JP2017096938A - 少なくとも１つの目の錯視模様を有するシリコン系部品の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】平らな表面を平らでないように見せる、および／または２種類の材料を含むように見せる、シリコン系部品の製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも１つの目の錯視模様１４を有する少なくとも１つのシリコン系部品１１の製造方法であって、シリコン系の層を含む基板を形成するステップと；シリコン系の層の厚みを貫通して少なくとも１つの穴６をエッチングし、シリコン系の層の厚みに少なくとも１つのシリコン系部品１１の輪郭と非貫通凹部５とを形成し、表面を平らでないように見せる少なくとも１つの目の錯視模様１４を含む平らな表面を有する少なくとも１つのシリコン系部品１１を形成するステップと；それにより形成された少なくとも１つのシリコン系部品１１を基板から外すステップと、を含む。【選択図】図３

Description

本発明は、少なくとも１つの目の錯視模様、より具体的には、平らな表面を平らでないように見せる、および／または２種類の材料を含むように見せる、少なくとも１つの模様を含む平らな表面を有するシリコン系部品の製造方法に関する。
時計の美観を改善するために、上面にファセットおよび／または面取りを施した外装部品を形成することが知られている。欧州特許第１７２２２８１号明細書では、仕上げ工程を必要としない、ファセットを施したシリコン部品の製造方法を開示している。
欧州特許第１７２２２８１号明細書
本発明の目的は、ファセット加工も仕上げ加工も必要とせずに、ファセット加工および／もしくは面取り加工の錯視、ならびに／または複合部品の錯視をもたらす単純なシリコン系部品を得る製造方法を提示することによって、前述の欠点の全部または一部を克服することである。
このため、本発明は、
ａ）シリコン系の層を含む基板を形成するステップと；
ｂ）シリコン系の層の厚みを貫通して少なくとも１つの穴をエッチングし、シリコン系の層の厚みにおいて前記少なくとも１つの部品の輪郭と非貫通凹部とを形成し、表面を平らでないように見せる前記少なくとも１つの目の錯視模様を含む前記平らな表面を有する前記少なくとも１つの部品を形成するステップと；
ｃ）それにより形成された前記少なくとも１つの部品を基板から外すステップと
を含むことを特徴とする、少なくとも１つの目の錯視模様を有する少なくとも１つのシリコン系部品の製造方法に関する。
したがって、シリコン系の層が平らであることにより、この製造方法で、その後に面取りの必要のない、より一般的には、その後に仕上げ加工を行う必要のない平らな表面を有する部品が得られることがわかる。
さらに、この製造方法は、同じ基板上に、同じ種類の一体型シリコン系部品、またはいくつかの異なる一体型シリコン系部品を、非常に高い寸法精度で、かつ非常に高い再現性でもたらす。
最後に、本発明により有利には、精度と再現性が非常に高い製造方法により、例えば斜角をつける、または面取りするといった機械加工をしたかのように、平らな表面を平らでないように見せる、少なくとも１つの微細で容易に再現可能な模様を設けた、非常に単純な部品を得ることが可能となる。
本発明のその他の有利な変形例に従って：
―第１の実施形態に従って、非貫通凹部は、平行線分の少なくとも２つの系列を形成し、平行線分の第１の系列が、平行線分の第２の系列と１０〜１７０度の角度で接し、それにより前記少なくとも１つの部品は、前記平らな表面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらし；
―第２の実施形態に従って、非貫通凹部は、曲線分の少なくとも１つの系列を形成し、それにより前記少なくとも１つの部品は、前記平らな表面が半球形であるという錯視をもたらし；
―第３の実施形態に従って、非貫通凹部は、相互に対称的に配置された凹部の少なくとも１つの系列を形成し、凹部の前記少なくとも１つの系列は、前記少なくとも１つの部品の上面に凹部がない部分に隣接して形成されており、それにより前記少なくとも１つの部品は、前記平らな表面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらし；
―第４の実施形態に従って、非貫通凹部は、前記少なくとも１つの部品の外縁に配置され、平行線分の少なくとも２つの系列を形成し、第１の系列の平行線分が、第２の系列の線分に対して垂直であり、かつ角度を成して接しており、それにより前記少なくとも１つの部品は、前記平らな表面が面取りされているという錯視をもたらし；
―第５の実施形態に従って、非貫通凹部は、相互に対称的に配置された凹部の少なくとも１つの系列を形成し、凹部の前記少なくとも１つの系列は、凹部を有していない前記少なくとも１つの部品の表面に隣接しており、それにより前記少なくとも１つの部品は、前記平らな表面が、２つの異なる材料を用いて、浮き上がったように形成されているという錯視をもたらし；
―非貫通凹部は２〜１００μｍの深さを有し；
―方法はさらに、ステップｂ）とステップｃ）の間に、ｄ）：基板の残りの厚みに少なくとも１つの貫通穴を形成することで、固定手段を有する前記少なくとも１つの部品を形成するステップを有し；
―シリコン系の層は５０〜５００μｍの厚さを有し；
―第１の代替案に従って、ステップｂ）は、ｅ）：開口部を有するマスクをシリコン系の層上に形成する段階であって、前記少なくとも１つの貫通穴を形成するのに用いられる開口部が、非貫通凹部を形成するのに用いられる開口部より大きい段階と；ｆ）異方性エッチングによって、マスクの開口部を通してシリコン系の層をエッチングする段階と；ｇ）マスクを除去する段階とを含み；
―第２の代替案に従って、ステップｂ）は、ｈ）前記少なくとも１つの貫通穴および非貫通凹部の形をした開口部を有する第１のマスクを形成する段階と；ｉ）前記少なくとも１つの貫通穴のみの形をした少なくとも１つの開口部を有する第２のマスクを前記第１のマスク上に形成する段階と；ｊ）第１の異方性エッチングによって、第２のマスクにある前記少なくとも１つの開口部を通して、シリコン系の層を部分的にエッチングする段階と；ｋ）第２のマスクを除去する段階と；ｌ）第２の異方性エッチングによって、第１のマスクにある開口部を通してシリコン系の層をエッチングすることで、前記少なくとも１つの貫通穴および非貫通凹部を得る段階と；ｍ）第１のマスクを除去する段階とを含み；
―第１のシリコン系部品は、単結晶シリコン、ドープした単結晶シリコン、非晶質シリコン、多孔質シリコン、多結晶シリコン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、石英、または酸化ケイ素を含み；
―いくつかの部品を同じシリコン系の層に形成し；
―前記少なくとも１つの部品は、ダイヤル、開口部装飾、フランジ、ベゼル、プッシュピース、クラウン、ケース裏蓋、針、ブレスレットもしくはストラップ、リンク、クラスプ、装飾、回転錘、またはアップリケの全部または一部を形成する。
本発明は、部品が、実質的に平らな表面を平らでないように見せる少なくとも１つの目の錯視模様を有する前記実質的に平らな表面を含むことを特徴とする、前述の変形例のうちいずれかの方法によって得られるシリコン系部品を含む時計の外装部品にも関する。
その他の特徴および利点は、添付の図面に関する非限定的な例示によって提示される、以下の説明により明らかになるであろう。
本発明による方法のステップの図である。 本発明による方法のステップの図である。 本発明による方法のステップの図である。 本発明による方法のステップの図である。 本発明による方法のステップの図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られる針の実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られるインデックスの実施例を示す図である。 本発明によって得られる開口部装飾の実施例を示す図である。
本発明は、時計の外部の全部または一部を形成するための、ファセットおよび／または面取りの錯視をもたらす単純な形状の一体型シリコン系部品の製造方法に関する。したがって、非限定的な例として、この部品は、ダイヤル、開口部装飾、フランジ、ベゼル、プッシュピース、クラウン、ケース裏蓋、回転錘、針、ブレスレットもしくはストラップ、リンク、クラスプ、装飾またはアップリケの全部または一部を形成してよい。
当然ながら、そのような部品は、時計製作法の分野に限定されない。非限定的な例として、そのような部品は、別法として、宝飾品の部分の全部または一部を形成することができよう。
方法は、少なくとも１つのシリコン系部品を製造するためのものである。「シリコン系」という用語は、部品の組成に、単独または化合物の形態のシリコンが存在してよいことを意味する。したがって、非限定的な例として、部品は、例えば、結晶配向にかかわらず単結晶シリコン、結晶配向にかかわらずドープした単結晶シリコン、非晶質シリコン、多孔質シリコン、多結晶シリコン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、結晶配向にかかわらず石英、または酸化ケイ素を用いて形成してよい。
本発明により有利には、方法によって得られる各シリコン系部品は、少なくとも１つの目の錯視模様を含む。より具体的には、有利には、各部品は、実質的に平らな表面を平らでないように見せる少なくとも１つの目の錯視模様を有する実質的に平らな表面を含み、これにより、単純な部品に、例えばファセットおよび／もしくは面取りの錯視、ならびに／または複合部品の錯視をもたらすことができる。
単純化のために、提示する図は、基板上の１つの部品のみの製造を示す。しかしながら、本発明により有利には、この方法によって、複数の同一または別々の部品を、同じ基板上に形成することができる。
図１に示すように、本発明による方法は、厚さが５０〜５００μｍであるシリコン系の層１を含む基板１０を形成する第１のステップａ）を含む。なお、図１に示す実施例では、基板１０は、シリコン系の層１を受けるための支持層２をさらに含む。以下に説明する変形例に従って、支持層２は使用する材料に関して選択してよく、またはその性質は重要でなくてもよい。
図２に示すように、方法は、シリコン系の層１の厚みを貫通して少なくとも１つの穴６をエッチングし、部品１１の本体７を形成する第２のステップｂ）に続く。つまり、形成する部品１１に応じて、１つまたは複数の貫通穴６を作ってよい。第２のステップｂ）は、シリコン系の層１の厚みに非貫通凹部５をエッチングし、表面を平らでないように見せる前記少なくとも１つの目の錯視模様１４を含む前記平らな表面を有する、前記少なくとも１つの部品１１を形成するステップでもある。
前記少なくとも１つの目の錯視模様１４の一般的な形状について、以下にさらに説明する。理解しやすいよう、非貫通凹部５は、概略的に、図２において、シリコン系の層１の上面３における３つのくぼみとして点線で表す。
さらに、層１に設けられる非貫通凹部５は、シリコン系の層１の上面３から２〜１００μｍの深さまで及んでよい。
図２に示すように、第１の好ましい代替案において、ステップｂ）はｅ）からｇ）までの３つの段階を含む。ステップｂ）は、シリコン系の層１上に開口部４、８を有するマスクＭを形成する第１の段階ｅ）を含む。好ましくは、前記少なくとも１つの貫通穴６を形成するのに用いられる開口部８は、非貫通凹部５を形成するのに用いられる開口部４より大きい。そのような段階ｅ）は、例えば、感光性樹脂をフォトリソグラフィすることによって、（酸化ケイ素のように）層を構造化することによって、または金属もしくは窒化ケイ素の層を選択的に蒸着することによって実現してよい。当然ながら、マスクについて、他の形成方法および／または他の材料も可能である。
第１の好ましい代替案は、異方性エッチングによって、マスクＭの開口部４、８を通してシリコン系の層１をエッチングする第２の段階ｆ）に続く。したがって、例えば深堀り反応性イオンエッチングなどの異方性エッチングは、開口部４の内部よりも、前記少なくとも１つの大きめの開口部８の内部でより深くシリコン系材料を除去する。このエッチング速度の差により、有利には、シリコン系の層１に、同じエッチングで、前記少なくとも１つの貫通穴６と非貫通凹部５とを形成することができる。
最後に、第１の好ましい代替案に従って、ステップｂ）は、マスクＭを除去する第３の段階ｇ）で終わる。この第３の段階ｇ）は、一般に、マスクＭに使われる材料の選択的化学エッチングによって実現する。
第１の代替案の変形例に従って、将来の非貫通凹部５の形状に対応する開口部４は、図５に示すように、数分の一の大きさの開口部に分割される。一例として、数分の一の大きさである開口部は、３〜５μｍ幅の非開口部によって隔てられた２〜３μｍの幅であり得る。
次いで、段階ｇ）の後に、ステップｂ）は、シリコン系の層１を酸化させ、所望の将来の非貫通凹部５にのみ形成される、図５に示す最薄壁を完全に酸化させる段階を含む。最後に、ステップｂ）は、非貫通凹部５を形成するシリコン系の層１の脱酸で終わる。この変形例は、非貫通凹部５が、前記少なくとも１つの貫通穴６よりはるかに浅くなければならないときに特に有用である。
第２の代替案（図示せず）に従って、ステップｂ）は、ｈ）からｍ）までの６つの段階を含む。したがって、ステップｂ）は、前記少なくとも１つの貫通穴６および非貫通凹部５の形をした開口部４、８を有する第１のマスクを形成するための第１の段階ｈ）を含む。第２の代替案は、前記少なくとも１つの貫通穴６のみの形をした前記少なくとも１つの開口部８を有する第２のマスクを第１のマスク上に形成する第２の段階ｉ）に続く。したがって、第１のマスクにある開口部４は、第２のマスクによって覆い隠されることがわかる。
次いで、第２の代替案は、第１の異方性エッチングによって、第１および第２のマスクにある前記少なくとも１つの開口部８を通して、シリコン系の層１を部分的に、すなわち厚みの一部のみエッチングする第３の段階ｊ）を含む。第４の段階ｋ）では第２のマスクを除去し、次いで第５の段階ｌ）で、第２の異方性エッチングによって、第１のマスクにある開口部４、８を通してシリコン系の層１をエッチングすることで、前記少なくとも１つの貫通穴６と非貫通凹部５とを得る。最後に、第２の代替案は、第１のマスクを除去する段階ｍ）で終わる。図示していないが、この第２の代替案では、開口部４と８の間に見られる幅の差に制限されることなく、第１の代替案と同じ結果が得られることがわかる。
第３の代替案（図示せず）に従って、ステップｂ）は、前記少なくとも１つの貫通穴６と非貫通凹部５とをエッチングする連続した段階、すなわち、最初に前記少なくとも１つの貫通穴６を、次いで非貫通凹部５をエッチングすること、またはその逆を含む。したがって、一例として、第３の代替案に従ったステップｂ）は、第１の代替案の段階ｅ）〜ｇ）に似た段階を含む２つの工程を含み、各工程で、前記少なくとも１つの貫通穴６または非貫通凹部５をエッチングする。そのため、この第３の代替案でも、第１および第２の代替案と同じ結果が得られることがわかる。
本発明により有利には、ステップｂ）で用いられる非常に正確なフォトリソグラフィの結果として、方法により、時計製作法の分野における部品に必要とされる非常に高い許容差を満足できる、高精度の外部寸法、および場合によっては内部寸法を有するシリコン系の本体７を製造することができる。「内部寸法」とは、本体７の輪郭を定義するのに加え、前記少なくとも１つの貫通穴６が、ステップｂ）で定められる本体７に、例えば後からそこに部材を受け入れるための穴を形成することもできることを意味する。したがって、非貫通凹部５に加え、いくつかの貫通穴６が形成されるであろうことがわかる。
最後に、方法は、それにより形成された部品１１を基板１０から外す、第３かつ最後のステップｃ）で終わる。そのため、ステップｃ）は支持層２の選択的エッチングで構成されていてよい。
図４に示す、方法の別の変形例では、方法はステップｂ）とステップｃ）の間に、基板１０の残りの厚みに貫通穴を形成することで、固定手段９を有する部品１１’を形成する任意選択のステップｄ）を含んでもよい。
基板１０上での各本体７の位置決めが正確であるため、ステップｄ）において、基板１０の層２を正確な寸法でエッチングすることが可能である。この変形例では、上述したステップｂ）と同じ種類のエッチングを用いるために、支持層２は好ましくはシリコン系である。有利には、本発明によるそのようなステップｄ）では、以下に図１８を参照しながら説明する部品６１１’を得ることが可能となる。
したがって、前記少なくとも１つの目の錯視模様１４’、６１４’を形成する平らな表面３と凹部５に加え、部品１１’、６１１’は、部品１１’、６１１’を取り付けるための少なくとも１つの固定手段９、６０９’も含む。したがって、固定手段９、６０９’は、足またはパイプの形態を取ることができる。
図６〜１９に、方法によって得られる部品の実施例を示し、本発明による目の錯視模様をさらによく説明する。非限定的な例として、目の錯視模様の４つの実施形態を説明する。
ゆえに、第１の実施形態に従って、図６、７、１２、および１６の目の錯視模様１１４、２１４、５１４、および７１４は、平行線分１１９、１２１、２１９、２２１、５１９、５２１、７１９、７２１の少なくとも２つの系列１１８、１２０、２１８、２２０、５１８、５２０、７１８、７２０を形成する。好ましくは、第１の実施形態に従って、平行線分１１９、２１９、５１９、７１９の第１の系列１１８、２１８、５１８、７１８は、平行線分１２１、２２１、５２１、７２１の第２の系列１２０、２２０、５２０、７２０と１０〜１７０度の角度で接し、それにより部品１１１、２１１、５１１、７１１は、視認面が平らであるときに、視認面が、角を形成する２つの斜面を有するという錯視をもたらす。一例として、図６、７、１２、および１６の目の錯視模様１１４、２１４、５１４、および７１４は、３０〜３５μｍ幅の非開口部によって隔てられた３５〜４５μｍの幅を有する開口部を含んでよい。
ゆえに、第２の実施形態に従って、図８、１３、および１５の目の錯視模様３１４、８１４、および１１１４は、曲線分３１９、３２１、８１９、８２１、１１１９の少なくとも１つの系列３１８、３２０、８１８、８２０、１１１８を形成し、それにより部品３１１、８１１、１１１１は、視認面が平らであるときに、視認面が半球形であるという錯視をもたらす。図８および１３に示す第２の実施形態の変形例に従って、曲線分３１９、８１９の第１の系列３１８、８１８は、曲線分３２１、８２１の第２の系列３２０、８２０と１０〜１７０度の角度で接し、それにより部品３１１、８１１は、視認面が平らであるときに、視認面が、溝を形成する２つの半球形面を含むという錯視をもたらす。一例として、図８、１３、および１５の目の錯視模様３１４、８１４、および１１１４は、３０〜３５μｍ幅の非開口部によって隔てられた３５〜４５μｍの幅を有する開口部を含んでよい。
ゆえに、第３の実施形態に従って、図９および１７の目の錯視模様４１４および６１４は、相互に対称的に配置された凹部４１９、６１９の少なくとも１つの系列４１８、６１８を形成する。好ましくは、第３の実施形態に従って、凹部の前記少なくとも１つの系列４１８、６１８は、部品４１１、６１１の表面に目の錯視模様がない部分４３２、６３２に隣接して形成されており、それにより部品４１１、６１１は、視認面が平らであるときに、視認面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらす。一例として、図９および１７の目の錯視模様は、前記模様４１４、６１９の表面の４０〜６０％を覆う凹部４１９、６１９を含んでよい。
図９および１７に示すように、凹部４１９、６１９は円形断面であり、互いに一定の間隔をおいている。当然ながら、凹部４１９、６１９の形状と配置は、本発明の範囲から逸脱することなく、所望の効果に応じて異なってよい。
第４の実施形態に従って、図１４および１９の目の錯視模様９１４および１０１４は、部品９１１、１０１１の外縁に配置され、したがって、平行線分９１９、９２１、９２３、１０１９、１０２１、１０２３、１０２５の少なくとも２つの系列９１８、９２０、９２２、１０１８、１０２０、１０２２、１０２４を形成し、第１の系列９１８、９２２、１０１８、１０２２の平行線分９１９、９２３、１０１９、１０２３が、第２の系列９２０、１０２０、１０２４の平行線分９２１、１０２１、１０２５に対して垂直であり、かつ９０度の角度で接しており、それにより部品９１１、１０１１は、視認面が平らであるときに、視認面が面取りされており、かつ部品９１１、１０１１の表面に目の錯視模様がない部分９３２、１０３２を取り囲んでいるという錯視をもたらす。一例として、図１４および１９の目の錯視模様９１４および１０１４は、３０〜３５μｍ幅の非開口部によって隔てられた３５〜４５μｍの幅を有する開口部を含んでよい。
部品９１１、１０１１の外側が、各角部で同様の、または同一の角度を有しているため、好ましくは、９０度の角度が選択される。つまり、視認面が面取りされていると錯視させるために、各角部の角度の関数として、角度は９０度より大きくても小さくてもよい。
図１０および１１に示す第５の実施形態に従って、目の錯視模様１２１４は、図１０でより明確に示されるように、相互に対称的に配置された凹部１２１９の少なくとも１つの系列１２１８を形成する。凹部の前記少なくとも１つの系列１２１８は、凹部を有していない部分１２１１の表面１２３２に隣接しており、それにより部品１２１１は、表面が平らであり、かつ部品１２１１がただ１つのシリコン系材料で構成されているときに、図１１に示すように、視認面が暗く、もう１つの明るい材料に隣接しているという錯視をもたらす。実際に、目の錯視模様１２１４が、表面１２３２とは異なり、反射を制限する光トラップのように作用することがわかる。一例として、図１７および１８の目の錯視模様１２１４は、５〜９μｍ幅の非開口部によって隔てられた２〜３μｍの幅を有する開口部を含んでよい。
第５の実施形態の変形例に従って、部品１２１１は、例えばクロム系の層などの反射層で被覆もし、目の錯視模様１２１４によって形成される暗い領域と模様のない表面１２３２とのコントラストをさらに改善する。
当然ながら、本発明は、図示した実施例に限定されるものではなく、多様な変形や変更が可能であることは当業者には明らかであろう。具体的には、目の錯視模様１４、１１４、２１４、３１４、４１４、５１４、６１４、７１４、８１４、９１４、１０１４、１１１４は上述したものに限定されない。したがって、本発明の範囲から逸脱することなく、他の実施形態が可能である。
したがって、図１８に示す第３の実施形態の特定の変形例では、目の錯視模様６１４’は、相互に対称的に配置された、凹部６１９’の少なくとも１つの系列６１８’を形成する。図１８に示すように、凹部の前記少なくとも１つの系列６１８’は、部品６１１’の表面に目の錯視模様がない部分６３２’に隣接して形成されており、それにより前記部品は、視認面が平らであるときに、視認面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらす。
凹部６１９’は、四角錐台の体積を有し、互いに一定の間隔をおいている。この特定の代替案は、（１００）配向単結晶シリコン層１を用いて得る。さらにステップｂ）では、水酸化カリウム（ＫＯＨ）ウェットエッチングを用いて、側面が、図１〜３に示すような垂直ではなく斜めになっているエッチングを形成する。実際、円盤状の開口部を持つエッチングマスクを用いても、ウェットエッチングは、（１００）配向単結晶シリコン層１の結晶学的構造の単位格子に従い、四角錐のエッチングをもたらす。
さらに、図１８に示すように、基板１０はシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）タイプであるため、同じく単結晶シリコン製の層２も、例えばウェットエッチングまたはドライエッチングによってエッチングし、部品６１１’を取り付けるためのいくつかの足部６０９’を得る。
最後に、上述した５つの実施形態は、互いに組み合わせることができる。すなわち同じ部品上にさまざまな模様を表すことができる。
１ シリコン系の層
２ 支持層
３ 上面
４ 開口部
５ 非貫通凹部
６ 貫通穴
７ 本体
８ 開口部
９ 固定手段
１０ 基板
１１ 部品
１１’ 部品
１４ 目の錯視模様
１４’ 目の錯視模様
１１１ 部品
１１４ 目の錯視模様
１１８ 第１の系列
１１９ 平行線分
１２０ 第２の系列
１２１ 平行線分
２１１ 部品
２１４ 目の錯視模様
２１８ 第１の系列
２１９ 平行線分
２２０ 第２の系列
２２１ 平行線分
３１１ 部品
３１４ 目の錯視模様
３１８ 第１の系列
３１９ 曲線分
３２０ 第２の系列
３２１ 曲線分
４１１ 部品
４１４ 目の錯視模様
４１８ 系列
４１９ 凹部
４３２ 目の錯視模様がない部分
５１１ 部品
５１４ 目の錯視模様
５１８ 第１の系列
５１９ 平行線分
５２０ 第２の系列
５２１ 平行線分
６０９’ 固定手段
６１１ 部品
６１１’ 部品
６１４ 目の錯視模様
６１４’ 目の錯視模様
６１８ 系列
６１８’ 系列
６１９ 凹部
６１９’ 凹部
６３２ 目の錯視模様がない部分
６３２’ 目の錯視模様がない部分
７１１ 部品
７１４ 目の錯視模様
７１８ 第１の系列
７１９ 平行線分
７２０ 第２の系列
７２１ 平行線分
８１１ 部品
８１４ 目の錯視模様
８１８ 第１の系列
８１９ 曲線分
８２０ 第２の系列
８２１ 曲線分
９１１ 部品
９１４ 目の錯視模様
９１８ 第１の系列
９１９ 平行線分
９２０ 第２の系列
９２１ 平行線分
９２２ 第１の系列
９２３ 平行線分
９３２ 目の錯視模様がない部分
１０１１ 部品
１０１４ 目の錯視模様
１０１８ 第１の系列
１０１９ 平行線分
１０２０ 第２の系列
１０２１ 平行線分
１０２２ 第１の系列
１０２３ 平行線分
１０２４ 第２の系列
１０２５ 平行線分
１０３２ 目の錯視模様がない部分
１１１１ 部品
１１１４ 目の錯視模様
１１１８ 系列
１１１９ 曲線分
Ｍ マスク

Claims (14)

  1. 少なくとも１つの目の錯視模様（１４、１１４、２１４、３１４、４１４、５１４、６１４、６１４’、７１４、８１４、９１４、１０１４、１１１４、１２１４）を有する少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）の製造方法であって、
    ａ）シリコン系の層（１）を含む基板（１０）を形成するステップと；
    ｂ）シリコン系の層（１）の厚みを貫通して少なくとも１つの穴（６）をエッチングし、前記シリコン系の層（１）の厚みに前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）の輪郭と非貫通凹部（５）とを形成し、表面を平らでないように見せる前記少なくとも１つの目の錯視模様（１４、１１４、２１４、３１４、４１４、５１４、６１４、６１４’、７１４、８１４、９１４、１０１４、１１１４、１２１４）を含む前記平らな表面を有する前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）を形成するステップと；
    ｃ）それにより形成された前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）を前記基板（１０）から外すステップと
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 前記非貫通凹部（５）は平行線分の少なくとも２つの系列を形成し、平行線分（１１９、２１９、５１９、７１９）の第１の系列（１１８、２１８、５１８、７１８）が、平行線分（１２１、２２１、５２１、７２１）の第２の系列（１２０、２２０、５２０、７２０）と１０〜１７０度の角度で接し、それにより前記少なくとも１つのシリコン系部品は、前記平らな表面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらすことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  3. 前記非貫通凹部（５）は曲線分（３１９、３２１、８１９、８２１、１１１９）の少なくとも１つの系列（３１８、３２０、８１８、８２０、１１１８）を形成し、それにより前記少なくとも１つのシリコン系部品は、前記平らな表面が半球形であるという錯視をもたらすことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  4. 前記非貫通凹部（５）は、相互に対称的に配置された凹部（４１９、６１９）の少なくとも１つの系列（４１８、６１８）を形成し、凹部の前記少なくとも１つの系列は、前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）の前記平らな表面に凹部がない部分（４３２、６３２）に隣接して形成されており、それにより前記少なくとも１つのシリコン系部品は、前記平らな表面が、角を形成する２つの斜面を含むという錯視をもたらすことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  5. 前記非貫通凹部（５）は、前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）の外縁に配置され、平行線分の少なくとも２つの系列を形成し、前記第１の系列（９１８、９２２、１０１８、１０２２）の平行線分（９１９、９２３、１０１９、１０２３）が、前記第２の系列（９２０、１０２０、１０２４）の平行線分（９２１、１０２１、１０２５）に対して垂直であり、かつ角度を成して接し、それにより前記少なくとも１つのシリコン系部品が、前記平らな表面が面取りされているという錯視をもたらすことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  6. 前記非貫通凹部（５）は、相互に対称的に配置された凹部（１２１９）の少なくとも１つの系列（１２１８）を形成し、凹部の前記少なくとも１つの系列は、凹部を有していない少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）の表面（１２３２）に隣接しており、それにより前記少なくとも１つのシリコン系部品は、前記平らな表面が、２つの異なる材料を用いて、浮き上がったように形成されているという錯視をもたらすことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  7. 前記非貫通凹部（５）の深さは、２〜１００μｍであることを特徴とする、請求項１〜６のうちいずれか一項に記載の方法。
  8. ステップｂ）とステップｃ）の間に、
    ｄ）前記基板の残りの厚みに少なくとも１つの貫通穴を形成し、固定手段（９、６０９’）を有する前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）を形成するステップ
    をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜７のうちいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記シリコン系の層（１）は５０〜５００μｍの厚さを有することを特徴とする、請求項１〜８のうちいずれか一項に記載の方法。
  10. ステップｂ）は、
    ｅ）開口部（４、８）を有するマスク（Ｍ）をシリコン系の層（１）上に形成する段階であって、前記少なくとも１つの貫通穴（６）を形成するのに用いられる開口部（８）が、非貫通凹部（５）を形成するのに用いられる開口部（４）より大きい段階と；
    ｆ）異方性エッチングによって、マスク（Ｍ）にある開口部（４、８）を通してシリコン系の層をエッチングする段階と；
    ｇ）マスク（Ｍ）を除去する段階と
    を含むことを特徴とする、請求項１〜９のうちいずれか一項に記載の方法。
  11. ステップｂ）は、
    ｈ）前記少なくとも１つの貫通穴および非貫通凹部の形をした開口部を有する第１のマスクを形成する段階と；
    ｉ）前記少なくとも１つの貫通穴のみの形をした少なくとも１つの開口部を有する第２のマスクを前記第１のマスク上に形成する段階と；
    ｊ）第１の異方性エッチングによって、前記第２のマスクにある前記少なくとも１つの開口部を通して、シリコン系の層を部分的にエッチングする段階と；
    ｋ）前記第２のマスクを除去する段階と；
    ｌ）第２の異方性エッチングによって、前記第１のマスクにある前記開口部を通してシリコン系の層をエッチングすることで、前記少なくとも１つの貫通穴と非貫通凹部とを得る段階と；
    ｍ）前記第１のマスクを除去する段階と
    を含むことを特徴とする、請求項１〜９のうちいずれか一項に記載の方法。
  12. 前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）は、単結晶シリコン、ドープした単結晶シリコン、非晶質シリコン、多孔質シリコン、多結晶シリコン、窒化ケイ素、炭化ケイ素、石英、または酸化ケイ素を含むことを特徴とする、請求項１〜１１のうちいずれか一項に記載の方法。
  13. いくつかのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）を同じシリコン系の層（１）に形成することを特徴とする、請求項１〜１２のうちいずれか一項に記載の方法。
  14. 前記少なくとも１つのシリコン系部品（１１、１１１、２１１、３１１、４１１、５１１、６１１、６１１’、７１１、８１１、９１１、１０１１、１１１１、１２１１）は、ダイヤル、開口部装飾、フランジ、ベゼル、プッシュピース、クラウン、ケース裏蓋、針、ブレスレットもしくはストラップ、リンク、クラスプ、装飾、回転錘、またはアップリケの全部または一部を形成することを特徴とする、請求項１〜１３のうちいずれか一項に記載の方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3495894B1 (fr) * 2017-12-05 2023-01-04 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger
JP6987994B2 (ja) * 2017-12-20 2022-01-05 ウーテーアー・エス・アー・マニファクチュール・オロロジェール・スイス 少なくとも１つの３次元エレメントを含むダイヤルを製造するためのプロセス
FR3126061A1 (fr) * 2021-08-04 2023-02-10 Silmach Procédé d’assemblage d’une pièce en silicium sur un support

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5819486A (ja) * 1981-07-24 1983-02-04 Citizen Watch Co Ltd 時計用指針の製造方法
JPH02250984A (ja) * 1988-12-08 1990-10-08 Seiko Instr Inc 時計用針の製造方法
JPH04318491A (ja) * 1991-04-17 1992-11-10 Seiko Epson Corp 時計用外装部品
JPH08302481A (ja) * 1994-10-25 1996-11-19 Lg Ind Syst Co Ltd 着色及び立体表面を有するステンレス鋼板及びその製造方法
JP2002192900A (ja) * 2000-10-18 2002-07-10 Seiko Epson Corp 装飾板、および、その製造方法、ならびに、この装飾板を利用する装飾品および時計
JP2009508084A (ja) * 2005-05-12 2009-02-26 イーティーエー エスエー マニュファクチュア ホルロゲア スイス アナログ表示装置
US8314989B1 (en) * 2006-12-29 2012-11-20 Lightsmyth Technologies Inc. Decorative, ornamental, or jewelry articles having arrays of diffraction gratings

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2875543A (en) * 1957-09-04 1959-03-03 L E Carpenter & Company Inc Surface ornamentation of flexible sheet materials and method of making tools for producing such ornamentation
US4725511A (en) * 1983-08-16 1988-02-16 Reber William L High technology decorative materials for watchfaces and fabrication of same
CH695798A5 (fr) * 2002-08-23 2006-08-31 Franck Muller Watchland Sa Dispositif d'affichage analogique pour pièce d'horlogerie.
TWI234819B (en) * 2003-05-06 2005-06-21 Walsin Lihwa Corp Selective etch method for side wall protection and structure formed using the method
EP1760118A3 (en) * 2005-08-31 2008-07-09 JDS Uniphase Corporation Alignable diffractive pigment flakes and method for their alignment
JP5100146B2 (ja) * 2006-02-28 2012-12-19 キヤノン株式会社 光学素子及び光学素子の製造方法
EP2182096A1 (fr) * 2008-10-28 2010-05-05 Nivarox-FAR S.A. Procédé LIGA hétérogène
CH707797A1 (fr) * 2013-03-28 2014-09-30 Silicior Sa Procédé de fabrication d'une pièce micro-mécanique essentiellement plane, et pièce micro-mécanique comportant au moins une portion formée d'oxyde de silicium.

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5819486A (ja) * 1981-07-24 1983-02-04 Citizen Watch Co Ltd 時計用指針の製造方法
JPH02250984A (ja) * 1988-12-08 1990-10-08 Seiko Instr Inc 時計用針の製造方法
JPH04318491A (ja) * 1991-04-17 1992-11-10 Seiko Epson Corp 時計用外装部品
JPH08302481A (ja) * 1994-10-25 1996-11-19 Lg Ind Syst Co Ltd 着色及び立体表面を有するステンレス鋼板及びその製造方法
JP2002192900A (ja) * 2000-10-18 2002-07-10 Seiko Epson Corp 装飾板、および、その製造方法、ならびに、この装飾板を利用する装飾品および時計
JP2009508084A (ja) * 2005-05-12 2009-02-26 イーティーエー エスエー マニュファクチュア ホルロゲア スイス アナログ表示装置
US8314989B1 (en) * 2006-12-29 2012-11-20 Lightsmyth Technologies Inc. Decorative, ornamental, or jewelry articles having arrays of diffraction gratings

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