JP2017070882A - Washer - Google Patents

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慎二 藤井
Shinji Fujii
慎二 藤井
高橋 裕一
Yuichi Takahashi
裕一 高橋
崇文 山崎
Takafumi Yamazaki
崇文 山崎
勇哉 佐竹
Yuya Satake
勇哉 佐竹
聡彦 見上
Satohiko Kenjo
聡彦 見上
俊郎 佐伯
Toshiro Saeki
俊郎 佐伯
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Miura Co Ltd
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Miura Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a washer which jets a liquid to an entire washed object and prevents washing failure by simple structure and control.SOLUTION: A liquid storage part 4 is connected to a lower part of a washing tank 2 for housing a washed object. A washing nozzle 3 is rotatably held by a support member 12 arranged in the washing tank 2, and has a nozzle hole for jetting a liquid supplied through the support member 12. Circulation means 8 circulates and supplies the liquid in the liquid storage part 4 to the support member 12 of the washing nozzle 3. The washing nozzle 3 is formed of a hollow member of which a longitudinal center part is held by the support member 12 rotatably around an axis along a vertical direction, and has a nozzle hole for jetting the liquid in directions except for the vertical direction. A flow speed of the liquid jetted from the nozzle hole is changed by changing a circulation flow rate by the circulation means 8 during circulation by the circulation means 8.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、被洗浄物に液体を噴射して洗浄する洗浄器に関するものである。   The present invention relates to a cleaning device that performs cleaning by jetting a liquid onto an object to be cleaned.

従来、下記特許文献1に開示されるように、チャンバ(3)内にスプレー・アーム(8)を回転自在に設け、そのスプレー・アーム(8)のノズルから被洗浄物に液体を噴射して、被洗浄物の洗浄や消毒を図る洗浄器が知られている。この装置では、スプレー・アーム(8)から噴射された液体は、チャンバ(3)下部の収集スペース(10)に集められ、循環ポンプ(12)により循環パイプ(16)を介してスプレー・アーム(8)へ循環供給される。また、出願人は、この種の洗浄器に関連して、各種発明について特許出願済である(特願2015−137448など)。   Conventionally, as disclosed in Patent Document 1 below, a spray arm (8) is rotatably provided in a chamber (3), and a liquid is ejected from a nozzle of the spray arm (8) onto an object to be cleaned. A cleaning device for cleaning or disinfecting an object to be cleaned is known. In this apparatus, the liquid ejected from the spray arm (8) is collected in a collection space (10) below the chamber (3), and is sprayed by the circulation pump (12) via the circulation pipe (16) ( It is circulated and supplied to 8). In addition, the applicant has applied for patents for various inventions related to this type of cleaning device (Japanese Patent Application No. 2015-137448, etc.).

この種の洗浄器では、洗浄ノズル(スプレー・アーム)のノズル孔から液体を噴射して被洗浄物を洗浄する。但し、ノズル孔の形成個数には限界があるため、噴射液が当たらない箇所が生じて、洗浄不良を起こすおそれがある。   In this type of washer, liquid is ejected from a nozzle hole of a washing nozzle (spray arm) to wash an object to be washed. However, since there is a limit to the number of nozzle holes formed, there is a possibility that a location where the spray liquid does not hit occurs, resulting in poor cleaning.

特許第4886847号公報Japanese Patent No. 48868847

本発明が解決しようとする課題は、簡易な構成および制御で、被洗浄物の全体に液体を噴射して、洗浄不良を防止できる洗浄器を提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a cleaning device capable of preventing defective cleaning by ejecting liquid over the entire object to be cleaned with a simple configuration and control.

本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、請求項1に記載の発明は、被洗浄物が収容される洗浄槽と、この洗浄槽内に設けられる支持部材に回転可能に保持され、前記支持部材を介して供給される液体を噴射させるノズル孔が形成された洗浄ノズルと、前記洗浄槽内の下部に連接された液貯留部と、この液貯留部の液体を前記洗浄ノズルの支持部材へ循環供給する循環手段とを備え、前記洗浄ノズルは、鉛直方向へ沿う軸まわりに回転可能に、長手方向中央部が前記支持部材に保持され、鉛直方向以外に液体を噴射させる前記ノズル孔を有する中空部材から形成され、前記循環手段による循環中、前記循環手段による循環流量を変更することを特徴とする洗浄器である。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the invention according to claim 1 is rotatably held by a cleaning tank in which an object to be cleaned is accommodated and a support member provided in the cleaning tank. A cleaning nozzle formed with a nozzle hole for injecting the liquid supplied through the support member, a liquid reservoir connected to a lower portion in the cleaning tank, and the liquid in the liquid reservoir is the cleaning nozzle The cleaning nozzle is rotatable around an axis along the vertical direction, the longitudinal central portion is held by the support member, and the liquid is ejected in a direction other than the vertical direction. The washer is formed of a hollow member having a nozzle hole, and the circulation flow rate by the circulation means is changed during circulation by the circulation means.

請求項1に記載の発明によれば、循環手段による循環中、洗浄ノズルから鉛直方向以外に液体を噴射させつつ、循環手段による循環流量を変更して、洗浄ノズルから噴射する液体の流速を変えることができる。これにより、洗浄ノズルからの液体が被洗浄物に当たるポイントをずらすことができる。言い換えれば、洗浄ノズルからの噴射液を多様な箇所に当てることができ、洗浄ムラを防止することができる。   According to the first aspect of the invention, during the circulation by the circulation means, the flow rate of the liquid ejected from the cleaning nozzle is changed by changing the circulation flow rate by the circulation means while ejecting the liquid from the washing nozzle in a direction other than the vertical direction. be able to. Thereby, the point where the liquid from the cleaning nozzle hits the object to be cleaned can be shifted. In other words, the spray liquid from the cleaning nozzle can be applied to various places, and cleaning unevenness can be prevented.

請求項2に記載の発明は、前記洗浄ノズルの長手方向中央部を境に、前記洗浄ノズルの長手方向一方には、長手方向外端部と幅方向一端部とに、ノズル孔付きの傾斜面が形成される一方、前記洗浄ノズルの長手方向他方には、長手方向外端部と幅方向他端部とに、ノズル孔付きの傾斜面が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の洗浄器である。   According to a second aspect of the present invention, there is an inclined surface with a nozzle hole at one end in the longitudinal direction of the cleaning nozzle and at one end in the longitudinal direction and one end in the width direction, with the central portion in the longitudinal direction of the cleaning nozzle as a boundary. The inclined surface with nozzle holes is formed on the other longitudinal end of the cleaning nozzle at the outer end in the longitudinal direction and the other end in the width direction. It is a washing machine of description.

請求項2に記載の発明によれば、洗浄ノズルの長手方向外端部と幅方向片端部とに、ノズル孔付きの傾斜面を形成して、簡易な構成で、洗浄ノズルから鉛直方向以外に液体を噴射することができる。   According to the second aspect of the present invention, an inclined surface with a nozzle hole is formed on the outer end in the longitudinal direction and one end in the width direction of the cleaning nozzle, and the cleaning nozzle is arranged in a direction other than the vertical direction with a simple configuration. Liquid can be jetted.

請求項3に記載の発明は、前記循環手段による循環流量の変更は、前記液貯留部から前記洗浄ノズルの支持部材への循環配管に設けた循環ポンプの電源周波数ひいては回転数を、インバータを用いて変更することで行い、前記循環ポンプの作動中、設定タイミングで前記循環ポンプの周波数を変更することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄器である。   According to a third aspect of the present invention, the circulation flow rate is changed by the circulation means by using an inverter with the power supply frequency of the circulation pump provided in the circulation pipe from the liquid storage part to the support member of the cleaning nozzle, and the rotation speed. The cleaning device according to claim 1 or 2, wherein the frequency of the circulation pump is changed at a set timing during the operation of the circulation pump.

請求項3に記載の発明によれば、循環ポンプをインバータ制御して、設定タイミングで循環ポンプの周波数を変更することで、循環手段による循環流量を変更することができる。循環流量を変更することで、洗浄ノズルから噴射される液体の流速、ひいては被洗浄物に当たるポイントをずらすことができ、洗浄ムラを防止することができる。   According to the third aspect of the present invention, the circulation flow rate by the circulation means can be changed by inverter-controlling the circulation pump and changing the frequency of the circulation pump at the set timing. By changing the circulation flow rate, it is possible to shift the flow rate of the liquid ejected from the cleaning nozzle, and hence the point hitting the object to be cleaned, and to prevent uneven cleaning.

さらに、請求項4に記載の発明は、前記循環ポンプは、第一周波数での第一設定時間の運転と、第二周波数での第二設定時間の運転とを交互に繰り返すことを特徴とする請求項3に記載の洗浄器である。   Furthermore, the invention according to claim 4 is characterized in that the circulating pump alternately repeats the operation for the first set time at the first frequency and the operation for the second set time at the second frequency. The cleaning device according to claim 3.

請求項4に記載の発明によれば、簡易な構成および制御で、洗浄ノズルから噴射される液体の流速、ひいては被洗浄物に当たるポイントをずらすことができ、洗浄ムラを防止することができる。   According to the fourth aspect of the present invention, with a simple configuration and control, the flow rate of the liquid ejected from the cleaning nozzle, and hence the point hitting the object to be cleaned can be shifted, and cleaning unevenness can be prevented.

本発明の洗浄器によれば、簡易な構成および制御で、被洗浄物の全体に液体を噴射して、洗浄不良を防止することができる。   According to the cleaning device of the present invention, it is possible to prevent poor cleaning by ejecting liquid over the entire object to be cleaned with a simple configuration and control.

本発明の一実施例の洗浄器を示す概略図であり、一部を断面にして示している。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic which shows the washing | cleaning device of one Example of this invention, and shows one part in cross section. 図1の洗浄器の洗浄ノズルの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the washing | cleaning nozzle of the washing | cleaning device of FIG. 図2の洗浄ノズルの一端部を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the one end part of the washing nozzle of FIG.

以下、本発明の具体的実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、特に明示して区別する場合を除き、「洗浄」には、文字通りの洗浄の他、濯ぎや除染が含まれてもよい。なお、「洗浄」は汚れを除去することであり、汚れは有害もしくは不要な物であり、血液等の有機物、無機物、洗浄剤、微生物等が含まれる。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that “cleaning” may include rinsing and decontamination in addition to literal cleaning unless otherwise specified. “Washing” means removing dirt, which is harmful or unnecessary, and includes organic substances such as blood, inorganic substances, cleaning agents, microorganisms, and the like.

図1は、本発明の一実施例の洗浄器を示す概略図であり、一部を断面にして示している。本実施例の洗浄器1は、器具除染用洗浄器として利用できるものである。   FIG. 1 is a schematic view showing a cleaning device according to an embodiment of the present invention, and a part thereof is shown in cross section. The cleaning device 1 of this embodiment can be used as a cleaning device for instrument decontamination.

本実施例の洗浄器1は、被洗浄物が収容される洗浄槽2と、この洗浄槽2内の被洗浄物へ液体を噴射する洗浄ノズル3と、洗浄槽2内の下部に連接された液貯留部4と、この液貯留部4への給水手段5と、液貯留部4からの排水手段6と、給水手段5により給水された水への薬液供給手段7と、液貯留部4の液体を洗浄ノズル3へ循環供給する循環手段8と、洗浄槽2内へ空気を送り込む送風機9と、液貯留部4内の貯留水を加熱する第一ヒータ10と、送風機9による洗浄槽2内への空気を加熱する第二ヒータ11と、前記各手段5〜8ならびに送風機9および各ヒータ10,11を制御する制御手段(図示省略)とを備える。   The cleaning device 1 of this embodiment is connected to a cleaning tank 2 in which an object to be cleaned is accommodated, a cleaning nozzle 3 for injecting a liquid to the object to be cleaned in the cleaning tank 2, and a lower part in the cleaning tank 2. The liquid storage unit 4, the water supply unit 5 to the liquid storage unit 4, the drainage unit 6 from the liquid storage unit 4, the chemical solution supply unit 7 to the water supplied by the water supply unit 5, and the liquid storage unit 4 Circulating means 8 for circulating and supplying liquid to the cleaning nozzle 3, a blower 9 for sending air into the cleaning tank 2, a first heater 10 for heating the stored water in the liquid storage unit 4, and the inside of the cleaning tank 2 by the blower 9 And a control means (not shown) for controlling the blowers 9 and the heaters 10 and 11.

被洗浄物は、特に問わないが、たとえば鉗子などの医療器具である。洗浄槽2内には、上下複数段に洗浄ノズル3が設けられるが、被洗浄物は上下の洗浄ノズル3間に配置される。この際、洗浄槽2内に上下複数段に設けられる網棚(図示省略)に、被洗浄物が載せられる。なお、被洗浄物は、所望によりバスケットなどに収容されていてもよい。   The object to be cleaned is not particularly limited, but is a medical instrument such as forceps. In the cleaning tank 2, cleaning nozzles 3 are provided in a plurality of upper and lower stages, and an object to be cleaned is disposed between the upper and lower cleaning nozzles 3. At this time, an object to be cleaned is placed on a net shelf (not shown) provided in the upper and lower stages in the cleaning tank 2. The object to be cleaned may be accommodated in a basket or the like as desired.

洗浄槽2は、被洗浄物が収容される中空容器である。洗浄槽2は、本実施例では略矩形の中空ボックス状である。洗浄槽2は、ドア(図示省略)により開閉可能とされる。ドアを開けることで、洗浄槽2に対し被洗浄物を出し入れすることができる。ドアは、洗浄槽2の正面に設けられるが、洗浄槽2の正面および背面の双方に設けられてもよい。   The cleaning tank 2 is a hollow container that accommodates an object to be cleaned. In the present embodiment, the cleaning tank 2 has a substantially rectangular hollow box shape. The cleaning tank 2 can be opened and closed by a door (not shown). The object to be cleaned can be taken in and out of the cleaning tank 2 by opening the door. The door is provided on the front surface of the cleaning tank 2, but may be provided on both the front surface and the back surface of the cleaning tank 2.

洗浄ノズル3は、洗浄槽2内に、上下複数段に設けられる。本実施例では、洗浄槽2の一側部に、上下複数段にアーム状の支持部材12の基端部が保持され、各支持部材12は、洗浄槽2の一側部から左右方向中央部へ向けて延出する。そして、その延出先端部に、洗浄ノズル3の長手方向中央部が鉛直軸まわりに回転自在に保持される。洗浄ノズル3は、支持部材12内を介して供給される流体(液体や空気)を噴射させるノズル孔(図示省略)を複数形成されている。支持部材12を介して洗浄ノズル3内に流体が供給されると、その流体は洗浄ノズル3のノズル孔から噴射される。この噴流により、洗浄ノズル3は、支持部材12の端部の軸受部まわりに回転する。言い換えれば、洗浄ノズル3は、ノズル孔からの噴流で回転するように、ノズル孔が形成されている。この際あるいはこれとは別に、基本的には、洗浄ノズル3の上方および下方へ向けて流体を噴射するように、ノズル孔が形成されている。但し、洗浄槽2内の上端部に設けられる洗浄ノズル3は、下方へのみ流体を噴射し、洗浄槽2内の下端部に設けられる洗浄ノズル3は、上方へのみ流体を噴射するようにしてもよい。   The cleaning nozzle 3 is provided in the cleaning tank 2 in multiple upper and lower stages. In the present embodiment, the base end portion of the arm-shaped support member 12 is held on one side of the cleaning tank 2 in a plurality of upper and lower stages, and each support member 12 extends from one side of the cleaning tank 2 to the center in the left-right direction. Extend towards. And the longitudinal direction center part of the washing nozzle 3 is hold | maintained at the extended front-end | tip part so that rotation around a vertical axis is possible. The cleaning nozzle 3 is formed with a plurality of nozzle holes (not shown) for injecting fluid (liquid or air) supplied through the support member 12. When a fluid is supplied into the cleaning nozzle 3 through the support member 12, the fluid is ejected from the nozzle hole of the cleaning nozzle 3. With this jet, the cleaning nozzle 3 rotates around the bearing portion at the end of the support member 12. In other words, the nozzle hole is formed in the cleaning nozzle 3 so as to rotate by the jet flow from the nozzle hole. At this time or separately, the nozzle hole is basically formed so as to inject fluid upward and downward of the cleaning nozzle 3. However, the cleaning nozzle 3 provided at the upper end of the cleaning tank 2 ejects fluid only downward, and the cleaning nozzle 3 provided at the lower end of the cleaning tank 2 ejects fluid upward only. Also good.

洗浄ノズル3は、細長い中空部材から形成され、前述したとおり、鉛直方向へ沿う軸まわりに回転可能に(つまり水平方向に回転可能に)、長手方向中央部が支持部材12に保持される。そして、洗浄ノズル3は、鉛直方向以外に(つまり真上および真下以外に)流体を噴射可能に、複数のノズル孔が形成されている。この際、洗浄ノズル3には、長手方向外端部から長手方向外側の斜め上方および/または斜め下方へ向けて流体を噴射させたり、幅方向外端部から幅方向外側の斜め上方および/または斜め下方へ向けて流体を噴射させたりするのがよい。以下、より具体的に説明する。   The washing nozzle 3 is formed of an elongated hollow member, and as described above, the central portion in the longitudinal direction is held by the support member 12 so as to be rotatable around an axis along the vertical direction (that is, rotatable in the horizontal direction). The cleaning nozzle 3 is formed with a plurality of nozzle holes so that fluid can be ejected in directions other than the vertical direction (that is, directly above and below). At this time, the cleaning nozzle 3 is made to inject fluid from the outer end in the longitudinal direction diagonally upward and / or diagonally downward in the longitudinal direction, or obliquely upward and / or laterally outward from the widthwise outer end. It is preferable to eject the fluid obliquely downward. More specific description will be given below.

図2は、本実施例の洗浄ノズル3を示す概略図であり、図3は、その洗浄ノズル3の一端部を示す概略斜視図である。本実施例の洗浄ノズル3は、両端部が閉塞された筒材から形成される。この筒材の断面は、略楕円状などでもよいが、本実施例では略矩形状とされる。この際、図3に示すように、略矩形断面の長辺が水平に配置され、短辺が鉛直に配置される。そして、鉛直方向以外に流体を噴射させるために、洗浄ノズル3の長手方向両端部と幅方向両端部とに傾斜面3a〜3dが形成され、所定の傾斜面にノズル孔3eが形成される。   FIG. 2 is a schematic view showing the cleaning nozzle 3 of the present embodiment, and FIG. 3 is a schematic perspective view showing one end portion of the cleaning nozzle 3. The cleaning nozzle 3 of the present embodiment is formed from a cylindrical material whose both ends are closed. The cross section of the cylindrical member may be substantially elliptical, but is substantially rectangular in this embodiment. At this time, as shown in FIG. 3, the long sides of the substantially rectangular cross section are arranged horizontally, and the short sides are arranged vertically. And in order to inject a fluid other than a perpendicular direction, inclined surface 3a-3d is formed in the longitudinal direction both ends and the width direction both ends of the washing nozzle 3, and the nozzle hole 3e is formed in a predetermined inclined surface.

具体的には、図3に示すように、洗浄ノズル3の長手方向両端部には、上下二つの傾斜面3a,3bが形成される。つまり、洗浄ノズル3の長手方向両端部には、長手方向外側へ行くに従って上下方向内側へ傾斜する傾斜面3a,3bが形成される。これにより、洗浄ノズル3の長手方向両端部には、上部に、長手方向外方且つ斜め上方へ向けた上方傾斜面3aが形成され、下部に、長手方向外方且つ斜め下方へ向けた下方傾斜面3bが形成される。なお、洗浄ノズル3の幅方向に沿う鉛直面に対する各傾斜面3a,3bの傾斜角度は、典型的には同一とされる。そして、この上方傾斜面3aと下方傾斜面3bとには、それぞれ一または複数のノズル孔3eが形成される。各ノズル孔3eは、各傾斜面3a,3bに対して垂直に開けられている。図示例では、ノズル孔3eは、幅方向中央部に一つ形成されるが、適宜の箇所に複数形成されてもよい。   Specifically, as shown in FIG. 3, two upper and lower inclined surfaces 3 a and 3 b are formed at both ends in the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3. That is, inclined surfaces 3a and 3b are formed at both ends in the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3 so as to be inclined inward in the vertical direction as going outward in the longitudinal direction. As a result, the upper inclined surfaces 3a are formed at the upper ends of the cleaning nozzles 3 in the longitudinal direction outwardly and obliquely upward at the upper portion, and downwardly inclined downward in the longitudinal direction and obliquely downward at the lower portion. Surface 3b is formed. The inclination angles of the inclined surfaces 3a and 3b with respect to the vertical surface along the width direction of the cleaning nozzle 3 are typically the same. Then, one or a plurality of nozzle holes 3e are formed in the upper inclined surface 3a and the lower inclined surface 3b, respectively. Each nozzle hole 3e is opened perpendicularly to each inclined surface 3a, 3b. In the illustrated example, one nozzle hole 3e is formed at the central portion in the width direction, but a plurality of nozzle holes 3e may be formed at appropriate locations.

また、洗浄ノズル3の幅方向両端部には、上下二つの傾斜面3c,3dが形成される。つまり、洗浄ノズル3の幅方向両端部には、幅方向外側へ行くに従って上下方向内側へ傾斜する傾斜面3c,3dが形成される。これにより、洗浄ノズル3の幅方向両端部には、上部に、幅方向外方且つ斜め上方へ向けた上方傾斜面3cが形成され、下部に、幅方向外方且つ斜め下方へ向けた下方傾斜面3dが形成される。なお、洗浄ノズル3の長手方向に沿う鉛直面に対する各傾斜面3c,3dの傾斜角度は、典型的には同一とされる。そして、この上方傾斜面3cと下方傾斜面3dとには、それぞれ一または複数のノズル孔3eが形成される。各ノズル孔3eは、各傾斜面3c,3dに対して垂直に開けられている。図示例では、ノズル孔3eは、洗浄ノズル3の長手方向に等間隔に離隔して、複数形成されている。この際、ノズル孔3eからの流体の噴射により洗浄ノズル3を回転させるために、洗浄ノズル3の長手方向中央部を境に、洗浄ノズル3の長手方向一方には、洗浄ノズル3の幅方向一側部にのみノズル孔3eが形成され、洗浄ノズル3の長手方向他方には、洗浄ノズル3の幅方向他側部にのみノズル孔3eが形成される。たとえば、洗浄ノズル3が左右方向へ沿って配置されている状態で、洗浄ノズル3の左半分の前壁(図2において手前側の側壁)にノズル孔3eが形成される一方、洗浄ノズル3の右半分の後壁(図2において奥側の側壁)にノズル孔3eが形成される。このようにして、洗浄ノズル3の幅方向両端部の傾斜面3c,3dの内、片端部にのみノズル孔3eを形成したが、ノズル孔3eが形成されない側には、傾斜面を形成せずに鉛直面のままとしてもよい。   In addition, two upper and lower inclined surfaces 3 c and 3 d are formed at both ends in the width direction of the cleaning nozzle 3. That is, inclined surfaces 3c and 3d that are inclined inward in the vertical direction as going outward in the width direction are formed at both ends in the width direction of the cleaning nozzle 3. Thus, an upper inclined surface 3c is formed at the upper end of the cleaning nozzle 3 in the width direction, outward in the width direction and obliquely upward, and is inclined downward in the width direction and obliquely downward at the lower portion. A surface 3d is formed. The inclination angles of the inclined surfaces 3c and 3d with respect to the vertical surface along the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3 are typically the same. One or a plurality of nozzle holes 3e are formed in the upper inclined surface 3c and the lower inclined surface 3d, respectively. Each nozzle hole 3e is opened perpendicularly to each inclined surface 3c, 3d. In the illustrated example, a plurality of nozzle holes 3 e are formed at regular intervals in the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3. At this time, in order to rotate the cleaning nozzle 3 by ejecting the fluid from the nozzle hole 3e, the width of the cleaning nozzle 3 is equal to one side in the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3 with respect to the central portion in the longitudinal direction of the cleaning nozzle 3. The nozzle hole 3e is formed only on the side, and the nozzle hole 3e is formed only on the other side in the width direction of the cleaning nozzle 3 on the other longitudinal side of the cleaning nozzle 3. For example, in the state where the cleaning nozzle 3 is arranged in the left-right direction, the nozzle hole 3e is formed in the front wall (the side wall on the near side in FIG. 2) of the left half of the cleaning nozzle 3, while the cleaning nozzle 3 A nozzle hole 3e is formed in the rear wall of the right half (the back side wall in FIG. 2). In this way, the nozzle hole 3e is formed only at one end of the inclined surfaces 3c and 3d at both ends in the width direction of the cleaning nozzle 3, but no inclined surface is formed on the side where the nozzle hole 3e is not formed. It may be left as a vertical plane.

ところで、前述したとおり、洗浄槽2内に上下複数段に設けられる洗浄ノズル3の内、最上段の洗浄ノズル3には、長手方向両端部と幅方向両端部の各上方傾斜面3a,3cへのノズル孔3eの設置を省略することができる。同様に、最下段の洗浄ノズル3には、長手方向両端部と幅方向両端部の各下方傾斜面3b,3dへのノズル孔3eの設置を省略することができる。   By the way, as described above, out of the cleaning nozzles 3 provided in the upper and lower stages in the cleaning tank 2, the uppermost cleaning nozzle 3 is connected to the upper inclined surfaces 3a and 3c at both ends in the longitudinal direction and both ends in the width direction. The nozzle hole 3e can be omitted. Similarly, in the lowermost cleaning nozzle 3, it is possible to omit the installation of the nozzle holes 3e in the downward inclined surfaces 3b and 3d at both ends in the longitudinal direction and both ends in the width direction.

なお、洗浄ノズル3は、鉛直方向以外に流体を噴射させるノズル孔3eを備えるのであれば、必ずしも傾斜面3a〜3dを形成せずに、洗浄ノズル3を構成する部材の板厚によっては、長手方向両端部および/または幅方向両端部を鉛直面のままとしておき、その鉛直面に、水平にまたは傾斜してノズル孔3eを形成してもよい。また、洗浄ノズル3の長手方向外端部および/または幅方向外端部にノズル孔3eを設けることに加えて(またはこれに代えて)、洗浄ノズル3の上面および/または下面に、鉛直方向へのノズル孔(または適宜の傾斜を伴ったノズル孔)3eを設けてもよい。要は、洗浄ノズル3が、少なくとも一部に、鉛直方向以外に流体を噴射させるノズル孔3eを備えていればよい。   If the cleaning nozzle 3 includes a nozzle hole 3e for injecting fluid in a direction other than the vertical direction, the cleaning nozzle 3 is not necessarily formed with the inclined surfaces 3a to 3d, and depending on the plate thickness of the members constituting the cleaning nozzle 3, The both ends in the direction and / or both ends in the width direction may be left as a vertical plane, and the nozzle hole 3e may be formed horizontally or inclined on the vertical plane. Further, in addition to (or instead of) providing the nozzle hole 3e at the outer end portion in the longitudinal direction and / or the outer end portion in the width direction of the cleaning nozzle 3, the upper surface and / or the lower surface of the cleaning nozzle 3 are arranged in the vertical direction. A nozzle hole (or a nozzle hole with an appropriate inclination) 3e may be provided. In short, it is sufficient that the cleaning nozzle 3 is provided with a nozzle hole 3e for ejecting fluid in a direction other than the vertical direction at least partially.

液貯留部4は、洗浄槽2内の下部に連接される。言い換えれば、洗浄槽2は、下部に液貯留部4を備える。本実施例では、洗浄槽2の下壁は、左右両端部が左右方向内側へ行くに従って下方へ傾斜する傾斜面2aに形成されており、左右方向中央部は下方へ略矩形状に凹んで形成されており、この凹部を含んだ形で、洗浄槽2内の下部が液貯留部4とされる。循環手段8の作動中、洗浄ノズル3から洗浄槽2内へ噴射された液体は、洗浄槽2内の下方へ落下し、液貯留部4に集められる。   The liquid storage unit 4 is connected to the lower part in the cleaning tank 2. In other words, the cleaning tank 2 includes the liquid storage unit 4 in the lower part. In the present embodiment, the lower wall of the cleaning tank 2 is formed as an inclined surface 2a that is inclined downward as both left and right end portions go inward in the left-right direction, and the central portion in the left-right direction is recessed downward in a substantially rectangular shape. The lower part in the cleaning tank 2 is the liquid storage part 4 in a form including the concave part. During the operation of the circulation means 8, the liquid ejected from the cleaning nozzle 3 into the cleaning tank 2 falls downward in the cleaning tank 2 and is collected in the liquid storage unit 4.

給水手段5は、洗浄槽2下部の液貯留部4に、給水路13(13a〜13c)を介して水を供給する。本実施例では、複数種の水から選択した水を供給可能とされる。たとえば、水道水の他、温水および膜濾過水の内、選択した種類の水を供給可能とされる。なお、膜濾過水として、本実施例ではRO水(逆浸透膜濾過水)を用いるが、これに限らず、その他の純水または軟水を用いてもよい。   The water supply means 5 supplies water to the liquid storage part 4 at the lower part of the cleaning tank 2 via the water supply passages 13 (13a to 13c). In this embodiment, water selected from a plurality of types of water can be supplied. For example, in addition to tap water, it is possible to supply selected types of water among warm water and membrane filtered water. In this embodiment, RO water (reverse osmosis membrane filtered water) is used as the membrane filtered water, but not limited to this, other pure water or soft water may be used.

本実施例では、洗浄槽2の上部に、水道水を供給するための第一給水路13aと、温水を供給するための第二給水路13bと、膜濾過水を供給するための第三給水路13cとが接続されている。第一給水路13aには第一給水弁14aが設けられ、第二給水路13bには第二給水弁14bが設けられ、第三給水路13cには第三給水弁14cが設けられる。各給水路13(13a〜13c)に設けた給水弁14(14a〜14c)を開くことで、洗浄槽2を介して液貯留部4に、水道水、温水または膜濾過水を供給することができる。なお、給水時、いずれか一つの給水弁14を開く以外に、所望により二以上の給水弁14を同時にまたは順次に開いてもよい。これにより、たとえば水道水(常温水)と温水とを混ぜて、所望温度にして利用することができる。   In the present embodiment, a first water supply path 13a for supplying tap water, a second water supply path 13b for supplying hot water, and a third water supply for supplying membrane filtered water to the upper part of the cleaning tank 2. The path 13c is connected. The first water supply path 13a is provided with a first water supply valve 14a, the second water supply path 13b is provided with a second water supply valve 14b, and the third water supply path 13c is provided with a third water supply valve 14c. By opening the water supply valve 14 (14a-14c) provided in each water supply path 13 (13a-13c), tap water, warm water, or membrane filtered water can be supplied to the liquid storage part 4 via the washing tank 2. it can. In addition, at the time of water supply, you may open two or more water supply valves 14 simultaneously or sequentially other than opening any one water supply valve 14 if desired. Thereby, for example, tap water (normal temperature water) and warm water can be mixed and used at a desired temperature.

液貯留部4付きの洗浄槽2には、液位検出器15が設けられる。液位検出器15は、その構成を特に問わないが、たとえば、液貯留部4の底部に設置した圧力センサから構成される。この場合、液貯留部4(および洗浄槽2)内の液位に応じて、水圧が変わることを利用して液位を把握する。なお、洗浄槽2には、所定以上の液体を外部へ排出するオーバーフロー路16が設けられる。   A liquid level detector 15 is provided in the cleaning tank 2 with the liquid reservoir 4. Although the liquid level detector 15 does not ask | require the structure in particular, For example, it is comprised from the pressure sensor installed in the bottom part of the liquid storage part 4. FIG. In this case, the liquid level is grasped by utilizing the fact that the water pressure changes according to the liquid level in the liquid storage unit 4 (and the cleaning tank 2). The cleaning tank 2 is provided with an overflow path 16 for discharging a predetermined amount or more of liquid to the outside.

排水手段6は、洗浄槽2下部の液貯留部4から、排水路17を介して排水する。排水路17には、排水弁18が設けられる。排水弁18を開くことで、液貯留部4内の貯留水を外部へ排水することができる。   The drainage means 6 drains from the liquid storage part 4 at the lower part of the cleaning tank 2 via the drainage channel 17. A drain valve 18 is provided in the drain channel 17. By opening the drain valve 18, the stored water in the liquid storage unit 4 can be drained to the outside.

薬液供給手段7は、液貯留部4内の貯留水に、給液路19(19a〜19c)を介して薬液を供給する。本実施例では、好適な例として、複数種の薬液から選択した薬液を供給可能とされる。たとえば、アルカリ性洗剤、酵素配合洗剤、潤滑防錆剤、乾燥促進剤などの内、被洗浄物や工程に応じて選択した薬液を供給可能とされる。   The chemical liquid supply means 7 supplies the chemical liquid to the stored water in the liquid storage section 4 via the liquid supply path 19 (19a to 19c). In a present Example, as a suitable example, the chemical | medical solution selected from the multiple types of chemical | medical solution can be supplied. For example, it is possible to supply a chemical solution selected according to an object to be cleaned and a process among alkaline detergents, enzyme-containing detergents, lubricating rust preventives, drying accelerators, and the like.

図示例では、三種の薬液を供給可能とした例を示しており、第一薬液を貯留した第一薬液タンク20a、第二薬液を貯留した第二薬液タンク20b、第三薬液を貯留した第三薬液タンク20cを備える。そして、第一薬液タンク20aから液貯留部4への第一給液路19aに、第一薬液ポンプ21aが設けられ、第二薬液タンク20bから液貯留部4への第二給液路19bに、第二薬液ポンプ21bが設けられ、第三薬液タンク20cから液貯留部4への第三給液路19cに、第三薬液ポンプ21cが設けられる。各給液路19(19a〜19c)は、各薬液ポンプ21(21a〜21c)よりも下流において共通管路19dとされており、液貯留部4に接続されるが、場合により、洗浄槽2や後述する循環配管22に接続されてもよい。各薬液ポンプ21の作動を制御することで、各薬液タンク20からの薬液の供給の有無や量を調整することができる。   In the illustrated example, three types of chemical liquids can be supplied. The first chemical liquid tank 20a storing the first chemical liquid, the second chemical liquid tank 20b storing the second chemical liquid, and the third chemical liquid storing the third chemical liquid. A chemical tank 20c is provided. The first chemical liquid pump 21a is provided in the first liquid supply path 19a from the first chemical liquid tank 20a to the liquid storage section 4, and the second liquid supply path 19b from the second chemical liquid tank 20b to the liquid storage section 4 is provided. The second chemical liquid pump 21 b is provided, and the third chemical liquid pump 21 c is provided in the third liquid supply path 19 c from the third chemical liquid tank 20 c to the liquid storage unit 4. Each liquid supply path 19 (19a to 19c) is a common pipe line 19d downstream of each chemical liquid pump 21 (21a to 21c), and is connected to the liquid storage section 4, but depending on the case, the cleaning tank 2 may be used. Or you may connect to the circulation piping 22 mentioned later. By controlling the operation of each chemical liquid pump 21, the presence / absence and amount of the chemical liquid supplied from each chemical liquid tank 20 can be adjusted.

循環手段8は、液貯留部4内の貯留液を、洗浄ノズル3へ循環供給する。具体的には、循環手段8は、循環配管22と循環ポンプ23とを備える。循環配管22は、液貯留部4から各洗浄ノズル3の支持部材12への配管であり、その途中に循環ポンプ23が設けられている。なお、図示例では、循環配管22の内、液貯留部4から循環ポンプ23への配管は、上流側において、排水路17と共通管路とされている。また、循環配管22の内、循環ポンプ23の出口側には、逆止弁24が設けられている。循環ポンプ23を作動させると、液貯留部4内の液体を、循環配管22および支持部材12を介して洗浄ノズル3へ供給することができ、洗浄ノズル3から噴射された液体は、液貯留部4に戻される。   The circulation means 8 circulates and supplies the stored liquid in the liquid storage unit 4 to the cleaning nozzle 3. Specifically, the circulation means 8 includes a circulation pipe 22 and a circulation pump 23. The circulation pipe 22 is a pipe from the liquid storage unit 4 to the support member 12 of each cleaning nozzle 3, and a circulation pump 23 is provided in the middle thereof. In the illustrated example, the pipe from the liquid storage unit 4 to the circulation pump 23 in the circulation pipe 22 is a common pipe line with the drainage path 17 on the upstream side. A check valve 24 is provided on the outlet side of the circulation pump 23 in the circulation pipe 22. When the circulation pump 23 is operated, the liquid in the liquid storage unit 4 can be supplied to the cleaning nozzle 3 via the circulation pipe 22 and the support member 12, and the liquid ejected from the cleaning nozzle 3 is supplied to the liquid storage unit. Returned to 4.

ところで、循環手段8の出力は、変更可能とされる。本実施例では、循環手段8の出力の変更は、循環ポンプ23のモータの電源周波数(駆動周波数)ひいては回転数を、インバータを用いて変更することでなされる。   Incidentally, the output of the circulating means 8 can be changed. In the present embodiment, the output of the circulation means 8 is changed by changing the power supply frequency (drive frequency) of the motor of the circulation pump 23 and hence the rotational speed using an inverter.

第一ヒータ10は、本実施例では液貯留部4に設けられて、貯留液を加熱する。但し、場合により、第一ヒータ10は、前記循環配管22に設けられて、循環液を加熱してもよい。第一ヒータ10は、本実施例では電気ヒータであるが、場合により蒸気ヒータであってもよい。電気ヒータの場合、典型的にはオンオフ制御されるが、場合により出力を調整されてもよい。一方、蒸気ヒータの場合、蒸気管内に蒸気が供給可能とされ、蒸気の凝縮水は蒸気トラップを介して外部へ排出される。そして、給蒸路に設けた給蒸弁の開閉または開度が制御される。   The 1st heater 10 is provided in the liquid storage part 4 in a present Example, and heats a stored liquid. However, in some cases, the first heater 10 may be provided in the circulation pipe 22 to heat the circulating liquid. The first heater 10 is an electric heater in this embodiment, but may be a steam heater in some cases. In the case of an electric heater, on / off control is typically performed, but the output may be adjusted depending on circumstances. On the other hand, in the case of a steam heater, steam can be supplied into the steam pipe, and the condensed water of the steam is discharged to the outside through a steam trap. And the opening / closing or opening degree of the steam supply valve provided in the steam supply path is controlled.

送風機9は、洗浄槽2の上部に、給気路25(25a,25b)を介して接続される。送風機9からの給気路25は、第二ヒータ11の出口側で分岐され、第一給気路25aが逆止弁26を介して前記循環配管22に接続され、第二給気路25bが逆止弁27を介して洗浄槽2上部に接続される。送風機9は、HEPAフィルタ28を介した空気を吸い込んで吐出し、第二ヒータ11を介して洗浄槽2内へ送り込む。つまり、送風機9からの空気は、第二ヒータ11で加熱された後、第一給気路25a、循環配管22および支持部材12を介して、洗浄ノズル3から噴射される一方、第二給気路25bを介して洗浄槽2内へ供給される。   The blower 9 is connected to the upper part of the cleaning tank 2 via an air supply path 25 (25a, 25b). The air supply path 25 from the blower 9 is branched on the outlet side of the second heater 11, the first air supply path 25 a is connected to the circulation pipe 22 through the check valve 26, and the second air supply path 25 b is It is connected to the upper part of the cleaning tank 2 through a check valve 27. The blower 9 sucks and discharges air through the HEPA filter 28 and sends it into the cleaning tank 2 through the second heater 11. That is, the air from the blower 9 is heated by the second heater 11 and then injected from the cleaning nozzle 3 via the first air supply path 25a, the circulation pipe 22 and the support member 12, while the second air supply It is supplied into the cleaning tank 2 through the path 25b.

洗浄槽2の上部には、外部への排気路29が接続される。排気路29には、所望により凝縮器を設けて、排気中の水分の凝縮を図った後、外部へ放出してもよい。また、場合により、排気の一部を送風機9に戻して、洗浄槽2との間で循環させてもよい。   An exhaust path 29 to the outside is connected to the upper part of the cleaning tank 2. If desired, a condenser may be provided in the exhaust passage 29 to condense moisture in the exhaust, and then discharge to the outside. In some cases, a part of the exhaust gas may be returned to the blower 9 and circulated with the cleaning tank 2.

洗浄器1は、さらに加熱タンク30を備えてもよい。加熱タンク30は、後の工程で用いる液体を予め加熱するのに用いられる。本実施例では、加熱タンク30は、設置スペースの関係上、洗浄槽2の上部に設けられる。   The cleaning device 1 may further include a heating tank 30. The heating tank 30 is used to preheat a liquid used in a later process. In the present embodiment, the heating tank 30 is provided in the upper part of the cleaning tank 2 because of the installation space.

加熱タンク30には、タンク給水路31を介して水が供給される。この水として、給水手段5と同様に、水道水、温水または膜濾過水の内、予め設定された水が供給可能とされる。タンク給水路31にはタンク給水弁32が設けられており、タンク給水弁32の開閉により、加熱タンク30への給水を制御することができる。本実施例では、加熱タンク30には、水位検出器(図示省略)が設けられており、少なくとも満水状態(設定水位までの給水状態)と空水状態とが検知可能とされる。水位検出器の検出信号に基づきタンク給水弁32を制御して、加熱タンク30に設定水位まで給水することができる。なお、加熱タンク30には、所定以上の水を溢れされるオーバーフロー路33が設けられる。   Water is supplied to the heating tank 30 via a tank water supply path 31. As this water, similarly to the water supply means 5, preset water can be supplied from tap water, hot water or membrane filtered water. A tank water supply valve 32 is provided in the tank water supply passage 31, and the water supply to the heating tank 30 can be controlled by opening and closing the tank water supply valve 32. In the present embodiment, the heating tank 30 is provided with a water level detector (not shown) so that at least a full water state (a water supply state up to a set water level) and an air water state can be detected. Based on the detection signal from the water level detector, the tank water supply valve 32 can be controlled to supply water to the heating tank 30 up to the set water level. The heating tank 30 is provided with an overflow path 33 that overflows with a predetermined amount or more of water.

加熱タンク30には、第三ヒータ34が設けられる。第三ヒータ34は、図示例では電気ヒータとされるが、第一ヒータ10と同様、場合により蒸気ヒータであってもよい。第三ヒータ34により、加熱タンク30内の液体を設定温度まで加熱することができる。典型的には、後述する除染工程で使用する熱水を製造することができる。   A third heater 34 is provided in the heating tank 30. The third heater 34 is an electric heater in the illustrated example, but may be a steam heater in some cases, like the first heater 10. The liquid in the heating tank 30 can be heated to the set temperature by the third heater 34. Typically, hot water used in the decontamination process described below can be produced.

加熱タンク30と洗浄槽2とは、熱水路35により接続されており、熱水路35には熱水弁36が設けられている。熱水弁36を開くことで、加熱タンク30から洗浄槽2内へ熱水を供給することができる。   The heating tank 30 and the washing tank 2 are connected by a hot water channel 35, and a hot water valve 36 is provided in the hot water channel 35. By opening the hot water valve 36, hot water can be supplied from the heating tank 30 into the cleaning tank 2.

洗浄槽2には、さらに、超音波振動子37を設けてもよい。本実施例では、洗浄槽2の下壁の左右の傾斜面2aに、それぞれ超音波振動子37が設けられている。   The cleaning tank 2 may further be provided with an ultrasonic transducer 37. In the present embodiment, ultrasonic transducers 37 are respectively provided on the left and right inclined surfaces 2 a of the lower wall of the cleaning tank 2.

液貯留部4には、第一温度センサ38が設けられる。第一温度センサ38の検出温度に基づき第一ヒータ10を制御することで、液貯留部4内の貯留水、ひいては洗浄ノズル3から噴射する液体の温度を調整することができる。   The liquid storage unit 4 is provided with a first temperature sensor 38. By controlling the first heater 10 based on the temperature detected by the first temperature sensor 38, it is possible to adjust the temperature of the stored water in the liquid storage unit 4 and thus the liquid ejected from the cleaning nozzle 3.

送風機9から洗浄槽2への給気路25(図示例では第一給気路25aまたは循環配管22)には、第二ヒータ11の設置位置よりも下流側に、第二温度センサ39が設けられる。第二温度センサ39の検出温度に基づき第二ヒータ11を制御することで、洗浄槽2内への給気温度を調整することができる。なお、第二温度センサ39は、熱風の温度の他、循環液の温度も検出でき、第二温度センサ39の検出温度に基づき第一ヒータ10を制御してもよい。   In the air supply path 25 (in the illustrated example, the first air supply path 25a or the circulation pipe 22) from the blower 9 to the cleaning tank 2, a second temperature sensor 39 is provided on the downstream side of the installation position of the second heater 11. It is done. By controlling the second heater 11 based on the temperature detected by the second temperature sensor 39, the supply air temperature into the cleaning tank 2 can be adjusted. Note that the second temperature sensor 39 can detect the temperature of the circulating fluid in addition to the temperature of the hot air, and may control the first heater 10 based on the detected temperature of the second temperature sensor 39.

加熱タンク30には、第三温度センサ40が設けられる。第三温度センサ40の検出温度に基づき第三ヒータ34を制御することで、加熱タンク30内の貯留水を所望温度に調整することができる。   A third temperature sensor 40 is provided in the heating tank 30. By controlling the third heater 34 based on the temperature detected by the third temperature sensor 40, the stored water in the heating tank 30 can be adjusted to a desired temperature.

洗浄器1は、さらに制御手段としての制御器(図示省略)を備える。具体的には、各給水弁14(14a〜14c)、排水弁18、各薬液ポンプ21(21a〜21c)、循環ポンプ23、送風機9、タンク給水弁32、熱水弁36、第一ヒータ10、第二ヒータ11、第三ヒータ34、超音波振動子37、液貯留部4の液位検出器15、加熱タンク30の水位検出器、第一温度センサ38、第二温度センサ39および第三温度センサ40などは、制御器に接続されている。そして、制御器は、後述するように、所定の手順(プログラム)に従い、洗浄槽2内の被洗浄物の洗浄や濯ぎなどを図る。   The cleaning device 1 further includes a controller (not shown) as control means. Specifically, each water supply valve 14 (14a-14c), drain valve 18, each chemical pump 21 (21a-21c), circulation pump 23, blower 9, tank water supply valve 32, hot water valve 36, first heater 10 , Second heater 11, third heater 34, ultrasonic transducer 37, liquid level detector 15 of liquid storage unit 4, water level detector of heating tank 30, first temperature sensor 38, second temperature sensor 39 and third The temperature sensor 40 and the like are connected to a controller. Then, as will be described later, the controller cleans or rinses the object to be cleaned in the cleaning tank 2 according to a predetermined procedure (program).

また、制御器は、循環手段8の作動中、循環手段8による循環流量を変更する。本実施例では、循環ポンプ23の作動中、設定タイミングで循環ポンプ23の周波数ひいては回転数を変更する。典型的には、循環ポンプ23の周波数を間欠的に変更する。たとえば、循環ポンプ23は、第一周波数での第一設定時間の運転と、第二周波数での第二設定時間の運転とを交互に繰り返す。具体例を示すと、第一の例として、第一周波数40Hzでの第一設定時間60秒間の運転と、第二周波数60Hzでの第二設定時間10秒間の運転とを繰り返す。また第二の例として、第一周波数60Hzでの第一設定時間60秒間の運転と、第二周波数40Hzでの第二設定時間10秒間の運転とを繰り返す。   Further, the controller changes the circulation flow rate by the circulation means 8 during the operation of the circulation means 8. In the present embodiment, during the operation of the circulation pump 23, the frequency of the circulation pump 23 and the rotation speed are changed at the set timing. Typically, the frequency of the circulation pump 23 is changed intermittently. For example, the circulation pump 23 alternately repeats the operation for the first set time at the first frequency and the operation for the second set time at the second frequency. If a specific example is shown, as a 1st example, the driving | running for 60 seconds of 1st setting time in 1st frequency 40Hz and the driving | running for 10 seconds of 2nd setting time in 2nd frequency 60Hz will be repeated. As a second example, an operation for a first set time of 60 seconds at a first frequency of 60 Hz and an operation for a second set time of 10 seconds at a second frequency of 40 Hz are repeated.

いずれの例の場合も、循環ポンプ23の作動前に液貯留部4に貯留しておくべき液量は、第二設定時間が第一設定時間よりも短いことを条件に、第一周波数を前提とした液量で足りる。従って、前記第一の例のように、第二周波数が第一周波数よりも高く、且つ第二設定時間が第一設定時間よりも短い場合には、循環ポンプ23の作動前に液貯留部4に貯留する液量は、周波数の比較的低い第一周波数を前提とした液量で足りる。さらに詳細に説明すると、次のとおりである。   In any case, the amount of liquid to be stored in the liquid storage unit 4 before the operation of the circulation pump 23 is based on the first frequency on the condition that the second set time is shorter than the first set time. The amount of liquid is sufficient. Therefore, as in the first example, when the second frequency is higher than the first frequency and the second set time is shorter than the first set time, the liquid reservoir 4 before the operation of the circulation pump 23 is performed. The amount of liquid stored in the tank is sufficient if the first frequency having a relatively low frequency is assumed. This will be described in more detail as follows.

前提として、仮に循環ポンプ23を所定周波数で連続運転する場合、循環ポンプ23の作動に伴って液貯留部4から循環ポンプ23へ液体が吸入されるので、液貯留部4の液位は低下する。そこで、液貯留部4には、循環ポンプ23の作動に伴って液位が低下しても、循環ポンプ23にエア噛みが生じない最低限の液位が必要である。その液位は、循環ポンプ23の周波数が高いほど高液位となる。これを前提に、前記第一の例において、周波数の比較的低い第一周波数で循環ポンプ23の作動を継続する場合、貯水量が不足してエア噛みを生じない最低限の液位が第一設定液位であり、周波数の比較的高い第二周波数で循環ポンプ23の作動を継続する場合、貯水量が不足してエア噛みを生じない最低限の液位として第二設定液位が必要であるとしても、液貯留部4には第一設定液位で足りる。周波数の比較的高い第二周波数での運転時間(第二設定時間)は、第一設定時間よりも短いので、第二周波数に一時的に切り替えても、エア噛みが生じる前に、再び第一周波数に落とすので、問題はない。言い換えれば、第一周波数で運転する限りはエア噛みを生じず、第二周波数で運転するとしても、循環ポンプ23にエア噛みを生じない範囲で第二設定時間が設定される。   As a premise, if the circulation pump 23 is continuously operated at a predetermined frequency, liquid is sucked from the liquid storage unit 4 to the circulation pump 23 as the circulation pump 23 is operated, so that the liquid level in the liquid storage unit 4 is lowered. . Therefore, the liquid storage unit 4 needs to have a minimum liquid level that does not cause air jamming in the circulation pump 23 even if the liquid level decreases as the circulation pump 23 operates. The liquid level becomes higher as the frequency of the circulation pump 23 is higher. On the premise of this, in the first example, when the operation of the circulation pump 23 is continued at a first frequency that is relatively low, the minimum liquid level that does not cause air entrainment due to insufficient water storage amount is the first. When the operation of the circulation pump 23 is continued at the second frequency that is a set liquid level and a relatively high frequency, the second set liquid level is necessary as a minimum liquid level that does not cause air entrainment due to insufficient water storage. Even if there is, the liquid reservoir 4 needs only the first set liquid level. Since the operation time (second set time) at the second frequency having a relatively high frequency is shorter than the first set time, the first time again before the air bite occurs even if the operation is temporarily switched to the second frequency. Since it drops to frequency, there is no problem. In other words, as long as the operation is performed at the first frequency, air biting does not occur, and even if the operation is performed at the second frequency, the second set time is set in a range where air circulation is not generated in the circulation pump 23.

いずれにしても、循環手段8の循環中、循環手段8による循環流量を変更することで、洗浄ノズル3から噴射される液体の流速、ひいては被洗浄物に当たるポイントをずらすことができ、洗浄ムラを防止することができる。つまり、鉛直方向以外に液体を噴射すると、ノズル孔3eから噴射される液体は理想的には放物線を描いて落下するが、洗浄ノズル3から噴射される液体の流速を変えることで、放物線による落下の仕方が変わり、被洗浄物に当たるポイントを変えることができる。そして、それにより被洗浄物に万遍なく液体を当てて、洗浄不足を防止することができる。   In any case, by changing the circulation flow rate of the circulation means 8 during the circulation of the circulation means 8, the flow rate of the liquid ejected from the washing nozzle 3, and the point hitting the object to be washed can be shifted, and washing unevenness can be prevented. Can be prevented. In other words, when the liquid is ejected in a direction other than the vertical direction, the liquid ejected from the nozzle hole 3e ideally falls in a parabolic manner, but by changing the flow rate of the liquid ejected from the cleaning nozzle 3, the parabolic falls. This changes the way you hit the object to be cleaned. As a result, the liquid can be uniformly applied to the object to be cleaned, thereby preventing insufficient cleaning.

以下、本実施例の洗浄器1の運転方法について具体的に説明する。初期状態において、各弁14,18,32,36は閉じられ、各ポンプ21,23、各ヒータ10,11,34、送風機9および超音波振動子37は停止している。但し、排水弁18は、運転開始前には開いた状態にしておき、運転開始時に閉じてもよい。いずれにしても、運転開始に先立って、洗浄槽2内には、被洗浄物が収容され、洗浄槽2のドアは気密に閉じられる。   Hereinafter, the operation method of the cleaning device 1 of the present embodiment will be specifically described. In the initial state, the valves 14, 18, 32, 36 are closed, and the pumps 21, 23, the heaters 10, 11, 34, the blower 9, and the ultrasonic vibrator 37 are stopped. However, the drain valve 18 may be opened before the operation is started and may be closed when the operation is started. In any case, before the start of operation, an object to be cleaned is accommodated in the cleaning tank 2, and the door of the cleaning tank 2 is closed in an airtight manner.

本実施例の洗浄器1は、予洗工程、シャワー洗浄工程、超音波洗浄工程、高温洗浄工程、濯ぎ工程、除染工程および乾燥工程の内、選択された工程を実行する。但し、これら工程のすべてを実行可能に構成せずに、たとえば予洗工程や高温洗浄工程は、場合により省略可能である。いずれにしても、どの工程をどのような順序で行うか(また各工程を何回行うか)は、予め設定されている。たとえば、運転開始に先立ち、ユーザにより設定器を介して設定される。典型的には、上記各工程の内、選択された工程を順に実行する。   The cleaning device 1 of this embodiment executes a selected process among a pre-cleaning process, a shower cleaning process, an ultrasonic cleaning process, a high-temperature cleaning process, a rinsing process, a decontamination process, and a drying process. However, for example, the pre-washing step and the high-temperature washing step can be omitted in some cases without configuring all of these steps to be executable. In any case, which process is performed in what order (and how many times each process is performed) is set in advance. For example, prior to the start of operation, it is set by the user via a setting device. Typically, among the above steps, the selected steps are executed in order.

なお、工程に応じて、所望により、給水手段5による水の種類や、薬液供給手段7による薬液の種類についても設定される。また、以下の各工程において、循環ポンプ23を作動させて液体を循環中、循環ポンプ23をインバータ制御して循環流量(言い換えればシャワー流速)を変えてもよいのは、前述したとおりである。   Depending on the process, the type of water supplied by the water supply means 5 and the type of chemical liquid supplied by the chemical liquid supply means 7 are also set as desired. Further, in each of the following steps, as described above, the circulation flow rate (in other words, the shower flow rate) may be changed by inverter control of the circulation pump 23 while the circulation pump 23 is operated to circulate the liquid.

いずれにしても、所定の運転開始ボタンにより運転開始が指示されると、制御器は、設定された工程を順次に実行する。以下、各工程の具体的内容を説明する。なお、以下において、設定温度は、工程ごとに異なったものとでき、設定時間も、工程ごとに異なったものとできるのは、言うまでもない。   In any case, when the operation start is instructed by a predetermined operation start button, the controller sequentially executes the set steps. Hereinafter, the specific content of each process is demonstrated. In the following description, it goes without saying that the set temperature can be different for each process, and the set time can be different for each process.

≪予洗工程≫
予洗工程は、薬液を投入しない水で、被洗浄物を洗浄する工程である。具体的には、まず、液位検出器15が設定水位を検出するまで、給水手段5により液貯留部4に給水する。その後、循環ポンプ23を作動させて、液貯留部4からの水を、循環配管22および支持部材12を介して洗浄ノズル3へ供給し、洗浄ノズル3を回転させながら、洗浄ノズル3のノズル孔から被洗浄物に噴射する。これにより、被洗浄物は、上下の洗浄ノズル3から噴射される水で洗浄される。各洗浄ノズル3から噴射された水は、洗浄槽2下部の液貯留部4へ戻される。設定時間だけ水を循環させた後、循環ポンプ23を停止する。そして、排水弁18を開けて液貯留部4から排水し、排水完了後には排水弁18を閉じる。
≪Prewash process≫
The pre-washing step is a step of washing the object to be washed with water without adding a chemical solution. Specifically, first, water is supplied to the liquid storage unit 4 by the water supply means 5 until the liquid level detector 15 detects the set water level. Thereafter, the circulation pump 23 is operated to supply water from the liquid reservoir 4 to the cleaning nozzle 3 via the circulation pipe 22 and the support member 12, and while rotating the cleaning nozzle 3, the nozzle hole of the cleaning nozzle 3 is rotated. Is sprayed onto the object to be cleaned. Thus, the object to be cleaned is cleaned with water sprayed from the upper and lower cleaning nozzles 3. The water sprayed from each cleaning nozzle 3 is returned to the liquid reservoir 4 below the cleaning tank 2. After circulating water for the set time, the circulation pump 23 is stopped. And the drain valve 18 is opened and it drains from the liquid storage part 4, and after draining is completed, the drain valve 18 is closed.

≪シャワー洗浄工程≫
シャワー洗浄工程は、薬液(洗剤)を投入した水(洗浄水)で、被洗浄物を洗浄する工程である。シャワー洗浄工程は、基本的には予洗工程と同様である。そこで、ここでは、シャワー洗浄工程が予洗工程と異なる点について説明する。シャワー洗浄工程では、液貯留部4に設定水位まで水を貯留すると共に、薬液供給手段7により所望の薬液を投入する。薬液供給手段7による薬液は、給水手段5による給水に対し、設定濃度になるように設定量だけ投入される。さらに、第一ヒータ10を作動させて、液貯留部4内の貯留水を設定温度(たとえば40℃)まで加熱する。但し、循環ポンプ23を作動させながら、液貯留部4内の貯留水を設定温度まで加熱してもよい。また、給水路13または熱水路35により、温水を給水できる場合には、その温水を利用してもよい。いずれにしても、液貯留部4内に洗浄水を準備した後、循環ポンプ23を作動させて、被洗浄物を洗浄水により洗浄する。洗浄水の循環中、第一温度センサ38(または第二温度センサ39)の検出温度に基づき第一ヒータ10を制御して、洗浄水の温度を設定温度に維持する。洗浄水が設定温度に到達してから、設定時間経過すると、第一ヒータ10による加熱や循環ポンプ23による循環を停止する。そして、排水手段6により排水するが、排水せずに、次工程の超音波洗浄工程で、洗浄水を継ぎ足して利用してもよい。なお、設定温度を変えて(あるいは変えずに)、シャワー洗浄工程を複数回行ってもよい。その際、設定温度を変えるごとに、洗浄槽2内の洗浄水を入れ替えてもよいし、入れ替えなくてもよい。
≪Shower cleaning process≫
The shower cleaning process is a process of cleaning an object to be cleaned with water (cleaning water) charged with a chemical solution (detergent). The shower cleaning process is basically the same as the pre-cleaning process. Therefore, here, the difference between the shower cleaning process and the pre-cleaning process will be described. In the shower cleaning process, water is stored up to the set water level in the liquid storage unit 4 and a desired chemical solution is supplied by the chemical solution supply means 7. The chemical solution supplied by the chemical solution supply means 7 is supplied in a set amount so as to have a set concentration with respect to the water supplied by the water supply means 5. Furthermore, the 1st heater 10 is operated and the stored water in the liquid storage part 4 is heated to preset temperature (for example, 40 degreeC). However, the stored water in the liquid storage unit 4 may be heated to the set temperature while the circulation pump 23 is operated. Moreover, when hot water can be supplied by the water supply channel 13 or the hot water channel 35, the hot water may be used. In any case, after preparing the cleaning water in the liquid storage unit 4, the circulation pump 23 is operated to clean the object to be cleaned with the cleaning water. During the circulation of the cleaning water, the first heater 10 is controlled based on the temperature detected by the first temperature sensor 38 (or the second temperature sensor 39) to maintain the temperature of the cleaning water at the set temperature. When the set time elapses after the cleaning water reaches the set temperature, heating by the first heater 10 and circulation by the circulation pump 23 are stopped. And although it drains with the drainage means 6, you may add and use washing water at the ultrasonic cleaning process of the next process, without draining. Note that the shower cleaning step may be performed a plurality of times while changing (or not changing) the set temperature. At that time, each time the set temperature is changed, the cleaning water in the cleaning tank 2 may be replaced or may not be replaced.

≪超音波洗浄工程≫
超音波洗浄工程は、被洗浄物を超音波洗浄する工程である。具体的には、まず、給水手段5により、設定水位まで洗浄槽2内に給水する。この際、洗浄槽2内の被洗浄物が水没(つまり洗浄水に被洗浄物を浸漬)するまで、洗浄槽2内に給水する。洗浄槽2内の被洗浄物が水没するのであれば、必ずしも洗浄槽2内の上部まで給水する必要はない。洗浄槽2内に所望水位まで水が貯留されると、液位検出器15によりそれを検知して、給水を停止する。なお、シャワー洗浄工程の終了時、洗浄水を排水せずに、直後の超音波洗浄工程において、継ぎ足す形で給水してもよいし、シャワー洗浄工程の終了時、洗浄水を排水しておき、超音波洗浄工程において、新たに一から給水してもよい。いずれにしても、超音波洗浄工程では、洗浄槽2内に水を貯留すると共に、薬液供給手段7により所望の薬液(通常はシャワー洗浄工程と同じ薬液)を液貯留部4内に投入して、設定濃度の洗浄水とする。そして、シャワー洗浄工程と同様に、第一ヒータ10を作動させて、洗浄水を設定温度に加熱する。その後、超音波振動子37を作動させることで、被洗浄物を超音波洗浄する。但し、超音波振動子37の作動は、場合により、洗浄槽2内への給水中(特に少なくとも一部の被洗浄物を浸漬後)や、あるいは洗浄槽2内の貯留水の加熱中において開始してもよい。また、超音波洗浄中、循環ポンプ23を作動させて、洗浄ノズル3からの水の噴射を併用してもよい。洗浄槽2内の上方に配置された被洗浄物は、場合により超音波が当たり難く洗浄効果が薄れる場合があるが、洗浄ノズル3からのシャワー洗浄を併用することで、洗浄ノズル3からの液体の噴射とそれによる貯留水の流動とにより、すべての被洗浄物を効果的に洗浄することができる。洗浄水が設定温度に到達してから、設定時間経過すると、第一ヒータ10の他、超音波振動子37や循環ポンプ23を停止する。そして、排水手段6により排水するが、全量を排水せずに、次工程の高温洗浄工程で、洗浄水の一部のみを排水して残りを利用してもよい。
≪Ultrasonic cleaning process≫
The ultrasonic cleaning step is a step of ultrasonically cleaning the object to be cleaned. Specifically, first, the water supply means 5 supplies water into the cleaning tank 2 to a set water level. At this time, water is supplied into the cleaning tank 2 until the object to be cleaned in the cleaning tank 2 is submerged (that is, the object to be cleaned is immersed in the cleaning water). If the object to be cleaned in the cleaning tank 2 is submerged, it is not always necessary to supply water to the upper part in the cleaning tank 2. When water is stored up to the desired water level in the washing tank 2, the liquid level detector 15 detects it and stops water supply. In addition, at the end of the shower cleaning process, the washing water may not be drained, but may be supplied in the form of additional water in the immediately following ultrasonic cleaning process, or the cleaning water may be drained at the end of the shower cleaning process. In the ultrasonic cleaning process, water may be newly supplied from scratch. In any case, in the ultrasonic cleaning step, water is stored in the cleaning tank 2 and a desired chemical solution (usually the same chemical solution as in the shower cleaning step) is introduced into the liquid storage unit 4 by the chemical solution supply means 7. Set the cleaning water to the set concentration. Then, similarly to the shower cleaning step, the first heater 10 is operated to heat the cleaning water to the set temperature. Thereafter, the ultrasonic vibrator 37 is operated to ultrasonically clean the object to be cleaned. However, the operation of the ultrasonic vibrator 37 is started in some cases when water is supplied into the cleaning tank 2 (particularly after at least a part of the object to be cleaned is immersed) or during heating of the stored water in the cleaning tank 2. May be. Further, during the ultrasonic cleaning, the circulation pump 23 may be operated to use water jet from the cleaning nozzle 3 together. The object to be cleaned disposed in the upper part of the cleaning tank 2 may be difficult to be subjected to ultrasonic waves in some cases and the cleaning effect may be diminished. However, the liquid from the cleaning nozzle 3 can be obtained by using shower cleaning from the cleaning nozzle 3 together. All the objects to be cleaned can be effectively cleaned by the injection of the water and the flow of the stored water. When the set time elapses after the cleaning water reaches the set temperature, the ultrasonic vibrator 37 and the circulation pump 23 are stopped in addition to the first heater 10. And although it drains with the drainage means 6, you may drain only a part of washing water, and may utilize the remainder at the high temperature washing | cleaning process of the next process, without draining the whole quantity.

≪高温洗浄工程≫
高温洗浄工程は、薬液(洗剤)を投入した水(洗浄水)で、被洗浄物を高温洗浄する工程である。高温洗浄工程は、基本的にはシャワー洗浄工程と同様である。そこで、ここでは、高温洗浄工程がシャワー洗浄工程と異なる点について説明する。高温洗浄工程では、液貯留部4に設定水位まで水を貯留すると共に、薬液供給手段7により所望の薬液を投入した状態で、循環ポンプ23を作動させて、被洗浄物に洗浄ノズル3から洗浄水を噴射して洗浄する。この際、第一ヒータ10を作動させて循環水を加熱し、循環水が設定温度以上である積算時間が設定時間に達すると、第一ヒータ10や循環ポンプ23を停止して、排水手段6により排水する。
≪High temperature cleaning process≫
The high temperature cleaning step is a step of cleaning the object to be cleaned at high temperature with water (cleaning water) charged with a chemical solution (detergent). The high temperature cleaning process is basically the same as the shower cleaning process. Therefore, here, the difference between the high temperature cleaning process and the shower cleaning process will be described. In the high-temperature cleaning process, water is stored in the liquid storage unit 4 up to the set water level, and the circulating pump 23 is operated in a state where a desired chemical solution is supplied by the chemical solution supply means 7 to clean the object to be cleaned from the cleaning nozzle 3. Clean by spraying water. At this time, the first heater 10 is operated to heat the circulating water, and when the accumulated time that the circulating water is equal to or higher than the set temperature reaches the set time, the first heater 10 and the circulation pump 23 are stopped, and the drainage means 6 Drain by.

≪濯ぎ工程≫
濯ぎ工程は、予洗工程と同様の工程であり、液貯留部4に水を貯留した後、循環ポンプ23を作動させて、洗浄ノズル3から水を噴射して、被洗浄物を濯ぐ工程である。この際、第一ヒータ10により貯留水を設定温度まで加熱してもよい。また、場合により、貯留水に薬液を投入してもよい。設定時間だけ水を循環させた後、循環ポンプ23を停止する。そして、排水弁18を開けて液貯留部4から排水し、排水完了後には排水弁18を閉じる。なお、典型的には、濯ぎ工程を設定回数(少なくとも1回)繰り返す。具体的には、給水手段5による給水と、循環手段8による設定時間の循環と、排水手段6による排水とのセットを設定回数(たとえば2回)繰り返す。
≪Rinse process≫
The rinsing step is a step similar to the pre-washing step, in which water is stored in the liquid storage unit 4 and then the circulation pump 23 is operated to inject water from the cleaning nozzle 3 to rinse the object to be cleaned. is there. At this time, the stored water may be heated to the set temperature by the first heater 10. Moreover, you may throw a chemical | medical solution into stored water depending on the case. After circulating water for the set time, the circulation pump 23 is stopped. And the drain valve 18 is opened and it drains from the liquid storage part 4, and after draining is completed, the drain valve 18 is closed. Typically, the rinsing process is repeated a set number of times (at least once). Specifically, a set of water supply by the water supply means 5, circulation of a set time by the circulation means 8, and drainage by the drainage means 6 is repeated a set number of times (for example, twice).

≪除染工程≫
除染工程も、基本的にはシャワー洗浄工程と同様であるが、水温が異なる。除染工程では、循環水は、熱水(65℃以上95℃以下の高温水)とされる。第一ヒータ10で熱水まで加熱してもよいが、予め加熱タンク30において熱水を用意しておき、給水路13からの給水の代わりに、加熱タンク30から熱水を給水すれば、運転時間の短縮を図ることができる。除染工程では、被洗浄物に噴射される液体の温度を確実に消毒温度に維持できるように、洗浄ノズル3の直前における循環水温度を第二温度センサ39で監視し、その温度に基づき第一ヒータ10を制御するのがよい。なお、除染工程では、所望により、薬液供給手段7により薬液(たとえば潤滑防錆剤および/または乾燥促進剤)を投入してもよい。循環水が設定温度以上である積算時間が設定時間に達すると、第一ヒータ10や循環ポンプ23を停止して、排水手段6により排水する。
≪Decontamination process≫
The decontamination process is basically the same as the shower washing process, but the water temperature is different. In the decontamination process, the circulating water is hot water (high temperature water of 65 ° C. or more and 95 ° C. or less). The hot water may be heated by the first heater 10, but if hot water is prepared in the heating tank 30 in advance and hot water is supplied from the heating tank 30 instead of the water supply from the water supply path 13, the operation is performed. Time can be shortened. In the decontamination process, the circulating water temperature immediately before the cleaning nozzle 3 is monitored by the second temperature sensor 39 so that the temperature of the liquid sprayed onto the object to be cleaned can be reliably maintained at the disinfection temperature. One heater 10 may be controlled. In the decontamination step, a chemical solution (for example, a lubricating rust preventive agent and / or a drying accelerator) may be added by the chemical solution supply means 7 as desired. When the accumulated time in which the circulating water is equal to or higher than the set temperature reaches the set time, the first heater 10 and the circulation pump 23 are stopped and drained by the draining means 6.

≪乾燥工程≫
乾燥工程は、被洗浄物を熱風により乾燥させる工程である。具体的には、送風機9を作動させればよい。また、第二ヒータ11を作動させることで、洗浄槽2内へ熱風を送り込むことができる。この際、第二温度センサ39の検出温度に基づき第二ヒータ11を制御することで、熱風の温度を設定温度に維持することができる。送風機9からの熱風は、第一給気路25a、循環配管22および支持部材12を介して、洗浄ノズル3を回転させながら、洗浄ノズル3のノズル孔から噴射される。また、これと並行して、送風機9からの熱風は、第二給気路25bを介して、洗浄槽2内へ供給される。これら熱風は、洗浄槽2の上部の排気路29から導出されるが、前述したように、場合により排気の一部を送風機9の吸込口へ戻してもよい。設定時間経過すると、第二ヒータ11や送風機9を停止する。
≪Drying process≫
The drying step is a step of drying the object to be cleaned with hot air. Specifically, the blower 9 may be operated. Moreover, hot air can be sent into the cleaning tank 2 by operating the second heater 11. At this time, the temperature of the hot air can be maintained at the set temperature by controlling the second heater 11 based on the temperature detected by the second temperature sensor 39. Hot air from the blower 9 is jetted from the nozzle hole of the cleaning nozzle 3 while rotating the cleaning nozzle 3 through the first air supply path 25 a, the circulation pipe 22 and the support member 12. In parallel with this, hot air from the blower 9 is supplied into the cleaning tank 2 through the second air supply path 25b. These hot air is led out from the exhaust passage 29 at the upper part of the cleaning tank 2, but as described above, part of the exhaust may be returned to the suction port of the blower 9 in some cases. When the set time has elapsed, the second heater 11 and the blower 9 are stopped.

なお、このような一連の各工程の終了後、完了工程として、所定操作がなされるまでか所定時間が経過するまで、送風機9を間欠的に運転してもよい。この際、第二ヒータ11による加熱は行わない。完了工程の実施により、洗浄槽2内の被洗浄物への結露の付着を防止することができる。   In addition, after completion | finish of such a series of processes, you may drive the air blower 9 intermittently until a predetermined operation is made or predetermined time passes as a completion process. At this time, heating by the second heater 11 is not performed. By performing the completion step, it is possible to prevent the condensation from adhering to the object to be cleaned in the cleaning tank 2.

本発明の洗浄器1は、前記実施例の構成(制御を含む)に限らず適宜変更可能である。特に、(a)被洗浄物が収容される洗浄槽2と、(b)この洗浄槽2内に設けられる支持部材12に回転可能に保持され、支持部材12を介して供給される液体を噴射させるノズル孔3eが形成された洗浄ノズル3と、(c)洗浄槽2内の下部に連接された液貯留部4と、(d)この液貯留部4の液体を洗浄ノズル3の支持部材12へ循環供給する循環手段8とを備え、洗浄ノズル3は、鉛直方向へ沿う軸まわりに回転可能に、長手方向中央部が支持部材12に保持され、鉛直方向以外に液体を噴射させるノズル孔3eを有する中空部材から形成され、循環手段8による循環中、循環手段8による循環流量を変更するのであれば、その他の構成は、適宜に変更可能である。   The cleaning device 1 of the present invention is not limited to the configuration (including control) of the above-described embodiment, and can be changed as appropriate. In particular, (a) a cleaning tank 2 in which an object to be cleaned is accommodated, and (b) a liquid that is rotatably supported by a support member 12 provided in the cleaning tank 2 and supplied via the support member 12 is ejected. A cleaning nozzle 3 in which a nozzle hole 3e is formed; (c) a liquid storage unit 4 connected to a lower part in the cleaning tank 2; and (d) a support member 12 for the cleaning nozzle 3 for liquid in the liquid storage unit 4 The cleaning nozzle 3 is provided with a circulation means 8 that circulates to the nozzle, and the nozzle 3e that ejects liquid in a direction other than the vertical direction is supported by the support member 12 so that the cleaning nozzle 3 can rotate around an axis along the vertical direction. If the circulation flow rate by the circulation means 8 is changed during the circulation by the circulation means 8, other configurations can be appropriately changed.

たとえば、前記実施例では、二段階(たとえば40Hzと60Hz)で循環ポンプ23の周波数を変更する例を示したが、三段階(たとえば60Hz、50Hz、40Hz)またはそれ以上の段階で、循環ポンプ23の周波数を変更してもよい。あるいは、循環ポンプ23の周波数は、間欠的に変える以外に、連続的に(たとえば正弦波状に)変えてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the frequency of the circulation pump 23 is changed in two stages (for example, 40 Hz and 60 Hz) is shown. However, the circulation pump 23 is changed in three stages (for example, 60 Hz, 50 Hz, 40 Hz) or more stages. The frequency may be changed. Alternatively, the frequency of the circulation pump 23 may be changed continuously (for example, in a sine wave shape) in addition to being changed intermittently.

また、前記実施例では、循環ポンプ23をインバータ制御して、循環手段8による循環流量(言い換えれば洗浄ノズル3から噴射する液体の流速)を変更したが、循環ポンプ23をオンオフ制御しつつ、循環ポンプ23の出口側に設けた電動弁(モータバルブ)の開度を調整して、循環手段8による循環流量を変更してもよい。   In the above embodiment, the circulation pump 23 is inverter-controlled to change the circulation flow rate of the circulation means 8 (in other words, the flow rate of the liquid ejected from the cleaning nozzle 3). The circulation flow rate by the circulation means 8 may be changed by adjusting the opening of an electric valve (motor valve) provided on the outlet side of the pump 23.

また、前記実施例において、加熱タンク30や超音波振動子37は、場合により省略可能である。また、前記実施例において、乾燥工程を実施しないのであれば、場合により送風機9や第二ヒータ11を省略してもよい。   Moreover, in the said Example, the heating tank 30 and the ultrasonic transducer | vibrator 37 are omissible depending on the case. Moreover, in the said Example, as long as a drying process is not implemented, you may abbreviate | omit the air blower 9 and the 2nd heater 11 depending on the case.

さらに、前記実施例では、被洗浄物は、洗浄槽2内の網棚に対し出し入れされたが、洗浄槽2内に洗浄ラック(図1において二点鎖線で示される)を出し入れ可能とし、その洗浄ラックの網棚に被洗浄物を収容可能としてもよい。その場合、上下複数段に設けられる洗浄ノズル(特に最上部および/または最下部の洗浄ノズル以外の洗浄ノズル)3は、洗浄ラックに設けられる。洗浄ラックには、前記実施例と同様に、一側部に、上下複数段にアーム状の支持部材12が設けられ、各支持部材12に洗浄ノズル3が回転可能に保持される。そして、洗浄槽2に洗浄ラックを収容した状態で、循環ポンプ23からの液体(または送風機9からの空気)を洗浄ラックの洗浄ノズル3へ供給可能に、洗浄ラック側の支持部材12への流体供給口と、洗浄槽2側の循環ポンプ23からの配管の流体吐出口とが、着脱可能に接続される。なお、洗浄ラックは、下端部にキャスターが設けられたワゴン状とされてもよい。また、前記実施例において洗浄槽2内の上下両端部に設けられた洗浄ノズル3の内、一方または双方は、洗浄ラックに設けるのではなく、洗浄槽2の側に設けられてもよい。   Further, in the above embodiment, the object to be cleaned is put in and out of the net shelf in the cleaning tank 2, but a cleaning rack (indicated by a two-dot chain line in FIG. 1) can be put in and out of the cleaning tank 2, and the cleaning is performed. An article to be cleaned may be accommodated in the rack of the rack. In that case, the cleaning nozzles (particularly the cleaning nozzles other than the uppermost and / or lowermost cleaning nozzles) 3 provided in a plurality of upper and lower stages are provided in the cleaning rack. As in the above embodiment, the cleaning rack is provided with arm-like support members 12 in a plurality of upper and lower stages on one side, and the cleaning nozzle 3 is rotatably held by each support member 12. In the state where the cleaning rack is accommodated in the cleaning tank 2, the fluid from the circulation pump 23 (or the air from the blower 9) can be supplied to the cleaning nozzle 3 of the cleaning rack so that the fluid to the support member 12 on the cleaning rack side can be supplied. The supply port and the fluid discharge port of the piping from the circulation pump 23 on the cleaning tank 2 side are detachably connected. Note that the cleaning rack may have a wagon shape with a caster at the lower end. In the embodiment, one or both of the cleaning nozzles 3 provided at the upper and lower end portions in the cleaning tank 2 may be provided on the cleaning tank 2 side instead of being provided in the cleaning rack.

1 洗浄器
2 洗浄槽
3 洗浄ノズル(3a〜3d:傾斜面、3e:ノズル孔)
4 液貯留部
5 給水手段
6 排水手段
7 薬液供給手段
8 循環手段
9 送風機
10 第一ヒータ
11 第二ヒータ
12 支持部材
23 循環ポンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Washing machine 2 Washing tank 3 Washing nozzle (3a-3d: inclined surface, 3e: nozzle hole)
4 Liquid storage unit 5 Water supply means 6 Drainage means 7 Chemical liquid supply means 8 Circulation means 9 Blower 10 First heater 11 Second heater 12 Support member 23 Circulation pump

Claims (4)

被洗浄物が収容される洗浄槽と、
この洗浄槽内に設けられる支持部材に回転可能に保持され、前記支持部材を介して供給される液体を噴射させるノズル孔が形成された洗浄ノズルと、
前記洗浄槽内の下部に連接された液貯留部と、
この液貯留部の液体を前記洗浄ノズルの支持部材へ循環供給する循環手段とを備え、
前記洗浄ノズルは、鉛直方向へ沿う軸まわりに回転可能に、長手方向中央部が前記支持部材に保持され、鉛直方向以外に液体を噴射させる前記ノズル孔を有する中空部材から形成され、
前記循環手段による循環中、前記循環手段による循環流量を変更する
ことを特徴とする洗浄器。
A cleaning tank in which an object to be cleaned is stored;
A cleaning nozzle that is rotatably supported by a support member provided in the cleaning tank and has a nozzle hole that ejects liquid supplied through the support member;
A liquid reservoir connected to the lower part of the cleaning tank;
Circulation means for circulatingly supplying the liquid in the liquid reservoir to the support member of the cleaning nozzle,
The cleaning nozzle is formed of a hollow member having the nozzle hole that is capable of rotating about an axis along the vertical direction, the central portion in the longitudinal direction being held by the support member, and ejecting liquid in a direction other than the vertical direction,
A scrubber characterized by changing a circulation flow rate by the circulation means during circulation by the circulation means.
前記洗浄ノズルの長手方向中央部を境に、前記洗浄ノズルの長手方向一方には、長手方向外端部と幅方向一端部とに、ノズル孔付きの傾斜面が形成される一方、前記洗浄ノズルの長手方向他方には、長手方向外端部と幅方向他端部とに、ノズル孔付きの傾斜面が形成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の洗浄器。
An inclined surface with nozzle holes is formed at one longitudinal end of the cleaning nozzle at one end in the longitudinal direction and one end in the width direction, with the central portion in the longitudinal direction of the cleaning nozzle as a boundary. The cleaning device according to claim 1, wherein an inclined surface with a nozzle hole is formed on the other end in the longitudinal direction at the outer end in the longitudinal direction and the other end in the width direction.
前記循環手段による循環流量の変更は、前記液貯留部から前記洗浄ノズルの支持部材への循環配管に設けた循環ポンプの電源周波数ひいては回転数を、インバータを用いて変更することで行い、
前記循環ポンプの作動中、設定タイミングで前記循環ポンプの周波数を変更する
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の洗浄器。
The change of the circulation flow rate by the circulation means is performed by changing the power supply frequency of the circulation pump provided in the circulation pipe from the liquid storage part to the support member of the cleaning nozzle, and the rotation speed, using an inverter,
The washing machine according to claim 1 or 2, wherein the frequency of the circulation pump is changed at a set timing during the operation of the circulation pump.
前記循環ポンプは、第一周波数での第一設定時間の運転と、第二周波数での第二設定時間の運転とを交互に繰り返す
ことを特徴とする請求項3に記載の洗浄器。
The scrubber according to claim 3, wherein the circulation pump alternately repeats an operation for a first set time at a first frequency and an operation for a second set time at a second frequency.
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