JP2017030216A - Scribing wheel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、高硬度の脆性材料基板をスクライブするために好適なスクライビングホイールに関するものである。 The present invention relates to a scribing wheel suitable for scribing a brittle material substrate having high hardness.
従来、液晶表示パネルや太陽電池等の製造工程では、脆性材料基板の分断工程が設けられている。分断工程では、超硬合金や多結晶焼結ダイヤモンド(PCD)等から成るスクライビングホイールに脆性材料基板の材質や厚み等の諸条件に見合った荷重を付加しながら、スクライビングホイールを脆性材料基板の表面上を転動させてスクライブラインを形成し、スクライブラインから脆性材料基板の厚さ方向に伸びる垂直クラックを形成する。そして脆性材料基板のスクライブラインに沿って所定の力を加えることによって脆性材料基板を分断し、夫々のパネルやガラス板を製造している。 Conventionally, in a manufacturing process of a liquid crystal display panel, a solar cell, or the like, a brittle material substrate dividing process is provided. In the cutting process, the scribing wheel is applied to the surface of the brittle material substrate while applying a load corresponding to various conditions such as the material and thickness of the brittle material substrate to the scribing wheel made of cemented carbide or polycrystalline sintered diamond (PCD). A scribe line is formed by rolling up, and a vertical crack extending from the scribe line in the thickness direction of the brittle material substrate is formed. Then, by applying a predetermined force along the scribe line of the brittle material substrate, the brittle material substrate is divided to manufacture respective panels and glass plates.
ガラス素材メーカにおいて、基板の材料における改良、熱処理加工における各種改良が行われてきた結果、従来の刃先(ノーマル刃先) を備えたスクライビングホイール(以下、ノーマルホイールともいう)を用いてスクライブした場合に、「かかりが悪い」状態、すなわちスクライビングホイールの転動直後に刃先が基板表面で滑り、スクライブラインが形成されないという現象が見られるようになってきた。 As a result of various improvements in substrate materials and heat treatment processing at glass material manufacturers, when scribing using a scribing wheel (hereinafter also referred to as a normal wheel) equipped with a conventional cutting edge (normal cutting edge) The phenomenon that the cutting edge slips on the substrate surface immediately after the scribing wheel rolls and a scribe line is not formed has been observed.
特許文献1には、高浸透効果を有するスクライビングホイールが開示されている。このスクライビングホイールは、断面V字形の円周稜線に沿って円周方向に交互に形成された多数の切り欠きと突起を有している。このスクライビングホイールを用いると、ガラス基板の表面から垂直方向にガラス基板の板厚に対して相対的に深い垂直クラックを形成することができる。
このような高浸透刃先のスクライビングホイールは、ノーマル刃先のスクライビングホイールよりも「かかりの良い」刃先として知られている。 Such highly penetrating cutting edge scribing wheels are known as “faster” cutting edges than normal cutting edge scribing wheels.
しかるにガラス基板より硬質なセラミック等高硬度の脆性材料基板をスクライブする場合には、超硬合金やPCD製のスクライビングホイールでは、炭化タングステン又はダイヤモンド粒子とコバルト等の結合材で構成されるため、刃先が欠けたり摩耗したりして長い距離クラックを形成することができないことがある。従って硬質な脆性材料基板をスクライブする場合には、超硬合金や焼結ダイヤモンドよりも硬質で、且つ均質な材料の単結晶等のダイヤモンド製スクライビングホイールが好ましい。ダイヤモンド素材のスクライビングホイールでは、刃先は鏡面状となり、傾斜面の表面粗さが小さくなる。そのためさらに基板上で滑りやすく、「かかり」が悪くなり、スクライブ開始直後から垂直クラックを発生させることが難しくなると考えられる。 However, when scribing a high-hardness brittle material substrate such as a ceramic harder than a glass substrate, the scribing wheel made of cemented carbide or PCD is composed of a binder such as tungsten carbide or diamond particles and cobalt, so the cutting edge May not be able to form long distance cracks due to chipping or wear. Therefore, when scribing a hard brittle material substrate, a diamond scribing wheel made of a single crystal of a hard material that is harder and more homogeneous than cemented carbide or sintered diamond is preferable. In a diamond material scribing wheel, the cutting edge is mirror-like and the surface roughness of the inclined surface is reduced. For this reason, it is considered that it is more slippery on the substrate, the “hanging” becomes worse, and it becomes difficult to generate a vertical crack immediately after the start of scribing.
本発明はこのようなダイヤモンド素材のスクライビングホイールの問題点に鑑みてなされたものであって、脆性材料基板をダイヤモンド素材のスクライビングホイールを用いてスクライブする場合であっても、「かかり」が良く、垂直クラックを発生させ易いスクライビングホイールを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the problems of such a diamond material scribing wheel, and even when scribing a brittle material substrate using a diamond material scribing wheel, "hanging" is good, An object of the present invention is to provide a scribing wheel that easily generates vertical cracks.
この課題を解決するために、本発明のスクライビングホイールは、円板の周囲にダイヤモンドにより構成された稜線と一対の傾斜面から成る断面V字形の刃先を有し、前記一対の傾斜面の算術平均粗さを0.01μm以下とし、前記刃先の傾斜面の稜線から所定間隔隔てた位置に0.5μm以上、12μm未満のピッチの窪みを全周に設けたものである。 In order to solve this problem, a scribing wheel of the present invention has a cutting edge having a V-shaped cross section composed of a ridge line made of diamond and a pair of inclined surfaces around a disk, and an arithmetic average of the pair of inclined surfaces. The roughness is 0.01 μm or less, and depressions with a pitch of 0.5 μm or more and less than 12 μm are provided on the entire circumference at a position spaced from the ridge line of the inclined surface of the cutting edge.
ここで前記スクライビングホイールは、前記傾斜面に沿った前記稜線側端部と稜線との距離Lが1μm以上、5μm以下であるようにしてもよい。 Here, the scribing wheel may be configured such that a distance L between the edge portion on the ridge line side and the ridge line along the inclined surface is 1 μm or more and 5 μm or less.
ここで前記スクライビングホイールは、単結晶ダイヤモンドから成るようにしてもよい。 Here, the scribing wheel may be made of single crystal diamond.
ここで前記スクライビングホイールの窪みの深さは、0.3μm以下としてもよい。 Here, the depth of the dent of the scribing wheel may be 0.3 μm or less.
このような特徴を有する本発明によれば、スクライビングホイールの傾斜面に刃先の稜線から所定距離を隔てた両側の傾斜面の全周に、12μm未満の小さいピッチで窪みが形成されている。このため、スクライブ時にかかり性が良好となり、スクライブ開始直後から深いクラックで硬度の高い基板をスクライブすることができるという効果が得られる。 According to the present invention having such a feature, depressions are formed on the inclined surface of the scribing wheel at a small pitch of less than 12 μm on the entire circumference of the inclined surfaces on both sides spaced a predetermined distance from the ridge line of the cutting edge. For this reason, it is possible to obtain good effects when scribing, and it is possible to scribe a substrate having high hardness with a deep crack immediately after the start of scribing.
以下、本発明の実施の形態によるスクライビングホイールについて図面を用いて詳細に説明する。本実施の形態において加工の対象となる脆性材料基板は、硬度の高いSiC基板としているが、これに限定されるものではなく、液晶表示パネル、プラズマディスプレイパネルなどのガラス基板、単結晶シリコン基板、セラミック基板、サファイア基板などの脆性材料基板であってもよい。また、本明細書で用いられている「算術平均粗さRa」とは、JISB0601で規定された工業製品の表面粗さを表すパラメーターの一つである。 Hereinafter, scribing wheels according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The brittle material substrate to be processed in the present embodiment is a SiC substrate having high hardness, but is not limited to this, a glass substrate such as a liquid crystal display panel or a plasma display panel, a single crystal silicon substrate, A brittle material substrate such as a ceramic substrate or a sapphire substrate may be used. Further, “arithmetic average roughness Ra” used in the present specification is one of the parameters representing the surface roughness of industrial products defined in JIS B0601.
本発明の実施の形態によるスクライビングホイールの形状を説明する。図1(a)は本実施の形態によるスクライビングホイールをその中心軸方向から見た正面図であり、図1(b)はそのスクライビングホイールの側面図である。又図2(a)は稜線部分を拡大して示す側面図、図2(b)はその正面図である。 The shape of the scribing wheel according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 1A is a front view of the scribing wheel according to the present embodiment as viewed from the central axis direction, and FIG. 1B is a side view of the scribing wheel. 2A is an enlarged side view showing the ridge line portion, and FIG. 2B is a front view thereof.
本実施の形態のスクライビングホイール10は、単結晶ダイヤモンドで形成された円板状のホイールであり、図1に示すように、中心軸11の中心にスクライビングホイール10を軸支するための図示しないピンが貫通される貫通孔12を有する。このスクライビングホイール10の外周面は断面がV字形となるように切欠かれ、その中心に稜線13が形成され、左右には図示のように傾斜面14a,14bを有している。傾斜面14a,14bは、収束角度(α)を有するように形成されている。傾斜面14a,14bは、傾斜面の算術平均粗さRaが0.01μm以下となるように加工されている。
The scribing wheel 10 of the present embodiment is a disc-shaped wheel formed of single crystal diamond, and a pin (not shown) for pivotally supporting the scribing wheel 10 at the center of the
さてこの実施の形態のスクライビングホイールは、図2に示すように刃先の稜線13を中心に含む傾斜面14a,14bに、稜線13からわずかに離れた位置に等間隔で一定のピッチPにより窪み15が全周に施されたものである。ここで窪み加工は少なくともスクライブ時に基板と接触する部分に形成されていることが好ましい。図3は刃先部分の断面を示す拡大断面図であり、本図に示すように傾斜面に沿った稜線13と窪み15の稜線側の端部との距離Lは、例えば1μm以上、5μm以下とする。この窪み15はほぼ円形の窪み状であり、稜線13の両側に所定間隔隔てて形成されている。この窪み15のピッチPは0.5μm以上で、12μm未満、好ましくは8μm未満、さらに好ましくは1μm以下とする。又窪み15の深さdは0.05μm以上0.7μm未満、好ましくは0.3μm以下とする。
As shown in FIG. 2, the scribing wheel of this embodiment has
図4は本実施の形態によるスクライビングホイールを用いてガラス基板をスクライブするときの刃先部分の断面を示す拡大断面図である。本図に示すようにスクライブする際には刃先の先端がガラス基板20に食い込んでおり、ガラス20の面が窪み15にまで入り込むようにスクライブしている。このように微細な窪み加工を稜線13の両側に形成することによって、高い硬度のSiC基板等の基板に対しても一定の摩擦係数を確保することができ、かかり性の改善を図ることができる。又窪み15は稜線13には掛かっていないため、このスクライビングホイール10を用いてスクライブし分断したときの基板の端面強度を向上させることができる。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a cross-section of the blade edge portion when the glass substrate is scribed using the scribing wheel according to the present embodiment. As shown in this figure, when scribing, the tip of the blade edge bites into the
本実施の形態のダイヤモンドで形成されたスクライビングホイールの傾斜面に対する窪み加工は、フェムト秒レーザによる表面加工装置を用いて行うことができる。フェムト秒レーザはフェムト秒単位の、極めて短い時間にパワーを圧縮した光源であり、種々の材料に周期的な構造の溝やパターンを形成することができる。ここでは図2,図3に示すように稜線13の近傍の傾斜面14a,14bに一定ピッチPで窪み加工を行う。そしてこのフェムト秒レーザの光源やパルス幅を適宜選択することによって所望のサイズ、ピッチP及び深さdの窪み加工を行うことができる。 The recess processing on the inclined surface of the scribing wheel formed of diamond of the present embodiment can be performed using a surface processing apparatus using a femtosecond laser. A femtosecond laser is a light source whose power is compressed in an extremely short time in units of femtoseconds, and grooves and patterns having a periodic structure can be formed in various materials. Here, as shown in FIGS. 2 and 3, the recesses are formed on the inclined surfaces 14 a and 14 b near the ridge line 13 at a constant pitch P. Then, by appropriately selecting the light source and the pulse width of the femtosecond laser, it is possible to perform the recess processing with a desired size, pitch P and depth d.
尚本実施の形態では、窪み加工は図2,図3では円形としているが、図5に第2の実施の形態のスクライビングホイールを示すように長円形の窪み16であってもよく、又楕円形の窪みであってもよい。この場合にはスクライブする際に基板に食い込む深さを変化させることができるため、スクライブ荷重の幅を大きくすることができる。 In this embodiment, the recess processing is circular in FIGS. 2 and 3, but may be an oval recess 16 as shown in FIG. 5 in the scribing wheel of the second embodiment. It may be a hollow in shape. In this case, since the depth of biting into the substrate can be changed when scribing, the width of the scribing load can be increased.
又本発明の第1の実施の形態では図3に示すように稜線13に対して傾斜面14a,14bに対称に窪み15を配置しているが、図6に第3の実施の形態を示すように、傾斜面14a,14bに互い違いに窪み15が形成されたものであってもよい。また、傾斜面14、14bのいずれか一方にのみ窪み15が形成されたものであってもよい。
Further, in the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, the
本発明にかかる実施の形態のスクライビングホイールは、かかり性が良好であり、高硬度の基板に対しても滑ることなく、スクライブ開始直後から垂直クラックを生じさせることができる。従って高い硬度の基板に対しても内切りスクライブをすることができるという優れた効果が得られる。また、滑りが生じないためスクライビングホイール稜線が均一に摩耗することになり、スクライビングホイールの寿命をさらに長くすることができる。 The scribing wheel according to the embodiment of the present invention has good workability and can generate a vertical crack immediately after the start of scribing without slipping even on a substrate having high hardness. Therefore, it is possible to obtain an excellent effect that internal scribing can be performed even on a substrate having a high hardness. Further, since no slip occurs, the scribe line of the scribing wheel is uniformly worn, and the life of the scribing wheel can be further extended.
尚この実施の形態ではスクライビングホイールの素材を単結晶ダイヤモンドとしているが、多結晶ダイヤモンドを素材として用いてもよい。この場合にもスクライビングホイールの稜線部分に同様の窪み加工を施すことによって同様の効果を有するスクライビングホイールを構成することができる。 In this embodiment, the material for the scribing wheel is single crystal diamond, but polycrystalline diamond may be used as the material. In this case as well, a scribing wheel having the same effect can be configured by applying the same recess processing to the ridge line portion of the scribing wheel.
又、本実施の形態においては、スクライビングホイール全体が単結晶ダイヤモンドからなるものを示したが、例えば、超硬合金等で構成されたホイール本体部に単結晶又は多結晶ダイヤモンドで構成された刃先部分を接着又は成膜等により固定したスクライビングホイールに対しても本発明は適用可能である。このような構成のスクライビングホイールであれば、高価な単結晶ダイヤモンドの使用を減らし、安価なスクライビングホイールを提供することができる。 Further, in the present embodiment, the entire scribing wheel is made of single crystal diamond. For example, the wheel body portion made of cemented carbide or the like has a cutting edge portion made of single crystal or polycrystalline diamond. The present invention is also applicable to a scribing wheel in which is fixed by adhesion or film formation. With such a scribing wheel, it is possible to reduce the use of expensive single crystal diamond and provide an inexpensive scribing wheel.
本発明は高硬度の脆性材料基板をスクライブするスクライブ装置に適用することができる。 The present invention can be applied to a scribing apparatus for scribing a brittle material substrate having high hardness.
10 スクライビングホイール
11 中心軸
12 貫通孔
13 稜線
14a,14b 傾斜面
15,16 窪み
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