JP2017025624A - 地盤改良体施工方法、地盤改良装置及び地盤改良底盤 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示す地盤改良装置100の全体構造について説明する。地盤改良装置100は、地盤10における地下水位WL以深の対象地盤12に地盤改良体50を形成する装置である。
次に、注入井戸110における主薬液EAを吐出する主注入部112の構造について説明する。
次に、本実施形態の主薬液EA及び副薬液EBについて説明する。
次に、地盤10における地下水位WL以深の対象地盤12に地盤改良体50を形成する地盤改良体施工方法について説明する。
次に、作用及び効果について説明する。
次に、上記実施形態の地盤改良装置100で主薬液EAを対象地盤12に横方向に卓越して浸透注入され、略円盤状の地盤改良体50が形成されることの確認実験について説明する。
注入率λ:31.5%
改良半径r:4.0m
とすると、
t=Q/πr2λ
=15.0/(π42×0.315)
=0.947(m)
となる。
次に、フィルター部130(主注入部112)の径φと軸方向長さLとの比L/φを4以上に設定することで、主薬液EAの浸透方向が横方向に卓越して浸透注入され、略円盤状の地盤改良体50が形成されることを確認したコンピューターシミュレーションについて説明する。
次に、比較例について説明する。
次に、本実施形態の略円盤状の地盤改良体50の適用例を、比較例の略球形状の地盤改良体850と比較しつつ説明する。なお、本実施形態の略円盤状の地盤改良体50と比較例の略球形状の地盤改良体850とでは、主薬剤EAの注入量は同じとする。
図5(A)に示すように、地盤10には矩形枠状の遮水壁500が構築されている。この遮水壁500の下端部510は、支持基盤14には達していない。よって、遮水壁500内への地下水の進入を防ぐために、遮水壁500の内側の底部に、地盤改良底盤54を形成する。
図5(B)に示すように、遮水壁500の下端部510は、一部のみが支持基盤14に達している。よって、遮水壁500内への地下水の進入を防ぐために、遮水壁500の内側の支持基盤14に達していない部分に地盤改良底盤54を形成する。
図5(C)及び図7(C)に示すように、位置を特定できない遮水壁500の不良部501がある場合、この不良部501に重なるように略円盤状の地盤改良体50又は略球形状の地盤改良体850を形成する。これら図5(C)と図7(C)とを比較すると判るように、略円盤状の地盤改良体50の方が、平面視における遮水壁500に接触する幅が広いので(図5(C)の幅SAと図7(C)の幅SBとを比較参照)、注入箇所数を少なくすることができきる。
尚、本発明は上記実施形態に限定されない。
50 地盤改良体
54 地盤改良底盤
60U 止水部
60L 止水部
100 地盤改良装置
110 注入井戸
120 注入管
122 ストレーナー部
130 フィルター部
EA 主薬液(薬液)
Claims (4)
- 水と反応してゲル化する薬液を対象地盤が割裂しない注入圧力で前記対象地盤に横方向に卓越させて浸透注入させることで、前記対象地盤に上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体を形成する地盤改良体施工方法。
- 水と反応してゲル化する副薬液を前記対象地盤の上部及び下部へ前記薬液よりも先に注入して止水部を形成し、前記止水部の間に前記薬液を浸透注入させる、
請求項1に記載の地盤改良体施工方法。 - 上下方向よりも横方向が長い扁平形状とされた複数の地盤改良体が、横方向の端部同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並び、
前記端部同士の重なり部分は、横方向の長さが上下方向の長さよりも長い地盤改良底盤。 - 注入井戸に挿入され、水と反応してゲル化することで地盤改良体を形成する薬液をストレーナー部から吐出する注入管と、
前記注入井戸における前記注入管の前記ストレーナー部の外側に設けられたフィルター部と、
を有し、
前記フィルター部の軸方向長さLと外径φとの比L/φが4以上に設定されている地盤改良装置。
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