JP2017054995A - Light emitting component, print head, and image forming apparatus - Google Patents

Light emitting component, print head, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting component that has improved the operation speed compared with a case where the width of transistors is not made larger than the width of gates.SOLUTION: A light emitting chip U comprises a plurality of light emitting thyristors L1, L2, L3, ... that are arranged in rows; and a plurality of coupling transistors Q1, Q2, Q3, ... that are provided corresponding to the plurality of light emitting thyristors L1, L2, L3, ..., respectively and control lighting of the plurality of light emitting thyristors L1, L2, L3, .... Gates of the plurality of light emitting thyristors L1, L2, L3, ... and the plurality of transistors Q1, Q2, Q3, ... are arranged in parallel within an interval of the arrangement of the plurality of light emitting thyristors L1, L2, L3, ..., and the width of the coupling transistors Q1, Q2, Q3 is set larger than the width of a first gate Gtf1 (Glf1).SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、発光部品、プリントヘッド及び画像形成装置に関する。   The present invention relates to a light emitting component, a print head, and an image forming apparatus.

特許文献1には、第1のトランジスタと第2のトランジスタで構成される発光素子多数個を、一次元,二次元,もしくは三次元的に配列し、各発光素子の前記第1のトランジスタの第1の制御電極を、各発光素子に対して一定方向近傍に位置する少なくとも2つの発光素子の前記第2のトランジスタの第2の制御電極に、第3のトランジスタを介して接続し、各発光素子に、外部からクロックパルスを印加するクロックラインを接続した発光素子アレイであって、前記発光素子の第1のトランジスタと前記第3のトランジスタとは、カレントミラー回路を構成し、発光状態にある発光素子に接続されている前記第3のトランジスタが、それが接続されている他の発光素子の前記第2の制御電極の電位を、前記クロックパルスが印加されたときに発光状態となるように制御する自己走査型発光素子アレイが記載されている。   In Patent Document 1, a large number of light-emitting elements each composed of a first transistor and a second transistor are arranged one-dimensionally, two-dimensionally, or three-dimensionally, and the first transistor of the first transistor of each light-emitting element is arranged. One control electrode is connected to a second control electrode of the second transistor of at least two light emitting elements located in the vicinity of a certain direction with respect to each light emitting element via a third transistor; And a light emitting element array to which a clock line for applying a clock pulse from the outside is connected, wherein the first transistor and the third transistor of the light emitting element constitute a current mirror circuit and emit light in a light emitting state. When the clock pulse is applied to the third transistor connected to the element, the potential of the second control electrode of another light emitting element to which the third transistor is connected Self-scanning light-emitting element array is controlled to be a light emitting state is described.

特許文献2には、第1導電型の第1半導体層、当該第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体層、当該第1導電型の第3半導体層、当該第2導電型の第4半導体層が順に積層された半導体積層体にてそれぞれが構成され、オン状態にて予め定められた波長の光を出射する複数の発光サイリスタと、前記半導体積層体にてそれぞれが構成され、オン状態が転送されるように順にオン状態に移行して前記複数の発光サイリスタにおいて対応する発光サイリスタを点灯可能な状態に設定する複数の転送サイリスタと、前記半導体積層体における前記第1半導体層、前記第2半導体層、前記第3半導体層にてそれぞれが構成され、前記複数の転送サイリスタが順にオン状態が移行する順で隣接する前段の転送サイリスタと後段の転送サイリスタとを結合するように設けられて当該前段の転送サイリスタがオン状態になることによりオン状態になるとともに、当該前段の転送サイリスタとの間において当該第1半導体層及び当該第2半導体層が連続し、当該第3半導体層が電位の印加されていない状態において空乏化する厚さで連続する複数の結合トランジスタとを備える発光部品が記載されている。   Patent Document 2 discloses a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type different from the first conductivity type, a third semiconductor layer of the first conductivity type, and a second conductivity type of the first semiconductor layer. Each of the fourth semiconductor layers is configured by a semiconductor stacked body sequentially stacked, and each of the semiconductor stacked bodies is configured by a plurality of light emitting thyristors that emit light having a predetermined wavelength in an ON state. A plurality of transfer thyristors that sequentially turn on so that the on-state is transferred and set the corresponding light-emitting thyristors in a state in which the corresponding light-emitting thyristors can be turned on, and the first semiconductor layer in the semiconductor stack Each of the second semiconductor layer and the third semiconductor layer, and the plurality of transfer thyristors are adjacent to each other in the order in which the ON state sequentially shifts, When the previous transfer thyristor is turned on and is turned on, the first semiconductor layer and the second semiconductor layer are continuous with the previous transfer thyristor. A light emitting component is described that includes a plurality of coupled transistors that are continuous with a thickness that causes a third semiconductor layer to be depleted when no potential is applied.

特許第2784011号公報Japanese Patent No. 2784011 特開2014−216439号公報JP 2014-216439 A

ところで、複数の発光素子を配列した発光部を、トランジスタを含む転送部で制御する発光部品において、トランジスタの充放電の速度が律則になり、動作速度が制限されることがあった。よって、トランジスタの電流増幅率の増加と負荷容量の低減とが求められていた。
本発明は、トランジスタの幅をゲートの幅より大きくしない場合に比べて、動作速度が向上した発光部品等を提供することを目的とする。
By the way, in a light-emitting component in which a light-emitting part in which a plurality of light-emitting elements are arranged is controlled by a transfer part including a transistor, the charge / discharge speed of the transistor becomes a rule, and the operation speed is sometimes limited. Therefore, an increase in the current amplification factor of the transistor and a reduction in load capacitance have been demanded.
An object of the present invention is to provide a light-emitting component and the like whose operation speed is improved as compared with a case where the width of a transistor is not larger than the width of a gate.

請求項1に記載の発明は、列状に配列された複数の発光サイリスタと、前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を備え、前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタの配列の間隔内に並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とする発光部品である。
請求項2に記載の発明は、前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられた複数の転送サイリスタのそれぞれの転送サイリスタは、前記トランジスタと、前記複数の発光サイリスタの配列方向と交差する方向に、当該トランジスタと直列に配置され、前記転送サイリスタの幅が、前記トランジスタの幅より小さく設定されていることを特徴とする請求項1に記載の発光部品である。
請求項3に記載の発明は、列状に配列された複数の発光サイリスタと、当該複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を含む発光手段と、前記発光手段から照射される光を結像させる光学手段と、を備え、前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタが配列された方向に対して並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とするプリントヘッドである。
請求項4に記載の発明は、像保持体と、前記像保持体を帯電する帯電手段と、列状に配列された複数の発光サイリスタと、当該複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を含み、光学手段を介して前記像保持体を露光する露光手段と、前記露光手段により露光され前記像保持体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、前記像保持体に現像された画像を被転写体に転写する転写手段と、を備え、前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタが配列された方向に対して並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とする画像形成装置である。
The invention according to claim 1 is a plurality of light emitting thyristors arranged in a row, a plurality of transistors provided for each light emitting thyristor of the plurality of light emitting thyristors, and controlling lighting of the light emitting thyristor; Each of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors and each of the plurality of transistors are arranged in parallel within an interval of the arrangement of the plurality of light emitting thyristors, and the width of the transistor is The light-emitting component is set to be larger than the width of the gate.
According to a second aspect of the present invention, each transfer thyristor of the plurality of transfer thyristors provided for each of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors intersects the arrangement direction of the transistors and the plurality of light emitting thyristors. 2. The light-emitting component according to claim 1, wherein the transfer thyristor is set to be smaller than a width of the transistor.
The invention according to claim 3 is a plurality of light emitting thyristors arranged in a row, a plurality of transistors provided for each of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors, and controlling the lighting of the light emitting thyristors; A light emitting means including: an optical means for forming an image of light emitted from the light emitting means, and a gate of each light emitting thyristor of each of the plurality of light emitting thyristors, and each transistor of the plurality of transistors, The print head is characterized in that the plurality of light emitting thyristors are arranged in parallel to the direction in which the light emitting thyristors are arranged, and the width of the transistor is set larger than the width of the gate.
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an image carrier, charging means for charging the image carrier, a plurality of light emitting thyristors arranged in a row, and a light emitting thyristor of each of the plurality of light emitting thyristors. And a plurality of transistors that control lighting of the light-emitting thyristor, and an exposure unit that exposes the image carrier through optical means, and a static image that is exposed to the exposure unit and formed on the image carrier. A developing unit that develops the electrostatic latent image; and a transfer unit that transfers the image developed on the image holding member to a transfer target; a gate of each light emitting thyristor of the plurality of light emitting thyristors; Each of the transistors is arranged in parallel with the direction in which the plurality of light emitting thyristors are arranged, and the width of the transistor is larger than the width of the gate. An image forming apparatus characterized by being constant.

請求項1の発明によれば、トランジスタの幅をゲートの幅より大きくしない場合に比べて、動作速度が向上した発光部品が提供できる。
請求項2の発明によれば、転送サイリスタの幅をトランジスタの幅より小さくしない場合に比べて、動作速度がより向上した発光部品が提供できる。
請求項3の発明によれば、トランジスタの幅をゲートの幅より大きくしない場合に比べて、動作速度が向上したプリントヘッドが提供できる。
請求項4の発明によれば、トランジスタの幅をゲートの幅より大きくしない場合に比べて、動作速度が向上した画像形成装置が提供できる。
According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a light emitting component having an improved operation speed as compared with the case where the width of the transistor is not larger than the width of the gate.
According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide a light-emitting component having an improved operation speed as compared with the case where the width of the transfer thyristor is not smaller than the width of the transistor.
According to the invention of claim 3, it is possible to provide a print head having an improved operation speed as compared with the case where the width of the transistor is not larger than the width of the gate.
According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to provide an image forming apparatus in which the operation speed is improved as compared with the case where the width of the transistor is not larger than the width of the gate.

第1の実施の形態が適用される画像形成装置の全体構成の一例を示した図である。1 is a diagram illustrating an example of an overall configuration of an image forming apparatus to which a first exemplary embodiment is applied. プリントヘッドの構成を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the structure of the print head. 発光装置の上面図である。It is a top view of a light-emitting device. 発光チップの構成、発光装置の信号発生回路の構成及び回路基板上の配線(ライン)の構成を示した図である。(a)は、発光チップの構成を示し、(b)は、発光装置の信号発生回路の構成及び回路基板上の配線(ライン)の構成を示している。It is the figure which showed the structure of the light emitting chip | tip, the structure of the signal generation circuit of a light-emitting device, and the structure of the wiring (line) on a circuit board. (A) shows the configuration of the light-emitting chip, and (b) shows the configuration of the signal generation circuit of the light-emitting device and the configuration of wiring (lines) on the circuit board. 第1の実施の形態が適用される自己走査型発光素子アレイ(SLED)が搭載された発光チップの回路構成を説明するための等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram for demonstrating the circuit structure of the light emitting chip | tip in which the self-scanning light emitting element array (SLED) to which 1st Embodiment is applied is mounted. 第1の実施の形態が適用される発光チップの平面レイアウト図及び断面図の一例である。(a)は、発光チップの平面レイアウト図、(b)は、(a)に示したVIB−VIB線での断面図である。It is an example of the planar layout figure and sectional drawing of the light emitting chip to which 1st Embodiment is applied. (A) is a plane layout view of the light-emitting chip, and (b) is a cross-sectional view taken along line VIB-VIB shown in (a). 転送サイリスタ及び結合トランジスタを説明する図である。(a)は、転送サイリスタ及び結合トランジスタを等価なトランジスタの記号により表記した図、(b)は、(a)において、転送サイリスタをサイリスタの記号で表記するとともに、隣接する転送サイリスタを加えて示した図、(c)は、転送サイリスタ及び結合トランジスタの断面図である。It is a figure explaining a transfer thyristor and a coupling transistor. (A) is a diagram in which transfer thyristors and coupling transistors are represented by equivalent transistor symbols, and (b) is a diagram in which the transfer thyristors are represented by thyristor symbols and adjacent transfer thyristors are added in (a). FIG. 6C is a cross-sectional view of the transfer thyristor and the coupling transistor. 発光装置及び発光チップの動作を説明するためのタイミングチャートである。6 is a timing chart for explaining operations of the light emitting device and the light emitting chip. 第1の実施の形態が適用される発光チップの製造方法を説明する断面図である。(a)は、半導体積層体形成工程、(b)は、第1ゲート及びコレクタ出しエッチング工程、(c)は、分離エッチング工程、(d)は、アイランドエッチング工程である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the light emitting chip to which 1st Embodiment is applied. (A) is a semiconductor laminated body formation process, (b) is a 1st gate and collector extraction etching process, (c) is a separate etching process, (d) is an island etching process. 第1アイランドを拡大して示す図である。(a)は、第1の実施の形態が適用される発光チップ、(b)は第1の実施の形態が適用されない発光チップである。It is a figure which expands and shows a 1st island. (A) is a light emitting chip to which the first embodiment is applied, and (b) is a light emitting chip to which the first embodiment is not applied. 転送サイリスタの幅を第1の実施の形態が適用される発光チップに比べて小さくした発光チップを示す図である。(a)は、発光チップの平面図、(b)は第1アイランドを拡大して示す図である。It is a figure which shows the light emitting chip which made the width | variety of the transfer thyristor small compared with the light emitting chip to which 1st Embodiment is applied. (A) is a top view of a light emitting chip, (b) is a figure which expands and shows a 1st island.

電子写真方式を採用した、プリンタや複写機、ファクシミリ等の画像形成装置では、帯電された感光体上に、画像情報を光記録手段により予め定められた波長の光を照射することにより静電潜像を得た後、この静電潜像にトナーを付加して可視化し、記録紙上に転写して定着することによって画像形成が行われる。かかる光記録手段として、レーザを用い、主走査方向にレーザ光を走査させて露光する光走査方式の他、近年では、装置の小型化の要請を受けて発光素子としての発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)を主走査方向に複数、配列して発光素子アレイとしたLEDプリントヘッド(LPH:LED Print Head)を用いた記録装置が採用されている。
また、基板上に複数の発光素子が列状に設けられ、順次点灯制御される自己走査型発光素子アレイ(SLED)を搭載する発光チップでは、発光素子として発光サイリスタが使用されている。
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
In image forming apparatuses such as printers, copiers, and facsimiles that employ an electrophotographic system, electrostatic latent images are obtained by irradiating image information on a charged photoreceptor with light of a predetermined wavelength by an optical recording means. After the image is obtained, toner is added to the electrostatic latent image to be visualized, and the image is formed by transferring and fixing on the recording paper. In addition to an optical scanning method in which a laser is used as the optical recording means and exposure is performed by scanning a laser beam in the main scanning direction, in recent years, a light emitting diode (LED: Light) as a light emitting element has been received in response to a request for downsizing of the apparatus. A recording apparatus using an LED print head (LPH: LED Print Head) in which a plurality of Emitting Diodes (LEDs) are arranged in the main scanning direction to form a light emitting element array is employed.
A light-emitting thyristor is used as a light-emitting element in a light-emitting chip on which a plurality of light-emitting elements are provided in a row on a substrate and a self-scanning light-emitting element array (SLED) that is sequentially controlled to light is mounted.
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

[第1の実施の形態]
(画像形成装置1)
図1は、第1の実施の形態が適用される画像形成装置1の全体構成の一例を示した図である。図1に示す画像形成装置1は、一般にタンデム型と呼ばれる画像形成装置である。この画像形成装置1は、各色の画像データに対応して画像形成を行なう画像形成プロセス部10、画像形成プロセス部10を制御する画像出力制御部30、例えばパーソナルコンピュータ(PC)2や画像読取装置3に接続され、これらから受信された画像データに対して予め定められた画像処理を施す画像処理部40を備えている。
[First Embodiment]
(Image forming apparatus 1)
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of an overall configuration of an image forming apparatus 1 to which the first exemplary embodiment is applied. An image forming apparatus 1 shown in FIG. 1 is an image forming apparatus generally called a tandem type. The image forming apparatus 1 includes an image forming process unit 10 that forms an image corresponding to image data of each color, an image output control unit 30 that controls the image forming process unit 10, such as a personal computer (PC) 2 or an image reading device. 3 and an image processing unit 40 that performs predetermined image processing on image data received from these.

画像形成プロセス部10は、予め定められた間隔を置いて並列に配置される複数のエンジンを含む画像形成ユニット11を備えている。この画像形成ユニット11は、4つの画像形成ユニット11Y、11M、11C、11Kから構成されている。画像形成ユニット11Y、11M、11C、11Kは、それぞれ、静電潜像を形成してトナー像を保持する像保持体の一例としての感光体ドラム12、感光体ドラム12の表面を予め定められた電位で帯電する帯電手段の一例としての帯電器13、帯電器13によって帯電された感光体ドラム12を露光するプリントヘッド14、プリントヘッド14によって得られた静電潜像を現像する現像手段の一例としての現像器15を備えている。画像形成ユニット11Y、11M、11C、11Kは、それぞれがイエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、黒(K)のトナー像を形成する。
また、画像形成プロセス部10は、各画像形成ユニット11Y、11M、11C、11Kの感光体ドラム12にて形成された各色のトナー像を被転写体の一例としての記録用紙25に多重転写させるために、この記録用紙25を搬送する用紙搬送ベルト21と、用紙搬送ベルト21を駆動させるロールである駆動ロール22と、感光体ドラム12のトナー像を記録用紙25に転写させる転写手段の一例としての転写ロール23と、記録用紙25にトナー像を定着させる定着器24とを備えている。
The image forming process unit 10 includes an image forming unit 11 including a plurality of engines arranged in parallel at predetermined intervals. The image forming unit 11 includes four image forming units 11Y, 11M, 11C, and 11K. The image forming units 11Y, 11M, 11C, and 11K have predetermined surfaces of the photosensitive drum 12 and the photosensitive drum 12 as an example of an image holding body that forms an electrostatic latent image and holds a toner image, respectively. An example of a charging unit 13 as an example of a charging unit that charges at a potential, a print head 14 that exposes a photosensitive drum 12 charged by the charging unit 13, and an example of a developing unit that develops an electrostatic latent image obtained by the print head 14 The developing device 15 is provided. The image forming units 11Y, 11M, 11C, and 11K respectively form yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (K) toner images.
Further, the image forming process unit 10 performs multiple transfer of the toner images of each color formed on the photosensitive drums 12 of the image forming units 11Y, 11M, 11C, and 11K onto a recording sheet 25 as an example of a transfer target. In addition, the sheet conveying belt 21 that conveys the recording sheet 25, the driving roll 22 that is a roll for driving the sheet conveying belt 21, and a transfer unit that transfers the toner image on the photosensitive drum 12 to the recording sheet 25 are exemplified. A transfer roll 23 and a fixing device 24 for fixing the toner image on the recording paper 25 are provided.

この画像形成装置1において、画像形成プロセス部10は、画像出力制御部30から供給される各種の制御信号に基づいて画像形成動作を行う。そして、画像出力制御部30による制御の下で、パーソナルコンピュータ(PC)2や画像読取装置3から受信された画像データは、画像処理部40によって画像処理が施され、画像形成ユニット11に供給される。そして、例えば黒(K)色の画像形成ユニット11Kでは、感光体ドラム12が矢印A方向に回転しながら、帯電器13により予め定められた電位に帯電され、画像処理部40から供給された画像データに基づいて発光するプリントヘッド14により露光される。これにより、感光体ドラム12上には、黒(K)色画像に関する静電潜像が形成される。そして、感光体ドラム12上に形成された静電潜像は現像器15により現像され、感光体ドラム12上には黒(K)色のトナー像が形成される。画像形成ユニット11Y、11M、11Cにおいても、それぞれイエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)の各色トナー像が形成される。   In the image forming apparatus 1, the image forming process unit 10 performs an image forming operation based on various control signals supplied from the image output control unit 30. The image data received from the personal computer (PC) 2 or the image reading device 3 under the control of the image output control unit 30 is subjected to image processing by the image processing unit 40 and supplied to the image forming unit 11. The For example, in the black (K) image forming unit 11K, the photosensitive drum 12 is charged in a predetermined potential by the charger 13 while rotating in the direction of arrow A, and the image supplied from the image processing unit 40 is supplied. Exposure is performed by the print head 14 that emits light based on the data. As a result, an electrostatic latent image related to a black (K) color image is formed on the photosensitive drum 12. The electrostatic latent image formed on the photosensitive drum 12 is developed by the developing device 15, and a black (K) toner image is formed on the photosensitive drum 12. In the image forming units 11Y, 11M, and 11C, yellow (Y), magenta (M), and cyan (C) color toner images are formed, respectively.

各画像形成ユニット11で形成された感光体ドラム12上の各色トナー像は、矢印B方向に移動する用紙搬送ベルト21の移動に伴って供給された記録用紙25に、転写ロール23に印加された転写電界により、順次静電転写され、記録用紙25上に各色トナーが重畳された合成トナー像が形成される。
その後、合成トナー像が静電転写された記録用紙25は、定着器24まで搬送される。定着器24に搬送された記録用紙25上の合成トナー像は、定着器24によって熱及び圧力による定着処理を受けて記録用紙25上に定着され、画像形成装置1から排出される。
Each color toner image on the photosensitive drum 12 formed by each image forming unit 11 is applied to the transfer roll 23 on the recording paper 25 supplied with the movement of the paper conveying belt 21 moving in the direction of arrow B. Electrostatic transfer is sequentially performed by the transfer electric field, and a composite toner image in which toner of each color is superimposed on the recording paper 25 is formed.
Thereafter, the recording paper 25 on which the composite toner image has been electrostatically transferred is conveyed to the fixing device 24. The synthesized toner image on the recording paper 25 conveyed to the fixing device 24 is fixed on the recording paper 25 by the fixing device 24 by heat and pressure and discharged from the image forming apparatus 1.

(プリントヘッド14)
図2は、プリントヘッド14の構成を示した断面図である。露光手段の一例としてのプリントヘッド14は、ハウジング61、感光体ドラム12を露光する複数の発光素子(第1の実施の形態では、発光サイリスタ)を備える光源部63を備えた発光手段の一例としての発光装置65、光源部63から出射された光を感光体ドラム12表面に結像させる光学手段の一例としてのロッドレンズアレイ64を備えている。
発光装置65は、前述した光源部63、光源部63を駆動する信号発生回路110(後述の図3参照)等を搭載する回路基板62を備えている。
(Print head 14)
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the print head 14. The print head 14 as an example of an exposure unit is an example of a light emitting unit including a light source unit 63 including a housing 61 and a plurality of light emitting elements (light emitting thyristors in the first embodiment) that expose the photosensitive drum 12. The light emitting device 65 and the rod lens array 64 as an example of optical means for imaging the light emitted from the light source unit 63 on the surface of the photosensitive drum 12 are provided.
The light emitting device 65 includes a circuit board 62 on which the above-described light source unit 63, a signal generation circuit 110 (see FIG. 3 described later) for driving the light source unit 63, and the like are mounted.

ハウジング61は、例えば金属で形成され、回路基板62及びロッドレンズアレイ64を支持し、光源部63の発光素子の発光面(後述する図6の領域311の表面)がロッドレンズアレイ64の焦点面となるように設定されている。また、ロッドレンズアレイ64は、感光体ドラム12の軸方向(主走査方向であって、後述する図3、図4(b)のX方向)に沿って配置されている。   The housing 61 is made of, for example, metal, supports the circuit board 62 and the rod lens array 64, and the light emitting surface of the light emitting element of the light source unit 63 (the surface of a region 311 in FIG. 6 described later) is the focal plane of the rod lens array 64. It is set to become. Further, the rod lens array 64 is arranged along the axial direction of the photosensitive drum 12 (the main scanning direction and the X direction in FIGS. 3 and 4B described later).

(発光装置65)
図3は、発光装置65の上面図である。
図3に例として示す発光装置65では、光源部63は、回路基板62上に、40個の発光部品の一例としての発光チップU1〜U40が、主走査方向であるX方向に二列に千鳥状に配置して構成されている。
本明細書では、「〜」は、番号によってそれぞれが区別された複数の構成要素を示すもので、「〜」の前後に記載されたもの及びその間の番号のものを含むことを意味する。例えば、発光チップU1〜U40は、発光チップU1から番号順に発光チップU40までを含む。
(Light emitting device 65)
FIG. 3 is a top view of the light emitting device 65.
In the light-emitting device 65 shown as an example in FIG. 3, the light source unit 63 includes light-emitting chips U <b> 1 to U <b> 40 as examples of 40 light-emitting components on a circuit board 62. Arranged in a shape.
In the present specification, “to” indicates a plurality of constituent elements each distinguished by a number, and includes those described before and after “to” and those between them. For example, the light emitting chips U1 to U40 include the light emitting chip U1 to the light emitting chip U40 in numerical order.

発光チップU1〜U40の構成は同じであってよい。よって、発光チップU1〜U40をそれぞれ区別しないときは、発光チップUと呼ぶ。
なお、第1の実施の形態では、発光チップUの数として、合計40個を用いたが、これに限定されない。
そして、発光装置65は、光源部63を駆動する信号発生回路110を搭載している。信号発生回路110は、例えば集積回路(IC)などで構成されている。なお、発光装置65が信号発生回路110を搭載していなくともよい。このときは、信号発生回路110は、発光装置65の外部に設けられ、発光チップU1〜U40を制御する制御信号などを、ケーブルなどを介して供給する。ここでは、発光装置65は信号発生回路110を備えているとして説明する。
発光チップU1〜U40の配列についての詳細は後述する。
The configuration of the light emitting chips U1 to U40 may be the same. Therefore, when the light emitting chips U1 to U40 are not distinguished from each other, they are referred to as light emitting chips U.
In the first embodiment, a total of 40 light emitting chips U are used, but the present invention is not limited to this.
The light emitting device 65 includes a signal generation circuit 110 that drives the light source unit 63. The signal generation circuit 110 is configured by, for example, an integrated circuit (IC). Note that the light emitting device 65 does not have to include the signal generation circuit 110. At this time, the signal generation circuit 110 is provided outside the light emitting device 65 and supplies a control signal and the like for controlling the light emitting chips U1 to U40 via a cable or the like. Here, it is assumed that the light emitting device 65 includes the signal generation circuit 110.
Details of the arrangement of the light emitting chips U1 to U40 will be described later.

図4は、発光チップUの構成、発光装置65の信号発生回路110の構成及び回路基板62上の配線(ライン)の構成を示した図である。図4(a)は、発光チップUの構成を示し、図4(b)は、発光装置65の信号発生回路110の構成及び回路基板62上の配線(ライン)の構成を示している。   FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of the light emitting chip U, a configuration of the signal generation circuit 110 of the light emitting device 65, and a configuration of wiring (lines) on the circuit board 62. 4A shows the configuration of the light-emitting chip U, and FIG. 4B shows the configuration of the signal generation circuit 110 of the light-emitting device 65 and the configuration of wiring (lines) on the circuit board 62.

はじめに、図4(a)に示す発光チップUの構成を説明する。
発光チップUは、表面形状が長方形である表面において、一長辺側に長辺に沿って列状に設けられた複数の発光素子(第1の実施の形態では、発光サイリスタL1、L2、L3、…)から構成される発光部102を備えている。さらに、発光チップUは、表面の長辺方向の両端部に、各種の制御信号等を取り込むための複数のボンディングパッドである端子(φ1端子、φ2端子、Vga端子、φI端子)を備えている。なお、これらの端子は、発光チップUの一端部からφ1端子、Vga端子の順に設けられ、他端部からφI端子、φ2端子の順に設けられている。そして、発光部102は、Vga端子とφ2端子との間に設けられている。さらに、裏面にはVsub端子として裏面電極85(後述する図6参照)が設けられている。
First, the configuration of the light-emitting chip U shown in FIG.
The light emitting chip U has a plurality of light emitting elements (in the first embodiment, light emitting thyristors L1, L2, L3) arranged in a row along the long side on one long side on the surface having a rectangular surface shape. ,...)). Further, the light emitting chip U has terminals (φ1 terminal, φ2 terminal, Vga terminal, φI terminal) which are a plurality of bonding pads for taking in various control signals and the like at both ends in the long side direction of the surface. . These terminals are provided in order of the φ1 terminal and the Vga terminal from one end of the light emitting chip U, and are provided in the order of the φI terminal and the φ2 terminal from the other end. The light emitting unit 102 is provided between the Vga terminal and the φ2 terminal. Further, a back electrode 85 (see FIG. 6 described later) is provided as a Vsub terminal on the back surface.

なお、「列状」とは、図4(a)に示したように複数の発光素子が一直線上に配置されている場合に限らず、複数の発光素子のそれぞれの発光素子が、列方向と直交する方向に対して、互いに異なるずれ量を有して配置されていてもよい。例えば、発光素子の発光面(後述する図6の領域311の表面)を画素としたとき、それぞれの発光素子が、列方向と直交する方向に数画素分又は数十画素分のずれ量をもって配置されていてもよい。また、隣接する発光素子間で交互に、又は複数の発光素子毎に、ジグザグに配置されていてもよい。   Note that the “column shape” is not limited to the case where a plurality of light emitting elements are arranged in a straight line as illustrated in FIG. 4A, and the light emitting elements of the plurality of light emitting elements are arranged in the column direction. You may arrange | position with the mutually different deviation | shift amount with respect to the orthogonal direction. For example, when a light emitting surface of a light emitting element (surface of a region 311 in FIG. 6 described later) is a pixel, each light emitting element is arranged with a shift amount of several pixels or several tens of pixels in a direction orthogonal to the column direction. May be. Moreover, you may arrange | position zigzag alternately between adjacent light emitting elements or for every some light emitting element.

次に、図4(b)により、発光装置65の信号発生回路110の構成及び回路基板62上の配線(ライン)の構成を説明する。
前述したように、発光装置65の回路基板62には、信号発生回路110及び発光チップU1〜U40が搭載され、信号発生回路110と発光チップU1〜U40とを接続する配線(ライン)が設けられている。
Next, the configuration of the signal generation circuit 110 of the light emitting device 65 and the configuration of the wiring (line) on the circuit board 62 will be described with reference to FIG.
As described above, the signal generating circuit 110 and the light emitting chips U1 to U40 are mounted on the circuit board 62 of the light emitting device 65, and wirings (lines) for connecting the signal generating circuit 110 and the light emitting chips U1 to U40 are provided. ing.

まず、信号発生回路110の構成について説明する。
信号発生回路110には、画像出力制御部30及び画像処理部40(図1参照)より、画像処理された画像データ及び各種の制御信号が入力される。信号発生回路110は、これらの画像データ及び各種の制御信号に基づいて、画像データの並び替えや光量の補正等を行う。
そして、信号発生回路110は、各種の制御信号に基づき、発光チップU1〜U40に、第1転送信号φ1、第2転送信号φ2を送信する転送信号発生部120を備えている。
そしてまた、信号発生回路110は、各種の制御信号に基づき、発光チップU1〜U40に、点灯信号φI1〜φI40をそれぞれ送信する点灯信号発生部140を備えている。なお、点灯信号φI1〜φI40をそれぞれ区別しないときは点灯信号φIと表記する。
さらにまた、信号発生回路110は、発光チップU1〜U40に電位の基準となる基準電位Vsubを供給する基準電位供給部160、発光チップU1〜U40の駆動のための電源電位Vgaを供給する電源電位供給部170を備えている。
First, the configuration of the signal generation circuit 110 will be described.
Image signal processed image data and various control signals are input to the signal generation circuit 110 from the image output control unit 30 and the image processing unit 40 (see FIG. 1). The signal generation circuit 110 performs rearrangement of image data, correction of light quantity, and the like based on these image data and various control signals.
The signal generation circuit 110 includes a transfer signal generation unit 120 that transmits the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2 to the light emitting chips U1 to U40 based on various control signals.
The signal generation circuit 110 includes a lighting signal generation unit 140 that transmits the lighting signals φI1 to φI40 to the light emitting chips U1 to U40 based on various control signals. When the lighting signals φI1 to φI40 are not distinguished from each other, they are expressed as a lighting signal φI.
Furthermore, the signal generation circuit 110 supplies a reference potential supply unit 160 that supplies a reference potential Vsub that serves as a potential reference to the light emitting chips U1 to U40, and a power supply potential that supplies a power supply potential Vga for driving the light emitting chips U1 to U40. A supply unit 170 is provided.

次に、発光チップU1〜U40の配列について説明する。
奇数番号の発光チップU1、U3、U5、…は、それぞれの発光チップUの長辺方向に間隔を設けて一列に配列されている。偶数番号の発光チップU2、U4、U6、…も、同様にそれぞれの発光チップUの長辺方向に間隔を設けて一列に配列されている。そして、奇数番号の発光チップU1、U3、U5、…と偶数番号の発光チップU2、U4、U6、…とは、発光チップUに設けられた発光部102側の長辺が向かい合うように、互いに180°回転した状態で千鳥状に配列されている。そして、発光チップU間においても発光素子が主走査方向(X方向)に予め定められた間隔で並ぶように設定されている。なお、図4(b)の発光チップU1、U2、U3、…に、図4(a)に示した発光部102の発光素子の並び(第1の実施の形態では発光サイリスタL1、L2、L3、…の番号順)の方向を矢印で示している。
Next, the arrangement of the light emitting chips U1 to U40 will be described.
The odd-numbered light emitting chips U1, U3, U5,... Are arranged in a line at intervals in the long side direction of each light emitting chip U. The even-numbered light emitting chips U2, U4, U6,... Are similarly arranged in a row at intervals in the long side direction of each light emitting chip U. The odd numbered light emitting chips U1, U3, U5,... And the even numbered light emitting chips U2, U4, U6,... Are arranged so that the long sides on the light emitting unit 102 side provided in the light emitting chip U face each other. They are arranged in a zigzag pattern in a state rotated by 180 °. The light emitting elements are also arranged between the light emitting chips U at predetermined intervals in the main scanning direction (X direction). In FIG. 4B, the light emitting chips U1, U2, U3,... Are arranged with the arrangement of the light emitting elements of the light emitting unit 102 shown in FIG. 4A (in the first embodiment, the light emitting thyristors L1, L2, L3). ,... In numerical order) are indicated by arrows.

信号発生回路110と発光チップU1〜U40とを接続する配線(ライン)について説明する。
回路基板62には、発光チップUの裏面に設けられたVsub端子である裏面電極85(後述の図6参照)に接続され、基準電位Vsubを供給する電源ライン200aが設けられている。
そして、回路基板62には、発光チップUに設けられたVga端子に接続され、駆動のための電源電位Vgaを供給する電源ライン200bが設けられている。
A wiring (line) connecting the signal generation circuit 110 and the light emitting chips U1 to U40 will be described.
The circuit board 62 is provided with a power supply line 200a that is connected to a back electrode 85 (see FIG. 6 described later) that is a Vsub terminal provided on the back surface of the light emitting chip U and supplies a reference potential Vsub.
The circuit board 62 is provided with a power supply line 200b that is connected to a Vga terminal provided in the light emitting chip U and supplies a power supply potential Vga for driving.

回路基板62には、信号発生回路110の転送信号発生部120から、発光チップU1〜U40のφ1端子に第1転送信号φ1を送信するための第1転送信号ライン201、発光チップU1〜U40のφ2端子に第2転送信号φ2を送信するための第2転送信号ライン202が設けられている。   The circuit board 62 includes a first transfer signal line 201 for transmitting the first transfer signal φ1 from the transfer signal generator 120 of the signal generation circuit 110 to the φ1 terminals of the light emitting chips U1 to U40, and the light emitting chips U1 to U40. A second transfer signal line 202 for transmitting the second transfer signal φ2 to the φ2 terminal is provided.

そしてまた、回路基板62には、信号発生回路110の点灯信号発生部140から、各発光チップU1〜U40のそれぞれのφI端子に、それぞれ電流制限抵抗RIを介して、点灯信号φI1〜φI40を送信する点灯信号ライン204−1〜204−40が設けられている。   Further, the lighting signals φI1 to φI40 are transmitted to the circuit board 62 from the lighting signal generator 140 of the signal generation circuit 110 to the respective φI terminals of the light emitting chips U1 to U40 via the current limiting resistors RI. Lighting signal lines 204-1 to 204-40 are provided.

回路基板62上のすべての発光チップU1〜U40に、基準電位Vsub、電源電位Vgaが共通に供給される。第1転送信号φ1、第2転送信号φ2も、発光チップU1〜U40に共通(並列)に送信される。一方、点灯信号φI1〜φI40は、発光チップU1〜U40にそれぞれ個別に送信される。
なお、発光装置65が信号発生回路110を備えない場合には、発光装置65には、電源ライン200a、200b、第1転送信号ライン201、第2転送信号ライン202、点灯信号ライン204−1〜204−40は、信号発生回路110の代わりにコネクタなどに接続される。そして、コネクタなどに接続されるケーブルにより外部に設けられた信号発生回路110に接続される。
The reference potential Vsub and the power supply potential Vga are commonly supplied to all the light emitting chips U1 to U40 on the circuit board 62. The first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2 are also transmitted in common (in parallel) to the light emitting chips U1 to U40. On the other hand, the lighting signals φI1 to φI40 are individually transmitted to the light emitting chips U1 to U40, respectively.
When the light emitting device 65 does not include the signal generation circuit 110, the light emitting device 65 includes power supply lines 200a and 200b, a first transfer signal line 201, a second transfer signal line 202, and lighting signal lines 204-1 to 204-1. 204-40 is connected to a connector or the like instead of the signal generation circuit 110. And it connects to the signal generation circuit 110 provided outside by the cable connected to a connector etc.

(発光チップU)
図5は、第1の実施の形態が適用される自己走査型発光素子アレイ(SLED)が搭載された発光チップUの回路構成を説明するための等価回路図である。以下において説明する各素子は、端子(φ1端子、φ2端子、Vga端子、φI端子)を除き、発光チップU上のレイアウト(後述する図6参照)に基づいて配置されている。なお、端子(φ1端子、φ2端子、Vga端子、φI端子)の位置は、図4(a)と異なるが、説明の便宜上、図中左端に示している。そして、発光チップUの裏面に設けられたVsub端子を、発光チップUの外に引き出して示している。
ここでは、信号発生回路110との関係において発光チップU1を例に、発光チップUを説明する。そこで、図5において、発光チップUを発光チップU1(U)と表記する。他の発光チップU2〜U40の構成は、発光チップU1と同じである。
(Light emitting chip U)
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram for explaining a circuit configuration of the light-emitting chip U on which the self-scanning light-emitting element array (SLED) to which the first embodiment is applied is mounted. Each element described below is arranged based on a layout (see FIG. 6 described later) on the light emitting chip U except for terminals (φ1 terminal, φ2 terminal, Vga terminal, φI terminal). Note that the positions of the terminals (φ1 terminal, φ2 terminal, Vga terminal, φI terminal) are different from those in FIG. 4A, but are shown at the left end in the figure for convenience of explanation. The Vsub terminal provided on the back surface of the light emitting chip U is drawn out of the light emitting chip U.
Here, the light emitting chip U will be described by taking the light emitting chip U1 as an example in relation to the signal generation circuit 110. Therefore, in FIG. 5, the light emitting chip U is referred to as a light emitting chip U <b> 1 (U). The configuration of the other light emitting chips U2 to U40 is the same as that of the light emitting chip U1.

発光チップU1(U)は、前述したように発光チップU上に列状に配列された発光サイリスタL1、L2、L3、…から構成される発光サイリスタ列(発光部102(図4(a)参照))を備えている。
そして、発光チップU1(U)は、発光サイリスタ列と同様に列状に配列された転送サイリスタT1、T2、T3、…から構成される転送サイリスタ列を備えている。
The light-emitting chip U1 (U) is a light-emitting thyristor array (light-emitting unit 102 (see FIG. 4A), which is composed of the light-emitting thyristors L1, L2, L3,. )).
The light emitting chip U1 (U) includes a transfer thyristor array composed of transfer thyristors T1, T2, T3,... Arranged in a row like the light emitting thyristor array.

また、発光チップU1(U)は、転送サイリスタT1、T2、T3、…をそれぞれ番号順に2つをペアにして、それぞれのペアの間にpnpバイポーラトランジスタである結合トランジスタQ1、Q2、Q3、…を備えている。
さらに、発光チップU1(U)は、電源線抵抗Rg1、Rg2、Rg3、…を備えている。
Further, the light emitting chip U1 (U) pairs two transfer thyristors T1, T2, T3,... In the order of numbers, and coupling transistors Q1, Q2, Q3,. It has.
Further, the light emitting chip U1 (U) includes power line resistances Rg1, Rg2, Rg3,.

また、発光チップU1(U)は、1個のスタート抵抗R0を備えている。そして、後述する第1転送信号φ1が送信される第1転送信号線72と第2転送信号φ2が送信される第2転送信号線73とに過剰な電流が流れるのを防止するために設けられた電流制限抵抗R1、R2を備えている。   The light emitting chip U1 (U) includes one start resistor R0. In order to prevent an excessive current from flowing through a first transfer signal line 72 to which a first transfer signal φ1 to be described later is transmitted and a second transfer signal line 73 to which a second transfer signal φ2 is transmitted. Current limiting resistors R1 and R2.

発光サイリスタ列の発光サイリスタL1、L2、L3、…、転送サイリスタ列の転送サイリスタT1、T2、T3、…は、図5中において、左側から番号順に配列されている。さらに、結合トランジスタQ1、Q2、Q3、…、電源線抵抗Rg1、Rg2、Rg3、…も、図中左側から番号順に配列されている。
そして、発光サイリスタ列、転送サイリスタ列は、図5において上から、転送サイリスタ列、発光サイリスタ列の順に並べられている。
The light emitting thyristors L1, L2, L3,... Of the light emitting thyristor array and the transfer thyristors T1, T2, T3,... Of the transfer thyristor array are arranged in numerical order from the left side in FIG. Further, the coupling transistors Q1, Q2, Q3,... And the power line resistances Rg1, Rg2, Rg3,.
The light emitting thyristor array and the transfer thyristor array are arranged in the order of the transfer thyristor array and the light emitting thyristor array from the top in FIG.

ここでは、発光サイリスタL1、L2、L3、…、転送サイリスタT1、T2、T3、…、結合トランジスタQ1、Q2、Q3、…、電源線抵抗Rg1、Rg2、Rg3、…をそれぞれ区別しないときは、発光サイリスタL、転送サイリスタT、結合トランジスタQ、電源線抵抗Rgと表記する。   Here, when the light emitting thyristors L1, L2, L3,..., The transfer thyristors T1, T2, T3,..., The coupling transistors Q1, Q2, Q3,... And the power line resistances Rg1, Rg2, Rg3,. The light-emitting thyristor L, the transfer thyristor T, the coupling transistor Q, and the power line resistance Rg are expressed.

発光サイリスタ列における発光サイリスタLの数は、予め定められた個数とすればよい。第1の実施の形態で、発光サイリスタLの数を例えば128個とすると、転送サイリスタTの数も128個である。同様に、電源線抵抗Rgの数も128個である。しかし、結合トランジスタQの数は、転送サイリスタTの数より1少ない127個である。
なお、転送サイリスタTの数は、発光サイリスタLの数より多くてもよい。
図5では、発光サイリスタL1〜L4、転送サイリスタT1〜T4を中心とした部分を示している。
The number of light emitting thyristors L in the light emitting thyristor array may be a predetermined number. In the first embodiment, if the number of light emitting thyristors L is, for example, 128, the number of transfer thyristors T is also 128. Similarly, the number of power supply line resistances Rg is 128. However, the number of coupling transistors Q is 127, which is one less than the number of transfer thyristors T.
The number of transfer thyristors T may be larger than the number of light emitting thyristors L.
FIG. 5 shows a portion centering on the light emitting thyristors L1 to L4 and the transfer thyristors T1 to T4.

サイリスタ(発光サイリスタL、転送サイリスタT)は、第1ゲート、第2ゲート、アノード、カソードを有する半導体素子である。結合トランジスタQは、コレクタ、ベース、エミッタを有する半導体素子である。
後述するように、第1ゲート、第2ゲート、アノード、カソード、コレクタ、ベース、エミッタに相当する半導体層の部分にp型オーミック電極又はn型オーミック電極が設けられて配線によって接続される場合の他、半導体層を介して相互に接続されている場合がある。
ここでは、サイリスタ(発光サイリスタL、転送サイリスタT)及び結合トランジスタQは、回路記号で表記し、サイリスタ(発光サイリスタL、転送サイリスタT)の第1ゲート(後述するGlf、Gtf)、第2ゲート(後述するGts)を除いてアノード、カソードについては記号を用いない場合がある。同様に、結合トランジスタQのコレクタ(後述するC)を除いてエミッタ、ベースについては記号を表記しない場合がある。
The thyristor (light emitting thyristor L, transfer thyristor T) is a semiconductor element having a first gate, a second gate, an anode, and a cathode. The coupling transistor Q is a semiconductor element having a collector, a base, and an emitter.
As will be described later, when a p-type ohmic electrode or an n-type ohmic electrode is provided in the semiconductor layer corresponding to the first gate, the second gate, the anode, the cathode, the collector, the base, and the emitter, and connected by wiring In other cases, they are connected to each other through a semiconductor layer.
Here, the thyristor (light-emitting thyristor L, transfer thyristor T) and the coupling transistor Q are represented by circuit symbols, and the first gate (Glf, Gtf described later) and second gate of the thyristor (light-emitting thyristor L, transfer thyristor T). Symbols may not be used for the anode and cathode except for (Gts described later). Similarly, symbols may not be written for the emitter and base except for the collector (C described later) of the coupling transistor Q.

では次に、発光チップU1(U)における各素子の電気的な接続について説明する。
転送サイリスタT、発光サイリスタLのそれぞれのアノードは、発光チップU1(U)の裏面電極85に接続されている(アノードコモン)。なお、結合トランジスタQのエミッタも発光チップU1(U)の裏面電極85に接続されている。
そして、これらのアノードは、Vsub端子である裏面電極85(後述の図6参照)を介して電源ライン200a(図4(b)参照)に接続されている。この電源ライン200aは、基準電位供給部160から基準電位Vsubが供給される。
Next, electrical connection of each element in the light emitting chip U1 (U) will be described.
The anodes of the transfer thyristor T and the light-emitting thyristor L are connected to the back electrode 85 of the light-emitting chip U1 (U) (anode common). The emitter of the coupling transistor Q is also connected to the back electrode 85 of the light emitting chip U1 (U).
These anodes are connected to a power supply line 200a (see FIG. 4B) through a back electrode 85 (see FIG. 6 described later) which is a Vsub terminal. The power supply line 200a is supplied with the reference potential Vsub from the reference potential supply unit 160.

転送サイリスタTの配列に沿って、奇数番号(奇数番目)の転送サイリスタT1、T3、…のカソードは、第1転送信号線72に接続されている。そして、第1転送信号線72は、電流制限抵抗R1を介してφ1端子に接続されている。このφ1端子には、第1転送信号ライン201(図4(b)参照)が接続され、転送信号発生部120から第1転送信号φ1が送信される。
一方、転送サイリスタTの配列に沿って、偶数番号(偶数番目)の転送サイリスタT2、T4、…のカソードは、第2転送信号線73に接続されている。そして、第2転送信号線73は、電流制限抵抗R2を介してφ2端子に接続されている。このφ2端子には、第2転送信号ライン202(図4(b)参照)が接続され、転送信号発生部120から第2転送信号φ2が送信される。
Along with the arrangement of the transfer thyristors T, the cathodes of the odd-numbered (odd-numbered) transfer thyristors T1, T3,... Are connected to the first transfer signal line 72. The first transfer signal line 72 is connected to the φ1 terminal via the current limiting resistor R1. The first transfer signal line 201 (see FIG. 4B) is connected to the φ1 terminal, and the first transfer signal φ1 is transmitted from the transfer signal generator 120.
On the other hand, the cathodes of the even-numbered (even-numbered) transfer thyristors T2, T4,... Are connected to the second transfer signal line 73 along the arrangement of the transfer thyristors T. The second transfer signal line 73 is connected to the φ2 terminal via the current limiting resistor R2. The second transfer signal line 202 (see FIG. 4B) is connected to the φ2 terminal, and the second transfer signal φ2 is transmitted from the transfer signal generator 120.

発光サイリスタLのカソードは、点灯信号線75に接続されている。点灯信号線75は、φI端子に接続されている。発光チップU1では、φI端子は、電流制限抵抗RIを介して点灯信号ライン204−1(図4(b)参照)に接続され、点灯信号発生部140から点灯信号φI1が送信される。点灯信号φI1は、発光サイリスタLに点灯のための電流を供給する。なお、他の発光チップU2〜U40のφI端子には、それぞれ電流制限抵抗RIを介して点灯信号ライン204−2〜204−40が接続され、点灯信号発生部140から点灯信号φI2〜φI40が送信される。   The cathode of the light emitting thyristor L is connected to the lighting signal line 75. The lighting signal line 75 is connected to the φI terminal. In the light emitting chip U1, the φI terminal is connected to the lighting signal line 204-1 (see FIG. 4B) via the current limiting resistor RI, and the lighting signal φI1 is transmitted from the lighting signal generating unit 140. The lighting signal φI1 supplies a current for lighting to the light emitting thyristor L. The lighting signal lines 204-2 to 204-40 are connected to the φI terminals of the other light emitting chips U2 to U40 via current limiting resistors RI, respectively, and the lighting signals φI2 to φI40 are transmitted from the lighting signal generator 140. Is done.

転送サイリスタT1、T2、T3、…のそれぞれの第1ゲートGtf1、Gtf2、Gtf3、…は、同じ番号の発光サイリスタL1、L2、L3、…の第1ゲートGlf1、Glf2、Glf3、…に、1対1で接続されている。よって、転送サイリスタT1、T2、T3、…の第1ゲートGtf1、Gtf2、Gtf3、…と発光サイリスタL1、L2、L3、…の第1ゲートGlf1、Glf2、Glf3、…とは、同じ番号のものが同電位になっている。よって、例えば第1ゲートGtf1(Glf1)と表記して、電位が同じであることを示す。   Each of the first gates Gtf1, Gtf2, Gtf3,... Of the transfer thyristors T1, T2, T3,... Is set to 1 for the first gates Glf1, Glf2, Glf3, etc. of the light emitting thyristors L1, L2, L3,. Connected in a one-to-one relationship. Therefore, the first gates Gtf1, Gtf2, Gtf3,... Of the transfer thyristors T1, T2, T3,... And the first gates Glf1, Glf2, Glf3, etc. of the light emitting thyristors L1, L2, L3,. Are at the same potential. Therefore, for example, the first gate Gtf1 (Glf1) is expressed to indicate that the potentials are the same.

転送サイリスタT1の第2ゲートGts1と転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2との間に結合トランジスタQ1が接続されている。転送サイリスタT1の第2ゲートGts1が結合トランジスタQ1のベースに接続され、転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2が結合トランジスタQ1のコレクタC1に接続されている。
番号が2以上の番号が連続する2個の転送サイリスタT間においても、同様に結合トランジスタQが接続されている。
A coupling transistor Q1 is connected between the second gate Gts1 of the transfer thyristor T1 and the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2. The second gate Gts1 of the transfer thyristor T1 is connected to the base of the coupling transistor Q1, and the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2 is connected to the collector C1 of the coupling transistor Q1.
Similarly, the coupling transistor Q is connected between two transfer thyristors T having two or more consecutive numbers.

ここでも、第1ゲートGtf1、Gtf2、Gtf3、…、第2ゲートGts1、Gts2、Gts3、…、第1ゲートGlf1、Glf2、Glf3、…をそれぞれ区別しないときは、第1ゲートGtf、第2ゲートGts、第1ゲートGlfと表記する。そして、第1ゲートGtf(Glf)と表記して、電位が同じであることを示す。また、第1ゲートGtf(Glf)をゲートと表記することがある。
なお、発光サイリスタLも第2ゲートを有しているが、他の素子と接続されていないので、符号を付さない。
Also here, when the first gates Gtf1, Gtf2, Gtf3,..., The second gates Gts1, Gts2, Gts3,..., The first gates Glf1, Glf2, Glf3,. Gts is expressed as the first gate Glf. The first gate Gtf (Glf) is represented by the same potential. In addition, the first gate Gtf (Glf) may be expressed as a gate.
The light-emitting thyristor L also has a second gate, but is not connected to other elements, so that no reference numeral is given.

転送サイリスタTの第1ゲートGtf及び発光サイリスタLの第1ゲートGlfは、転送サイリスタTのそれぞれに対応して設けられた電源線抵抗Rgを介して、電源線71に接続されている。電源線71はVga端子に接続されている。Vga端子は、電源ライン200b(図4(b)参照)に接続され、電源電位供給部170から電源電位Vgaが供給される。   The first gate Gtf of the transfer thyristor T and the first gate Glf of the light emitting thyristor L are connected to the power supply line 71 via the power supply line resistance Rg provided corresponding to each of the transfer thyristors T. The power supply line 71 is connected to the Vga terminal. The Vga terminal is connected to the power supply line 200b (see FIG. 4B), and the power supply potential Vga is supplied from the power supply potential supply unit 170.

そして、転送サイリスタ列の一端の転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1は、スタート抵抗R0の一方の端子に接続されている。一方、スタート抵抗R0の他方の端子は、第2転送信号線73に接続されている。   The first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 at one end of the transfer thyristor array is connected to one terminal of the start resistor R0. On the other hand, the other terminal of the start resistor R 0 is connected to the second transfer signal line 73.

図5において、発光チップU1(U)の転送サイリスタT、結合トランジスタQ、電源線抵抗Rg、スタート抵抗R0、電流制限抵抗R1、R2を備える部分を転送部101と表記する。そして、発光サイリスタLを備える部分が発光部102に該当する。   In FIG. 5, a portion including the transfer thyristor T, the coupling transistor Q, the power supply line resistor Rg, the start resistor R0, and the current limiting resistors R1 and R2 of the light emitting chip U1 (U) is referred to as a transfer unit 101. A portion including the light emitting thyristor L corresponds to the light emitting unit 102.

図6は、第1の実施の形態が適用される発光チップUの平面レイアウト図及び断面図の一例である。図6(a)は、発光チップUの平面レイアウト図、図6(b)は、図6(a)に示したVIB−VIB線での断面図である。
ここでは、発光チップUと信号発生回路110との接続関係を示さないので、発光チップU1を例とすることを要しない。よって、発光チップUと表記する。
FIG. 6 is an example of a plan layout view and a cross-sectional view of the light emitting chip U to which the first embodiment is applied. 6A is a plan layout view of the light-emitting chip U, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line VIB-VIB shown in FIG.
Here, since the connection relationship between the light emitting chip U and the signal generation circuit 110 is not shown, it is not necessary to use the light emitting chip U1 as an example. Therefore, it is expressed as a light emitting chip U.

図6(a)に示す発光チップUの平面レイアウト図では、発光サイリスタL1〜L4、転送サイリスタT1〜T4を中心とした部分を示している。そして、発光サイリスタL1〜L4は、x方向に配列されている。なお、x方向は、図3、図4の主走査方向(X)の方向である。
端子(φ1端子、φ2端子、Vga端子、φI端子)の位置は、図4(a)と異なるが、説明の便宜上、図中左端部に示している。そして、p型の第1半導体層81の裏面に設けられたVsub端子は、p型の第1半導体層81の外に引き出して示している。図4(a)に対応させて端子を設けるとすると、φ2端子、φI端子、電流制限抵抗R2は、図6(a)においてp型の第1半導体層81の右端部に設けられる。なお、スタート抵抗R0は、転送サイリスタ列において転送を開始する側の端部に置かれる。
そして、図6(a)では、配線(電源線71、第1転送信号線72、第2転送信号線73、点灯信号線75など)を破線で示し、配線の下の構造が分かるように表記している。
In the plan layout diagram of the light-emitting chip U shown in FIG. 6A, the portions centering on the light-emitting thyristors L1 to L4 and the transfer thyristors T1 to T4 are shown. The light emitting thyristors L1 to L4 are arranged in the x direction. The x direction is the direction of the main scanning direction (X) in FIGS. 3 and 4.
The positions of the terminals (φ1 terminal, φ2 terminal, Vga terminal, φI terminal) are different from those in FIG. 4A, but are shown at the left end in the figure for convenience of explanation. A Vsub terminal provided on the back surface of the p-type first semiconductor layer 81 is drawn out from the p-type first semiconductor layer 81. If terminals are provided corresponding to FIG. 4A, the φ2 terminal, φI terminal, and current limiting resistor R2 are provided at the right end of the p-type first semiconductor layer 81 in FIG. 6A. The start resistor R0 is placed at the end of the transfer thyristor array on the side where transfer is started.
In FIG. 6A, the wiring (power supply line 71, first transfer signal line 72, second transfer signal line 73, lighting signal line 75, etc.) is indicated by a broken line so that the structure below the wiring can be understood. doing.

図6(b)に示す断面図には、図中下より発光サイリスタL1、転送サイリスタT1、結合トランジスタQ1、電源線抵抗Rg2の断面が示されている。なお、図6(a)及び(b)の図中には、素子の名前、転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1及び発光サイリスタL1の第1ゲートGlf1、結合トランジスタQ1のコレクタC1を表記している。   In the cross-sectional view shown in FIG. 6B, the light-emitting thyristor L1, the transfer thyristor T1, the coupling transistor Q1, and the power supply line resistance Rg2 are shown from the bottom in the figure. In FIGS. 6A and 6B, element names, the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1, the first gate Glf1 of the light emitting thyristor L1, and the collector C1 of the coupling transistor Q1 are shown. .

発光チップUは、図6(b)に示すように、p型の第1半導体層81、n型の第2半導体層82、p型の第3半導体層83及びn型の第4半導体層84が順に積層された半導体積層体を分離して構成した複数の島状領域(アイランド)(後述する第1アイランド301、第2アイランド302、第3アイランド303など)から構成されている。なお、第1半導体層81は、基板を兼ねている。すなわち、これらの複数のアイランドは、図6(b)に示すように、少なくともn型の第2半導体層82、p型の第3半導体層83及びn型の第4半導体層84が相互に分離されている。なお、p型の第1半導体層81は、厚さ方向に一部が除去されている。また、基板を兼ねるp型の第1半導体層81と、n型の第2半導体層82との間に、p型の半導体層を備えていてもよい。
後述するように、これらのアイランドでは、n型の第4半導体層84又はp型の第3半導体層83の一部又は全部が除去されることで、発光サイリスタL、転送サイリスタT、結合トランジスタQ、電源線抵抗Rgなどが構成されている。
As shown in FIG. 6B, the light emitting chip U includes a p-type first semiconductor layer 81, an n-type second semiconductor layer 82, a p-type third semiconductor layer 83, and an n-type fourth semiconductor layer 84. Is composed of a plurality of island regions (islands) (a first island 301, a second island 302, a third island 303, etc., which will be described later) formed by separating semiconductor stacked bodies stacked in order. The first semiconductor layer 81 also serves as a substrate. That is, as shown in FIG. 6B, at least the n-type second semiconductor layer 82, the p-type third semiconductor layer 83, and the n-type fourth semiconductor layer 84 are separated from each other in the plurality of islands. Has been. The p-type first semiconductor layer 81 is partially removed in the thickness direction. Further, a p-type semiconductor layer may be provided between the p-type first semiconductor layer 81 also serving as the substrate and the n-type second semiconductor layer 82.
As will be described later, in these islands, part or all of the n-type fourth semiconductor layer 84 or the p-type third semiconductor layer 83 is removed, so that the light-emitting thyristor L, the transfer thyristor T, the coupling transistor Q A power line resistance Rg and the like are configured.

そして、発光チップUには、図6(b)に示すように、これらのアイランドの表面及び側面を覆うように絶縁層86が設けられている。これらのアイランドと配線とが、絶縁層86に設けられたスルーホール(図6(a)では○で表記する。)を介して、接続されている。以下の説明では、絶縁層86及びスルーホールについての説明を省略する。   As shown in FIG. 6B, the light emitting chip U is provided with an insulating layer 86 so as to cover the surface and side surfaces of these islands. These islands and wirings are connected through through holes (indicated by “◯” in FIG. 6A) provided in the insulating layer 86. In the following description, description of the insulating layer 86 and the through hole is omitted.

図6(a)に示すように、第1アイランド301は、平面形状がU字状であって、U字の中央部に発光サイリスタL1が、U字の一方の側(図6(a)において右側)に転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1が設けられている。   As shown in FIG. 6A, the first island 301 is U-shaped in plan, and the light-emitting thyristor L1 is located at the center of the U-shape on one side of the U-shape (FIG. 6A). A transfer thyristor T1 and a coupling transistor Q1 are provided on the right side.

第2アイランド302及び第3アイランド303は、平面形状が両端部(図6(a)において上下側)の四角形の部分を接続した形状であって、第2アイランド302に電源線抵抗Rg1が、第3アイランド303に電源線抵抗Rg2が設けられている。
第4アイランド304、第5アイランド305、第6アイランド306は、第2アイランド302、第3アイランド303と同様な平面形状であって、第4アイランド304にはスタート抵抗R0が、第5アイランド305には電流制限抵抗R1が、第6アイランド306には電流制限抵抗R2が設けられている。
The second island 302 and the third island 303 have a planar shape in which square portions at both ends (upper and lower sides in FIG. 6A) are connected, and the power line resistance Rg1 is connected to the second island 302, A power line resistance Rg <b> 2 is provided on the three islands 303.
The fourth island 304, the fifth island 305, and the sixth island 306 have the same planar shape as the second island 302 and the third island 303, and the fourth island 304 has a start resistance R0 and the fifth island 305. Is provided with a current limiting resistor R1, and the sixth island 306 is provided with a current limiting resistor R2.

そして、発光チップUには、第1アイランド301、第2アイランド302(第3アイランド303)と同様なアイランドが、並列して複数形成されている。これらのアイランドには、発光サイリスタL2、L3、L4、…、転送サイリスタT2、T3、T4、…、結合トランジスタQ2、Q3、Q4、…、電源線抵抗Rg3、Rg4、Rg5、…が、第1アイランド301、第2アイランド302(第3アイランド303)と同様に設けられている。
また、図6(b)に示すように、p型の第1半導体層81の裏面にはVsub端子となる裏面電極85が設けられている。
In the light emitting chip U, a plurality of islands similar to the first island 301 and the second island 302 (third island 303) are formed in parallel. These islands have light emitting thyristors L2, L3, L4,..., Transfer thyristors T2, T3, T4,..., Coupling transistors Q2, Q3, Q4,..., Power line resistances Rg3, Rg4, Rg5,. It is provided in the same manner as the island 301 and the second island 302 (third island 303).
Further, as shown in FIG. 6B, a back electrode 85 serving as a Vsub terminal is provided on the back surface of the p-type first semiconductor layer 81.

ここで、図6(a)及び(b)により、第1アイランド301〜第6アイランド306について詳細に説明する。
平面形状がU字状の第1アイランド301において、U字の中央部に設けられた発光サイリスタL1は、p型の第1半導体層81をアノードとし、周囲を取り除いたn型の第4半導体層84の領域311をカソードとする。n型の第4半導体層84の領域311上にn型オーミック電極321が設けられている。なお、p型の第1半導体層81をアノード層、n型の第4半導体層84をカソード層、n型オーミック電極321をカソードと表記することがある。
さらに、p型の第3半導体層83が第1ゲートGlf1であって、n型の第4半導体層84を取り除いて露出させたp型の第3半導体層83上に、第1アイランド301のU字の内側に沿ってp型オーミック電極331が設けられている。p型オーミック電極331は、U字の一方の側(図6(a)において右側)では、その中央部に設けられた転送サイリスタT1の近傍まで延びていて、U字の他方の側(図6(a)において左側)では、U字の端部まで延びている。なお、p型の第3半導体層83を第1オーミック層、p型オーミック電極331を第1ゲートGlf1と表記することがある。そして、n型の第2半導体層82が第2ゲートGls1である。なお、n型の第2半導体層82を第2ゲート層と表記することがある。
Here, with reference to FIGS. 6A and 6B, the first island 301 to the sixth island 306 will be described in detail.
In the first island 301 having a U-shape in plan view, the light-emitting thyristor L1 provided in the center of the U-shape has an n-type fourth semiconductor layer with the p-type first semiconductor layer 81 as an anode and the periphery removed. 84 region 311 is the cathode. An n-type ohmic electrode 321 is provided on the region 311 of the n-type fourth semiconductor layer 84. The p-type first semiconductor layer 81 may be referred to as an anode layer, the n-type fourth semiconductor layer 84 as a cathode layer, and the n-type ohmic electrode 321 as a cathode.
Further, the p-type third semiconductor layer 83 is the first gate Glf1, and the U of the first island 301 is formed on the p-type third semiconductor layer 83 exposed by removing the n-type fourth semiconductor layer 84. A p-type ohmic electrode 331 is provided along the inside of the letter. The p-type ohmic electrode 331 extends to the vicinity of the transfer thyristor T1 provided at the center portion on one side of the U shape (right side in FIG. 6A), and the other side of the U shape (FIG. 6). On the left side in (a), it extends to the end of the U-shape. The p-type third semiconductor layer 83 may be referred to as a first ohmic layer, and the p-type ohmic electrode 331 may be referred to as a first gate Glf1. The n-type second semiconductor layer 82 is the second gate Gls1. Note that the n-type second semiconductor layer 82 may be referred to as a second gate layer.

発光サイリスタLは、n型の第2半導体層82とp型の第3半導体層83との界面で発光する。光は、カソードであるn型の第4半導体層84の領域311の表面(発光面)から、絶縁層86を透過して出射する。なお、n型の第4半導体層84の領域311において、n型オーミック電極321及び点灯信号線75とn型オーミック電極321との接続のための枝部75bによって覆われた部分は、光の出射が妨げられる。   The light emitting thyristor L emits light at the interface between the n-type second semiconductor layer 82 and the p-type third semiconductor layer 83. Light is transmitted through the insulating layer 86 and emitted from the surface (light emitting surface) of the region 311 of the n-type fourth semiconductor layer 84 serving as the cathode. Note that, in the region 311 of the n-type fourth semiconductor layer 84, the portion covered by the n-type ohmic electrode 321 and the branch portion 75 b for connecting the lighting signal line 75 and the n-type ohmic electrode 321 is light emission. Is disturbed.

転送サイリスタT1は、第1アイランド301において、U字の一方の側(図6(a)において右側)の中央部に設けられている。転送サイリスタT1が設けられた部分では、p型の第1半導体層81をアノードとし、周囲を取り除いたn型の第4半導体層84の領域312をカソードとする。そして、n型の第4半導体層84の領域312上にn型オーミック電極322が設けられている。なお、p型の第1半導体層81をアノード層、n型の第4半導体層84をカソード層、n型オーミック電極322をカソードと表記することがある。
さらに、p型の第3半導体層83が第1ゲートGtf1である。p型の第3半導体層83上のp型オーミック電極331を、第1ゲートGtf1と表記することがある。すなわち、発光サイリスタL1の第1ゲートGlf1及び転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1は、p型オーミック電極331で共通である。よって、p型オーミック電極331は、第1ゲートGtf1(Glf1)と表記されることがある。
そして、n型の第2半導体層82が第2ゲートGts1である。なお、n型の第2半導体層82を第2ゲート層と表記することがある。
The transfer thyristor T1 is provided at the center of one side of the U-shape (the right side in FIG. 6A) in the first island 301. In the portion where the transfer thyristor T1 is provided, the p-type first semiconductor layer 81 serves as an anode, and the region 312 of the n-type fourth semiconductor layer 84 excluding the periphery serves as a cathode. An n-type ohmic electrode 322 is provided on the region 312 of the n-type fourth semiconductor layer 84. The p-type first semiconductor layer 81 may be referred to as an anode layer, the n-type fourth semiconductor layer 84 may be referred to as a cathode layer, and the n-type ohmic electrode 322 may be referred to as a cathode.
Further, the p-type third semiconductor layer 83 is the first gate Gtf1. The p-type ohmic electrode 331 on the p-type third semiconductor layer 83 may be referred to as a first gate Gtf1. That is, the first gate Glf1 of the light emitting thyristor L1 and the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 are common to the p-type ohmic electrode 331. Therefore, the p-type ohmic electrode 331 may be referred to as the first gate Gtf1 (Glf1).
The n-type second semiconductor layer 82 is the second gate Gts1. Note that the n-type second semiconductor layer 82 may be referred to as a second gate layer.

結合トランジスタQ1は、平面形状がU字状の第1アイランド301において、U字の一方の側(図6(a)において右側)の端部に設けられている。結合トランジスタQ1が設けられる部分では、n型の第4半導体層84が取り除かれている。そして、p型の第1半導体層81がエミッタ、n型の第2半導体層82がベース、n型の第4半導体層84を取り除いて露出させたp型の第3半導体層83がコレクタC1である。n型の第4半導体層84を取り除いて露出させたp型の第3半導体層83上にp型オーミック電極332が設けられている。なお、p型の第1半導体層81をエミッタ層、n型の第2半導体層82をベース層、p型の第3半導体層83をコレクタ層、p型オーミック電極332をコレクタC1と表記することがある。   The coupling transistor Q1 is provided at the end of one side (right side in FIG. 6A) of the U-shaped first island 301 having a U-shaped planar shape. In the portion where the coupling transistor Q1 is provided, the n-type fourth semiconductor layer 84 is removed. The p-type first semiconductor layer 81 is the emitter, the n-type second semiconductor layer 82 is the base, and the p-type third semiconductor layer 83 exposed by removing the n-type fourth semiconductor layer 84 is the collector C1. is there. A p-type ohmic electrode 332 is provided on the p-type third semiconductor layer 83 exposed by removing the n-type fourth semiconductor layer 84. The p-type first semiconductor layer 81 is referred to as an emitter layer, the n-type second semiconductor layer 82 is referred to as a base layer, the p-type third semiconductor layer 83 is referred to as a collector layer, and the p-type ohmic electrode 332 is referred to as a collector C1. There is.

発光サイリスタL1のアノードとして働く部分のp型の第1半導体層81、転送サイリスタT1のアノードとして働く部分のp型の第1半導体層81、及び、結合トランジスタQ1のエミッタとして働く部分のp型の第1半導体層81は繋がって(連続して)いる。
また、発光サイリスタL1の第2ゲートGls1として働く部分のn型の第2半導体層82、転送サイリスタT1の第2ゲートGts1として働く部分のn型の第2半導体層82及び結合トランジスタQ1のベースとして働く部分のn型の第2半導体層82は繋がって(連続して)いる。
発光サイリスタL1の第1ゲートGlf1として働く部分のp型の第3半導体層83と転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1として働く部分のp型の第3半導体層83とはつながって(連続して)いる。
The p-type first semiconductor layer 81 serving as the anode of the light emitting thyristor L1, the p-type first semiconductor layer 81 serving as the anode of the transfer thyristor T1, and the p-type first semiconductor layer 81 serving as the emitter of the coupling transistor Q1. The first semiconductor layers 81 are connected (continuous).
Further, as a base of the n-type second semiconductor layer 82 serving as the second gate Gls1 of the light-emitting thyristor L1, the n-type second semiconductor layer 82 serving as the second gate Gts1 of the transfer thyristor T1, and the coupling transistor Q1. The working n-type second semiconductor layer 82 is connected (continuously).
The portion of the p-type third semiconductor layer 83 serving as the first gate Glf1 of the light emitting thyristor L1 and the portion of the p-type third semiconductor layer 83 serving as the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 are connected (continuously). Yes.

以上説明したように、第1アイランド301において、第1ゲートGtf1(Glf1)と結合トランジスタQとは、発光サイリスタLの配列の方向(x方向)に対して、並列に配置されている。そして、転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1は、発光サイリスタLが配列された方向(x方向)に対して交差(又は直交)する方向に設けられている。そして、転送サイリスタTと結合トランジスタQとは、直列に配置されている。   As described above, in the first island 301, the first gate Gtf1 (Glf1) and the coupling transistor Q are arranged in parallel with the arrangement direction (x direction) of the light emitting thyristors L. The transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 are provided in a direction that intersects (or is orthogonal to) the direction (x direction) in which the light emitting thyristors L are arranged. The transfer thyristor T and the coupling transistor Q are arranged in series.

電源線抵抗Rg1が設けられた第2アイランド302では、n型の第4半導体層84が取り除かれている。そして、露出させたp型の第3半導体層83上にp型オーミック電極333とp型オーミック電極334とが設けられている。そして、p型の第3半導体層83上にp型オーミック電極333とp型オーミック電極334との間のp型の第3半導体層83を電源線抵抗Rg1とするように設けられている。電源線抵抗Rg2が設けられた第3アイランド303でも、同様である。すなわち、露出させたp型の第3半導体層83上に設けられたp型オーミック電極335とp型オーミック電極336との間のp型の第3半導体層83を電源線抵抗Rg2とするように設けられている。   In the second island 302 provided with the power supply line resistance Rg1, the n-type fourth semiconductor layer 84 is removed. A p-type ohmic electrode 333 and a p-type ohmic electrode 334 are provided on the exposed p-type third semiconductor layer 83. Then, the p-type third semiconductor layer 83 between the p-type ohmic electrode 333 and the p-type ohmic electrode 334 is provided on the p-type third semiconductor layer 83 so as to serve as the power supply line resistance Rg1. The same applies to the third island 303 provided with the power supply line resistance Rg2. That is, the p-type third semiconductor layer 83 between the p-type ohmic electrode 335 and the p-type ohmic electrode 336 provided on the exposed p-type third semiconductor layer 83 is set as the power supply line resistance Rg2. Is provided.

第4アイランド304に設けられたスタート抵抗R0、第5アイランド305に設けられた電流制限抵抗R1、第6アイランド306に設けられた電流制限抵抗R2は、第2アイランド302に設けられた電源線抵抗Rg1と同様に、それぞれが2個のp型オーミック電極(符号なし)間のp型の第3半導体層83を抵抗としている。   The start resistor R 0 provided on the fourth island 304, the current limiting resistor R 1 provided on the fifth island 305, and the current limiting resistor R 2 provided on the sixth island 306 are the power line resistance provided on the second island 302. Similarly to Rg1, each of the p-type third semiconductor layers 83 between the two p-type ohmic electrodes (not shown) serves as a resistance.

図6(a)において、各素子間の接続関係を説明する。
点灯信号線75は幹部75aと複数の枝部75bとを備え、幹部75aは発光サイリスタ列の列方向に延びるように設けられている。枝部75bは幹部75aから枝分かれして、第1アイランド301に設けられた発光サイリスタL1のn型の第4半導体層84の領域311上のn型オーミック電極321(カソード)と接続されている。第1アイランド301と同様なアイランドに設けられた、他の発光サイリスタLのカソードも同様にして、点灯信号線75に接続されている。そして、点灯信号線75はφI端子に接続されている。
In FIG. 6A, the connection relationship between each element will be described.
The lighting signal line 75 includes a trunk portion 75a and a plurality of branch portions 75b, and the trunk portion 75a is provided so as to extend in the column direction of the light emitting thyristor row. The branch portion 75 b branches off from the trunk portion 75 a and is connected to the n-type ohmic electrode 321 (cathode) on the region 311 of the n-type fourth semiconductor layer 84 of the light-emitting thyristor L 1 provided on the first island 301. Similarly, the cathodes of the other light emitting thyristors L provided on the same island as the first island 301 are connected to the lighting signal line 75. The lighting signal line 75 is connected to the φI terminal.

第1転送信号線72は、第1アイランド301に設けられた転送サイリスタT1のn型の第4半導体層84の領域312上のn型オーミック電極322(カソード)に接続されている。第1アイランド301と同様なアイランドに設けられた、他の奇数番号の転送サイリスタTのカソードも第1転送信号線72に接続されている。第1転送信号線72は、第5アイランド305に設けられた電流制限抵抗R1を介してφ1端子に接続されている。
一方、第2転送信号線73は、符号を付さないアイランドに設けられた偶数番号の転送サイリスタTのカソードに接続されている。第2転送信号線73は、第6アイランド306に設けられた電流制限抵抗R2を介してφ2端子に接続されている。
The first transfer signal line 72 is connected to the n-type ohmic electrode 322 (cathode) on the region 312 of the n-type fourth semiconductor layer 84 of the transfer thyristor T1 provided on the first island 301. The cathodes of other odd-numbered transfer thyristors T provided on an island similar to the first island 301 are also connected to the first transfer signal line 72. The first transfer signal line 72 is connected to the φ1 terminal via a current limiting resistor R1 provided on the fifth island 305.
On the other hand, the second transfer signal line 73 is connected to the cathode of an even-numbered transfer thyristor T provided on an island not labeled. The second transfer signal line 73 is connected to the φ2 terminal via a current limiting resistor R2 provided on the sixth island 306.

電源線71は、第2アイランド302に設けられた電源線抵抗Rg1のp型オーミック電極334、第3アイランド303に設けられた電源線抵抗Rg2のp型オーミック電極336に接続されている。第2アイランド302(第3アイランド303)と同様なアイランドに設けられた他の電源線抵抗Rgも同様にして電源線71に接続されている。電源線71はVga端子に接続されている。   The power supply line 71 is connected to the p-type ohmic electrode 334 of the power supply line resistance Rg1 provided on the second island 302 and the p-type ohmic electrode 336 of the power supply line resistance Rg2 provided on the third island 303. Other power supply line resistors Rg provided on the same island as the second island 302 (third island 303) are also connected to the power supply line 71 in the same manner. The power supply line 71 is connected to the Vga terminal.

そして、平面形状がU字状の第1アイランド301のU字の内側に沿って設けられたp型オーミック電極331(第1ゲートGtf1(Glf1))は、U字の他方の側(図6(a)において左側)の端部まで延びて、第2アイランド302に設けられた電源線抵抗Rg1のp型オーミック電極333に接続配線76で接続されている。
平面形状がU字状の第1アイランド301のU字の一方の側の端部に設けられたp型オーミック電極332(結合トランジスタQ1のコレクタC1)は、第3アイランド303に設けられた電源線抵抗Rg2のp型オーミック電極335に接続配線77で接続されている。
ここでは説明を省略するが、他の発光サイリスタL、転送サイリスタT、結合トランジスタQ、電源線抵抗Rgについても同様である。
Then, the p-type ohmic electrode 331 (first gate Gtf1 (Glf1)) provided along the inner side of the U-shape of the first island 301 having a U-shape in plan view is the other side of the U-shape (FIG. 6 ( In a), it extends to the end on the left side) and is connected to the p-type ohmic electrode 333 of the power supply line resistance Rg1 provided on the second island 302 by a connection wiring 76.
A p-type ohmic electrode 332 (collector C1 of the coupling transistor Q1) provided at one end of the U-shape of the first island 301 having a U-shape in plan view is a power line provided on the third island 303. A connection wiring 77 is connected to the p-type ohmic electrode 335 of the resistor Rg2.
Although not described here, the same applies to the other light-emitting thyristors L, transfer thyristors T, coupling transistors Q, and power supply line resistors Rg.

第1アイランド301のp型オーミック電極331(第1ゲートGtf1(Glf1))及び第2アイランド302のp型オーミック電極333(電源線抵抗Rg1の一方の端子)は、第4アイランド304に設けられたスタート抵抗R0の一方のp型オーミック電極(符号なし)に前述した接続配線76で接続されている。スタート抵抗R0の他方の端子は第2転送信号線73に接続されている。
このようにして、図5に示した発光チップU1(U)が構成される。
The p-type ohmic electrode 331 (first gate Gtf1 (Glf1)) of the first island 301 and the p-type ohmic electrode 333 (one terminal of the power supply line resistance Rg1) of the second island 302 are provided on the fourth island 304. The p-type ohmic electrode (not indicated) of the start resistor R0 is connected by the connection wiring 76 described above. The other terminal of the start resistor R 0 is connected to the second transfer signal line 73.
In this way, the light emitting chip U1 (U) shown in FIG. 5 is configured.

(転送サイリスタT及び結合トランジスタQ)
ここで、転送サイリスタT及び結合トランジスタQを説明する。
図7は、転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1を説明する図である。図7(a)は、転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1を等価なトランジスタの記号により表記した図である。図7(b)は、図7(a)において、転送サイリスタT1をサイリスタの記号で表記するとともに、隣接する転送サイリスタT2を加えて示した図である。図7(c)は、転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1の断面図である。なお、図7(c)は、図6(b)の断面図において、転送サイリスタT1と結合トランジスタQ1との部分を拡大した図である。
図7では、説明を容易にするため、転送サイリスタT1のアノードA1、カソードK1、転送サイリスタT2のアノードA2、カソードK2及び結合トランジスタQ1のエミッタE1、ベースB1、コレクタC1とする。
(Transfer thyristor T and coupling transistor Q)
Here, the transfer thyristor T and the coupling transistor Q will be described.
FIG. 7 is a diagram illustrating the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1. FIG. 7A is a diagram in which the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 are represented by equivalent transistor symbols. FIG. 7B is a diagram in which the transfer thyristor T1 is represented by a thyristor symbol and an adjacent transfer thyristor T2 is added in FIG. 7A. FIG. 7C is a cross-sectional view of the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1. FIG. 7C is an enlarged view of the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 in the cross-sectional view of FIG. 6B.
In FIG. 7, for ease of explanation, the anode A1 and cathode K1 of the transfer thyristor T1, the anode A2 and cathode K2 of the transfer thyristor T2, and the emitter E1, base B1, and collector C1 of the coupling transistor Q1 are used.

図7(a)に示すように、転送サイリスタT1はpnpトランジスタTr1とnpnトランジスタTr2とが組み合わされた構成をなしている。すなわち、pnpトランジスタTr1のベースがnpnトランジスタTr2のコレクタに接続され、pnpトランジスタTr1のコレクタがnpnトランジスタTr2のベースに接続されている。そして、pnpトランジスタTr1のエミッタが、転送サイリスタT1のアノードA1、pnpトランジスタTr1のコレクタ(npnトランジスタTr2のベース)が転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1、npnトランジスタTr2のコレクタ(pnpトランジスタTr1のベース)が転送サイリスタT1の第2ゲートGts1、npnトランジスタTr2のエミッタが転送サイリスタT1のカソードK1である。転送サイリスタT1のアノードA1であるpnpトランジスタTr1のエミッタは基準電位Vsubに接続されている。   As shown in FIG. 7A, the transfer thyristor T1 has a configuration in which a pnp transistor Tr1 and an npn transistor Tr2 are combined. That is, the base of the pnp transistor Tr1 is connected to the collector of the npn transistor Tr2, and the collector of the pnp transistor Tr1 is connected to the base of the npn transistor Tr2. The emitter of the pnp transistor Tr1 is the anode A1 of the transfer thyristor T1, the collector of the pnp transistor Tr1 (base of the npn transistor Tr2) is the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1, and the collector of the npn transistor Tr2 (base of the pnp transistor Tr1). Is the second gate Gts1 of the transfer thyristor T1, and the emitter of the npn transistor Tr2 is the cathode K1 of the transfer thyristor T1. The emitter of the pnp transistor Tr1, which is the anode A1 of the transfer thyristor T1, is connected to the reference potential Vsub.

そして、結合トランジスタQ1はpnpトランジスタであって、ベースB1が転送サイリスタT1の第2ゲートGts1に接続されている。なお、転送サイリスタT1の第2ゲートGts1は、npnトランジスタTr2のコレクタ及びpnpトランジスタTr1のベースである。結合トランジスタQ1のエミッタE1は基準電位Vsubに接続されている。   The coupling transistor Q1 is a pnp transistor, and the base B1 is connected to the second gate Gts1 of the transfer thyristor T1. The second gate Gts1 of the transfer thyristor T1 is the collector of the npn transistor Tr2 and the base of the pnp transistor Tr1. The emitter E1 of the coupling transistor Q1 is connected to the reference potential Vsub.

図7(a)に示すように、転送サイリスタT1のpnpトランジスタTr1と結合トランジスタQ1とは、カレントミラー回路を構成している。すなわち、pnpトランジスタTr1に流れる電流に比例した電流が結合トランジスタQ1に流れる。   As shown in FIG. 7A, the pnp transistor Tr1 and the coupling transistor Q1 of the transfer thyristor T1 constitute a current mirror circuit. That is, a current proportional to the current flowing through the pnp transistor Tr1 flows through the coupling transistor Q1.

以下では、一例として、Vsub端子である裏面電極85(図5、図6(b)参照)に供給される基準電位Vsubをハイレベルの電位として0V(以下では「H」(0V)又は「H」と表記する。)、Vga端子に供給される電源電位Vgaをローレベルの電位として−3.3V(以下では「L」(−3.3V)又は「L」と表記する。)として説明する。
サイリスタ(転送サイリスタT、発光サイリスタL)及び結合トランジスタQは、図6に示したように、p型半導体層(p型の第1半導体層81、p型の第3半導体層83)、n型半導体層(n型の第2半導体層82、n型の第4半導体層84)を積層して構成される。これらはGaAs、GaAlAsなどにより構成されるとして、p型半導体層とn型半導体層とで構成されるpn接合の拡散電位(順方向電位)Vdを一例として1.5Vとする。
Hereinafter, as an example, the reference potential Vsub supplied to the back electrode 85 (see FIG. 5 and FIG. 6B) which is a Vsub terminal is set to 0V (hereinafter referred to as “H” (0V) or “H” as a high level potential). The power supply potential Vga supplied to the Vga terminal is set to −3.3 V (hereinafter referred to as “L” (−3.3 V) or “L”) as a low level potential. .
As shown in FIG. 6, the thyristor (transfer thyristor T, light-emitting thyristor L) and coupling transistor Q are composed of a p-type semiconductor layer (p-type first semiconductor layer 81, p-type third semiconductor layer 83), n-type. A semiconductor layer (an n-type second semiconductor layer 82 and an n-type fourth semiconductor layer 84) is stacked. These are assumed to be composed of GaAs, GaAlAs, or the like, and a diffusion potential (forward potential) Vd of a pn junction composed of a p-type semiconductor layer and an n-type semiconductor layer is set to 1.5 V as an example.

まず、転送サイリスタT1によりサイリスタ(転送サイリスタT、発光サイリスタL)の基本的な動作を説明する。
転送サイリスタT1のアノードA1であるp型の第1半導体層81は、裏面電極85に供給される基準電位Vsub(「H」(0V))になっている。
First, the basic operation of the thyristor (transfer thyristor T, light-emitting thyristor L) will be described using the transfer thyristor T1.
The p-type first semiconductor layer 81 that is the anode A1 of the transfer thyristor T1 is at the reference potential Vsub (“H” (0 V)) supplied to the back electrode 85.

オフ状態にある転送サイリスタT1では、アノードA1とカソードK1との間はオン状態に比べて電流が小さい状態にある。このとき、転送サイリスタT1を構成するpnpトランジスタTr1及びnpnトランジスタTr2はオフ状態にある。
ここで、転送サイリスタT1のカソードK1に接続された第1転送信号線72が、「L」(−3.3V)となるとする。
このとき、第1ゲートGtf1が、「L」(−3.3V)に拡散電位Vd(1.5V)を加えた値、ここでは−1.8Vより高い(正の側を高いといい、負の側を低いという。)電位になると、npnトランジスタTr2のエミッタ−ベース間が順バイアスになり、オフ状態からオン状態に移行する。すると、npnトランジスタTr2のコレクタが「L」(−3.3V)側に引き込まれ、pnpトランジスタTr1のエミッタ(「H」(0V))−ベース間が順バイアスになって、pnpトランジスタTr1もオフ状態からオン状態に移行する。すなわち、pnpトランジスタTr1及びnpnトランジスタTr2がともにオン状態になって、転送サイリスタT1がオフ状態からオン状態に移行する。転送サイリスタT1がオフ状態からオン状態に移行することをターンオンと表記する。
In the transfer thyristor T1 in the off state, the current is smaller between the anode A1 and the cathode K1 than in the on state. At this time, the pnp transistor Tr1 and the npn transistor Tr2 constituting the transfer thyristor T1 are in the off state.
Here, it is assumed that the first transfer signal line 72 connected to the cathode K1 of the transfer thyristor T1 becomes “L” (−3.3 V).
At this time, the first gate Gtf1 is a value obtained by adding the diffusion potential Vd (1.5 V) to “L” (−3.3 V), here, higher than −1.8 V (the positive side is said to be high, negative When the potential is low, the emitter-base of the npn transistor Tr2 becomes forward biased and shifts from the off state to the on state. Then, the collector of the npn transistor Tr2 is pulled to the “L” (−3.3 V) side, the emitter (“H” (0 V)) — base of the pnp transistor Tr1 becomes a forward bias, and the pnp transistor Tr1 is also turned off. Transition from state to on state. That is, both the pnp transistor Tr1 and the npn transistor Tr2 are turned on, and the transfer thyristor T1 shifts from the off state to the on state. Transition of the transfer thyristor T1 from the off state to the on state is referred to as turn-on.

オン状態の転送サイリスタT1では、第1ゲートGtf1は、アノードA1の電位に近い電位(絶対値がアノードA1の電位より大きい負の電位)になる。ここでは、アノードA1を基準電位Vsub(「H」(0V))に設定しているので、第1ゲートGtf1の電位は、「H」(0V)になるとする。また、第2ゲートGts1は、アノードA1の電位からpn接合の拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位(−1.5V)になる。
オン状態の転送サイリスタT1のカソードK1は、アノードA1の電位(「H」(0V))から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位に近い電位(絶対値が1.5Vより大きい負の電位)となる。なお、カソードK1の電位は、オン状態の転送サイリスタT1に電流を供給する電源の電流供給能力で設定される。
In the transfer thyristor T1 in the on state, the first gate Gtf1 becomes a potential close to the potential of the anode A1 (a negative potential whose absolute value is larger than the potential of the anode A1). Here, since the anode A1 is set to the reference potential Vsub (“H” (0 V)), the potential of the first gate Gtf1 is assumed to be “H” (0 V). The second gate Gts1 has a potential (−1.5 V) obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) of the pn junction from the potential of the anode A1.
The cathode K1 of the transfer thyristor T1 in the ON state has a negative potential (absolute value larger than 1.5V) that is close to the potential obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5V) from the potential of the anode A1 (“H” (0V)). Potential). The potential of the cathode K1 is set by the current supply capability of the power supply that supplies current to the transfer thyristor T1 in the on state.

以上説明したように、転送サイリスタT1を構成するnpnトランジスタTr2のエミッタ(カソードK1)−ベース(第1ゲートGtf1)間を順バイアスにすると、転送サイリスタT1がターンオンする。そして、npnトランジスタTr2のエミッタ(カソードK1)−ベース(第1ゲートGtf1)間を順バイアスにするには、カソードK1の電位を第1ゲートGtf1から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位より低くすればよい。第1ゲートGtf1の電位から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位を転送サイリスタT1のしきい電圧と表記する。よって、転送サイリスタT1のしきい電圧は第1ゲートGtf1の電位によって決まり、カソードK1(第1転送信号線72)がしきい電圧より低い電位となると、転送サイリスタT1がターンオンする。   As described above, when a forward bias is applied between the emitter (cathode K1) and base (first gate Gtf1) of the npn transistor Tr2 constituting the transfer thyristor T1, the transfer thyristor T1 is turned on. In order to forward bias between the emitter (cathode K1) and base (first gate Gtf1) of the npn transistor Tr2, the potential of the cathode K1 is obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) from the first gate Gtf1. It may be lower. A potential obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) from the potential of the first gate Gtf1 is referred to as a threshold voltage of the transfer thyristor T1. Therefore, the threshold voltage of the transfer thyristor T1 is determined by the potential of the first gate Gtf1, and when the cathode K1 (first transfer signal line 72) is at a potential lower than the threshold voltage, the transfer thyristor T1 is turned on.

ターンオンした転送サイリスタT1は、アノードA1の電位(「H」(0V))から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位より低い電位(維持電圧)がカソードK1に印加され、電源からオン状態を維持しうる電流(維持電流)が供給され続けると、オン状態を維持する。
一方、オン状態の転送サイリスタT1は、アノードA1の電位(「H」(0V))から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位より高い電位がカソードK1に印加されると、オン状態からオフ状態に移行する。転送サイリスタT1がオン状態からオフ状態に移行することをターンオフと表記する。例えば、カソードK1が「H」(0V)になると、オン状態を維持するために必要な維持電圧(−1.5Vより低い電位)より高い電位であるとともに、カソードK1の電位とアノードA1の電位とが同じになるので、転送サイリスタT1はターンオフする。
In the turned-on transfer thyristor T1, a potential (sustain voltage) lower than the potential obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5V) from the potential of the anode A1 (“H” (0V)) is applied to the cathode K1, and the power supply is turned on. If the current that can maintain the current (maintenance current) continues to be supplied, the ON state is maintained.
On the other hand, when a potential higher than the potential obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) from the potential (“H” (0 V)) of the anode A1 is applied to the cathode K1, the transfer thyristor T1 in the on state is turned on. Transition to the off state. Transition of the transfer thyristor T1 from the on state to the off state is referred to as turn-off. For example, when the cathode K1 becomes “H” (0 V), the potential is higher than the sustain voltage (potential lower than −1.5 V) necessary for maintaining the ON state, and the potential of the cathode K1 and the potential of the anode A1 And the transfer thyristor T1 is turned off.

次に、結合トランジスタQ1の動作を説明する。
転送サイリスタT1がオフ状態にあるときは、結合トランジスタQ1もオフ状態にある。
前述したように、転送サイリスタT1がターンオンする際に、pnpトランジスタTr1のエミッタ(アノードA1)−ベース(第2ゲートGts1)間が順バイアスになる。すると、第2ゲートGts1は結合トランジスタQ1のベースB1に接続されているので、結合トランジスタQ1のエミッタE1−ベースB1間も順バイアスになって、結合トランジスタQ1がオフ状態からオン状態に移行する。
なお、結合トランジスタQ1のエミッタE1−ベースB1間が、エミッタE1(「H」(0V))から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位より高くなると、結合トランジスタQ1はオン状態からオフ状態に移行する。
Next, the operation of the coupling transistor Q1 will be described.
When the transfer thyristor T1 is in the off state, the coupling transistor Q1 is also in the off state.
As described above, when the transfer thyristor T1 is turned on, a forward bias is applied between the emitter (anode A1) and the base (second gate Gts1) of the pnp transistor Tr1. Then, since the second gate Gts1 is connected to the base B1 of the coupling transistor Q1, the emitter E1-base B1 of the coupling transistor Q1 is also forward biased, and the coupling transistor Q1 shifts from the off state to the on state.
When the distance between the emitter E1 and the base B1 of the coupling transistor Q1 becomes higher than the potential obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) from the emitter E1 (“H” (0 V)), the coupling transistor Q1 is turned off from the on state. Migrate to

以上において、転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1を説明したが、他の転送サイリスタT及び結合トランジスタQも同様に動作する。また、発光サイリスタLについても、転送サイリスタT1と同様に動作する。   Although the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 have been described above, the other transfer thyristors T and the coupling transistor Q operate in the same manner. The light emitting thyristor L also operates in the same manner as the transfer thyristor T1.

図7(b)でさらに説明する。
前述したように、転送サイリスタT1がターンオンすると、結合トランジスタQ1がオフ状態からオン状態に移行する。結合トランジスタQ1のコレクタC1は、電源線抵抗Rg2を介して、電源電位Vga(「L」(−3.3V))の電源線71に接続されるとともに、転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2に接続されている。よって、結合トランジスタQ1のコレクタC1(転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2)の電位は、結合トランジスタQ1及び電源線抵抗Rg2を流れる電流と、結合トランジスタQ1及び電源線抵抗Rg2のそれぞれの抵抗によって決まる。
This will be further described with reference to FIG.
As described above, when the transfer thyristor T1 is turned on, the coupling transistor Q1 shifts from the off state to the on state. The collector C1 of the coupling transistor Q1 is connected to the power supply line 71 of the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)) via the power supply line resistance Rg2 and to the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2. Has been. Therefore, the potential of the collector C1 of the coupling transistor Q1 (the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2) is determined by the current flowing through the coupling transistor Q1 and the power supply line resistance Rg2, and the respective resistances of the coupling transistor Q1 and the power supply line resistance Rg2.

ここでは、結合トランジスタQ1のコレクタC1(転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2)の電位は、例として−1Vになるとして説明する。
すると、転送サイリスタT2のしきい電圧は、第1ゲートGtf2の電位(−1V)から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位(−2.5V)になる。よって、第2転送信号線73の電位が、この電位(−2.5V)より低くなると、転送サイリスタT2がターンオンする。
Here, it is assumed that the potential of the collector C1 of the coupling transistor Q1 (the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2) is −1V as an example.
Then, the threshold voltage of the transfer thyristor T2 becomes a potential (−2.5V) obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5V) from the potential (−1V) of the first gate Gtf2. Therefore, when the potential of the second transfer signal line 73 becomes lower than this potential (−2.5 V), the transfer thyristor T2 is turned on.

図7(c)に示すように、p型の第1半導体層81は、転送サイリスタT1が構成される部分ではアノードA1であり、結合トランジスタQ1が構成される部分ではエミッタE1である。n型の第2半導体層82は、転送サイリスタT1が構成される部分では第2ゲートGts1であり、結合トランジスタQ1が構成される部分ではベースB1である。p型の第3半導体層83は、転送サイリスタT1が構成される部分では第1ゲートGtf1であり、結合トランジスタQ1が構成される部分ではコレクタC1である。そして、n型の第4半導体層84は、転送サイリスタT1が構成される部分ではカソードK1であるが、結合トランジスタQ1が構成される部分では除去されている。   As shown in FIG. 7C, the p-type first semiconductor layer 81 is the anode A1 in the portion where the transfer thyristor T1 is configured, and the emitter E1 in the portion where the coupling transistor Q1 is configured. The n-type second semiconductor layer 82 is the second gate Gts1 in the portion where the transfer thyristor T1 is configured, and the base B1 in the portion where the coupling transistor Q1 is configured. The p-type third semiconductor layer 83 is the first gate Gtf1 in the portion where the transfer thyristor T1 is configured, and the collector C1 in the portion where the coupling transistor Q1 is configured. The n-type fourth semiconductor layer 84 is the cathode K1 in the portion where the transfer thyristor T1 is formed, but is removed in the portion where the coupling transistor Q1 is formed.

図7(a)に示すように、転送サイリスタT1のアノードA1と結合トランジスタQ1のエミッタE1は、ともに基準電位Vsub(「H」(0V))であるので、p型の第1半導体層81は繋がって(連続して)いてよい。
また、図7(a)に示すように、転送サイリスタT1の第2ゲートGts1と結合トランジスタQ1のベースB1とは接続されている。よって、n型の第2半導体層82は、転送サイリスタT1が構成される部分と結合トランジスタQ1が構成される部分とで繋がって(連続して)いることが求められる。
As shown in FIG. 7A, since the anode A1 of the transfer thyristor T1 and the emitter E1 of the coupling transistor Q1 are both at the reference potential Vsub (“H” (0V)), the p-type first semiconductor layer 81 is It may be connected (continuously).
Further, as shown in FIG. 7A, the second gate Gts1 of the transfer thyristor T1 and the base B1 of the coupling transistor Q1 are connected. Therefore, the n-type second semiconductor layer 82 is required to be connected (continuously) between the portion where the transfer thyristor T1 is formed and the portion where the coupling transistor Q1 is formed.

一方、図7(a)に示すように、転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1と結合トランジスタQ1のコレクタC1は接続されていない。よって、p型の第3半導体層83は、転送サイリスタT1が構成される部分と結合トランジスタQ1が構成される部分とで分離されていることが求められる。なお、p型の第3半導体層83において、転送サイリスタT1が構成される部分と結合トランジスタQ1が構成される部分とが電気的に分離されていればよい。
なお、転送サイリスタT1のカソードK1と結合トランジスタQ1のコレクタC1との間を距離(間隔)Dとする。
On the other hand, as shown in FIG. 7A, the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 and the collector C1 of the coupling transistor Q1 are not connected. Therefore, the p-type third semiconductor layer 83 is required to be separated by a portion where the transfer thyristor T1 is formed and a portion where the coupling transistor Q1 is formed. In the p-type third semiconductor layer 83, it is only necessary that the portion where the transfer thyristor T1 is formed and the portion where the coupling transistor Q1 is formed are electrically separated.
A distance (interval) DQ is defined between the cathode K1 of the transfer thyristor T1 and the collector C1 of the coupling transistor Q1.

(発光装置65の動作)
次に、発光装置65の動作について説明する。
前述したように、基準電位Vsubを「H」(0V)、電源電位Vgaを「L」(−3.3V)として説明する。また、第1転送信号φ1、第2転送信号φ2、点灯信号φIは、「H」(0V)と「L」(−3.3V)との2つの電位を有する信号であるとして説明する。なお、「H」(0V)を「H」、「L」(−3.3V)を「L」と略して表記することがある。
(Operation of the light emitting device 65)
Next, the operation of the light emitting device 65 will be described.
As described above, the description will be made assuming that the reference potential Vsub is “H” (0 V) and the power supply potential Vga is “L” (−3.3 V). The first transfer signal φ1, the second transfer signal φ2, and the lighting signal φI are described as signals having two potentials of “H” (0 V) and “L” (−3.3 V). Note that “H” (0 V) may be abbreviated as “H” and “L” (−3.3 V) may be abbreviated as “L”.

前述したように、発光装置65は発光チップU1〜U40を備えている(図3、4参照)。
図4に示したように、基準電位Vsub(「H」(0V))、電源電位Vga(「L」(−3.3V))は、回路基板62上のすべての発光チップU1〜U40に共通に供給される。同様に、第1転送信号φ1、第2転送信号φ2は、発光チップU1〜U40に共通(並列)に送信される。
一方、点灯信号φI1〜φI40は、発光チップU1〜U40のそれぞれに個別に送信される。点灯信号φI1〜φI40は、画像データに基づいて、各発光チップU1〜U40の発光サイリスタLを点灯又は非点灯に設定する信号である。よって、点灯信号φI1〜φI40は、画像データによって相互に波形が異なる。しかし、点灯信号φI1〜φI40は、同じタイミングで並列に送信される。
発光チップU1〜U40は並列に駆動されるので、発光チップU1の動作を説明すれば足りる。
As described above, the light emitting device 65 includes the light emitting chips U1 to U40 (see FIGS. 3 and 4).
As shown in FIG. 4, the reference potential Vsub (“H” (0 V)) and the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)) are common to all the light emitting chips U1 to U40 on the circuit board 62. To be supplied. Similarly, the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2 are transmitted in common (in parallel) to the light emitting chips U1 to U40.
On the other hand, the lighting signals φI1 to φI40 are individually transmitted to the light emitting chips U1 to U40. The lighting signals φI1 to φI40 are signals for setting the light-emitting thyristors L of the light-emitting chips U1 to U40 to be lit or not lit based on the image data. Therefore, the waveforms of the lighting signals φI1 to φI40 are different depending on the image data. However, the lighting signals φI1 to φI40 are transmitted in parallel at the same timing.
Since the light emitting chips U1 to U40 are driven in parallel, it is sufficient to describe the operation of the light emitting chip U1.

<タイミングチャート>
図8は、発光装置65及び発光チップUの動作を説明するためのタイミングチャートである。
図8では、発光チップU1の発光サイリスタL1〜L5の5個の発光サイリスタLの点灯又は非点灯を制御(点灯制御と表記する。)する部分のタイミングチャートを示している。なお、図8では、発光チップU1の発光サイリスタL1、L2、L3、L5を点灯させ、発光サイリスタL4を消灯(非点灯)としている。
前述したように、他の発光チップU2〜U40は、発光チップU1と並行して動作するため、発光チップU1の動作を説明すれば足りる。
<Timing chart>
FIG. 8 is a timing chart for explaining operations of the light emitting device 65 and the light emitting chip U.
FIG. 8 shows a timing chart of a portion that controls lighting (non-lighting) of the five light emitting thyristors L1 of the light emitting thyristors L1 to L5 of the light emitting chip U1. In FIG. 8, the light emitting thyristors L1, L2, L3, and L5 of the light emitting chip U1 are turned on, and the light emitting thyristor L4 is turned off (not lighted).
As described above, since the other light emitting chips U2 to U40 operate in parallel with the light emitting chip U1, it is sufficient to describe the operation of the light emitting chip U1.

図8において、時刻aから時刻kへとアルファベット順に時刻が経過するとする。発光サイリスタL1は、時刻bから時刻eの期間T(1)において、発光サイリスタL2は、時刻eから時刻iの期間T(2)において、発光サイリスタL3は、時刻iから時刻jの期間T(3)において、発光サイリスタL4は、時刻jから時刻kの期間T(4)において点灯又は非点灯の制御(点灯制御)がされる。以下、同様にして番号が5以上の発光サイリスタLが点灯制御される。
ここでは、期間T(1)、T(2)、T(3)、…は同じ長さの期間とし、それぞれを区別しないときは期間Tと呼ぶ。
なお、以下に説明する信号の相互の関係が維持されるようにすれば、期間T(1)、T(2)、T(3)、…の長さを可変としてもよい。
In FIG. 8, it is assumed that time elapses in alphabetical order from time a to time k. The light emitting thyristor L1 is in the period T (1) from time b to time e, the light emitting thyristor L2 is in the period T (2) from time e to time i, and the light emitting thyristor L3 is in the period T (from time i to time j). In 3), the light-emitting thyristor L4 is controlled to be turned on or off (lighting control) in a period T (4) from time j to time k. Thereafter, the light-emitting thyristor L having a number of 5 or more is similarly controlled to be turned on.
Here, the periods T (1), T (2), T (3),... Have the same length, and are referred to as the period T when they are not distinguished from each other.
Note that the lengths of the periods T (1), T (2), T (3),... May be variable as long as the mutual relationship of signals described below is maintained.

第1転送信号φ1、第2転送信号φ2、点灯信号φI1の波形について説明する。なお、時刻aから時刻bまでの期間は、発光チップU1(発光チップU2〜U40も同じ。)が動作を開始する期間である。この期間の信号については、動作の説明において説明する。   The waveforms of the first transfer signal φ1, the second transfer signal φ2, and the lighting signal φI1 will be described. Note that the period from time a to time b is a period in which the light emitting chip U1 (the same applies to the light emitting chips U2 to U40) is started. The signal in this period will be described in the description of the operation.

φ1端子(図5、図6参照)に送信される第1転送信号φ1及びφ2端子(図5、図6参照)に送信される第2転送信号φ2は、連続する2つの期間T(例えば、期間T(1)と期間T(2))を単位として波形が繰り返される。   The first transfer signal φ1 transmitted to the φ1 terminal (refer to FIGS. 5 and 6) and the second transfer signal φ2 transmitted to the φ2 terminal (refer to FIGS. 5 and 6) have two continuous periods T (for example, The waveform is repeated with the period T (1) and the period T (2)) as a unit.

第1転送信号φ1は、期間T(1)の開始時刻bで「H」から「L」に移行し、時刻fで「L」から「H」に移行する。そして、期間T(2)の終了時刻iにおいて、「H」から「L」に移行する。
第2転送信号φ2は、期間T(1)の開始時刻bにおいて「H」であって、時刻eで「H」から「L」に移行する。そして、期間T(2)の終了時刻iにおいて「L」を維持している。
第1転送信号φ1と第2転送信号φ2とを比較すると、第2転送信号φ2は、第1転送信号φ1を時間軸上で期間T後ろにずらしたものに当たる。第1転送信号φ1は、期間T(1)及び期間T(2)での波形を、期間T(3)以降において繰り返す。一方、第2転送信号φ2は、期間T(1)において破線で示す波形及び期間T(2)での波形を、期間T(3)以降において繰り返す。第2転送信号φ2の期間T(1)の波形が期間T(3)以降と異なるのは、期間T(1)は発光装置65が動作を開始する期間であるためである。
The first transfer signal φ1 shifts from “H” to “L” at the start time b of the period T (1), and shifts from “L” to “H” at the time f. Then, at the end time i of the period T (2), the state shifts from “H” to “L”.
The second transfer signal φ2 is “H” at the start time b of the period T (1), and shifts from “H” to “L” at the time e. Then, “L” is maintained at the end time i of the period T (2).
Comparing the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2, the second transfer signal φ2 corresponds to the first transfer signal φ1 shifted after the period T on the time axis. The first transfer signal φ1 repeats the waveforms in the period T (1) and the period T (2) after the period T (3). On the other hand, the second transfer signal φ2 repeats the waveform indicated by the broken line in the period T (1) and the waveform in the period T (2) after the period T (3). The waveform of the period T (1) of the second transfer signal φ2 is different from that after the period T (3) because the period T (1) is a period during which the light emitting device 65 starts operating.

第1転送信号φ1と第2転送信号φ2との一組の転送信号は、後述するように、図5、図6に示した転送サイリスタTを番号順にオン状態を伝播させることにより、オン状態の転送サイリスタTと同じ番号の発光サイリスタLを、点灯又は非点灯の制御(点灯制御)の対象として指定する。   As will be described later, a set of transfer signals of the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2 is transmitted in the ON state by causing the transfer thyristors T shown in FIGS. The light-emitting thyristor L having the same number as the transfer thyristor T is designated as a target for lighting or non-lighting control (lighting control).

次に、発光チップU1のφI端子に送信される点灯信号φI1について説明する。なお、他の発光チップU2〜U40には、それぞれ点灯信号φI2〜φI40が送信される。   Next, the lighting signal φI1 transmitted to the φI terminal of the light emitting chip U1 will be described. Note that lighting signals φI2 to φI40 are transmitted to the other light emitting chips U2 to U40, respectively.

ここでは、発光チップU1の発光サイリスタL1に対する点灯制御の期間T(1)において、点灯信号φI1を説明する。
発光サイリスタL1を点灯させる場合、点灯信号φI1は、期間T(1)の開始時刻bにおいて「H」であって、時刻cで「H」から「L」に移行する。そして、時刻dで「L」から「H」に移行し、期間T(1)の終了時刻eにおいて「H」を維持している。
Here, the lighting signal φI1 will be described in the lighting control period T (1) for the light emitting thyristor L1 of the light emitting chip U1.
When the light emitting thyristor L1 is turned on, the lighting signal φI1 is “H” at the start time b of the period T (1), and shifts from “H” to “L” at the time c. Then, it shifts from “L” to “H” at time d and maintains “H” at the end time e of the period T (1).

では、図4、図5を参照しつつ、図8に示したタイミングチャートにしたがって、発光装置65及び発光チップU1の動作を説明する。なお、以下では、発光サイリスタL1及びL2を点灯制御する期間T(1)、T(2)について説明する。
(1)時刻a
<発光装置65>
時刻aにおいて、発光装置65の信号発生回路110の基準電位供給部160は、基準電位Vsub(「H」(0V))を設定する。電源電位供給部170は、電源電位Vga(「L」(−3.3V))を設定する。すると、発光装置65の回路基板62上の電源ライン200aは基準電位Vsub(「H」(0V))になり、発光チップU1〜U40のそれぞれのVsub端子は「H」になる。同様に、電源ライン200bは電源電位Vga(「L」(−3.3V))になり、発光チップU1〜U40のそれぞれのVga端子は「L」になる(図4参照)。これにより、発光チップU1〜U40のそれぞれの電源線71は「L」になる(図5参照)。
Now, operations of the light emitting device 65 and the light emitting chip U1 will be described with reference to FIGS. 4 and 5 according to the timing chart shown in FIG. Hereinafter, the periods T (1) and T (2) in which the lighting thyristors L1 and L2 are controlled to be lighted will be described.
(1) Time a
<Light emitting device 65>
At time a, the reference potential supply unit 160 of the signal generation circuit 110 of the light emitting device 65 sets the reference potential Vsub (“H” (0 V)). The power supply potential supply unit 170 sets the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)). Then, the power supply line 200a on the circuit board 62 of the light emitting device 65 becomes the reference potential Vsub (“H” (0 V)), and the Vsub terminals of the light emitting chips U1 to U40 become “H”. Similarly, the power supply line 200b becomes the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)), and the Vga terminals of the light emitting chips U1 to U40 become “L” (see FIG. 4). Thereby, each power supply line 71 of the light emitting chips U1 to U40 becomes “L” (see FIG. 5).

そして、信号発生回路110の転送信号発生部120は第1転送信号φ1、第2転送信号φ2をそれぞれ「H」に設定する。すると、第1転送信号ライン201及び第2転送信号ライン202が「H」になる(図4参照)。これにより、発光チップU1〜U40のそれぞれのφ1端子及びφ2端子が「H」になる。電流制限抵抗R1を介してφ1端子に接続されている第1転送信号線72の電位も「H」になり、電流制限抵抗R2を介してφ2端子に接続されている第2転送信号線73も「H」になる(図5参照)。   Then, the transfer signal generator 120 of the signal generation circuit 110 sets the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2 to “H”, respectively. Then, the first transfer signal line 201 and the second transfer signal line 202 become “H” (see FIG. 4). Accordingly, the φ1 terminal and the φ2 terminal of each of the light emitting chips U1 to U40 become “H”. The potential of the first transfer signal line 72 connected to the φ1 terminal via the current limiting resistor R1 also becomes “H”, and the second transfer signal line 73 connected to the φ2 terminal via the current limiting resistor R2 is also set. It becomes “H” (see FIG. 5).

さらに、信号発生回路110の点灯信号発生部140は、点灯信号φI1〜φI40をそれぞれ「H」に設定する。すると、点灯信号ライン204−1〜204−40が「H」になる(図4参照)。これにより、発光チップU1〜U40のそれぞれのφI端子が、電流制限抵抗RIを介して「H」になり、φI端子に接続された点灯信号線75も「H」になる(図5参照)。
なお、図8及び以下における説明では、電位がステップ(階段)状に変化するとしているが、電位は徐々に変化する。よって、電位が変化の途上であっても、下記に示す条件が満たされれば、サイリスタがターンオン又はターンオフし、結合トランジスタQがオン状態とオフ状態との間で変化しうる。
Further, the lighting signal generator 140 of the signal generation circuit 110 sets the lighting signals φI1 to φI40 to “H”, respectively. Then, the lighting signal lines 204-1 to 204-40 become “H” (see FIG. 4). Thereby, each φI terminal of the light emitting chips U1 to U40 becomes “H” via the current limiting resistor RI, and the lighting signal line 75 connected to the φI terminal also becomes “H” (see FIG. 5).
8 and the following description, it is assumed that the potential changes stepwise, but the potential gradually changes. Therefore, even when the potential is changing, the thyristor can be turned on or off and the coupling transistor Q can be changed between the on state and the off state if the following conditions are satisfied.

次に、発光チップU1の動作を説明する。
<発光チップU1>
転送サイリスタT、発光サイリスタLのアノードはVsub端子に接続されているので、「H」(0V)に設定される。
Next, the operation of the light emitting chip U1 will be described.
<Light emitting chip U1>
Since the anodes of the transfer thyristor T and the light emitting thyristor L are connected to the Vsub terminal, they are set to “H” (0 V).

奇数番号の転送サイリスタT1、T3、T5、…のそれぞれのカソードは、第1転送信号線72に接続され、「H」に設定されている。偶数番号の転送サイリスタT2、T4、T6、…のそれぞれのカソードは、第2転送信号線73に接続され、「H」に設定されている。よって、転送サイリスタTは、アノード及びカソードがともに「H」であるためオフ状態にある。   The cathodes of the odd-numbered transfer thyristors T1, T3, T5,... Are connected to the first transfer signal line 72 and set to “H”. The cathodes of the even-numbered transfer thyristors T2, T4, T6,... Are connected to the second transfer signal line 73 and set to “H”. Therefore, the transfer thyristor T is in the off state because both the anode and the cathode are “H”.

発光サイリスタLのカソードは、「H」の点灯信号線75に接続されている。よって、発光サイリスタLも、アノード及びカソードがともに「H」であるためオフ状態にある。   The cathode of the light emitting thyristor L is connected to the “H” lighting signal line 75. Therefore, the light emitting thyristor L is also in the off state because both the anode and the cathode are “H”.

図5中の転送サイリスタ列の一端の第1ゲートGtf1は、前述したように、スタート抵抗R0の一方の端子に接続されている。第1ゲートGtf1は、電源線抵抗Rg1を介して、「L」(−3.3V)の電源線71に接続されている。そして、スタート抵抗R0の他方の端子は、電流制限抵抗R2を介して、「H」(0V)の第2転送信号線73に接続されている。よって、第1ゲートGtf1は、電源線71の「L」(−3.3V)と第2転送信号線73の「H」(0V)との電位差を電源線抵抗Rg1及びスタート抵抗R0で分圧された電位となる。なお、第2転送信号線73は電流制限抵抗R2を介して「H」(0V)のφ2端子に接続されているので、第1ゲートGtf1は、電源線71の「L」(−3.3V)とφ2端子の「H」(0V)との電位差を電源線抵抗Rg1、スタート抵抗R0、電流制限抵抗R2で分圧された電位となるとしてもよい。ここでは、スタート抵抗R0、電流制限抵抗R2が電源線抵抗Rg1より小さいとして、第1ゲートGtf1は、例として−1Vになっているとする。よって、転送サイリスタT1のしきい電圧は、−2.5Vになっている。
なお、第1ゲートGtf1の電位は、電源線抵抗Rg1、スタート抵抗R0、電流制限抵抗R2により設定できる。
そして、発光サイリスタL1の第1ゲートGlf1は、転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1に接続されているので、発光サイリスタL1のしきい電圧も−2.5Vになっている。
As described above, the first gate Gtf1 at one end of the transfer thyristor array in FIG. 5 is connected to one terminal of the start resistor R0. The first gate Gtf1 is connected to the power line 71 of “L” (−3.3 V) via the power line resistance Rg1. The other terminal of the start resistor R0 is connected to the second transfer signal line 73 of “H” (0 V) via the current limiting resistor R2. Therefore, the first gate Gtf1 divides the potential difference between “L” (−3.3 V) of the power supply line 71 and “H” (0 V) of the second transfer signal line 73 by the power supply line resistance Rg1 and the start resistance R0. It becomes the electric potential. Since the second transfer signal line 73 is connected to the φ2 terminal of “H” (0V) via the current limiting resistor R2, the first gate Gtf1 is connected to “L” (−3.3V) of the power supply line 71. ) And “H” (0 V) of the φ2 terminal may be a potential divided by the power supply line resistance Rg1, the start resistance R0, and the current limiting resistance R2. Here, it is assumed that the start resistor R0 and the current limiting resistor R2 are smaller than the power supply line resistor Rg1, and the first gate Gtf1 is −1V as an example. Therefore, the threshold voltage of the transfer thyristor T1 is −2.5V.
Note that the potential of the first gate Gtf1 can be set by the power supply line resistance Rg1, the start resistance R0, and the current limiting resistance R2.
Since the first gate Glf1 of the light emitting thyristor L1 is connected to the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1, the threshold voltage of the light emitting thyristor L1 is also −2.5V.

このとき、アノード(p型の第1半導体層81)、カソード(n型の第4半導体層84)がともに「H」(0V)であって、転送サイリスタT1がオフ状態にあるので、第1ゲートGtf1(p型の第3半導体層83)が−1Vになっても、第2ゲートGts1(n型の第2半導体層82)は、「H」(0V)から拡散電位Vd(1.5V)を引いた電位(−1.5V)より低くならない。よって、結合トランジスタQ1はオン状態になることができずオフ状態にある。なお、転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2は、電源線抵抗Rg2を介して、電源線71の「L」(−3.3V)になっている。すなわち、転送サイリスタT2のしきい電圧は−4.8Vである。同様に、他の転送サイリスタT3、T4、T5、…のしきい電圧も−4.8Vである。
また、発光サイリスタL2、3、4、…の第1ゲートGlf2、Glf3、Glf4、…は、それぞれ転送サイリスタT2、T3、T4、…の第1ゲートGtf2、Gtf3、Gtf4、…に接続されているので、しきい電圧は−4.8Vである。
At this time, the anode (p-type first semiconductor layer 81) and the cathode (n-type fourth semiconductor layer 84) are both “H” (0 V), and the transfer thyristor T1 is in the off state. Even when the gate Gtf1 (p-type third semiconductor layer 83) becomes −1V, the second gate Gts1 (n-type second semiconductor layer 82) changes from “H” (0V) to the diffusion potential Vd (1.5V). ) Minus the potential (-1.5V). Therefore, the coupling transistor Q1 cannot be turned on and is in the off state. Note that the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2 is “L” (−3.3 V) of the power supply line 71 via the power supply line resistance Rg2. That is, the threshold voltage of the transfer thyristor T2 is −4.8V. Similarly, the threshold voltages of the other transfer thyristors T3, T4, T5,... Are −4.8V.
Further, the first gates Glf2, Glf3, Glf4,... Of the light emitting thyristors L2, 3, 4,... Are connected to the first gates Gtf2, Gtf3, Gtf4, etc. of the transfer thyristors T2, T3, T4,. Therefore, the threshold voltage is -4.8V.

(2)時刻b
図8に示す時刻bにおいて、第1転送信号φ1が、「H」から「L」に移行する。これにより発光装置65が動作を開始する。
第1転送信号φ1が「H」から「L」に移行すると、φ1端子及び電流制限抵抗R1を介して、第1転送信号線72の電位が「H」から「L」(−3.3V)に移行する。すると、しきい電圧が−2.5Vである転送サイリスタT1のカソードの電位が「L」(−3.3V)になるので、転送サイリスタT1がターンオンする。しかし、第1転送信号線72にカソードが接続された番号が3以上の奇数番号の転送サイリスタTは、しきい電圧が−4.8Vであるのでターンオンできない。一方、偶数番号の転送サイリスタTは、第2転送信号φ2が「H」(0V)であって、第2転送信号線73が「H」(0V)であるのでターンオンできない。
(2) Time b
At time b shown in FIG. 8, the first transfer signal φ1 shifts from “H” to “L”. Thereby, the light emitting device 65 starts operation.
When the first transfer signal φ1 shifts from “H” to “L”, the potential of the first transfer signal line 72 changes from “H” to “L” (−3.3 V) via the φ1 terminal and the current limiting resistor R1. Migrate to Then, since the potential of the cathode of the transfer thyristor T1 whose threshold voltage is −2.5V becomes “L” (−3.3V), the transfer thyristor T1 is turned on. However, the odd-numbered transfer thyristor T having a cathode connected to the first transfer signal line 72 cannot be turned on because the threshold voltage is −4.8V. On the other hand, the even-numbered transfer thyristor T cannot be turned on because the second transfer signal φ2 is “H” (0 V) and the second transfer signal line 73 is “H” (0 V).

転送サイリスタT1がターンオンすると、第1転送信号線72の電位は、アノードの基準電位Vsub(「H」(0V))から拡散電位Vd(1.5V)を引いた−1.5Vになる。そして、第1ゲートGtf1の電位は、転送サイリスタT1のアノードの基準電位Vsub(「H」(0V))の「H」(0V)になる。転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1に接続されている発光サイリスタL1の第1ゲートGlf1の電位も「H」(0V)になる。そして、発光サイリスタL1のしきい電圧が−1.5Vになる。   When the transfer thyristor T1 is turned on, the potential of the first transfer signal line 72 becomes −1.5 V obtained by subtracting the diffusion potential Vd (1.5 V) from the anode reference potential Vsub (“H” (0 V)). The potential of the first gate Gtf1 becomes “H” (0 V) of the reference potential Vsub (“H” (0 V)) of the anode of the transfer thyristor T1. The potential of the first gate Glf1 of the light emitting thyristor L1 connected to the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 is also “H” (0 V). Then, the threshold voltage of the light emitting thyristor L1 becomes −1.5V.

一方、転送サイリスタT1がターンオンすると、結合トランジスタQ1がオフ状態からオン状態に移行する。そして、結合トランジスタQ1のコレクタC1(転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2)の電位が−1Vに移行する。これにより、転送サイリスタT2及び発光サイリスタL2のしきい電圧が−2.5Vになる。
しかし、第2転送信号線73は、「H」(0V)であるので、発光サイリスタL2はターンオンしない。
On the other hand, when the transfer thyristor T1 is turned on, the coupling transistor Q1 shifts from the off state to the on state. Then, the potential of the collector C1 of the coupling transistor Q1 (the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2) shifts to −1V. As a result, the threshold voltages of the transfer thyristor T2 and the light emitting thyristor L2 become −2.5V.
However, since the second transfer signal line 73 is “H” (0 V), the light emitting thyristor L2 is not turned on.

なお、転送サイリスタT2はオフ状態にあるので、前述したように結合トランジスタQ2はオフ状態であって、転送サイリスタT3の第1ゲートGtf3は「L」(−3.3V)である。よって、転送サイリスタT3及び発光サイリスタL3のしきい電圧は、−4.8Vである。同様に、番号が4以上の転送サイリスタT及び発光サイリスタLもしきい電圧が−4.8Vである。   Since the transfer thyristor T2 is in the off state, the coupling transistor Q2 is in the off state as described above, and the first gate Gtf3 of the transfer thyristor T3 is “L” (−3.3 V). Therefore, the threshold voltage of the transfer thyristor T3 and the light emitting thyristor L3 is −4.8V. Similarly, the threshold voltage of the transfer thyristor T and the light-emitting thyristor L having a number of 4 or more is −4.8V.

時刻bの直後(ここでは、時刻bにおける信号の電位の変化によってサイリスタなどの変化が生じた後、定常状態になったときをいう。)において、転送サイリスタT1、結合トランジスタQ1がオン状態にあって、他の転送サイリスタT及び結合トランジスタQ、すべての発光サイリスタLはオフ状態にある。
なお、以下では、オン状態の転送サイリスタT、結合トランジスタQ、発光サイリスタLを表記し、オフ状態の転送サイリスタT、結合トランジスタQ、発光サイリスタLについては表記しない。
Immediately after time b (in this case, when the thyristor or the like changes due to a change in the signal potential at time b and then enters a steady state), the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 are in the on state. The other transfer thyristors T, the coupling transistors Q, and all the light emitting thyristors L are in the off state.
Hereinafter, the transfer thyristor T, the coupling transistor Q, and the light emitting thyristor L in the on state are described, and the transfer thyristor T, the coupling transistor Q, and the light emitting thyristor L in the off state are not illustrated.

(3)時刻c
時刻cにおいて、点灯信号φI1が「H」から「L」に移行する。
点灯信号φI1が「H」から「L」に移行すると、電流制限抵抗RI及びφI端子を介して、点灯信号線75が「H」(0V)から「L」(−3.3V)に移行する。すると、しきい電圧が−1.5Vである発光サイリスタL1がターンオンして、点灯(発光)する。これにより、点灯信号線75の電位が−1.5Vに近い電位(絶対値が1.5Vより大きい負の電位)になる。なお、発光サイリスタL2はしきい電圧が−2.5Vであるが、しきい電圧が−1.5Vと高い発光サイリスタL1がターンオンして、点灯信号線75が−1.5Vに近い電位(絶対値が1.5Vより大きい負の電位)になるので、発光サイリスタL2はターンオンしない。
時刻cの直後において、転送サイリスタT1、結合トランジスタQ1がオン状態にあって、発光サイリスタL1がオン状態で点灯(発光)している。
(3) Time c
At time c, the lighting signal φI1 shifts from “H” to “L”.
When the lighting signal φI1 shifts from “H” to “L”, the lighting signal line 75 shifts from “H” (0 V) to “L” (−3.3 V) via the current limiting resistor RI and the φI terminal. . Then, the light emitting thyristor L1 having a threshold voltage of −1.5 V is turned on and lit (emits light). As a result, the potential of the lighting signal line 75 becomes a potential close to −1.5V (a negative potential having an absolute value greater than 1.5V). The threshold voltage of the light emitting thyristor L2 is -2.5V, but the light emitting thyristor L1 having a high threshold voltage of -1.5V is turned on, and the lighting signal line 75 has a potential close to -1.5V (absolute Therefore, the light-emitting thyristor L2 is not turned on.
Immediately after time c, the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 are in the on state, and the light emitting thyristor L1 is lit (emitted) in the on state.

(4)時刻d
時刻dにおいて、点灯信号φI1が「L」から「H」に移行する。
点灯信号φI1が「L」から「H」に移行すると、電流制限抵抗RI及びφI端子を介して、点灯信号線75の電位が「L」から「H」に移行する。すると、発光サイリスタL1は、アノードとカソードとがともに「H」になるのでターンオフして消灯(非点灯)する。発光サイリスタL1の点灯期間は、点灯信号φI1が「H」から「L」に移行した時刻cから、点灯信号φI1が「L」から「H」に移行する時刻dまでの、点灯信号φI1が「L」である期間となる。
時刻dの直後において、転送サイリスタT1、結合トランジスタQ1がオン状態にある。
(4) Time d
At time d, the lighting signal φI1 shifts from “L” to “H”.
When the lighting signal φI1 shifts from “L” to “H”, the potential of the lighting signal line 75 shifts from “L” to “H” via the current limiting resistor RI and the φI terminal. Then, since both the anode and the cathode become “H”, the light emitting thyristor L1 is turned off and turned off (not lit). During the lighting period of the light emitting thyristor L1, the lighting signal φI1 from the time c when the lighting signal φI1 shifts from “H” to “L” to the time d when the lighting signal φI1 shifts from “L” to “H” is “ L ".
Immediately after time d, the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 are in the on state.

(5)時刻e
時刻eにおいて、第2転送信号φ2が「H」から「L」に移行する。ここで、発光サイリスタL1を点灯制御する期間T(1)が終了し、発光サイリスタL2を点灯制御する期間T(2)が開始する。
第2転送信号φ2が「H」から「L」に移行すると、φ2端子を介して第2転送信号線73の電位が「H」から「L」に移行する。前述したように、転送サイリスタT2は、しきい電圧が−2.5Vになっているので、ターンオンする。これにより、第1ゲートGtf2(Glf2)の電位が「H」(0V)になる。よって、発光サイリスタL2のしきい電圧は−1.5Vになる。
転送サイリスタT2がターンオンすることにより、結合トランジスタQ2がオフ状態からオン状態に移行し、転送サイリスタT3の第1ゲートGtf3が−1Vになる。よって、転送サイリスタT3及び発光サイリスタL3のしきい電圧が−2.5Vになる。
なお、番号が4以上の転送サイリスタT及び発光サイリスタLのしきい電圧は−4.8Vである。
なお、点灯信号φI1は「H」(0V)であるので、いずれの発光サイリスタLも点灯しない。
時刻eの直後において、転送サイリスタT1、T2、結合トランジスタQ1、Q2がオン状態にある。
(5) Time e
At time e, the second transfer signal φ2 shifts from “H” to “L”. Here, the period T (1) for controlling the lighting of the light emitting thyristor L1 ends, and the period T (2) for controlling the lighting of the light emitting thyristor L2 starts.
When the second transfer signal φ2 shifts from “H” to “L”, the potential of the second transfer signal line 73 shifts from “H” to “L” via the φ2 terminal. As described above, the transfer thyristor T2 is turned on because the threshold voltage is −2.5V. As a result, the potential of the first gate Gtf2 (Glf2) becomes “H” (0 V). Therefore, the threshold voltage of the light emitting thyristor L2 is −1.5V.
When the transfer thyristor T2 is turned on, the coupling transistor Q2 shifts from the off state to the on state, and the first gate Gtf3 of the transfer thyristor T3 becomes −1V. Therefore, the threshold voltage of the transfer thyristor T3 and the light emitting thyristor L3 becomes −2.5V.
Note that the threshold voltage of the transfer thyristor T and the light-emitting thyristor L having a number of 4 or more is −4.8V.
Since the lighting signal φI1 is “H” (0 V), none of the light emitting thyristors L is lit.
Immediately after time e, the transfer thyristors T1 and T2 and the coupling transistors Q1 and Q2 are in the on state.

(6)時刻f
時刻fにおいて、第1転送信号φ1が「L」から「H」に移行する。
第1転送信号φ1が「L」から「H」に移行すると、φ1端子を介して第1転送信号線72の電位が「L」から「H」に移行する。すると、オン状態の転送サイリスタT1は、アノードとカソードとがともに「H」になって、ターンオフする。
第1ゲートGtf1(Glf1)は、電源線抵抗Rg1を介して電源線71(「L」(−3.3V))に接続されるとともに、スタート抵抗R0を介して「L」(−3.3V)である第2転送信号線73に接続されている。よって、第1ゲートGtf1(Glf1)の電位は「H」(0V)から「L」(−3.3V)になる。これにより、転送サイリスタT1及び発光サイリスタL1のしきい電圧は−4.8Vになる。
時刻fの直後において、転送サイリスタT2がオン状態にある。
(6) Time f
At time f, the first transfer signal φ1 shifts from “L” to “H”.
When the first transfer signal φ1 shifts from “L” to “H”, the potential of the first transfer signal line 72 shifts from “L” to “H” via the φ1 terminal. Then, the transfer thyristor T1 in the on state is turned off because both the anode and the cathode become “H”.
The first gate Gtf1 (Glf1) is connected to the power supply line 71 (“L” (−3.3 V)) via the power supply line resistance Rg1, and “L” (−3.3 V) via the start resistance R0. ) Is connected to the second transfer signal line 73. Therefore, the potential of the first gate Gtf1 (Glf1) is changed from “H” (0 V) to “L” (−3.3 V). As a result, the threshold voltages of the transfer thyristor T1 and the light emitting thyristor L1 become −4.8V.
Immediately after time f, the transfer thyristor T2 is in the ON state.

(7)その他
時刻gにおいて、点灯信号φI1が「H」から「L」に移行すると、時刻cでの発光サイリスタL1と同様に、発光サイリスタL2がターンオンして、点灯(発光)する。
そして、時刻hにおいて、点灯信号φI1が「L」から「H」に移行すると、時刻dでの発光サイリスタL1と同様に、発光サイリスタL2がターンオフして消灯する。
さらに、時刻iにおいて、第1転送信号φ1が「H」から「L」に移行すると、時刻bでの転送サイリスタT1又は時刻eでの転送サイリスタT2と同様に、しきい電圧が−2.5Vの転送サイリスタT3がターンオンする。このとき、転送サイリスタT1はしきい電圧が−4.8Vであるので、ターンオンできない。
時刻iで、発光サイリスタL2を点灯制御する期間T(2)が終了し、発光サイリスタL3を点灯制御する期間T(3)が開始する。
以降は、これまで説明したことの繰り返しとなる。
(7) Others When the lighting signal φI1 shifts from “H” to “L” at time g, the light-emitting thyristor L2 is turned on and lit (emits light) in the same manner as the light-emitting thyristor L1 at time c.
At time h, when the lighting signal φI1 shifts from “L” to “H”, the light emitting thyristor L2 is turned off and turned off, similarly to the light emitting thyristor L1 at time d.
Further, when the first transfer signal φ1 shifts from “H” to “L” at time i, the threshold voltage is −2.5 V, similarly to the transfer thyristor T1 at time b or the transfer thyristor T2 at time e. The transfer thyristor T3 is turned on. At this time, the transfer thyristor T1 cannot be turned on because the threshold voltage is −4.8V.
At time i, the period T (2) for controlling the lighting of the light emitting thyristor L2 ends, and the period T (3) for controlling the lighting of the light emitting thyristor L3 starts.
Thereafter, the above description is repeated.

なお、発光サイリスタLを点灯(発光)させないで、消灯(非点灯)のままとするときは、図8の発光サイリスタL4を点灯制御する期間T(4)における時刻jから時刻kに示す点灯信号φI1のように、点灯信号φIを「H」(0V)のままとすればよい。このようにすることで、発光サイリスタL4は、しきい電圧が−1.5Vであっても、消灯(非点灯)のままとなる。   When the light-emitting thyristor L is not turned on (emitted) but remains turned off (non-lighted), the lighting signal from time j to time k in the period T (4) during which the light-emitting thyristor L4 in FIG. As with φI1, the lighting signal φI may remain “H” (0 V). By doing so, the light-emitting thyristor L4 remains off (not lit) even when the threshold voltage is −1.5V.

以上説明したように、転送サイリスタTは結合トランジスタQによって相互に接続されている。よって、前段の転送サイリスタTがターンオンすると、結合トランジスタQがオフ状態からオン状態に移行し、後段の転送サイリスタTのしきい電圧を高くする。これにより、後段の転送サイリスタTのカソードに接続された第1転送信号φ1又は第2転送信号φ2が「H」(0V)から「L」(−3.3V)に移行するタイミングにおいて、後段の転送サイリスタTがターンオンする。
そして、転送サイリスタTがターンオンすると、第1ゲートGtfが「H」(0V)になる。転送サイリスタTの第1ゲートGtfと発光サイリスタLの第1ゲートGlfとは接続されているので、発光サイリスタLのしきい電圧が−1.5Vとなる。そして、点灯信号φIが「H」(0V)から「L」(−3.3V)に移行するタイミングにおいて、発光サイリスタLがターンオンして点灯(発光)する。
すなわち、転送サイリスタTはオン状態になることで、点灯制御の対象である発光サイリスタLを指定し、点灯可能な状態に設定する。点灯信号φIは、点灯制御の対象である点灯可能な状態となった発光サイリスタLを点灯又は非点灯に設定する。
このように、画像データに応じて点灯信号φIの波形を設定することで、各発光サイリスタLの点灯又は非点灯を制御する。
As described above, the transfer thyristors T are connected to each other by the coupling transistor Q. Therefore, when the front transfer thyristor T is turned on, the coupling transistor Q shifts from the off state to the on state, and the threshold voltage of the rear transfer thyristor T is increased. Accordingly, at the timing when the first transfer signal φ1 or the second transfer signal φ2 connected to the cathode of the transfer thyristor T at the subsequent stage shifts from “H” (0 V) to “L” (−3.3 V), The transfer thyristor T is turned on.
When the transfer thyristor T is turned on, the first gate Gtf becomes “H” (0 V). Since the first gate Gtf of the transfer thyristor T and the first gate Glf of the light emitting thyristor L are connected, the threshold voltage of the light emitting thyristor L becomes −1.5V. At the timing when the lighting signal φI shifts from “H” (0 V) to “L” (−3.3 V), the light emitting thyristor L is turned on and lights up (emits light).
That is, when the transfer thyristor T is turned on, the light-emitting thyristor L that is the object of lighting control is designated and set to a lighting-enabled state. The lighting signal φI sets the light-emitting thyristor L, which is the target of lighting control and in a lighting-enabled state, to light or not light.
Thus, the lighting or non-lighting of each light-emitting thyristor L is controlled by setting the waveform of the lighting signal φI according to the image data.

なお、図5において、結合トランジスタQを用いずに、転送サイリスタTの第1ゲートGtf間を順にダイオードで結合させる方法がある。この場合には、スタート抵抗R0の代わりに、スタートダイオードが用いられる。
このようにすると、結合させるダイオードの拡散電位も1.5Vであるので、ターンオンする前の転送サイリスタTのしきい電圧は−3Vであって、第1転送信号φ1及び第2転送信号φ2の「L」(−3.3V)との差は−0.3Vに過ぎない。
これに対して、第1の実施の形態が適用される発光チップUでは、転送サイリスタTのターンオンする前のしきい電圧は−2.5Vであって、第1転送信号φ1及び第2転送信号φ2の「L」(−3.3V)との差は、−0.8Vと絶対値において大きい。
In FIG. 5, there is a method in which the first gate Gtf of the transfer thyristor T is sequentially coupled by a diode without using the coupling transistor Q. In this case, a start diode is used instead of the start resistor R0.
In this case, since the diffusion potential of the diode to be coupled is also 1.5 V, the threshold voltage of the transfer thyristor T before being turned on is −3 V, and “1” of the first transfer signal φ1 and the second transfer signal φ2. The difference from “L” (−3.3V) is only −0.3V.
On the other hand, in the light emitting chip U to which the first embodiment is applied, the threshold voltage before the transfer thyristor T is turned on is −2.5 V, and the first transfer signal φ1 and the second transfer signal are the same. The difference between φ2 “L” (−3.3 V) is −0.8 V, which is large in absolute value.

すなわち、転送サイリスタTを結合トランジスタQにより接続した第1の実施の形態が適用される発光チップUは、動作マージンが広いため、ノイズなどの影響を受けにくく、転送部101における転送サイリスタTのオン状態の伝搬が途切れるという転送不良の発生が抑制される。よって、プリントヘッド14の誤動作が抑制され、形成される画像における乱れの発生が抑制される。   That is, since the light emitting chip U to which the first embodiment in which the transfer thyristor T is connected by the coupling transistor Q is applied has a wide operation margin, the light emitting chip U is hardly affected by noise and the like, and the transfer thyristor T is turned on in the transfer unit 101. Occurrence of a transfer failure such that state propagation is interrupted is suppressed. Therefore, the malfunction of the print head 14 is suppressed, and the occurrence of disturbance in the formed image is suppressed.

(発光チップUの製造方法)
第1の実施の形態が適用される発光チップUの製造方法について説明する。
図9は、第1の実施の形態が適用される発光チップUの製造方法を説明する断面図である。図9(a)は、半導体積層体形成工程、図9(b)は、第1ゲート及びコレクタ出しエッチング工程、図9(c)は、分離エッチング工程、図9(d)は、アイランドエッチング工程である。なお、図9は、図6(b)に示した断面図において、第1アイランド301の転送サイリスタT1及び結合トランジスタQ1の部分を示している。
(Method for manufacturing light emitting chip U)
A method for manufacturing the light-emitting chip U to which the first embodiment is applied will be described.
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing the light-emitting chip U to which the first embodiment is applied. 9A is a semiconductor stacked body forming process, FIG. 9B is a first gate and collector extraction etching process, FIG. 9C is a separate etching process, and FIG. 9D is an island etching process. It is. FIG. 9 shows the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 of the first island 301 in the cross-sectional view shown in FIG. 6B.

図9にしたがって、第1の実施の形態が適用される発光チップUの製造方法について説明する。ここでは、フォトリソグラフィ技術によって、発光チップUを製造するとする。   A method for manufacturing the light-emitting chip U to which the first embodiment is applied will be described with reference to FIG. Here, it is assumed that the light emitting chip U is manufactured by photolithography.

図9(a)に示すように、発光チップUは、例えばGaAsやGaAlAsなどの化合物半導体により、p型の第1半導体層81、n型の第2半導体層82、p型の第3半導体層83及びn型の第4半導体層84を順に積層した半導体積層体を形成する(半導体積層体形成工程)。   As shown in FIG. 9A, the light emitting chip U is made of a compound semiconductor such as GaAs or GaAlAs, for example, a p-type first semiconductor layer 81, an n-type second semiconductor layer 82, and a p-type third semiconductor layer. A semiconductor stacked body in which 83 and the n-type fourth semiconductor layer 84 are sequentially stacked is formed (semiconductor stacked body forming step).

次に、図9(b)に示すように、n型の第4半導体層84の一部の領域を除去して転送サイリスタTの第1ゲートGtf1及び結合トランジスタQのコレクタC1となるp型の第3半導体層83を露出させる第1ゲート及びコレクタ出しエッチングを行う(第1ゲート及びコレクタ出しエッチング工程)。なお、第1ゲート及びコレクタ出しエッチング工程では、p型の第3半導体層83の表面を露出させるようにエッチングが行われる。
そして、転送サイリスタT1が構成される部分において、カソードとして働くn型の第4半導体層84(カソード層)の領域312上にn型オーミック電極322を形成する。さらに、露出させたp型の第3半導体層83上に、第1ゲートGtf1として働くp型オーミック電極331を形成する。そして、結合トランジスタQ1が構成される部分において、露出させたp型の第3半導体層83上に、コレクタC1として働くp型オーミック電極332を形成する。
Next, as shown in FIG. 9B, a partial region of the n-type fourth semiconductor layer 84 is removed to form the p-type that becomes the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T and the collector C1 of the coupling transistor Q. A first gate and collector extraction etching for exposing the third semiconductor layer 83 is performed (first gate and collector extraction etching process). In the first gate and collector extraction etching process, etching is performed so as to expose the surface of the p-type third semiconductor layer 83.
Then, an n-type ohmic electrode 322 is formed on the region 312 of the n-type fourth semiconductor layer 84 (cathode layer) serving as a cathode in the portion where the transfer thyristor T1 is configured. Further, a p-type ohmic electrode 331 that functions as the first gate Gtf1 is formed on the exposed third p-type semiconductor layer 83. Then, a p-type ohmic electrode 332 serving as a collector C1 is formed on the exposed p-type third semiconductor layer 83 in a portion where the coupling transistor Q1 is formed.

そして、図9(c)に示すように、転送サイリスタT1の第1ゲートGtf1と結合トランジスタQ1のコレクタC1とを分離するためにp型の第3半導体層83の一部をエッチングする分離エッチングを行う(分離エッチング工程)。
分離エッチング工程では、n型の第2半導体層82の表面を露出させるようにエッチングが行われる。
Then, as shown in FIG. 9C, separation etching for etching a part of the p-type third semiconductor layer 83 is performed to separate the first gate Gtf1 of the transfer thyristor T1 and the collector C1 of the coupling transistor Q1. (Separation etching process).
In the separation etching step, etching is performed so that the surface of the n-type second semiconductor layer 82 is exposed.

さらに、図9(d)に示すように、n型の第4半導体層84が除去されて露出させたp型の第3半導体層83の表面から、p型の第3半導体層83、n型の第2半導体層82、
及び、一部のp型の第1半導体層81をエッチングして、第1アイランド301を形成するアイランドエッチングを行う(アイランドエッチング工程)。
アイランドエッチング工程では、p型の第1半導体層81の厚さ方向の一部をエッチングするようにエッチングが行われる。
ここでは、転送サイリスタT1と結合トランジスタQ1とが構成される第1アイランド301を例として説明したが、他のアイランド(第2アイランド〜第6アイランド及び符号を付さないアイランド)も同様である。
半導体積層体をエッチングして形成されたアイランドはメサと呼ばれ、アイランドを形成するエッチングはメサエッチングと呼ばれることがある。
Further, as shown in FIG. 9D, the p-type third semiconductor layer 83, the n-type are exposed from the surface of the p-type third semiconductor layer 83 exposed by removing the n-type fourth semiconductor layer 84. A second semiconductor layer 82 of
Then, part of the p-type first semiconductor layer 81 is etched to perform island etching for forming the first island 301 (island etching process).
In the island etching process, etching is performed so as to etch a part of the p-type first semiconductor layer 81 in the thickness direction.
Here, the first island 301 including the transfer thyristor T1 and the coupling transistor Q1 has been described as an example. However, the same applies to other islands (second island to sixth island and islands without reference numerals).
An island formed by etching a semiconductor stacked body may be referred to as a mesa, and an etching for forming an island may be referred to as a mesa etching.

なお、エッチングは、エッチング液(エッチャント)を用いたウェットエッチングで行うとしたが、反応性のガスをプラズマ化してエッチングするドライエッチングで行ってもよい。   Etching is performed by wet etching using an etchant (etchant), but may be performed by dry etching in which reactive gas is turned into plasma.

(結合ダイオードQの特性)
図10は、第1アイランド301を拡大して示す図である。図10(a)は、第1の実施の形態が適用される発光チップU、図10(b)は第1の実施の形態が適用されない発光チップUである。
図10(a)、(b)では、発光サイリスタL1が設けられた第1アイランド301を第1アイランド301−1とし、発光サイリスタL2が設けられた第1アイランド301と同様なアイランドを第1アイランド301−2と表記している。そして、第1アイランド301−1を構成する各要素(領域311など)に−1を付け、第1アイランド301−2を構成する各要素に−2を付けて区別する。なお、第1アイランド301−1、301−2をそれぞれ区別しない場合は、これまでと同様に第1アイランド301と表記する。
(Characteristics of coupling diode Q)
FIG. 10 is an enlarged view showing the first island 301. FIG. 10A shows a light emitting chip U to which the first embodiment is applied, and FIG. 10B shows a light emitting chip U to which the first embodiment is not applied.
10A and 10B, the first island 301 provided with the light-emitting thyristor L1 is defined as a first island 301-1, and an island similar to the first island 301 provided with the light-emitting thyristor L2 is defined as the first island. 301-2. Then, each element (region 311 or the like) constituting the first island 301-1 is marked with -1, and each element constituting the first island 301-2 is marked with -2. When the first islands 301-1 and 301-2 are not distinguished from each other, they are denoted as the first island 301 as before.

そして、結合トランジスタQにおいて、距離(間隔)Dとし、幅Wとする。また、第1ゲートGtf1(Glf1)が形成されている第1アイランド301−1の部分を、幅Wとする。 In the coupling transistor Q, a distance (interval) DQ is set and a width WQ is set. Further, a portion of the first island 301-1 first gate Gtf1 (Glf1) is formed, and the width W G.

図7(b)で説明したように、転送サイリスタT1がオフ状態のとき、結合トランジスタQ1もオフ状態にある。このとき、結合トランジスタQ1のコレクタC1及び転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2は、電源線抵抗Rg2により、電源電位Vga(「L」(−3.3V))になっている。
そして、転送サイリスタT1がターンオンすると、結合トランジスタQ1がオフ状態からオン状態に移行する。すると、結合トランジスタQ1のコレクタC1に接続された転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2は、電源電位Vga(「L」(−3.3V))から−1Vに移行する。なお、前述したように、−1Vは、結合トランジスタQ1及び電源線抵抗Rg2を流れる電流と、結合トランジスタQ1及び電源線抵抗Rg2のそれぞれの抵抗によって決まる値である。
As described in FIG. 7B, when the transfer thyristor T1 is in the off state, the coupling transistor Q1 is also in the off state. At this time, the collector C1 of the coupling transistor Q1 and the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2 are at the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)) due to the power supply line resistance Rg2.
When the transfer thyristor T1 is turned on, the coupling transistor Q1 shifts from the off state to the on state. Then, the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2 connected to the collector C1 of the coupling transistor Q1 shifts from the power supply potential Vga (“L” (−3.3V)) to −1V. As described above, −1V is a value determined by the current flowing through the coupling transistor Q1 and the power supply line resistance Rg2 and the respective resistances of the coupling transistor Q1 and the power supply line resistance Rg2.

言い換えると、結合トランジスタQ1は、結合トランジスタQ1のコレクタC1に接続された転送サイリスタT2の第1ゲートGtf2(厳密には、発光サイリスタL2の第2ゲートGlf2を含む第1ゲートGtf2(Glf2))において、電源電位Vga(「L」(−3.3V))によって充電された電荷を引き抜いて、−1Vに移行させることになる。つまり、第1ゲートGtf2(Glf2)として働く第3半導体層83と第1半導体層81との間に形成される容量が結合トランジスタQ1の負荷となる。図10に示す、p型オーミック電極331−2が形成された部分における、第3半導体層83と第1半導体層81との間に形成される容量が結合トランジスタQ1の負荷となる。   In other words, the coupling transistor Q1 is in the first gate Gtf2 of the transfer thyristor T2 (strictly speaking, the first gate Gtf2 (Glf2) including the second gate Glf2 of the light emitting thyristor L2) connected to the collector C1 of the coupling transistor Q1. Then, the electric charge charged by the power supply potential Vga (“L” (−3.3 V)) is extracted, and is shifted to −1 V. That is, the capacitance formed between the third semiconductor layer 83 that functions as the first gate Gtf2 (Glf2) and the first semiconductor layer 81 is a load of the coupling transistor Q1. The capacitance formed between the third semiconductor layer 83 and the first semiconductor layer 81 in the portion where the p-type ohmic electrode 331-2 is formed shown in FIG. 10 is a load of the coupling transistor Q1.

発光装置65、すなわち発光チップUの駆動速度を向上させるには、転送サイリスタTと結合トランジスタQとで構成される転送部101の転送速度(駆動速度)を上げることが求められる。
これには、結合トランジスタQの駆動能力を向上させるとともに、結合トランジスタQの負荷の軽減が求められる。
In order to improve the driving speed of the light emitting device 65, that is, the light emitting chip U, it is required to increase the transfer speed (drive speed) of the transfer unit 101 including the transfer thyristor T and the coupling transistor Q.
For this purpose, the driving capability of the coupling transistor Q is improved and the load on the coupling transistor Q is reduced.

結合トランジスタQの駆動能力である電流増幅率βは、コレクタ電流Iとベース電流Iとで式(1)で表される。 The current amplification factor is a driving capability of the coupling transistor Q beta is represented by the formula (1) and the collector current I C and base current I B.

Figure 2017054995
Figure 2017054995

なお、ベース電流Iは、近似的に、転送サイリスタTのカソード電流Iに比例するので、式(2)で表される。 The base current I B is an approximation, is proportional to the cathode current I K of the transfer thyristors T, the formula (2).

Figure 2017054995
Figure 2017054995

ここで、結合トランジスタQの電流増幅率β′は、a、bを係数として、結合トランジスタQの幅Wと間隔Dとで、近似的に式(3)で表される。 Here, the current amplification factor β ′ of the coupling transistor Q is approximately expressed by Expression (3) with the width W Q and the interval D Q of the coupling transistor Q, where a and b are coefficients.

Figure 2017054995
Figure 2017054995

すなわち、電流増幅率β′は、間隔Dが小さいほど、幅Wが大きいほど、大きくなる。よって、結合トランジスタQの駆動能力を向上させるには、間隔Dを小さくし、幅Wを大きく設定することがよい。なお、間隔Dは、電荷が拡散して移動する領域の距離である。 That is, the current amplification factor β ′ increases as the interval D Q decreases and the width W Q increases. Therefore, in order to improve the driving capability of the coupling transistor Q, to reduce the distance D Q, it is possible to set a large width W Q. The interval DQ is the distance between the regions where charges are diffused and moved.

一方、結合トランジスタQ1の負荷は、p型オーミック電極331−2が形成された第1ゲートGtf2(Glf2)の第3半導体層83(第1ゲート層)と第1半導体層81(アノード層)との間に形成される容量Cである。この容量Cは、平板コンデンサとみなせることから、第1アイランド301−2において容量Cとして働く部分の表面積Sと、第3半導体層83(第1ゲート層)と第1半導体層81(アノード層)との間の距離(厚さ)dとで、式(4)で表される。 On the other hand, the load of the coupling transistor Q1 includes the third semiconductor layer 83 (first gate layer) and the first semiconductor layer 81 (anode layer) of the first gate Gtf2 (Glf2) on which the p-type ohmic electrode 331-2 is formed. a capacitance C G formed between the. The capacitance C G, since that can be regarded as a plate capacitor, and the surface area S G of a portion which acts as capacitance C G in the first island 301-2 third semiconductor layer 83 (first gate layer) and the first semiconductor layer 81 ( The distance (thickness) d G between the anode layer and the anode layer is expressed by the equation (4).

Figure 2017054995
Figure 2017054995

すなわち、結合トランジスタQ1の負荷は、容量Cとして働く部分の表面積Sが小さいほど小さくなる。よって、図10(a)に示すように、第1ゲートGtf2(Glf2)の幅Wが小さいほど、表面積Sが小さくなり、容量Cが小さくなる。 That is, the load of the coupling transistor Q1 is smaller the smaller the surface area S G of a portion which acts as capacitance C G. Therefore, as shown in FIG. 10 (a), as the width W G of the first gate Gtf2 (Glf2) is small, the surface area S G is reduced, the capacitance C G decreases.

よって、第1の実施の形態では、発光サイリスタLを配列する間隔(ピッチ)pに対して、結合トランジスタQの幅Wを大きく、容量Cとして働く第1ゲートGtf2(Glf2)の幅Wを小さくレイアウトされている。他の第1ゲートGtf(Glf)も同様である。 Therefore, in the first embodiment, with respect to the spacing of arranging the light-emitting thyristors L (pitch) p, increasing the width W Q of the coupling transistor Q, the width W of the first gate Gtf2 acting as capacitance C G (Glf2) G is laid out small. The same applies to the other first gates Gtf (Glf).

発光サイリスタLを配列する間隔pは、発光装置65の仕様によって定められる。よって、配列ピッチpを変更することは好ましくない。
そこで、第1の実施の形態の発光チップUでは、発光サイリスタLを配列する間隔pを変更することなく、間隔p内において、結合トランジスタQの幅Wを大きくし、且つ、容量Cとして働く第1ゲートGtf(Glf)の幅Wを小さくすることで、結合トランジスタQの駆動能力(電流増幅率β′)を大きく、且つ、負荷容量(容量C)を小さくしている。
The interval p at which the light emitting thyristors L are arranged is determined by the specifications of the light emitting device 65. Therefore, it is not preferable to change the arrangement pitch p.
Therefore, in the light-emitting chip U of the first embodiment, without changing the spacing p of arranging the light-emitting thyristors L, in the interval p, by increasing the width W Q of the coupling transistor Q, and, as the capacitance C G By reducing the width W G of the working first gate Gtf (Glf), the driving capability (current amplification factor β ′) of the coupling transistor Q is increased, and the load capacitance (capacitance C G ) is decreased.

図10(b)に示す第1の実施の形態が適用されない発光チップUでは、結合トランジスタQの幅W′と容量Cとして働く第1ゲートGtf(Glf)の幅W′とが同じ大きさでレイアウトされている。この場合、図10(a)に示した第1の実施の形態が適用される発光チップUに比べて、結合トランジスタQの電流増幅率β′が小さく、且つ、容量Cが大きくなってしまう。このため、発光チップUの動作速度が遅くなってしまう。すなわち、発光装置65及び画像形成装置1の動作速度が遅くなってしまう。 Figure 10 (b) in the light-emitting chip U first embodiment is not applied as shown in, 'the width W G of the first gate Gtf serve as a capacitor C G (GLF)' width W Q of coupling transistor Q and the same It is laid out in size. In this case, compared to the light emitting chip U to which the first embodiment shown in FIG. 10A is applied, the current amplification factor β ′ of the coupling transistor Q is small and the capacitance CG is large. . For this reason, the operation speed of the light emitting chip U is slowed down. That is, the operation speeds of the light emitting device 65 and the image forming apparatus 1 are reduced.

[第2の実施の形態]
第1の実施の形態が適用される発光チップUでは、転送サイリスタT(結合トランジスタQ1の場合の転送サイリスタT1)の幅Wは、結合トランジスタQの幅Wに合わせて広く設定されている(図10(a)参照)。
しかし、転送サイリスタTの面積(主にカソードの面積)は、カソード−アノード間の容量に関連するため、転送サイリスタTの動作速度に影響する。すなわち、転送サイリスタTの面積が小さいほど、転送サイリスタTの動作が速くなる。そして、転送サイリスタTは、オン状態が維持される電流を流せばよい。
他の構成は、第1の実施の形態と同様である。よって、第1の実施の形態が適用される発光チップUとの違いを説明する。
[Second Embodiment]
In the light-emitting chip U of the first embodiment is applied, the width W T of the transfer thyristors T (the transfer thyristor T1 in the case of coupling transistor Q1) is set wide according to the width W Q of the coupling transistor Q (See FIG. 10A).
However, since the area of the transfer thyristor T (mainly the area of the cathode) is related to the capacity between the cathode and the anode, the operation speed of the transfer thyristor T is affected. That is, the smaller the area of the transfer thyristor T, the faster the operation of the transfer thyristor T. Then, the transfer thyristor T may flow a current that maintains the ON state.
Other configurations are the same as those of the first embodiment. Therefore, the difference from the light emitting chip U to which the first embodiment is applied will be described.

図11は、転送サイリスタTの幅Wを第1の実施の形態が適用される発光チップUに比べて小さくした発光チップUを示す図である。図11(a)は、発光チップUの平面図、図11(b)は第1アイランド301を拡大して示した図である。
図11(b)に示すように、転送サイリスタTの幅W′は、図10(a)に示した第1の実施の形態の場合の転送サイリスタTの幅Wに比べて、小さくなっている。
これにより、転送サイリスタTのターンオン及びターンオフの速度が向上する。
Figure 11 is a view showing a light emitting chip U was smaller than the light-emitting chip U of the width W T of the transfer thyristor T is the first embodiment is applied. FIG. 11A is a plan view of the light emitting chip U, and FIG. 11B is an enlarged view of the first island 301.
As shown in FIG. 11B, the width W T ′ of the transfer thyristor T is smaller than the width W T of the transfer thyristor T in the first embodiment shown in FIG. ing.
Thereby, the turn-on and turn-off speed of the transfer thyristor T is improved.

なお、転送サイリスタTの部分におけるp型の第3半導体層(p型ゲート層)83の幅も、転送サイリスタTの幅W′に合わせて、狭くしてもよい。
しかし、図11(b)に示すように、転送サイリスタT1から結合トランジスタQ1への電流が、結合トランジスタQ1の一部に集中することなく流れるようにするためには、転送サイリスタTのp型の第3半導体層(p型ゲート層)83の幅を転送サイリスタTの幅W′に合わせて狭くすることを要しない。
すなわち、図11(b)に示すように、転送サイリスタT1から結合トランジスタQ1に矢印Iで示すように電流が流れることがよい。
Note that the width of the p-type third semiconductor layer (p-type gate layer) 83 in the transfer thyristor T may be narrowed in accordance with the width W T ′ of the transfer thyristor T.
However, as shown in FIG. 11B, in order for the current from the transfer thyristor T1 to the coupling transistor Q1 to flow without being concentrated on a part of the coupling transistor Q1, the p-type of the transfer thyristor T is used. It is not necessary to reduce the width of the third semiconductor layer (p-type gate layer) 83 in accordance with the width W T ′ of the transfer thyristor T.
That is, as shown in FIG. 11B, a current should flow from the transfer thyristor T1 to the coupling transistor Q1 as indicated by the arrow I.

第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、サイリスタ(転送サイリスタT、発光サイリスタL)はアノードが基板としてのp型の第1半導体層81に接続されたアノードコモンとし、結合トランジスタQはpnpバイポーラトランジスタとして説明した。回路の極性を変更することによって、サイリスタ(転送サイリスタT、発光サイリスタL)はカソードが基板としてのn型の半導体層に接続されたカソードコモンとしてもよく、結合トランジスタQはnpnバイポーラトランジスタとしてもよい。   In the first and second embodiments, the thyristor (transfer thyristor T, light-emitting thyristor L) is an anode common whose anode is connected to the p-type first semiconductor layer 81 as a substrate, and the coupling transistor Q Has been described as a pnp bipolar transistor. By changing the polarity of the circuit, the thyristor (transfer thyristor T, light-emitting thyristor L) may be a cathode common whose cathode is connected to an n-type semiconductor layer as a substrate, and the coupling transistor Q may be an npn bipolar transistor. .

そして、第1の実施の形態及び第2の実施の形態では、発光素子を発光サイリスタLとしたが、発光素子はp型の半導体層とn型の半導体層とが積層された発光ダイオード(LED)であってもよい。   In the first embodiment and the second embodiment, the light emitting element is the light emitting thyristor L, and the light emitting element is a light emitting diode (LED) in which a p-type semiconductor layer and an n-type semiconductor layer are stacked. ).

1…画像形成装置、10…画像形成プロセス部、11(11Y、11M、11C、11K)…画像形成ユニット、12…感光体ドラム、14…プリントヘッド、30…画像出力制御部、40…画像処理部、62…回路基板、63…光源部、64…ロッドレンズアレイ、65…発光装置、71…電源線、72…第1転送信号線、73…第2転送信号線、75…点灯信号線、75a…幹部、75b…枝部、81…第1半導体層、82…第2半導体層、83…第3半導体層、84…第4半導体層、101…転送部、102…発光部、110…信号発生回路、120…転送信号発生部、140…点灯信号発生部、160…基準電位供給部、170…電源電位供給部、φ1…第1転送信号、φ2…第2転送信号、φI(φI1〜φI40)…点灯信号、Gtf(Gtf1、Gtf2、Gtf3、…)…第1ゲート、Gts(Gts1、Gts2、Gts3、…)…第2ゲート、L(L1、L2、L3、…)…発光サイリスタ、T(T1、T2、T3、…)…転送サイリスタ、Q(Q1、Q2、Q3、…)…結合トランジスタ、U(U1〜U40)…発光チップ、Vga…電源電位、Vsub…基準電位 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Image forming apparatus, 10 ... Image formation process part, 11 (11Y, 11M, 11C, 11K) ... Image formation unit, 12 ... Photosensitive drum, 14 ... Print head, 30 ... Image output control part, 40 ... Image processing , 62 ... circuit board, 63 ... light source part, 64 ... rod lens array, 65 ... light emitting device, 71 ... power supply line, 72 ... first transfer signal line, 73 ... second transfer signal line, 75 ... lighting signal line, 75a ... trunk part, 75b ... branch part, 81 ... first semiconductor layer, 82 ... second semiconductor layer, 83 ... third semiconductor layer, 84 ... fourth semiconductor layer, 101 ... transfer part, 102 ... light emitting part, 110 ... signal Generation circuit 120... Transfer signal generation unit 140... Lighting signal generation unit 160 .. reference potential supply unit 170 .. power supply potential supply unit .phi.1 first transfer signal .phi.2 second transfer signal .phi.I (.phi.I1 to .phi.I40) ) ... Lighting signal, Gt f (Gtf1, Gtf2, Gtf3,...) ... first gate, Gts (Gts1, Gts2, Gts3,...) ... second gate, L (L1, L2, L3,...) ... light emitting thyristor, T (T1, T2,. T3,...) ... transfer thyristor, Q (Q1, Q2, Q3,...) ... coupling transistor, U (U1-U40) ... light emitting chip, Vga ... power supply potential, Vsub ... reference potential

Claims (4)

列状に配列された複数の発光サイリスタと、
前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を備え、
前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタの配列の間隔内に並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とする発光部品。
A plurality of light emitting thyristors arranged in a line;
A plurality of transistors provided for each light-emitting thyristor of the plurality of light-emitting thyristors and controlling lighting of the light-emitting thyristor,
A gate of each light emitting thyristor of each of the plurality of light emitting thyristors and each transistor of the plurality of transistors are arranged in parallel within an interval of the arrangement of the plurality of light emitting thyristors, and the width of the transistor is equal to that of the gate. A light-emitting component that is set to be larger than the width.
前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられた複数の転送サイリスタのそれぞれの転送サイリスタは、前記トランジスタと、前記複数の発光サイリスタの配列方向と交差する方向に、当該トランジスタと直列に配置され、
前記転送サイリスタの幅が、前記トランジスタの幅より小さく設定されていることを特徴とする請求項1に記載の発光部品。
Each transfer thyristor of the plurality of transfer thyristors provided for each light emitting thyristor of the plurality of light emitting thyristors is in series with the transistor in a direction intersecting with the arrangement direction of the plurality of light emitting thyristors. Arranged,
The light-emitting component according to claim 1, wherein a width of the transfer thyristor is set smaller than a width of the transistor.
列状に配列された複数の発光サイリスタと、当該複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を含む発光手段と、
前記発光手段から照射される光を結像させる光学手段と、を備え、
前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタが配列された方向に対して並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とするプリントヘッド。
A plurality of light emitting thyristors arranged in a row, and a plurality of transistors provided for each of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors to control lighting of the light emitting thyristors;
Optical means for imaging light emitted from the light emitting means,
The gates of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors and the transistors of the plurality of transistors are arranged in parallel to the direction in which the plurality of light emitting thyristors are arranged, and the width of the transistors is A print head characterized in that it is set larger than the width of the gate.
像保持体と、
前記像保持体を帯電する帯電手段と、
列状に配列された複数の発光サイリスタと、当該複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタに対して設けられ、当該発光サイリスタの点灯を制御する複数のトランジスタと、を含み、光学手段を介して前記像保持体を露光する露光手段と、
前記露光手段により露光され前記像保持体に形成された静電潜像を現像する現像手段と、
前記像保持体に現像された画像を被転写体に転写する転写手段と、を備え、
前記複数の発光サイリスタのそれぞれの発光サイリスタのゲートと、前記複数のトランジスタのそれぞれのトランジスタとは、当該複数の発光サイリスタが配列された方向に対して並列に配置され、当該トランジスタの幅が、当該ゲートの幅より大きく設定されていることを特徴とする画像形成装置。
An image carrier,
Charging means for charging the image carrier;
A plurality of light emitting thyristors arranged in a row, and a plurality of transistors provided for each light emitting thyristor of the plurality of light emitting thyristors to control lighting of the light emitting thyristor, and through the optical means, Exposure means for exposing the image carrier;
Developing means for developing the electrostatic latent image exposed by the exposure means and formed on the image carrier;
Transfer means for transferring the image developed on the image holding member to a transfer target,
The gates of the light emitting thyristors of the plurality of light emitting thyristors and the transistors of the plurality of transistors are arranged in parallel to the direction in which the plurality of light emitting thyristors are arranged, and the width of the transistors is An image forming apparatus, wherein the image forming apparatus is set larger than a width of a gate.
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