JP2017040480A - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017040480A JP2017040480A JP2015160600A JP2015160600A JP2017040480A JP 2017040480 A JP2017040480 A JP 2017040480A JP 2015160600 A JP2015160600 A JP 2015160600A JP 2015160600 A JP2015160600 A JP 2015160600A JP 2017040480 A JP2017040480 A JP 2017040480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spot
- substrate
- unit
- laser beam
- defect inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】欠陥検査装置では、出射部3からレーザ光が出射され、基板9の主面91にレーザ光のスポットが形成される。スポット移動機構5により、主面91上においてレーザ光のスポットが移動する。受光部4では、レーザ光のスポットが主面91上の欠陥の位置を通過する際に、スポットからの散乱光が受光され、当該散乱光の強度が取得される。雰囲気調整部6では、少なくともレーザ光のスポット近傍における酸素濃度または酸素量が周囲の空気よりも低減される。これにより、レーザ光の照射により主面91上のパーティクルが成長することを抑制することができる。
【選択図】図2
Description
3 出射部
4 受光部
5 スポット移動機構
6 雰囲気調整部
9 基板
61 チャンバ
62,62a ノズル
63 ガス供給部
64 減圧機構
91 主面
100 欠陥検出部
Claims (6)
- 欠陥検査装置であって、
レーザ光を出射して、基板の主面に前記レーザ光のスポットを形成する出射部と、
前記スポットからの散乱光を受光して、前記散乱光の強度を取得する受光部と、
前記主面上において前記スポットを移動するスポット移動機構と、
少なくとも前記スポット近傍における酸素濃度または酸素量を周囲の空気よりも低減する雰囲気調整部と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1に記載の欠陥検査装置であって、
前記雰囲気調整部が、前記スポット近傍に向けて不活性ガスを噴出するノズルを備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1に記載の欠陥検査装置であって、
前記雰囲気調整部が、
少なくとも前記基板を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に不活性ガスを供給するガス供給部と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項3に記載の欠陥検査装置であって、
前記雰囲気調整部が、前記チャンバ内を減圧する減圧機構をさらに備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1または2に記載の欠陥検査装置であって、
前記雰囲気調整部が、
少なくとも前記基板を収容するチャンバと、
前記チャンバ内を減圧する減圧機構と、
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の欠陥検査装置であって、
前記受光部にて取得される前記散乱光の強度に基づいて、前記主面の欠陥を検出する欠陥検出部をさらに備えることを特徴とする欠陥検査装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015160600A JP6741407B2 (ja) | 2015-08-17 | 2015-08-17 | 欠陥検査装置 |
PCT/JP2016/066199 WO2017029857A1 (ja) | 2015-08-17 | 2016-06-01 | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 |
TW105118368A TWI642931B (zh) | 2015-08-17 | 2016-06-13 | 缺陷檢查裝置及缺陷檢查方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015160600A JP6741407B2 (ja) | 2015-08-17 | 2015-08-17 | 欠陥検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017040480A true JP2017040480A (ja) | 2017-02-23 |
JP6741407B2 JP6741407B2 (ja) | 2020-08-19 |
Family
ID=58050752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015160600A Active JP6741407B2 (ja) | 2015-08-17 | 2015-08-17 | 欠陥検査装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6741407B2 (ja) |
TW (1) | TWI642931B (ja) |
WO (1) | WO2017029857A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI826848B (zh) * | 2020-12-21 | 2023-12-21 | 日商斯庫林集團股份有限公司 | 光照射裝置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3339856B2 (ja) * | 1990-04-02 | 2002-10-28 | 株式会社日立製作所 | 異物検出方法及びそれを用いた半導体装置製造方法 |
JPH04112551A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-14 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ウエハ検査装置の雑音排除方法 |
JP2000019717A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検査装置および半導体デバイスの製造方法 |
JP2001028383A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-01-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表面異物検査方法および表面異物検査装置 |
JP4413831B2 (ja) * | 2005-08-11 | 2010-02-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | ウェハ表面検査装置及びウェハ表面検査方法 |
US7372559B2 (en) * | 2005-12-14 | 2008-05-13 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems and methods for inspecting a wafer with increased sensitivity |
JP5894854B2 (ja) * | 2012-05-11 | 2016-03-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
US9182358B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-11-10 | Kla-Tencor Corporation | Multi-spot defect inspection system |
-
2015
- 2015-08-17 JP JP2015160600A patent/JP6741407B2/ja active Active
-
2016
- 2016-06-01 WO PCT/JP2016/066199 patent/WO2017029857A1/ja active Application Filing
- 2016-06-13 TW TW105118368A patent/TWI642931B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI642931B (zh) | 2018-12-01 |
JP6741407B2 (ja) | 2020-08-19 |
WO2017029857A1 (ja) | 2017-02-23 |
TW201710672A (zh) | 2017-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8755044B2 (en) | Large particle detection for multi-spot surface scanning inspection systems | |
JP4001862B2 (ja) | 多重角度および多重波長照射を用いるウェハ検査システムのためのシステムおよび方法 | |
US20180067060A1 (en) | Defect inspecting method and defect inspecting apparatus | |
JP5355922B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP5825799B2 (ja) | レーザ処理システム、対象物台、およびレーザ処理方法 | |
JP5349742B2 (ja) | 表面検査方法及び表面検査装置 | |
US11009461B2 (en) | Defect investigation device simultaneously detecting photoluminescence and scattered light | |
US7456948B2 (en) | Method for detecting particles and defects and inspection equipment thereof | |
JP2011252841A (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
JP2009283633A (ja) | 表面検査装置及び表面検査方法 | |
JP5579574B2 (ja) | 欠陥検査方法およびその装置 | |
JPWO2012115013A1 (ja) | 検査装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2009204387A (ja) | 表面検査方法およびそれを用いた検査装置 | |
WO2017029857A1 (ja) | 欠陥検査装置および欠陥検査方法 | |
US10769769B2 (en) | Dual mode inspector | |
CN221007330U (zh) | 一种太赫兹硅片检测装置 | |
WO2021037695A1 (en) | Self-differential confocal tilt sensor for measuring level variation in charged particle beam system | |
CN116660285B (zh) | 一种晶圆特征光谱在线检测装置 | |
JP2014211955A (ja) | 検査装置および検査用画像データの生成方法 | |
JP2006189281A (ja) | 表面検査装置及び表面検査方法 | |
TWI616653B (zh) | 光學檢測裝置及其檢測方法 | |
JP2005055265A (ja) | X線分析装置、x線分析方法、及び表面検査装置 | |
CN108072613B (zh) | 光学检测装置及其检测方法 | |
JP5668113B2 (ja) | 欠陥検査装置 | |
JP2011075353A (ja) | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180626 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200629 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200727 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6741407 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |