JP2017074375A - Chamber sterilizing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、チャンバー殺菌装置に関する。より詳しくは、活性酸素を照射して殺菌処理を行うチャンバー殺菌装置及び該装置を用いた殺菌方法に関する。 The present invention relates to a chamber sterilizer. More specifically, the present invention relates to a chamber sterilization apparatus that performs sterilization treatment by irradiating active oxygen and a sterilization method using the apparatus.
一般に、食品や医薬品等の殺菌に用いられる装置は、耐腐食性、耐久性の観点から、ステンレスやアルミ等の金属で構成されているものが多い。 In general, many devices used for sterilization of foods and pharmaceuticals are made of metal such as stainless steel and aluminum from the viewpoint of corrosion resistance and durability.
例えば、特許文献1に記載の食品殺菌装置は、ノズルから噴出された高温高圧蒸気を予め開けた穴に入り込ませて殺菌を行っているが、蒸気噴出に関するノズルはステンレスで構成されている。 For example, the food sterilization apparatus described in Patent Document 1 performs sterilization by inserting high-temperature and high-pressure steam ejected from a nozzle into a previously opened hole, but the nozzle related to the steam ejection is made of stainless steel.
特許文献2では、カップ容器や袋状容器等の容器内に食品が充填・密封された包装食品をマイクロ波により加熱殺菌する際に、パイプから130〜150℃で約3000hPaの加熱加圧空気をステンレス製の外箱内に吹き込んで、内部の包装食品のマイクロ波照射を行っている。 In Patent Document 2, when sterilizing a packaged food in which food is filled and sealed in a container such as a cup container or a bag-like container by microwave, heated pressurized air of about 3000 hPa is applied from a pipe at 130 to 150 ° C. It blows into a stainless steel outer box and microwaves the packaged food inside.
また、特許文献3には、流体中に放電を用いてプラズマ噴流を発生させ、対象物の表面に該プラズマ噴流を接触させることで、プラズマ噴流から表面へのエネルギー伝達によって殺菌(消毒)を行う方法が開示されている。このプラズマ噴流を照射するノズルも金属性である。 Further, in Patent Document 3, a plasma jet is generated in a fluid by using electric discharge, and the plasma jet is brought into contact with the surface of an object, so that sterilization (disinfection) is performed by energy transfer from the plasma jet to the surface. A method is disclosed. The nozzle for irradiating this plasma jet is also metallic.
一般に、スーパーオキシドラジカル(・O2 −)、過酸化水素(H2O2)、ヒドロキシラジカル(HO・)等の活性酸素種(Reactive Oxygen Species、ROS)は、空気中においては主に酸素分子や水分から生成されており、例えば、ヒドロキシラジカルは、水分子にプラズマ電子が反応することにより得られることが知られている。また、これらの活性酸素は、その強い酸化作用により優れた殺菌作用を奏するが、そのメカニズムとしては、表面に存在する細菌を電子反応性に基づいて反応することにより殺菌効果が奏されると考えられている。 In general, reactive oxygen species (ROS) such as superoxide radical (.O 2 − ), hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), and hydroxy radical (HO.) Are mainly oxygen molecules in the air. For example, it is known that hydroxy radicals are obtained by the reaction of plasma electrons with water molecules. In addition, these active oxygens have an excellent bactericidal action due to their strong oxidizing action, but as their mechanism, the bactericidal effect is considered to be achieved by reacting bacteria present on the surface based on electronic reactivity. It has been.
しかしながら、本発明者らが検討した結果、活性酸素による殺菌効果が細菌の存在する表面素材によって変化することが初めて分かった However, as a result of investigations by the present inventors, it has been found for the first time that the bactericidal effect due to active oxygen changes depending on the surface material in which bacteria exist.
本発明の課題は、殺菌効果に優れるチャンバー殺菌装置及び該装置を用いた殺菌方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a chamber sterilization apparatus having an excellent sterilization effect and a sterilization method using the apparatus.
本発明は、下記〔1〕〜〔2〕に関する。
〔1〕 チャンバーと、該チャンバー内に、活性酸素を照射する活性酸素照射ユニット及び殺菌対象物を載置する照射台を含んでなるチャンバー殺菌装置であって、前記照射台が樹脂及び/又は非金属製であることを特徴とする、チャンバー殺菌装置。
〔2〕 活性酸素を照射して殺菌する方法であって、下記工程(A)及び工程(B)を含む殺菌方法。
工程(A):チャンバー内に活性酸素を照射して、環境殺菌を行う工程
工程(B):工程(A)の殺菌を行ったチャンバー内にある樹脂及び/又は非金属製の照射台に載置した殺菌対象物に活性酸素を照射して、本殺菌を行う工程
The present invention relates to the following [1] to [2].
[1] A chamber sterilization apparatus comprising a chamber, an active oxygen irradiation unit that irradiates active oxygen in the chamber, and an irradiation table on which an object to be sterilized is placed. A chamber sterilizer characterized by being made of metal.
[2] A method for sterilization by irradiation with active oxygen, which includes the following step (A) and step (B).
Step (A): Irradiating active oxygen into the chamber to sterilize the environment Step (B): Placed on a resin and / or non-metal irradiation stand in the chamber sterilized in step (A) The process of sterilizing the object to be sterilized by irradiating it with active oxygen
本発明のチャンバー殺菌装置は殺菌効果に優れるという優れた効果を奏する。また、流体による殺菌のため、従来の殺菌に用いられた薬剤等の残留がないことから、工程の簡略化につながり、生産性を格段に向上することができる。 The chamber sterilization apparatus of the present invention has an excellent effect of being excellent in sterilization effect. Moreover, since there is no residue of the chemical | medical agent etc. which were used for the conventional sterilization for fluid sterilization, it leads to simplification of a process and productivity can be improved significantly.
一般に、ステンレスやアルミなどの金属は耐腐食性や耐久性が高いため殺菌装置の構成部材に汎用されている。一方で、活性酸素による殺菌効果はその酸化力に基づくことから、その殺菌効果を最大限に発揮させるために本発明者らが鋭意検討した結果、活性酸素の酸化力を周囲の環境によって損失しないようにすることで殺菌効果の低減が抑制されることを見出した。即ち、本発明のチャンバー殺菌装置においては、少なくとも殺菌対象物を載置する照射台を樹脂及び/又は非金属製とすることにより、照射台そのものの酸化反応を抑制することができることから、照射された活性酸素が酸化力を保持したままより多く反応するためであると推定される。ただし、これらの推測は、本発明を限定するものではない。なお、本発明において、「殺菌」とは、微生物の生体を破壊又は殺菌対象表面から除去することを意味し、例えば、消毒、滅菌、又は除菌することを含むものである。 In general, metals such as stainless steel and aluminum are widely used as components of sterilizers because of their high corrosion resistance and durability. On the other hand, since the bactericidal effect due to active oxygen is based on its oxidizing power, the present inventors have intensively studied to maximize its bactericidal effect, so that the oxidizing power of active oxygen is not lost by the surrounding environment. By doing so, it was found that the reduction of the bactericidal effect was suppressed. That is, in the chamber sterilization apparatus of the present invention, at least the irradiation table on which the object to be sterilized is made of resin and / or nonmetal, so that the oxidation reaction of the irradiation table itself can be suppressed. It is presumed that the active oxygen reacts more while maintaining the oxidizing power. However, these assumptions do not limit the present invention. In the present invention, “sterilization” means that a living organism of microorganisms is destroyed or removed from the surface to be sterilized, and includes, for example, disinfection, sterilization, or sterilization.
本発明における活性酸素としては特に限定はなく、例えば、交流電流を用いてプラズマを発生させ、得られたプラズマを用いて発生させるものが用いられる。 The active oxygen in the present invention is not particularly limited, and, for example, one that generates plasma using an alternating current and generates it using the obtained plasma is used.
以下に、本発明のチャンバー殺菌装置を図1に基づいて詳細に説明する。なお、図1に記載のチャンバー殺菌装置は、本発明の一態様に過ぎず本発明を限定するものではない。 Below, the chamber sterilizer of this invention is demonstrated in detail based on FIG. Note that the chamber sterilization apparatus shown in FIG. 1 is only one aspect of the present invention and does not limit the present invention.
図1に示すように、本発明のチャンバー殺菌装置は、交流電流の供給ユニット1、昇圧ユニット2、ガス供給ユニット3、ノズル4、ノズルの冷却ユニット5、ノズルへの水蒸気供給ユニット6、水蒸気供給ユニットへの水供給ユニット7、殺菌対象物を載置する照射台8の各ユニットとチャンバー9を備えて構成される。 As shown in FIG. 1, the chamber sterilizer of the present invention includes an alternating current supply unit 1, a boost unit 2, a gas supply unit 3, a nozzle 4, a nozzle cooling unit 5, a steam supply unit 6 to the nozzle, and a steam supply. The unit includes a water supply unit 7 for the unit, each unit of an irradiation table 8 on which an object to be sterilized is placed, and a chamber 9.
交流電流の供給ユニット1は、プラズマ放電の荷電発生源である。供給される交流電流としては、特に制限はなく、例えば、周波数が10〜15kHz、電圧が200〜500V程度のものが例示され、公知技術に従って適宜設定することができる。また、交流電流のアンペア数も特に制限はなく、供給装置の仕様によって適宜調整することができ、例えば、11Aの交流電流が用いられる。本発明においては、交流電流の代わりに直流電流を用いることも可能であるが、電圧を調節する観点から、交流電流の方が好ましい。 The alternating current supply unit 1 is a charge generation source of plasma discharge. There is no restriction | limiting in particular as an alternating current supplied, For example, a thing with a frequency of about 10-15 kHz and a voltage of about 200-500V is illustrated, and can be suitably set according to a well-known technique. Further, the amperage of the alternating current is not particularly limited and can be appropriately adjusted according to the specifications of the supply device. For example, an alternating current of 11 A is used. In the present invention, a direct current can be used instead of an alternating current, but an alternating current is preferred from the viewpoint of adjusting the voltage.
昇圧ユニット2は、交流電流の供給ユニット1と接続しており、ユニット1から供給された交流電流の電圧を昇圧する装置である。昇圧可能な装置であれば特に問題なく使用できる。また、ユニット1と一体化したものであってもよい。昇圧後の電圧としては、特に制限はなく、例えば、10〜30kV程度である。 The boosting unit 2 is connected to the alternating current supply unit 1 and is a device that boosts the voltage of the alternating current supplied from the unit 1. Any device capable of boosting can be used without any particular problem. Further, it may be integrated with the unit 1. There is no restriction | limiting in particular as a voltage after a pressure | voltage rise, For example, it is about 10-30 kV.
ガス供給ユニット3は、ノズル4及び水蒸気供給ユニット6のそれぞれへ各種ガスを供給する装置であり、公知のガス供給装置を用いることができる。 The gas supply unit 3 is a device that supplies various gases to the nozzle 4 and the water vapor supply unit 6, and a known gas supply device can be used.
具体的には、ノズル4へは、プラズマ発生のためのキャリアガスを供給する。キャリアガスとしては、空気、酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、及びこれらの混合物を用いることができ、なかでも、空気と酸素の2種類を用いることが好ましい。キャリアガスの供給量は、ノズル4の大きさ、形状等によって一概には設定されない。例えば、空気を6L/minで、酸素を3L/minで供給する態様が例示される。 Specifically, a carrier gas for generating plasma is supplied to the nozzle 4. As the carrier gas, air, oxygen, nitrogen, argon, helium, and a mixture thereof can be used, and it is preferable to use two kinds of air and oxygen. The supply amount of the carrier gas is not set unconditionally depending on the size, shape, etc. of the nozzle 4. For example, the aspect which supplies air at 6 L / min and oxygen at 3 L / min is illustrated.
また、水蒸気供給ユニット6へは、プラズマから活性酸素を生成する際に必要な水蒸気と混合するための空気を供給する。水蒸気に空気を混合して含水気体として用いることで、プラズマと水蒸気との混合が促進され、効率よく水蒸気からヒドロキシラジカルを生成することができる。水蒸気供給ユニット6への空気供給量はノズル4への含水気体供給量と同じであり、例えば、3L/minで供給する態様が例示される。なお、ここでの空気とは、相対湿度が20℃において0〜10体積%程度のもののことを言う。 In addition, air for mixing with water vapor necessary for generating active oxygen from plasma is supplied to the water vapor supply unit 6. By mixing air with water vapor and using it as a water-containing gas, mixing of plasma and water vapor is promoted, and hydroxy radicals can be efficiently generated from water vapor. The amount of air supplied to the water vapor supply unit 6 is the same as the amount of water-containing gas supplied to the nozzle 4, and for example, an aspect of supplying at 3 L / min is exemplified. The air here refers to air having a relative humidity of about 0 to 10% by volume at 20 ° C.
ノズル4は、プラズマを発生して活性酸素を照射する装置であり、活性酸素照射ユニットともいう。装置には、内部電極及び外部電極が設けられており、両電極間に昇圧ユニット2からの昇圧された電圧をかけることで電界を発生させることが可能になる。また、内部電極にはコイルが接続されていてもよく、より大きな電界を形成することが可能となる。コイルの形状や大きさ等は当業者の技術常識に従って調整することができる。 The nozzle 4 is a device that generates plasma and irradiates active oxygen, and is also referred to as an active oxygen irradiation unit. The device is provided with an internal electrode and an external electrode, and an electric field can be generated by applying a boosted voltage from the boosting unit 2 between both electrodes. Further, a coil may be connected to the internal electrode, and a larger electric field can be formed. The shape, size, etc. of the coil can be adjusted according to the common general technical knowledge of those skilled in the art.
また、装置には、ガス供給口及び活性酸素照射口が設けられており、ガス供給口は活性酸素照射口が存在する端部とは反対側の端部に存在する。そして、ガス供給口にはガス供給ユニット3からの配管が接続されており、前記のようにして発生させた電界内をキャリアガスが通り抜けることで、プラズマが生成される。このようにして生成されたプラズマは、流体でもあることからプラズマ噴流と記載することもある。一方、活性酸素照射口は、管状構造又は出口に向かって先細になる円錐構造を有するものであって、出口に至るまでの何れかの部分に水蒸気供給ユニット6から含水気体を供給するための配管が接続されており、前記生成されたプラズマと反応して活性酸素が生成され、活性酸素照射口の出口から照射されることになる。 In addition, the apparatus is provided with a gas supply port and an active oxygen irradiation port, and the gas supply port exists at an end opposite to the end where the active oxygen irradiation port exists. A pipe from the gas supply unit 3 is connected to the gas supply port, and plasma is generated when the carrier gas passes through the electric field generated as described above. Since the plasma generated in this way is also a fluid, it may be described as a plasma jet. On the other hand, the active oxygen irradiation port has a tubular structure or a conical structure that tapers toward the outlet, and is a pipe for supplying the water-containing gas from the water vapor supply unit 6 to any part up to the outlet. Are connected, and reacts with the generated plasma to generate active oxygen, which is irradiated from the outlet of the active oxygen irradiation port.
ノズル4は、前記パーツを有するのであればその形状や大きさは特に限定されず、例えば、筒状構造の上端部にガス供給口が配置され、下端部に当該装置の径より小さい径を有する管状構造の活性酸素照射口が配置された構造が例示される。当該筒状構造は層状構造を形成していてもよく、例えば、キャリアガスが通り抜ける管の周囲に、コイルが形成され、必要により、該コイルの周囲に絶縁材料の層が更に形成される構造が例示される。管は通電素材であれば特に限定はなく、当該技術分野において公知のものを用いることができる。また、絶縁材料も特に限定はなく、当該技術分野において公知のものを用いることができる。 The shape and size of the nozzle 4 are not particularly limited as long as the nozzle 4 has the above-described parts. For example, a gas supply port is disposed at the upper end of the cylindrical structure, and the lower end has a diameter smaller than the diameter of the device. A structure in which an active oxygen irradiation port having a tubular structure is arranged is exemplified. The cylindrical structure may form a layered structure. For example, a structure in which a coil is formed around a tube through which a carrier gas passes and, if necessary, a layer of an insulating material is further formed around the coil. Illustrated. The tube is not particularly limited as long as it is a current-carrying material, and those known in the technical field can be used. The insulating material is not particularly limited, and those known in the technical field can be used.
ノズルの冷却ユニット5は、ノズル4に冷却水を供給する装置であり、公知の冷却水供給装置を用いることができる。ノズル4は高電圧がかかることによって発熱するため、冷却することが好ましい。冷却水は、温度が例えば5℃程度のものを用いることが好ましく、ノズル4と冷却ユニット5の間を循環させてもよい。冷却水の流量は、ノズル4の表面温度が25℃以下となるように適宜調整することができる。なお、ノズル4の表面温度は接触式温度計を用いて測定することができる。 The nozzle cooling unit 5 is a device that supplies cooling water to the nozzle 4, and a known cooling water supply device can be used. Since the nozzle 4 generates heat when a high voltage is applied, it is preferably cooled. The cooling water preferably has a temperature of about 5 ° C., for example, and may be circulated between the nozzle 4 and the cooling unit 5. The flow rate of the cooling water can be appropriately adjusted so that the surface temperature of the nozzle 4 is 25 ° C. or less. The surface temperature of the nozzle 4 can be measured using a contact thermometer.
ノズルへの水蒸気供給ユニット6は、ノズル4に含水気体を供給する装置であり、前記したようにノズル4の活性酸素照射口に接続されている。含水気体を供給するにあたっては、先ず、水供給ユニット7から供給された水を内蔵された電熱線により加熱して水蒸気を生成し、その後、ガス供給ユニット3から供給された空気と混合したものを、含水気体としてノズル4に供給している。ここで、水供給ユニット7は水蒸気供給ユニット6と一体化したものであってもよい。電熱線の加熱温度は供給される水の量によって適宜調整することができ、例えば、300℃が例示される。また、水供給ユニット7から供給される水の量は、活性酸素の生成に必要な水蒸気量に応じて調節することが可能であるが、本発明においては、活性酸素含有気体に飽和水蒸気量以上の水分を含有させる観点から、0.5mL/min以上が好ましく、1.0mL/min以上がより好ましい。また、上限は特に設定されないが、6mL/min以下が好ましく、5mL/min以下がより好ましい。かくして得られた水蒸気をガス供給ユニット3から供給された空気と体積比(水蒸気/空気)で0.2〜2.5程度で混合して、ノズル4の活性酸素照射口に供給する。水蒸気と空気の混合体積比は、例えば、上記した水の供給量を変動させることで変更することが可能であり、水供給量を増加すると含水気体に含ませる水蒸気量を増加させることが可能となる。ノズル4において生成されるプラズマ噴流と水蒸気供給ユニット6から供給される含水気体の混合体積比〔プラズマ噴流/含水気体〕としては、0.8〜2.6が例示される。 The water vapor supply unit 6 to the nozzle is a device that supplies water-containing gas to the nozzle 4 and is connected to the active oxygen irradiation port of the nozzle 4 as described above. In supplying the water-containing gas, first, the water supplied from the water supply unit 7 is heated by a built-in heating wire to generate water vapor, and then mixed with the air supplied from the gas supply unit 3. The gas is supplied to the nozzle 4 as a water-containing gas. Here, the water supply unit 7 may be integrated with the water vapor supply unit 6. The heating temperature of the heating wire can be appropriately adjusted according to the amount of water supplied, and for example, 300 ° C. is exemplified. Further, the amount of water supplied from the water supply unit 7 can be adjusted according to the amount of water vapor necessary for the production of active oxygen, but in the present invention, the active oxygen-containing gas has a saturated water vapor amount or more. From a viewpoint of containing the water | moisture content of 0.5 mL / min or more is preferable and 1.0 mL / min or more is more preferable. Moreover, although an upper limit is not set in particular, 6 mL / min or less is preferable and 5 mL / min or less is more preferable. The water vapor thus obtained is mixed with the air supplied from the gas supply unit 3 at a volume ratio (water vapor / air) of about 0.2 to 2.5 and supplied to the active oxygen irradiation port of the nozzle 4. The mixing volume ratio of water vapor and air can be changed, for example, by changing the amount of water supply described above, and the amount of water vapor included in the water-containing gas can be increased by increasing the water supply amount. Become. Examples of the mixing volume ratio of the plasma jet generated in the nozzle 4 and the water-containing gas supplied from the water vapor supply unit 6 [plasma jet / water-containing gas] include 0.8 to 2.6.
本発明では、殺菌対象物を載置する照射台8が樹脂及び/又は非金属製であることに特徴を有する。ここで、照射台が樹脂及び/又は非金属製であるとは、照射台全体が樹脂又は非金属、あるいは樹脂と非金属で構成されているだけでなく、照射台の一部が樹脂又は非金属、あるいは樹脂と非金属で構成されている場合や照射台の表面が樹脂又は非金属、あるいは樹脂と非金属で被覆されているような場合も含むものとする。樹脂としては、公知の樹脂であれば特に限定はないが、例えば、オゾン耐性を有する樹脂が好ましい。具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン−プロピレン共重合体等のオレフィン系樹脂;エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、アイオノマー樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル(ランダム、交互)共重合体等のエチレンをモノマー成分とする共重合体;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;アクリル系樹脂;ポリ塩化ビニル(PVC);ポリウレタン;ポリカーボネート;ポリフェニレンスルフィド(PPS);ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)等のアミド系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン(PEEK);ポリイミド;ポリエーテルイミド;ポリ塩化ビニリデン;ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体);セルロース系樹脂;シリコーン樹脂;フッ素樹脂などを用いることができる。また、非金属としては、セラミックス等が挙げられる。本発明においては、前記樹脂及び非金属が他のユニットにおいて使用されていてもよく、なかでも、ノズル4が樹脂及び/又は非金属製の部品を有することが好ましい。 The present invention is characterized in that the irradiation table 8 on which the object to be sterilized is made of resin and / or nonmetal. Here, the irradiation table is made of resin and / or non-metal means that the entire irradiation table is not only made of resin or non-metal, or resin and non-metal, but part of the irradiation table is made of resin or non-metal. The case where it is comprised with a metal or resin and nonmetal, and the case where the surface of an irradiation stand is coat | covered with resin or nonmetal, or resin and nonmetal shall also be included. The resin is not particularly limited as long as it is a known resin. For example, a resin having ozone resistance is preferable. Specifically, olefin resins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and ethylene-propylene copolymer; ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ionomer resin, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer Copolymers, copolymers containing ethylene as a monomer component such as ethylene- (meth) acrylic acid ester (random, alternating) copolymers; polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate (PBT), etc. Acrylic resin; Polyvinyl chloride (PVC); Polyurethane; Polycarbonate; Polyphenylene sulfide (PPS); Amide resin such as polyamide (nylon) and wholly aromatic polyamide (aramid); Polyetheretherketone (PEEK); Polyimi ; Polyetherimides; polyvinylidene chloride; ABS (acrylonitrile - butadiene - styrene copolymer); cellulosic resins; silicone resins; and fluorine resin can be used. Moreover, ceramics etc. are mentioned as a nonmetal. In the present invention, the resin and nonmetal may be used in other units, and it is particularly preferable that the nozzle 4 has a resin and / or nonmetal part.
照射台の温度は、殺菌対象物を載置できれば特に限定はないが、ヒドロキシラジカルを高温により分解しない観点から、当該対象物を常温(40℃)以下に載置できることが好ましい。 The temperature of the irradiation table is not particularly limited as long as an object to be sterilized can be placed, but it is preferable that the object can be placed at room temperature (40 ° C.) or less from the viewpoint of not decomposing hydroxy radicals at a high temperature.
チャンバー9は、前記ユニットのうち少なくともノズル4と照射台8を内部に含む態様であればよく、その大きさ及び構造は殺菌対象物によって適宜設定することができる。また、チャンバーの構成部材は、照射台と同様に全部又は一部が樹脂及び/又は非金属製であることが、ヒドロキシラジカルとの反応による酸化力損失の観点から好ましい。チャンバー内の温度は特に設定されず、例えば、2〜40℃である。 The chamber 9 should just be an aspect which contains the nozzle 4 and the irradiation stand 8 in the inside among the said units, The magnitude | size and structure can be suitably set with the sterilization target object. Moreover, it is preferable from a viewpoint of the oxidative power loss by reaction with a hydroxyl radical that the structural member of a chamber is resin and / or a non-metal like the irradiation stand. The temperature in the chamber is not particularly set, and is, for example, 2 to 40 ° C.
なお、本発明のチャンバー殺菌装置は前記ユニット以外に、他のユニットを更に有するものであってもよい。他のユニットとしては、活性酸素の拡散を防止する遮蔽壁等が例示される。 In addition, the chamber sterilizer of this invention may have another unit other than the said unit. Examples of the other unit include a shielding wall that prevents the diffusion of active oxygen.
かくして、本発明のチャンバー殺菌装置から、活性酸素が樹脂及び/又は非金属製の照射台に向けて照射される。活性酸素は、樹脂及び/又は非金属製の照射台に向けて照射されるため、酸化力の損失が少なくなり、優れた殺菌活性を有するものである。また、活性酸素が流体であることから、三次元的な構造のものでも殺菌することが可能であり、エッジや角に残渣が残らないという優れた効果を奏するものである。 Thus, the active oxygen is irradiated from the chamber sterilization apparatus of the present invention toward the irradiation stand made of resin and / or nonmetal. Since the active oxygen is irradiated toward the irradiation stand made of resin and / or nonmetal, the loss of oxidative power is reduced and it has excellent bactericidal activity. Further, since active oxygen is a fluid, even a three-dimensional structure can be sterilized, and an excellent effect is obtained that no residue remains on the edges and corners.
照射される活性酸素は、ノズル4内での放電や水蒸気供給ユニット6からの含水気体によって温かいものであり、温度は50〜80℃程度である。これにより、照射された対象物の熱負荷は小さいものと考えられる。なお、活性酸素の温度とは、活性酸素照射口の出口における活性酸素の温度を熱電対温度計を用いて測定した温度のことである。 The active oxygen to be irradiated is warm due to the discharge in the nozzle 4 or the water-containing gas from the water vapor supply unit 6, and the temperature is about 50 to 80 ° C. Thereby, it is thought that the thermal load of the irradiated target object is small. In addition, the temperature of active oxygen is the temperature which measured the temperature of the active oxygen in the exit of an active oxygen irradiation port using the thermocouple thermometer.
また、活性酸素と殺菌対象物表面との温度差は、ラジカルの反応性を高める観点から、例えば、10℃以上が好ましく、25〜40℃がより好ましい。ここで、殺菌対象物表面の温度とは、殺菌対象物を接触式温度計にて測定した温度のことである。 In addition, the temperature difference between the active oxygen and the surface of the sterilization target is preferably 10 ° C. or higher, and more preferably 25 to 40 ° C., from the viewpoint of increasing radical reactivity. Here, the temperature of the surface of the sterilization object is a temperature obtained by measuring the sterilization object with a contact thermometer.
照射スピードは、ガスの供給量及び活性酸素照射口の形状によって調節することが可能であり、例えば、50000mm/secが例示される。照射時間は、対象物によって一概には設定されず、例えば、0.05〜1秒が例示される。 The irradiation speed can be adjusted according to the gas supply amount and the shape of the active oxygen irradiation port, and for example, 50000 mm / sec is exemplified. Irradiation time is not set unambiguously depending on the object, and is, for example, 0.05 to 1 second.
また、活性酸素照射口と殺菌対象物表面との距離は、例えば、5〜50mmが好ましい。 In addition, the distance between the active oxygen irradiation port and the surface of the sterilization target is preferably, for example, 5 to 50 mm.
本発明のチャンバー殺菌装置は、殺菌を要する対象物に活性酸素を照射するために使用される。対象物としては、例えば、飲食品の容器、容器の口部を封鎖するキャップ、医療器具、野菜や肉などの飲食品等が例示される。 The chamber sterilization apparatus of the present invention is used to irradiate an object requiring sterilization with active oxygen. Examples of the object include a container for food and drink, a cap for sealing the mouth of the container, a medical instrument, food and drink such as vegetables and meat, and the like.
本発明はまた、活性酸素を照射して殺菌を行う殺菌方法を提供する。ここで、活性酸素としては特に限定はなく、例えば、交流電流を用いてプラズマを発生させ、得られたプラズマを用いて発生させるものが用いられる。具体的な殺菌方法としては、下記工程(A)及び工程(B)を含む殺菌方法が挙げられる。
工程(A):チャンバー内に活性酸素を照射して、環境殺菌を行う工程
工程(B):工程(A)の殺菌を行ったチャンバー内にある樹脂及び/又は非金属製の照射台に載置した殺菌対象物に活性酸素を照射して、本殺菌を行う工程
The present invention also provides a sterilization method for sterilization by irradiation with active oxygen. Here, there is no limitation in particular as active oxygen, For example, what generate | occur | produces using the plasma obtained by generating plasma using an alternating current is used. As a specific sterilization method, a sterilization method including the following step (A) and step (B) may be mentioned.
Step (A): Irradiating active oxygen into the chamber to sterilize the environment Step (B): Placed on a resin and / or non-metal irradiation stand in the chamber sterilized in step (A) The process of sterilizing the object to be sterilized by irradiating it with active oxygen
工程(A)では、チャンバー内に活性酸素を照射して、目的とする対象物の殺菌前に、チャンバー内の環境殺菌を行う。環境殺菌とは環境の洗浄のことであり、本発明では活性酸素を用いることから、リンスオフの必要がなく、工程の簡略化につながり、生産性を向上することができる。 In the step (A), the chamber is irradiated with active oxygen to sterilize the environment in the chamber before the target object is sterilized. Environmental sterilization is cleaning of the environment. Since active oxygen is used in the present invention, there is no need for rinsing off, leading to simplification of the process and improving productivity.
工程(B)では、工程(A)の環境殺菌を行ったチャンバー内に、殺菌対象物を照射台に載置して殺菌を行う。殺菌装置の仕様や使用方法などは、本発明のチャンバー殺菌装置の項に記載の通りである。 In the step (B), the object to be sterilized is placed on the irradiation table in the chamber in which the environmental sterilization in the step (A) is performed, and sterilization is performed. The specifications and method of use of the sterilizer are as described in the section of the chamber sterilizer of the present invention.
また、本発明では、工程(A)の前に、環境殺菌の効果をより高める観点から、更に工程(A’)を含む態様も好ましい。
工程(A’):チャンバー内をアルカリで洗浄する工程
Moreover, in this invention, the aspect which contains a process (A ') further from a viewpoint of improving the effect of environmental sterilization before a process (A) is also preferable.
Step (A ′): Step of cleaning the inside of the chamber with alkali
工程(A’)では、チャンバー内をアルカリで洗浄することにより有機物が除去される。アルカリとしてはNaOHを好適に用いることができる。工程(A’)と工程(A)を行うことにより、環境殺菌がより効果的になる。 In the step (A ′), organic substances are removed by washing the inside of the chamber with alkali. NaOH can be preferably used as the alkali. By performing the step (A ') and the step (A), environmental sterilization becomes more effective.
本発明の殺菌方法を実施するに際しては、本発明のチャンバー殺菌装置を用いる態様が好ましい。 In carrying out the sterilization method of the present invention, an embodiment using the chamber sterilization apparatus of the present invention is preferable.
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.
試験例1
本発明のチャンバー殺菌装置における照射台の素材の影響を検討した。具体的には、樹脂キャップ(素材ポリエチレン)の内面に菌付けした場合を照射台が樹脂製とし、キャンプ内面にアルミ箔を被覆した上に菌付けした場合を照射台が金属製として比較検討を行った。
Test example 1
The influence of the material of the irradiation stand in the chamber sterilizer of the present invention was examined. Specifically, if the irradiation table is made of resin when the inner surface of the resin cap (polyethylene) is sterilized, and the irradiating table is made of metal when the camp surface is coated with aluminum foil, a comparative study will be conducted. went.
<菌液の調製及び菌付けキャップ作製>
芽胞菌Bacillus atrophaeusの菌液を用いて、各種濃度(2×103〜2×108CFU/mL濃度範囲において3水準)の菌液を調製した。得られた菌液を図3に示すように1個あたり1μL×9spotで菌付けを行った(各濃度n=5)。なお、菌付けした樹脂キャップは24時間滅菌シャーレ内に静置して乾燥したものを用いた。
<Preparation of bacterial solution and production of cap with bacteria>
Using a bacterial solution of the spore bacterium Bacillus atrophaeus, a bacterial solution having various concentrations (3 levels in a concentration range of 2 × 10 3 to 2 × 10 8 CFU / mL) was prepared. As shown in FIG. 3, the obtained bacterial solution was affixed at 1 μL × 9 spots per cell (each concentration n = 5). In addition, the resin cap with which bacteria were attached used what was left still in a sterilization petri dish for 24 hours and dried.
<活性酸素の照射>
図1に示す本発明の殺菌装置を用いて、樹脂キャップの上方30mmの距離から活性酸素を1個あたり0.2秒間照射し、照射後のキャップは滅菌シャーレに回収した。なお、本発明の殺菌装置の使用条件は次の通りである。キャップの表面温度(照射台表面温度)は25℃、チャンバー9内温度は28℃であった。
(殺菌装置の使用条件)
交流電流の供給ユニット1:周波数14kHz、電圧300V、電流11A
昇圧ユニット2:昇圧後の電圧20kV
ガス供給ユニット3:空気供給量6L/min、酸素供給量3L/min(以上、ノズル4へ)、空気供給量3L/min(水蒸気供給ユニット6へ)
ノズル4:活性酸素照射温度51℃、照射スピード50000mm/sec
冷却ユニット5:冷却水5℃
水蒸気供給ユニット6:電熱線300℃、含水気体供給量4.5L/min(プラズマ噴流/含水気体供給量(体積比)=9/4.5)
水供給ユニット7:水供給量1.2mL/min
<Irradiation of active oxygen>
Using the sterilization apparatus of the present invention shown in FIG. 1, active oxygen was irradiated for 0.2 seconds per piece from a distance of 30 mm above the resin cap, and the irradiated cap was collected in a sterile petri dish. In addition, the use conditions of the sterilizer of this invention are as follows. The surface temperature of the cap (irradiation table surface temperature) was 25 ° C., and the temperature in the chamber 9 was 28 ° C.
(Conditions for using sterilizer)
AC current supply unit 1: frequency 14 kHz, voltage 300 V, current 11 A
Boosting unit 2: Voltage after boosting 20 kV
Gas supply unit 3: Air supply amount 6 L / min, oxygen supply amount 3 L / min (above, to nozzle 4), air supply amount 3 L / min (to water vapor supply unit 6)
Nozzle 4: Active oxygen irradiation temperature 51 ° C., irradiation speed 50000 mm / sec
Cooling unit 5: Cooling water 5 ° C
Water vapor supply unit 6: heating wire 300 ° C., water-containing gas supply amount 4.5 L / min (plasma jet / water-containing gas supply amount (volume ratio) = 9 / 4.5)
Water supply unit 7: Water supply amount 1.2 mL / min
<殺菌活性値の測定>
活性酸素照射を行った樹脂キャップを滅菌シャーレから取出し、5mLのTSA液体培地(BD Falcon社製)を注入し、微生物の増殖に好適な35℃で3日間培養した。培養後、微生物増殖により培地が濁ったキャップ個数を陽性としてカウントし、最確数法(MPN法)により殺菌活性値LRV(Log Reduction Value)を算出した。結果を表1に示す。なお、殺菌活性を示す「D」値とは、キャップ1個当たりの菌数を常用対数で表し(LOG値)、処理前の菌数(LOG値)から処理後の菌数(LOG値)を減算した値のことであり、数が大きい程殺菌活性が高いことを示す。
<Measurement of bactericidal activity value>
The resin cap subjected to active oxygen irradiation was taken out from the sterile petri dish, 5 mL of TSA liquid medium (manufactured by BD Falcon) was injected, and cultured at 35 ° C. suitable for the growth of microorganisms for 3 days. After culturing, the number of caps in which the medium became cloudy due to microbial growth was counted as positive, and the bactericidal activity value LRV (Log Reduction Value) was calculated by the most probable number method (MPN method). The results are shown in Table 1. The “D” value indicating bactericidal activity represents the number of bacteria per cap as a common logarithm (LOG value), and the number of bacteria after treatment (LOG value) from the number of bacteria before treatment (LOG value). It is a value obtained by subtracting, and the greater the number, the higher the bactericidal activity.
表1より、キャップ内面の素材が樹脂製の場合に殺菌作用が向上することが分かる。これより、照射台が樹脂又は非金属製であれば殺菌作用が向上することが示唆される。 From Table 1, it can be seen that the bactericidal action is improved when the material of the inner surface of the cap is made of resin. This suggests that the sterilization effect is improved if the irradiation table is made of resin or nonmetal.
本発明のチャンバー殺菌装置は、優れた殺菌活性を示すものであり、例えば、飲食品の容器、容器の口部を封鎖するキャップ、医療器具、野菜や肉などの飲食品等の殺菌に好適に用いられる。 The chamber sterilization apparatus of the present invention exhibits excellent sterilization activity, and is suitable for sterilization of food and beverage products such as containers for foods and beverages, caps that seal the mouths of containers, medical instruments, vegetables and meat, etc. Used.
1 交流電流の供給ユニット
2 昇圧ユニット
3 ガス供給ユニット
4 ノズル
5 冷却ユニット
6 水蒸気供給ユニット
7 水供給ユニット
8 照射台
9 チャンバー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Supply unit of alternating current 2 Boosting unit 3 Gas supply unit 4 Nozzle 5 Cooling unit 6 Water vapor supply unit 7 Water supply unit 8 Irradiation stand 9 Chamber
Claims (7)
工程(A):チャンバー内に活性酸素を照射して、環境殺菌を行う工程
工程(B):工程(A)の殺菌を行ったチャンバー内にある樹脂及び/又は非金属製の照射台に載置した殺菌対象物に活性酸素を照射して、本殺菌を行う工程 A method for sterilization by irradiation with active oxygen, which includes the following step (A) and step (B).
Step (A): Irradiating active oxygen into the chamber to sterilize the environment Step (B): Placed on a resin and / or non-metal irradiation stand in the chamber sterilized in step (A) The process of sterilizing the object to be sterilized by irradiating it with active oxygen
工程(A’):チャンバー内をアルカリで洗浄する工程 The sterilization method according to claim 4, further comprising a step (A ') before the step (A).
Step (A ′): Step of cleaning the inside of the chamber with alkali
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