JP2017042989A - Optical laminate - Google Patents

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毅 村重
Takeshi Murashige
毅 村重
稲垣 淳一
Junichi Inagaki
淳一 稲垣
細川 和人
Kazuto Hosokawa
和人 細川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical laminate that can contribute to an improvement in impact resistance and a reduction in the weight of a display device.SOLUTION: The optical laminate is provided with a thin glass having a thickness of 100 μm or less, and a conductive film disposed on one side of the thin glass. The conductive film contains a substrate and a conductive layer that is disposed on one side of the substrate. In one embodiment of the invention, the optical laminate is further provided with an adhesive layer between the thin glass and the conductive film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学積層体に関する。より詳細には、導電フィルムを含む光学積層体に関する。   The present invention relates to an optical laminate. More specifically, the present invention relates to an optical laminate including a conductive film.

近年、スマートフォン、タブレットPC等の情報端末が広く使用されている。多くの場合、これら機器の最表面側には、表示装置を保護するための保護材が配置されている。持ち歩いたり、手に持って操作したりすることの多い上記機器に備えられる表示装置は、軽量化、耐衝撃性向上に対する要求が年々高まっており、当該要求に応え得る保護材が求められている。また、表示装置全体を軽量化する観点から、保護機能とその他の機能とを兼ね備える薄型の保護材が求められている。   In recent years, information terminals such as smartphones and tablet PCs are widely used. In many cases, a protective material for protecting the display device is disposed on the outermost surface side of these devices. The display devices provided in the above-mentioned devices that are often carried around or operated by hand are increasingly required to reduce weight and improve impact resistance, and a protective material capable of meeting the requirements is required. . Further, from the viewpoint of reducing the weight of the entire display device, a thin protective material having both a protective function and other functions is required.

保護材としては、ガラス板やプラスチック板が使用されている(例えば、特許文献1)。ガラス板には、通常のガラスよりも強度を増した強化ガラスが使用されている。ガラス板は耐衝撃性、硬度に優れているものの、比重が高く重いという問題がある。また、軽量化のため、ガラス材を薄くすると、耐衝撃性が顕著に低下するという問題がある。プラスチック板には、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネートのような透明性に優れ、強度の強い材料が使用され得る。プラスチック板は、ガラス板よりも軽量であるものの、プラスチック板を用いた場合、保護材として要求される耐衝撃性と硬度とを両立させることが難しい。   As the protective material, a glass plate or a plastic plate is used (for example, Patent Document 1). As the glass plate, tempered glass having higher strength than normal glass is used. Although glass plates are excellent in impact resistance and hardness, there is a problem that the specific gravity is high and heavy. In addition, when the glass material is made thin for weight reduction, there is a problem that impact resistance is remarkably lowered. For the plastic plate, a material having excellent transparency such as polymethyl methacrylate and polycarbonate can be used. Although a plastic plate is lighter than a glass plate, when a plastic plate is used, it is difficult to achieve both impact resistance and hardness required as a protective material.

特開2010−164938号公報JP 2010-164938

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、表示装置の軽量化、および耐衝撃性向上に寄与し得る光学積層体を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide an optical laminate that can contribute to weight reduction of the display device and improvement in impact resistance.

本発明の光学積層体は、厚みが100μm以下の薄ガラスと、該薄ガラスの一方の側に配置される導電フィルムとを備え、該導電フィルムが、基材と、該基材の一方の側に配置される導電層とを含む。
1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は、上記薄ガラスと上記導電フィルムとの間に、接着層をさらに備える。
1つの実施形態においては、上記接着層が、エポキシ系樹脂を含む。
1つの実施形態においては、上記基材の23℃における弾性率が、1.5GPa〜10GPaである。
1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は、反射防止層をさらに備え、該反射防止層が、上記薄ガラスの前記導電フィルムとは反対側に配置される。
The optical laminate of the present invention comprises a thin glass having a thickness of 100 μm or less and a conductive film disposed on one side of the thin glass, the conductive film comprising a base material and one side of the base material And a conductive layer.
In one embodiment, the optical layered body of the present invention further includes an adhesive layer between the thin glass and the conductive film.
In one embodiment, the adhesive layer includes an epoxy resin.
In one embodiment, the elastic modulus at 23 ° C. of the base material is 1.5 GPa to 10 GPa.
In one embodiment, the optical layered body of the present invention further includes an antireflection layer, and the antireflection layer is disposed on the opposite side of the thin glass from the conductive film.

本発明によれば、導電フィルムを有する光学積層体であって、軽量、高硬度、かつ耐衝撃性に優れる光学積層体を提供することができる。本発明の光学積層体は、表示装置の前面板として好適に用いられ得、導電性を発現しつつ、表示装置の軽量化、および耐衝撃性向上に寄与し得る。また、本発明の光学積層体は、可撓性に優れるため、ロールの形態で提供され得、取り扱い性にも優れる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is an optical laminated body which has an electroconductive film, Comprising: The optical laminated body excellent in lightweight, high hardness, and impact resistance can be provided. The optical layered body of the present invention can be suitably used as a front plate of a display device, and can contribute to weight reduction of the display device and improvement in impact resistance while exhibiting conductivity. Moreover, since the optical laminated body of this invention is excellent in flexibility, it can be provided with the form of a roll and is excellent also in handleability.

本発明のひとつの実施形態による光学積層体の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the optical laminated body by one Embodiment of this invention.

A.光学積層体の全体構成
図1は、本発明のひとつの実施形態による光学積層体の概略断面図である。この光学積層体100は、厚みが100μm以下の薄ガラス10と、薄ガラス10の一方の側に配置される導電フィルム20とを備える。導電フィルム20は、基材21と基材21の一方の側に形成された導電層22とを含む。好ましくは、薄ガラス10と導電フィルム20とは接着層30を介して積層される。1つの実施形態においては、図示例のように、導電層22と薄ガラス10とが、接着層30を介して積層される。別の実施形態においては、基材と薄ガラスとが、接着層を介して積層される。
A. Overall configuration diagram 1 of the optical stack is a schematic sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention. The optical laminated body 100 includes a thin glass 10 having a thickness of 100 μm or less and a conductive film 20 disposed on one side of the thin glass 10. The conductive film 20 includes a base material 21 and a conductive layer 22 formed on one side of the base material 21. Preferably, the thin glass 10 and the conductive film 20 are laminated via the adhesive layer 30. In one embodiment, the conductive layer 22 and the thin glass 10 are laminated via the adhesive layer 30 as in the illustrated example. In another embodiment, the substrate and the thin glass are laminated via an adhesive layer.

本発明の光学積層体は、薄ガラスを備えるため、硬度が高い。また、本発明の光学積層体は、薄ガラスの一方の側に導電フィルムを備えることにより、薄ガラスの破損が防止され得、耐衝撃性に優れる。本発明においては、薄ガラスの表面(導電フィルムとは反対側の面)に与えられた衝撃を、導電フィルム側に有効に逃がすことができるため、上記のように耐衝撃性に優れると考えられる。このような効果は、導電フィルムが基材を有していたり、薄ガラスと導電フィルムとを接着層を介して積層したりすることにより顕著となる。さらに、薄ガラスが破損し難いことから、薄ガラスの厚みを非常に薄くすることができ、その結果、軽量な光学積層体を得ることができる。このように、耐衝撃性に優れ、軽量であり、かつ、硬度が高い光学積層体は、モバイル用途の画像表示装置の前面板として好適に用いられ得る。なお、本発明の光学積層体を前面板として用いる場合、薄ガラス側を外側(すなわち、視認側)にして配置することが好ましい。   Since the optical layered body of the present invention includes thin glass, the hardness is high. Moreover, the optical layered body of the present invention is provided with a conductive film on one side of the thin glass, whereby breakage of the thin glass can be prevented and the impact resistance is excellent. In the present invention, the impact applied to the surface of the thin glass (the surface opposite to the conductive film) can be effectively released to the conductive film side, so that it is considered to have excellent impact resistance as described above. . Such an effect becomes prominent when the conductive film has a base material or when thin glass and a conductive film are laminated via an adhesive layer. Furthermore, since the thin glass is difficult to break, the thickness of the thin glass can be made very thin, and as a result, a lightweight optical laminate can be obtained. As described above, the optical laminate having excellent impact resistance, light weight, and high hardness can be suitably used as a front plate of an image display device for mobile use. In addition, when using the optical laminated body of this invention as a front plate, it is preferable to arrange | position with the thin glass side being the outside (namely, visual recognition side).

さらに、薄ガラスは、導電フィルムの導電層または基材を保護する機能を有し、例えば、これらの部材に耐擦傷性等を付与し得る。すなわち、本発明においては、薄ガラスと導電フィルムとがそれぞれ互いを保護する。そのため、保護用部材を減らすことが可能となり、軽量かつ薄型の光学積層体を得ることができる。また、薄ガラスはガスバリア性が高く、薄ガラスが導電フィルムを保護するように構成された本発明の光学積層体は、ガスバリアフィルムとしての機能も発揮し得る。   Further, the thin glass has a function of protecting the conductive layer or the substrate of the conductive film, and can impart, for example, scratch resistance to these members. That is, in the present invention, the thin glass and the conductive film protect each other. Therefore, it is possible to reduce the number of protective members, and a lightweight and thin optical laminate can be obtained. Moreover, thin glass has high gas barrier properties, and the optical laminate of the present invention configured such that the thin glass protects the conductive film can also function as a gas barrier film.

本発明の光学積層体の厚みは、好ましくは1μm〜300μmであり、さらに好ましくは10μm〜200μmであり、より好ましくは20μm〜150μmである。   The thickness of the optical layered body of the present invention is preferably 1 μm to 300 μm, more preferably 10 μm to 200 μm, and more preferably 20 μm to 150 μm.

本発明の光学積層体は、その他の層をさらに備え得る。その他の層としては、例えば、反射防止層、防眩層、帯電防止層、光学機能層等が挙げられる。また、上記導電フィルムとガラスの間には部分的に加飾層が設けられていても良い。加飾層は導電フィルムの外枠に金属配線などを設けた際に目隠しの役割を果たす。加飾層を設けたフィルムが薄ガラスと導電フィルムの間に積層されても良い。また、上記導電フィルムの薄ガラスとは反対側の面に、任意の適切な粘着剤層を設けてもよい。粘着剤層を備える光学積層体においては、粘着剤層の表面にセパレーターが配置されていてもよい。該セパレーターは、光学積層体が実用に供されるまで、粘着剤層を保護し得る。   The optical layered body of the present invention may further include other layers. Examples of other layers include an antireflection layer, an antiglare layer, an antistatic layer, and an optical functional layer. A decorative layer may be partially provided between the conductive film and the glass. The decorative layer plays the role of blindfold when a metal wiring or the like is provided on the outer frame of the conductive film. A film provided with a decorative layer may be laminated between the thin glass and the conductive film. Moreover, you may provide arbitrary appropriate adhesive layers in the surface on the opposite side to the thin glass of the said conductive film. In an optical layered product provided with an adhesive layer, a separator may be arranged on the surface of the adhesive layer. The separator can protect the pressure-sensitive adhesive layer until the optical laminate is put into practical use.

1つの実施形態においては、本発明の光学積層体は、ロール形態で提供される。高硬度でありながら、ロール状に巻取り可能なほどに可撓性を有する光学積層体を提供し得ることは、本発明の成果のひとつである。   In one embodiment, the optical laminate of the present invention is provided in roll form. It is one of the achievements of the present invention to provide an optical layered body that has high hardness and is flexible enough to be wound into a roll.

B.薄ガラス
上記薄ガラスは、板状のものであれば、任意の適切なものが採用され得る。上記薄ガラスは、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。上記ガラスのアルカリ金属成分(例えば、NaO、KO、LiO)の含有量は、好ましくは15重量%以下であり、さらに好ましくは10重量%以下である。
B. Thin glass As long as the said thin glass is a plate-shaped thing, arbitrary appropriate things may be employ | adopted. Examples of the thin glass include soda-lime glass, borate glass, aluminosilicate glass, and quartz glass according to the classification according to the composition. Moreover, according to the classification | category by an alkali component, an alkali free glass and a low alkali glass are mentioned. The content of alkali metal components (for example, Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) in the glass is preferably 15% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less.

上記薄ガラスの厚みは100μm以下であり、好ましくは80μm以下であり、より好ましくは50μm以下であり、さらに好ましくは40μm以下であり、特に好ましくは35μm以下である。上記薄ガラスの厚みの下限は、好ましくは5μm以上であり、より好ましくは20μm以上である。   The thin glass has a thickness of 100 μm or less, preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less, still more preferably 40 μm or less, and particularly preferably 35 μm or less. The minimum of the thickness of the said thin glass becomes like this. Preferably it is 5 micrometers or more, More preferably, it is 20 micrometers or more.

上記薄ガラスの波長550nmにおける光透過率は、好ましくは85%以上である。上記薄ガラスの波長550nmにおける屈折率は、好ましくは1.4〜1.65である。   The light transmittance of the thin glass at a wavelength of 550 nm is preferably 85% or more. The refractive index of the thin glass at a wavelength of 550 nm is preferably 1.4 to 1.65.

上記薄ガラスの密度は、好ましくは2.3g/cm〜3.0g/cmであり、さらに好ましくは2.3g/cm〜2.7g/cmである。上記範囲の薄ガラスであれば、軽量の光学積層体が得られる。 The density of the thin glass is preferably 2.3g / cm 3 ~3.0g / cm 3 , more preferably from 2.3g / cm 3 ~2.7g / cm 3 . If it is thin glass of the said range, a lightweight optical laminated body will be obtained.

上記薄ガラスの成形方法は、任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、上記薄ガラスは、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、1400℃〜1600℃の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。上記薄ガラスの成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらの方法によって板状に成形された薄ガラスは、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学研磨されてもよい。   Arbitrary appropriate methods may be employ | adopted for the shaping | molding method of the said thin glass. Typically, the above thin glass is a mixture of a main raw material such as silica or alumina, an antifoaming agent such as sodium nitrate or antimony oxide, and a reducing agent such as carbon at a temperature of 1400 ° C to 1600 ° C. Then, after forming into a thin plate shape, it is produced by cooling. Examples of the method for forming the thin glass include a slot down draw method, a fusion method, and a float method. The thin glass formed into a plate shape by these methods may be chemically polished with a solvent such as hydrofluoric acid, if necessary, in order to reduce the thickness or improve the smoothness.

上記薄ガラスは、市販のものをそのまま用いてもよく、あるいは、市販の薄ガラスを所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販の薄ガラスとしては、例えば、コーニング社製「7059」、「1737」または「EAGLE2000」、旭硝子社製「AN100」、NHテクノグラス社製「NA−35」、日本電気硝子社製「OA−10」、ショット社製「D263」または「AF45」等が挙げられる。   As the thin glass, a commercially available one may be used as it is, or a commercially available thin glass may be polished to have a desired thickness. Examples of commercially available thin glass include “7059”, “1737” or “EAGLE 2000” manufactured by Corning, “AN100” manufactured by Asahi Glass, “NA-35” manufactured by NH Techno Glass, and “OA-” manufactured by Nippon Electric Glass. 10 ”,“ D263 ”or“ AF45 ”manufactured by Schott Corporation.

C.導電フィルム
上記導電フィルムは、例えば、任意の適切な成膜方法(例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、スプレー法等)により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。
C. Conductive film The conductive film can be formed on any suitable base material by any suitable film formation method (for example, vacuum deposition method, sputtering method, CVD method, ion plating method, spray method, etc.). It can be formed by forming an oxide film.

金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物(ITO)である。   Examples of the metal oxide include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, and indium-zinc composite oxide. Of these, indium-tin composite oxide (ITO) is preferable.

上記導電層の厚みは、好ましくは100nm以下であり、より好ましくは50nm以下であり、さらに好ましくは35nm以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは10nmである。   The thickness of the conductive layer is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and further preferably 35 nm or less. The lower limit of the thickness of the conductive layer is preferably 10 nm.

上記基材は、任意の適切な樹脂から構成される。上記基材を構成する樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱または活性エネルギー線により硬化する硬化性樹脂等が挙げられる。好ましくは、熱可塑性樹脂である。熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくはポリ(メタ)クリレート系樹脂であり、より好ましくはポリメタクリレート系樹脂であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート系樹脂である。樹脂フィルムがポリメチルメタクリレート系樹脂を含んでいれば、薄ガラスを保護する効果が高まる。   The base material is composed of any appropriate resin. As resin which comprises the said base material, the curable resin etc. which harden | cure with a thermoplastic resin and a heat | fever or an active energy ray etc. are mentioned, for example. A thermoplastic resin is preferable. Specific examples of thermoplastic resins include poly (meth) acrylate resins, polycarbonate resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polyamide resins, polyethylene terephthalate resins, polyarylate resins, polyimide resins. , Polysulfone resins, cycloolefin resins and the like. Of these, poly (meth) acrylate resins are preferred, polymethacrylate resins are more preferred, and polymethyl methacrylate resins are particularly preferred. If the resin film contains a polymethyl methacrylate resin, the effect of protecting the thin glass is enhanced.

上記基材の23℃における弾性率は、好ましくは1.5GPa〜10GPaであり、より好ましくは1.8GPa〜9GPaである。このような範囲であれば、上記薄ガラスを有効に保護し得る導電フィルムを得ることができる。なお、本発明における弾性率は、動的粘弾性スペクトル測定により、測定することができる。   The elastic modulus at 23 ° C. of the base material is preferably 1.5 GPa to 10 GPa, more preferably 1.8 GPa to 9 GPa. If it is such a range, the conductive film which can protect the said thin glass effectively can be obtained. The elastic modulus in the present invention can be measured by dynamic viscoelastic spectrum measurement.

上記基材の25℃における破壊靭性値は、1.5MPa・m1/2〜10MPa・m1/2であり、好ましくは2MPa・m1/2〜6MPa・m1/2であり、さらに好ましくは2MPa・m1/2〜5MPa・m1/2である。上記基材の破壊靭性値がこのような範囲であれば、保護フィルムは、十分な粘り強さを有するので、上記薄ガラスを補強して薄ガラスのクラックの進展および破断を防ぎ、屈曲性に優れる光学積層体を得ることができる。 Fracture toughness value at 25 ° C. of the substrate is 1.5MPa · m 1/2 ~10MPa · m 1/2 , and preferably from 2MPa · m 1/2 ~6MPa · m 1/2 , more preferably is a 2MPa · m 1/2 ~5MPa · m 1/2 . If the fracture toughness value of the substrate is within such a range, the protective film has sufficient tenacity, so that the thin glass is reinforced to prevent the cracks and breakage of the thin glass and to have excellent flexibility. An optical laminate can be obtained.

上記基材の線膨張係数は、好ましくは0/℃より大きく、より好ましくは1.0×10−6/℃〜10×10−6/℃であり、さらに好ましくは4.0×10−6/℃〜50×10−6/℃である。なお、線膨張係数は、JIS K 7197に準じて求められる。 The linear expansion coefficient of the base material is preferably greater than 0 / ° C., more preferably 1.0 × 10 −6 / ° C. to 10 × 10 −6 / ° C., and even more preferably 4.0 × 10 −6. / ° C. to 50 × 10 −6 / ° C. In addition, a linear expansion coefficient is calculated | required according to JISK7197.

上記基材の厚みは、好ましくは10μm〜500μmであり、より好ましくは、50μm〜250μmである。   The thickness of the substrate is preferably 10 μm to 500 μm, and more preferably 50 μm to 250 μm.

上記導電層は、エッチング法や印刷等によりパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。このようなパターン化のためのパターニング方法としては、本発明の効果を損なわない範囲で任意の適切な方法を採用し得る。このようなパターニング方法としては、例えば、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。   The conductive layer can be patterned by an etching method, printing, or the like. By conducting the patterning, a conductive portion and an insulating portion can be formed. As a patterning method for such patterning, any appropriate method can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a patterning method include a wet etching method and a screen printing method.

ウエットエッチング法としては、任意の適切な方法が採用され得る。ウエットエッチング法の具体的な操作としては、例えば、US2011/0253668A号公報に記載の操作が挙げられる。この公報は、本明細書に参考として援用される。   Any appropriate method can be adopted as the wet etching method. Specific operations of the wet etching method include, for example, operations described in US2011 / 0253668A. This publication is incorporated herein by reference.

ウエットエッチング法に用いるマスクは、所望とする導電パターンに応じて、任意の適切な形状にて形成され得る。エッチング処理後、マスクが形成されている領域が導通部となり、マスクが形成されていない領域が絶縁部となる。該マスクは、例えば、感光性樹脂等から構成される。該マスクを形成する方法としては、例えば、スクリーン印刷法等が挙げられる。   The mask used in the wet etching method can be formed in any appropriate shape depending on a desired conductive pattern. After the etching process, a region where the mask is formed becomes a conductive portion, and a region where the mask is not formed becomes an insulating portion. The mask is made of, for example, a photosensitive resin. Examples of a method for forming the mask include a screen printing method.

マスクを形成した後、例えば、導電フィルムをエッチング液に浸漬させて、エッチング処理を行う。エッチング液の具体例としては、例えば、硝酸、リン酸、酢酸、塩酸、およびこれらの混合液等が挙げられる。エッチング処理の後、常法にてマスクを除去する。   After the mask is formed, for example, the conductive film is immersed in an etchant and an etching process is performed. Specific examples of the etching solution include nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, hydrochloric acid, and a mixed solution thereof. After the etching process, the mask is removed by a conventional method.

スクリーン印刷法においては、例えば、所望の導電パターンに応じて、選択的に、導通部形成用材料を塗工して導通部が形成される。一方、絶縁部は、導通部が形成される以外の領域に、絶縁部形成用材料を塗工して形成される。この実施形態においては、導通部と絶縁部とが、同じ樹脂から構成された樹脂マトリクスを含んでいてもよく、互いに異なる樹脂から構成された樹脂マトリクスを含んでいてもよい。   In the screen printing method, for example, according to a desired conductive pattern, a conductive part forming material is selectively applied to form a conductive part. On the other hand, the insulating part is formed by applying an insulating part forming material to a region other than the conductive part. In this embodiment, the conducting part and the insulating part may include a resin matrix made of the same resin, or may contain a resin matrix made of different resins.

D.その他の層
D−1.樹脂フィルム
本発明の光学積層体は、上記薄ガラスの導電フィルムとは反対側に、樹脂フィルムをさらに備えていてもよい。1つの実施形態においては、樹脂フィルムは、剥離可能に(例えば、任意の適切な粘着剤層を介して)積層され、本発明の光学積層体が使用に供されるまで薄ガラスを保護する。
D. Other layers D-1. Resin Film The optical laminate of the present invention may further comprise a resin film on the side opposite to the thin glass conductive film. In one embodiment, the resin film is releasably laminated (eg, via any suitable adhesive layer) to protect the thin glass until the optical laminate of the present invention is ready for use.

上記樹脂フィルムを構成する材料は、任意の適切な樹脂が採用され得る。上記樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱または活性エネルギー線により硬化する硬化性樹脂等が挙げられる。好ましくは、熱可塑性樹脂である。熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリサルフォン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくはポリ(メタ)クリレート系樹脂であり、より好ましくはポリメタクリレート系樹脂であり、特に好ましくはポリメチルメタクリレート系樹脂である。樹脂フィルムがポリメチルメタクリレート系樹脂を含んでいれば、薄ガラスを保護する効果が高まり、例えば、先端の尖った落下物に対してもキズ、穴等の発生を防止することができる。   Arbitrary appropriate resin may be employ | adopted for the material which comprises the said resin film. Examples of the resin include thermoplastic resins and curable resins that are cured by heat or active energy rays. A thermoplastic resin is preferable. Specific examples of thermoplastic resins include poly (meth) acrylate resins, polycarbonate resins, polyethylene resins, polypropylene resins, polystyrene resins, polyamide resins, polyethylene terephthalate resins, polyarylate resins, polyimide resins. , Polysulfone resins, cycloolefin resins and the like. Of these, poly (meth) acrylate resins are preferred, polymethacrylate resins are more preferred, and polymethyl methacrylate resins are particularly preferred. If the resin film contains a polymethylmethacrylate resin, the effect of protecting the thin glass is enhanced. For example, it is possible to prevent the occurrence of scratches, holes, etc. even on a falling object with a sharp tip.

上記樹脂フィルムの厚みは、好ましくは20μm〜1900μmであり、さらに好ましくは50μm〜1500μmであり、より好ましくは50μm〜1000μmであり、特に好ましくは50μm〜100μmである。   The thickness of the resin film is preferably 20 μm to 1900 μm, more preferably 50 μm to 1500 μm, more preferably 50 μm to 1000 μm, and particularly preferably 50 μm to 100 μm.

上記樹脂フィルムの比重は、0.9g/cm〜1.5g/cmであり、好ましくは1g/cm〜1.3g/cmである。 The specific gravity of the resin film is 0.9g / cm 3 ~1.5g / cm 3 , preferably from 1g / cm 3 ~1.3g / cm 3 .

上記樹脂フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。樹脂フィルム中の添加剤としては、例えば、希釈剤、老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤、柔軟剤、安定剤、可塑剤、消泡剤、補強剤等が挙げられる。上記樹脂フィルムに含有される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。   The resin film may further contain any appropriate additive depending on the purpose. Examples of additives in the resin film include diluents, anti-aging agents, denaturing agents, surfactants, dyes, pigments, anti-discoloring agents, ultraviolet absorbers, softeners, stabilizers, plasticizers, antifoaming agents, A reinforcing agent etc. are mentioned. The kind, number, and amount of additives contained in the resin film can be appropriately set according to the purpose.

D−2.反射防止層
本発明の光学積層体は、反射防止層をさらに備えていてもよい。反射防止層は、薄ガラスの導電フィルムとは反対側に配置され得る。
D-2. Antireflection layer The optical layered body of the present invention may further include an antireflection layer. The antireflection layer may be disposed on the side opposite to the thin glass conductive film.

上記反射防止層としては、反射防止の機能を有する限り、任意の適切な構成であり得る。好ましくは、上記反射防止層は、無機材料から構成される層である。   The antireflection layer may have any appropriate configuration as long as it has an antireflection function. Preferably, the antireflection layer is a layer composed of an inorganic material.

上記反射防止層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム等が挙げられる。1つの実施形態においては、反射防止層として、酸化チタン層と酸化ケイ素層とを交互に積層して得られた積層体が用いられる。このような積層体は、優れた反射防止機能を有する。   Examples of the material constituting the antireflection layer include titanium oxide, zirconium oxide, silicon oxide, and magnesium fluoride. In one embodiment, a laminate obtained by alternately laminating titanium oxide layers and silicon oxide layers is used as the antireflection layer. Such a laminate has an excellent antireflection function.

D−3.接着層
上記薄ガラスと導電フィルムとは、接着層を介して積層され得る。上記接着層を構成する材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂の具体例としては、例えば、エポキシ系樹脂;エポキシ基、グリシジル基またはオキセタニル基等を有する環状エーテル類;シリコーン系樹脂;アクリル系樹脂およびこれらの混合物が挙げられる。なかでも好ましくは、エポキシ系樹脂を含む接着層が形成され得る。エポキシ系樹脂を含む接着層が形成されれば、薄ガラスが破損し難く、耐衝撃性により優れる光学積層体を得ることができる。また、上記接着層に上記カップリング剤を添加してもよい。
D-3. Adhesive layer The thin glass and the conductive film may be laminated via an adhesive layer. Examples of the material constituting the adhesive layer include a thermosetting resin and an active energy ray curable resin. Specific examples of such a resin include, for example, epoxy resins; cyclic ethers having an epoxy group, a glycidyl group, or an oxetanyl group; silicone resins; acrylic resins and mixtures thereof. Among these, preferably, an adhesive layer containing an epoxy resin can be formed. If an adhesive layer containing an epoxy resin is formed, it is possible to obtain an optical laminate that is less likely to break thin glass and that is superior in impact resistance. Moreover, you may add the said coupling agent to the said contact bonding layer.

上記接着層の厚みは、好ましくは10μm以下であり、より好ましくは0.05μm〜50μmである。このような範囲であれば、薄ガラスが破損し難く、耐衝撃性により優れる光学積層体を得ることができる。   The thickness of the adhesive layer is preferably 10 μm or less, and more preferably 0.05 μm to 50 μm. If it is such a range, an optical laminated body which is hard to be damaged and excellent in impact resistance can be obtained.

E.光学積層体の製造方法
本発明の光学積層体の製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。該製造方法は、例えば、(1)薄ガラス一方の面において、接着剤組成物を介して薄ガラスと導電フィルムとを貼り合わせる貼着工程と、(2)接着剤組成物を硬化させて、接着層を形成する硬化工程とを含む。
E. The manufacturing method of the optical stack of the production method the present invention of the optical stack, any appropriate method may be employed. The manufacturing method includes, for example, (1) a bonding step of bonding a thin glass and a conductive film on one surface of a thin glass via an adhesive composition, and (2) curing the adhesive composition, A curing step of forming an adhesive layer.

上記のとおり、上記粘着剤組成物は、好ましくは、熱硬化性または光硬化性の接着剤を含む。熱硬化性接着剤と光硬化性接着剤とを併用してもよい。上記接着剤としては、上記D−3項で説明した樹脂を含む接着剤が用いられ得る。   As described above, the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a thermosetting or photocurable adhesive. A thermosetting adhesive and a photocurable adhesive may be used in combination. As the adhesive, an adhesive containing the resin described in the section D-3 can be used.

上記接着剤組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。接着剤組成物中の添加剤としては、例えば、重合開始剤、架橋剤、UV吸収剤、導電性材料、Siカップリング剤等が挙げられる。   The adhesive composition may further contain any appropriate additive depending on the purpose. Examples of the additive in the adhesive composition include a polymerization initiator, a crosslinking agent, a UV absorber, a conductive material, and a Si coupling agent.

上記薄ガラスと、導電フィルムとの貼り合わせは、任意の適切な手段により行われる。代表的には、ラミネーティングが行われる。本発明の光学積層体は、薄ガラスと導電フィルムとの貼り合わせをいわゆるロール・トゥ・ロールで連続的に行ってもよい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、長尺のフィルム同士(本発明では薄ガラスと樹脂フィルム)をロール搬送しながら、その長手方向を揃えて連続的に貼り合わせる方法をいう。   The thin glass and the conductive film are bonded to each other by any appropriate means. Typically, laminating is performed. In the optical layered body of the present invention, the thin glass and the conductive film may be bonded continuously by so-called roll-to-roll. The roll-to-roll refers to a method in which long films (thin glass and resin film in the present invention) are roll-conveyed and bonded together with their longitudinal directions aligned.

上記接着剤組成物の硬化方法は、上記接着剤の種類に応じて適切に選択され得る。接着剤が光硬化性接着剤である場合には、接着剤組成物は紫外線照射により硬化され得る。照射条件は、接着剤の種類、接着剤組成物の組成等に応じて適切に選択され得る。塗布した接着剤組成物を硬化させるための照射積算光量は、例えば、100mJ/cm〜2000mJ/cmである。接着剤が熱硬化型接着剤である場合には、接着剤組成物は加熱により硬化される。加熱条件は、接着剤の種類、接着剤組成物の組成等に応じて適切に選択され得る。塗布した接着剤組成物を硬化させるための加熱条件は、例えば、温度が100℃〜200℃で、加熱時間が5分〜30分である。 The method for curing the adhesive composition can be appropriately selected according to the type of the adhesive. When the adhesive is a photocurable adhesive, the adhesive composition can be cured by ultraviolet irradiation. Irradiation conditions can be appropriately selected according to the type of adhesive, the composition of the adhesive composition, and the like. Irradiation integrated light quantity for curing the applied adhesive composition is, for example, 100mJ / cm 2 ~2000mJ / cm 2 . When the adhesive is a thermosetting adhesive, the adhesive composition is cured by heating. The heating conditions can be appropriately selected according to the type of adhesive, the composition of the adhesive composition, and the like. The heating conditions for curing the applied adhesive composition are, for example, a temperature of 100 ° C. to 200 ° C. and a heating time of 5 minutes to 30 minutes.

本発明の光学積層体が、上記反射防止層を備える場合、該反射防止層は、任意の適切な方法により形成される。例えば、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法を用いて、薄ガラス上に反射防止層が形成される。また、E−1項で説明した樹脂フィルムを用いて、反射防止機能を有するフィルムを転写して、反射防止層を形成してもよい。   When the optical layered body of the present invention includes the antireflection layer, the antireflection layer is formed by any appropriate method. For example, the antireflection layer is formed on the thin glass by using a method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating. Further, the antireflection layer may be formed by transferring a film having an antireflection function using the resin film described in the section E-1.

10 薄ガラス
20 導電フィルム
21 基材
22 導電層
30 接着層
100 光学積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Thin glass 20 Conductive film 21 Base material 22 Conductive layer 30 Adhesive layer 100 Optical laminated body

Claims (5)

厚みが100μm以下の薄ガラスと、該薄ガラスの一方の側に配置される導電フィルムとを備え、
該導電フィルムが、基材と、該基材の一方の側に配置される導電層とを含む、
光学積層体。
A thin glass having a thickness of 100 μm or less, and a conductive film disposed on one side of the thin glass,
The conductive film includes a base material and a conductive layer disposed on one side of the base material.
Optical laminate.
前記薄ガラスと前記導電フィルムとの間に、接着層をさらに備える、請求項1に記載の光学積層体。   The optical laminate according to claim 1, further comprising an adhesive layer between the thin glass and the conductive film. 前記接着層が、エポキシ系樹脂を含む、請求項2に記載の光学積層体。   The optical laminated body according to claim 2, wherein the adhesive layer contains an epoxy resin. 前記基材の23℃における弾性率が、1.5GPa〜10GPaである、請求項1から3のいずれかに記載の光学積層体。   The optical laminated body in any one of Claim 1 to 3 whose elasticity modulus in 23 degreeC of the said base material is 1.5GPa-10GPa. 反射防止層をさらに備え、該反射防止層が、前記薄ガラスの前記導電フィルムとは反対側に配置される、請求項1から4のいずれかに記載の光学積層体。

5. The optical laminate according to claim 1, further comprising an antireflection layer, wherein the antireflection layer is disposed on the side of the thin glass opposite to the conductive film.

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