは、図２８に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｅにおいて、一対の第２の偏光フィルタ２３２，２４２を更に備える構成で第１０の実施形態と異なる。
ここで、撮像領域Ｒは、搬送方向Ｙに分割された第３の撮像領域Ｒ３であって、第１の撮像領域Ｒ１に隣接する第３の撮像領域Ｒ３を更に含む。
第２の偏光フィルタ２３２は、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して配置されており、第２の偏光フィルタ２４２は、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の偏光フィルタ２４１に隣接して配置されている。一対の第２の偏光フィルタ２３２，２４２は、第２のハーフクロスニコル状態を形成する。ここで、第２のハーフクロスニコル状態は、第１のハーフクロスニコル状態と異なる。すなわち、第２のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度は、第１のハーフクロスニコル状態における偏光フィルタの偏光軸のクロス角度と異なる。
次に、第１２の実施形態の変形例の欠陥検査方法及び欠陥検査用撮像方法について説明する。
まず、上記したように、第１の偏光フィルタ２３１を光源２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間に配置し、第１の偏光フィルタ２４１をフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第１の偏光フィルタ２３１及び第１の偏光フィルタ２４１を、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第１の偏光フィルタ配置工程）。次に、第２の偏光フィルタ２３２を光源２１とフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３との間に配置し、第２の偏光フィルタ２４２をフィルム１１０の第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に配置する。その際、第２の偏光フィルタ２３２及び第２の偏光フィルタ２４２を、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置する（第２の偏光フィルタ配置工程）。次に、上記した輝度調整工程、搬送工程、光照射工程、撮像工程、欠陥検出工程、マーキング工程が行われる。
この第１２の実施形態の変形例の欠陥検査用撮像装置２０Ｅ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｅ、及び、欠陥検査方法でも、第１０の実施形態の欠陥検査用撮像装置２０Ｃ、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査システム１０Ｃ、及び、欠陥検査方法と同様の利点を得ることができる。
なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、第７、第８及び第９の実施形態では、透過法を用いた欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、本発明の特徴は、図２９、図３０及び図３１に示すように、反射法を用いた欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法にも適用可能である。
また、図２９では、クロスニコル反射法とハーフクロスニコル反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図３９と同様に、クロスニコル反射法と２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法を組み合わせてもよい。また、図３０では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４０と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよいし、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法を組み合わせてもよい。また、図３１では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４１と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよい。
図２９、図３０及び図３１に示す欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法によれば、例えば、第１の偏光フィルタ２３１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間に、フィルム１１０とクロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル反射検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正反射（又はハーフクロスニコル反射）検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における反射散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル反射検査用撮像系列と、ハーフクロスニコル反射検査用撮像系列（図２９参照）又は正反射検査用撮像系列（図３０，３１参照）と、反射散乱検査用撮像系列とを統合することができる。その結果、欠陥検査システム１０，１０Ａ，１０Ｂ及び欠陥検査方法において、クロスニコル反射検査系列と、ハーフクロスニコル反射検査系列又は正反射検査系列と、反射散乱検査系列とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
ところで、クロスニコル反射検査用撮像系列と例えば正反射検査用撮像系列とでは、適切な光の輝度値が異なる。より具体的には、クロスニコル反射検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に大きく、例えば正反射検査用撮像系列における適切な光の輝度値は比較的に小さい。
この点に関し、図２９、図３０及び図３１に示す欠陥検査用撮像装置２０，２０Ａ，２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法によれば、偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができる。そのため、例えば、光源（光照射手段）２１及び光源（輝度調整手段）２１Ａから比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル反射検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、ハーフクロスニコル反射検査用撮像系列（図２９参照）又は正反射検査用撮像系列（図３０，３１参照）のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
同様に、第１０、第１１及び第１２の実施形態では、透過法を用いた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、本発明の特徴は、図３２、図３３及び図３４に示すように、反射法を用いた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法にも適用可能である。
また、図３２では、クロスニコル反射法とハーフクロスニコル反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｃ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４２と同様に、クロスニコル反射法と２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法を組み合わせてもよい。この場合、図４２に例示した第３の撮像領域Ｒ３に対して、第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２を、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５１に隣接して配置する一方、第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５２と対をなす第２の輝度調整用偏光フィルタ２５４を、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３に隣接して配置すればよい。
また、図３３では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｄ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４３と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよいし、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法を組み合わせてもよい。この場合、図４３に例示した第３の撮像領域Ｒ３に対して、第１１の実施形態の第１の変形例で説明したように、第２の偏光フィルタ２３２を、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して配置し、第２の偏光フィルタ２３２と対をなす第２の偏光フィルタ２４２を、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の偏光フィルタ２４１に隣接して配置してもよいし、第１１の実施形態の第２の変形例で説明したように、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６に代えて一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３をそれらが第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置してもよい。一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３を採用する場合には、第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１を、光源２１と第２の撮像領域Ｒ２との間に配置し、第１の輝度調整用偏光フィルタ２５３を、フィルム１１０の第２の撮像領域Ｒ２とエリアセンサ２２との間に配置すればよい。
また、図３４では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４４と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよい。この場合、図４４に例示した第３の撮像領域Ｒ３に対して、第２の偏光フィルタ２３２を、光源２１と第３の撮像領域Ｒ３との間に、第１の偏光フィルタ２３１に隣接して配置し、第２の偏光フィルタ２３２と対をなす第２の偏光フィルタ２４２を、第３の撮像領域Ｒ３とエリアセンサ２２との間に、第１の偏光フィルタ２４１に隣接して配置すればよい。
図３２、図３３及び図３４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法によれば、例えば、一対の第１の偏光フィルタ２３１，２４１が、光源（光照射手段）２１と第１の撮像領域Ｒ１との間、及び、第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間にそれぞれ、クロスニコル状態を形成するように配置され、エリアセンサ（撮像手段）２２が、第１の撮像領域Ｒ１、第２の撮像領域Ｒ２及び中間撮像領域Ｒ０を含む撮像領域Ｒを２次元画像として撮像するので、第１の撮像領域Ｒ１におけるクロスニコル反射検査用画像と、第２の撮像領域Ｒ２における正反射（又はハーフクロスニコル反射）検査用画像と、中間撮像領域Ｒ０における反射散乱検査用画像とを同時に撮像することができる。すなわち、クロスニコル反射検査用撮像系列と、ハーフクロスニコル反射用撮像系列（図３２参照）又は正反射検査用撮像系列（図３３，３４参照）と、反射散乱検査用撮像系列とを統合することができる。その結果、欠陥検査システム１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ及び欠陥検査方法において、クロスニコル反射検査系列と、ハーフクロスニコル反射検査系列又は正反射検査系列と、反射散乱検査系列とを統合することができ、検査系列数を削減することができる。
また、図３２、図３３及び図３４に示す欠陥検査用撮像装置２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ及び欠陥検査用撮像方法によれば、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光の輝度値を調整することができる。そのため、例えば、光源（光照射手段）２１及び光源（輝度調整手段）２１Ａから比較的に大きな輝度値の光を出力することによって、クロスニコル反射検査用撮像系列のための第１の撮像領域Ｒ１に照射する光の輝度値を比較的に大きくすることができ、一方、一対の第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）２５１，２５３、減衰フィルタ（輝度調整手段）２６及び光源（輝度調整手段）２１Ａによって、ハーフクロスニコル反射用撮像系列（図３２参照）又は正反射検査用撮像系列（図３３，３４参照）のための第２の撮像領域Ｒ２に照射する光の輝度値を比較的に小さくすることができる。
また、第８及び第９の実施形態、及び、図３０及び図３１に示す形態では、第１の偏光フィルタ２３１が光源（光照射手段）２１とフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１との間にされる形態を例示したが、図３５、図３６、図３７及び図３８に示すように、第１の偏光フィルタ２３１はフィルム１１０の第１の撮像領域Ｒ１とエリアセンサ（撮像手段）２２との間に配置される形態であってもよい。
図３５では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４０と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよいし、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法を組み合わせてもよい。また、図３６では、ハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４１と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル透過法と正透過法とを組み合わせてもよい。
また、図３７では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ａ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４０と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよいし、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法を組み合わせてもよい。また、図３８では、ハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせた欠陥検査用撮像装置２０Ｂ及び欠陥検査用撮像方法を例示したが、図４１と同様に、２つ以上の異なるハーフクロスニコル反射法と正反射法とを組み合わせてもよい。
これまでの説明では、光照射手段とは別に輝度調整手段を配置する場合には、その輝度調整手段を、第２の撮像領域Ｒ２に照射される光又は第２の撮像領域を透過若しくは第２の撮像領域Ｒ２で反射した光の輝度を調整するように配置していた。しかしながら、光照射手段とは別に輝度調整手段を配置する形態では、第１及び第２の撮像領域Ｒ１，Ｒ２の少なくとも一方に照射される光又は第１及び第２の撮像領域Ｒ１，Ｒ２のうちの少なくとも一方を透過若しくは第１及び第２の撮像領域Ｒ１，Ｒ２のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度を調整するように輝度調整手段は配置していればよい。更に、光照射手段に輝度調整手段を設ける形態において、光照射手段に配置される輝度調整手段とは別に輝度調整手段を更に設けてもよい。
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ…欠陥検査システム、２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ…欠陥検査用撮像装置、２１…光源（光照射手段）、２１Ａ…光源（輝度調整手段）、２２…エリアセンサ（撮像手段）、２２ａ…ＣＣＤ又はＣＭＯＳ、２２ｂ…レンズ、２３１，２４１…第１の偏光フィルタ、２３２，２４２…第２の偏光フィルタ、２５１，２５３…第１の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）、２５２，２５４…第２の輝度調整用偏光フィルタ（輝度調整手段）、２６…減衰フィルタ（輝度調整手段）、３０…画像解析部、４０…マーキング装置、１００…製造装置（フィルム製造装置）、１０１，１０２，１０３…原反ロール、１０４，１０５…貼合ローラ、１０６…搬送ローラ、１１０…フィルム、１１１…偏光フィルム本体部、１１２…セパレートフィルム付き粘着材、１１３…表面保護フィルム、Ｒ…撮像領域、Ｒ０…中間撮像領域、Ｒ１…第１の撮像領域、Ｒ２…第２の撮像領域、Ｒ３…第３の撮像領域。

Claims (37)

  1. 偏光特性を有するフィルムの欠陥検査のための撮像装置であって、
    前記フィルムの撮像領域に光を照射する光照射手段と、
    前記フィルムの前記撮像領域を２次元画像として撮像する撮像手段と、
    前記フィルムとクロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記フィルムの前記撮像領域との間、又は、前記フィルムの前記撮像領域と前記撮像手段との間に配置される第１の偏光フィルタと、
    前記光照射手段、前記撮像手段及び前記第１の偏光フィルタに対して前記フィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送手段と、
    を備え、
    前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、
    前記第１の偏光フィルタは、前記光照射手段と前記第１の撮像領域との間、又は、前記第１の撮像領域と前記撮像手段との間に配置される、
    欠陥検査用撮像装置。
  2. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムとクロスニコル状態を形成する、請求項１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  3. 前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える、請求項２に記載の欠陥検査用撮像装置。
  4. 前記輝度調整手段は、前記第２の撮像領域に照射される、又は、前記第２の撮像領域を透過若しくは前記第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整する、請求項３に記載の欠陥検査用撮像装置。
  5. 前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は前記第２の撮像領域と前記撮像手段との間に配置される減衰フィルタである、請求項４に記載の欠陥検査用撮像装置。
  6. 前記輝度調整手段は、前記光照射手段に配置され、前記第１の撮像領域に照射する光の輝度値と前記第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する、請求項３又は４に記載の欠陥検査用撮像装置。
  7. 前記第１の偏光フィルタは、前記光照射手段と前記第１の撮像領域との間に配置される、請求項１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  8. 前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える、請求項１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  9. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムの前記第１の撮像領域とクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は、前記第２の撮像領域と前記撮像手段との間に前記フィルムの前記第２の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第１の輝度調整用偏光フィルタを含む、請求項８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  10. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムの前記第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は、前記第２の撮像領域と前記撮像手段の間に配置される減衰フィルタである、
    請求項８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  11. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムの前記第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段に配置され、前記第１の撮像領域に照射する光の輝度値と前記第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する、
    請求項８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  12. 前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第３の撮像領域との間、又は、前記第３の撮像領域と前記撮像手段の間に、前記フィルムの前記第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第２の輝度調整用偏光フィルタを含み、前記第３の撮像領域に照射される光の輝度値を調整する、
    請求項９に記載の欠陥検査用撮像装置。
  13. 前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、
    前記光照射手段と前記第３の撮像領域との間、又は、前記第３の撮像領域と前記撮像手段との間に配置され、前記フィルムの前記第３の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成する第２の偏光フィルタを更に備える、
    請求項１０又は１１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  14. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムの前記第１の撮像領域と第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は、前記第２の撮像領域と前記撮像手段の間に、前記フィルムの前記第２の撮像領域と第２のハーフクロスニコル状態を形成するように配置される第１の輝度調整用偏光フィルタを含む、
    請求項８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  15. 偏光特性を有さないフィルムの欠陥検査のための撮像装置であって、
    前記フィルムの撮像領域に光を照射する光照射手段と、
    前記フィルムの前記撮像領域を２次元画像として撮像する撮像手段と、
    クロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記フィルムの前記撮像領域との間、及び、前記フィルムの前記撮像領域と前記撮像手段との間にそれぞれ配置される一対の第１の偏光フィルタと、
    前記光照射手段、前記撮像手段及び前記一対の第１の偏光フィルタに対して前記フィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送手段と、
    を備え、
    前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、
    前記一対の第１の偏光フィルタは、前記光照射手段と前記第１の撮像領域との間、及び、前記第１の撮像領域と前記撮像手段との間にそれぞれ配置される、
    欠陥検査用撮像装置。
  16. 前記一対の第１の偏光フィルタは、クロスニコル状態を形成する、請求項１５に記載の欠陥検査用撮像装置。
  17. 前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える、請求項１６に記載の欠陥検査用撮像装置。
  18. 前記輝度調整手段は、前記第２の撮像領域に照射される、又は、前記第２の撮像領域を透過若しくは前記第２の撮像領域で反射した光の輝度値を調整する、請求項１７に記載の欠陥検査用撮像装置。
  19. 前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は前記第２の撮像領域と前記撮像手段との間に配置される減衰フィルタである、請求項１８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  20. 前記輝度調整手段は、前記光照射手段に配置され、前記第１の撮像領域に照射する光の輝度値と前記第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する、請求項１７又は１８に記載の欠陥検査用撮像装置。
  21. 前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整手段を更に備える、請求項１５に記載の欠陥検査用撮像装置。
  22. 前記一対の第１の偏光フィルタは、クロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、及び、前記第２の撮像領域と前記撮像手段の間に配置される一対の第１の輝度調整用偏光フィルタを含む、請求項２１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  23. 前記一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、又は、前記第２の撮像領域と前記撮像手段の間に配置される減衰フィルタである、
    請求項２１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  24. 前記一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、前記光照射手段に配置され、前記第１の撮像領域に照射する光の輝度値と前記第２の撮像領域に照射する光の輝度値とを個別に調整する、
    請求項２１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  25. 前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、
    前記輝度調整手段は、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記第３の撮像領域との間、及び、前記第３の撮像領域と前記撮像手段の間に配置される一対の第２の輝度調整用偏光フィルタを含み、前記第３の撮像領域に照射される光の輝度値を調整する、
    請求項２２に記載の欠陥検査用撮像装置。
  26. 前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第３の撮像領域を含み、
    第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記第３の撮像領域との間、及び、前記第３の撮像領域と前記撮像手段との間にそれぞれ配置される一対の第２の偏光フィルタを更に備える、
    請求項２３又は２４に記載の欠陥検査用撮像装置。
  27. 前記一対の第１の偏光フィルタは、第１のハーフクロスニコル状態を形成し、
    前記輝度調整手段は、第２のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記第２の撮像領域との間、及び、前記第２の撮像領域と前記撮像手段の間に配置される一対の第１の輝度調整用偏光フィルタを含む、
    請求項２１に記載の欠陥検査用撮像装置。
  28. 請求項１〜２７の何れか１項に記載の欠陥検査用撮像装置と、
    前記欠陥検査用撮像装置によって撮像された前記２次元画像に基づいて、前記フィルムに存在する欠陥を検出する検出部と、
    を備える、欠陥検査システム。
  29. 請求項２８に記載の欠陥検査システムを備える、フィルム製造装置。
  30. 光照射手段と、撮像手段と、第１の偏光フィルタと、搬送手段とを備える欠陥検査用撮像装置を用いて、偏光特性を有するフィルムの欠陥検査のための撮像を行う撮像方法であって、
    前記第１の偏光フィルタを、前記フィルムとクロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記フィルムの撮像領域との間、又は、前記フィルムの前記撮像領域と前記撮像手段との間に配置する第１の偏光フィルタ配置工程と、
    前記搬送手段によって前記光照射手段、前記撮像手段及び前記第１の偏光フィルタに対して前記フィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送工程と、
    前記光照射手段によって前記フィルムの前記撮像領域に光を照射する光照射工程と、
    前記撮像手段によって前記フィルムの前記撮像領域を２次元画像として撮像する撮像工程と、
    を含み、
    前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、
    前記第１の偏光フィルタ配置工程では、前記第１の偏光フィルタを、前記光照射手段と前記第１の撮像領域との間、又は、前記第１の撮像領域と前記撮像手段との間に配置する、
    欠陥検査用撮像方法。
  31. 前記第１の偏光フィルタは、前記フィルムとクロスニコル状態を形成する、請求項３０に記載の欠陥検査用撮像方法。
  32. 輝度調整手段によって、前記第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過した若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整工程を更に含む、請求項３０に記載の欠陥検査用撮像方法。
  33. 光照射手段と、撮像手段と、一対の第１の偏光フィルタと、搬送手段とを備える欠陥検査用撮像装置を用いて、偏光特性を有さないフィルムの欠陥検査のための撮像を行う撮像方法であって、
    前記一対の第１の偏光フィルタを、クロスニコル状態又は第１のハーフクロスニコル状態を形成するように、前記光照射手段と前記フィルムの撮像領域との間、及び、前記フィルムの前記撮像領域と前記撮像手段との間にそれぞれ配置する第１の偏光フィルタ配置工程と、
    前記搬送手段によって前記光照射手段、前記撮像手段及び前記一対の第１の偏光フィルタに対して前記フィルムを搬送方向に相対的に搬送する搬送工程と、
    前記光照射手段によって前記フィルムの前記撮像領域に光を照射する光照射工程と、
    前記撮像手段によって前記フィルムの前記撮像領域を２次元画像として撮像する撮像工程と、
    を含み、
    前記撮像領域は、前記搬送方向に分割された第１の撮像領域及び第２の撮像領域を含み、
    前記第１の偏光フィルタ配置工程では、前記一対の第１の偏光フィルタを、前記光照射手段と前記第１の撮像領域との間、及び、前記第１の撮像領域と前記撮像手段との間にそれぞれ配置する、
    欠陥検査用撮像方法。
  34. 前記一対の第１の偏光フィルタは、クロスニコル状態を形成する、請求項３３に記載の欠陥検査用撮像方法。
  35. 輝度調整手段によって、前記第１の撮像領域及び第２の撮像領域のうちの少なくとも一方に照射される、又は、前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方を透過した若しくは前記第１の撮像領域及び前記第２の撮像領域のうちの少なくとも一方で反射した光の輝度値を調整する輝度調整工程を更に含む、請求項３３に記載の欠陥検査用撮像方法。
  36. 請求項３０〜３５の何れか１項に記載の欠陥検査用撮像方法を含み、
    前記欠陥検査用撮像方法によって撮像した前記２次元画像に基づいて、前記フィルムに存在する欠陥を検出する欠陥検出工程を含む、
    欠陥検査方法。
  37. 請求項３６に記載の欠陥検査方法を含む、フィルムの製造方法。

JP2016243605A 2015-12-15 2016-12-15 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法 Active JP6902347B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021066416A JP7184954B2 (ja) 2015-12-15 2021-04-09 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015244553 2015-12-15
JP2015244564 2015-12-15
JP2015244553 2015-12-15
JP2015244564 2015-12-15

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021066416A Division JP7184954B2 (ja) 2015-12-15 2021-04-09 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017111150A true JP2017111150A (ja) 2017-06-22
JP6902347B2 JP6902347B2 (ja) 2021-07-14

Family

ID=59081510

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016243605A Active JP6902347B2 (ja) 2015-12-15 2016-12-15 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法
JP2021066416A Active JP7184954B2 (ja) 2015-12-15 2021-04-09 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021066416A Active JP7184954B2 (ja) 2015-12-15 2021-04-09 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (2) JP6902347B2 (ja)
KR (1) KR20170071430A (ja)
CN (2) CN107024482B (ja)
TW (1) TWI773655B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018179908A (ja) * 2017-04-20 2018-11-15 株式会社カネカ 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、バルーンカテーテルの製造方法
CN109324063A (zh) * 2017-07-31 2019-02-12 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
KR20190040905A (ko) * 2017-10-11 2019-04-19 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 결함 검사 장치, 결함 검사 방법 및 필름의 제조 방법
WO2022044390A1 (ja) * 2020-08-31 2022-03-03 日東電工株式会社 光学積層体の検査方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04329339A (ja) * 1991-04-30 1992-11-18 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd 複屈折測定装置
JP2007212442A (ja) * 2006-01-11 2007-08-23 Nitto Denko Corp 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP2007263593A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Photonic Lattice Inc 位相差および光軸方位の測定装置
JP2008298566A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Fujifilm Corp フィルムの欠陥検査装置及び方法
JP2009156712A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Photonic Lattice Inc 偏光測定器，測定システム
JP2011164062A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Ricoh Co Ltd 透明平板検出システム
JP2011226957A (ja) * 2010-04-21 2011-11-10 Sanritz Corp 偏光板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP2013015442A (ja) * 2011-07-05 2013-01-24 Fujifilm Corp 光学特性測定方法及び装置
CN203053851U (zh) * 2013-01-10 2013-07-10 南京中迅微传感技术有限公司 基于微偏振片阵列的数字电子剪切散斑干涉仪
JP2013205091A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Dainippon Printing Co Ltd フィルム検査システム、フィルム検査方法
JP2015064204A (ja) * 2013-09-24 2015-04-09 田中　研治 透明フィルムの歪み測定システム
JP2015225041A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 住友化学株式会社 積層偏光フィルムの欠陥検査方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003344302A (ja) * 2002-05-31 2003-12-03 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光フィルムの検査法および検査装置
JP4396160B2 (ja) * 2003-07-31 2010-01-13 住友化学株式会社 透明性フィルムの異物検査方法
JP2005274383A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 配向フィルムの穴明き欠陥の検査方法
JP2006337630A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 積層光学フィルムの製造方法
JP5024935B2 (ja) * 2007-01-16 2012-09-12 富士フイルム株式会社 光透過性部材の欠陥検出装置及び方法
JP2009244064A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルムの検査方法
KR101177299B1 (ko) * 2010-01-29 2012-08-30 삼성코닝정밀소재 주식회사 평판 유리 표면 이물질 검사 장치
JP5589422B2 (ja) * 2010-02-15 2014-09-17 株式会社リコー 透明体検出システム
JP5944165B2 (ja) * 2010-05-25 2016-07-05 東レ株式会社 フィルムの欠陥検査装置および欠陥検査方法
CN102590221A (zh) * 2012-02-24 2012-07-18 深圳大学 一种偏光片的外观缺陷检测系统及检测方法
JP5825278B2 (ja) * 2013-02-21 2015-12-02 オムロン株式会社 欠陥検査装置および欠陥検査方法
KR20150007719A (ko) * 2013-07-12 2015-01-21 동우 화인켐 주식회사 편광판의 검사 방법
KR102191414B1 (ko) * 2013-11-12 2020-12-16 삼성디스플레이 주식회사 결함 검사 장치 및 이를 이용한 결함 검사 방법

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04329339A (ja) * 1991-04-30 1992-11-18 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd 複屈折測定装置
JP2007212442A (ja) * 2006-01-11 2007-08-23 Nitto Denko Corp 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP2007263593A (ja) * 2006-03-27 2007-10-11 Photonic Lattice Inc 位相差および光軸方位の測定装置
JP2008298566A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Fujifilm Corp フィルムの欠陥検査装置及び方法
JP2009156712A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Photonic Lattice Inc 偏光測定器，測定システム
JP2011164062A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Ricoh Co Ltd 透明平板検出システム
JP2011226957A (ja) * 2010-04-21 2011-11-10 Sanritz Corp 偏光板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置
JP2013015442A (ja) * 2011-07-05 2013-01-24 Fujifilm Corp 光学特性測定方法及び装置
JP2013205091A (ja) * 2012-03-27 2013-10-07 Dainippon Printing Co Ltd フィルム検査システム、フィルム検査方法
CN203053851U (zh) * 2013-01-10 2013-07-10 南京中迅微传感技术有限公司 基于微偏振片阵列的数字电子剪切散斑干涉仪
JP2015064204A (ja) * 2013-09-24 2015-04-09 田中　研治 透明フィルムの歪み測定システム
JP2015225041A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 住友化学株式会社 積層偏光フィルムの欠陥検査方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018179908A (ja) * 2017-04-20 2018-11-15 株式会社カネカ 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、バルーンカテーテルの製造方法
CN109324063A (zh) * 2017-07-31 2019-02-12 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
CN109324063B (zh) * 2017-07-31 2022-09-09 日东电工株式会社 偏振膜的摄像装置、检查装置以及检查方法
KR20190040905A (ko) * 2017-10-11 2019-04-19 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 결함 검사 장치, 결함 검사 방법 및 필름의 제조 방법
JP2019070617A (ja) * 2017-10-11 2019-05-09 住友化学株式会社 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法
TWI775964B (zh) * 2017-10-11 2022-09-01 日商住友化學股份有限公司 缺陷檢查裝置
KR102608085B1 (ko) * 2017-10-11 2023-11-29 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 결함 검사 장치, 결함 검사 방법 및 필름의 제조 방법
WO2022044390A1 (ja) * 2020-08-31 2022-03-03 日東電工株式会社 光学積層体の検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201800744A (zh) 2018-01-01
CN107024482B (zh) 2020-11-20
TWI773655B (zh) 2022-08-11
KR20170071430A (ko) 2017-06-23
JP2021103190A (ja) 2021-07-15
JP7184954B2 (ja) 2022-12-06
CN107024482A (zh) 2017-08-08
CN206583816U (zh) 2017-10-24
JP6902347B2 (ja) 2021-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7184954B2 (ja) 欠陥検査用撮像装置、欠陥検査システム、フィルム製造装置、欠陥検査用撮像方法、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法
CN105738380B (zh) 显示装置的检查装置以及显示装置的检查方法
CN102422149B (zh) 多晶片的检查方法
TWI418779B (zh) 缺陷檢查裝置及方法
JP5446232B2 (ja) カラーフィルタ基板の欠陥検査装置および欠陥検査方法
TWI775964B (zh) 缺陷檢查裝置
JP5415709B2 (ja) 偏光フィルムの仕分けシステム
JP7075853B2 (ja) 欠陥検査装置、欠陥検査方法、円偏光板又は楕円偏光板の製造方法及び位相差板の製造方法
KR102200303B1 (ko) 광학 필름 검사 장치
WO2016194874A1 (ja) 光透過性フィルムの欠陥検査方法、直線偏光子フィルムの製造方法及び偏光板の製造方法
JP2006250715A (ja) フイルムの欠陥検査装置及び方法
JP7262260B2 (ja) 欠陥検査装置、及び欠陥検査方法
WO2008042832A3 (en) Calibration apparatus and method for fluorescent imaging
JP2010190830A (ja) 放射線検出装置
JP2015227827A (ja) 偏光検査装置
JP2018013438A (ja) 検査装置及び検査方法
JP2017116294A (ja) 偏光検査装置
JP6749894B2 (ja) 積層光学フィルムの欠陥検査方法、光学フィルムの欠陥検査方法及び積層光学フィルムの製造方法
JP2006337630A (ja) 積層光学フィルムの製造方法
JP2017219343A (ja) 欠陥検査装置、欠陥検査方法、フィルム製造装置及びフィルム製造方法
JP2011180135A (ja) 偏光板を貼合した液晶パネルの欠陥検査方法
KR20120115531A (ko) 편광판을 첩합한 액정 패널의 결함 검사 방법
JP2008107100A (ja) 液晶パネルの検査装置、及び液晶パネルの検査方法
JP2022172803A (ja) 検査方法
JP2006047143A (ja) フィルム検査方法及びフィルム検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200819

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210409

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210409

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20210420

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20210421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210615

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210621

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6902347

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350