JP2017070980A - 溶接トーチ、溶接装置、及び、溶接製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1に記載の溶接装置は、筒状に形成された電極の内側からシールドガスをワークに向けて噴射しつつ、電極とワークとの間にアーク放電を発生させ、ワークの溶接を行うものである。
これにより、第2発明は、第1発明と同様に、ワークに対する溶接の深溶け込みを可能とする。
これにより、噴射工程で供給通路から噴射供給されたシールドガスは、吸引工程で吸引通路に吸引される。そのため、ワークと電極との間に形成されるアークプラズマの形状が狭小化する。したがって、ワークの溶接箇所でアークプラズマが高密度化するので、ワークに溶接を深く溶け込ませることができる。
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態を図1から図10に示す。第1実施形態の溶接装置1は、金属からなる2つのワーク2,3の接続箇所4をアーク溶接によって接合するものである。
図1に示すように、溶接装置1は、基台5、設置部6、電源部7、ガス供給源8、ガス排出機構9および溶接トーチ10などを備えている。
ワーク2,3は、基台5に設けられた設置部6に設置される。基台5には、溶接トーチ10を支持する支持部11が設けられている。溶接トーチ10は、その溶接トーチ10が備える電極12が、2つのワーク2,3を溶接する箇所に向くように設けられている。設置部6または支持部11の駆動により、ワーク2,3と溶接トーチ10とは、2つのワーク2,3の接続箇所4が延びる方向に相対移動可能である。これにより、溶接トーチ10により2つのワーク2,3の接続箇所4を溶接する際、その溶接が行われる箇所は、2つのワーク2,3の接続箇所4が延びる方向に移動する。
ガス供給源8は、溶接トーチ10が備える供給通路のパイプ接続口51にパイプ13を通じて、アルゴンガスからなるシールドガスを供給する。
ガス排出機構9は、例えばコンプレッサであり、溶接トーチ10が備える気体通路のエアパイプ接続口63にパイプ14を通じて空気を供給する。
制御部15は、マイクロコンピュータなどから構成されている。制御部15は、ワーク2,3と溶接トーチ10との相対移動速度、または、電源部7から電極12とワーク2,3に供給される電力など、溶接装置1の各部を制御する。
図2に示すように、溶接トーチ10は、ノズル本体20、ガイド部材30、電極把持部40、電極12、供給通路50、吸引通路60、気体通路61およびオリフィス62等を備えている。この溶接トーチ10が備えるノズル本体20、ガイド部材30および電極把持部40などの各部品は、例えば金属3Dプリンタにより形成することが可能である。金属3Dプリンタは、平らに敷いた微細な金属粉末にレーザーを照射して一層ずつ焼結させ、この工程を繰り返すことで3次元造形する粉末焼結法により、例えば内側に湾曲した空間を有するような種々の形状の部品を形成可能である。
また、ガイド部材30は、大径部33から径方向外側に延びる第1フランジ部34および第2フランジ部35を有する。ガイド部材30の第1フランジ部34と、ノズル本体20の基端部23とは、ボルト36により固定されている。
ガイド部材30は、その中央に電極12を通す孔37を有する。ガイド部材30は、電極12の外周を囲み、電極12の位置決めを行うものである。
電極12は、例えばタングステンにより棒状に形成されている。電極12は、電極把持部40に把持されると共に、ガイド部材30の中央の孔37を通り、ノズル本体20の先端部21に露出している。
なお、図3では、この溶接トーチ10を用いてワーク2,3の溶接を行う際、ワーク2,3に対し溶接トーチ10が相対移動する方向を矢印Aで示している。以下の説明では、この方向を相対移動方向Aと称する。
2個の噴射口52は、相対移動方向Aに並び、且つ、電極12を挟んで対称となる位置に設けられている。また、他の2個の噴射口52は、相対移動方向Aと直交する方向に並び、且つ、電極12を挟んで対称となる位置に設けられている。
また、図2及び図6に示すように、ノズル本体20の基端部23には、気体通路61が設けられている。気体通路61は、一方の側にエアパイプ接続口63を有し、他方の側66が大気開放されている。エアパイプ接続口63には、ガス排出機構9としてのコンプレッサからパイプ14を通じて空気が供給される。これにより、図6の矢印Hに示すように、気体通路61には、所定圧の空気が流れる。
本実施形態では、相対移動方向Aに直交する方向におけるシールドガスの吸引力が、相対移動方向Aにおけるシールドガスの吸引力より大きいので、図4及び図8の矢印71に示すようにシールドガスは相対移動方向Aに直交する方向に比較的大きく圧縮され、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状となる。そのため、アークプラズマ70の形状も、相対移動方向Aに直交する方向に圧縮されて高密度化し、相対移動方向Aに延びた略楕円形状となる。したがって、本実施形態の溶接装置1は、ワーク2,3に対する母材溶融部73の深溶け込みが可能となる。また、ワーク2,3のひずみを抑制できる。
ここで、図9の溶接箇所において、電極12がワーク2,3に対して相対移動する方向の前側から順に母材昇温部72、母材溶融部73、母材冷却部74とする。この場合、本実施形態の溶接トーチ10を用いた溶接では、比較例の溶接トーチ100を用いた溶接よりも、母材溶融部73の長さが長くなるので、ワーク2,3に溶接を深く溶け込ませることができる。
この製造方法は、ワーク設置工程S1、トーチ設置工程S2、噴射工程S3、吸引工程S4および溶接工程S5などを含んでいる。なお、この製造方法において、ワーク設置工程S1とトーチ設置工程S2とは、順番を逆にしてもよく、同時に行ってもよい。また、この製造方法において、噴射工程S3と吸引工程S4と溶接工程S5とは、同時に行うものである。
トーチ設置工程S2では、ワーク2,3の溶接箇所に電極12が向くように溶接トーチ10を設置する。
続いて、噴射工程S3では、溶接トーチ10が備えるノズル本体20に設けられた供給通路50から、ノズル本体20の先端部21とワーク2,3との間の空間におけるノズル本体20の中心軸O側へ向けてシールドガスを噴射供給する(図4及び図5参照)。
そして、溶接工程S5では、電極12からワーク2,3にアーク放電しつつ、ワーク2,3と電極12とを相対移動する。これにより、2つのワーク2,3の接続箇所4は、相対移動方向Aに順に溶接接合される。
(1)第1実施形態の溶接トーチ10が備える吸引通路60は、相対移動方向Aに直交する方向の流路断面の最小幅Fが、相対移動方向Aの流路断面の最小幅Gより大きい。そのため、ワーク2,3と電極12との間に形成されるアークプラズマ70の形状は、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状となる。したがって、ワーク2,3の溶接箇所でアークプラズマ70が高密度化するので、ワーク2,3に溶接を深く溶け込ませることができる。
これにより、例えば円柱状の電極12を使用した場合、相対移動方向Aに直交する方向の流路断面の最小幅Fを、相対移動方向Aの流路断面の最小幅Gより大きくすることができる。
これにより、ノズル本体20の先端部21とワーク2,3との間の空間から吸引口65へ吸い込まれるシールドガスの流速を速くすることが可能である。したがって、アークプラズマ70の形状を狭小化することができる。
これにより、気体通路61に気体を流すことにより、オリフィス62が負圧となり、吸引通路60から気体通路61にシールドガスが排出される。そのため、ガス排出機構9として、例えば真空ポンプなどを用いることなく、コンプレッサのみを用いることで、吸引通路60からシールドガスを排出することが可能になる。したがって、この溶接トーチ10は、吸引通路60および気体通路61の内径を小さくすることが可能であるので、その体格を小型化することができる。また、この溶接トーチ10を備えた溶接装置1も、その体格を小型化することができる。
これにより、吸引通路60からオリフィス62へ流れるシールドガスの流体抵抗が低減する。そのため、吸引通路60からオリフィス62を通り気体通路61へ排出されるシールドガスの流量を増やすことが可能である。したがって、ノズル本体20の先端部21とワーク2,3との間の空間から吸引通路60へ吸い込まれるシールドガスの流速を速くすることができる。
これにより、ノズル本体20の内壁の形状とガイド部材30の外壁の形状により、吸引通路60およびオリフィス62の形状を容易に形成することが可能である。
これにより、供給通路50は、ワーク2,3と電極12との間に形成されるアークプラズマ70に向けてシールドガスを噴射供給することが可能である。そのため、アークプラズマ70の形状を狭小化することができる。
これにより、供給通路50を流れるシールドガスの流体抵抗を低減することが可能である。したがって、供給通路50から噴射されるアークプラズマ70の圧力を高め、アークプラズマ70の形状を狭小化することができる。
これにより、アークプラズマ70の形状を周方向に亘り狭小化することができる。
これにより、この溶接装置1は、ワーク2,3に溶接を深く溶け込ませることができる。なお、従来レーザー溶接装置で行っていた溶接作業に代えて、この溶接装置1を使用して溶接作業を行うことも可能である。それにより、溶接設備を小型化すると共に、溶接作業に使用する電源設備のコストを低減することができる。
これにより、ワーク2,3と電極12との間に形成されるアークプラズマ70の形状が狭小化する。したがって、ワーク2,3の溶接箇所でアークプラズマ70が高密度化するので、ワーク2,3に溶接を深く溶け込ませることができる。
これにより、アークプラズマ70の形状を、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状にすることができる。
本発明の第2実施形態を図11に示す。なお、以下に説明する複数の実施形態において、上述した第1実施形態と実質的に同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
第2実施形態では、吸引通路60の吸引口65は円形である。即ち、図11において、B=Cである。また、第2実施形態では、電極12は、軸方向から見た形状が、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状である。これにより、吸引通路60は、相対移動方向Aに直交する方向の流路断面の最小幅が、相対移動方向Aの流路断面の最小幅より大きいものとなる。そのため、相対移動方向Aに直交する方向におけるシールドガスの吸引力は、相対移動方向Aにおけるシールドガスの吸引力より大きくなる。したがって、ワーク2,3と電極12との間に形成されるアークプラズマ70の形状は、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状となる。よって、第2実施形態においても、上述した第1実施形態と同一の作用効果を奏することができる。
本発明の第3実施形態を図12に示す。第3実施形態では、供給通路50の噴射口52が、ノズル本体20の周方向に6個均等間隔で設けられている。
また、第3実施形態では、吸引通路60の吸引口65は、相対移動方向Aに長軸を有する略楕円形状である。即ち、図12において、B=Cである。電極12は、軸方向から見た形状が円形である。そのため、吸引通路60は、相対移動方向Aに直交する方向の流路断面の最小幅が、相対移動方向Aの流路断面の最小幅より大きいものとなる。そのため、相対移動方向Aに直交する方向におけるシールドガスの吸引力は、相対移動方向Aにおけるシールドガスの吸引力より大きくなる。よって、第3実施形態においても、上述した第1、第2実施形態と同一の作用効果を奏することができる。
本発明の第4実施形態を図13および図14に示す。第4実施形態では、吸引通路60の吸引口65は円形である。また、電極12は、軸方向から見た形状が円形である。即ち、図13において、B=Cである。そのため、吸引通路60は、相対移動方向Aに直交する方向の流路断面の最小幅と、相対移動方向Aの流路断面の最小幅とが略同一となる。したがって、相対移動方向Aに直交する方向におけるシールドガスの吸引力と、相対移動方向Aにおけるシールドガスの吸引力とは全周に亘り略同一となる。
第4実施形態では、図14の矢印71に示すように、シールドガスは周方向に均一に圧縮され、略円柱状ものとなる。そのため、アークプラズマ70の形状も、周方向に均一に圧縮されて狭小化した、比較的直径が小さい略円柱状のものとなる。したがって、ワーク2,3の溶接箇所でアークプラズマ70が高密度化するので、ワーク2,3に溶接を深く溶け込ませることができる。
本発明の第5実施形態を図15に示す。第5実施形態では、供給通路50の噴射口521が、ノズル本体20の周方向に連続してリング状に設けられている。この第5実施形態においても、上述した第1−4実施形態と同一の作用効果を奏することができる。
本発明の第6実施形態を図16に示す。第6実施形態では、供給通路50の噴射口52は、ノズル本体20の周方向に設けられた4個の小噴射口52と、その4個の小供給口よりも径方向外側の位置で、ノズル本体20の周方向に連続してリング状に設けられたリング供給口521とを有する。この第6実施形態においても、上述した第1−5実施形態と同一の作用効果を奏することができる。
本発明の第7実施形態を図17に示す。図17は、第1実施形態における図7と同一箇所の断面図である。第7実施形態では、吸引通路60のテーパ流路64と気体通路61とを連通するオリフィス62は、周方向に連続して設けられている。この構成によっても、気体通路61に気体が流れると、オリフィス62が負圧になり、吸引通路60を通じてノズル本体20の先端部21側からシールドガスが吸引される。
この第7実施形態においても、上述した第1−6実施形態と同一の作用効果を奏することができる。
(1)上述した実施形態では、供給通路50の噴射口52を均等間隔に4個または6個設けるか、または噴射口521をリング状とした。これに対し、他の実施形態では、ワーク2,3を溶接する際に発生する溶接ヒュームの圧力に応じて、供給通路50の噴射口52,521の形状、位置、大きさなどを設定してもよい。
このように、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、上述した複数の実施形態を組み合わせることに加え、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
12・・・電極
20・・・ノズル本体
21・・・先端部
50・・・供給通路
60・・・吸引通路
Claims (15)
- ワーク(2,3)に対しアーク溶接を行う溶接トーチにおいて、
筒状のノズル本体(20)と、
前記ノズル本体の内側を通り、前記ノズル本体の先端部(21)に露出する電極(12)と、
前記ノズル本体に設けられ、前記ノズル本体の前記先端部側へシールドガスを噴射供給する供給通路(50)と、
前記ノズル本体において前記供給通路より径方向内側、且つ、前記電極の周囲に設けられ、前記ノズル本体の前記先端部側からシールドガスを吸引する吸引通路(60)と、を備え、
前記吸引通路は、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向(A)に直交する方向の流路断面の最小幅(F)が、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向の流路断面の最小幅(G)と同一又はそれより大きいものとした溶接トーチ。 - 前記ノズル本体の前記先端部に設けられた前記吸引通路の吸引口(65)は、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向に直交する方向の内壁間の距離(B)が、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向の内壁間の距離(C)よりも長い形状である請求項1に記載の溶接トーチ。
- 前記ノズル本体の前記先端部に設けられた前記吸引通路の吸引口の断面積(D)は、その吸引口よりも前記ノズル本体の奥側に位置する前記吸引通路の流路断面積(E)よりも小さいものである請求項1または2に記載の溶接トーチ。
- 気体が流れる気体通路(61)と、
前記吸引通路と前記気体通路とが連通する箇所に設けられたオリフィス(62)と、をさらに備える請求項1から3のいずれか一項に記載の溶接トーチ。 - 前記吸引通路は、前記オリフィスに向かい流路断面積が徐々に小さくなるテーパ流路(64)を有する請求項4に記載の溶接トーチ。
- 前記電極の周囲に設けられたガイド部材(30)をさらに備え、
前記吸引通路および前記オリフィスは、前記ノズル本体の内壁と前記ガイド部材の外壁の間に形成されたものである請求項4または5に記載の溶接トーチ。 - 前記供給通路は、前記ノズル本体の基端部(23)側から前記先端部側に向かい前記ノズル本体の中心軸(O)側へ傾斜している請求項1から6のいずれか一項に記載の溶接トーチ。
- 前記供給通路は、前記ノズル本体の基端部側から前記先端部側に向かい、流路断面積が次第に小さくなっている請求項1から7のいずれか一項に記載の溶接トーチ。
- 前記供給通路は、前記ノズル本体の基端部側から前記先端部側に亘り、径外方向へ凸の円弧状に湾曲している請求項1から8のいずれか一項に記載の溶接トーチ。
- 前記ノズル本体の前記先端部に設けられた前記供給通路の噴射口(52)は、前記ノズル本体の周方向に複数個設けられるものである請求項1から9のいずれか一項に記載の溶接トーチ。
- 前記ノズル本体の前記先端部に設けられた前記供給通路の噴射口(521)は、前記ノズル本体の周方向に連続してリング状に設けられるものである請求項1から9のいずれか一項に記載の溶接トーチ。
- 前記ノズル本体の前記先端部に設けられた前記供給通路の噴射口は、
前記ノズル本体の周方向に設けられた複数の小噴射口(52)と、
複数の前記小噴射口よりも径方向外側の位置で、前記ノズル本体の周方向に連続してリング状に設けられたリング噴射口(521)と、を有するものである請求項1から9のいずれか一項に記載の溶接トーチ。 - ワークに対しアーク溶接を行う溶接装置において、
前記ワークを設置する設置部(6)と、
前記ワークの溶接箇所に電極が向くように設置される請求項1から12のいずれか一項に記載の溶接トーチと、
前記溶接トーチが備える前記電極に電力を供給する電源部(7)と、
前記溶接トーチが備える供給通路にシールドガスを供給するガス供給源(8)と、
前記溶接トーチが備える吸引通路を負圧にして前記吸引通路からシールドガスを排出するガス排出機構(9)と、を備えた溶接装置。 - ワークを溶接装置の設置部に設置するワーク設置工程(S1)と、
前記溶接装置に溶接トーチを設置するトーチ設置工程(S2)と、
前記溶接トーチが備えるノズル本体に設けられた供給通路から、前記ノズル本体の先端部と前記ワークとの間の空間における前記ノズル本体の中心軸側へ向けてシールドガスを噴射供給する噴射工程(S3)と、
前記ノズル本体において前記供給通路より径方向内側、且つ、前記電極の周囲に設けられた吸引通路により、前記ノズル本体の先端部側からシールドガスを吸引する吸引工程(S4)と、
前記電極から前記ワークにアーク放電しつつ、前記ワークと前記電極とを相対移動する溶接工程(S5)と、を含む溶接製品の製造方法。 - 前記吸引工程では、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向に直交する方向におけるシールドガスの吸引力が、前記ワークと前記電極とが相対移動する方向におけるシールドガスの吸引力より大きいものである請求項14に記載の溶接製品の製造方法。
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