JP2017075270A - Prepreg - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a prepreg capable of realizing low Dk.SOLUTION: The prepreg comprises a polyphenylene ether resin composition comprising a polyphenylene ether and a crosslinked curing agent, and a filler with a dielectric constant of 3.5 or less. The polyphenylene ether is represented by general formula (1) and has a number average molecular weight of 1000-7000. In general formula (1), X is an aryl group, (Y)is a polyphenylene ether portion, R, R, and Rindependently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group, m is an integer of 1-100, n is an integer of 1-6, and q is an integer of 1-4.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、プリプレグに関する。特に、プリプレグを構成するフィラーに関する。   The present invention relates to a prepreg. In particular, it is related with the filler which comprises a prepreg.

近年、情報通信において用いられるデータ通信の高速化及び大容量化が急激に進められている。そのため、上記の電子機器において、高い周波数特性及び配線多層化を両立したプリント配線板が要求されている。   In recent years, the speed and capacity of data communication used in information communication has been rapidly increased. Therefore, in the above electronic devices, printed wiring boards that satisfy both high frequency characteristics and multilayer wiring are required.

情報通信に用いられるプリント配線基板には、信号の伝搬遅延の短縮及び伝送損失の低減を実現するために、低誘電率(低Dk)及び低誘電正接(低Df)が要求される。これらの要求を実現するために、プリント配線基板において多層化された配線間の絶縁層として、ポリフェニレンエーテルを含有する樹脂材料が用いられている。ポリフェニレンエーテルは、電気特性(低誘電率・低誘電正接)に優れ、伝送速度の高速化や伝送損失の低減に効果が期待される化合物である。プリント配線基板の高性能化及び多層化のために、このポリフェニレンエーテルを用いたプリプレグの積層体をプリント配線基板に適用する試みがなされている。   A printed wiring board used for information communication is required to have a low dielectric constant (low Dk) and a low dielectric loss tangent (low Df) in order to reduce signal propagation delay and transmission loss. In order to realize these requirements, a resin material containing polyphenylene ether is used as an insulating layer between wirings that are multilayered in a printed wiring board. Polyphenylene ether is a compound that has excellent electrical characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) and is expected to be effective in increasing transmission speed and reducing transmission loss. Attempts have been made to apply this prepreg laminate using polyphenylene ether to a printed wiring board in order to improve the performance and the multilayer structure of the printed wiring board.

また、プリント配線基板の高性能化及び多層化に伴い、プリント配線基板に用いられる積層板用材料は、低誘電率を維持しつつ熱膨張係数の低減及び高い強靭性が要求される。これらの要求を満たすために、例えば特許文献1及び特許文献2では、充填材としてシリカなどの無機充填材を用いたプリプレグが用いられている。   In addition, with the increase in performance and multilayering of printed wiring boards, laminated board materials used for printed wiring boards are required to have a low thermal expansion coefficient and high toughness while maintaining a low dielectric constant. In order to satisfy these requirements, for example, in Patent Document 1 and Patent Document 2, a prepreg using an inorganic filler such as silica as a filler is used.

特表2006−516297号公報JP-T-2006-516297 国際公開第2009/041137号International Publication No. 2009/041137

しかしながら、特許文献1及び特許文献2に示すプリプレグは、特に誘電率(Dk)の特性値において、充填材に用いられる材料に起因して低Dk化が制限されることが判っている。   However, it has been found that the prepregs shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 are limited in lowering the Dk due to the material used for the filler, particularly in the dielectric constant (Dk) characteristic value.

本発明は、そのような課題に鑑みてなされたものであり、低Dkを実現可能なプリプレグを提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a subject, and it aims at providing the prepreg which can implement | achieve low Dk.

本発明の一実施形態に係るプリプレグは、ポリフェニレンエーテル及び架橋型硬化剤を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物と、誘電率3.5以下のフィラーと、を含み、ポリフェニレンエーテルは一般式(1)

によって表され、且つ数平均分子量が1000〜7000であり、一般式(1)において、Xはアリール基を示し、(Y)はポリフェニレンエーテル部分を示し、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を示し、mは1〜100の整数を示し、nは1〜6の整数を示し、qは1〜4の整数を示す。
A prepreg according to an embodiment of the present invention includes a polyphenylene ether resin composition containing polyphenylene ether and a cross-linking curing agent, and a filler having a dielectric constant of 3.5 or less. The polyphenylene ether is represented by the general formula (1).

And the number average molecular weight is 1000 to 7000. In the general formula (1), X represents an aryl group, (Y) m represents a polyphenylene ether moiety, and R 1 , R 2 , and R 3 are each represented by Independently, it represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group, m represents an integer of 1 to 100, n represents an integer of 1 to 6, and q represents an integer of 1 to 4.

また、フィラーは、中空フィラー、フッ素樹脂フィラーのうち少なくとも1以上を含んでもよい。   Further, the filler may include at least one of a hollow filler and a fluororesin filler.

本発明の一実施形態に係るプリプレグは、数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するハロゲン原子を含有しないエポキシ化合物、数平均分子量5000以下のポリフェニレンエーテル、シアン酸エステル化合物、エポキシ化合物及びポリフェニレンエーテルと硬化剤であるシアン酸エステル化合物との反応を促進させる硬化触媒、及びハロゲン系難燃剤を含有する樹脂ワニスを有するポリフェニレンエーテル樹脂組成物と、誘電率3.5以下のフィラーと、を含む。   A prepreg according to an embodiment of the present invention includes an epoxy compound having a number average molecular weight of 1000 or less and not containing a halogen atom having at least two epoxy groups in one molecule, a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 5000 or less, and cyanic acid. A polyphenylene ether resin composition having a resin varnish containing an ester compound, an epoxy compound, a polyphenylene ether and a curing catalyst for promoting a reaction of a cyanate ester compound as a curing agent, and a halogen flame retardant; and a dielectric constant of 3.5 The following fillers are included.

また、フィラーは、中空フィラー、フッ素樹脂フィラーのうち少なくとも1以上を含んでもよい。   Further, the filler may include at least one of a hollow filler and a fluororesin filler.

本発明によると、低Dkを実現可能なプリプレグを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a prepreg capable of realizing low Dk.

〈実施形態1〉
以下、本発明に係るプリプレグについて詳細に説明する。但し、本発明のプリプレグは、以下に示す実施形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。
<Embodiment 1>
Hereinafter, the prepreg according to the present invention will be described in detail. However, the prepreg of the present invention is not construed as being limited to the description of the following embodiments and examples.

[プリプレグの構成]
本発明の実施形態1に係るプリプレグは、ポリフェニレンエーテル及び架橋型硬化剤を含む樹脂組成物と、基材と、誘電率3.5以下のフィラーと、を含む。
[Configuration of prepreg]
The prepreg according to Embodiment 1 of the present invention includes a resin composition containing polyphenylene ether and a crosslinking curing agent, a base material, and a filler having a dielectric constant of 3.5 or less.

(ポリフェニレンエーテル)
本発明樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテルは上記の一般式(1)で表され、数平均分子量が1000以上7000以下のものを用いることができる。
(Polyphenylene ether)
The polyphenylene ether contained in the resin composition of the present invention is represented by the above general formula (1), and those having a number average molecular weight of 1000 or more and 7000 or less can be used.

上記の一般式(1)において、Xはアリール基を示し、(Y)はポリフェニレンエーテル部分を示し、R〜Rはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示す。一般式(1)において、nは1以上6以下の整数であり、qは1以上4以下の整数である。ここで、好ましくは、nは1以上4以下の整数であるとよく、さらに好ましくは、nは1又は2であるとよく、理想的にはnは1であるとよい。また、好ましくは、qは1以上3以下の整数であるとよく、さらに好ましくは、qは1又は2であるとよく、理想的にはqは1であるとよい。 In the above general formula (1), X represents an aryl group, (Y) m represents a polyphenylene ether moiety, and R 1 to R 3 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. In general formula (1), n is an integer from 1 to 6, and q is an integer from 1 to 4. Here, preferably, n is an integer of 1 or more and 4 or less, more preferably, n is 1 or 2, and ideally n is 1. Preferably, q is an integer of 1 or more and 3 or less, more preferably q is 1 or 2, and ideally q is 1.

(アリール基)
一般式(1)におけるアリール基としては、芳香族炭化水素基を用いることができる。具体的には、アリール基として、フェニル基、ビフェニル基、インデニル基、及びナフチル基を用いることができ、好ましくはアリール基を用いるとよい。ここで、アリール基は、上記のアリール基が酸素原子で結合されているジフェニルエーテル基等や、カルボニル基で結合されたベンゾフェノン基等、アルキレン基により結合された2,2−ジフェニルプロパン基等を含んでもよい。また、アリール基は、アルキル基(好適にはC−Cアルキル基、特にメチル基)、アルケニル基、アルキニル基やハロゲン原子など、一般的な置換基によって置換されていてもよい。但し、当該「アリール基」は、酸素原子を介してポリフェニレンエーテル部分に置換されているので、一般的置換基の数の限界は、ポリフェニレンエーテル部分の数に依存する。
(Aryl group)
As the aryl group in the general formula (1), an aromatic hydrocarbon group can be used. Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, an indenyl group, and a naphthyl group can be used as the aryl group, and an aryl group is preferably used. Here, the aryl group includes a diphenyl ether group in which the aryl group is bonded with an oxygen atom, a benzophenone group bonded with a carbonyl group, or the like, a 2,2-diphenylpropane group bonded with an alkylene group, or the like. But you can. Further, the aryl group, alkyl group (preferably a C 1 -C 6 alkyl group, particularly methyl group), an alkenyl group, an alkynyl group or a halogen atom, may be substituted by common substituent. However, since the “aryl group” is substituted on the polyphenylene ether moiety through an oxygen atom, the number of general substituents depends on the number of polyphenylene ether moieties.

(ポリフェニレンエーテル部分)
一般式(1)におけるポリフェニレンエーテル部分は以下の一般式(2)で表され、フェニルオキシ繰返し単位からなる。ここで、フェニル基は、一般的な置換基によって置換されていてもよい。
(Polyphenylene ether part)
The polyphenylene ether moiety in the general formula (1) is represented by the following general formula (2) and consists of phenyloxy repeating units. Here, the phenyl group may be substituted with a general substituent.

上記の一般式(2)において、R〜Rはそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアルケニルカルボニル基を示す。一般式(2)において、mは1〜100の整数を示す。ここで、mの値は一般式(1)のポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1000以上7000以下となるように調整される。つまり、mは固定値ではなく、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物に含まれるポリフェニレンエーテル全体の数平均分子量が1000以上7000以下となるような、ある一定の範囲内の変数であってもよい。 In the above general formula (2), R 4 to R 7 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an alkenylcarbonyl group. In General formula (2), m shows the integer of 1-100. Here, the value of m is adjusted so that the number average molecular weight of the polyphenylene ether of the general formula (1) is 1000 or more and 7000 or less. That is, m is not a fixed value but may be a variable within a certain range such that the number average molecular weight of the whole polyphenylene ether contained in the polyphenylene ether resin composition is 1000 or more and 7000 or less.

ここで、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が7000を超えると、成形時の流動性が低下して多層成形が困難になってしまう。一方、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1000未満だと、ポリフェニレンエーテル樹脂の本来の優れた誘電特性と耐熱性が得られない可能性がある。より優れた流動性、耐熱性、及び誘電特性を得るためには、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1200以上5000以下であるとよい。より好ましくは、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が1500以上4500以下であるとよい。   Here, when the number average molecular weight of polyphenylene ether exceeds 7000, the fluidity at the time of shaping | molding falls and multilayer shaping | molding will become difficult. On the other hand, if the number average molecular weight of the polyphenylene ether is less than 1000, the original excellent dielectric properties and heat resistance of the polyphenylene ether resin may not be obtained. In order to obtain more excellent fluidity, heat resistance, and dielectric properties, the number average molecular weight of the polyphenylene ether is preferably 1200 or more and 5000 or less. More preferably, the polyphenylene ether has a number average molecular weight of 1500 or more and 4500 or less.

また、上記の数平均分子量のポリフェニレンエーテルは、架橋型硬化剤とブレンドしたときの相溶性が非常に良好である。換言すると、ポリフェニレンエーテルは数平均分子量が小さいほど混合物との相溶性が高くなる。したがって、相分離に起因した粘度上昇が起きにくく、低分子量である架橋型硬化剤の揮発が抑制される。その結果、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物のビアホール等への埋め込み性を向上させることができる。   The polyphenylene ether having the number average molecular weight described above has very good compatibility when blended with a crosslinking type curing agent. In other words, the lower the number average molecular weight of polyphenylene ether, the higher the compatibility with the mixture. Therefore, viscosity increase due to phase separation hardly occurs, and volatilization of the low molecular weight cross-linking curing agent is suppressed. As a result, the embedding property of the polyphenylene ether resin composition into a via hole or the like can be improved.

一般式(2)におけるアルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基は、下記で説明する一般式(1)のアルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基と同様のものを用いることが可能である。ポリフェニレンエーテル部分のアルケニルカルボニル基としては、上記のアルケニル基により置換されたカルボニル基を用いることができる。具体的には、アクリロイル基、メタクリロイル基を用いることができる。   As the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group in the general formula (2), those similar to the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group in the general formula (1) described below can be used. As the alkenylcarbonyl group of the polyphenylene ether moiety, a carbonyl group substituted with the above alkenyl group can be used. Specifically, an acryloyl group or a methacryloyl group can be used.

ここで、一般式(2)におけるポリフェニレンエーテル部分は、置換基R〜Rとしてビニル基、2−プロピレン基(アリル基)、メタクリロイル基、アクリロイル基、2−プロピン基(プロパルギル基)などの不飽和炭化水素含有基を有していてもよい。ポリフェニレンエーテル部分の置換基R〜Rに上記の不飽和炭化水素含有基が備えられていることで、架橋型硬化剤のより顕著な効果を得ることができる。 Here, the polyphenylene ether moiety in the general formula (2) is a vinyl group, a 2-propylene group (allyl group), a methacryloyl group, an acryloyl group, a 2-propyne group (propargyl group) or the like as the substituents R 4 to R 7 . It may have an unsaturated hydrocarbon-containing group. By providing the unsaturated hydrocarbon-containing group in the substituents R 4 to R 7 of the polyphenylene ether portion, it is possible to obtain a more remarkable effect of the crosslinkable curing agent.

上記の基を末端に有するポリフェニレンエーテルは、架橋型硬化剤との相互作用が良好である。したがって、比較的少量の架橋型硬化剤を添加するだけで耐熱性を向上させることができ、低誘電率化を実現することができる。   The polyphenylene ether having the above-mentioned group at the terminal has good interaction with the cross-linking curing agent. Therefore, the heat resistance can be improved only by adding a relatively small amount of the cross-linking curing agent, and a low dielectric constant can be realized.

(アルキル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルキル基としては、飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルキル基としては、C−C10アルキル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキル基としてC−Cアルキル基を用いるとよい。具体的には、アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基を用いることができる。
(Alkyl group)
As the alkyl group in the general formula (1) and the general formula (2), a saturated hydrocarbon group can be used. Examples of the alkyl group may be performed using C 1 -C 10 alkyl group. Preferably, it is the use of C 1 -C 6 alkyl group as the alkyl group described above. More preferably, it may be used a C 1 -C 4 alkyl group as the alkyl group described above. More preferably, it may be used to C 1 -C 2 alkyl group as the alkyl group described above. Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, or a hexyl group can be used as the alkyl group.

(アルケニル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルケニル基としては、構造中に少なくとも一つの炭素−炭素二重結合を有する不飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルケニル基としては、C−C10アルケニル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルケニル基としてC−Cアルケニル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルケニル基としてC−Cアルケニル基を用いるとよい。具体的には、アルケニル基として、エチレン基、1−プロピレン基、2−プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基を用いることができる。
(Alkenyl group)
As the alkenyl group in the general formula (1) and the general formula (2), an unsaturated hydrocarbon group having at least one carbon-carbon double bond in the structure can be used. The alkenyl groups described above may be performed using C 2 -C 10 alkenyl group. Preferably, it is the use of C 2 -C 6 alkenyl group as an alkenyl group described above. More preferably, it is the use of C 2 -C 4 alkenyl group as an alkenyl group described above. Specifically, an ethylene group, a 1-propylene group, a 2-propylene group, an isopropylene group, a butylene group, an isobutylene group, a pentylene group, or a hexylene group can be used as the alkenyl group.

(アルキニル基)
一般式(1)及び一般式(2)におけるアルキニル基としては、構造中に少なくとも一つの炭素−炭素三重結合を有する不飽和炭化水素基を用いることができる。上記のアルキニル基としては、C−C10アルキニル基を用いるとよい。好ましくは、上記のアルキニル基としてC−Cアルキニル基を用いるとよい。さらに好ましくは、上記のアルキニル基としてC−Cアルキニル基を用いるとよい。具体的には、アルキニル基として、エチン基、1−プロピン基、2−プロピン基、イソプロピン基、ブチン基、イソブチン基、ペンチン基、ヘキシン基を用いることができる。
(Alkynyl group)
As the alkynyl group in the general formula (1) and the general formula (2), an unsaturated hydrocarbon group having at least one carbon-carbon triple bond in the structure can be used. As the alkynyl group, a C 2 -C 10 alkynyl group may be used. Preferably, it is the use of C 2 -C 6 alkynyl group as an alkynyl group as described above. More preferably, it is the use of C 2 -C 4 alkynyl group as an alkynyl group as described above. Specifically, an ethyn group, a 1-propyne group, a 2-propyne group, an isopropyne group, a butyne group, an isobutyne group, a pentyne group, and a hexyne group can be used as the alkynyl group.

(架橋型硬化剤)
本樹脂組成物に含まれる架橋型硬化剤は、ポリフェニレンエーテルを3次元架橋する硬化剤を用いることができる。具体的には、架橋型硬化剤として、多官能ビニル化合物、ビニルベンジルエーテル系化合物、アリルエーテル系化合物、又はトリアルケニルイソシアヌレートを用いることができる。多官能ビニル化合物は、ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルビフェニルを含む。ビニルベンジルエーテル系化合物は、フェノール及びビニルベンジルクロライドの反応によって合成される。アリルエーテル系化合物は、スチレンモノマー、フェノール、及びアリルクロライドの反応によって合成される。トリアルケニルイソシアヌレートは相溶性が良好であり、トリアリルイソシアヌレート(以下TAIC)又はトリアリルシアヌレート(以下TAC)を用いることができる。
(Crosslinking curing agent)
As the crosslinkable curing agent contained in the resin composition, a curing agent that three-dimensionally crosslinks polyphenylene ether can be used. Specifically, a polyfunctional vinyl compound, a vinyl benzyl ether compound, an allyl ether compound, or a trialkenyl isocyanurate can be used as the crosslinking curing agent. Polyfunctional vinyl compounds include divinylbenzene, divinylnaphthalene, and divinylbiphenyl. Vinyl benzyl ether compounds are synthesized by the reaction of phenol and vinyl benzyl chloride. Allyl ether compounds are synthesized by the reaction of styrene monomer, phenol, and allyl chloride. Trialkenyl isocyanurate has good compatibility, and triallyl isocyanurate (hereinafter referred to as TAIC) or triallyl cyanurate (hereinafter referred to as TAC) can be used.

架橋型硬化剤として、上記の材料の他にも、(メタ)アクリレート化合物(メタクリレート化合物及びアクリレート化合物)を用いることができる。特に、3以上5以下の官能の(メタ)アクリレート化合物を、樹脂組成物全量に対して3質量%以上20質量%以下含有させるとよい。3以上5以下の官能のメタクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリメタクリレート(TMPT)等を用いることができ、一方、3以上5以下の官能のアクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート等を用いることができる。上記の架橋型硬化剤を用いることで、樹脂組成物の耐熱性をさらに向上させることができる。   In addition to the above materials, (meth) acrylate compounds (methacrylate compounds and acrylate compounds) can be used as the crosslinking curing agent. In particular, the functional (meth) acrylate compound having 3 to 5 functional groups may be contained in an amount of 3 to 20 mass% with respect to the total amount of the resin composition. Trimethylolpropane trimethacrylate (TMPT) or the like can be used as the functional methacrylate compound having 3 to 5 functional groups, while trimethylolpropane triacrylate or the like is used as the functional acrylate compound having 3 to 5 functional groups. Can do. By using the above-mentioned crosslinkable curing agent, the heat resistance of the resin composition can be further improved.

(メタ)アクリレート化合物の官能が3未満又は5を超えると、官能が3以上5以下の(メタ)アクリレート化合物に比べて耐熱性が低下してしまう。また、官能が3以上5以下の(メタ)アクリレート化合物であっても、含有量が本樹脂組成物全量に対して3質量%未満であると、本樹脂組成物の耐熱性向上の効果を十分に得ることができない。一方で、20質量%を超えると、誘電特性や耐湿性が低下してしまう。   When the functionality of the (meth) acrylate compound is less than 3 or more than 5, the heat resistance is reduced as compared with a (meth) acrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less. Moreover, even if it is a (meth) acrylate compound having a functionality of 3 or more and 5 or less, if the content is less than 3% by mass relative to the total amount of the resin composition, the effect of improving the heat resistance of the resin composition is sufficient. Can't get to. On the other hand, when it exceeds 20% by mass, the dielectric properties and moisture resistance are lowered.

本樹脂組成物におけるポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤との含有比率は、30/70以上90/10以下とするとよい。好ましくは、上記の含有比率は50/50以上90/10以下とするとよい。さらに好ましくは、上記の含有比率は60/40以上90/10以下とするとよい。   The content ratio of the polyphenylene ether and the crosslinkable curing agent in the resin composition is preferably 30/70 or more and 90/10 or less. Preferably, the content ratio is 50/50 or more and 90/10 or less. More preferably, the content ratio is 60/40 or more and 90/10 or less.

ここで、ポリフェニレンエーテルの含有比率が下限よりも小さくなると、樹脂組成物全体の剛性が低くなってしまう。その影響で、樹脂組成物全体の多層化が困難になってしまう。一方、ポリフェニレンエーテルの含有比率が上限よりも大きくなると、樹脂組成物全体の耐熱性が低下してしまう。ポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤との含有比率を上記の範囲に調整することで、良好な樹脂組成物の流動性及び相溶性を得ることができる。したがって、樹脂組成物のビアホール等への埋め込み性を向上させることができる。   Here, if the content ratio of the polyphenylene ether is smaller than the lower limit, the rigidity of the entire resin composition is lowered. As a result, it becomes difficult to make the entire resin composition multilayer. On the other hand, when the content ratio of the polyphenylene ether is larger than the upper limit, the heat resistance of the entire resin composition is lowered. By adjusting the content ratio of the polyphenylene ether and the cross-linking curing agent to the above range, good fluidity and compatibility of the resin composition can be obtained. Therefore, the embedding property of the resin composition in a via hole or the like can be improved.

(基材)
本発明のプリプレグに含まれる基材として、例えばガラスクロスを用いることができる。また、基材として、有機基材を用いることもできる。
(Base material)
As a base material contained in the prepreg of the present invention, for example, a glass cloth can be used. Moreover, an organic base material can also be used as a base material.

(その他の添加剤)
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、未修飾のポリフェニレンエーテル、難燃剤、反応開始剤から選択される1以上の添加剤、及び誘電率3.5以下の充填材(以降、フィラーという)を添加することができる。また、さらにプリント配線基板などの電子機器の製造に用いられる樹脂組成物の一般的な添加成分を添加してもよい。
(Other additives)
The resin composition of the present invention includes, as necessary, one or more additives selected from unmodified polyphenylene ether, flame retardant, and reaction initiator, and a filler having a dielectric constant of 3.5 or less (hereinafter referred to as filler). ) Can be added. Moreover, you may add the general additive component of the resin composition used for manufacture of electronic devices, such as a printed wiring board.

(未修飾のポリフェニレンエーテル)
本発明の樹脂組成物は、上記のポリフェニレンエーテルに加え、数平均分子量が9000以上18000以下の未修飾のポリフェニレンエーテルを添加することができる。未修飾のポリフェニレンエーテルを添加することで、樹脂組成物の流動性の制御や耐熱性の向上を実現することができる。また、樹脂組成物中において、充填材などの添加成分の沈殿を抑制することができる。ここで、未修飾のポリフェニレンエーテルとは、分子中に炭素−炭素の不飽和基を有さないポリフェニレンエーテルのことであり、その添加量は、ポリフェニレンエーテルと架橋型硬化剤の合計質量100質量部に対して3質量部以上70質量部以下が好ましい。
(Unmodified polyphenylene ether)
In addition to the above polyphenylene ether, the resin composition of the present invention may contain unmodified polyphenylene ether having a number average molecular weight of 9000 to 18000. By adding unmodified polyphenylene ether, it is possible to control the fluidity of the resin composition and improve the heat resistance. Moreover, precipitation of additional components, such as a filler, can be suppressed in a resin composition. Here, the unmodified polyphenylene ether is a polyphenylene ether having no carbon-carbon unsaturated group in the molecule, and the amount added is 100 parts by mass of the total mass of the polyphenylene ether and the cross-linking curing agent. 3 parts by mass or more and 70 parts by mass or less are preferable.

さらに、耐熱性、接着性、寸法安定性を改良するために、スチレン・ブタジエンブロックコポリマー、スチレン・イソプレンブロックコポリマー、1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエン、マレイン酸変性ポリブタジエン、アクリル酸変性ポリブタジエン、及びエポキシ変性ポリブタジエンから選択される1以上の相溶化剤を用いることができる。   Furthermore, in order to improve heat resistance, adhesiveness and dimensional stability, styrene / butadiene block copolymer, styrene / isoprene block copolymer, 1,2-polybutadiene, 1,4-polybutadiene, maleic acid-modified polybutadiene, acrylic acid-modified polybutadiene. And one or more compatibilizers selected from epoxy-modified polybutadiene can be used.

(充填材)
発明者らの鋭意研究の結果により、プリプレグの低Dk化を制限する要因が、プリプレグに含まれる充填材自体の誘電率に依存することが判明した。また、充填材の誘電率とプリプレグのDkの特性値とを比較検討した結果、充填材の誘電率が3.5以下になると、プリプレグの低Dk化の従来の制限が解かれ、さらなる低Dk化が可能になることが判明した。
(Filler)
As a result of the inventors' diligent research, it has been found that the factor limiting the reduction in Dk of the prepreg depends on the dielectric constant of the filler itself contained in the prepreg. In addition, as a result of comparing and examining the dielectric constant of the filler and the characteristic value of Dk of the prepreg, when the dielectric constant of the filler is 3.5 or less, the conventional limitation of lowering the Dk of the prepreg is solved, and further lower Dk It became clear that it became possible.

上記のように、本樹脂組成物に誘電率3.5以下のフィラーを添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの低Dkを実現することができる。誘電率3.5以下のフィラーとしては、中空フィラーやフッ素樹脂フィラー等の誘電率3.5以下のフィラーを用いることができる。   As described above, the low Dk of the prepreg using the resin composition can be realized by adding a filler having a dielectric constant of 3.5 or less to the resin composition. As the filler having a dielectric constant of 3.5 or less, a filler having a dielectric constant of 3.5 or less such as a hollow filler or a fluororesin filler can be used.

中空フィラーとして、空隙率が10%以上50%以下の中空フィラーを用いることができる。好ましくは、空隙率が15%以上40%以下の中空フィラーを用いることができる。より好ましくは、空隙率が15%以上25%以下の中空フィラーを用いることができる。なお、中空フィラーの空隙率が下限よりも低い場合、誘電率低減の効果が小さくなってしまう。また、中空フィラーの空隙率が上限よりも高い場合、中空フィラーが割れやすくなってしまう。   As the hollow filler, a hollow filler having a porosity of 10% to 50% can be used. Preferably, a hollow filler having a porosity of 15% to 40% can be used. More preferably, a hollow filler having a porosity of 15% or more and 25% or less can be used. In addition, when the porosity of a hollow filler is lower than a minimum, the effect of dielectric constant reduction will become small. Moreover, when the porosity of a hollow filler is higher than an upper limit, a hollow filler will be easy to break.

フッ素樹脂フィラーとして、平均粒径が0.2μm以上1.0μm以下のフッ素樹脂フィラーを用いることができる。好ましくは、平均粒径が0.3μm以上0.9μm以下のフッ素樹脂フィラーを用いることができる。より好ましくは、平均粒径が0.4μm以上0.7μm以下のフッ素樹脂フィラーを用いることができる。なお、フッ素樹脂フィラーの平均粒径が下限よりも小さい場合、プリプレグの溶融粘度が上昇し、プリプレグを積層した際にボイドを発生させてしまう。また、フッ素樹脂フィラーの平均粒径が上限よりも大きい場合、無機充填材とフッ素樹脂との密着性が悪化してしまう。   As the fluororesin filler, a fluororesin filler having an average particle size of 0.2 μm or more and 1.0 μm or less can be used. Preferably, a fluororesin filler having an average particle size of 0.3 μm or more and 0.9 μm or less can be used. More preferably, a fluororesin filler having an average particle size of 0.4 μm or more and 0.7 μm or less can be used. In addition, when the average particle diameter of a fluororesin filler is smaller than a minimum, the melt viscosity of a prepreg will rise and a void will be generated when a prepreg is laminated | stacked. Moreover, when the average particle diameter of a fluororesin filler is larger than an upper limit, the adhesiveness of an inorganic filler and a fluororesin will deteriorate.

(難燃剤)
本樹脂組成物に難燃剤を添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの耐水性、耐湿性、吸湿耐熱性、及びガラス転移点を向上させることができる。難燃剤としては、臭素化有機化合物、例えば芳香族臭素化合物を用いることができる。具体的には、デカブロモジフェニルエタン、4,4-ジブロモビフェニル、エチレンビステトラブロモフタルイミド等を用いることができる。好ましくは、臭素の含有量が樹脂組成物全量に対して8質量%以上20質量%以下となる量の臭素化有機化合物を含有するとよい。
(Flame retardants)
By adding a flame retardant to the resin composition, water resistance, moisture resistance, moisture absorption heat resistance, and glass transition point of a prepreg using the resin composition can be improved. As the flame retardant, a brominated organic compound such as an aromatic bromine compound can be used. Specifically, decabromodiphenylethane, 4,4-dibromobiphenyl, ethylenebistetrabromophthalimide, or the like can be used. Preferably, the brominated organic compound is contained in an amount such that the bromine content is 8% by mass or more and 20% by mass or less based on the total amount of the resin composition.

臭素の含有量が下限よりも小さくなると、プリプレグの難燃性が低下し、UL規格94V−0レベルの難燃性を維持することができなくなってしまう。一方、臭素の含有量が上限よりも大きくなると、プリプレグの加熱時に臭素が解離しやすくなり、プリプレグの耐熱性が低下してしまう。   When the bromine content is smaller than the lower limit, the flame retardancy of the prepreg is lowered, and the flame retardancy at the UL standard 94V-0 level cannot be maintained. On the other hand, when the bromine content is larger than the upper limit, bromine is easily dissociated when the prepreg is heated, and the heat resistance of the prepreg is lowered.

(反応開始剤)
本樹脂組成物に反応開始剤を添加することで、架橋型硬化剤のより顕著な効果を得ることができる。反応開始剤としては、適度な温度及び時間で樹脂組成物の硬化を促進することによって、樹脂組成物の耐熱性等の特性を向上できるものであれば一般的な材料を用いることができる。具体的には、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3−ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3’,5,5’−テトラメチル−1,4−ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノキシル、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等の酸化剤を用いることができる。ここで、必要に応じてカルボン酸金属塩などを添加して、硬化反応をさらに促進させてもよい。
(Reaction initiator)
By adding a reaction initiator to the resin composition, a more remarkable effect of the cross-linking curing agent can be obtained. As the reaction initiator, any general material can be used as long as it can improve the properties such as heat resistance of the resin composition by promoting the curing of the resin composition at an appropriate temperature and time. Specifically, α, α′-bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) -3-hexyne, benzoyl peroxide 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6-tri-t-butylphenoxyl, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, azobisisobutyronitrile An oxidizing agent such as can be used. Here, if necessary, a carboxylic acid metal salt or the like may be added to further accelerate the curing reaction.

以上のように、本発明の実施形態1に係るプリプレグによると、充填材として誘電率3.5以下のフィラーを用いることで、低Dkを実現することができる。   As described above, according to the prepreg according to the first embodiment of the present invention, low Dk can be realized by using a filler having a dielectric constant of 3.5 or less as a filler.

[プリプレグの製造方法]
本発明によるプリプレグにおいて、充填材としては誘電率3.5以下のフィラーを用いることができる。
[Prepreg production method]
In the prepreg according to the present invention, a filler having a dielectric constant of 3.5 or less can be used as the filler.

プリプレグは基材に上記樹脂組成物に溶剤を添加したワニスを含浸させることで得られる。基材へのワニスの含浸量は、プリプレグ中の樹脂固形分の質量比率が35質量%以上になるようにするのが好ましい。基材の誘電率は樹脂の誘電率よりも大きいため、このプリプレグを用いて得られたプリント配線基板の誘電率を小さくするには、プリプレグ中の樹脂固形分の含有量を上記の質量比率より多くすると良い。ワニスを含浸させた基材は、80℃以上150℃以下の温度で1分以上10分以下の時間加熱することができる。ただし、ワニスを含浸させた基材の加熱条件は、上記の条件に限定されない。   A prepreg is obtained by impregnating a base material with a varnish obtained by adding a solvent to the resin composition. The amount of the varnish impregnated into the substrate is preferably such that the mass ratio of the resin solid content in the prepreg is 35% by mass or more. Since the dielectric constant of the base material is larger than the dielectric constant of the resin, in order to reduce the dielectric constant of the printed wiring board obtained using this prepreg, the resin solid content in the prepreg is determined from the above mass ratio. More is better. The base material impregnated with the varnish can be heated at a temperature of 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for a period of 1 minute or longer and 10 minutes or shorter. However, the heating conditions of the base material impregnated with the varnish are not limited to the above conditions.

[プリント配線基板(積層体)の製造方法]
ここでは、上記のようにして作製したプリプレグを用いた積層体の製造方法について説明する。まず、プリプレグを一枚または複数枚重ね、さらにその上下の両面又は片面に銅箔等の金属箔を重ねて、その積層体を加熱加圧成形する。この成形によって、両面又は片面に金属箔を有する積層体を作製することができる。この積層体の金属箔をパターニング及びエッチング加工して回路形成することでプリント配線基板を得ることができる。また、回路が形成された金属箔を間に挟んで複数枚のプリプレグを重ねて加熱加圧成形することで、多層化されたプリント配線基板を作製することができる。
[Method for producing printed wiring board (laminate)]
Here, the manufacturing method of the laminated body using the prepreg produced as mentioned above is demonstrated. First, one or a plurality of prepregs are stacked, and a metal foil such as a copper foil is stacked on both upper and lower surfaces or one surface thereof, and the laminate is heated and pressed. By this molding, a laminate having metal foil on both sides or one side can be produced. A printed wiring board can be obtained by patterning and etching the metal foil of the laminate to form a circuit. Further, a multilayer printed wiring board can be manufactured by stacking a plurality of prepregs with a metal foil on which a circuit is formed sandwiched therebetween, followed by heating and pressing.

加熱加圧成形条件は、本発明に係る樹脂組成物の原料の含有比率により異なるが、一般的には170℃以上230℃以下、圧力1.0MPa以上6.0MPa以下(10kg/cm以上60kg/cm以下)の条件で適切な時間、加熱加圧するのが好ましい。 The heating and pressing conditions vary depending on the content ratio of the raw material of the resin composition according to the present invention, but generally 170 ° C. or higher and 230 ° C. or lower, pressure 1.0 MPa or higher and 6.0 MPa or lower (10 kg / cm 2 or higher and 60 kg). / Cm 2 or less) is preferably heated and pressurized for an appropriate time.

上記の積層体をに用いられる金属箔としては、表面粗さ(十点平均粗さ:Rz)が2μm以下であり、プリプレグによって樹脂層が形成される側の表面(プリプレグと接触する側の表面)が、防錆や樹脂層との密着性向上のために亜鉛又は亜鉛合金にて処理され、さらにビニル基含有シランカップリング剤などによるカップリング処理がなされた銅箔を用いることができる。このような銅箔は樹脂層(絶縁層)との密着がよく、高周波特性に優れたプリント配線基板が得られる。なお、銅箔を亜鉛又は亜鉛合金にて処理する場合、銅箔の表面に亜鉛や亜鉛合金をめっき法により形成することができる。   As a metal foil used for the above laminate, the surface roughness (ten-point average roughness: Rz) is 2 μm or less, and the surface on the side where the resin layer is formed by the prepreg (surface on the side in contact with the prepreg) However, it is possible to use a copper foil that has been treated with zinc or a zinc alloy for rust prevention and improved adhesion to the resin layer and further subjected to a coupling treatment with a vinyl group-containing silane coupling agent or the like. Such a copper foil has good adhesion to the resin layer (insulating layer), and a printed wiring board having excellent high frequency characteristics can be obtained. In addition, when processing copper foil with zinc or a zinc alloy, zinc and a zinc alloy can be formed in the surface of copper foil by the plating method.

このようにして得られた積層体やプリント配線基板は、低Dkを実現することができる。また、成形性、耐水性、耐湿性、吸湿耐熱性、及びガラス転移点が高い積層体やプリント配線基板を得ることができる。   Thus, the laminated body and printed wiring board which were obtained can implement | achieve low Dk. In addition, a laminate or a printed wiring board having high moldability, water resistance, moisture resistance, moisture absorption heat resistance, and glass transition point can be obtained.

〈実施形態2〉
以下、本発明に係るプリプレグについて詳細に説明する。但し、本発明のプリプレグは、以下に示す実施形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。
<Embodiment 2>
Hereinafter, the prepreg according to the present invention will be described in detail. However, the prepreg of the present invention is not construed as being limited to the description of the following embodiments and examples.

[プリプレグの構成]
本発明の実施形態2に係るプリプレグは、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、シアン酸エステル化合物、硬化触媒、及びハロゲン系難燃剤を有する樹脂ワニスからなる樹脂組成物と、基材と、誘電率3.5以下のフィラーと、を含む。ここで、エポキシ化合物は、数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するハロゲン原子を含有しない。また、ポリフェニレンエーテルは数平均分子量が5000以下である。また、硬化触媒は、エポキシ化合物及びポリフェニレンエーテルと硬化剤であるシアン酸エステル化合物との反応を促進させる。
[Configuration of prepreg]
The prepreg according to Embodiment 2 of the present invention includes a resin composition comprising a resin varnish having an epoxy compound, a polyphenylene ether, a cyanate ester compound, a curing catalyst, and a halogen flame retardant, a base material, and a dielectric constant of 3.5. The following fillers are included. Here, the epoxy compound has a number average molecular weight of 1000 or less and does not contain a halogen atom having at least two epoxy groups in one molecule. The polyphenylene ether has a number average molecular weight of 5000 or less. The curing catalyst promotes the reaction between the epoxy compound and polyphenylene ether and the cyanate ester compound that is a curing agent.

(エポキシ化合物)
エポキシ化合物としては、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。上記のうち、特にジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物がポリフェニレンエーテルとの相溶性が良好であるため好ましい。なお、本樹脂組成物には、ハロゲン化エポキシ化合物を含有しないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲であれば、必要に応じて添加してもよい。
(Epoxy compound)
As the epoxy compound, a dicyclopentadiene type epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, a naphthalene type epoxy compound, a biphenyl type epoxy compound, or the like can be used. These can be used alone or in combination. Of these, dicyclopentadiene type epoxy compounds, bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, and biphenyl type epoxy compounds are particularly preferred because of their good compatibility with polyphenylene ether. In addition, although it is preferable not to contain a halogenated epoxy compound in this resin composition, as long as the effect of this invention is not impaired, you may add as needed.

本実施形態のプリプレグにおけるエポキシ化合物の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、エポキシ化合物の含有割合は30質量%以上50質量%以下であるとよい。エポキシ化合物の含有割合を上記の範囲とすることで、充分な耐熱性と優れた機械的特性及び電気特性を維持することができる。   It is preferable that the content rate of the epoxy compound in the prepreg of this embodiment is 20 mass% or more and 60 mass% or less with respect to the total amount of the component of an epoxy compound, polyphenylene ether, and a cyanate ester compound. More preferably, the content ratio of the epoxy compound is 30% by mass or more and 50% by mass or less. By making the content rate of an epoxy compound into said range, sufficient heat resistance and the outstanding mechanical characteristic and electrical property can be maintained.

(ポリフェニレンエーテル)
ポリフェニレンエーテルとしては、数平均分子量は5000以下であり、好ましくは2000以上4000以下である。
(Polyphenylene ether)
The polyphenylene ether has a number average molecular weight of 5000 or less, preferably 2000 or more and 4000 or less.

ポリフェニレンエーテルの数平均分子量が5000を超えると、流動性が悪くなり、またエポキシ基との反応性も低下してしまう。そのため、硬化反応に長い時間がかかってしまい、硬化系に取り込まれず未反応のものが増加してガラス転移温度が低下し、十分な耐熱性の改善が得られなくなる。   When the number average molecular weight of the polyphenylene ether exceeds 5000, the fluidity is deteriorated and the reactivity with the epoxy group is also lowered. Therefore, it takes a long time for the curing reaction, and it is not taken into the curing system, and unreacted ones increase, the glass transition temperature decreases, and sufficient heat resistance cannot be obtained.

本実施形態のプリプレグにおけるポリフェニレンエーテルの含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、ポリフェニレンエーテルの含有割合は20質量%以上40質量%以下であるとよい。ポリフェニレンエーテルの含有割合が上記の範囲であることで、優れた誘電特性を得ることができる。   The content ratio of the polyphenylene ether in the prepreg of the present embodiment is preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the total amount of components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound. More preferably, the content of polyphenylene ether is 20% by mass or more and 40% by mass or less. When the content ratio of the polyphenylene ether is within the above range, excellent dielectric properties can be obtained.

(シアン酸エステル化合物)
シアン酸エステル化合物としては、1分子中に2個以上のシアネート基を有する化合物を用いることができる。具体的には、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)エタン等、又はこれらの誘導体等の芳香族系シアン酸エステル化合物等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。
(Cyanate ester compound)
As the cyanate ester compound, a compound having two or more cyanate groups in one molecule can be used. Specifically, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) ethane, etc. Alternatively, aromatic cyanate ester compounds such as derivatives thereof can be used. These can be used alone or in combination.

シアン酸エステル化合物は、エポキシ樹脂を形成するためのエポキシ化合物の硬化剤として作用し、剛直な骨格を形成する成分である。したがって、高いガラス転移点(Tg)を得ることができる。また、低粘度であるために得られる樹脂ワニスの高流動性を維持することができる。   The cyanate ester compound is a component that acts as a curing agent for the epoxy compound for forming the epoxy resin and forms a rigid skeleton. Therefore, a high glass transition point (Tg) can be obtained. Moreover, since the viscosity is low, the high fluidity of the resin varnish obtained can be maintained.

本実施形態のプリプレグにおけるシアン酸エステル化合物の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量に対して、20質量%以上60質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、シアン酸エステル化合物の含有割合は20質量%以上40質量%以下であるとよい。シアン酸エステル化合物の含有割合が上記の範囲であることで、十分な耐熱性を得ることができ、基材に対する含浸性に優れ、樹脂ワニス中でも結晶が析出しにくくすることができる。   The content ratio of the cyanate ester compound in the prepreg of the present embodiment is preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the total amount of the components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound. More preferably, the content ratio of the cyanate ester compound is 20% by mass or more and 40% by mass or less. When the content ratio of the cyanate ester compound is in the above range, sufficient heat resistance can be obtained, the impregnation with respect to the substrate is excellent, and crystals can be hardly precipitated even in the resin varnish.

(硬化触媒)
硬化触媒としては、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸のZn,Cu,Fe等の有機金属塩、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の3級アミン、2−エチル−4−イミダゾール、4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類等を用いることができる。これらは、単独で用いることもでき、複数を組み合わせて用いることもできる。上記のうち、有機金属塩、特にオクタン酸亜鉛がより高い耐熱性が得られるため好ましい。
(Curing catalyst)
Examples of curing catalysts include octanoic acid, stearic acid, acetylacetonate, naphthenic acid, organic acid salts such as salicylic acid, organic metal salts such as Zn, Cu, and Fe, tertiary amines such as triethylamine and triethanolamine, 2-ethyl- Imidazoles such as 4-imidazole and 4-methylimidazole can be used. These can be used alone or in combination. Among the above, organic metal salts, particularly zinc octoate is preferable because higher heat resistance can be obtained.

本実施形態のプリプレグにおける硬化触媒の含有割合は、例えば有機金属塩を用いる場合には、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して0.005質量部以上5質量部以下とすることができる。また、例えばイミダゾール類を用いる場合には、硬化触媒の含有割合はエポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して0.01質量部以上5質量部以下とすることができる。   The content of the curing catalyst in the prepreg of the present embodiment is, for example, 0.005 with respect to the total amount (100 parts by mass) of the components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound when using an organic metal salt. It can be set to 5 parts by mass or more. For example, when imidazoles are used, the content of the curing catalyst is 0.01 parts by mass or more and 5 parts by mass with respect to the total amount (100 parts by mass) of the components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound. It can be as follows.

(ハロゲン系難燃剤)
ハロゲン系難燃剤としては、トルエン等の溶媒により調整されるワニス中で溶解しないハロゲン系難燃剤を用いることができる。具体的には、ハロゲン系難燃剤としては、エチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラデカブロモジフェノキシベンゼン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン等を用いることができる。上記のうち、特にエチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、テトラデカブロモジフェノキシベンゼンは、融点が300℃以上で耐熱性が高いため、プリプレグの耐熱性を向上させることができる。融点が300℃以上の耐熱性が高いハロゲン系難燃剤を用いると、高温時におけるハロゲンの脱離を抑制することができるため、硬化物の分解による耐熱性の低下を抑制することができる。
(Halogen flame retardant)
As the halogen-based flame retardant, a halogen-based flame retardant that does not dissolve in a varnish adjusted with a solvent such as toluene can be used. Specifically, as the halogen-based flame retardant, ethylene dipentabromobenzene, ethylene bistetrabromophthalimide, decabromodiphenyl oxide, tetradecabromodiphenoxybenzene, bis (tribromophenoxy) ethane, or the like can be used. Of these, ethylenedipentabromobenzene, ethylenebistetrabromophthalimide, decabromodiphenyl oxide, and tetradecabromodiphenoxybenzene have a melting point of 300 ° C. or higher and high heat resistance, so that the heat resistance of the prepreg is improved. Can do. When a halogen-based flame retardant having a melting point of 300 ° C. or higher and high heat resistance can be used, it is possible to suppress the elimination of halogen at a high temperature, and thus it is possible to suppress a decrease in heat resistance due to decomposition of the cured product.

ハロゲン系難燃剤の分散状態における平均粒子径は、0.1μm以上50μm以下、より好ましくは1μm以上10μm以下であることが耐熱性及び層間の絶縁性を充分に維持できる。なお、上記の平均粒子径は、(株)島津製作所製の粒度分布計(SALD−2100)等により測定することができる。   The average particle diameter in the dispersed state of the halogen-based flame retardant is 0.1 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 10 μm or less can sufficiently maintain heat resistance and interlayer insulation. The average particle size can be measured with a particle size distribution meter (SALD-2100) manufactured by Shimadzu Corporation.

本実施形態のプリプレグにおけるハロゲン系難燃剤の含有割合は、得られる硬化物中の樹脂成分(すなわち、無機成分を除いた成分)全量中にハロゲン濃度が5質量%以上30質量%以下になるような割合で含有させることが好ましい。   The content ratio of the halogen-based flame retardant in the prepreg of the present embodiment is such that the halogen concentration is 5% by mass or more and 30% by mass or less in the total amount of the resin component (that is, the component excluding the inorganic component) in the obtained cured product. It is preferable to make it contain in a proper ratio.

(基材)
本発明のプリプレグに含まれる基材として、例えばガラスクロスを用いることができる。また、基材として、有機基材を用いることもできる。
(Base material)
As a base material contained in the prepreg of the present invention, for example, a glass cloth can be used. Moreover, an organic base material can also be used as a base material.

(充填材)
上記のように、本樹脂組成物に誘電率3.5以下のフィラーを添加することで、本樹脂組成物を用いたプリプレグの低Dkを実現することができる。誘電率3.5以下のフィラーとしては、中空フィラーやフッ素樹脂フィラー等の誘電率3.5以下のフィラーを用いることができる。
(Filler)
As described above, the low Dk of the prepreg using the resin composition can be realized by adding a filler having a dielectric constant of 3.5 or less to the resin composition. As the filler having a dielectric constant of 3.5 or less, a filler having a dielectric constant of 3.5 or less such as a hollow filler or a fluororesin filler can be used.

本実施形態のプリプレグにおける充填材の含有割合は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分の合計量(100質量部)に対して、10質量部以上100質量部以下になるような割合で含有させるとよい。好ましくは、充填材の含有割合を20質量部以上70質量部以下になるような割合で含有させるとよい。より好ましくは、充填材の含有割合を20質量部以上50質量部以下になるような割合で含有させるとよい。充填材の含有割合を上記の範囲とすることで、流動性や金属箔との密着性を低下させずに寸法安定性を向上させることができる。   The content of the filler in the prepreg of the present embodiment is 10 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to the total amount (100 parts by mass) of the components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound. It is good to contain by a ratio. Preferably, the filler content may be 20 to 70 parts by mass. More preferably, the filler content may be 20 to 50 parts by mass. By making the content rate of a filler into said range, dimensional stability can be improved, without reducing fluidity | liquidity and adhesiveness with metal foil.

本発明の樹脂組成物は、上記の充填材以外にも、プリント配線基板などの電子機器の製造に用いられる樹脂組成物の一般的な添加成分を添加してもよい。例えば、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、染料や顔料、滑剤等を添加してもよい。   The resin composition of this invention may add the general addition component of the resin composition used for manufacture of electronic devices, such as a printed wiring board, other than said filler. For example, a heat stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a dye, a pigment, a lubricant and the like may be added.

[プリプレグの製造方法]
本発明の実施形態2に係るプリプレグの本樹脂組成物は、エポキシ化合物、ポリフェニレンエーテル、及びシアン酸エステル化合物の成分は何れも樹脂ワニス中で溶解されたものであり、充填材の成分は、前記樹脂ワニス中で溶解されず、分散されているものである。このような樹脂ワニスは、例えば、以下のようにして調製される。
[Prepreg production method]
In the present resin composition of the prepreg according to Embodiment 2 of the present invention, the components of the epoxy compound, polyphenylene ether, and cyanate ester compound are all dissolved in the resin varnish. It is not dissolved in the resin varnish but is dispersed. Such a resin varnish is prepared as follows, for example.

まずは、ポリフェニレンエーテルの樹脂溶液にエポキシ化合物及びシアン酸エステル化合物を所定量溶解させる。この溶解は室温で行われてもよく、加熱しながら行われてもよい。エポキシ化合物及びシアン酸エステル化合物としては、室温でトルエン等の溶媒に溶解する材料を用いることで、樹脂ワニス中で析出物の生成を抑制することができる。   First, a predetermined amount of an epoxy compound and a cyanate ester compound are dissolved in a resin solution of polyphenylene ether. This dissolution may be performed at room temperature or while heating. As an epoxy compound and a cyanate ester compound, the formation of precipitates in the resin varnish can be suppressed by using a material that dissolves in a solvent such as toluene at room temperature.

ここで、添加剤として誘電率3.5以下のフィラーを添加する場合、充填材を添加した後にボールミル、ビーズミル、プラネタリーミキサー、ロールミル等を用いて、所定の分散状態になるまで分散させることにより、樹脂ワニスが調製される。   Here, when a filler having a dielectric constant of 3.5 or less is added as an additive, it is dispersed until a predetermined dispersion state is obtained using a ball mill, a bead mill, a planetary mixer, a roll mill or the like after the filler is added. A resin varnish is prepared.

上記のようにして得られた樹脂ワニスを、実施形態1と同様の製造方法で基材に含浸、乾燥させることでプリプレグを得ることができる。また、実施形態1と同様の製造方法でプリント配線基板(積層体)を得ることができる。   A prepreg can be obtained by impregnating the substrate with the resin varnish obtained as described above and drying it by the same production method as in Embodiment 1. Moreover, a printed wiring board (laminated body) can be obtained by the same manufacturing method as in the first embodiment.

以下に、本発明の実施形態1及び実施形態2に係るプリプレグを作製し、誘電率(Dk)の特性値を評価した結果について具体的に説明する。以下に示す実施例1及び実施例2は実施形態1の実施例に相当し、実施例3及び実施例4は実施形態2の実施例に相当する。   Below, the prepreg which concerns on Embodiment 1 and Embodiment 2 of this invention is produced, and the result of having evaluated the characteristic value of dielectric constant (Dk) is demonstrated concretely. Example 1 and Example 2 described below correspond to the example of the first embodiment, and Example 3 and Example 4 correspond to the example of the second embodiment.

まず、実施例1及び実施例2、並びに比較例1に用いたポリフェニレンエーテルについて説明する。   First, the polyphenylene ether used in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 will be described.

(ポリフェニレンエーテル(1))
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12リットルの縦長反応器にCuBr 3.88g(17.4mmol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 0.75g(4.4mmol)、n−ブチルジメチルアミン 28.04g(277.6mmol)、トルエン 2600gを仕込み、反応温度40℃にて攪拌を行い、あらかじめ2300gのメタノールに溶解させた2,2’、3,3’、5,5’−ヘキサメチル−(1,1’−ビフェノール)−4,4’−ジオール 129.3g(0.48mol)、2,6−ジメチルフェノール233.7g(1.92mol)、2,3,6−トリメチルフェノール 64.9g(0.48mol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 0.51g(2.9mmol)、n−ブチルジメチルアミン 10.90g(108.0mmol)の混合溶液を、窒素と空気とを混合して酸素濃度8%に調整した混合ガスを5.2リットル/minの流速でバブリングを行いながら230分かけて滴下し、攪拌を行った。
(Polyphenylene ether (1))
CuBr 2 3.88 g (17.4 mmol), N, N′-di-t-butylethylenediamine 0.75 g (4.) in a 12-liter vertical reactor equipped with a stirrer, thermometer, air introduction tube and baffle plate. 4 mmol), 28.04 g (277.6 mmol) of n-butyldimethylamine and 2600 g of toluene, stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and dissolved in 2300 g of methanol in advance, 2,2 ′, 3,3 ′, 5,5′-hexamethyl- (1,1′-biphenol) -4,4′-diol 129.3 g (0.48 mol), 2,6-dimethylphenol 233.7 g (1.92 mol), 2,3, 6-trimethylphenol 64.9 g (0.48 mol), N, N'-di-t-butylethylenediamine 0.51 g (2.9 mmol), n-butyldi A mixed gas of 10.90 g (108.0 mmol) of tilamine was added dropwise over 230 minutes while bubbling at a flow rate of 5.2 liters / min with a mixed gas adjusted to an oxygen concentration of 8% by mixing nitrogen and air. And stirring was performed.

滴下終了後、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 19.89g(52.3mmol)を溶解した水1500gを加え、反応を停止した。水層と有機層を分液し、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで50wt%に濃縮し、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「A」)のトルエン溶液を836.5g得た。樹脂「A」の数平均分子量は986、重量平均分子量は1530、水酸基当量が471であった。   After completion of the dropwise addition, 1500 g of water in which 19.89 g (52.3 mmol) of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium was dissolved was added to stop the reaction. The aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was washed with a 1N hydrochloric acid aqueous solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated to 50 wt% with an evaporator to obtain 836.5 g of a toluene solution of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “A”). The resin “A” had a number average molecular weight of 986, a weight average molecular weight of 1530, and a hydroxyl group equivalent of 471.

攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「A」のトルエン溶液 836.5g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS−P;セイミケミカル(株)製) 162.6g、塩化メチレン 1600g、ベンジルジメチルアミン 12.95g、純水 420g、30.5wt% NaOH水溶液 178.0gを仕込み、反応温度40℃で攪拌を行った。24時間攪拌を行った後、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで濃縮し、メタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して「ポリフェニレンエーテル(1)」503.5gを得た。「ポリフェニレンエーテル(1)」の数平均分子量は1187、重量平均分子量は1675、ビニル基当量は590g/ビニル基であった。   In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux tube, 836.5 g of a toluene solution of resin “A”, vinylbenzyl chloride (trade name CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.) 162.6 g, methylene chloride 1600 g, 12.95 g of benzyldimethylamine, 420 g of pure water, and 178.0 g of a 30.5 wt% NaOH aqueous solution were charged, followed by stirring at a reaction temperature of 40 ° C. After stirring for 24 hours, the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated with an evaporator, dropped into methanol for solidification, and the solid was collected by filtration and vacuum dried to obtain 503.5 g of “polyphenylene ether (1)”. The number average molecular weight of “polyphenylene ether (1)” was 1187, the weight average molecular weight was 1,675, and the vinyl group equivalent was 590 g / vinyl group.

(ポリフェニレンエーテル(2))
攪拌装置、温度計、空気導入管、じゃま板のついた12リットルの縦長反応器にCuBr 9.36g(42.1mmol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 1.81g(10.5mmol)、n−ブチルジメチルアミン 67.77g(671.0mmol)、トルエン 2600gを仕込み、反応温度40℃にて攪拌を行い、あらかじめ2300gのメタノールに溶解させた2,2’、3,3’、5,5’−ヘキサメチル−(1,1’−ビフェノール)−4,4’−ジオール 129.32g(0.48mol)、2,6−ジメチルフェノール 878.4g(7.2mol)、N,N’−ジ−t−ブチルエチレンジアミン 1.22g(7.2mmol)、n−ブチルジメチルアミン 26.35g(260.9mmol)の混合溶液を、窒素と空気とを混合して酸素濃度8%に調整した混合ガスを5.2リットル/minの流速でバブリングを行いながら230分かけて滴下し、攪拌を行った。
(Polyphenylene ether (2))
CuBr 2 (9.36 g, 42.1 mmol) and N, N′-di-t-butylethylenediamine (1.81 g) in a 12-liter vertical reactor equipped with a stirrer, a thermometer, an air introduction tube, and a baffle plate (10. 5 mmol), 67.77 g (671.0 mmol) of n-butyldimethylamine, 2600 g of toluene, stirred at a reaction temperature of 40 ° C., and dissolved in 2300 g of methanol in advance, 2,2 ′, 3,3 ′, 5,5′-hexamethyl- (1,1′-biphenol) -4,4′-diol 129.32 g (0.48 mol), 2,6-dimethylphenol 878.4 g (7.2 mol), N, N ′ -A mixed solution of 1.22 g (7.2 mmol) of di-t-butylethylenediamine and 26.35 g (260.9 mmol) of n-butyldimethylamine A mixed gas adjusted to an oxygen concentration of 8% by mixing nitrogen and air was added dropwise over 230 minutes while bubbling at a flow rate of 5.2 liters / min, followed by stirring.

滴下終了後、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 48.06g(126.4mmol)を溶解した水1500gを加え、反応を停止した。水層と有機層を分液し、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで50wt%に濃縮し、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体(樹脂「B」)のトルエン溶液を1981g得た。樹脂「B」の数平均分子量は1975、重量平均分子量は3514、水酸基当量が990であった。   After completion of the dropping, 1500 g of water in which 48.06 g (126.4 mmol) of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium was dissolved was added to stop the reaction. The aqueous layer and the organic layer were separated, and the organic layer was washed with a 1N hydrochloric acid aqueous solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated to 50 wt% with an evaporator to obtain 1981 g of a toluene solution of a bifunctional phenylene ether oligomer (resin “B”). The resin “B” had a number average molecular weight of 1975, a weight average molecular weight of 3514, and a hydroxyl group equivalent of 990.

攪拌装置、温度計、還流管を備えた反応器に樹脂「B」のトルエン溶液 833.4g、ビニルベンジルクロライド(商品名CMS−P;セイミケミカル(株)製) 76.7g、塩化メチレン 1600g、ベンジルジメチルアミン 6.2g、純水 199.5g、30.5wt% NaOH水溶液 83.6gを仕込み、反応温度40℃で攪拌を行った。24時間攪拌を行った後、有機層を1Nの塩酸水溶液、次いで純水で洗浄した。得られた溶液をエバポレータで濃縮し、メタノール中へ滴下して固形化を行い、濾過により固体を回収、真空乾燥して「ポリフェニレンエーテル(2)」450.1gを得た。ビニル「ポリフェニレンエーテル(2)」の数平均分子量は2250、重量平均分子量は3920、ビニル基当量は1189g/ビニル基であった。   In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a reflux tube, 833.4 g of a toluene solution of the resin “B”, 76.7 g of vinylbenzyl chloride (trade name CMS-P; manufactured by Seimi Chemical Co., Ltd.), 1600 g of methylene chloride, 6.2 g of benzyldimethylamine, 199.5 g of pure water, and 83.6 g of a 30.5 wt% NaOH aqueous solution were charged and stirred at a reaction temperature of 40 ° C. After stirring for 24 hours, the organic layer was washed with a 1N aqueous hydrochloric acid solution and then with pure water. The obtained solution was concentrated with an evaporator, dropped into methanol for solidification, and the solid was collected by filtration and vacuum dried to obtain 450.1 g of “polyphenylene ether (2)”. The number average molecular weight of vinyl “polyphenylene ether (2)” was 2250, the weight average molecular weight was 3920, and the vinyl group equivalent was 1189 g / vinyl group.

次に、実施例1及び実施例2、並びに比較例1のプリプレグ及び誘電率の評価サンプルの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the prepreg of Example 1 and Example 2, and the comparative example 1 and the evaluation sample of a dielectric constant is demonstrated.

[実施例1]
上記のポリフェニレンエーテル(1)を70質量部準備し、溶媒としてトルエンを100質量部加えて80℃にて30分混合、攪拌して完全に溶解した。このようにして得られたポリフェニレンエーテル溶液に対して、架橋型硬化剤として日本化成株式会社製「TAIC」を30質量部、難燃剤として臭素化有機化合物であるエチレンビス(ペンタブロモフェニル)(アルベマール日本株式会社製「SAYTEX8010(商品名)」)を50質量部、及び充填材として空隙率が約19%の中空シリカ(株式会社アドマテックス社製)を50質量部配合した。ここで、中空シリカの誘電率は3.0である。これらをメチルエチルケトンで固形分65%に希釈しワニスを得た。上記の難燃剤が、ポリフェニレンエーテル及びTAICに非反応の臭素化有機化合物であるので、樹脂組成物であるワニス中で、難燃剤はトルエンには溶解せずに分散していた。
[Example 1]
70 parts by mass of the above polyphenylene ether (1) was prepared, 100 parts by mass of toluene was added as a solvent, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 30 minutes and completely dissolved. 30 parts by mass of “TAIC” manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. as a crosslinkable curing agent and ethylene bis (pentabromophenyl) (Albemarle) as a brominated organic compound as a flame retardant are used for the polyphenylene ether solution thus obtained. 50 parts by mass of “SAYTEX8010 (trade name)” manufactured by Nippon Co., Ltd. and 50 parts by mass of hollow silica having a porosity of about 19% (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) as a filler. Here, the dielectric constant of the hollow silica is 3.0. These were diluted with methyl ethyl ketone to a solid content of 65% to obtain a varnish. Since the above flame retardant is a brominated organic compound that is non-reactive with polyphenylene ether and TAIC, the flame retardant was not dissolved in toluene but dispersed in the varnish as the resin composition.

次に、上記のワニスを基材であるEガラスクロス(IPC No.#3313)に含浸させた後、温度170℃、5分間の条件で加熱乾燥し、溶媒を除去して樹脂含有量55質量%のプリプレグを得た。基材として用いたEガラスクロスの厚みは80μmである。このようにして得られたプリプレグを8枚重ね、その上下両側に厚さ18μmの銅箔(3EC−III、三井金属鉱業(株)製)を重ねた。温度210℃、圧力3.0MPa(30kg/cm)、150分間の成形条件で真空プレスを行い、厚さ0.8mmのプリント配線板用の両面銅張積層板を得た。得られた銅張積層板を用いて、誘電率の評価を行った。 Next, after impregnating the above-mentioned varnish into E glass cloth (IPC No. # 3313) as a base material, it was dried by heating at a temperature of 170 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, and the resin content was 55 mass. % Prepreg was obtained. The thickness of the E glass cloth used as the substrate is 80 μm. Eight prepregs thus obtained were stacked, and 18 μm thick copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was stacked on both upper and lower sides thereof. Vacuum pressing was performed under the molding conditions of a temperature of 210 ° C. and a pressure of 3.0 MPa (30 kg / cm 2 ) for 150 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate for a printed wiring board having a thickness of 0.8 mm. The dielectric constant was evaluated using the obtained copper-clad laminate.

(測定方法)
厚さ0.8mmの銅張積層板の銅箔を除去した試験片を使用し、空洞共振器接摂動法(Agilent 8722ES、アジレントテクノロジー製)にて10GHzの誘電率を測定した。
(Measuring method)
Using a test piece from which the copper foil of the copper clad laminate having a thickness of 0.8 mm was removed, a dielectric constant of 10 GHz was measured by a cavity resonator perturbation method (Agilent 8722ES, manufactured by Agilent Technologies).

[実施例2]
実施例2では、実施例1で用いたポリフェニレンエーテル(1)に代えて、ポリフェニレンエーテル(2)を用いてワニスを作製した。実施例2のワニスの作製方法は実施例1と同様の方法で行った。また、実施例2に用いる充填材として、フッ素樹脂フィラー(DIC社製)を用いた。ここで、フッ素樹脂フィラーの平均粒径は0.6μmであり、誘電率は2.5である。
[Example 2]
In Example 2, it replaced with polyphenylene ether (1) used in Example 1, and produced varnish using polyphenylene ether (2). The method for producing the varnish of Example 2 was performed in the same manner as in Example 1. Moreover, as a filler used in Example 2, a fluororesin filler (manufactured by DIC) was used. Here, the average particle diameter of the fluororesin filler is 0.6 μm, and the dielectric constant is 2.5.

[比較例1]
上記の実施例1及び実施例2の比較例である比較例1では、実施例1の中空シリカ及び実施例2のフッ素樹脂フィラーの代わりに従来の球状合成シリカ(株式会社アドマテックス社製「SC2050(商品名)」)を用いた。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, which is a comparative example of Example 1 and Example 2 above, conventional spherical synthetic silica (“SC2050” manufactured by Admatechs Co., Ltd.) was used instead of the hollow silica of Example 1 and the fluororesin filler of Example 2. (Trade name) ").

表1に実施例1及び実施例2、並びに比較例1の構成及び評価結果を示す。   Table 1 shows configurations and evaluation results of Examples 1 and 2, and Comparative Example 1.

表1に示すように、充填材に従来の球状合成シリカを用いた比較例1に比べて、基材に中空シリカを用いた実施例1及びフッ素樹脂フィラーを用いた実施例2では、より小さいDk値を得られることが確認された。つまり、充填材として誘電率3.5以下のフィラーを用いることで、従来よりも小さいDk値を得られることが確認された。   As shown in Table 1, compared to Comparative Example 1 using conventional spherical synthetic silica as a filler, Example 1 using hollow silica as a base material and Example 2 using a fluororesin filler are smaller. It was confirmed that a Dk value can be obtained. That is, it was confirmed that a Dk value smaller than the conventional one can be obtained by using a filler having a dielectric constant of 3.5 or less as the filler.

続いて、実施例3及び実施例4、並びに比較例2に用いたポリフェニレンエーテル、及びエポキシ化合物について説明する。   Subsequently, the polyphenylene ether and the epoxy compound used in Examples 3 and 4 and Comparative Example 2 will be described.

(ポリフェニレンエーテル(3))
「ポリフェニレンエーテル(3)」として、ポリフェニレンエーテルの末端が水酸基であるポリフェニレンエーテル(SABICイノベーティブプラスチックス社製のSA90)を用いた。「ポリフェニレンエーテル(3)」の数平均分子量は1700である。
(Polyphenylene ether (3))
As the “polyphenylene ether (3)”, polyphenylene ether (SA90 manufactured by SABIC Innovative Plastics) having a hydroxyl group at the end of polyphenylene ether was used. The number average molecular weight of “polyphenylene ether (3)” is 1700.

(エポキシ化合物(1))
エポキシ化合物としては、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物(DIC製「エピクロンHP7200(商品名)」)を用いた。エピクロンHP7200の数平均分子量は550である。
(Epoxy compound (1))
As the epoxy compound, a dicyclopentadiene type epoxy compound (“Epiclon HP7200 (trade name)” manufactured by DIC) was used. Epicron HP7200 has a number average molecular weight of 550.

(エポキシ化合物(2))
エポキシ化合物としては、ナフタレン骨格変性エポキシ樹脂(DIC社製「エピクロンHP4032D(商品名)」)を用いた。エピクロンHP4032Dの数平均分子量は280である。
(Epoxy compound (2))
As the epoxy compound, a naphthalene skeleton-modified epoxy resin (“Epiclon HP4032D (trade name)” manufactured by DIC) was used. Epicron HP4032D has a number average molecular weight of 280.

次に、実施例3及び実施例4、並びに比較例2のプリプレグ及び誘電率の評価サンプルの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the prepreg of Example 3 and Example 4, and the comparative example 2, and the evaluation sample of a dielectric constant is demonstrated.

[実施例3]
上記のポリフェニレンエーテル(3)を30質量部準備し、溶媒としてトルエンを加えて、混合、攪拌して完全に溶解した。このようにして得られたポリフェニレンエーテル溶液に対して、上記のエポキシ化合物(1)を45質量部、及びシアン酸エステル化合物として、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン(三菱ガス化学株式会社製「CA210(商品名)」)を25質量部添加させた後、30分間撹拌して完全に溶解させた。さらに、難燃剤として上記の「SAYTEX8010」を50質量部、及び充填材として空隙率が約19%の中空シリカ(株式会社アドマテックス社製)を50質量部混合し、メチルエチルケトンで固形分65%に希釈しワニスを得た。ここで、中空シリカの誘電率は3.0である。なお、上記の難燃剤は溶解せず、樹脂ワニス中で1μm以上10μm以下の平均粒子径で分散していた。
[Example 3]
30 parts by mass of the above polyphenylene ether (3) was prepared, toluene was added as a solvent, mixed and stirred, and completely dissolved. With respect to the polyphenylene ether solution thus obtained, 45 parts by mass of the above epoxy compound (1) and 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane (Mitsubishi Gas Chemical) as a cyanate ester compound were used. After adding 25 parts by mass of “CA210 (trade name)” manufactured by Co., Ltd., it was stirred for 30 minutes and completely dissolved. Furthermore, 50 parts by mass of the above-mentioned “SAYTEX8010” as a flame retardant and 50 parts by mass of hollow silica (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) having a porosity of about 19% as a filler are mixed, and the solid content is made 65% with methyl ethyl ketone Dilution was performed to obtain a varnish. Here, the dielectric constant of the hollow silica is 3.0. In addition, said flame retardant did not melt | dissolve but was disperse | distributed with the average particle diameter of 1 micrometer or more and 10 micrometers or less in the resin varnish.

次に、上記のワニスを基材であるEガラスクロス(IPC No.#3313)に塗布させた後、温度170℃、5分間の条件で加熱乾燥し、樹脂含有量55質量%のプリプレグを得た。基材として用いたEガラスクロスの厚みは80μmである。このようにして得られたプリプレグを8枚重ね、その上下両側に厚さ18μmの銅箔(3EC−III、三井金属鉱業(株)製)を重ねた。温度210℃、圧力3.0MPa(30kg/cm)、150分間の成形条件で真空プレスを行い、プリント配線板用の両面銅張積層板を得た。次に、得られた厚さ0.8mmの銅張積層板の銅箔を除去した試験片を使用し、空洞共振器摂動法(Agilent 8722ES、アジレントテクノロジー製)にて10GHzの誘電率を測定した。 Next, after applying the above varnish to the E glass cloth (IPC No. # 3313) as a base material, it was dried by heating at a temperature of 170 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg having a resin content of 55% by mass. It was. The thickness of the E glass cloth used as the substrate is 80 μm. Eight prepregs thus obtained were stacked, and 18 μm thick copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was stacked on both upper and lower sides thereof. Vacuum pressing was performed under conditions of a temperature of 210 ° C., a pressure of 3.0 MPa (30 kg / cm 2 ), and 150 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate for a printed wiring board. Next, the dielectric constant of 10 GHz was measured by the cavity resonator perturbation method (Agilent 8722ES, manufactured by Agilent Technologies) using the obtained test piece from which the copper foil of the copper clad laminate having a thickness of 0.8 mm was removed. .

[実施例4]
実施例4では、実施例3で用いたエポキシ化合物(1)に代えて、エポキシ化合物(2)を用いてワニスを作製した。実施例4のワニスの作製方法は実施例3と同様の方法で行った。また、実施例4に用いる充填材として、フッ素樹脂フィラー(DIC社製)を用いた。ここで、フッ素樹脂フィラーの誘電率は2.5である。
[Example 4]
In Example 4, it replaced with the epoxy compound (1) used in Example 3, and produced the varnish using the epoxy compound (2). The production method of the varnish of Example 4 was the same as that of Example 3. Further, as a filler used in Example 4, a fluororesin filler (manufactured by DIC) was used. Here, the dielectric constant of the fluororesin filler is 2.5.

[比較例2]
上記の実施例3及び実施例4の比較例として、比較例2では、実施例3の中空シリカ及び実施例4のフッ素樹脂フィラーの代わりに従来の球状合成シリカ(株式会社アドマテックス社製「SC2050(商品名)」)を用いた。
[Comparative Example 2]
As a comparative example of the above Example 3 and Example 4, in Comparative Example 2, conventional spherical synthetic silica (“SC2050” manufactured by Admatechs Co., Ltd.) was used instead of the hollow silica of Example 3 and the fluororesin filler of Example 4. (Trade name) ").

表2に実施例3及び実施例4、並びに比較例2の構成及び評価結果を示す。   Table 2 shows configurations and evaluation results of Examples 3 and 4, and Comparative Example 2.

表2に示すように、充填材に従来の球状合成シリカを用いた比較例2に比べて、基材に中空シリカを用いた実施例3及びフッ素樹脂フィラーを用いた実施例4では、より小さいDk値を得られることが確認された。つまり、充填材として誘電率3.5以下のフィラーを用いることで、従来よりも小さいDk値を得られることが確認された。   As shown in Table 2, it is smaller in Example 3 using hollow silica as a base material and Example 4 using a fluororesin filler as compared with Comparative Example 2 using conventional spherical synthetic silica as a filler. It was confirmed that a Dk value can be obtained. That is, it was confirmed that a Dk value smaller than the conventional one can be obtained by using a filler having a dielectric constant of 3.5 or less as the filler.

以上のように、本発明の実施例1乃至実施例4に係るプリプレグによると、充填材として誘電率3.5以下のフィラーを用いることで、低Dkを実現することができた。   As described above, according to the prepregs according to Examples 1 to 4 of the present invention, a low Dk could be realized by using a filler having a dielectric constant of 3.5 or less as a filler.

なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

Claims (4)

ポリフェニレンエーテル及び架橋型硬化剤を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物と、
誘電率3.5以下のフィラーと、を含み、
前記ポリフェニレンエーテルは一般式(1)

によって表され、且つ数平均分子量が1000〜7000であり、
前記一般式(1)において、Xはアリール基を示し、(Y)はポリフェニレンエーテル部分を示し、R、R、Rはそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を示し、mは1〜100の整数を示し、nは1〜6の整数を示し、qは1〜4の整数を示すことを特徴とするプリプレグ。
A polyphenylene ether resin composition comprising polyphenylene ether and a cross-linking curing agent;
A filler having a dielectric constant of 3.5 or less,
The polyphenylene ether has the general formula (1)

And the number average molecular weight is 1000 to 7000,
In the general formula (1), X represents an aryl group, (Y) m represents a polyphenylene ether moiety, and R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. M represents an integer of 1 to 100, n represents an integer of 1 to 6, and q represents an integer of 1 to 4.
前記フィラーは、中空フィラー、フッ素樹脂フィラーのうち少なくとも1以上を含むことを特徴とする請求項1に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 1, wherein the filler includes at least one of a hollow filler and a fluororesin filler. 数平均分子量が1000以下で、一分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有し、ハロゲン原子を含有しないエポキシ化合物、数平均分子量5000以下のポリフェニレンエーテル、シアン酸エステル化合物、前記エポキシ化合物及び前記ポリフェニレンエーテルと硬化剤である前記シアン酸エステル化合物との反応を促進させる硬化触媒、及びハロゲン系難燃剤を含有する樹脂ワニスを有するポリフェニレンエーテル樹脂組成物と、
誘電率3.5以下のフィラーと、を含むことを特徴とするプリプレグ。
An epoxy compound having a number average molecular weight of 1000 or less and having at least two epoxy groups in one molecule and containing no halogen atom, a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 5000 or less, a cyanate ester compound, the epoxy compound, and the polyphenylene A polyphenylene ether resin composition having a curing catalyst for promoting the reaction between the ether and the cyanate ester compound as a curing agent, and a resin varnish containing a halogen-based flame retardant;
A prepreg comprising a filler having a dielectric constant of 3.5 or less.
前記フィラーは、中空フィラー、フッ素樹脂フィラーのうち少なくとも1以上を含むことを特徴とする請求項3に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 3, wherein the filler includes at least one of a hollow filler and a fluororesin filler.
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