JP2017083605A - Transfer foil, forgery prevention medium and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer foil capable of obtaining a forgery prevention effect and high design property with less number of processes and higher alignment accuracy, so as to be used in a forgery prevention medium having an overt function and a covert function, and also to provide a forgery prevention medium and a manufacturing method thereof.SOLUTION: A transfer foil includes, on a substrate, a retardation layer arranged at least in two or more orientations, an OVD function layer, and an adhesive layer sequentially laminated. The retardation layer has a first position alignment mark. The OVD function layer has a second position alignment mark at a location overlapping the first position alignment mark.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、偽造防止効果及び優れた意匠性が得られる転写箔、偽造防止媒体およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a transfer foil, an anti-counterfeit medium, and a method for producing the same, which can provide an anti-counterfeit effect and excellent design properties.

従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定(いわゆるオバート機能)または検証器を用いた判定(いわゆるコバート機能)により真贋判定を行っている。   Conventionally, securities such as banknotes, gift certificates, passports, and authentication media have been pasted with a medium that is difficult to forge as a countermeasure against forgery. In this case, the authenticity determination is performed by visual determination (so-called overt function) or determination using a verifier (so-called covert function).

オバート機能を持つOVDによる任意の画像を形成した偽造防止媒体は、目視で認識が行えるため、偽造されやすい。そこで、近年、目視では確認出来ず、フィルターを翳すことによって潜像が現れ、真贋判定が行える高分子液晶材料を用いた偽造防止技術を組み合わせた偽造防止媒体が提案されている。(特許文献1)   An anti-counterfeit medium on which an arbitrary image by OVD having an overt function is formed is easily forged because it can be visually recognized. Therefore, in recent years, there has been proposed an anti-counterfeit medium that combines anti-counterfeiting technology using a polymer liquid crystal material that cannot be visually confirmed but appears as a latent image when the filter is turned and can determine the authenticity. (Patent Document 1)

ところで、このような偽造防止媒体は、例えば粘着ラベル又は転写箔の形態で利用される。
これらの媒体は、転写箔の形態で利用した場合には、粘着ラベルの形態で利用した場合と比較してより薄くすることができる。偽造防止媒体を薄くすると、物品に貼り付けられた媒体を剥離する際に、その破壊を容易に生じさせることができる。即ち、偽造防止媒体の再使用を不可能とすることができるので、より有効である。従って、上記媒体は、特に偽造防止の目的で利用する場合は、転写箔の形態とすることが多い。
By the way, such an anti-counterfeit medium is used, for example, in the form of an adhesive label or a transfer foil.
These media can be made thinner when used in the form of a transfer foil than when used in the form of an adhesive label. If the anti-counterfeit medium is thinned, the medium attached to the article can be easily broken when it is peeled off. That is, the reuse of the forgery prevention medium can be made impossible, which is more effective. Therefore, the above-mentioned medium is often in the form of a transfer foil particularly when used for the purpose of preventing forgery.

転写箔は、ストライプ状に転写するか、スポットで転写するのが一般的である。スポットで転写し、さらに、オバート機能とコバート機能を組み合わせた偽造防止媒体の場合、オバート画像とコバート画像が両方とも固定柄であると、連続柄よりも偽造防止効果及び意匠性が高い。
しかしながら、オバート画像とコバート画像を位置合わせするためには、予め印刷等で位置合わせマークを形成し、それを用いてオバート画像とコバート画像の位置合わせを行なう必要がある。ただし、位置合わせマークを印刷等で形成した場合、その工程の分だけ工程数が増加する。また、従来の位置合わせマークでは位置合わせの精度が充分でない場合があった。
The transfer foil is generally transferred in stripes or transferred with spots. In the case of an anti-counterfeit medium that is transferred by a spot and further combines an overt function and a covert function, if both the overt image and the covert image are fixed patterns, the anti-counterfeit effect and the design are higher than the continuous pattern.
However, in order to align the overt image and the covert image, it is necessary to form an alignment mark in advance by printing or the like, and use it to align the overt image and the covert image. However, when the alignment mark is formed by printing or the like, the number of processes increases by the number of processes. In addition, the conventional alignment mark may not have sufficient alignment accuracy.

特許第4054071号Patent No. 4054071

以上の問題を鑑み、本発明の目的は、少ない工程数かつ高い位置合わせ精度で偽造防止効果及び高い意匠性が得られる転写箔、偽造防止媒体およびその製造方法を提供することである。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a transfer foil, an anti-counterfeit medium, and a method for manufacturing the same, which can obtain an anti-counterfeit effect and high designability with a small number of steps and high alignment accuracy.

本発明の第一の側面によると、基材上に、少なくとも2軸以上に配置された位相差層とOVD機能層と接着剤層とを順次積層した転写箔であって、位相差層には第一位置合わせマークが設けられており、OVD機能層には前記第一位置合わせマークに重なる位置に第二位置合わせマークが設けられていることを特徴とする転写箔を提供する。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a transfer foil in which a retardation layer, an OVD functional layer, and an adhesive layer, which are arranged on at least two axes or more, are sequentially laminated on a base material. A transfer foil is provided, wherein a first alignment mark is provided, and a second alignment mark is provided in a position overlapping the first alignment mark in the OVD functional layer.

本発明の第二の側面によると、前記第二位置合わせマークが、空間周波数が2000本/mmから4000本/mmで、アスペクト比が0.5から2の回折格子から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔を提供する。   According to a second aspect of the present invention, the second alignment mark is composed of a diffraction grating having a spatial frequency of 2000 lines / mm to 4000 lines / mm and an aspect ratio of 0.5 to 2. A transfer foil according to claim 1 is provided.

本発明の第三の側面によると、前記第二位置合わせマークが、空間周波数が2500本/mmから3500本/mmで、アスペクト比が0.5から2の回折格子から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔を提供する。   According to a third aspect of the present invention, the second alignment mark is composed of a diffraction grating having a spatial frequency of 2500 lines / mm to 3500 lines / mm and an aspect ratio of 0.5 to 2. A transfer foil according to claim 1 is provided.

本発明の第四の側面によると、請求項1から3のいずれか1項に記載の転写箔の製造方法であって、前記第一位置合わせマークと前記第二位置合わせマークの位置ずれを、偏光子を介して検出することを特徴とする転写箔の製造方法を提供する。   According to the fourth aspect of the present invention, in the transfer foil manufacturing method according to any one of claims 1 to 3, the positional deviation between the first alignment mark and the second alignment mark, Provided is a method for producing a transfer foil, wherein the detection is performed through a polarizer.

本発明の第五の側面によると、請求項1から3のいずれか1項に記載の転写箔を用いたことを特徴とする偽造防止媒体を提供する。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an anti-counterfeit medium characterized by using the transfer foil according to any one of claims 1 to 3.

本発明の転写箔によれば、位相差層に設けた第一位置合わせマークとOVD機能層に設けた第二位置合わせマークとを重ね合わせた際に、偏光子を介してその位置ずれをセンサーで読み取り、フィードバック制御して位置合わせを行うことが可能になるので、高い位置精度で所望の転写箔が得られる。また、位置合わせマークの形成を、位相差層およびOVD機能層の形成工程と同時に行えるため、工程数を少なくできる。   According to the transfer foil of the present invention, when the first alignment mark provided on the retardation layer and the second alignment mark provided on the OVD functional layer are overlapped, the positional deviation is detected via the polarizer. Therefore, it is possible to perform positioning by performing reading and feedback control, and thus a desired transfer foil can be obtained with high positional accuracy. In addition, since the alignment mark can be formed simultaneously with the steps of forming the retardation layer and the OVD functional layer, the number of steps can be reduced.

本発明による転写箔の実施形態の一例を示す概念断面図。The conceptual sectional view showing an example of the embodiment of the transfer foil by the present invention. (a)本発明の実施形態の一例において、位相差層のパターンを示す概念図。(b)本発明の実施形態の一例において、OVD機能層のパターンを示す概念図。(A) The conceptual diagram which shows the pattern of a phase difference layer in an example of embodiment of this invention. (B) The conceptual diagram which shows the pattern of an OVD functional layer in an example of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の一例において、位相差層とOVD機能層のパターンが重なった画像の一部を示す概念図。The conceptual diagram which shows a part of image with which the pattern of the phase difference layer and the OVD functional layer overlapped in an example of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the 1st alignment mark and the 2nd alignment mark are accumulated and observed from the base material side in an example of embodiment of this invention. 図4の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the mode that the alignment mark overlaps in the example of FIG. 4 is observed through a polarizer. 本発明の実施形態の他の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the 1st alignment mark and the 2nd alignment mark are accumulated and observed from the base-material side in another example of embodiment of this invention. 図6の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the mode that the alignment mark overlaps in the example of FIG. 6 is observed through a polarizer. 本発明の実施形態の他の一例において、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークを重ねて基材側から観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the 1st alignment mark and the 2nd alignment mark are accumulated and observed from the base-material side in another example of embodiment of this invention. 図8の例において位置合わせマークが重なる様子を、偏光子を介して観察した場合を示す概念図。The conceptual diagram which shows the case where the mode that the alignment mark overlaps in the example of FIG. 8 is observed through a polarizer.

以下、本発明に係る転写箔および偽造防止媒体とその製造方法についての実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a transfer foil and an anti-counterfeit medium according to the present invention and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited only to these embodiment.

図1は、本発明における転写箔の実施形態の一例を示す概念断面図である。転写箔10は、基材11上に位相差層12及びOVD機能層13及び接着剤層14を順次積層した構成となっている。   FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an embodiment of a transfer foil in the present invention. The transfer foil 10 has a configuration in which a retardation layer 12, an OVD functional layer 13, and an adhesive layer 14 are sequentially laminated on a base material 11.

図2は、位置合わせマークを含む位相差層12とOVD機能層13を示している。図2(a)はパターン配置された位相差子15、位相差子16を含む位相差層12を示す。この位相差層12には、第一位置合わせマーク17を有している。位相差層12は、この層を通過する光が空気中を通過する光と比べて所定の位相差を生じる層であり、位相差子15と位相差子16はともに透明であるが、互いに異なる位相差を生じるようにすることができる。そしてこれを利用して、例えば光軸を0°と45°にすることができる。
図2(b)は図1のOVD機能層13を示す平面図であり、パターン配置されたOVD18及び第二位置合わせマーク19を含んでいる。OVDパターン18は例えば回折格子構造とすることができ、第二位置合わせマーク19は可視光波長以下のピッチで複数の溝を設けることにより、偏光特性を有するものにできる。
そして図2(a)と図2(b)は、位相差層のパターンとOVD機能層のパターン、第一位置合わせマークと第二位置合わせマークがそれぞれ同じ位置に重ね合わさるように設けられている様子を示している。
FIG. 2 shows the retardation layer 12 and the OVD functional layer 13 including alignment marks. FIG. 2A shows the phase difference layer 12 including the phase difference element 15 and the phase difference element 16 arranged in a pattern. The retardation layer 12 has a first alignment mark 17. The phase difference layer 12 is a layer in which light passing through this layer generates a predetermined phase difference compared to light passing through the air. Both the phase difference 15 and the phase difference 16 are transparent, but are different from each other. A phase difference can be generated. Using this, for example, the optical axis can be set to 0 ° and 45 °.
FIG. 2B is a plan view showing the OVD functional layer 13 of FIG. 1, and includes an OVD 18 and a second alignment mark 19 arranged in a pattern. The OVD pattern 18 can have a diffraction grating structure, for example, and the second alignment mark 19 can have a polarization characteristic by providing a plurality of grooves with a pitch equal to or smaller than the visible light wavelength.
2A and 2B are provided so that the phase difference layer pattern, the OVD functional layer pattern, the first alignment mark, and the second alignment mark overlap each other at the same position. It shows a state.

図3は図2に示す転写箔のスポット転写を行なったあとの偽造防止媒体の観察イメージを示す。図中で丸に杉の木形状のパターンはOVD18であり、星柄のパターンは位相差子16であり、その背景は位相差子15である。観察は目視で、転写後に位相差子側から観察する。
図3(a)は位相差子15、16とOVD18が合わさったときのイメージ図である。
図3(b)は目視で偽造防止媒体を観察したときのイメージ図であり、位相差子15、16は目視では観察できないため、OVD18のみが観察されている。
図3(c)は偏光子(図示せず)を翳して観察したときのイメージ図であり、位相差子16のパターンが偏光子を通すことにより、可視化されている。
さらに図3(d)は偏光子を回転させたときに観察されるイメージ図であり、位相差子16で形成された絵柄が偏光効果によりネガポジ反転している。さらに転写箔10の製造時に位相差子層12のパターンとOVD機能層13のパターンの位置合わせを行なっているため、図3(b)のように目視では観察されなかったツリーの上の星が、偏光子を翳すことによって観察することが出来るようになった。
FIG. 3 shows an observation image of the anti-counterfeit medium after spot transfer of the transfer foil shown in FIG. In the figure, the cedar tree-shaped pattern in a circle is OVD 18, the star pattern is the phase retarder 16, and the background is the phase retarder 15. Observation is made visually, and observed from the phase retarder side after transfer.
FIG. 3A is an image diagram when the phase retarders 15 and 16 and the OVD 18 are combined.
FIG. 3B is an image when the anti-counterfeit medium is visually observed. Since the phase retarders 15 and 16 cannot be visually observed, only the OVD 18 is observed.
FIG. 3 (c) is an image view when observing with a polarizer (not shown). The pattern of the phase retarder 16 is visualized by passing through the polarizer.
Further, FIG. 3D is an image diagram observed when the polarizer is rotated, and the pattern formed by the phase retarder 16 is negative-positive inverted due to the polarization effect. Further, since the phase difference layer 12 pattern and the OVD functional layer 13 pattern are aligned when the transfer foil 10 is manufactured, stars on the tree that are not visually observed as shown in FIG. It became possible to observe by twisting the polarizer.

図4、図6、図8は位相差層12とOVD機能層13の重ね合わせにおける第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19の重ね合わせの様子の一例を示しており、各図の(a)は位置が一致していた場合、(b)は印刷の流れ方向に位置ずれした場合、(c)は転写箔の幅方向に位置ずれしていた場合、(d)は流れ方向及び幅方向ともに位置ずれしていた場合のイメージ図を示している。
図4、図6、図8のそれぞれの位置ずれに対して、偏光子20を介して検出を行った場合に観察される画像を図5、図7、図9に示してある。例として第二位置合わせマーク19のパターンの位置を変えた場合を例示したが、これに限るものではなく、例えば第一位置合わせマーク17のパターンを変えても、第一及び第二位置合わせマークの両方を変えても良い。
4, 6, and 8 show an example of how the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 are overlapped when the retardation layer 12 and the OVD functional layer 13 are overlapped. (A) is the same position, (b) is displaced in the flow direction of printing, (c) is displaced in the width direction of the transfer foil, (d) is the flow direction and The image figure at the time of position shift in the width direction is shown.
FIGS. 5, 7, and 9 show images observed when detection is performed via the polarizer 20 with respect to the respective positional shifts of FIGS. 4, 6, and 8. As an example, the case where the position of the pattern of the second alignment mark 19 is changed is illustrated. However, the present invention is not limited to this. For example, even if the pattern of the first alignment mark 17 is changed, the first and second alignment marks 19 Both may be changed.

次に、転写箔10を構成する各層の材料等について説明する。
(基材)
基材11としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いる事ができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、1軸延伸フィルム及び2軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。
Next, the material of each layer constituting the transfer foil 10 will be described.
(Base material)
As the base material 11, an unstretched film produced by extrusion or casting, a stretched film produced by stretching, or the like can be used. The stretched film includes a uniaxially stretched film and a biaxially stretched film depending on how to stretch, and both can be used.

これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリオレフィン(PO)、エチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム等があげられる。   These unstretched films and stretched film materials include cellophane, polycarbonate (PC), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyolefin (PO), ethylene vinyl alcohol (EVOH), polyvinyl alcohol (PVA), polychlorinated. Examples thereof include vinyl, polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), nylon, acrylic resin, and triacetyl cellulose (TAC) film.

(位相差層)
本発明の転写箔に含まれる位相差層12には、複屈折性を持つ材料を使用することができる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なることで、そのため物質中を光が通過するときにその速度が異なってくる。そのため、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じる。このような材料には、たとえば液晶材料を用いることができる。
(Retardation layer)
A material having birefringence can be used for the retardation layer 12 included in the transfer foil of the present invention. Birefringence means that the refractive index of a substance varies depending on the direction of the optical axis, and therefore the speed of light varies when passing through the substance. Therefore, a phase difference is generated in the light after passing through the substance by the difference in the passing speed. As such a material, for example, a liquid crystal material can be used.

また、位相差層12は、2軸以上に配置されている。位相差層の光軸を2軸以上に配置する方法としては、配向膜を多軸方向に配向処理をし、その上に液晶を塗布することで多軸に配向された液晶を得ることができる。液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えばラビング配向法もしくは光配向法を用いることができる。位相差値は液晶の複屈折率と膜厚で決定することができる。   Moreover, the phase difference layer 12 is arrange | positioned at two or more axes. As a method of arranging the optical axis of the retardation layer in two or more axes, the alignment film is subjected to an alignment treatment in a multiaxial direction, and a liquid crystal is applied thereon, whereby a multiaxially aligned liquid crystal can be obtained. . For the alignment treatment of the alignment film for aligning the liquid crystal material, for example, a rubbing alignment method or a photo alignment method can be used. The retardation value can be determined by the birefringence and film thickness of the liquid crystal.

光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法で、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等があげられる。   The photo-alignment method is a method in which the alignment film is irradiated with anisotropic light such as polarized light or non-polarized light from an oblique direction to induce rearrangement of molecules in the alignment film or anisotropic chemical reaction. In this method, anisotropy is imparted to the alignment film, whereby the liquid crystal molecules are aligned. Examples of the photo-alignment mechanism include photo-anisotropy of azobenzene derivatives, photo-dimerization and crosslinking of derivatives such as cinnamic acid ester, coumarin, chalcone and benzophenone, and photolysis of polyimide and the like.

具体的には、適当な波長帯域の偏光光もしくは斜めからの非偏光光によりパターン露光することにより行われる。例えば、2軸方向に配向させる場合は、フォトマスクで配向方向を変えたい部分をカバーしてパターン露光し、さらにフォトマスクでカバーされていた未露光部を処理するため方向を変えて露光すれば良い。または、一度全面をパターン露光した後に、部分的にフォトマスクでカバーして方向を変えて再度露光しても良い。   Specifically, pattern exposure is performed with polarized light in an appropriate wavelength band or non-polarized light from an oblique direction. For example, when aligning in the biaxial direction, pattern exposure is performed by covering the portion whose orientation direction is to be changed with a photomask, and further, the direction is changed to expose unexposed portions covered with the photomask. good. Alternatively, after the entire surface is once exposed to pattern, it may be partially covered with a photomask and changed in direction to be exposed again.

ラビング配向法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作成した配向膜を布で擦る方法で、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、PVA等が用いられる。   The rubbing alignment method is a method of rubbing an alignment film created by applying a polymer solution on a substrate with a cloth. The property of the alignment film surface changes in the rubbing direction and liquid crystal molecules are aligned in this direction. It is a thing. For the alignment film, polyimide, PVA, or the like is used.

光軸を2軸方向に配向させる場合には、配向方向を変えたい部分をマスクでカバーして布で擦った後にマスクを除去し、今度は先ほどラビングした部分をマスクでカバーし、再び方向を変えて布で擦った後、マスクを除去する。または、全面を布で擦った後に、部分的にマスクでカバーし、方向変えて布で擦った後、マスクを除去しても良い。   When aligning the optical axis in the biaxial direction, cover the part whose orientation direction is to be changed with a mask, rub it with a cloth, remove the mask, then cover the rubbed part with the mask and turn the direction again. After changing and rubbing with a cloth, the mask is removed. Alternatively, the entire surface may be rubbed with a cloth, partially covered with a mask, the direction may be changed, and the mask may be removed after being rubbed with a cloth.

これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、またはマイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いることができる。   As a method for forming these alignment films, a known method such as a gravure coating method or a micro gravure coating method can be used.

配向処理された配向膜上に液晶材料を設けることで位相差層を得ることが出来る。そのような液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、EB若しくはUVで硬化させる高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これらの液晶は、塗布後、相転移を起こすNI点より少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。   A retardation layer can be obtained by providing a liquid crystal material on the alignment film subjected to the alignment treatment. Such liquid crystal materials include photocurable liquid crystal monomers with acrylates at both ends of the mesogenic group, polymer liquid crystals cured with EB or UV, polymer liquid crystals with mesogenic groups in the polymer main chain, molecular main chain itself A liquid crystalline polymer in which the is aligned can be used. The orientation of these liquid crystals can be promoted by heat treatment at a temperature slightly below the NI point at which phase transition occurs after coating.

(位相差値)
位相差値としては、例えば、検証器(図示せず)に偏光子を用い、転写箔には反射層を組み込んだ場合、位相差値は1/4λであるとよく、さらに、被転写媒体に透明基材を使用し、被転写媒体の裏面に偏光子を配置し、検証器に偏光子を用いた場合には、1/2λが効果的である。
また、例えば被転写媒体の裏面に円偏光子を配置し、検証器に円偏光子を用いた場合には、1/8λが効果的であるが、いずれの場合においても、1/4λ、1/2λ、1/8λのどの位相差値にしてもよい。
(Phase difference value)
As the phase difference value, for example, when a polarizer is used for a verifier (not shown) and a reflection layer is incorporated in the transfer foil, the phase difference value may be 1 / 4λ. When a transparent substrate is used, a polarizer is disposed on the back surface of the transfer medium, and a polarizer is used for the verifier, 1 / 2λ is effective.
For example, when a circular polarizer is disposed on the back surface of the transfer medium and a circular polarizer is used as a verifier, 1 / 8λ is effective. In either case, 1 / 4λ, 1 Any phase difference value of / 2λ and 1 / 8λ may be used.

(OVD機能層)
図1に示すように、OVD機能層13は、OVD形成層13aにエンボス13bを施し、OVD18を形成することにより設けられる。OVD(Optical Variable Device)とは、光の干渉を利用した画像表示体であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体であって、目視により真偽判定が可能な媒体である。
特にホログラムや回折格子などのような構造を持つOVDとしては、光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や、体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。
(OVD functional layer)
As shown in FIG. 1, the OVD functional layer 13 is provided by embossing 13 b on the OVD forming layer 13 a to form an OVD 18. OVD (Optical Variable Device) is an image display that uses light interference, and is a display that produces a color shift that changes in color depending on the representation of the stereoscopic image and the viewing angle. Medium.
Particularly, the OVD having a structure such as a hologram or a diffraction grating includes a relief type that records light interference fringes on a plane as a fine uneven pattern, and a volume type that records interference fringes in a volume direction.

また、本発明におけるOVD機能層13とは手法が異なるが、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層した多層膜など、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる材料もその例である。これらのOVDは、立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与え、また高度な製造技術を要することから、偽造防止の有効な手段と言える。   In addition, although the method is different from the OVD functional layer 13 in the present invention, a material that causes a color change (color shift) depending on the viewing angle, such as a multilayer film in which thin films of ceramics or metal materials having different optical characteristics are laminated, is also an example. is there. These OVDs can be said to be effective means for preventing counterfeiting because they give a unique impression such as stereoscopic images and color shifts and require advanced manufacturing techniques.

レリーフ型ホログラム又はレリーフ型回折格子の製造方法としては、それぞれホログラム又は回折格子を成す微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のプレス版を用いて量産を行うことができる。即ち、プレス版でOVD形成層13aを加熱・加圧して微細な凹凸パターンを複製できる。   As a method for producing a relief type hologram or a relief type diffraction grating, mass production can be carried out using a relief type press plate comprising a fine concavo-convex pattern forming a hologram or a diffraction grating, respectively. That is, a fine uneven pattern can be duplicated by heating and pressing the OVD forming layer 13a with a press plate.

OVD形成層13aの材料としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外のものであっても、前記凹凸パターンを形成可能な材料であれば適宜使用してよい。さらに、OVDの効果を損なわない程度にフィラー等の添加を行い、さらなる転写性向上を行っても良い。
このOVD形成層13aに関しては、公知の印刷方法にてパターンで設けられる。
As a material for the OVD forming layer 13a, for example, a thermoplastic resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, a cellulose resin, or a vinyl resin, an acrylic polyol having a reactive hydroxyl group, a polyester polyol, or the like with a polyisocyanate as a crosslinking agent. Addition and cross-linked urethane resins, thermosetting resins such as melamine resins, epoxy resins, and phenol resins can be used alone or in combination. Moreover, even if it is a thing other than the above, as long as it can form the said uneven | corrugated pattern, you may use it suitably. Further, a filler or the like may be added to such an extent that the OVD effect is not impaired, thereby further improving transferability.
The OVD forming layer 13a is provided in a pattern by a known printing method.

OVD形成層13aをエンボスにより形成したOVD18の回折効率を高めるために、レリーフ面を構成する材料は、例えばTiO、Si、SiO、Fe、ZnS、などの高屈折率材料や、より反射効果の高いAl、Sn、Cr、Ni、Cu、Au等の金属材料が挙げられ、これらの材料が単独あるいは積層して使用される。これらの材料は、真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成される。またこれらの材料は、反射層としても使用できる。 In order to increase the diffraction efficiency of the OVD 18 in which the OVD forming layer 13a is formed by embossing, the material constituting the relief surface is a high refractive index material such as TiO 2 , Si 2 O 3 , SiO, Fe 2 O 3 , ZnS, etc. In addition, metal materials such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu, and Au, which have a higher reflection effect, may be used, and these materials may be used alone or in layers. These materials are formed by a known thin film forming technique such as vacuum deposition or sputtering. These materials can also be used as a reflective layer.

接着層14としては、例えば熱をかけたとき粘着性が現れる感熱接着剤を用いることができる。接着層14は、その性能を満たす樹脂をグラビアコータ、マイクログラビアコータ、ロールコータなどを用いて基材に塗布して設ける。用いることができる材質としては、アクリル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、エポキシ、EVAなどの熱可塑性樹脂を用いることができる。   As the adhesive layer 14, for example, a heat-sensitive adhesive that exhibits tackiness when heated can be used. The adhesive layer 14 is provided by applying a resin satisfying the performance to a substrate using a gravure coater, a micro gravure coater, a roll coater, or the like. As a material that can be used, thermoplastic resins such as acrylic resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer, epoxy, and EVA can be used.

(第一位置合わせマーク)
第一位置合わせマーク17は、図2(a)に示すように位相差層12内に位相差子15、16と同時に設けられる。一例として位相差子15、16が2軸にパターン配置されている場合を図2に示した。この場合、第一位置合わせマーク17は位相差子15、16とはさらに異なる方向に配置されていても良いが、工数を減らすために位相差子16と同じ方向に配置されていてもよい。また、図2では第一位置合わせマーク17が1軸配向している例を示したが、第一位置合わせマーク17内をさらに分割し、多軸配向させてもよい。
(First alignment mark)
As shown in FIG. 2A, the first alignment mark 17 is provided in the retardation layer 12 at the same time as the retardation elements 15 and 16. As an example, FIG. 2 shows a case where the phase retarders 15 and 16 are arranged in a pattern on two axes. In this case, the first alignment mark 17 may be arranged in a different direction from the phase retarders 15 and 16, but may be arranged in the same direction as the phase retarder 16 in order to reduce the number of steps. Moreover, although the example in which the first alignment mark 17 is uniaxially oriented is shown in FIG. 2, the inside of the first alignment mark 17 may be further divided to be multiaxially oriented.

第一位置合わせマーク17は、図2(b)に示すOVD18を形成するときに位置合わせのために用いる。その際に、第一位置合わせマーク17を偏光子で挟んでセンサで読み取るとよい。すると、第一位置合わせマーク17とその周囲(位相差子15部分に相当)の配向軸が異なるため、画像のコントラストが得られる。それをセンサで読み取り、位置合わせしながらエンボス加工にてOVD18を形成するとよい。   The first alignment mark 17 is used for alignment when forming the OVD 18 shown in FIG. At that time, the first alignment mark 17 may be sandwiched between polarizers and read by a sensor. Then, since the alignment axes of the first alignment mark 17 and its surroundings (corresponding to the phase retarder 15 portion) are different, the contrast of the image is obtained. The OVD 18 may be formed by embossing while reading it with a sensor and aligning it.

(第二位置合わせマーク)
第二位置合わせマーク19は、OVD形成層13aをエンボス加工し、OVD18を形成すると同時に設けられる。第一位置合わせマーク17との重なり具合から位置ずれを検知し、位相差層12のパターンとOVD18との位置合わせを行なうためのものである。第二位置合わせマーク19はOVDと同様の構造で設けてもよいが、例えば複数の溝を配置してなるレリーフ型回折格子にて設けることができ、その空間周波数が2000本/mmから4000本/mmの範囲内にあり、かつ回折格子の溝の高さ/幅の比(アスペクト比)の値が0.5〜2の範囲内にあることが好ましい。
また、より最適な範囲として回折格子の空間周波数が2500本/mmから3500本/mmの範囲内にあればさらに好ましい。
(Second alignment mark)
The second alignment mark 19 is provided at the same time as the OVD 18 is formed by embossing the OVD forming layer 13a. The positional deviation is detected from the overlapping state with the first alignment mark 17 and the alignment of the pattern of the retardation layer 12 and the OVD 18 is performed. The second alignment mark 19 may be provided with the same structure as that of the OVD. However, the second alignment mark 19 can be provided by, for example, a relief type diffraction grating in which a plurality of grooves are arranged, and the spatial frequency is 2000 lines / mm to 4000 lines. It is preferable that the height / width ratio (aspect ratio) of the grooves of the diffraction grating is in the range of 0.5 to 2.
More preferably, the spatial frequency of the diffraction grating is in the range of 2500 lines / mm to 3500 lines / mm as a more optimal range.

このような構造の回折格子は極めて特殊な視覚効果を有している。この構造は一般に使用される回折格子とは異なり、入射光の方向と近い方向に回折光が戻る特徴があり、且つ回折光は偏光特性を有する。さらに反射光も偏光特性を有する。例えば回折格子の配置を90°傾けると、反射する偏光特性も90°変化する。しかしこれに限定されず、OVDと同様に微細凹凸パターンやカラーシフトを用いることもできる。   The diffraction grating having such a structure has a very special visual effect. Unlike a diffraction grating generally used, this structure has a feature that diffracted light returns in a direction close to the direction of incident light, and the diffracted light has polarization characteristics. Further, the reflected light also has polarization characteristics. For example, if the arrangement of the diffraction grating is tilted by 90 °, the reflected polarization characteristics also change by 90 °. However, the present invention is not limited to this, and a fine concavo-convex pattern or a color shift can be used similarly to OVD.

前述の回折格子を第二位置合わせマーク19として用いた場合、第一位置合わせマーク17と組み合わせることにより、第一位置合わせマーク17の位相差子15、16の光軸によっては偏光特性が変化し、偏光子を介して観察すると、第二位置合わせマーク19内にコントラストを生じさせることができる。これにより、本発明の転写箔を製造する際に、第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19を重ね合わせた際の位置ずれを、より高い精度で読み取ることが可能になる。   When the above-described diffraction grating is used as the second alignment mark 19, the polarization characteristics change depending on the optical axes of the phase retarders 15 and 16 of the first alignment mark 17 by combining with the first alignment mark 17. When observed through a polarizer, contrast can be generated in the second alignment mark 19. Thereby, when manufacturing the transfer foil of this invention, it becomes possible to read the position shift at the time of superimposing the 1st position alignment mark 17 and the 2nd position alignment mark 19 with higher precision.

(位置合わせ)
エンボスによりOVD18を形成する際に、第一位置合わせマーク17を偏光子で挟んだ状態でレーザセンサ等で読み取り、位置合わせを行ないながら、エンボスを行なう。
(Alignment)
When the OVD 18 is formed by embossing, the first alignment mark 17 is read by a laser sensor or the like while being sandwiched between polarizers, and embossing is performed while performing alignment.

(位置ずれの検出)
エンボスによりOVD18を形成した後に、センサで第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19の重なり具合を検出することで、その位置ずれを確認する。以下、図4及び図5を例にして、位置ずれに関して説明する。
(Detection of misalignment)
After the OVD 18 is formed by embossing, the sensor detects the overlapping state of the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 to confirm the positional deviation. Hereinafter, the positional deviation will be described with reference to FIGS. 4 and 5 as an example.

OVD18形成後、第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19の重なり具合は、偏光子を介して画像センサで読み取り、フィードバック制御される。図4(a)は第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19が一致しているときを示しており、即ち位相差層12の画像とOVD18の画像が一致していることを意味している。
この場合、偏光子を介してセンサで読み取られる画像は図5(a)のようになっており、
第二位置合わせマーク19と第一位置合わせマーク17の位置が一致しているため、濃いグレーの四角が検出される。位置ずれのないこの状態にするべく、位置ずれが生じていた場合にフィードバック制御されることになる。
After the OVD 18 is formed, the overlapping state of the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 is read by an image sensor via a polarizer and feedback controlled. FIG. 4A shows the case where the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 are coincident, that is, the image of the phase difference layer 12 and the image of the OVD 18 are coincident. ing.
In this case, the image read by the sensor through the polarizer is as shown in FIG.
Since the positions of the second alignment mark 19 and the first alignment mark 17 coincide, a dark gray square is detected. In order to achieve this state with no positional deviation, feedback control is performed when a positional deviation has occurred.

図4(b)は、位相差層12の画像とOVD18の画像が流れ方向で位置ずれした場合を示している。その場合、偏光子を介して読み取られる画像は図5(b)のようになっており、第一位置合わせマーク17と重なっている第二位置合わせマーク19の部分は濃いグレーで観察され、第一位置合わせマーク17と重ならない第二位置合わせマーク19の部分は薄いグレーで観察され、図4(b)の例では、下側は濃いグレーで上側は薄いグレーの四角が検出されることになる。   FIG. 4B shows a case where the image of the retardation layer 12 and the image of the OVD 18 are displaced in the flow direction. In that case, the image read through the polarizer is as shown in FIG. 5B, and the portion of the second alignment mark 19 that overlaps the first alignment mark 17 is observed in dark gray. The portion of the second alignment mark 19 that does not overlap the one alignment mark 17 is observed in light gray, and in the example of FIG. 4B, a square of dark gray on the lower side and light gray on the upper side is detected. Become.

図4(c)には幅方向に位置ずれした場合、図4(d)には流れ方向及び幅方向に位置ずれした場合の例が示してあり、第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19が重なっている部分は濃いグレーで観察され、第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19が重ならない部分は薄いグレーで観察されるため、図5(c)、(d)のように一部薄いグレーとなる四角が検出される。これらの画像から位置ずれ量を感知し、その情報を元にして位置合わせ状態が図4(a)のようになるようにフィードバック制御される。   FIG. 4 (c) shows an example in which the position is displaced in the width direction, and FIG. 4 (d) shows an example in which the position is displaced in the flow direction and the width direction. Since the portion where the mark 19 overlaps is observed in dark gray, and the portion where the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 do not overlap is observed in light gray, the portions shown in FIGS. Thus, a square that is partly light gray is detected. A positional shift amount is detected from these images, and feedback control is performed based on the information so that the alignment state becomes as shown in FIG.

また、図6、図7のように、第二位置合わせマーク19を単純な一軸配置ではなく多軸配置にしてもよい。この場合も上記の例と同様に、位置合わせ状態が図4(a)のようになるようにフィードバック制御される。   Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the second alignment mark 19 may be arranged in a multiaxial arrangement instead of a simple uniaxial arrangement. Also in this case, feedback control is performed so that the alignment state becomes as shown in FIG.

またさらに、図8、図9のように第二位置合わせマーク19を第一位置合わせマーク17の内部に入るようなひし形等にしておくと、印刷の流れ方向のみと、幅方向のみと、流れ方向及び幅方向のずれがある場合との画像が明らかに異なるので、位置ズレが検知しやすい。   Further, if the second alignment mark 19 is formed in a rhombus or the like so as to enter the first alignment mark 17 as shown in FIGS. 8 and 9, only the flow direction of printing, only the width direction, and flow Since the image is clearly different from the case where there is a deviation in the direction and the width direction, the positional deviation is easy to detect.

(転写)
転写方法は、アップダウン方式によるスポット転写もしくはロール転写方式によるストライプ転写方式により被転写物に転写箔を転写する。被転写物の基材は、紙のほか、樹脂フィルム、金属板、ガラス板などシート状のものであれば特に問わず、用いることができる。
(Transcription)
As a transfer method, the transfer foil is transferred to an object to be transferred by spot transfer using an up-down method or stripe transfer using a roll transfer method. The substrate of the material to be transferred can be used regardless of paper as long as it is in the form of a sheet such as a resin film, a metal plate, and a glass plate.

本発明による転写箔が転写された偽造防止媒体は、図3(a)のようになっており、位相差子15、16は目視では観察できないため、実際には図3(b)のように、OVD18のパターンのみが観察される。ここで偏光子を翳すと、図3(c)、(d)のように位相差子15、16のパターンが可視化された画像が観察される。   The anti-counterfeit medium to which the transfer foil according to the present invention is transferred is as shown in FIG. 3 (a), and the phase retarders 15 and 16 cannot be visually observed. Only the pattern of OVD18 is observed. Here, when the polarizer is turned on, an image in which the patterns of the phase retarders 15 and 16 are visualized as shown in FIGS. 3C and 3D is observed.

以下、本発明の実施例について説明をする。   Examples of the present invention will be described below.

ルミラー19F60を基材11として、配向膜用樹脂を溶解した配向膜溶液をマイクログラビア法で塗布し成膜を行った。その後、連続で配置された星型の位相差子16と第一位置合わせマーク17を設けたマスクを用いてカバーをして、原反の流れ方向にラビング布でこすった。
さらに流れ方向に擦った部分をマスクでカバーして、流れ方向に対して45°方向に傾けてラビング布で擦り、配向膜を作製した。
Using Lumirror 19F60 as base material 11, an alignment film solution in which alignment film resin was dissolved was applied by microgravure to form a film. Thereafter, the cover was covered with a mask provided with a star-shaped phase retarder 16 and a first alignment mark 17 arranged in succession, and was rubbed with a rubbing cloth in the flow direction of the original fabric.
Further, the portion rubbed in the flow direction was covered with a mask, tilted in the direction of 45 ° with respect to the flow direction, and rubbed with a rubbing cloth to produce an alignment film.

その後、DIC株式会社製のUVキュアラブル液晶UCL−008をマイクログラビアにて位相差値がλ/4となる膜厚で塗工し、酸素雰囲気下でUV硬化を行った。その結果、流れ方向と、流れ方向に45°傾いた位相差子15、16がそれぞれ得られた。   Thereafter, UV curable liquid crystal UCL-008 manufactured by DIC Corporation was applied by a micro gravure so as to have a phase difference value of λ / 4, and UV curing was performed in an oxygen atmosphere. As a result, the flow direction and phase retarders 15 and 16 inclined by 45 ° in the flow direction were obtained, respectively.

次に、アクリルポリオールとイソシアネートからなるOVD形成層をダイレクトグラビア印刷法にて全面に設けた。その後、第一位置合わせマーク17を偏光子で挟み、ラインセンサで読み取りながら、連続で配置されたOVD18と第二位置合わせマーク19を設けた版で加熱エンボスをかけ、OVD機能層を形成した。さらにその後、第一位置合わせマーク17と第二位置合わせマーク19の位置ずれを偏光子を介して画像センサで読み取り、位置合わせのフィードバック制御を行ない、位相差層12の星柄パターンとOVD18の杉の木柄の位置合わせを行なった。   Next, the OVD formation layer which consists of an acrylic polyol and isocyanate was provided in the whole surface with the direct gravure printing method. Thereafter, the first alignment mark 17 was sandwiched between the polarizers, and while being read by the line sensor, heat embossing was applied with a plate provided with the continuously arranged OVD 18 and the second alignment mark 19 to form an OVD functional layer. After that, the misalignment between the first alignment mark 17 and the second alignment mark 19 is read by an image sensor through a polarizer, and alignment feedback control is performed. The star pattern of the retardation layer 12 and the cedar of the OVD 18 are controlled. The wood pattern was aligned.

その後、アルミニウム薄膜を真空蒸着法を用いて厚みが500Åになるようにして形成した。
さらにアクリル樹脂を接着層14としてマイクログラビアにて全面に設け、本発明の転写箔を得た。
Thereafter, an aluminum thin film was formed using a vacuum vapor deposition method so as to have a thickness of 500 mm.
Furthermore, an acrylic resin was provided as an adhesive layer 14 on the entire surface by microgravure to obtain a transfer foil of the present invention.

得られた転写箔を被転写物にホットスタンプを用いて転写した。転写された偽造防止媒体を目視で観察したところ、OVD18の杉の木柄のみ観察された。次に、偏光子を翳して観察を行ったところ、杉の木の頂点の位置に正確に星柄が出現して観察され、この偏光子を回転させると星柄がネガポジ反転した。   The obtained transfer foil was transferred to a transfer object using a hot stamp. When the transferred anti-counterfeit medium was visually observed, only the OVD18 cedar handle was observed. Next, when the polarizer was turned on and observed, a star pattern appeared exactly at the top of the cedar tree, and when this polarizer was rotated, the star pattern was negative-positive inverted.

以上の実験結果により、高い位置精度で所望の転写箔が得られ、かつ位置合わせマークの形成が位相差層およびOVD機能層の形成工程と同時に行えるため、工程数を少なくできることが確認できた。   From the above experimental results, it was confirmed that the desired transfer foil can be obtained with high positional accuracy and the alignment marks can be formed simultaneously with the steps of forming the retardation layer and the OVD functional layer, so that the number of steps can be reduced.

10 転写箔
11 基材
12 位相差層
13 OVD機能層
13a OVD形成層
13b エンボス
14 接着層
15、16 位相差子
17 第一位置合わせマーク
18 OVD
19 第二位置合わせマーク
20 偏光子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transfer foil 11 Base material 12 Phase difference layer 13 OVD functional layer 13a OVD formation layer 13b Emboss 14 Adhesive layers 15 and 16 Phase difference element 17 First alignment mark 18 OVD
19 Second alignment mark 20 Polarizer

Claims (5)

基材上に、少なくとも2軸以上に配置された位相差層とOVD機能層と接着剤層とを順次積層した転写箔であって、
位相差層には第一位置合わせマークが設けられており、OVD機能層には前記第一位置合わせマークに重なる位置に第二位置合わせマークが設けられていることを特徴とする転写箔。
A transfer foil in which a retardation layer, an OVD functional layer, and an adhesive layer arranged at least biaxially on a base material are sequentially laminated,
A transfer foil, wherein a retardation layer is provided with a first alignment mark, and an OVD functional layer is provided with a second alignment mark at a position overlapping the first alignment mark.
前記第二位置合わせマークが、空間周波数が2000本/mmから4000本/mmで、アスペクト比が0.5から2の回折格子から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔。   The transfer according to claim 1, wherein the second alignment mark is composed of a diffraction grating having a spatial frequency of 2000 lines / mm to 4000 lines / mm and an aspect ratio of 0.5 to 2. Foil. 前記第二位置合わせマークが、空間周波数が2500本/mmから3500本/mmで、アスペクト比が0.5から2の回折格子から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の転写箔。   2. The transfer according to claim 1, wherein the second alignment mark is composed of a diffraction grating having a spatial frequency of 2500 to 3500 lines / mm and an aspect ratio of 0.5 to 2. Foil. 請求項1から3のいずれか1項に記載の転写箔の製造方法であって、前記第一位置合わせマークと前記第二位置合わせマークの位置ずれを、偏光子を介して検出することを特徴とする転写箔の製造方法。   4. The method for manufacturing a transfer foil according to claim 1, wherein a displacement between the first alignment mark and the second alignment mark is detected through a polarizer. 5. A method for producing a transfer foil. 請求項1から3のいずれか1項に記載の転写箔を用いたことを特徴とする偽造防止媒体。   An anti-counterfeit medium using the transfer foil according to any one of claims 1 to 3.
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