JP2017069234A - Manufacturing method and manufacturing device of electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method and a manufacturing device capable of manufacturing an electronic apparatus having excellent durability.SOLUTION: A manufacturing method of an electronic apparatus, includes: a decompressing step for decompressing the inside of a chamber 1; a superimposing step for superimposing a first base material 10 and a second base material 20 fixed with sealing portions on at least one side, while disposing the sealing portion between the first base material 10 and the second base material 20 and disposing a sealed articled 13 in a closed space formed by the first base material 10, the second base material 20, and the sealing portion 12; an affixing step for pressing the sealing portion 13 through the first base material 10 and the second base material 20 by using a press portion 3 in the chamber, and affixing the first base material 10 and the second base material 20 by the sealing portion 13 to a base material assembly; a pressure increasing step for increasing pressure in the chamber 1 to be larger than pressure in the chamber 1 in the affixing step; and a press portion separating step for separating the press portion 3 from the base material assembly.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、電子機器の製造方法及び製造装置に関する。   The present invention relates to an electronic device manufacturing method and a manufacturing apparatus.

色素増感太陽電池や有機EL素子などの電子機器は、相対向する基材同士が封止部を介して組み立てられ、相対向する基材と封止部とによって形成される閉空間内に電解質などの被封止物を配置している。   Electronic devices such as a dye-sensitized solar cell and an organic EL element are configured such that opposing substrates are assembled through a sealing portion, and an electrolyte is contained in a closed space formed by the opposing substrate and the sealing portion. The objects to be sealed such as are arranged.

このような電子機器の製造方法としては、例えば下記特許文献1に記載のものが知られている。下記特許文献1では、チャンバ内において、少なくとも一方に封止部が固定された第1基材及び第2基材を、減圧下、第1基材と第2基材との間に封止部を配置し且つ第1基材と第2基材と封止部とによって形成される閉空間内に被封止物を配置した状態で重ね合せた後、プレス部を用い、第1基材及び第2基材を介して封止部をプレスして封止部によって第1基材と第2基材とを貼り合せて基材組立体を製造し、その後、プレス部を基材組立体から離間させることにより電子機器を製造する方法が開示されている。   As a method for manufacturing such an electronic device, for example, the one described in Patent Document 1 below is known. In the following Patent Document 1, in a chamber, a first base material and a second base material each having a sealing part fixed to at least one are sealed between the first base material and the second base material under reduced pressure. Are placed in a closed space formed by the first base material, the second base material, and the sealing portion, and then the first base material and The sealing part is pressed through the second base material, and the base material assembly is manufactured by bonding the first base material and the second base material by the sealing part, and then the pressing part is removed from the base material assembly. A method of manufacturing an electronic device by separating the devices is disclosed.

特開2015−32393号公報JP2015-32393A

しかし、上記特許文献1に記載の電子機器の製造方法は、以下に示す課題を有していた。   However, the method for manufacturing an electronic device described in Patent Document 1 has the following problems.

すなわち、上記特許文献1に記載の電子機器の製造方法は、得られる電子機器の耐久性の点で改善の余地を有していた。   That is, the method for manufacturing an electronic device described in Patent Document 1 has room for improvement in terms of durability of the obtained electronic device.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、優れた耐久性を有する電子機器を製造できる電子機器の製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the manufacturing method and manufacturing apparatus of an electronic device which can manufacture the electronic device which has the outstanding durability.

本発明者は、上記特許文献1記載の電子機器の製造方法において上記課題が生じる原因について検討した。その結果、本発明者は以下のことを考えた。すなわち、上記特許文献1記載の電子機器の製造方法では、プレス部を用い、第1基材及び第2基材を介して封止部をプレスして封止部によって第1基材と第2基材とを貼り合せて基材組立体を製造し、その後、プレス部を基材組立体から離間させる。このとき、基材組立体内の閉空間の圧力が、チャンバ内の圧力と同じ圧力又はそれより高い圧力であると、プレス部を基材組立体から離間させた後、基材組立体がしっかりと押さえられていないので、封止部が第1基材又は第2基材に対して十分に接着されていない場合などに電解質の漏洩が起きる可能性があるのではないかと本発明者は考えた。そこで、第1基材と第2基材との貼合せが完了した後、チャンバ内の圧力を、封止部をプレスしている際のチャンバ内の圧力よりも高くなるようにすれば、プレス部を基材組立体から離間しても、第1基材と封止部との界面や、第2基材と封止部との界面にかかる応力を小さくすることができ、被封止物の漏洩又は外部からの水分の侵入を十分に抑制できるのではないかと本発明者は考えた。こうして本発明者は、本発明を完成するに至ったものである。   The inventor examined the cause of the above problem in the method of manufacturing the electronic device described in Patent Document 1. As a result, the present inventor considered the following. That is, in the method of manufacturing an electronic device described in Patent Document 1, the press part is used, the sealing part is pressed via the first base material and the second base material, and the first base material and the second base material are pressed by the sealing part. A base material assembly is manufactured by laminating the base material, and then the press portion is separated from the base material assembly. At this time, if the pressure in the closed space in the substrate assembly is the same as or higher than the pressure in the chamber, the substrate assembly is firmly fixed after the press portion is separated from the substrate assembly. The present inventor thought that electrolyte leakage may occur when the sealing portion is not sufficiently bonded to the first base material or the second base material because it is not pressed. . Therefore, after the bonding of the first base material and the second base material is completed, if the pressure in the chamber is made higher than the pressure in the chamber when the sealing portion is pressed, the press Even if the portion is separated from the base material assembly, the stress applied to the interface between the first base material and the sealing portion and the interface between the second base material and the sealing portion can be reduced. The present inventor thought that leakage of water or intrusion of moisture from the outside could be sufficiently suppressed. Thus, the present inventor has completed the present invention.

すなわち、本発明は、第1基材と、前記第1基材に対向する第2基材と、前記第1基材及び前記第2基材の間に配置される被封止物と、前記第1基材及び前記第2基材を接続し、前記被封止物を包囲する封止部とを備える電子機器を製造する電子機器の製造方法であって、チャンバ内の空間を減圧する減圧工程と、前記減圧工程の後、前記チャンバ内において、少なくとも一方に前記封止部が固定された前記第1基材及び前記第2基材を、前記第1基材と前記第2基材との間に前記封止部を配置し且つ前記第1基材と前記第2基材と前記封止部とによって形成される閉空間内に前記被封止物を配置した状態で重ね合せる重合せ工程と、前記重合せ工程の後、前記チャンバ内において、プレス部を用い、前記第1基材及び前記第2基材を介して前記封止部をプレスして前記封止部によって前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せて基材組立体を得る貼合せ工程と、前記貼合せ工程の後、前記チャンバ内における圧力を、前記貼合せ工程における前記チャンバ内の圧力よりも増大させる圧力増大工程と、前記圧力増大工程の後、前記プレス部を前記基材組立体から離間させることにより前記電子機器を得るプレス部離間工程とを含む電子機器の製造方法である。   That is, the present invention provides a first base material, a second base material facing the first base material, an object to be sealed disposed between the first base material and the second base material, An electronic device manufacturing method for manufacturing an electronic device that includes a sealing portion that connects the first base material and the second base material and surrounds the object to be sealed, wherein the pressure in the space in the chamber is reduced. After the step and the pressure-reducing step, the first base material and the second base material in which the sealing portion is fixed to at least one of the first base material and the second base material in the chamber. The superposition | polymerization which arrange | positions in the state which has arrange | positioned the said sealing part in the state and has arrange | positioned the said to-be-sealed object in the closed space formed by the said 1st base material, the said 2nd base material, and the said sealing part. After the step and the superposition step, a press part is used in the chamber via the first base material and the second base material. A bonding step of pressing the sealing portion and bonding the first base material and the second base material by the sealing portion to obtain a base material assembly; and after the bonding step, A pressure increasing step for increasing the pressure in the laminating step in comparison with the pressure in the chamber, and a press for obtaining the electronic device by separating the press portion from the substrate assembly after the pressure increasing step. An electronic device manufacturing method including a part separation step.

この電子機器の製造方法によれば、第1基材と第2基材とを貼り合せて基材組立体を得た後、チャンバ内における圧力を、貼合せ工程におけるチャンバ内の圧力よりも増大させている。このため、プレス部を基材組立体から離間させた後でも、基材組立体は、チャンバ内の圧力によって内側に向かって押圧された状態となる。その結果、プレス部を基材組立体から離間しても、第1基材と封止部との界面や、第2基材と封止部との界面にかかる応力を小さくすることができ、得られる電子機器において、被封止物の漏洩又は外部からの水分の侵入を十分に抑制できる。従って、本発明の電子機器の製造方法によれば、優れた耐久性を有する電子機器を製造できる。   According to this method for manufacturing an electronic device, after the first base material and the second base material are bonded together to obtain the base material assembly, the pressure in the chamber is increased more than the pressure in the chamber in the bonding process. I am letting. For this reason, even after the press portion is separated from the base material assembly, the base material assembly is pressed inward by the pressure in the chamber. As a result, even if the press part is separated from the base material assembly, the stress applied to the interface between the first base material and the sealing part and the interface between the second base material and the sealing part can be reduced. In the obtained electronic device, leakage of an object to be sealed or entry of moisture from the outside can be sufficiently suppressed. Therefore, according to the method for manufacturing an electronic device of the present invention, an electronic device having excellent durability can be manufactured.

上記電子機器の製造方法において、前記プレス部離間工程における前記チャンバ内における圧力を大気圧にすることが好ましい。   In the method for manufacturing the electronic device, it is preferable that the pressure in the chamber in the press part separating step is an atmospheric pressure.

この場合、第1基材と第2基材とを貼り合せて基材組立体を得た後、プレス部を基材組立体から離間させた後でも、基材組立体は、チャンバ内の圧力によって内側に向かって特に大きい圧力で押圧された状態となる。その結果、プレス部を基材組立体から離間しても、第1基材と封止部との界面や、第2基材と封止部との界面にかかる応力を特に小さくすることができ、得られる電子機器において、被封止物の漏洩又は外部からの水分の侵入を特に十分に抑制できる。従って、本発明の電子機器の製造方法によれば、特に優れた耐久性を有する電子機器を製造できる。   In this case, after the first base material and the second base material are bonded together to obtain the base material assembly, the base material assembly remains in the chamber even after the press portion is separated from the base material assembly. Therefore, it is pressed inward with a particularly large pressure. As a result, even when the press part is separated from the base material assembly, the stress applied to the interface between the first base material and the sealing part and the interface between the second base material and the sealing part can be particularly reduced. In the obtained electronic device, leakage of the object to be sealed or intrusion of moisture from the outside can be particularly sufficiently suppressed. Therefore, according to the method for manufacturing an electronic device of the present invention, an electronic device having particularly excellent durability can be manufactured.

上記電子機器の製造方法は、前記貼合せ工程において、前記封止部を加熱しながらプレスして前記封止部によって前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せる場合に特に有効である。   The electronic device manufacturing method is particularly effective in the bonding step when the sealing portion is pressed while heating and the first base material and the second base material are bonded together by the sealing portion. is there.

これは、封止部を加熱しながらプレスすると、プレス部の熱が、第1基材と第2基材と封止部とによって形成される閉空間に伝わってその閉空間が加熱され、その結果、第1基材と第2基材と封止部とによって形成される閉空間内の圧力が、封止部をプレスしている際のチャンバ内の圧力よりも高くなりやすいためである。   This is because when the sealing portion is pressed while heating, the heat of the pressing portion is transmitted to the closed space formed by the first base material, the second base material, and the sealing portion, and the closed space is heated. As a result, the pressure in the closed space formed by the first base material, the second base material, and the sealing portion is likely to be higher than the pressure in the chamber when the sealing portion is pressed.

また本発明は、第1基材と、前記第1基材に対向する第2基材と、前記第1基材及び前記第2基材の間に配置される被封止物と、前記第1基材及び前記第2基材を接続し、前記被封止物を包囲する封止部とを備える電子機器を製造する電子機器の製造装置であって、チャンバと、前記チャンバ内に設けられ、前記第1基材を支持する第1基材支持部と、前記チャンバ内で前記第1基材支持部に対向する位置に設けられ、前記第1基材側で前記第2基材を支持する第2基材支持部と、前記第1基材及び前記第2基材を介して前記第1基材と前記第2基材との間に配置される前記封止部をプレスするプレス部と、前記プレス部を前記第1基材支持部に対して相対的に移動させることが可能な第1移動機構と、前記第1基材支持部を前記第2基材支持部に対して相対的に移動させることが可能な第2移動機構と、前記チャンバ内の圧力を測定する圧力測定装置と、前記チャンバ内の圧力を調整する圧力調整手段と、前記圧力測定装置で測定された前記チャンバ内の圧力に基づいて、少なくとも前記第1移動機構、前記第2移動機構及び前記圧力調整手段を制御する制御装置とを備え、前記制御装置が、前記圧力調整手段により前記チャンバ内の空間を減圧させ、前記圧力測定装置によって測定された前記チャンバ内の圧力が前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せる際の圧力に達した後、前記第2移動機構によって前記第1基材支持部を前記第2基材支持部に向かって相対的に移動させ、前記第1基材支持部が、前記第1基材と前記第2基材とが前記封止部を介して重ね合わされる位置に達した後、前記第1移動機構により前記プレス部を前記第1基材支持部に向かって相対的に移動させて前記封止部をプレスさせ、前記プレス部により前記第1基材と前記第2基材との貼合せが完了した後、前記圧力調整手段により前記チャンバ内の圧力を増大させ、前記圧力測定装置によって測定された前記チャンバ内の圧力が所定の圧力に達した後、前記第1移動機構により前記プレス部を前記第1基材支持部から離れる方向に相対的に移動させることによって前記プレス部を前記基材組立体から離間させるように、少なくとも前記第1移動機構、前記第2移動機構及び前記圧力調整手段を制御する、電子機器の製造装置である。   The present invention also includes a first base material, a second base material facing the first base material, an object to be sealed disposed between the first base material and the second base material, An electronic device manufacturing apparatus that manufactures an electronic device including a sealing portion that connects a base material and the second base material and surrounds the object to be sealed, the chamber being provided in the chamber A first base material support part for supporting the first base material, and a position facing the first base material support part in the chamber, and supporting the second base material on the first base material side. A second base material supporting part, and a press part that presses the sealing part disposed between the first base material and the second base material via the first base material and the second base material. A first moving mechanism capable of moving the press portion relative to the first base material support portion, and the first base material support portion to the second base material support. A second moving mechanism that can be moved relative to the part, a pressure measuring device that measures the pressure in the chamber, a pressure adjusting means that adjusts the pressure in the chamber, and the pressure measuring device. A control device that controls at least the first moving mechanism, the second moving mechanism, and the pressure adjusting means based on the measured pressure in the chamber, and the control device uses the pressure adjusting means to control the chamber. The internal space is depressurized, and after the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device reaches the pressure for bonding the first base material and the second base material, the second moving mechanism The first base material support part is moved relatively toward the second base material support part, and the first base material support part is formed by the first base material and the second base material being the sealing part. Overlaid via Then, the first moving mechanism moves the press part relatively toward the first base material support part to press the sealing part, and the press part causes the first base material and the first base material to be pressed. (2) After the bonding with the base material is completed, the pressure in the chamber is increased by the pressure adjusting means, and the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device reaches a predetermined pressure. At least the first movement mechanism, the first movement mechanism, and the like so that the pressing section is moved away from the base material assembly by relatively moving the pressing section in a direction away from the first base material support section by one moving mechanism. 2 is an electronic device manufacturing apparatus that controls the moving mechanism and the pressure adjusting means.

この電子機器の製造装置によれば、制御装置によって、圧力測定装置で測定されたチャンバ内の圧力に基づいて、少なくとも第1移動機構、第2移動機構及び圧力調整手段が制御される。すなわち、制御装置によって、第1基材と第2基材とが貼り合わされて基材組立体が得られた後、チャンバ内における圧力が、貼合せ工程におけるチャンバ内の圧力よりも増大される。このため、プレス部が基材組立体から離間された後でも、基材組立体は、チャンバ内の圧力によって内側に向かって押圧された状態となる。その結果、プレス部を基材組立体から離間しても、第1基材と封止部との界面や、第2基材と封止部との界面にかかる応力を小さくすることができ、得られる電子機器において、被封止物の漏洩又は外部からの水分の侵入を十分に抑制できる。従って、本発明の電子機器の製造装置によれば、優れた耐久性を有する電子機器を製造できる。   According to the electronic device manufacturing apparatus, the control device controls at least the first moving mechanism, the second moving mechanism, and the pressure adjusting means based on the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device. That is, after a 1st base material and a 2nd base material are bonded together and the base material assembly is obtained by the control apparatus, the pressure in a chamber is increased rather than the pressure in the chamber in a bonding process. For this reason, even after the press part is separated from the base material assembly, the base material assembly is pressed inward by the pressure in the chamber. As a result, even if the press part is separated from the base material assembly, the stress applied to the interface between the first base material and the sealing part and the interface between the second base material and the sealing part can be reduced. In the obtained electronic device, leakage of an object to be sealed or entry of moisture from the outside can be sufficiently suppressed. Therefore, according to the electronic device manufacturing apparatus of the present invention, an electronic device having excellent durability can be manufactured.

上記電子機器の製造装置においては、前記圧力調整手段が、例えば前記チャンバに接続される第1配管と、前記第1配管に接続され、前記チャンバ内のガスを排出させる吸引ポンプと、前記第1配管に設けられる第1バルブと、前記チャンバに接続される第2配管と、前記第2配管に接続され、前記チャンバ内にガスを供給するガス供給源と、前記第2配管に設けられる第2バルブとを有する。   In the electronic apparatus manufacturing apparatus, the pressure adjusting means is, for example, a first pipe connected to the chamber, a suction pump connected to the first pipe and exhausting gas in the chamber, and the first A first valve provided in the pipe; a second pipe connected to the chamber; a gas supply source connected to the second pipe for supplying gas into the chamber; and a second provided in the second pipe. And a valve.

この場合、第1バルブを開き、第2バルブを閉じた状態で、吸引ポンプを作動させると、チャンバ内のガスが第1配管を通ってチャンバから排出され、チャンバ内の圧力が低下される。一方、第1バルブを閉じ、第2バルブを開いた状態でガス供給源からガスを供給すると、ガスは第2配管を通ってチャンバ内に供給される。このため、チャンバ内の圧力を増大させることができる。こうして、圧力調整手段によってチャンバ内の圧力を調整することができる。   In this case, if the suction pump is operated with the first valve opened and the second valve closed, the gas in the chamber is discharged from the chamber through the first pipe, and the pressure in the chamber is reduced. On the other hand, when the gas is supplied from the gas supply source with the first valve closed and the second valve opened, the gas is supplied into the chamber through the second pipe. For this reason, the pressure in the chamber can be increased. Thus, the pressure in the chamber can be adjusted by the pressure adjusting means.

本発明によれば、優れた耐久性を有する電子機器を製造できる電子機器の製造方法及び製造装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method and manufacturing apparatus of an electronic device which can manufacture the electronic device which has the outstanding durability are provided.

本発明の電子機器の製造装置の一実施形態を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view showing one embodiment of the electronic device manufacturing apparatus of the present invention. 図1における第2基材支持部を示す切断面端面図である。It is a cut surface end view which shows the 2nd base material support part in FIG. 図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一工程を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view which shows 1 process of the manufacturing method of the electronic device using the manufacturing apparatus of the electronic device of FIG. 図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一工程を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view which shows 1 process of the manufacturing method of the electronic device using the manufacturing apparatus of the electronic device of FIG. 図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一工程を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view which shows 1 process of the manufacturing method of the electronic device using the manufacturing apparatus of the electronic device of FIG. 図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一工程を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view which shows 1 process of the manufacturing method of the electronic device using the manufacturing apparatus of the electronic device of FIG. 図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一工程を示す部分切断面端面図である。It is a partial cut surface end view which shows 1 process of the manufacturing method of the electronic device using the manufacturing apparatus of the electronic device of FIG. チャンバ内の圧力及び第1基材支持部の位置のタイムチャートを示す図である。It is a figure which shows the time chart of the pressure in a chamber, and the position of a 1st base material support part.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

まず本発明の電子機器の製造装置の実施形態について図1及び図2を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明の電子機器の製造装置の第1実施形態を示す部分切断面端面図、図2は、図1における第2基材支持部を示す切断面端面図である。   First, an embodiment of an electronic device manufacturing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a partially cut end view showing a first embodiment of the electronic device manufacturing apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a cut end view showing the second base material support portion in FIG.

図1に示すように、電子機器の製造装置100はチャンバ1を有し、チャンバ1は、開口を有する本体部1aと、本体部1aの開口を塞ぐように設けられる蓋部1bとを有している。なお、チャンバ1を構成する材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、炭素鋼、SUSなどが用いられる。   As shown in FIG. 1, an electronic device manufacturing apparatus 100 includes a chamber 1, and the chamber 1 includes a main body 1a having an opening and a lid 1b provided to close the opening of the main body 1a. ing. In addition, as a material which comprises the chamber 1, aluminum, aluminum alloy, carbon steel, SUS etc. are used, for example.

チャンバ1には、ガスを流通させるガス流通口1cが形成され、ガス流通口1cには、チャンバ1内の圧力を調整する圧力調整手段2が接続されている。   A gas flow port 1c for flowing gas is formed in the chamber 1, and a pressure adjusting means 2 for adjusting the pressure in the chamber 1 is connected to the gas flow port 1c.

本実施形態では、圧力調整手段2は、ガス流通口1cに接続される第1配管2aと、第1配管2aに接続され、チャンバ1内のガスを排出させる吸引ポンプ2bと、第1配管2aに設置される第1バルブV1と、第1配管2aにおける第1バルブV1とガス流通口1cとの間に接続される第2配管2cと、第2配管2cに設けられる第2バルブV2と、第2配管2cに接続され、第2配管2cを通してチャンバ1内にガスを供給するガス供給源2dとを有する。この圧力調整手段2によれば、以下のようにしてチャンバ1内の空間の圧力が調整される。すなわち、まず第1バルブV1を開き、第2バルブV2を閉じた状態で、吸引ポンプ2bを作動させると、チャンバ1のガス流通口1cを通してチャンバ1内のガスが第1配管2aを通ってチャンバ1から排出され、チャンバ1内の圧力が低下される。一方、第1バルブV1を閉じ、第2バルブV2を開いた状態でガス供給源2dから第2配管2cを通してガスを供給すると、ガスは第2配管2cを通ってガス流通口1cからチャンバ1内に供給される。このため、チャンバ1内の圧力を増大させることができる。こうして、圧力調整手段2によってチャンバ1内の圧力を調整することができる。なお、第2配管2cは、ガス流通口1cに直接接続されていてもよいし、チャンバ1のうちガス流通口1c以外の箇所に接続されていてもよい。またガス供給源2dは、窒素ガスや空気などを封入したガスボンベを有するガス供給装置であってもよいし、大気であってもよい。   In the present embodiment, the pressure adjusting means 2 includes a first pipe 2a connected to the gas flow port 1c, a suction pump 2b connected to the first pipe 2a and exhausting the gas in the chamber 1, and the first pipe 2a. A first valve V1 installed in the first pipe 2a, a second pipe 2c connected between the first valve V1 and the gas flow port 1c in the first pipe 2a, a second valve V2 provided in the second pipe 2c, A gas supply source 2d that is connected to the second pipe 2c and supplies gas into the chamber 1 through the second pipe 2c. According to the pressure adjusting means 2, the pressure in the space in the chamber 1 is adjusted as follows. That is, when the suction pump 2b is operated with the first valve V1 first opened and the second valve V2 closed, the gas in the chamber 1 passes through the first piping 2a through the gas flow port 1c of the chamber 1 and the chamber. 1 and the pressure in the chamber 1 is reduced. On the other hand, when the gas is supplied from the gas supply source 2d through the second pipe 2c with the first valve V1 closed and the second valve V2 open, the gas passes through the second pipe 2c and passes through the gas distribution port 1c into the chamber 1. To be supplied. For this reason, the pressure in the chamber 1 can be increased. Thus, the pressure in the chamber 1 can be adjusted by the pressure adjusting means 2. The second pipe 2c may be directly connected to the gas circulation port 1c, or may be connected to a portion of the chamber 1 other than the gas circulation port 1c. The gas supply source 2d may be a gas supply device having a gas cylinder filled with nitrogen gas, air, or the like, or the atmosphere.

さらに図1において、第1配管2aには、チャンバ1内の圧力を測定する圧力測定装置70が接続されている。なお、圧力測定装置70は、チャンバ1内の圧力を測定できる限り、いかなる箇所に設けられてもよい。例えば圧力測定装置70はチャンバ1内に設けられてもよい。   Further, in FIG. 1, a pressure measuring device 70 for measuring the pressure in the chamber 1 is connected to the first pipe 2a. The pressure measuring device 70 may be provided at any location as long as the pressure in the chamber 1 can be measured. For example, the pressure measuring device 70 may be provided in the chamber 1.

チャンバ1の本体部1a内には、第1基材10を支持する第1基材支持部11が設けられており、第1基材支持部11に対向する位置には、第1基材10側で第2基材20を支持する第2基材支持部21が配置されるようになっている。またチャンバ1の蓋部1bには、2つの環状の加圧面3aを有するプレス部3が第2基材支持部21に対向する位置に固定されている。本実施形態では、プレス部3は加熱部を兼ねている。なお、第1基材支持部11を構成する材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、鋼、SUSなどが用いられ、プレス部3を構成する材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、炭素鋼、銅、SUSなどが用いられる。   A first base material support portion 11 that supports the first base material 10 is provided in the main body portion 1 a of the chamber 1, and the first base material 10 is located at a position facing the first base material support portion 11. The 2nd base material support part 21 which supports the 2nd base material 20 by the side is arrange | positioned. Further, a press part 3 having two annular pressurizing surfaces 3 a is fixed to the lid part 1 b of the chamber 1 at a position facing the second base material support part 21. In the present embodiment, the press unit 3 also serves as a heating unit. In addition, as a material which comprises the 1st base material support part 11, aluminum, aluminum alloy, steel, SUS etc. are used, for example, As a material which comprises the press part 3, aluminum, aluminum alloy, carbon steel, copper, for example SUS or the like is used.

また電子機器の製造装置100は、第1基材支持部11をプレス部3に対して移動させる第1移動機構30を備えている。第1移動機構30は、第1基材支持部11の下面で第1基材支持部11を支持し、チャンバ1の本体部1aを貫通して図1の矢印A方向に沿って第1基材支持部11を昇降させる昇降シャフト31と、チャンバ1の外側に配置され、昇降シャフト31を昇降させる駆動部32とを有している。駆動部32はモータ33を有しており、モータ33にはタイマー90が電気的に接続されている。モータ33は、図8に示すように、タイマー90によって時刻t2に昇降シャフト31を上昇させるように駆動し、時刻t3に第1基材支持部11がプレス位置に到達した後に停止し、時刻t5には昇降シャフト31を下降させるように駆動し、時刻t6にモータ33を停止させるようになっている。本実施形態では、第1移動機構30は、第1基材支持部11を第2基材支持部21に対して移動させることも可能であり、第2移動機構をも兼ねている。   The electronic device manufacturing apparatus 100 includes a first moving mechanism 30 that moves the first base material support portion 11 with respect to the press portion 3. The first moving mechanism 30 supports the first base material support part 11 on the lower surface of the first base material support part 11, passes through the main body part 1a of the chamber 1 and extends along the direction of arrow A in FIG. It has the raising / lowering shaft 31 which raises / lowers the material support part 11, and the drive part 32 which is arrange | positioned on the outer side of the chamber 1 and raises / lowers the raising / lowering shaft 31. The drive unit 32 has a motor 33, and a timer 90 is electrically connected to the motor 33. As shown in FIG. 8, the motor 33 is driven by the timer 90 to raise the elevating shaft 31 at time t2, stops after the first base material support portion 11 reaches the press position at time t3, and time t5 In this case, the elevating shaft 31 is driven to be lowered, and the motor 33 is stopped at time t6. In the present embodiment, the first moving mechanism 30 can also move the first base material support portion 11 with respect to the second base material support portion 21 and also serves as a second movement mechanism.

なお、電子機器の製造装置100は、チャンバ1の本体部1aと駆動部32とを気密に接続する気密保持部材40を備えている。気密保持部材40としては、例えばベローズなどが用いられる。   The electronic device manufacturing apparatus 100 includes an airtight holding member 40 that hermetically connects the main body 1a of the chamber 1 and the drive unit 32. As the airtight holding member 40, for example, a bellows or the like is used.

第1基材支持部11は、第1基材10を支持する第1基材支持面11aと、第1基材支持面11aの両側に形成されるガイド部設置面11bとを有している。ガイド部設置面11bからは4本の棒状のガイド部50が図1の矢印A方向に沿って延びている。図1に示すように、ガイド部50には、第1基材支持部11と第2基材支持部21との間に設けられ、第1基材支持部11と第2基材支持部21との間の距離を調整することが可能な距離調整部材60が設けられている。距離調整部材60として、本実施形態では、バネ部材が設けられている。   The 1st base material support part 11 has the 1st base material support surface 11a which supports the 1st base material 10, and the guide part installation surface 11b formed in the both sides of the 1st base material support surface 11a. . Four rod-shaped guide portions 50 extend from the guide portion installation surface 11b along the direction of arrow A in FIG. As shown in FIG. 1, the guide part 50 is provided between the first base material support part 11 and the second base material support part 21, and the first base material support part 11 and the second base material support part 21. A distance adjusting member 60 capable of adjusting the distance between the two is provided. In this embodiment, a spring member is provided as the distance adjustment member 60.

図2に示すように、第2基材支持部21は、環状の第2基材支持フレーム21aと、第2基材支持フレーム21aの内側開口を覆うように設けられ、第2基材20を固定するための第2基材固定部21bとを有している。第2基材支持フレーム21aには、ガイド部50を挿入させるための貫通孔21cが形成されている。なお、第2基材支持フレーム21aを構成する材料としては、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、鋼、SUSなどが用いられ、第2基材固定部21bを構成する材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリイミド樹脂などが用いられる。   As shown in FIG. 2, the second base material support portion 21 is provided so as to cover the annular second base material support frame 21a and the inner opening of the second base material support frame 21a. It has the 2nd base material fixing | fixed part 21b for fixing. A through hole 21c for inserting the guide portion 50 is formed in the second base material support frame 21a. In addition, as a material which comprises the 2nd base material support frame 21a, aluminum, aluminum alloy, steel, SUS etc. are used, for example, as a material which comprises the 2nd base material fixing | fixed part 21b, a polyethylene terephthalate resin (PET) is used, for example. ), Polyimide resin or the like is used.

また図1に示すように、電子機器の製造装置100は、タイマー90、プレス部3、圧力測定装置70及び圧力調整手段2に電気的に接続され、圧力測定装置70で測定された圧力に基づいて、タイマー90を通じて第1移動機構30を制御するとともに、プレス部3及び圧力調整手段2を制御する制御装置80をさらに備えている。制御装置80は、図8に示すように、時刻t1において圧力調整手段2によりチャンバ1内の空間を減圧させ、圧力測定装置70によって測定されたチャンバ1内の圧力が時刻t2において第1基材10と第2基材20とを貼り合せる際の圧力(Ppress)に達した後、第1移動機構30によって第1基材支持部11を第2基材支持部21に向かって移動させ、第1基材支持部11が、第1基材10と第2基材20とが封止部12,22を介して重ね合わされる位置(プレス位置)に達した後、時刻t3において、第1移動機構30により第1基材支持部11をプレス部3に向かって移動させ封止部12,22をプレスさせ、プレス部3により第1基材10と第2基材20とが貼り合わされて基材組立体が得られた後、時刻t4において圧力調整手段2によりチャンバ1内の圧力を増大させ、圧力測定装置70によって測定されたチャンバ1内の圧力が所定の圧力(例えばP)に達した後、時刻t5において第1移動機構30により第1基材支持部11をプレス部3から離れる方向に移動させることによってプレス部3を基材組立体から離間させ、時刻t6において第1移動機構30を停止させるように、タイマー90を通じて第1移動機構30を制御するとともに、プレス部3及び圧力調整手段2を制御するものである。 As shown in FIG. 1, the electronic device manufacturing apparatus 100 is electrically connected to the timer 90, the press unit 3, the pressure measuring device 70, and the pressure adjusting unit 2, and is based on the pressure measured by the pressure measuring device 70. The control unit 80 further controls the first moving mechanism 30 through the timer 90 and controls the press unit 3 and the pressure adjusting means 2. As shown in FIG. 8, the control device 80 depressurizes the space in the chamber 1 by the pressure adjusting means 2 at time t1, and the pressure in the chamber 1 measured by the pressure measuring device 70 is the first base material at time t2. 10 and the second base material 20 are bonded to each other, and after reaching the pressure (P press ), the first moving mechanism 30 moves the first base material support part 11 toward the second base material support part 21, After the first base material support part 11 reaches the position (press position) where the first base material 10 and the second base material 20 are overlapped via the sealing parts 12 and 22, at time t3, the first base material support part 11 The first base material support portion 11 is moved toward the press portion 3 by the moving mechanism 30 to press the sealing portions 12 and 22, and the first base material 10 and the second base material 20 are bonded together by the press portion 3. At time t4 after the base material assembly is obtained Increasing the pressure in the chamber 1 by the pressure regulating means 2, after the pressure in the chamber 1 measured by the pressure measuring device 70 reaches a predetermined pressure (for example, P 0), the first moving mechanism 30 at time t5 The first base material support portion 11 is moved away from the press portion 3 to move the press portion 3 away from the base material assembly, and the first moving mechanism 30 is stopped at time t6 through the first timer 90 so as to stop. While controlling the moving mechanism 30, the press part 3 and the pressure adjustment means 2 are controlled.

次に、上述した電子機器の製造装置100を用いた電子機器の製造方法について、図3〜図7を参照しながら、電子機器として色素増感太陽電池モジュールを製造する場合を例にして説明する。図3〜図7は、図1の電子機器の製造装置を用いた電子機器の製造方法の一連の工程を示す部分切断面端面図である。   Next, an electronic device manufacturing method using the above-described electronic device manufacturing apparatus 100 will be described with reference to FIGS. 3 to 7 taking as an example the case of manufacturing a dye-sensitized solar cell module as an electronic device. . 3 to 7 are partial cross-sectional end views showing a series of steps of an electronic device manufacturing method using the electronic device manufacturing apparatus of FIG.

まず第1基材10に2つの環状の封止部12が互いに離間して固定されたものを用意する。第1基材10としては、例えば作用極を用いる。ここで、作用極としては、1枚の導電性基板10a上に多孔質酸化物半導体層10bが配置されたものを用いる。導電性基板10aとしては、例えば透明基板上に透明導電層を形成したものを用いる。第1基材10においては、多孔質酸化物半導体層10bが封止部12の内側に配置されるように封止部12が固定される。   First, a first base 10 is prepared in which two annular sealing portions 12 are fixed apart from each other. For example, a working electrode is used as the first base material 10. Here, as the working electrode, one in which the porous oxide semiconductor layer 10b is arranged on one conductive substrate 10a is used. As the conductive substrate 10a, for example, a substrate in which a transparent conductive layer is formed on a transparent substrate is used. In the 1st base material 10, the sealing part 12 is fixed so that the porous oxide semiconductor layer 10b may be arrange | positioned inside the sealing part 12. FIG.

そして、図3に示すように、チャンバ1の蓋部1bを取り外し、チャンバ1の本体部1a内において、第1基材支持部11の第1基材支持面11a上に第1基材10を配置して第1基材10を支持させる。その後、第1基材10の多孔質酸化物半導体層10b上に被封止物13としての電解質を配置する。ここで、電解質としては、液体電解質、固体電解質又は疑似固体電解質のいずれをも用いることもできる。   Then, as shown in FIG. 3, the lid portion 1 b of the chamber 1 is removed, and the first base material 10 is placed on the first base material support surface 11 a of the first base material support portion 11 in the main body portion 1 a of the chamber 1. It arrange | positions and the 1st base material 10 is supported. Thereafter, an electrolyte as the object to be sealed 13 is disposed on the porous oxide semiconductor layer 10 b of the first base material 10. Here, any of a liquid electrolyte, a solid electrolyte, and a pseudo solid electrolyte can be used as the electrolyte.

一方、2つの第2基材20の各々に環状の封止部22を固定したものを用意する。また図2に示すように、第2基材支持部21を用意する。そして、2つの封止部22を設けた第2基材20を、第2基材支持部21の第2基材固定部21bに固定する。第2基材固定部21bとしては、例えば粘着シートなどを用いることができる。   On the other hand, what fixed the cyclic | annular sealing part 22 to each of the two 2nd base materials 20 is prepared. Moreover, as shown in FIG. 2, the 2nd base material support part 21 is prepared. Then, the second base material 20 provided with the two sealing portions 22 is fixed to the second base material fixing portion 21 b of the second base material support portion 21. As the 2nd base material fixing | fixed part 21b, an adhesive sheet etc. can be used, for example.

そして、図4に示すように、第2基材支持部21をチャンバ1の本体部1a内に入れ、ガイド部50に貫通させる。具体的には、第2基材支持部21の第2基材支持フレーム21aの貫通孔21cにガイド部50を貫通させる。このとき、ガイド部50には、距離調整部材60としてバネ部材が設けられているため、距離調整部材60が少し縮んだ後、第1基材支持部11と第2基材支持部21とが離間した状態に保持される。このとき、第1基材10と第2基材20とが離間した状態に保持される。このとき、第1基材支持部11の位置を「初期位置」とする。   Then, as shown in FIG. 4, the second base material support portion 21 is inserted into the main body portion 1 a of the chamber 1 and penetrates through the guide portion 50. Specifically, the guide portion 50 is passed through the through hole 21c of the second base material support frame 21a of the second base material support portion 21. At this time, since the guide member 50 is provided with a spring member as the distance adjusting member 60, the first base material supporting portion 11 and the second base material supporting portion 21 are moved after the distance adjusting member 60 is slightly contracted. It is kept in a separated state. At this time, the first base material 10 and the second base material 20 are held in a separated state. At this time, the position of the first base material support part 11 is defined as an “initial position”.

次に、図5に示すように、チャンバ1の本体部1aに蓋部1bを取り付ける。このとき、蓋部1bにはプレス部3を固定する。ここで、プレス部3の加圧面3aの形状は、封止部12、封止部22と同様の環状パターンとする。また加圧面3aの個数は、第1基材10又は第2基材20の数に合わせる。   Next, as shown in FIG. 5, a lid 1 b is attached to the main body 1 a of the chamber 1. At this time, the press part 3 is fixed to the cover part 1b. Here, the shape of the pressing surface 3 a of the press part 3 is an annular pattern similar to that of the sealing part 12 and the sealing part 22. Further, the number of the pressing surfaces 3 a is adjusted to the number of the first base material 10 or the second base material 20.

そして、制御装置80によって、チャンバ1内の圧力及び第1基材支持部11の位置が時刻とともに図8に示すタイムチャートに従って変化するように、圧力測定装置70で測定された圧力に基づいて、タイマー90を通じて第1移動機構30を制御するとともに、プレス部3及び圧力調整手段2を制御する。   Then, based on the pressure measured by the pressure measuring device 70 so that the pressure in the chamber 1 and the position of the first base material support portion 11 change according to the time chart shown in FIG. While controlling the 1st moving mechanism 30 through the timer 90, the press part 3 and the pressure adjustment means 2 are controlled.

具体的には、まずチャンバ1の本体部1aに蓋部1bを取り付けた時刻をt0とし、このときの圧力をPとする。このときの圧力Pは、本実施形態では大気圧である。そして、図8に示すように、時刻t0から一定時間経過後の時刻t1において、制御装置80によって、圧力調整手段2を制御し、チャンバ1内からガスを排出させてチャンバ1内の空間を減圧する(減圧工程)。具体的には、制御装置80によって第1バルブV1を開き、第2バルブV2を閉じた状態とし、この状態で吸引ポンプ2bを作動させ、チャンバ1のガス流通口1cを通してチャンバ1内のガスを、第1配管2aを通してチャンバ1から排出させ、チャンバ1内の圧力を低下させる。こうしてチャンバ1内の空間を減圧する。 Specifically, first, the time of attaching the lid portion 1b on the main body 1a of the chamber 1 and t0, the pressure at this time is P 0. The pressure P 0 at this time is atmospheric pressure in the present embodiment. Then, as shown in FIG. 8, at time t <b> 1 after a lapse of a fixed time from time t <b> 0, the pressure adjusting means 2 is controlled by the control device 80 to discharge gas from the chamber 1 and depressurize the space in the chamber 1. (Decompression step). Specifically, the control device 80 opens the first valve V1 and closes the second valve V2. In this state, the suction pump 2b is operated, and the gas in the chamber 1 is passed through the gas flow port 1c of the chamber 1. Then, the pressure is discharged from the chamber 1 through the first pipe 2a, and the pressure in the chamber 1 is reduced. Thus, the space in the chamber 1 is decompressed.

圧力測定装置70によって測定されたチャンバ1内の空間の圧力が時刻t2において第1基材10と第2基材20との貼り合せを行う予定の圧力(Ppress)まで減圧されたならば、制御装置80によりタイマー90を作動させる。すると、タイマー90により、モータ33は、昇降シャフト31を上昇させるように駆動される。そして、第1基材支持部11をプレス部3に向かって移動させる。具体的には、昇降シャフト31を図5の矢印A方向に移動させる。このとき、距離調整部材60によって第1基材10と第2基材20とが離間した状態に保持されたままとなっている。やがて、第2基材支持部21がプレス部3に当接される(図6参照)。このとき、第2基材支持部21の移動は停止されるが、ガイド部50が第2基材支持部21を貫通しているため、第1基材支持部11の移動はまだ可能である。このため、さらに第1移動機構30により第1基材支持部11がプレス部3に向かって移動されると、距離調整部材60によって第1基材支持部11と第2基材支持部21との距離が縮められ、第1基材支持部11が第2基材支持部21に近づけられる。やがて、図7に示すように、第1基材10と第2基材20とが、それらの間に封止部12、22を挟み込み且つ第1基材10と第2基材20と封止部12、22とによって形成される閉空間内に被封止物13を配置した状態で重ね合わされる(重合せ工程)。 If the pressure in the space in the chamber 1 measured by the pressure measuring device 70 is reduced to the pressure (P press ) at which the first base material 10 and the second base material 20 are to be bonded at time t2, The timer 90 is operated by the control device 80. Then, by the timer 90, the motor 33 is driven to raise the elevating shaft 31. Then, the first base material support part 11 is moved toward the press part 3. Specifically, the elevating shaft 31 is moved in the direction of arrow A in FIG. At this time, the first base material 10 and the second base material 20 are kept in a separated state by the distance adjusting member 60. Eventually, the second base material support portion 21 comes into contact with the press portion 3 (see FIG. 6). At this time, the movement of the second base material support part 21 is stopped, but since the guide part 50 penetrates the second base material support part 21, the movement of the first base material support part 11 is still possible. . For this reason, when the 1st base material support part 11 is further moved toward the press part 3 by the 1st moving mechanism 30, the 1st base material support part 11 and the 2nd base material support part 21 are carried out by the distance adjustment member 60. The first base material support part 11 is brought closer to the second base material support part 21. Eventually, as shown in FIG. 7, the first base material 10 and the second base material 20 sandwich the sealing portions 12 and 22 therebetween, and the first base material 10 and the second base material 20 are sealed. It overlaps in the state which has arrange | positioned the to-be-sealed thing 13 in the closed space formed by the parts 12 and 22 (superposition | polymerization process).

こうして第1基材10と第2基材20とが重ね合わされた後、さらに第1移動機構30により、第1基材支持部11がプレス部3に向かって移動されると、プレス部3の加圧面3aによって第1基材10及び第2基材20を介して封止部12、22が加熱されながらプレスされる。このとき、この時刻をt3とすると、第1基材支持部11はプレス位置に到達している(図8参照)。なお、プレス部3は、例えば時刻t1より前に制御装置80によって作動させて封止部12,22が溶融する温度まで発熱させておく。この後、時刻t4まで封止部12,22のプレスが行われ、封止部12によって第1基材10と第2基材20との貼合せが行われる。こうして基材組立体が得られる(貼合せ工程)。時刻t3から時刻t4までの間は、制御装置80により圧力調整手段2が制御され、圧力測定装置70によって測定されたチャンバ1内の圧力はPpressで一定に保持される。 After the first base material 10 and the second base material 20 are overlapped in this way, when the first base material support part 11 is further moved toward the press part 3 by the first moving mechanism 30, The sealing portions 12 and 22 are pressed while being heated through the first base material 10 and the second base material 20 by the pressing surface 3a. At this time, if this time is set to t3, the 1st base material support part 11 has reached the press position (refer to Drawing 8). In addition, the press part 3 is operated with the control apparatus 80 before the time t1, for example, and it is made to heat | fever-generate to the temperature which the sealing parts 12 and 22 fuse | melt. Thereafter, the sealing portions 12 and 22 are pressed until time t4, and the first base material 10 and the second base material 20 are bonded together by the sealing portion 12. In this way, a base material assembly is obtained (bonding process). From time t3 to time t4, the pressure adjusting means 2 is controlled by the control device 80, and the pressure in the chamber 1 measured by the pressure measuring device 70 is kept constant at P press .

そして、第1基材10と第2基材20との貼合せが行われた後は、図8に示すように、時刻t4において、制御装置80によって圧力調整手段2が制御され、チャンバ1内における圧力が、上記貼合せ工程におけるチャンバ1内の圧力よりも増大させられる(圧力増大工程)。具体的には、制御装置80によって第1バルブV1を閉じ、第2バルブV2を開いた状態とし、この状態でガス供給源2dから第2配管2cを通してガスを供給し、ガスを、第2配管2cを通してガス流通口1cからチャンバ1内に導入する。こうしてチャンバ1内の圧力を増大させる。   And after bonding of the 1st base material 10 and the 2nd base material 20, as shown in FIG. 8, the pressure adjustment means 2 is controlled by the control apparatus 80 at the time t4, and the inside of the chamber 1 is shown. Is increased more than the pressure in the chamber 1 in the laminating step (pressure increasing step). Specifically, the control device 80 closes the first valve V1 and opens the second valve V2. In this state, gas is supplied from the gas supply source 2d through the second pipe 2c, and the gas is supplied to the second pipe. The gas is introduced into the chamber 1 through the gas flow port 1c through 2c. In this way, the pressure in the chamber 1 is increased.

チャンバ1内の圧力を増大させた後、時刻t5において、圧力が圧力P、すなわち大気圧に到達したならば、その時刻t5において、タイマー90により駆動機構30のモータ33が駆動され、第1基材支持部11が下降する。具体的には、昇降シャフト31を図5の矢印A方向と反対方向に移動させる。このとき、第1基材支持部11の下降に伴って基材組立体も下降する。そして、図8に示すように、時刻t6において、第1基材支持部11が初期位置に戻る。こうしてプレス部3が基材組立体から離間され、電子機器100の製造が完了する(プレス部離間工程)。 After the pressure in the chamber 1 is increased, if the pressure reaches the pressure P 0 , that is, the atmospheric pressure at time t5, the motor 33 of the drive mechanism 30 is driven by the timer 90 at time t5, and the first The base material support part 11 descends. Specifically, the elevating shaft 31 is moved in the direction opposite to the arrow A direction in FIG. At this time, the base material assembly is also lowered as the first base material support portion 11 is lowered. And as shown in FIG. 8, the 1st base material support part 11 returns to an initial position at the time t6. Thus, the press part 3 is separated from the base material assembly, and the manufacture of the electronic device 100 is completed (press part separation step).

この電子機器の製造装置100を用いた電子機器の製造方法によれば、第1基材10と第2基材20とを貼り合せて基材組立体を得た後、チャンバ1内における圧力を、貼合せ工程におけるチャンバ1内の圧力よりも増大させている。このため、プレス部3を基材組立体から離間させた後でも、基材組立体は、チャンバ1内の圧力によって内側に向かって押圧された状態となる。その結果、プレス部3を基材組立体から離間しても、第1基材10と封止部12,22との界面や、第2基材20と封止部12,22との界面にかかる応力を小さくすることができ、得られる電子機器100において、被封止物13としての電解質の漏洩又は外部からの水分の侵入を十分に抑制できる。従って、電子機器の製造方法によれば、優れた耐久性を有する電子機器100を製造できる。   According to the electronic device manufacturing method using the electronic device manufacturing apparatus 100, after the first base material 10 and the second base material 20 are bonded together to obtain the base material assembly, the pressure in the chamber 1 is changed. The pressure in the chamber 1 in the bonding process is increased. For this reason, even after the press unit 3 is separated from the base material assembly, the base material assembly is pressed inward by the pressure in the chamber 1. As a result, even if the press part 3 is separated from the base material assembly, the interface between the first base material 10 and the sealing parts 12 and 22 and the interface between the second base material 20 and the sealing parts 12 and 22 are obtained. Such stress can be reduced, and in the obtained electronic device 100, leakage of the electrolyte as the sealed object 13 or entry of moisture from the outside can be sufficiently suppressed. Therefore, according to the electronic device manufacturing method, the electronic device 100 having excellent durability can be manufactured.

また本実施形態の電子機器の製造方法では、貼合せ工程において、チャンバ1内の圧力が一定に保持される。このため、チャンバ1内の圧力の変動により封止部12,22と第1基材10又は第2基材20との間に繰り返し応力が加わることが抑制され、封止部12,22と第1基材10との間の接着性、及び、封止部12,22と第2基材20との間の接着性をより十分に向上させることができる。このため、得られる電子機器100はより優れた耐久性を有することが可能となる。   Moreover, in the manufacturing method of the electronic device of this embodiment, the pressure in the chamber 1 is kept constant in the bonding process. For this reason, it is suppressed that a repeated stress is added between the sealing parts 12 and 22 and the 1st base material 10 or the 2nd base material 20 by the fluctuation | variation of the pressure in the chamber 1, and the sealing parts 12 and 22 and the 1st The adhesiveness between the first base material 10 and the adhesiveness between the sealing portions 12 and 22 and the second base material 20 can be more sufficiently improved. For this reason, the obtained electronic device 100 can have more excellent durability.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、第1基材10及び第2基材20の各々に封止部12,22が固定された基材組立体を製造する場合を例にして電子機器の製造装置の作用について説明したが、本発明の電子機器の製造装置は、第1基材10及び第2基材20のいずれか一方に封止部が固定された基材組立体を製造する場合であれば適用可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described embodiment, the operation of the electronic device manufacturing apparatus is described by taking as an example the case of manufacturing a base assembly in which the sealing portions 12 and 22 are fixed to the first base 10 and the second base 20, respectively. As described above, the electronic device manufacturing apparatus of the present invention is applicable to the case of manufacturing a base material assembly in which a sealing portion is fixed to one of the first base material 10 and the second base material 20. It is.

また上記実施形態では、プレス部3が蓋部1bに固定され、第1基材支持部11が第1移動機構30によりプレス部3に向かって移動されるようになっているが、第1基材支持部11がチャンバ1に対して固定され、プレス部3が第1基材支持部11に向かって移動機構により移動されるようになっていてもよい。この場合でも、相対的には、第1基材支持部11がプレス部3に向かって移動されることとなる。   Moreover, in the said embodiment, although the press part 3 is fixed to the cover part 1b, the 1st base material support part 11 is moved toward the press part 3 with the 1st moving mechanism 30, The material support part 11 may be fixed to the chamber 1, and the press part 3 may be moved toward the first base material support part 11 by a moving mechanism. Even in this case, the first base material support portion 11 is relatively moved toward the press portion 3.

また上記実施形態ではプレス部3が制御装置80によって制御されているが、プレス部3は制御装置80によって制御されなくてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the press part 3 is controlled by the control apparatus 80, the press part 3 does not need to be controlled by the control apparatus 80. FIG.

さらに上記実施形態では、制御装置80によって圧力測定装置70で測定された圧力に基づいて、タイマー90を通じて第1移動機構30を制御するとともに、プレス部3及び圧力調整手段2を制御することにより本発明の電子機器の製造方法が実施されているが、本発明の電子機器の製造方法は、制御装置80を用いず、圧力測定装置70で測定された圧力に基づいて、タイマー90を通じて第1移動機構30を手動で操作するとともに、プレス部3及び圧力調整手段2を手動で操作することにより実施することもできる。   Further, in the above-described embodiment, the first moving mechanism 30 is controlled through the timer 90 based on the pressure measured by the pressure measuring device 70 by the control device 80, and the press unit 3 and the pressure adjusting means 2 are controlled. Although the electronic device manufacturing method of the present invention is implemented, the electronic device manufacturing method of the present invention does not use the control device 80, and the first movement through the timer 90 based on the pressure measured by the pressure measuring device 70. It can also be implemented by manually operating the mechanism 30 and manually operating the press unit 3 and the pressure adjusting means 2.

また本実施形態の電子機器の製造方法では、貼合せ工程において、チャンバ1内の圧力が一定に保持されているが、必ずしもチャンバ1内の圧力が一定に保持されていなくてもよい。すなわち、チャンバ1内の圧力の変動が小さい限りは、チャンバ1内の空間をさらに減圧しなくてもよい。   In the electronic device manufacturing method of the present embodiment, the pressure in the chamber 1 is kept constant in the bonding step, but the pressure in the chamber 1 does not necessarily have to be kept constant. That is, as long as the pressure fluctuation in the chamber 1 is small, the space in the chamber 1 does not need to be further depressurized.

さらに上記実施形態では、圧力増大工程によってチャンバ1内の圧力が圧力P、すなわち大気圧まで増大させられているが、圧力増大工程においてチャンバ1内の圧力は、貼合せ工程におけるチャンバ1内の圧力よりも大きく且つ大気圧より小さい圧力であればよい。 Further, in the above embodiment, the pressure in the chamber 1 is increased to the pressure P 0 , that is, the atmospheric pressure by the pressure increasing process, but the pressure in the chamber 1 in the pressure increasing process is increased in the chamber 1 in the bonding process. Any pressure larger than the pressure and smaller than the atmospheric pressure may be used.

また上記実施形態では、封止部12,22を加熱しながらプレスして第1基材10と第2基材20との貼合せが行われているが、封止部12,22がエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの紫外線硬化性樹脂を含む場合には、紫外線を照射しながら封止部12,22をプレスすることによって第1基材10と第2基材20との貼合せを行うこともできる。あるいは、封止部12,22がブチルゴム等の常温硬化性樹脂を含む場合には、封止部12,22をプレスするだけで第1基材10と第2基材20との貼合せを行うことができる。   Moreover, in the said embodiment, the sealing parts 12 and 22 are pressed while heating, and the 1st base material 10 and the 2nd base material 20 are bonded together, but the sealing parts 12 and 22 are epoxy resins. In the case where an ultraviolet curable resin such as acrylic resin is included, the first substrate 10 and the second substrate 20 may be bonded together by pressing the sealing portions 12 and 22 while irradiating ultraviolet rays. it can. Alternatively, when the sealing portions 12 and 22 include a room temperature curable resin such as butyl rubber, the first base material 10 and the second base material 20 are bonded together by simply pressing the sealing portions 12 and 22. be able to.

さらに上記実施形態では、第2基材20は第2基材支持部21によって支持されているが、プレス部3が第2基材20を支持する場合には、第2基材支持部21は省略されてもよい。この場合は、プレス部3が第2基材支持部21を兼ねることになる。   Furthermore, in the said embodiment, although the 2nd base material 20 is supported by the 2nd base material support part 21, when the press part 3 supports the 2nd base material 20, the 2nd base material support part 21 is It may be omitted. In this case, the press part 3 also serves as the second base material support part 21.

さらにまた上記実施形態では、第1移動機構30が、第1基材支持部11を第2基材支持部21に対して相対的に移動させる第2移動機構をも兼ねているが、電子機器の製造装置は、第1移動機構30とは別に、第2移動機構をさらに有していてもよい。   Furthermore, in the above embodiment, the first moving mechanism 30 also serves as a second moving mechanism that moves the first base material support part 11 relative to the second base material support part 21, but the electronic apparatus The manufacturing apparatus may further include a second moving mechanism separately from the first moving mechanism 30.

さらにまた上記実施形態では、電子機器として色素増感太陽電池モジュールを製造する場合を例にして説明したが、電子機器は、有機EL素子、液晶表示器、有機薄膜太陽電池であってもよい。この場合、被封止物は電解質に代えて、有機発光体や液晶となる。   Furthermore, in the above embodiment, the case where a dye-sensitized solar cell module is manufactured as an electronic device has been described as an example. However, the electronic device may be an organic EL element, a liquid crystal display, or an organic thin film solar cell. In this case, the object to be sealed becomes an organic light emitter or liquid crystal instead of the electrolyte.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the content of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
図1に示す電子機器の製造装置100を用いて電子機器としての色素増感太陽電池モジュールを以下のようにして製造した。
Example 1
A dye-sensitized solar cell module as an electronic device was manufactured as follows using the electronic device manufacturing apparatus 100 shown in FIG.

まず第1基材10に2つの環状の封止部12が互いに離間して固定されたものを用意した。第1基材10としては作用極を用いた。ここで、作用極としては、導電性基板10a上にチタニアからなる厚さ10μmの多孔質酸化物半導体層10bが配置されたものを用いた。導電性基板10aとしては、305mm×305mm×厚さ2.2mmの透明導電性基板を用いた。透明導電性基板としては、透明ガラス基板の上にFTO膜が形成されたものを用いた。   First, a first substrate 10 in which two annular sealing portions 12 were fixed apart from each other was prepared. A working electrode was used as the first substrate 10. Here, the working electrode used was a porous oxide semiconductor layer 10b having a thickness of 10 μm made of titania on the conductive substrate 10a. As the conductive substrate 10a, a transparent conductive substrate having a size of 305 mm × 305 mm × thickness 2.2 mm was used. As the transparent conductive substrate, a substrate in which an FTO film was formed on a transparent glass substrate was used.

第2基材20としては対極を用いた。対極としては、チタン箔からなる厚さ50μmの導電性基板上に白金からなる厚さ10nmの触媒層が形成されたものを用いた。   A counter electrode was used as the second substrate 20. As the counter electrode, the one in which a 10 nm thick catalyst layer made of platinum was formed on a 50 μm thick conductive substrate made of titanium foil was used.

そして、第1基材10及び第2基材20の各々に厚さ50μm、幅2000μmの矩形環状の封止部12、22を固定した。封止部12、22としては、バイネル(商品名、デュポン社製)を用いた。   Then, rectangular annular sealing portions 12 and 22 having a thickness of 50 μm and a width of 2000 μm were fixed to each of the first base material 10 and the second base material 20. As the sealing parts 12 and 22, a binel (trade name, manufactured by DuPont) was used.

次に、図3に示すように、チャンバ1の蓋部1bを取り外した状態で、チャンバ1の本体部1a内において、第1基材支持部11の第1基材支持面11a上に第1基材10を配置して第1基材10を支持させた。その後、第1基材10の多孔質酸化物半導体層10b上に被封止物13としての電解質を配置した。電解質としては、アセトニトリルを溶媒とするヨウ素系電解質で構成される液体電解質を用いた。   Next, as shown in FIG. 3, the first base material support surface 11 a of the first base material support portion 11 in the main body portion 1 a of the chamber 1 with the lid portion 1 b of the chamber 1 removed. The base material 10 was arrange | positioned and the 1st base material 10 was supported. Thereafter, an electrolyte as the object to be sealed 13 was disposed on the porous oxide semiconductor layer 10 b of the first base material 10. As the electrolyte, a liquid electrolyte composed of an iodine-based electrolyte using acetonitrile as a solvent was used.

一方、図2に示すように、第2基材支持部21を用意し、2つの封止部22を設けた第2基材20を、第2基材支持部21の第2基材固定部21bに固定した。第2基材固定部21bとしては、粘着シートを用いた。   On the other hand, as shown in FIG. 2, the second base material support part 21 is prepared, and the second base material 20 provided with the two sealing parts 22 is replaced with the second base material fixing part of the second base material support part 21. 21b was fixed. An adhesive sheet was used as the second base material fixing portion 21b.

そして、図4に示すように、第2基材支持部21をチャンバ1の本体部1a内に入れ、ガイド部50に貫通させた。具体的には、第2基材支持部21の第2基材支持フレーム21aの貫通孔21cにガイド部50を貫通させた。このとき、距離調整部材60が少し縮んだ後、第1基材支持部11と第2基材支持部21とが離間した状態に保持され、第1基材10と第2基材20とが離間した状態に保持された。このとき、第1基材支持部11の位置を「初期位置」とした。   Then, as shown in FIG. 4, the second base material support portion 21 was placed in the main body portion 1 a of the chamber 1 and penetrated through the guide portion 50. Specifically, the guide part 50 was penetrated through the through hole 21 c of the second base material support frame 21 a of the second base material support part 21. At this time, after the distance adjusting member 60 is slightly contracted, the first base material support part 11 and the second base material support part 21 are held in a separated state, and the first base material 10 and the second base material 20 are held. It was kept in a separated state. At this time, the position of the first base material support portion 11 was set as the “initial position”.

次に、図5に示すように、チャンバ1の本体部1aに蓋部1bを取り付けた。このとき、蓋部1bには、プレス部3を固定しておいた。ここで、プレス部3の加圧面3aの形状は、封止部12、封止部22と同様の環状パターンとした。また加圧面3aの個数は2個とした。   Next, as shown in FIG. 5, a lid 1 b was attached to the main body 1 a of the chamber 1. At this time, the press part 3 was fixed to the cover part 1b. Here, the shape of the pressing surface 3 a of the press part 3 was an annular pattern similar to the sealing part 12 and the sealing part 22. The number of pressure surfaces 3a was two.

そして、制御装置80によって、圧力測定装置70で測定された圧力をモニタしながら、タイマー90、プレス部3及び圧力調整手段2を制御した。具体的には図8に示すタイムチャートに従って制御装置80によるタイマー90、プレス部3及び圧力調整手段2の制御を行った。図8のタイムチャートにおいて、t1〜t6、P、Ppress及び、プレス部3を基材組立体から切り離すときのチャンバ1内の圧力Pは以下の通りとした。
t1=0秒
t2=30秒
t3=31秒
t4=61秒
t5=121秒
t6=122秒
=大気圧
press=600Pa
=大気圧
And the timer 90, the press part 3, and the pressure adjustment means 2 were controlled by the control apparatus 80, monitoring the pressure measured with the pressure measuring apparatus 70. FIG. Specifically, according to the time chart shown in FIG. 8, the control of the timer 90, the press unit 3 and the pressure adjusting means 2 by the control device 80 was performed. In the time chart of FIG. 8, t1 to t6, P 0 , P press, and pressure P 1 in the chamber 1 when the press unit 3 is separated from the base material assembly are as follows.
t1 = 0 seconds t2 = 30 seconds t3 = 31 seconds t4 = 61 seconds t5 = 121 seconds t6 = 122 seconds P 0 = atmospheric pressure P press = 600 Pa
P 1 = Atmospheric pressure

このとき、プレス部3は、制御装置80によって時刻t1よりも前に作動させ、表面温度を200℃にした。なお、時刻t1〜t6は、時刻t0からの経過時間である。   At this time, the press part 3 was operated before the time t1 by the control device 80, and the surface temperature was set to 200 ° C. Times t1 to t6 are elapsed times from time t0.

以上のようにして、電子機器としての色素増感太陽電池モジュールを作製した。   As described above, a dye-sensitized solar cell module as an electronic device was produced.

(実施例2)
プレス部3を基材組立体から切り離すときのチャンバ1内の圧力Pを2000Paとしたこと以外は実施例1と同様にして色素増感太陽電池モジュールを作製した。
(Example 2)
And the press section 3 to prepare a dye-sensitized solar cell module in the same manner as in Example 1 except that the 2000Pa pressure P 1 in the chamber 1 when disconnecting from the base assembly.

(比較例1)
プレス部3を基材組立体から切り離すときのチャンバ1内の圧力Pを600Pa、すなわちPpressと同一としたこと以外は実施例1と同様にして色素増感太陽電池モジュールを作製した。
(Comparative Example 1)
The pressure P 1 in the chamber 1 when disconnecting the press section 3 from the substrate assembly 600 Pa, that is, except that it has the same as P press to prepare a dye-sensitized solar cell module in the same manner as in Example 1.

上記のようにして得られた実施例1〜2の色素増感太陽電池モジュールについて、封止部及び第2基材20を横切る断面を、実体顕微鏡にて観察した。その結果、実施例1では、封止部からの第2基材の剥離が発生しておらず、封止部に対する第2基材の浮上りも発生していなかった。また実施例2では、封止部に対する第2基材のわずかな浮上りが発生していたが、封止部からの第2基材の剥離が発生していなかった。これに対し、比較例1では、封止部からの第2基材の剥離が発生しており、電解質が漏洩していた。   About the dye-sensitized solar cell module of Examples 1-2 obtained as mentioned above, the cross section which crossed the sealing part and the 2nd base material 20 was observed with the stereomicroscope. As a result, in Example 1, peeling of the 2nd base material from the sealing part did not generate | occur | produce, and the lift of the 2nd base material with respect to the sealing part did not generate | occur | produce. Moreover, in Example 2, although the slight lift of the 2nd base material with respect to the sealing part had generate | occur | produced, peeling of the 2nd base material from the sealing part had not generate | occur | produced. On the other hand, in Comparative Example 1, peeling of the second base material from the sealing portion occurred, and the electrolyte was leaked.

以上のことから、本発明の電子機器の製造方法によれば、優れた耐久性を有する電子機器を製造できることが分かる。   From the above, it can be seen that the electronic device manufacturing method of the present invention can manufacture an electronic device having excellent durability.

1…チャンバ
2…圧力調整手段
2a…第1配管
2b…吸引ポンプ
2c…第2配管
3…プレス部
10…第1基材
11…第1基材支持部
12、22…封止部
13…被封止物
20…第2基材
21…第2基材支持部
30…移動機構
31…昇降シャフト(移動機構)
32…駆動部(移動機構)
70…圧力測定装置
80…制御装置
100…電子機器の製造装置
V1…第1バルブ
V2…第2バルブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber 2 ... Pressure adjusting means 2a ... 1st piping 2b ... Suction pump 2c ... 2nd piping 3 ... Press part 10 ... 1st base material 11 ... 1st base material support part 12, 22 ... Sealing part 13 ... Covered Sealed material 20 ... second substrate 21 ... second substrate support 30 ... moving mechanism 31 ... lifting shaft (moving mechanism)
32 ... Drive unit (moving mechanism)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 70 ... Pressure measuring apparatus 80 ... Control apparatus 100 ... Manufacturing apparatus of an electronic device V1 ... 1st valve V2 ... 2nd valve

Claims (5)

第1基材と、前記第1基材に対向する第2基材と、前記第1基材及び前記第2基材の間に配置される被封止物と、前記第1基材及び前記第2基材を接続し、前記被封止物を包囲する封止部とを備える電子機器を製造する電子機器の製造方法であって、
チャンバ内の空間を減圧する減圧工程と、
前記減圧工程の後、前記チャンバ内において、少なくとも一方に前記封止部が固定された前記第1基材及び前記第2基材を、前記第1基材と前記第2基材との間に前記封止部を配置し且つ前記第1基材と前記第2基材と前記封止部とによって形成される閉空間内に前記被封止物を配置した状態で重ね合せる重合せ工程と、
前記重合せ工程の後、前記チャンバ内において、プレス部を用い、前記第1基材及び前記第2基材を介して前記封止部をプレスして前記封止部によって前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せて基材組立体を得る貼合せ工程と、
前記貼合せ工程の後、前記チャンバ内における圧力を、前記貼合せ工程における前記チャンバ内の圧力よりも増大させる圧力増大工程と、
前記圧力増大工程の後、前記プレス部を前記基材組立体から離間させることにより前記電子機器を得るプレス部離間工程とを含む電子機器の製造方法。
A first base material; a second base material facing the first base material; an object to be sealed disposed between the first base material and the second base material; the first base material and the first base material; An electronic device manufacturing method for manufacturing an electronic device including a sealing portion that connects a second base material and surrounds the object to be sealed,
A decompression step of decompressing the space in the chamber;
After the depressurization step, the first base material and the second base material in which the sealing portion is fixed to at least one in the chamber are interposed between the first base material and the second base material. A superposition step in which the sealing portion is arranged and the objects to be sealed are overlapped in a closed space formed by the first base material, the second base material, and the sealing portion; and
After the superposition step, a press part is used in the chamber to press the sealing part through the first base material and the second base material, and the first base material and the first base material are pressed by the sealing part. A laminating step of laminating the second base material to obtain a base material assembly;
After the laminating step, a pressure increasing step for increasing the pressure in the chamber more than the pressure in the chamber in the laminating step;
After the said pressure increase process, the manufacturing method of the electronic device including the press part separation | spacing process of obtaining the said electronic device by separating the said press part from the said base material assembly.
前記圧力増大工程における前記チャンバ内における圧力を大気圧にする、請求項1に記載の電子機器の製造方法。   The method for manufacturing an electronic device according to claim 1, wherein the pressure in the chamber in the pressure increasing step is set to atmospheric pressure. 前記貼合せ工程において、前記封止部を加熱しながらプレスして前記封止部によって前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せる、請求項1又は2に記載の電子機器の製造方法。   The electronic device manufacturing according to claim 1 or 2, wherein, in the bonding step, the first base material and the second base material are bonded together by pressing the sealing portion while heating. Method. 第1基材と、前記第1基材に対向する第2基材と、前記第1基材及び前記第2基材の間に配置される被封止物と、前記第1基材及び前記第2基材を接続し、前記被封止物を包囲する封止部とを備える電子機器を製造する電子機器の製造装置であって、
チャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、前記第1基材を支持する第1基材支持部と、
前記チャンバ内で前記第1基材支持部に対向する位置に設けられ、前記第1基材側で前記第2基材を支持する第2基材支持部と、
前記第1基材及び前記第2基材を介して前記第1基材と前記第2基材との間に配置される前記封止部をプレスするプレス部と、
前記プレス部を前記第1基材支持部に対して相対的に移動させることが可能な第1移動機構と、
前記第1基材支持部を前記第2基材支持部に対して相対的に移動させることが可能な第2移動機構と、
前記チャンバ内の圧力を測定する圧力測定装置と、
前記チャンバ内の圧力を調整する圧力調整手段と、
前記圧力測定装置で測定された前記チャンバ内の圧力に基づいて、少なくとも前記第1移動機構、前記第2移動機構及び前記圧力調整手段を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置が、
前記圧力調整手段により前記チャンバ内の空間を減圧させ、前記圧力測定装置によって測定された前記チャンバ内の圧力が前記第1基材と前記第2基材とを貼り合せる際の圧力に達した後、前記第2移動機構によって前記第1基材支持部を前記第2基材支持部に向かって相対的に移動させ、
前記第1基材支持部が、前記第1基材と前記第2基材とが前記封止部を介して重ね合わされる位置に達した後、前記第1移動機構により前記プレス部を前記第1基材支持部に向かって相対的に移動させて前記封止部をプレスさせ、
前記プレス部により前記第1基材と前記第2基材とが貼り合わされて前記基材組立体が得られた後、前記圧力調整手段により前記チャンバ内の圧力を増大させ、
前記圧力測定装置によって測定された前記チャンバ内の圧力が所定の圧力に達した後、前記第1移動機構により前記プレス部を前記第1基材支持部から離れる方向に相対的に移動させることによって前記プレス部を前記基材組立体から離間させるように、少なくとも前記第1移動機構、前記第2移動機構及び前記圧力調整手段を制御する、電子機器の製造装置。
A first base material; a second base material facing the first base material; an object to be sealed disposed between the first base material and the second base material; the first base material and the first base material; An electronic device manufacturing apparatus for manufacturing an electronic device including a sealing portion that connects a second base material and surrounds the object to be sealed,
A chamber;
A first base material support part provided in the chamber and supporting the first base material;
A second base material support portion provided at a position facing the first base material support portion in the chamber, and supporting the second base material on the first base material side;
A pressing unit that presses the sealing unit disposed between the first base material and the second base material via the first base material and the second base material;
A first moving mechanism capable of moving the press part relative to the first base material support part;
A second moving mechanism capable of moving the first base material support portion relative to the second base material support portion;
A pressure measuring device for measuring the pressure in the chamber;
Pressure adjusting means for adjusting the pressure in the chamber;
A control device for controlling at least the first moving mechanism, the second moving mechanism, and the pressure adjusting means based on the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device;
The control device is
After the pressure in the chamber is reduced by the pressure adjusting means, and the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device reaches the pressure when the first base material and the second base material are bonded together , By moving the first base material support part relative to the second base material support part by the second movement mechanism,
After the first base material support portion reaches a position where the first base material and the second base material are overlapped via the sealing portion, the first moving mechanism moves the press portion to the first position. 1 relatively moving toward the base material support part to press the sealing part,
After the first base material and the second base material are bonded to each other by the pressing unit to obtain the base material assembly, the pressure in the chamber is increased by the pressure adjusting means,
After the pressure in the chamber measured by the pressure measuring device reaches a predetermined pressure, the first moving mechanism relatively moves the press portion in a direction away from the first base material support portion. An electronic device manufacturing apparatus that controls at least the first moving mechanism, the second moving mechanism, and the pressure adjusting means so as to separate the press portion from the base material assembly.
前記圧力調整手段が、
前記チャンバに接続される第1配管と、
前記第1配管に接続され、前記チャンバ内のガスを排出させる吸引ポンプと、
前記第1配管に設けられる第1バルブと、
前記チャンバに接続される第2配管と、
前記第2配管に設けられる第2バルブと、
前記第2配管に接続され、前記チャンバ内にガスを供給するガス供給源とを有する、請求項4に記載の電子機器の製造装置。
The pressure adjusting means is
A first pipe connected to the chamber;
A suction pump connected to the first pipe for discharging the gas in the chamber;
A first valve provided in the first pipe;
A second pipe connected to the chamber;
A second valve provided in the second pipe;
The electronic device manufacturing apparatus according to claim 4, further comprising: a gas supply source that is connected to the second pipe and supplies gas into the chamber.
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