JP2017047386A - Masking cured film removal device, and manufacturing apparatus of etching metal plate - Google Patents

Masking cured film removal device, and manufacturing apparatus of etching metal plate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a masking cured film removal device capable of reducing a load for a waste liquid treatment, and to provide a manufacturing apparatus of an etching metal plate.SOLUTION: A masking cured film removal device 60 to be constituted includes a nozzle 61 for supplying swelling liquid for swelling a cured film to a surface having the cured film of a metal plate 111 having the cured film of a masking agent, and a swelling liquid reflux device for recovering the swelling liquid supplied from the nozzle 61 and resending it to the nozzle 61. A manufacturing apparatus of an etching metal plate is constituted by arranging the masking cured film removal device 60 on a subsequent stage of etching equipment.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、マスキング硬化膜除去装置およびエッチング金属板の製造装置に関する。   The present invention relates to a masked cured film removing apparatus and an etching metal plate manufacturing apparatus.

表面の凹凸による意匠性を有する金属板は、エレベータの扉材のような高級感を要する製品の部品として有用である。上記金属板の表面に凹凸を形成する方法としては、紫外線(UV)硬化膜による金属板の表面のマスキングを利用するエッチングが知られている(例えば、特許文献1参照)。当該エッチングによるエッチング金属板の製造方法では、例えば、金属板の表面の保護されるべき部分にマスキング剤の硬化膜を作製し、上記硬化膜を有する上記金属板にエッチング処理を施し、エッチング処理された上記金属板から上記硬化膜を剥離させて除去する。上記金属板の表面に残存する上記硬化膜は、例えば、苛性ソーダ水溶液などの強アルカリ性の剥離液によって剥離され、除去される(例えば、特許文献2参照)。   A metal plate having a design property due to unevenness on the surface is useful as a part of a product that requires a high-class feeling like an elevator door material. As a method for forming irregularities on the surface of the metal plate, etching using masking of the surface of the metal plate with an ultraviolet (UV) cured film is known (for example, see Patent Document 1). In the manufacturing method of the etched metal plate by the etching, for example, a cured film of a masking agent is produced on a portion of the surface of the metal plate to be protected, and the metal plate having the cured film is etched and etched. The cured film is peeled off from the metal plate. The cured film remaining on the surface of the metal plate is stripped and removed by a strong alkaline stripping solution such as an aqueous caustic soda solution (see, for example, Patent Document 2).

特開2012−162615号公報JP 2012-162615 A 特開2001−142231号公報JP 2001-142231 A

上記製造方法では、金属板の表面に凹凸部を高精細に形成することができる。しかしながら、上記製造方法では、上記剥離液が強アルカリ性を有するため、硬化膜が溶解し、硬化膜を剥離した後の排液にマスキング剤中の成分が溶出することがある。このため、当該マスキング剤の溶出した上記成分によっては、高度な排液処理を要することがある。よって、上記製造方法は、その後の上記排液処理のコストの削減が困難である。このように、上記製造方法には、生産コストの観点から、また排液処理を要することから環境への負荷の軽減の観点から、改善の余地が残されている。   In the manufacturing method described above, the uneven portion can be formed on the surface of the metal plate with high definition. However, in the above production method, since the stripping solution has strong alkalinity, the cured film is dissolved, and the components in the masking agent may be eluted in the drained liquid after the cured film is stripped. For this reason, depending on the components from which the masking agent is eluted, a high level of drainage treatment may be required. Therefore, in the manufacturing method, it is difficult to reduce the cost of the drainage process thereafter. As described above, the manufacturing method has room for improvement from the viewpoint of production cost and from the viewpoint of reducing the burden on the environment because drainage treatment is required.

本発明は、排液処理の負荷を軽減可能なマスキング硬化膜除去装置およびエッチング金属板の製造装置を提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a masked cured film removing apparatus and an etching metal plate manufacturing apparatus that can reduce the load of drainage treatment.

本発明者らは、ベンジルアルコールを含有する水性液体を剥離液として使用することにより、金属板のマスキング用の硬化膜が膨潤し、マスキング剤中の成分が実質的に溶解せずに剥離することを見出し、本発明を完成させた。   By using an aqueous liquid containing benzyl alcohol as a stripping solution, the present inventors swell a cured film for masking a metal plate and strip the component in the masking agent without substantially dissolving it. The present invention was completed.

すなわち、本発明は、マスキング剤の硬化膜を有する金属板の前記硬化膜を有する表面に、前記硬化膜を膨潤させる膨潤液を供給するための膨潤液供給装置と、前記膨潤液供給装置から前記表面に供給された前記膨潤液を回収して前記膨潤液供給装置へ再送するための膨潤液還流装置と、を有するマスキング硬化膜除去装置、を提供する。   That is, the present invention provides a swelling liquid supply device for supplying a swelling liquid for swelling the cured film to a surface of the metal plate having a cured film of a masking agent, and the swelling liquid supply apparatus. There is provided a masked cured film removing apparatus having a swelling liquid reflux apparatus for recovering the swelling liquid supplied to the surface and retransmitting it to the swelling liquid supply apparatus.

また、本発明は、金属板の表面の保護されるべき部分にマスキング剤の硬化膜を作製するためのマスキング装置と、前記硬化膜を有する前記金属板にエッチング処理を行うためのエッチング装置と、エッチング処理された前記金属板から前記硬化膜を除去するための上記のマスキング硬化膜除去装置と、を有するエッチング金属板の製造方法、を提供する。   The present invention also includes a masking device for producing a cured film of a masking agent on a portion of the surface of the metal plate to be protected, an etching device for performing an etching process on the metal plate having the cured film, There is provided a method for producing an etched metal plate, comprising the above-described masked cured film removing device for removing the cured film from the etched metal plate.

本発明によれば、上記硬化膜を膨潤させて剥離させる剥離液に適用することが可能であり、硬化膜中の成分の剥離液への溶出を実質的に防止することができるので、マスキング硬化膜の除去およびエッチング金属板の製造における排液処理の負荷を軽減することができる。   According to the present invention, it is possible to apply to a stripping solution that swells and peels the cured film, and it is possible to substantially prevent elution of components in the cured film into the stripping solution. It is possible to reduce the load of the drainage treatment in the production of the film removal and etching metal plate.

本発明の一実施の形態に係るエッチング金属板の製造装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the manufacturing apparatus of the etching metal plate which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態に係るマスキング硬化膜除去装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the masking cured film removal apparatus which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態における洗浄装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the washing | cleaning apparatus in one embodiment of this invention.

本発明に係るエッチング金属板の製造装置は、以下に説明する作用効果を奏する範囲において、公知の装置の適切な組み合わせによって構成することが可能である。本発明の一実施の形態に係るエッチング金属板の製造装置の構成を図1に模式的に示す。   The manufacturing apparatus of the etching metal plate which concerns on this invention can be comprised by the appropriate combination of a well-known apparatus in the range with the effect demonstrated below. FIG. 1 schematically shows a configuration of an etching metal plate manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.

エッチング金属板の製造装置100は、図1に示されるように、金属板の搬送装置10を有し、搬送装置10の搬送方向Xに沿って、前処理装置20、マスキング装置30、乾燥機35、エッチング装置40、洗浄装置50、マスキング硬化膜除去装置60、洗浄装置70およびラミネート装置80を有する。   As shown in FIG. 1, the etching metal plate manufacturing apparatus 100 includes a metal plate transport device 10, and a pretreatment device 20, a masking device 30, and a dryer 35 along the transport direction X of the transport device 10. , An etching apparatus 40, a cleaning apparatus 50, a masked cured film removing apparatus 60, a cleaning apparatus 70, and a laminating apparatus 80.

搬送装置10は、プロセス方向(X方向)に金属板を搬送するための装置であり、例えばローラーテーブルである。搬送装置10は、複数の駆動ローラ101を有し、駆動ローラ101はX方向に並べられており、そのそれぞれは、その軸が搬送方向Xに直交するY方向に沿うように配置されている。搬送装置10は、所望の方向に金属板を搬送することが可能な装置であればよい。搬送装置10の他の例には、ロボットアーム、ベルトコンベア、ターンテーブル、チェーンコンベア、ホイールコンベアおよびボールコンベアが含まれる。   The conveying apparatus 10 is an apparatus for conveying a metal plate in the process direction (X direction), and is, for example, a roller table. The transport apparatus 10 includes a plurality of drive rollers 101, and the drive rollers 101 are arranged in the X direction, and each of the drive rollers 101 is arranged so that its axis is along the Y direction orthogonal to the transport direction X. The conveyance apparatus 10 should just be an apparatus which can convey a metal plate to a desired direction. Other examples of the transfer device 10 include a robot arm, a belt conveyor, a turntable, a chain conveyor, a wheel conveyor, and a ball conveyor.

前処理装置20は、マスキング剤が塗布される金属板に、マスキング剤の塗布に好適な処理を施すための装置である。前処理装置20は、例えば、下地処理液を金属板に噴霧するためのノズルと、下地処理液が塗布された金属板を乾燥させる乾燥装置とを有する。上記下地処理液は、マスキング剤の金属板への密着性を高める成分の溶液または分散液であり、例えば、脱脂用無機アルカリ洗浄液、脱脂用有機アルカリ洗浄液、または、金属汚れを溶解除去するための無機酸性洗浄液である。   The pretreatment device 20 is a device for applying a treatment suitable for applying the masking agent to the metal plate to which the masking agent is applied. The pretreatment device 20 includes, for example, a nozzle for spraying a base treatment liquid onto a metal plate and a drying device for drying the metal plate coated with the base treatment liquid. The base treatment liquid is a solution or dispersion of a component that enhances the adhesion of the masking agent to the metal plate. For example, the inorganic alkaline cleaning liquid for degreasing, the organic alkaline cleaning liquid for degreasing, or the metal stain for dissolving and removing. It is an inorganic acidic cleaning solution.

マスキング装置30は、金属板の表面の保護されるべき部分にマスキング剤の硬化膜を作製するための装置である。マスキング装置30は、印刷ステージ301、移動テーブル302、搬送ローラ303、架台304、インクジェットノズル305およびUVランプ306、307を有する。   The masking apparatus 30 is an apparatus for producing a cured film of a masking agent on a portion to be protected on the surface of a metal plate. The masking device 30 includes a printing stage 301, a moving table 302, a conveyance roller 303, a gantry 304, an inkjet nozzle 305, and UV lamps 306 and 307.

印刷ステージ301は、マスキング剤の塗布のために金属板を搬送、固定するための部分である。印刷ステージ301は、搬送装置10と並列に配置されており、移動テーブル302を有する。   The printing stage 301 is a part for conveying and fixing a metal plate for applying a masking agent. The printing stage 301 is arranged in parallel with the transport apparatus 10 and has a moving table 302.

移動テーブル302は、X方向に沿って図1の実線部から破線部までの間を移動可能に配置されている。移動テーブル302には、複数のエアノズルが開口している。当該エアノズルは、エアを噴出、吸引可能であり、移動テーブル302に、X方向およびY方向において規則的に配列している。   The movement table 302 is arranged so as to be movable between the solid line portion and the broken line portion in FIG. 1 along the X direction. A plurality of air nozzles are opened in the moving table 302. The air nozzles can eject and suck air, and are regularly arranged on the moving table 302 in the X direction and the Y direction.

搬送ローラ303は、搬送装置10上の金属板を搬送装置10から移動テーブル302に搬送し、または移動テーブル302上の金属板を搬送装置10上へ搬送するための駆動ローラである。   The conveyance roller 303 is a driving roller for conveying the metal plate on the conveyance device 10 from the conveyance device 10 to the moving table 302 or conveying the metal plate on the movement table 302 onto the conveyance device 10.

架台304は、例えば、搬送装置10および印刷ステージ301をY方向に沿って跨ぐガントリー型の台である。インクジェットノズル305は、Y方向に移動自在に架台304に配置されている。   The gantry 304 is, for example, a gantry-type pedestal that straddles the transport device 10 and the printing stage 301 along the Y direction. The inkjet nozzle 305 is disposed on the mount 304 so as to be movable in the Y direction.

インクジェットノズル305に供給されるインクは、マスキング剤であり、インクジェットノズル305は、金属板の表面の保護されるべき部分に前記マスキング剤を塗布するためのマスキング剤塗布装置である。そして、当該マスキング剤塗布装置は、マスキング剤の液滴を吐出して金属板の表面にマスキング剤の塗膜を形成するための液滴吐出装置に該当する。   The ink supplied to the inkjet nozzle 305 is a masking agent, and the inkjet nozzle 305 is a masking agent application device for applying the masking agent to a portion to be protected on the surface of the metal plate. The masking agent coating device corresponds to a droplet discharging device for discharging a masking agent droplet to form a masking agent coating on the surface of the metal plate.

UVランプ306、306は、インクジェットノズル305のY方向における両側にそれぞれ取り付けられている。UVランプ306は、インクジェットノズル305の移動テーブルに対する相対的な進行方向の後方側のときにUVを照射するように構成されている。当該UVは、マスキング剤の塗膜を硬化させる活性エネルギー線であり、UVランプ306は、いずれも、金属板の表面におけるマスキング剤の塗膜に活性エネルギー線を照射して当該塗膜が硬化してなる硬化膜を作製するための活性エネルギー線照射装置に該当する。   The UV lamps 306 and 306 are respectively attached to both sides of the inkjet nozzle 305 in the Y direction. The UV lamp 306 is configured to irradiate UV when the inkjet nozzle 305 is behind the moving direction relative to the moving table. The UV is an active energy ray that cures the coating film of the masking agent, and each of the UV lamps 306 irradiates the coating film of the masking agent on the surface of the metal plate with the active energy ray to cure the coating film. This corresponds to an active energy ray irradiation apparatus for producing a cured film.

UVランプ307は、搬送装置10の、X方向における搬送ローラ303よりも下流側において、搬送装置10上に、搬送装置10によって搬送されている金属板に紫外線(UV)を照射するように配置されている。当該UVは、マスキング剤の塗膜を硬化させる活性エネルギー線であり、UVランプ307も、金属板の表面におけるマスキング剤の塗膜に活性エネルギー線を照射して当該塗膜が硬化してなる硬化膜を作製するための活性エネルギー線照射装置に該当する。   The UV lamp 307 is disposed on the transport device 10 on the downstream side of the transport roller 303 in the X direction so as to irradiate the metal plate transported by the transport device 10 with ultraviolet rays (UV). ing. The UV is an active energy ray that cures the coating film of the masking agent, and the UV lamp 307 is also formed by curing the coating film by irradiating the coating film of the masking agent on the surface of the metal plate with the active energy ray. It corresponds to an active energy ray irradiation apparatus for producing a film.

上記活性エネルギー線照射装置は、活性エネルギー線を照射する装置であればよく、上記活性エネルギー線の他の例には、赤外線、可視光線、X線、電子線、アルファ線、ベータ線およびガンマ線が含まれ、活性エネルギー線照射装置の他の例には、水銀ランプ、低圧水銀ランプ、各種メタルはライドランプ、低圧・固体レーザー、キセノンフラッシュランプ、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、発光ダイオードおよびレーザーダイオードが含まれる。   The active energy ray irradiation device may be any device that irradiates active energy rays. Other examples of the active energy rays include infrared rays, visible rays, X rays, electron rays, alpha rays, beta rays, and gamma rays. Other examples of active energy ray irradiation devices include mercury lamps, low-pressure mercury lamps, various metal lamps, low-pressure and solid-state lasers, xenon flash lamps, black lights, germicidal lamps, cold cathode tubes, light-emitting diodes, and the like A laser diode is included.

乾燥機35は、マスキングされた金属板に残存する水分や溶剤などの揮発成分を除去するための装置である。乾燥機35は、搬送されている金属板を乾燥可能な装置であることが好ましく、当該乾燥機の例には、熱風乾燥機、(遠、中または近)赤外線ヒータおよび誘導加熱装置が含まれる。   The dryer 35 is a device for removing volatile components such as moisture and solvent remaining on the masked metal plate. The dryer 35 is preferably a device capable of drying the metal plate being conveyed, and examples of the dryer include a hot air dryer, an infrared heater (far, medium or near), and an induction heating device. .

エッチング装置40は、上記硬化膜を有する金属板にエッチング処理を行うための装置である。エッチング装置40は、例えば、上記金属板の上記硬化膜側の表面に塩酸水溶液を噴霧するための塩酸槽と、第2塩化鉄水溶液を当該表面に噴霧するための、X方向に並ぶ複数のエッチング槽と、金属板のエッチングされた表面を洗浄するための洗浄液を噴霧するノズルと、エッチングによって生じたスマットを上記表面から除去するためのスマット除去装置とを有する。上記洗浄液は、例えば、エッチング液を20〜50倍に希釈した液である。   The etching apparatus 40 is an apparatus for performing an etching process on the metal plate having the cured film. The etching apparatus 40 includes, for example, a hydrochloric acid tank for spraying a hydrochloric acid aqueous solution on the surface of the metal plate on the cured film side, and a plurality of etchings arranged in the X direction for spraying a second iron chloride aqueous solution on the surface. It has a tank, a nozzle for spraying a cleaning liquid for cleaning the etched surface of the metal plate, and a smut removing device for removing smut generated by the etching from the surface. The cleaning liquid is, for example, a liquid obtained by diluting an etching liquid 20 to 50 times.

上記塩酸水溶液および塩化第2鉄水溶液は、いずれもエッチング液であり、当該エッチング液の他の例には、塩化第2銅水溶液、硫酸水溶液、硝酸水溶液およびリン酸水溶液が含まれる。また、上記スマット除去装置は、例えば、回転ロールブラシである。   The hydrochloric acid aqueous solution and the ferric chloride aqueous solution are both etching solutions, and other examples of the etching solution include cupric chloride aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution, nitric acid aqueous solution and phosphoric acid aqueous solution. The smut removing device is, for example, a rotating roll brush.

洗浄装置50は、エッチング処理後の上記金属板を水洗するための装置である。洗浄装置50は、例えば、上記金属板の表面に水を噴霧するためのノズルと、上記表面の水を除去するためのエアナイフとを有する。   The cleaning device 50 is a device for washing the metal plate after the etching process with water. The cleaning device 50 includes, for example, a nozzle for spraying water on the surface of the metal plate and an air knife for removing water on the surface.

マスキング硬化膜除去装置60は、エッチング処理された金属板からマスキング剤の硬化膜を除去するための装置である。マスキング硬化膜除去装置60は、図2に示されるように、上記硬化膜を膨潤させる膨潤液を金属板111に噴霧するためのノズル61、金属板111に噴霧された膨潤液を回収するための膨潤液回収槽62、硬化膜の膨潤により生じた、膨潤液回収槽62中の膨潤液(回収液)中の硬化膜片を捕集し、回収液から取り出すためのメッシュベルトコンベア63、膨潤液回収槽62から排出された回収液中の浮遊物を捕集するためのストレーナ64、浮遊物が除去された回収液の組成を検査するための検査装置65、組成が検査された回収液が収容される調整槽66、調整槽66に供給されるべき膨潤液の原液を収容する原液槽67、および、メッシュベルトコンベア63で捕集された硬化膜片を収容するための硬化膜片回収槽68、を有する。   The masked cured film removing device 60 is a device for removing the cured film of the masking agent from the etched metal plate. As shown in FIG. 2, the masking cured film removing apparatus 60 is configured to collect a swelling liquid sprayed on the metal plate 111 and a nozzle 61 for spraying the swelling liquid that swells the cured film onto the metal plate 111. Swelling liquid recovery tank 62, mesh belt conveyor 63 for collecting and taking out the cured film pieces in the swelling liquid (recovered liquid) in the swelling liquid recovery tank 62 generated by the swelling of the cured film, and the swelling liquid A strainer 64 for collecting suspended matter in the collected liquid discharged from the collection tank 62, an inspection device 65 for examining the composition of the collected liquid from which the suspended matter has been removed, and a collected liquid whose composition has been examined are accommodated. Adjustment tank 66, a raw solution tank 67 for storing the stock solution of the swelling liquid to be supplied to the adjustment tank 66, and a cured film piece collection tank 68 for storing the cured film pieces collected by the mesh belt conveyor 63. Have

ノズル61は、金属板111の幅方向の全体に膨潤液を噴霧可能に配置されている。また、ノズル61は、X方向に搬送される金属板111の表面に連続して膨潤液が供給されるように、X方向に複数配置されている。ノズル61は、マスキング剤の硬化膜を有する金属板の少なくとも硬化膜を有する表面に、当該硬化膜を膨潤させる膨潤液を供給するための膨潤液供給装置に該当する。   The nozzle 61 is arranged so that the swelling liquid can be sprayed over the entire width direction of the metal plate 111. A plurality of nozzles 61 are arranged in the X direction so that the swelling liquid is continuously supplied to the surface of the metal plate 111 conveyed in the X direction. The nozzle 61 corresponds to a swelling liquid supply device for supplying a swelling liquid that swells the cured film to at least the surface of the metal plate having the cured film of the masking agent.

膨潤液回収槽62は、ノズル61および駆動ローラ101の下方に配置されている。膨潤液回収槽62の平面形状は、金属板111の平面形状よりも大きく、その幅は、ノズル61の平面視したときの配列長さよりも長い。膨潤液回収槽62の、金属板111の搬送方向の下流側の端部は、一段と深い液だまり部となっており、当該液だまり部よりも上流側における膨潤液回収槽62の底は、当該液だまり部に向けて下方に傾斜している。このように、膨潤液回収槽62は、金属板111上から流れ落ちる膨潤液を回収し、かつ、回収液を上記液だまり部に導くように構成されている。   The swelling liquid recovery tank 62 is disposed below the nozzle 61 and the driving roller 101. The planar shape of the swelling liquid recovery tank 62 is larger than the planar shape of the metal plate 111, and the width thereof is longer than the arrangement length when the nozzles 61 are viewed in plan view. The downstream end of the swelling liquid recovery tank 62 in the transport direction of the metal plate 111 is a deeper liquid pool part, and the bottom of the swelling liquid recovery tank 62 upstream of the liquid pool part is Inclined downward toward the liquid pool. Thus, the swelling liquid collection tank 62 is configured to collect the swelling liquid flowing down from the metal plate 111 and to guide the collected liquid to the liquid pool portion.

メッシュベルトコンベア63は、無端状のメッシュベルトと、当該メッシュベルトを軸支する駆動ローラを含む複数のローラとによって構成されており、上記液だまり部と硬化膜片回収槽68とに架け渡されている。上記メッシュベルトは、樹脂製または金属製である。上記メッシュベルトの網目の大きさ(目開き)は、上記硬化膜片を捕集可能な範囲から適宜に決めることが可能であり、上記硬化膜片の捕集と目詰まりの防止との観点から、15〜1.5メッシュ/inchであることが好ましい。   The mesh belt conveyor 63 includes an endless mesh belt and a plurality of rollers including a driving roller that pivotally supports the mesh belt. The mesh belt conveyor 63 is bridged between the liquid pool portion and the cured film piece collection tank 68. ing. The mesh belt is made of resin or metal. The mesh size (opening) of the mesh belt can be appropriately determined from the range in which the cured film pieces can be collected, and from the viewpoint of collecting the cured film pieces and preventing clogging. It is preferable that it is 15-1.5 mesh / inch.

ストレーナ64は、膨潤液回収槽62と管によって接続されている。ストレーナ64は、一つでも複数でもよく、例えば、膨潤液回収槽62に対して独立して並列に配置されていてもよい。このようにストレーナ64が並列されている場合では、一方のストレーナ64を使用しながら、他方のストレーナ64の取り外しおよび洗浄を行うことができ、ストレーナ64による連続した浮遊物の除去が可能である。   The strainer 64 is connected to the swelling liquid recovery tank 62 by a pipe. One or a plurality of strainers 64 may be used. For example, the strainers 64 may be arranged independently and in parallel with the swelling liquid recovery tank 62. When the strainers 64 are arranged in parallel in this way, the other strainer 64 can be removed and washed while using one strainer 64, and the continuous suspended matter can be removed by the strainer 64.

メッシュベルトコンベア63およびストレーナ64は、いずれも、回収される膨潤液(回収液)から、金属板111から剥離した硬化膜片を除去するための硬化膜片除去装置に該当する。   Each of the mesh belt conveyor 63 and the strainer 64 corresponds to a cured film piece removing device for removing the cured film piece peeled off from the metal plate 111 from the recovered swelling liquid (recovered liquid).

検査装置65は、膨潤液の組成に対する回収液の組成の変化を検出可能な装置である。検査装置65は、当該組成の変化を連続して検出可能な装置であることが好ましい。検査装置65の例には、回収液の屈折率を検出するための屈折率検出器、および、回収液の比重を検出するための比重計、が含まれる。   The inspection device 65 is a device that can detect a change in the composition of the recovered liquid with respect to the composition of the swelling liquid. The inspection device 65 is preferably a device that can continuously detect the change in the composition. Examples of the inspection device 65 include a refractive index detector for detecting the refractive index of the recovered liquid and a hydrometer for detecting the specific gravity of the recovered liquid.

調整槽66は、調整槽66内の回収液の温度を調整するための温度調整装置を有している。調整槽66は、再利用すべき回収液の組成を均一に調整するのに十分な容量を有することが好ましい。また、調整槽66は、回収液の組成を均一にするために、撹拌装置をさらに有していてもよいし、調整槽66から排出された回収液を調整槽66に戻す還流管をさらに有していてもよい。   The adjustment tank 66 has a temperature adjustment device for adjusting the temperature of the recovered liquid in the adjustment tank 66. The adjustment tank 66 preferably has a sufficient capacity to uniformly adjust the composition of the recovered liquid to be reused. The adjustment tank 66 may further include a stirring device in order to make the composition of the recovered liquid uniform, and further includes a reflux pipe that returns the recovered liquid discharged from the adjustment tank 66 to the adjustment tank 66. You may do it.

原液槽67は、膨潤液の材料を含有する。原液槽67は、一つでもそれ以上でもよい。原液槽67も、必要に応じて撹拌装置や温度調整装置などをさらに有していてもよい。   The stock solution tank 67 contains a swelling liquid material. One or more stock solution tanks 67 may be used. The stock solution tank 67 may further include a stirring device, a temperature adjusting device, and the like as necessary.

なお、検査装置65、調整槽66および原液槽67は、回収された前記膨潤液の組成を検出し調整するための膨潤液調整装置を構成している。   The inspection device 65, the adjustment tank 66, and the stock solution tank 67 constitute a swelling liquid adjustment apparatus for detecting and adjusting the composition of the recovered swelling liquid.

硬化膜片回収槽68は、上記硬化膜片を収容するための容器である。硬化膜片回収槽68は、槽内の固形分を取り出し可能に構成されていることが、上記製造装置の円滑な連続運転の観点から好ましい。   The cured film piece collection tank 68 is a container for accommodating the cured film piece. The cured film piece collection tank 68 is preferably configured to be able to take out the solid content in the tank from the viewpoint of smooth continuous operation of the manufacturing apparatus.

調整槽66は、ノズル61に管によって接続されている。また、上記の管には、バルブおよびポンプが適宜に配置されている。このように、膨潤液回収槽62から調整槽66までの各構成、および、調整槽66とノズル61とを接続する管は、膨潤液供給装置から上記金属板の表面に供給された膨潤液を回収して膨潤液供給装置へ再送するための膨潤液還流装置を構成している。   The adjustment tank 66 is connected to the nozzle 61 by a pipe. In addition, a valve and a pump are appropriately disposed in the pipe. Thus, each structure from the swelling liquid collection tank 62 to the adjustment tank 66, and the pipe | tube which connects the adjustment tank 66 and the nozzle 61 make the swelling liquid supplied to the surface of the said metal plate from the swelling liquid supply apparatus. A swelling liquid refluxing device for collecting and retransmitting to the swelling liquid supply device is configured.

洗浄装置70は、硬化膜が除去された金属板を洗浄するための装置である。洗浄装置70は、図3に示されるように、ノズル71、洗浄水回収槽72、ブラシ73、ストレーナ74および新水供給管75を有する。   The cleaning device 70 is a device for cleaning the metal plate from which the cured film has been removed. As shown in FIG. 3, the cleaning device 70 includes a nozzle 71, a cleaning water recovery tank 72, a brush 73, a strainer 74, and a new water supply pipe 75.

ノズル71は、金属板111の幅方向の全体に洗浄液(例えば水)を噴霧可能に配置されている。また、ノズル71は、X方向に搬送される金属板111の表面に連続して洗浄水が供給されるように、X方向に複数配置されている。洗浄水回収槽72は、ノズル71および駆動ローラ101の下方に配置されている。洗浄水回収槽72の平面形状は、金属板111の平面形状よりも大きく、その幅は、ノズル71の平面視したときの配列長さよりも長い。このように、洗浄水回収槽72は、金属板111上から流れ落ちる洗浄水を回収するように構成されている。   The nozzle 71 is disposed so that the cleaning liquid (for example, water) can be sprayed on the entire width direction of the metal plate 111. A plurality of nozzles 71 are arranged in the X direction so that the cleaning water is continuously supplied to the surface of the metal plate 111 conveyed in the X direction. The cleaning water recovery tank 72 is disposed below the nozzle 71 and the driving roller 101. The planar shape of the washing water recovery tank 72 is larger than the planar shape of the metal plate 111, and the width thereof is longer than the arrangement length when the nozzles 71 are viewed in plan view. As described above, the cleaning water recovery tank 72 is configured to recover the cleaning water flowing down from the metal plate 111.

ブラシ73は、金属板111の搬送方向に対して対向する方向に回転可能な回転ブラシであり、金属板111のエッチングされた面(例えば上面)に毛先が当接するように配置されている。ブラシ73は、樹脂製または金属製である。   The brush 73 is a rotating brush that can rotate in a direction opposite to the conveying direction of the metal plate 111, and is arranged so that the hair tips abut on the etched surface (for example, the upper surface) of the metal plate 111. The brush 73 is made of resin or metal.

ストレーナ74は、洗浄液回収槽72と管によって接続されており、回収された洗浄水中の浮遊物を捕集するための装置である。ストレーナ74も、ストレーナ64と同様に一つでも複数でもよく、複数が独立して併設されていることが好ましい。   The strainer 74 is connected to the cleaning liquid recovery tank 72 by a pipe and is a device for collecting the suspended matter in the recovered cleaning water. As with the strainer 64, one or a plurality of strainers 74 may be provided, and it is preferable that a plurality of strainers 74 are provided independently.

新水供給管75は、洗浄水を新規に供給するための管である。ストレーナ74は、ノズル71と管によって接続されており、新水供給管75は、当該管に、ストレーナ74の下流側で接続されている。このように、洗浄装置70は、回収した洗浄水および新水の一方または両方を洗浄液として利用可能に構成されている。   The new water supply pipe 75 is a pipe for newly supplying cleaning water. The strainer 74 is connected to the nozzle 71 by a pipe, and the fresh water supply pipe 75 is connected to the pipe on the downstream side of the strainer 74. As described above, the cleaning device 70 is configured such that one or both of the recovered cleaning water and fresh water can be used as the cleaning liquid.

ラミネート装置80は、エッチングされた洗浄済みの金属板の表面に、傷付き防止用のフィルムを貼り合わせるための装置である。   The laminating apparatus 80 is an apparatus for attaching a film for preventing scratches to the surface of the etched metal plate that has been etched.

次に、エッチング金属板の製造装置100の作動状況を説明する。
金属板は、搬送装置10によって、例えば0.3〜5.0m/minの速度で搬送される。金属板は、所定の大きさを有する矩形の板であり、例えば、長さが2〜5mであり、幅が1〜1.5mであり、厚さが0.5〜3.0mmである。金属板の材料は、エッチング可能な公知の金属および合金から適宜に決めることが可能であり、例えばステンレス鋼である。
Next, the operation state of the etching metal plate manufacturing apparatus 100 will be described.
The metal plate is transported by the transport device 10 at a speed of, for example, 0.3 to 5.0 m / min. The metal plate is a rectangular plate having a predetermined size, for example, a length of 2 to 5 m, a width of 1 to 1.5 m, and a thickness of 0.5 to 3.0 mm. The material of the metal plate can be appropriately determined from known metals and alloys that can be etched, for example, stainless steel.

上記ステンレス鋼の例には、SUS304やSUS316などのオーステナイト系ステンレス鋼、SUS430やSUS444などのフェライト系ステンレス鋼、SUS410やSUS420などのマルテンサイト系ステンレス鋼、および、SUS631などの析出強化型ステンレス鋼、が含まれる。上記ステンレス鋼は、冷間圧延によって加工硬化されていてもよい。上記金属板の材料の他の例には、銅、炭素鋼および鉄−ニッケル系合金が含まれる。   Examples of the stainless steel include austenitic stainless steel such as SUS304 and SUS316, ferritic stainless steel such as SUS430 and SUS444, martensitic stainless steel such as SUS410 and SUS420, and precipitation strengthened stainless steel such as SUS631. Is included. The stainless steel may be work hardened by cold rolling. Other examples of the material of the metal plate include copper, carbon steel, and iron-nickel alloy.

金属板は、搬送装置10によって上記の速度で前処理装置20に搬送される。前処理装置20を通過している金属板の、エッチングされるべき表面(例えば上面)に、前処理装置20から下地処理液が塗布され、下地処理液が塗布された金属板は、前処理装置20の下流側の部分に配置されている乾燥装置によって乾燥される。下地処理液には、その目的に応じた公知の処理液を用いることができ、例えば、マスキング剤の密着性向上の目的であれば、下記組成の下地処理液が用いられる。金属板の上記乾燥における乾燥温度は、例えば金属板の温度で60〜80℃である。
水酸化ナトリウム 28質量部
炭酸ナトリウム 13質量部
水 59質量部
The metal plate is transported to the pretreatment device 20 by the transport device 10 at the above speed. The surface of the metal plate that has passed through the pretreatment device 20 is to be etched (for example, the upper surface). It is dried by a drying device arranged in a downstream portion of 20. As the ground treatment liquid, a known treatment liquid according to the purpose can be used. For example, for the purpose of improving the adhesion of the masking agent, a ground treatment liquid having the following composition is used. The drying temperature in the said drying of a metal plate is 60-80 degreeC in the temperature of a metal plate, for example.
Sodium hydroxide 28 parts by weight Sodium carbonate 13 parts by weight Water 59 parts by weight

前処理(下地処理)された金属板は、搬送装置10によってマスキング装置30に搬送される。当該金属板は、搬送ローラ303によって、搬送装置10上から印刷ステージ301の上流側の位置(図1の実線で示される位置)にある移動テーブル302上に搬送され、移動テーブル302のエアノズルからのエアの吸入により、移動テーブル302上に固定される。そして、例えば、移動テーブル302がX方向に沿って、上流側の位置から下流側の位置(図1の破線で示される位置)まで断続的に移動し、インクジェットノズル305がY方向に連続して走査しながら、金属板の上面におけるエッチングされない部分(エッチング時に保護されるべき部分)にマスキング剤を塗布する。   The pre-processed (base treatment) metal plate is transported to the masking device 30 by the transport device 10. The metal plate is transported by the transport roller 303 from the transport device 10 onto the moving table 302 at the upstream position of the printing stage 301 (the position indicated by the solid line in FIG. 1). It is fixed on the moving table 302 by inhaling air. For example, the moving table 302 moves intermittently from the upstream position to the downstream position (the position indicated by the broken line in FIG. 1) along the X direction, and the inkjet nozzle 305 continues in the Y direction. While scanning, a masking agent is applied to an unetched portion (a portion to be protected during etching) on the upper surface of the metal plate.

マスキング剤は、活性エネルギー線の照射によって硬化する性質を有し、インクジェットノズル305から吐出可能な液状の組成物である。上記マスキング剤には、特許文献1に記載のインクジェットインキ組成物が好適に用いられ、例えば、下記組成を有する。下記組成中、光重合開始剤1は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンであり、光重合開始剤2はビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイドである。
りん酸水素ビス[2−(メタクリロイルオキシ)エチル] 6.0質量部
りん酸二水素2−(メタクリロイルオキシ)エチル 5.0質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート 10.0質量部
ジメチルアクリルアミド 15.0質量部
イソボルニルアクリレート 44.5質量部
2−アクリロイルオキシエチルコハク酸 5.5質量部
光重合開始剤1 9.0質量部
光重合開始剤2 5.0質量部
The masking agent is a liquid composition that has a property of being cured by irradiation with active energy rays and can be discharged from the inkjet nozzle 305. As the masking agent, the ink-jet ink composition described in Patent Document 1 is suitably used, and has, for example, the following composition. In the following composition, photopolymerization initiator 1 is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and photopolymerization initiator 2 is bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide.
Bis [2- (methacryloyloxy) ethyl] hydrogen phosphate 6.0 parts by mass 2- (methacryloyloxy) ethyl dihydrogen phosphate 5.0 parts by mass Dipropylene glycol diacrylate 10.0 parts by mass Dimethylacrylamide 15.0 parts by mass Parts Isobornyl acrylate 44.5 parts by mass 2-acryloyloxyethyl succinic acid 5.5 parts by mass Photoinitiator 1 9.0 parts by mass Photoinitiator 2 5.0 parts by mass

Y方向の一端から他端に向けて金属板に対して相対的に移動しながらマスキング剤を吐出するインクジェットノズル305から、この往路における後方側のUVランプ306からUVが照射される。このため、金属板の表面に吐出されたマスキング剤が硬化する。Y方向の一端から他端に到達したインクジェットノズル305は、他端から一端に戻る。この復路では、当該復路における進行方向の後方側のUVランプ306からUVが照射され、金属板上のマスキング剤がさらに硬化する。こうして、マスキング剤が金属板に塗布され、所期の画像が印刷されていく。   UV is irradiated from the UV lamp 306 on the rear side in the forward path from the inkjet nozzle 305 that discharges the masking agent while moving relative to the metal plate from one end to the other end in the Y direction. For this reason, the masking agent discharged on the surface of the metal plate is cured. The inkjet nozzle 305 that has reached the other end from one end in the Y direction returns from the other end to the one end. In this return path, UV is irradiated from the UV lamp 306 on the rear side in the traveling direction in the return path, and the masking agent on the metal plate is further cured. Thus, the masking agent is applied to the metal plate, and the desired image is printed.

マスキング剤が塗布(印刷)された金属板は、上記下流側の位置に到着した移動テーブル302の上記エアノズルから搬送装置10に向けてのエアの噴出によって搬送ローラ303上に搬送され、搬送ローラ303によって搬送装置10上に搬送される。そして、上記金属板の上面には、搬送装置10によって搬送されながら、UVランプ307からUVが照射される。こうして、上記金属板の上面に印刷されたマスキング剤がさらに一層硬化し、印刷された形状の硬化膜が金属板の上面に作製される。   The metal plate coated (printed) with the masking agent is conveyed onto the conveying roller 303 by the ejection of air from the air nozzle of the moving table 302 that has arrived at the downstream position toward the conveying device 10, and the conveying roller 303. Is transferred onto the transfer device 10. The upper surface of the metal plate is irradiated with UV from the UV lamp 307 while being transported by the transport device 10. Thus, the masking agent printed on the upper surface of the metal plate is further cured, and a printed cured film is produced on the upper surface of the metal plate.

上記のようにしてマスキングされた金属板は、搬送装置10によって乾燥機35に搬送されて乾燥され、エッチング装置40に搬送される。当該金属板は、エッチング装置40において、搬送装置10によって上記の速度で搬送されながら、当該金属板の上面へ、まず塩酸が噴霧され、次いで塩化第2鉄の水溶液が噴霧される。こうして、上記金属板の上面における、マスキングされていない部分(上記硬化膜を有していない部分)がエッチングされる。そして、エッチング装置40の下流側の部分に配置された上記スマット除去装置によって、エッチング処理によって生じた上記金属板の上面上の固形物(スマット)が当該上面から除去される。エッチング処理は、例えば50〜80℃で行われる。   The metal plate masked as described above is transported to the dryer 35 by the transport device 10, dried, and transported to the etching device 40. While the metal plate is transported at the above speed by the transport device 10 in the etching apparatus 40, hydrochloric acid is first sprayed on the upper surface of the metal plate, and then an aqueous solution of ferric chloride is sprayed. In this way, the unmasked portion (portion not having the cured film) on the upper surface of the metal plate is etched. Then, the solid matter (smut) on the upper surface of the metal plate generated by the etching process is removed from the upper surface by the smut removing device arranged in the downstream portion of the etching device 40. The etching process is performed at 50 to 80 ° C., for example.

エッチング処理が施された金属板は、搬送装置10によって洗浄装置50に搬送される。洗浄装置50において、上記金属板は、搬送装置10によって上記の速度で搬送されながら、上記上面へ水が噴霧され、次いでエアナイフからエアが噴出されることによって上記上面上の水が吹き飛ばされる。こうして、上記金属板の上面が洗浄される。   The metal plate subjected to the etching process is transported to the cleaning device 50 by the transport device 10. In the cleaning device 50, the metal plate is sprayed to the upper surface while being transported at the above speed by the transport device 10, and then the water on the upper surface is blown off by ejecting air from an air knife. Thus, the upper surface of the metal plate is cleaned.

エッチング処理された上面が洗浄された金属板は、搬送装置10によってマスキング硬化膜除去装置60に搬送される。マスキング硬化膜除去装置60において、搬送装置10によって上記の速度で搬送されている金属板111の上面には、所望の温度(例えば50〜80℃)の膨潤液がノズル61から噴霧され、塗布される。   The etched metal plate whose upper surface has been cleaned is transported to the masking cured film removing device 60 by the transport device 10. In the masking cured film removing apparatus 60, a swelling liquid having a desired temperature (for example, 50 to 80 ° C.) is sprayed from the nozzle 61 and applied to the upper surface of the metal plate 111 being conveyed at the above speed by the conveying apparatus 10. The

上記膨潤液は、上記硬化膜を膨潤させることができる液である。たとえば、上記膨潤液は、上記硬化膜に浸透し、あるいは上記硬化膜と金属板の表面との界面に侵入し、上記硬化膜を上記金属板の表面から剥離させる液である。上記膨潤液は、上記硬化膜の組成に応じて適宜に選択され、例えば、マスキング剤の硬化性材料が上記の多官能(メタ)アクリル酸系の化合物を含む場合では、ベンジルアルコールを含有する液体であることが好ましく、例えば下記組成を有する。
ベンジルアルコール 35質量部
2,4−キシレンスルホン酸ナトリウム 15質量部
水 50質量部
The swelling liquid is a liquid that can swell the cured film. For example, the swelling liquid is a liquid that penetrates into the cured film or enters the interface between the cured film and the surface of the metal plate, and peels the cured film from the surface of the metal plate. The swelling liquid is appropriately selected according to the composition of the cured film. For example, when the curable material of the masking agent contains the polyfunctional (meth) acrylic acid compound, the liquid contains benzyl alcohol. For example, it has the following composition.
Benzyl alcohol 35 parts by weight Sodium 2,4-xylenesulfonate 15 parts by weight Water 50 parts by weight

上記膨潤液において、ベンジルアルコールは、主に、上記硬化膜に対する溶剤であり、膨潤液におけるベンジルアルコールの含有量は、25〜65質量%であることが好ましく、30〜40質量%であることがより好ましい。2,4−キシレンスルホン酸ナトリウムは、界面活性剤であり、当該界面活性剤は、主に、ベンジルアルコールの水への可溶化剤である。当該界面活性剤の他の例には、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルおよびステアリルトリメチルアンモニウムクロライドが含まれる。   In the swelling liquid, benzyl alcohol is mainly a solvent for the cured film, and the content of benzyl alcohol in the swelling liquid is preferably 25 to 65% by mass, and preferably 30 to 40% by mass. More preferred. Sodium 2,4-xylene sulfonate is a surfactant, and the surfactant is mainly a solubilizer of benzyl alcohol in water. Other examples of such surfactants include sodium dodecylbenzene sulfonate, polyoxyalkylene alkyl ether and stearyl trimethyl ammonium chloride.

上記膨潤液における上記界面活性剤の含有量は、3〜20質量%であることが好ましく、10〜20質量%であることがより好ましい。上記水は、上記膨潤液における液媒である。膨潤液における水の含有量は、20〜60質量%であることが好ましく、40〜55質量%であることがより好ましい。また、ベンジルアルコールに対する水の含有量比(質量比)は、0.3〜2.5であることが好ましく、1.2〜2.0であることがより好ましい。   The content of the surfactant in the swelling liquid is preferably 3 to 20% by mass, and more preferably 10 to 20% by mass. The water is a liquid medium in the swelling liquid. The content of water in the swelling liquid is preferably 20 to 60% by mass, and more preferably 40 to 55% by mass. Moreover, the content ratio (mass ratio) of water with respect to benzyl alcohol is preferably 0.3 to 2.5, and more preferably 1.2 to 2.0.

なお、上記膨潤液は、上記硬化膜の膨潤による除去が実現される範囲において、他の成分をさらに含有していてもよい。当該他の成分の例には、硬化膜の溶解に寄与しない程度(例えば1.0質量%未満)の苛性アルカリ、および、イソプロピルアルコールやブチルセロソルブなどのアルコール系溶剤、が含まれる。   In addition, the said swelling liquid may further contain the other component in the range in which the removal by the swelling of the said cured film is implement | achieved. Examples of the other components include caustic alkalis that do not contribute to dissolution of the cured film (for example, less than 1.0% by mass) and alcohol solvents such as isopropyl alcohol and butyl cellosolve.

なお、上記組成の膨潤液の温度は、70℃以下であることが好ましい。当該膨潤液の温度が70℃を超えると、水の蒸発速度が速くなり、膨潤液の組成が変化し、その結果、剥離性能の低下が懸念されるので好ましくない。   In addition, it is preferable that the temperature of the swelling liquid of the said composition is 70 degrees C or less. When the temperature of the swelling liquid exceeds 70 ° C., the evaporation rate of water is increased, the composition of the swelling liquid is changed, and as a result, there is a concern that the peeling performance is deteriorated, which is not preferable.

上記金属板の上面に塗布された膨潤液は、金属板がマスキング硬化膜除去装置60内を搬送されている間に、上記硬化膜を膨潤、剥離させ、そして硬化膜片とともに膨潤液回収槽62へ流れ落ちる。上記金属板のマスキング硬化膜除去装置60内における移動時間は、膨潤した硬化膜を金属板から十分に剥離させ、除去する観点から、0.5〜2.5分であることが好ましく、さらにエッチング金属板の生産性を高める観点から0.5〜2.0分であることがより好ましい。   The swelling liquid applied to the upper surface of the metal plate causes the cured film to swell and peel while the metal plate is transported through the masking cured film removing device 60, and the swelling liquid collecting tank 62 together with the cured film pieces. Flows down. The movement time of the metal plate in the masked cured film removing apparatus 60 is preferably 0.5 to 2.5 minutes from the viewpoint of sufficiently removing and removing the swollen cured film from the metal plate, and further etching. From the viewpoint of increasing the productivity of the metal plate, it is more preferably 0.5 to 2.0 minutes.

なお、剥離時間は、2分以内であることが、金属板を連続して定速で搬送しながらエッチングする上記の製造装置におけるマスキング硬化膜除去装置60の占有面積を適切な大きさに抑える観点から好ましい。   In addition, it is a viewpoint which suppresses the occupation area of the masking cured film removal apparatus 60 in said manufacturing apparatus which etches while conveying a metal plate continuously at a constant speed that it is less than 2 minutes to an appropriate size. To preferred.

膨潤液回収槽62に収容された膨潤液(回収液)は、上記液だまり部へ導かれ、回収液中の硬化膜片は、メッシュベルトコンベア63のメッシュベルトに掬い取られ、硬化膜片回収槽68に搬送され、収容される。上記硬化膜片が捕集された上記回収液は、膨潤液回収槽62からストレーナ64に送られ、当該回収液中の浮遊物(より微小な硬化膜片など)がストレーナ64に捕集される。液中の浮遊物が除去された回収液は、検査装置65によってその組成が検出され、調整槽66に収容される。こうして、回収液中に混在している上記硬化膜片などの固形物が当該回収液から除去される。   The swelling liquid (recovered liquid) accommodated in the swelling liquid recovery tank 62 is guided to the pool part, and the cured film pieces in the recovered liquid are scooped up by the mesh belt of the mesh belt conveyor 63 to recover the cured film pieces. It is conveyed to the tank 68 and accommodated. The recovered liquid in which the cured film pieces are collected is sent from the swelling liquid recovery tank 62 to the strainer 64, and suspended matters (such as finer cured film pieces) in the recovered liquid are collected in the strainer 64. . The composition of the recovered liquid from which the suspended matter in the liquid has been removed is detected by the inspection device 65 and stored in the adjustment tank 66. Thus, solids such as the cured film pieces mixed in the recovery liquid are removed from the recovery liquid.

調整槽66には、検査装置65で検出された回収液の組成に応じて、膨潤液の材料のうちの不足の材料が原液槽67から供給される。たとえば、上記組成の膨潤液には、通常は、蒸発して失われた水に相当する量の水が追加される。上記材料は、調整槽66で回収液と均一に混合し、また、調整槽66中の回収液の温度が所期の温度に調整される。こうして組成および温度が調整された回収液は、ノズル61に供給され、膨潤液として再利用される。なお、膨潤液の組成は、再利用を容易かつ確実に行う観点から、簡素であることがより好ましい。   In accordance with the composition of the recovered liquid detected by the inspection device 65, the adjustment tank 66 is supplied with insufficient material from the raw liquid tank 67 among the materials of the swelling liquid. For example, an amount of water corresponding to the water lost by evaporation is usually added to the swelling liquid having the above composition. The above material is uniformly mixed with the recovered liquid in the adjustment tank 66, and the temperature of the recovered liquid in the adjustment tank 66 is adjusted to a desired temperature. The recovered liquid whose composition and temperature are adjusted in this way is supplied to the nozzle 61 and reused as a swelling liquid. In addition, it is more preferable that the composition of the swelling liquid is simple from the viewpoint of easy and reliable reuse.

硬化膜が除去された金属板111は、搬送装置10によって洗浄装置70に搬送される。搬送装置10によって上記の速度で搬送されている金属板111のエッチング処理された表面(上面)には、洗浄液としての水がノズル71から噴霧され、また、上記上面は、回転駆動するブラシ73によって擦られる。よって、上記上面に残存する種々の残渣は、上記水とともに金属板111から洗浄液回収槽72へ流れ落ちる。こうして、金属板111の上面の当該残渣は、金属板111から洗い落とされる。   The metal plate 111 from which the cured film has been removed is transported to the cleaning device 70 by the transport device 10. Water as a cleaning liquid is sprayed from the nozzle 71 on the etched surface (upper surface) of the metal plate 111 conveyed at the above speed by the conveying device 10, and the upper surface is rotated by a brush 73 that is driven to rotate. Rubbed. Therefore, various residues remaining on the upper surface flow down from the metal plate 111 to the cleaning liquid recovery tank 72 together with the water. Thus, the residue on the upper surface of the metal plate 111 is washed away from the metal plate 111.

洗浄液回収槽72に回収された水は、ストレーナ74を通り、当該水中の浮遊物は、ストレーナ74によって捕集される。浮遊物が除去された水は、ノズル71に送られ、洗浄液として繰り返し使用される。   The water recovered in the cleaning liquid recovery tank 72 passes through the strainer 74, and the suspended matter in the water is collected by the strainer 74. The water from which the suspended matter is removed is sent to the nozzle 71 and repeatedly used as a cleaning liquid.

洗浄された金属板は、必要に応じて、例えば不図示のエアナイフ下に搬送され、金属板上面の不要な水が当該上面から除去される。こうして、所期の凹凸を有するようにエッチングされ、洗浄された金属板は、搬送装置10によってラミネート装置80に搬送される。   The cleaned metal plate is conveyed, for example, under an air knife (not shown) as necessary, and unnecessary water on the upper surface of the metal plate is removed from the upper surface. In this way, the metal plate etched and cleaned to have the desired unevenness is transported to the laminating apparatus 80 by the transport apparatus 10.

ラミネート装置80は、エッチングされた金属板の表面に、傷付き防止用のフィルムを貼り合わせる。ラミネート装置80を通過している金属板の上面には、当該フィルムが供給され、例えばローラによって密着し、カッターによって切断される。こうして、エッチング鋼板が製造される。   The laminating apparatus 80 bonds a film for preventing scratches to the surface of the etched metal plate. The film is supplied to the upper surface of the metal plate passing through the laminating apparatus 80, and is brought into close contact with, for example, a roller and cut with a cutter. Thus, an etched steel sheet is manufactured.

マスキング硬化膜除去装置60は、前述したように、マスキング剤の硬化膜を有する金属板の上記硬化膜を有する表面に、上記硬化膜を膨潤させる膨潤液を供給するための膨潤液供給装置と、上記膨潤液供給装置から上記表面に供給された上記膨潤液を回収して上記膨潤液供給装置へ再送するための膨潤液還流装置とを有する。このため、硬化膜中の成分の排水への溶出を防止することが可能である。よって、リンなどの排出規制のある成分を有する硬化膜を用いるエッチング鋼板の製造において、排水処理をより簡易に行うことが可能であり、当該排水処理のコストをより軽減することが可能である。   As described above, the masked cured film removing apparatus 60 is a swelling liquid supply apparatus for supplying a swelling liquid that swells the cured film to the surface of the metal plate having the cured film of the masking agent. A swelling liquid reflux apparatus for collecting the swelling liquid supplied to the surface from the swelling liquid supply apparatus and retransmitting the swelling liquid to the swelling liquid supply apparatus. For this reason, it is possible to prevent the elution to the waste_water | drain of the component in a cured film. Therefore, in manufacturing an etched steel sheet using a cured film having an emission-restricted component such as phosphorus, wastewater treatment can be performed more easily, and the wastewater treatment cost can be further reduced.

また、マスキング硬化膜除去装置60は、硬化膜を膨潤させて金属板の表面から除去することから、当該硬化膜中の成分の溶出による発泡を防止することが可能である。よって、当該成分の発泡による硬化膜除去の工程への影響が生じず、また、硬化膜除去後の排水を膨潤液として再利用することが可能となり、またより容易になる。   Moreover, since the masking cured film removal apparatus 60 swells and removes the cured film from the surface of the metal plate, it is possible to prevent foaming due to elution of components in the cured film. Therefore, there is no influence on the process of removing the cured film due to the foaming of the component, and the waste water after removing the cured film can be reused as the swelling liquid, and becomes easier.

また、マスキング硬化膜除去装置60は、回収された上記膨潤液の組成を検出し調整するための膨潤液調整装置をさらに有する。このため、再利用される膨潤液の性能が適切に維持され、排水処理の簡易化およびコスト削減の観点からより一層効果的である。   The masked cured film removing device 60 further includes a swelling liquid adjusting device for detecting and adjusting the composition of the recovered swelling liquid. For this reason, the performance of the reused swelling liquid is appropriately maintained, which is more effective from the viewpoint of simplification of waste water treatment and cost reduction.

また、マスキング硬化膜除去装置60は、上記回収液から、上記金属板から剥離した上記硬化膜片を除去するための硬化膜片除去装置をさらに有する。このため、膨潤液の再利用に伴うノズルの詰まりが防止され、膨潤液の再利用による生産性の低下を防止する観点からより一層効果的である。   Further, the masked cured film removing device 60 further includes a cured film piece removing device for removing the cured film piece peeled off from the metal plate from the recovered liquid. For this reason, the clogging of the nozzle accompanying the reuse of the swelling liquid is prevented, which is more effective from the viewpoint of preventing the productivity from being lowered due to the reuse of the swelling liquid.

また、上記硬化膜片除去装置は、メッシュベルトコンベア63およびストレーナ64を含む。よって、上記回収液は、2段以上のフィルターでろ過されることになる。このように、上記硬化膜片除去装置が二段以上のフィルターを有することは、上記回収液から硬化膜片を十分に除去し、回収液の再利用によるノズル61での目詰まりを防止する観点からより一層効果的である。   The cured film piece removing device includes a mesh belt conveyor 63 and a strainer 64. Therefore, the recovered liquid is filtered with two or more stages of filters. As described above, the cured film piece removing device having two or more filters sufficiently removes the cured film piece from the recovered liquid and prevents clogging at the nozzle 61 due to reuse of the recovered liquid. Is even more effective.

また、エッチング金属板の製造装置100は、前述したように、金属板の表面の保護されるべき部分にマスキング剤の硬化膜を作製するためのマスキング装置30と、上記硬化膜を有する上記金属板にエッチング処理を行うためのエッチング装置40と、エッチング処理された上記金属板から上記硬化膜を除去するためのマスキング硬化膜除去装置60とを有する。このため、前述したように、エッチング金属板の製造で生じる排水処理の負荷を軽減することが可能である。   In addition, as described above, the etching metal plate manufacturing apparatus 100 includes the masking device 30 for producing a cured film of a masking agent on a portion to be protected on the surface of the metal plate, and the metal plate having the cured film. And an etching apparatus 40 for performing an etching process, and a masking cured film removing apparatus 60 for removing the cured film from the etched metal plate. For this reason, as described above, it is possible to reduce the load of wastewater treatment that occurs in the production of the etched metal plate.

また、マスキング装置30は、上記金属板の表面の保護されるべき部分に上記マスキング剤を塗布するためのマスキング剤塗布装置と、上記金属板の表面における上記マスキング剤の塗膜に活性エネルギー線を照射して上記塗膜が硬化してなる上記硬化膜を作製するための活性エネルギー線照射装置とを含み、上記マスキング剤塗布装置は、上記マスキング剤の液滴を吐出して上記金属板の表面に上記塗膜を形成するための液滴吐出装置である。このため、所期の位置にマスキング剤を精細に塗布することが可能であり、また、マスキング剤の所期の位置への塗布によってマスキングが可能となることから、マスクを介しての光照射によるアルカリ可溶性樹脂のマスキングに比べて、精細なマスキングを簡易に行う観点からより一層効果的である。   Further, the masking device 30 applies active energy rays to the masking agent coating device for applying the masking agent to the portion to be protected on the surface of the metal plate, and to the coating film of the masking agent on the surface of the metal plate. An active energy ray irradiation device for producing the cured film formed by curing the coating film by irradiation, and the masking agent coating device ejects droplets of the masking agent to discharge the surface of the metal plate. And a droplet discharge device for forming the coating film. For this reason, it is possible to finely apply the masking agent to the intended position, and masking is possible by applying the masking agent to the intended position. Compared to alkali-soluble resin masking, it is more effective from the viewpoint of easily performing fine masking.

マスキング装置30は、搬送装置10に併設される。インクジェットノズル305は、通常、ノズルチェック機構を伴っており、インクジェットノズル305による金属板への塗布において、定期的にノズルチェックが行われる。当該ノズルチェック機構は、マスキング装置30における、架台304の下方の部分かつ移動テーブル302の移動経路以外の部分であれば、如何なる位置に配置されていてもよく、したがって、ノズルチェックのためのインクジェットノズル305の移動距離をより一層短くすることが可能となる。よって、マスキング装置30によれば、金属板を固定してインクジェットノズル305を走査させてマスキング剤を塗布する場合に比べて、マスキング剤の塗布時間を短縮することが可能であり、このような理由から、マスキング装置30は、エッチング金属板の生産性を高める観点からより一層効果的である。   The masking device 30 is attached to the transport device 10. The inkjet nozzle 305 is usually accompanied by a nozzle check mechanism, and the nozzle check is periodically performed when the inkjet nozzle 305 is applied to a metal plate. The nozzle check mechanism may be disposed at any position in the masking device 30 as long as it is a part below the gantry 304 and a part other than the moving path of the moving table 302. The moving distance of 305 can be further shortened. Therefore, according to the masking device 30, it is possible to shorten the coating time of the masking agent as compared with the case where the masking agent is applied by scanning the ink jet nozzle 305 while fixing the metal plate. Therefore, the masking device 30 is more effective from the viewpoint of increasing the productivity of the etched metal plate.

また、マスキング装置30は、金属板に対して相対的に移動するインクジェットノズル305の前方および後方のそれぞれに、金属板上のマスキング剤にUVを照射するためのUVランプ306を有することは、インクジェットノズル305の相対移動方向における往路および復路の両方で金属板上のマスキング剤にUVを照射することを可能にする。このため、マスキング剤が浸透しない金属板に、マスキング剤の液滴での液だれが防止された高精細な画像を形成し、エッチング精度を高める観点から有利である。   In addition, the masking device 30 includes UV lamps 306 for irradiating the masking agent on the metal plate on the front and rear sides of the inkjet nozzle 305 that moves relative to the metal plate. It is possible to irradiate the masking agent on the metal plate with UV in both the forward path and the backward path in the relative movement direction of the nozzle 305. For this reason, it is advantageous from the viewpoint of forming a high-definition image in which dripping of the masking agent droplets is prevented on a metal plate into which the masking agent does not permeate and improving the etching accuracy.

なお、UVランプ306のそれぞれおよびUVランプ307から照射されるUVの波長は、同じでも異なっていてもよい。また、インクジェットノズル305は、上記相対的な移動方向に反転するように回動自在に配置され、当該移動方向の一方にのみUVランプを有していてもよい。   In addition, the wavelength of UV irradiated from each of the UV lamps 306 and the UV lamp 307 may be the same or different. Moreover, the inkjet nozzle 305 may be rotatably arranged so as to be reversed in the relative movement direction, and may have a UV lamp only in one of the movement directions.

さらに、マスキング装置30は、インクジェットノズル305を金属板に対して相対的に移動させるために、インクジェットノズル305を移動可能に構成されているが、インクジェットノズル305をY方向における第1の位置に固定し、移動テーブル302をX方向に沿って移動させることによってマスキング剤を金属板に塗布することも可能である。   Further, the masking device 30 is configured to move the inkjet nozzle 305 in order to move the inkjet nozzle 305 relative to the metal plate, but the inkjet nozzle 305 is fixed at the first position in the Y direction. It is also possible to apply the masking agent to the metal plate by moving the moving table 302 along the X direction.

また、洗浄装置70は、金属板の搬送方向に沿って直列に二以上配置されていてもよい。複数配置される洗浄装置70は、金属板のエッチング部が洗浄される範囲において、同じであっても異なっていてもよい。たとえば、後段の洗浄装置70は、ブラシ73を有していなくてもよい。直列に配置される複数の洗浄装置70を有することは、エッチング処理された金属板を防錆処理前に十分に洗浄する観点からより効果的である。   Two or more cleaning devices 70 may be arranged in series along the conveying direction of the metal plate. A plurality of cleaning devices 70 may be the same or different as long as the etched portion of the metal plate is cleaned. For example, the subsequent cleaning device 70 does not have to include the brush 73. Having a plurality of cleaning devices 70 arranged in series is more effective from the viewpoint of sufficiently cleaning the etched metal plate before the rust prevention treatment.

上記エッチング金属板の製造装置およびマスキング硬化膜除去装置は、金属板をマスキングする硬化膜を実質的に溶解させずに膨潤させて金属板から除去するので、膨潤液や洗浄液などのプロセス液体の再利用が容易に可能であるとともに、プロセス排水の処理を大幅に軽減することができる。よって、エッチング金属板の生産性のさらなる向上と当該エッチング金属板のさらなる普及が期待される。   Since the etching metal plate manufacturing apparatus and the masked cured film removing apparatus swell and remove the cured film that masks the metal plate from the metal plate without substantially dissolving it, the process liquid such as the swelling liquid and the cleaning liquid can be recycled. It can be used easily, and the treatment of process wastewater can be greatly reduced. Therefore, the further improvement of the productivity of an etching metal plate and the further spread of the said etching metal plate are anticipated.

10 搬送装置
20 前処理装置
30 マスキング装置
35 乾燥機
40 エッチング装置
50、70 洗浄装置
60 マスキング硬化膜除去装置
61、71 ノズル
62 膨潤液回収槽
63 メッシュベルトコンベア
64、74 ストレーナ
65 検査装置
66 調整槽
67 原液槽
68 硬化膜片回収槽
72 洗浄水回収槽
73 ブラシ
75 新水供給管
80 ラミネート装置
100 エッチング金属板の製造装置
101 駆動ローラ
111 金属板
301 印刷ステージ
302 移動テーブル
303 搬送ローラ
304 架台
305 インクジェットノズル
306、307 UVランプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conveyance apparatus 20 Pre-processing apparatus 30 Masking apparatus 35 Dryer 40 Etching apparatus 50, 70 Cleaning apparatus 60 Masking cured film removal apparatus 61, 71 Nozzle 62 Swelling liquid collection tank 63 Mesh belt conveyor 64, 74 Strainer 65 Inspection apparatus 66 Adjustment tank 67 Stock solution tank 68 Cured film piece collection tank 72 Washing water collection tank 73 Brush 75 New water supply pipe 80 Laminating apparatus 100 Etching metal plate manufacturing apparatus 101 Drive roller 111 Metal plate 301 Printing stage 302 Moving table 303 Conveying roller 304 Base 305 Inkjet Nozzle 306, 307 UV lamp

Claims (5)

マスキング剤の硬化膜を有する金属板の前記硬化膜を有する表面に、前記硬化膜を膨潤させる膨潤液を供給するための膨潤液供給装置と、
前記膨潤液供給装置から前記表面に供給された前記膨潤液を回収して前記膨潤液供給装置へ再送するための膨潤液還流装置と、
を有する、マスキング硬化膜除去装置。
A swelling liquid supply device for supplying a swelling liquid for swelling the cured film to the surface of the metal plate having the cured film of the masking agent;
A swelling liquid reflux apparatus for recovering the swelling liquid supplied to the surface from the swelling liquid supply apparatus and retransmitting the swelling liquid to the swelling liquid supply apparatus;
An apparatus for removing a masked cured film.
回収された前記膨潤液の組成を検出し調整するための膨潤液調整装置をさらに有する、請求項1に記載のマスキング硬化膜除去装置。   The masking cured film removal apparatus of Claim 1 which further has a swelling liquid adjustment apparatus for detecting and adjusting the composition of the collect | recovered said swelling liquid. 回収される前記膨潤液から、前記金属板から剥離した硬化膜片を除去するための硬化膜片除去装置をさらに有する、請求項1または2に記載のマスキング硬化膜除去装置。   The masking cured film removal apparatus of Claim 1 or 2 which further has a cured film piece removal apparatus for removing the cured film piece peeled from the said metal plate from the said swelling liquid collect | recovered. 金属板の表面の保護されるべき部分にマスキング剤の硬化膜を作製するためのマスキング装置と、
前記硬化膜を有する前記金属板にエッチング処理を行うためのエッチング装置と、
エッチング処理された前記金属板から前記硬化膜を除去するための、請求項1〜3のいずれか一項に記載のマスキング硬化膜除去装置と、
を有する、エッチング金属板の製造装置。
A masking device for producing a cured film of a masking agent on the portion of the surface of the metal plate to be protected;
An etching apparatus for performing an etching process on the metal plate having the cured film;
The masked cured film removing apparatus according to any one of claims 1 to 3, for removing the cured film from the etched metal plate,
An apparatus for manufacturing an etched metal plate.
前記マスキング装置は、
前記金属板の表面の保護されるべき部分に前記マスキング剤を塗布するためのマスキング剤塗布装置と、
前記金属板の表面における前記マスキング剤の塗膜に活性エネルギー線を照射して前記塗膜が硬化してなる前記硬化膜を作製するための活性エネルギー線照射装置と、
を含み、
前記マスキング剤塗布装置は、前記マスキング剤の液滴を吐出して前記金属板の表面に前記塗膜を形成するための液滴吐出装置である、
請求項4に記載のエッチング金属板の製造装置。
The masking device is
A masking agent application device for applying the masking agent to a portion of the surface of the metal plate to be protected;
An active energy ray irradiation device for producing the cured film formed by irradiating the coating film of the masking agent on the surface of the metal plate with an active energy ray and curing the coating film;
Including
The masking agent coating device is a droplet discharging device for discharging the masking agent droplets to form the coating film on the surface of the metal plate.
The manufacturing apparatus of the etching metal plate of Claim 4.
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02219228A (en) * 1989-02-20 1990-08-31 Tsurumi Kogyo Kk Washing apparatus
JPH06146020A (en) * 1992-11-06 1994-05-27 Nagai Seiyakushiyo:Kk Capability maintaining method for etching solution, reproducing method, and capability maintaining and reproducing method
JPH08141481A (en) * 1994-11-25 1996-06-04 Canon Inc Processing liquid circulating device
JPH10154866A (en) * 1996-11-21 1998-06-09 Sumitomo Kinzoku Electro Device:Kk Production of ceramic circuit board
JPH11319807A (en) * 1998-05-19 1999-11-24 Hitoshi Koshiba Device for recovering contaminant in liquid
JP2004115699A (en) * 2002-09-27 2004-04-15 Nitta Tsuneo Method of gelatinization and volume-reduction treatment of foamed polystyrene waste, and apparatus therefor
JP2004325502A (en) * 2003-04-21 2004-11-18 Tokyo Kakoki Kk Resist recovering apparatus
JP2006300994A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Tokyo Kakoki Kk Resist recovering apparatus
JP2009235272A (en) * 2008-03-27 2009-10-15 Nisshin Steel Co Ltd Inkjet ink composition for etching resist
JP2011200763A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Nisshin Steel Co Ltd Method for manufacturing metal plate masked with resin coating by active energy ray-curing type inkjet ink
JP2014025142A (en) * 2012-06-19 2014-02-06 Je International Corp Mask agent and method for producing surface-treated base material
JP2014115356A (en) * 2012-12-07 2014-06-26 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate treatment apparatus
JP2015127765A (en) * 2013-12-27 2015-07-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 Apparatus for maintaining composition ratio of resist stripping solution, and method for maintaining composition ratio of resist stripping solution

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02219228A (en) * 1989-02-20 1990-08-31 Tsurumi Kogyo Kk Washing apparatus
JPH06146020A (en) * 1992-11-06 1994-05-27 Nagai Seiyakushiyo:Kk Capability maintaining method for etching solution, reproducing method, and capability maintaining and reproducing method
JPH08141481A (en) * 1994-11-25 1996-06-04 Canon Inc Processing liquid circulating device
JPH10154866A (en) * 1996-11-21 1998-06-09 Sumitomo Kinzoku Electro Device:Kk Production of ceramic circuit board
JPH11319807A (en) * 1998-05-19 1999-11-24 Hitoshi Koshiba Device for recovering contaminant in liquid
JP2004115699A (en) * 2002-09-27 2004-04-15 Nitta Tsuneo Method of gelatinization and volume-reduction treatment of foamed polystyrene waste, and apparatus therefor
JP2004325502A (en) * 2003-04-21 2004-11-18 Tokyo Kakoki Kk Resist recovering apparatus
JP2006300994A (en) * 2005-04-15 2006-11-02 Tokyo Kakoki Kk Resist recovering apparatus
JP2009235272A (en) * 2008-03-27 2009-10-15 Nisshin Steel Co Ltd Inkjet ink composition for etching resist
JP2011200763A (en) * 2010-03-24 2011-10-13 Nisshin Steel Co Ltd Method for manufacturing metal plate masked with resin coating by active energy ray-curing type inkjet ink
JP2014025142A (en) * 2012-06-19 2014-02-06 Je International Corp Mask agent and method for producing surface-treated base material
US20150225570A1 (en) * 2012-09-10 2015-08-13 Je International Corporation Masking agent, and method for producing surface-treated base
JP2014115356A (en) * 2012-12-07 2014-06-26 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate treatment apparatus
JP2015127765A (en) * 2013-12-27 2015-07-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 Apparatus for maintaining composition ratio of resist stripping solution, and method for maintaining composition ratio of resist stripping solution

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