JP2017017167A - Electromagnetic wave shielding film, and electronic component mounting board - Google Patents

Electromagnetic wave shielding film, and electronic component mounting board Download PDF

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雅彦 渡邊
Masahiko Watanabe
雅彦 渡邊
白石 史広
Fumihiro Shiraishi
史広 白石
明徳 橋本
Akinori Hashimoto
明徳 橋本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding film capable of shielding up to the electromagnetic wave of high frequency band, while down-sizing and thinning, and to provide an electronic component mounting board where an electronic component mounted on a board is coated with an electromagnetic wave shielding layer, by using such an electromagnetic wave shielding film.SOLUTION: An electromagnetic wave shielding film 10 is constituted to include an electromagnetic wave shielding layer 3 having a first conductor layer 31 containing a conductive material, and a laminate 32 laminating a second conductor layer 36 containing a conductive material, and a dielectric layer 35 containing a dielectric material. The laminate 32 is laminated so that the dielectric layer 35 is located on the first conductor layer 31 side.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板に関するものである。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film and an electronic component mounting substrate.

従来、携帯電話、医療機器のように電磁波の影響を受けやすい電子部品や、半導体素子等の発熱性電子部品、さらにはコンデンサ、コイル等の各種電子部品、またはこれらの電子部品を回路基板に実装された電子機器は、電磁波によるノイズの影響を軽減するため、その表面に電磁波シールド用フィルムが貼付されてきた。   Conventionally, electronic components that are easily affected by electromagnetic waves, such as mobile phones and medical devices, exothermic electronic components such as semiconductor elements, various electronic components such as capacitors and coils, or these electronic components are mounted on a circuit board. In order to reduce the influence of noise caused by electromagnetic waves, an electromagnetic shielding film has been attached to the surface of the electronic devices.

このような電磁波シールド用フィルムとしては、例えば、絶縁性材料からなる保護層(基材層)と、保護層の一方または双方の面に積層した金属層とを有するものが開発されている(例えば、特許文献1参照。)。   As such an electromagnetic wave shielding film, for example, a film having a protective layer (base material layer) made of an insulating material and a metal layer laminated on one or both surfaces of the protective layer has been developed (for example, , See Patent Document 1).

しかしながら、特許文献1に記載のように、電磁波シールド用フィルムを、金属層を有する構成とした場合、近年要望が高まりつつある軽量化・薄型化に対応できないという問題があった。   However, as described in Patent Document 1, when the electromagnetic wave shielding film has a configuration having a metal layer, there is a problem that it is not possible to cope with the reduction in weight and thickness that has been increasingly demanded in recent years.

また、上述の通り、電磁波シールド用フィルムを貼付する電子機器が多様化し、これに応じて、遮断すべきノイズである電磁波の周波数も多様化しているが、このような電磁波を遮断する機能を発揮する電磁波遮断層としては、例えば、反射層と、吸収層とがある。   In addition, as described above, the electronic equipment to which the electromagnetic wave shielding film is attached has been diversified, and the frequency of electromagnetic waves, which is noise to be blocked, has also been diversified accordingly. However, the function of blocking such electromagnetic waves is demonstrated. Examples of the electromagnetic wave blocking layer that can be used include a reflective layer and an absorbing layer.

ここで、反射層では、電磁波遮断層に入射した電磁波を反射することにより遮断(遮蔽)し、吸収層では、電磁波遮断層に入射した電磁波を吸収し、熱エネルギーに変換することで、電磁波を消滅させて遮断する。これらのうち反射層では、反射した電磁波が電磁波遮断層で被覆されていない他の部材等に対して誤作動等の悪影響をおよぼすという欠点を有する。そのため、近年、吸収層で構成された電磁波遮断層について研究がなされ、特に、高周波帯域のものまで効果的に吸収により遮断し得る電磁波遮断層(吸収層)を備える電磁波シールド用フィルムの開発がなされている。   Here, in the reflection layer, the electromagnetic wave incident on the electromagnetic wave blocking layer is blocked (shielded), and in the absorbing layer, the electromagnetic wave incident on the electromagnetic wave blocking layer is absorbed and converted into thermal energy, thereby converting the electromagnetic wave. Disappear and block. Among these, the reflective layer has a drawback that the reflected electromagnetic waves have an adverse effect such as malfunction on other members not covered with the electromagnetic wave shielding layer. Therefore, in recent years, research has been conducted on an electromagnetic wave shielding layer composed of an absorbing layer, and in particular, an electromagnetic shielding film including an electromagnetic wave shielding layer (absorbing layer) capable of effectively blocking even a high frequency band has been developed. ing.

特開2006−156946公報JP 2006-156946 A

本発明の目的は、軽量化・薄型化を図るとともに、高周波帯域の電磁波まで吸収により遮断することができる電磁波シールド用フィルム、および、かかる電磁波シールド用フィルムを用いて、基板上に搭載された電子部品が電磁波遮断層で被覆された電子部品搭載基板を提供することにある。   An object of the present invention is to reduce the weight and thickness of the electromagnetic wave shielding film capable of blocking even electromagnetic waves in a high frequency band by absorption, and an electron mounted on a substrate using the electromagnetic wave shielding film. An object of the present invention is to provide an electronic component mounting substrate in which the component is covered with an electromagnetic wave shielding layer.

このような目的は、下記(1)〜(11)に記載の本発明により達成される。
(1) 導電性材料を含有する第1導電体層と、
前記導電性材料を含有する第2導電体層、および、誘電体材料を含有する誘電体層が積層された積層体とを有する電磁波遮断層を備えて構成されており、
前記積層体は、前記誘電体層を前記第1導電体層側にして積層されていることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (11).
(1) a first conductor layer containing a conductive material;
An electromagnetic wave shielding layer having a second conductor layer containing the conductive material and a laminate in which a dielectric layer containing a dielectric material is laminated;
The electromagnetic wave shielding film, wherein the laminate is laminated with the dielectric layer facing the first conductor layer.

(2) 前記電磁波遮断層は、複数の前記積層体を備える上記(1)に記載の電磁波シールド用フィルム。   (2) The electromagnetic wave shielding layer according to (1), wherein the electromagnetic wave shielding layer includes a plurality of the laminated bodies.

(3) 前記導電性材料は、導電性高分子を含有する上記(1)または(2)に記載の電磁波シールド用フィルム。   (3) The electromagnetic shielding film according to (1) or (2), wherein the conductive material contains a conductive polymer.

(4) 前記導電性高分子は、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも1種である上記(3)に記載の電磁波シールド用フィルム。   (4) The electromagnetic shielding film according to (3), wherein the conductive polymer is at least one of polyaniline, PEDOT / PSS, polypyrrole, and polythiophene.

(5) 前記誘電体材料は、セラミックス材料を含有する上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の電磁波シールド用フィルム。   (5) The electromagnetic wave shielding film according to any one of (1) to (4), wherein the dielectric material contains a ceramic material.

(6) 前記セラミックス材料は、チタン酸バリウム、ペロブスカイト型チタン酸ジルコン酸バリウムカルシウム結晶粒子、チタニア、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素および窒化アルミニウムのうちの少なくとも1種である上記(5)に記載の電磁波シールド用フィルム。   (6) The electromagnetic wave according to (5), wherein the ceramic material is at least one of barium titanate, perovskite-type barium calcium zirconate titanate crystal particles, titania, alumina, zirconia, silicon carbide, and aluminum nitride. Shield film.

(7) 前記第1導電体層および前記第2導電体層は、それぞれ、その平均層厚みが0.5μm以上、30μm以下である上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の電磁波シールド用フィルム。   (7) The electromagnetic wave shield according to any one of (1) to (6), wherein the first conductor layer and the second conductor layer each have an average layer thickness of 0.5 μm or more and 30 μm or less. Film.

(8) 前記誘電体層は、その平均層厚みが0.5μm以上、30μm以下である上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の電磁波シールド用フィルム。   (8) The electromagnetic wave shielding film according to any one of (1) to (7), wherein the dielectric layer has an average layer thickness of 0.5 μm or more and 30 μm or less.

(9) 当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の電磁波シールド用フィルム。   (9) The electromagnetic wave shielding film according to any one of (1) to (8), further including a protective sheet laminated on one surface side of the electromagnetic wave shielding layer.

(10) 絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の電磁波シールド用フィルム。   (10) Any of the above (1) to (9), wherein the insulating layer is provided in contact with the other surface side of the electromagnetic wave shielding layer, and is laminated in the order of the electromagnetic wave shielding layer and the insulating layer from the protective sheet side. The film for electromagnetic wave shielding as described in crab.

(11) 基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有する第1導電体層と、前記導電性材料を含有する第2導電体層および誘電体材料を含有する誘電体層が積層された積層体とを有し、
前記積層体は、前記誘電体層を前記第1導電体層側にして積層されていることを特徴する電子部品搭載基板。
(11) An electronic component mounting substrate having a substrate, an electronic component mounted on the substrate, and an electromagnetic wave shielding layer that covers the substrate and the electronic component from the side of the substrate on which the electronic component is mounted. There,
The electromagnetic wave shielding layer has a first conductor layer containing a conductive material, and a laminate in which a second conductor layer containing the conductive material and a dielectric layer containing a dielectric material are laminated. And
The electronic component mounting board, wherein the laminate is laminated with the dielectric layer facing the first conductor layer.

本発明によれば、電磁波シールド用フィルムが、導電性材料を含有する第1導電体層と、導電性材料を含有する第2導電体層および誘電体材料を含有する誘電体層が積層された積層体とを有し、この積層体が、誘電体層を第1導電体層側にして第1導電体層に積層されている電磁波遮断層を含んで構成されることにより、電磁波遮断層の軽量化・薄型化を図ることができるとともに、高周波帯域の電磁波まで吸収により遮断することができる。   According to the present invention, the electromagnetic wave shielding film includes a first conductor layer containing a conductive material, a second conductor layer containing a conductive material, and a dielectric layer containing a dielectric material. A laminate, and the laminate includes an electromagnetic wave shielding layer laminated on the first conductor layer with the dielectric layer facing the first conductor layer. The weight and thickness can be reduced, and even electromagnetic waves in the high frequency band can be blocked by absorption.

本発明の電磁波シールド用フィルムの第1実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows 1st Embodiment of the film for electromagnetic wave shields of this invention. 図1に示す電磁波シールド用フィルムが備える電磁波遮断層を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the electromagnetic wave shielding layer with which the film for electromagnetic wave shields shown in FIG. 1 is provided. 本発明の電磁波シールド用フィルムの第2実施形態が備える電磁波遮断層を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the electromagnetic wave shielding layer with which 2nd Embodiment of the film for electromagnetic wave shields of this invention is provided. 図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第1の被覆方法を説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for demonstrating the 1st coating method of the coating method of the electronic component using the film for electromagnetic wave shielding shown in FIG. 図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第2の被覆方法を説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for demonstrating the 2nd coating method of the coating method of the electronic component using the electromagnetic wave shielding film shown in FIG. 図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第3の被覆方法を説明するための縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view for demonstrating the 3rd coating method of the coating method of the electronic component using the film for electromagnetic wave shielding shown in FIG.

以下、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板を、添付図面に示す好適実施形態に基づいて、詳細に説明する。   Hereinafter, an electromagnetic wave shielding film and an electronic component mounting substrate of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

本発明の電磁波シールド用フィルム10は、導電性材料を含有する第1導電体層31と、導電性材料を含有する第2導電体層36および誘電体材料を含有する誘電体層35が積層された積層体32とを有する電磁波遮断層3を備えて構成されており、積層体32が、誘電体層35を第1導電体層31側にして第1導電体層31に積層されていることを特徴とする。   In the electromagnetic wave shielding film 10 of the present invention, a first conductor layer 31 containing a conductive material, a second conductor layer 36 containing a conductive material, and a dielectric layer 35 containing a dielectric material are laminated. The electromagnetic wave shielding layer 3 having the laminated body 32 is provided, and the laminated body 32 is laminated on the first conductor layer 31 with the dielectric layer 35 facing the first conductor layer 31. It is characterized by.

このような電磁波シールド用フィルム10によれば、電磁波遮断層3の軽量化・薄型化を図ることができるとともに、高周波帯域の電磁波まで吸収により遮断することができる。   According to the electromagnetic wave shielding film 10 as described above, the electromagnetic wave shielding layer 3 can be reduced in weight and thickness, and electromagnetic waves in a high frequency band can be blocked by absorption.

以下、この電磁波シールド用フィルムについて説明する。
<電磁波シールド用フィルム>
<第1実施形態>
図1は、本発明の電磁波シールド用フィルムの第1実施形態を示す縦断面図、図2は、図1に示す電磁波シールド用フィルムが備える電磁波遮断層を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、図1、2中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding film will be described.
<Electromagnetic wave shielding film>
<First Embodiment>
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a first embodiment of an electromagnetic wave shielding film of the present invention, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an electromagnetic wave shielding layer provided in the electromagnetic shielding film shown in FIG. In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. 1 and 2 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

電磁波シールド用フィルムは、基板5上の凹凸6を被覆するために用いられる電磁波シールド用フィルムである。   The electromagnetic wave shielding film is an electromagnetic wave shielding film used for covering the unevenness 6 on the substrate 5.

図1に示すように、本実施形態において、電磁波シールド用フィルム10は、保護層(保護シート)1と、電磁波遮断層3と、絶縁層2とを含んで構成され、電磁波遮断層3および絶縁層2は、保護層1の下面(一方の面)側から、電磁波遮断層3が保護層1に接触して、この順で積層されている。   As shown in FIG. 1, in the present embodiment, the electromagnetic wave shielding film 10 includes a protective layer (protective sheet) 1, an electromagnetic wave blocking layer 3, and an insulating layer 2. The layer 2 is laminated in this order with the electromagnetic wave shielding layer 3 coming into contact with the protective layer 1 from the lower surface (one surface) side of the protective layer 1.

なお、以下では、基板5上に電子部品4が搭載(載置)され、この電子部品4の搭載により基板5上に凸部65と凹部66とからなる凹凸6が形成されており、この凹凸6を電磁波シールド用フィルム10で被覆する場合について説明する。すなわち、基板5上に搭載された電子部品4を電磁波シールド用フィルム10で被覆する場合について説明する。なお、基板5上に搭載する電子部品4としては、例えば、フレキシブル回路基板(FPC)上に搭載されているLCDドライバーIC、タッチパネル周辺のIC+コンデンサまたは電子回路基板(マザーボード)が挙げられる。   In the following description, the electronic component 4 is mounted (placed) on the substrate 5, and the unevenness 6 including the convex portions 65 and the concave portions 66 is formed on the substrate 5 by mounting the electronic component 4. The case where 6 is covered with the electromagnetic wave shielding film 10 will be described. That is, the case where the electronic component 4 mounted on the substrate 5 is covered with the electromagnetic wave shielding film 10 will be described. Examples of the electronic component 4 mounted on the substrate 5 include an LCD driver IC mounted on a flexible circuit board (FPC), an IC + capacitor around the touch panel, or an electronic circuit board (motherboard).

以下、電磁波シールド用フィルム10が備える各層1、2、3について説明する。
<保護層1>
まず、保護層1について説明する。
Hereinafter, each layer 1, 2, and 3 with which the electromagnetic wave shielding film 10 is provided will be described.
<Protective layer 1>
First, the protective layer 1 will be described.

保護層(保護シート)1は、電磁波遮断層3の酸化による劣化を防止する機能を有する。さらに、保護層1は、可撓性を備え、後述する電子部品の被覆方法の貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10を用いて、基板5上の凹凸6に絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込むことで、この凹凸6を被覆する際に、押し込まれた絶縁層2および電磁波遮断層3が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能するものである。   The protective layer (protective sheet) 1 has a function of preventing deterioration of the electromagnetic wave shielding layer 3 due to oxidation. Further, the protective layer 1 has flexibility, and the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 are formed on the unevenness 6 on the substrate 5 by using the electromagnetic wave shielding film 10 in the attaching step of the electronic component coating method described later. By pressing, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 that have been pressed function as a protective (buffer) material that prevents breakage when the unevenness 6 is covered.

この保護層1の構成材料としては、特に限定されず、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、無軸延伸ポリプロピレンおよび二軸延伸ポリプロピレン等のポリプロピレン、環状オレフィンポリマー、シリコーン、スチレンエラストマー樹脂、スチレンブタジエンゴムのような樹脂材料が挙げられる。これらの中でも、無軸延伸ポリプロピレンを用いることが好ましい。これにより、保護層1の絶縁層2および電磁波遮断層3に対する保護性、さらには耐熱性を向上させることができる。   The constituent material of the protective layer 1 is not particularly limited. For example, syndiotactic polystyrene, polymethylpentene, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polypropylene such as non-axially oriented polypropylene and biaxially oriented polypropylene, cyclic olefin polymers, Examples thereof include resin materials such as silicone, styrene elastomer resin, and styrene butadiene rubber. Among these, it is preferable to use non-axially stretched polypropylene. Thereby, the protection with respect to the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 of the protective layer 1 and further the heat resistance can be improved.

また、保護層1の常温(25℃)における貯蔵弾性率は、2.0E+02〜5.0E+10Paであるのが好ましく、2.0E+03〜5.0E+09Paであるのがより好ましく、2.0E+04〜3.0E+09Paであるのがさらに好ましい。このように、保護層1の常温(25℃)における貯蔵弾性率を、前記範囲内に設定することにより、保護層1は可撓性を有するものであると言うことができ、電磁波シールド用フィルム10を用いて、基板5上の凹凸6を被覆する際に、絶縁層2および電磁波遮断層3に破断を生じさせることなく絶縁層2および電磁波遮断層3を凹凸6の形状に対応した状態で押し込むことができる。その結果、この凹凸6が設けられた基板5が、破断の発生が防止された電磁波遮断層3をもって、凹凸6の形状に追従した状態で被覆されるようになるため、この電磁波遮断層3による凹凸6が設けられた基板5に対する電磁波シールド(遮断)性が向上することとなる。   The storage elastic modulus of the protective layer 1 at normal temperature (25 ° C.) is preferably 2.0E + 02 to 5.0E + 10 Pa, more preferably 2.0E + 03 to 5.0E + 09 Pa, and 2.0E + 04 to 3. More preferably, it is 0E + 09 Pa. Thus, by setting the storage elastic modulus at normal temperature (25 ° C.) of the protective layer 1 within the above range, it can be said that the protective layer 1 has flexibility, and an electromagnetic shielding film. 10 is used to cover the irregularities 6 on the substrate 5 without causing the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 to break, so that the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 correspond to the shapes of the irregularities 6. Can be pushed in. As a result, the substrate 5 provided with the unevenness 6 is covered with the electromagnetic wave blocking layer 3 in which the occurrence of breakage is prevented, following the shape of the unevenness 6. The electromagnetic wave shielding (blocking) property to the substrate 5 provided with the unevenness 6 is improved.

保護層1の厚みは、特に限定されないが、3μm以上、20μm以下であることが好ましく、5μm以上、15μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは7μm以上、12μm以下である。保護層1の厚みが前記下限値未満である場合、保護層1ひいては絶縁層2および電磁波遮断層3が破断し、その電磁波シールド性が低下するおそれがある。また、保護層1の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム10を用いて被覆する基板5の設計によっては、基板5を電磁波シールド用フィルム10で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。   Although the thickness of the protective layer 1 is not specifically limited, It is preferable that they are 3 micrometers or more and 20 micrometers or less, It is more preferable that they are 5 micrometers or more and 15 micrometers or less, More preferably, they are 7 micrometers or more and 12 micrometers or less. When the thickness of the protective layer 1 is less than the lower limit, the protective layer 1 and thus the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 may be broken, and the electromagnetic shielding properties thereof may be reduced. Further, when the thickness of the protective layer 1 exceeds the upper limit, depending on the design of the substrate 5 covered with the electromagnetic wave shielding film 10, the weight and thickness of the laminate in which the substrate 5 is covered with the electromagnetic wave shielding film 10 can be reduced. May not be realized.

さらに、保護層1は、その電磁波遮断層3側の面に、粘着剤層を備えるものであってもよい。すなわち、電磁波遮断層3は、粘着剤層を介して保護層1に接合されたものであってもよい。これにより、保護層1と電磁波遮断層3との粘着性(密着性)の向上が図られる。   Furthermore, the protective layer 1 may include a pressure-sensitive adhesive layer on the surface on the electromagnetic wave shielding layer 3 side. That is, the electromagnetic wave shielding layer 3 may be bonded to the protective layer 1 via the pressure-sensitive adhesive layer. Thereby, the adhesiveness (adhesiveness) of the protective layer 1 and the electromagnetic wave shielding layer 3 is improved.

この粘着剤層は、例えば、主として、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤およびゴム系粘着剤等のうちの少なくとも1種からなる粘着剤で構成される。   This pressure-sensitive adhesive layer is mainly composed of, for example, a pressure-sensitive adhesive made of at least one of an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, and a rubber-based pressure-sensitive adhesive.

アクリル系粘着剤としては、例えば、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルで構成される樹脂、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルと、それらと共重合可能な不飽和単量体(例えば酢酸ビニル、スチレン、アクリルニトリル等)との共重合体等が挙げられる。また、これらの樹脂を2種類以上混合したものが挙げられる。   Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include resins composed of (meth) acrylic acid and esters thereof, (meth) acrylic acid and esters thereof, and unsaturated monomers copolymerizable therewith (for example, vinyl acetate). , Styrene, acrylonitrile and the like) and the like. Moreover, what mixed 2 or more types of these resin is mentioned.

また、これらの中でも、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシルおよび(メタ)アクリル酸ブチルからなる群から選ばれる1種以上と、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルおよび酢酸ビニルの中から選ばれる1種以上との共重合体が好ましい。これにより、粘着層が粘着する電磁波遮断層3との密着性や粘着性の制御が容易になる。   Among these, one or more selected from the group consisting of methyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate, and hydroxyethyl (meth) acrylate and vinyl acetate A copolymer with one or more selected is preferred. Thereby, control of adhesiveness and adhesiveness with the electromagnetic wave shielding layer 3 to which the adhesive layer adheres becomes easy.

この場合、粘着剤層には、粘着性(接着性)を制御するためにウレタンアクリレート、アクリレートモノマー、多価イソシアネート化合物(例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート)等のイソシアネート化合物等のモノマーおよびオリゴマーが含まれていてもよい。   In this case, the pressure-sensitive adhesive layer has a urethane acrylate, an acrylate monomer, a polyvalent isocyanate compound (for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate), etc. in order to control adhesiveness (adhesiveness). Monomers and oligomers such as isocyanate compounds may be included.

また、ゴム系粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、イソプレンゴム系、スチレン−ブタジエン系、再生ゴム系、ポリイソブチレン系のものや、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−ブタジエン−スチレン等のゴムを含むブロック共重合体を主とするもの等が挙げられる。   Examples of rubber-based adhesives include natural rubber-based, isoprene rubber-based, styrene-butadiene-based, recycled rubber-based, and polyisobutylene-based rubbers, and rubbers such as styrene-isoprene-styrene and styrene-butadiene-styrene. The thing etc. which mainly have the block copolymer containing are mentioned.

さらに、シリコーン系粘着剤としては、例えば、ジメチルシロキサン系、ジフェニルシロキサン系のもの等が挙げられる。   Furthermore, examples of the silicone-based pressure-sensitive adhesive include dimethylsiloxane-based and diphenylsiloxane-based ones.

なお、粘着剤層に含まれる粘着剤は、硬化型および非硬化型のいずれであってもよいが、硬化型の場合、粘着剤層には、架橋剤が添加されていてもよい。この架橋剤としては、例えば、エポキシ系化合物、イソシアナート系化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシド、金属塩、アミン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド系化合物等が挙げられる。   The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer may be either a curable type or a non-curable type, but in the case of a curable type, a crosslinking agent may be added to the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the crosslinking agent include epoxy compounds, isocyanate compounds, metal chelate compounds, metal alkoxides, metal salts, amine compounds, hydrazine compounds, aldehyde compounds, and the like.

また、硬化型の場合、粘着剤層には、粘着剤層を紫外線等の光の照射により硬化させる光重合開始剤が添加されていてもよい。この光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフエノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾインイソブチルエーテル系化合物、ベンゾイン安息香酸メチル系化合物、ベンゾイン安息香酸系化合物、ベンゾインメチルエーテル系化合物、ベンジルフェニルサルファイド系化合物、ベンジル系化合物、ジベンジル系化合物、ジアセチル系化合物等が挙げられる。   In the case of the curable type, a photopolymerization initiator that cures the pressure-sensitive adhesive layer by irradiation with light such as ultraviolet rays may be added to the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the photopolymerization initiator include methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) -phenyl]- Acetophenone compounds such as 2-morpholinopropane-1, benzophenone compounds, benzoin compounds, benzoin isobutyl ether compounds, benzoin methyl benzoate compounds, benzoin benzoic acid compounds, benzoin methyl ether compounds, benzyl phenyl sulfide compounds Benzyl compounds, dibenzyl compounds, diacetyl compounds and the like.

さらに、粘着剤層には、その接着強度およびシェア強度を高める目的で、ロジン樹脂、テルペン樹脂、クマロン樹脂、フェノール樹脂、スチレン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族系石油樹脂等の粘着付与材等が添加されていてもよい。   Furthermore, the adhesive layer has a rosin resin, terpene resin, coumarone resin, phenol resin, styrene resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, aliphatic aromatic for the purpose of increasing its adhesive strength and shear strength. A tackifier such as a petroleum petroleum resin may be added.

また、粘着剤層には、例えば、可塑剤、粘着付与剤、増粘剤、充填剤、老化防止剤、防腐剤、防カビ剤、染料、顔料等の各種添加剤が必要に応じ添加されていてもよい。   In addition, various additives such as a plasticizer, a tackifier, a thickener, a filler, an anti-aging agent, an antiseptic, an antifungal agent, a dye, and a pigment are added to the adhesive layer as necessary. May be.

<電磁波遮断層3>
次に、電磁波遮断層(遮断層)3について説明する。
<Electromagnetic wave blocking layer 3>
Next, the electromagnetic wave blocking layer (blocking layer) 3 will be described.

電磁波遮断層3は、基板5上に設けられた電子部品4と、この電磁波遮断層3を介して、基板5(電子部品4)と反対側に位置する他の電子部品等とを、これら少なくとも一方から生じる電磁波を遮断(シールド)する機能を有する。   The electromagnetic wave shielding layer 3 includes an electronic component 4 provided on the substrate 5, and other electronic components located on the opposite side of the substrate 5 (electronic component 4) via the electromagnetic wave shielding layer 3. It has a function of shielding (shielding) electromagnetic waves generated from one side.

ここで、前述のとおり、電磁波遮断層(遮断層)3が電磁波を遮断する機能を発揮するには、電磁波遮断層に入射した電磁波を反射することにより遮断(遮蔽)する反射層と、電磁波遮断層に入射した電磁波を吸収することにより遮断(遮蔽)する吸収層とが知られている。   Here, as described above, in order for the electromagnetic wave blocking layer (blocking layer) 3 to exhibit the function of blocking electromagnetic waves, the reflective layer that blocks (shields) the electromagnetic wave incident on the electromagnetic wave blocking layer by reflecting the electromagnetic wave, and the electromagnetic wave blocking An absorption layer that is shielded (shielded) by absorbing electromagnetic waves incident on the layer is known.

このような反射層と吸収層とでは、これらが、ほぼ同一の電磁波シールド性を有していると仮定した場合、吸収層では、吸収層に入射した電磁波を吸収し、熱エネルギーに変換することで遮断して、この吸収により電磁波を消滅させる。そのため、反射層のように反射した電磁波が電磁波遮断層で被覆されていない他の部材等に対して誤作動等の悪影響をおよぼしてしまうのを確実に防止することができるという観点から、電磁波遮断層を吸収層で構成するのが好ましい。   In such a reflection layer and an absorption layer, assuming that they have almost the same electromagnetic shielding properties, the absorption layer absorbs electromagnetic waves incident on the absorption layer and converts them into thermal energy. The electromagnetic wave is extinguished by this absorption. Therefore, from the standpoint that it is possible to reliably prevent the reflected electromagnetic wave, such as the reflective layer, from adversely affecting the other members that are not covered with the electromagnetic wave blocking layer. The layer is preferably composed of an absorbent layer.

そこで、本発明者は、吸収により遮断し得る電磁波遮断層(吸収層)について鋭意検討を重ねた結果、電磁波遮断層3を、導電性材料を含有する第1導電体層31と、導電性材料を含有する第2導電体層36および誘電体材料を含有する誘電体層35が積層された積層体32とを有し、この積層体32が、誘電体層35を第1導電体層31側にして積層されている構成とすることで、電磁波遮断層3を、高周波帯域のものまで効果的に吸収により電磁波を遮断する吸収層とし得ることを見出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, as a result of intensive studies on an electromagnetic wave blocking layer (absorbing layer) that can be blocked by absorption, the inventor has determined that the electromagnetic wave blocking layer 3 includes the first conductor layer 31 containing a conductive material and the conductive material. A second conductor layer 36 containing a dielectric layer 35 and a dielectric layer 35 containing a dielectric material are laminated, and the laminate 32 has the dielectric layer 35 on the first conductor layer 31 side. As a result of being laminated, the electromagnetic wave blocking layer 3 was found to be an absorption layer that effectively blocks electromagnetic waves by absorption up to the high frequency band, and the present invention has been completed.

この電磁波遮断層3は、本実施形態では、図2に示すように、上側(保護層1側)から、第1導電体層31、誘電体層35および第2導電体層36がこの順で積層されており、1つの誘電体層35を2つの導電体層31、36で挾持した構成となっている。すなわち、第1導電体層31に、誘電体層35を第1導電体層31側にして1つの積層体32が積層されている。かかる構成とすることで、電磁波遮断層3は、コンデンサと同様の構造を有するものとなり、電磁波遮断層3がコンデンサとして機能するコンデンサ効果により、電磁波遮断層3は、高周波帯域のものまで効果的に吸収により電磁波を遮断する吸収層とし機能するものと推察される。   In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the electromagnetic wave shielding layer 3 includes the first conductor layer 31, the dielectric layer 35, and the second conductor layer 36 in this order from the upper side (the protective layer 1 side). In this configuration, one dielectric layer 35 is sandwiched between two conductor layers 31 and 36. In other words, one stacked body 32 is stacked on the first conductive layer 31 with the dielectric layer 35 facing the first conductive layer 31. By adopting such a configuration, the electromagnetic wave shielding layer 3 has a structure similar to that of a capacitor, and the electromagnetic wave shielding layer 3 is effective even in a high frequency band due to the capacitor effect that the electromagnetic wave shielding layer 3 functions as a capacitor. It is assumed that it functions as an absorption layer that blocks electromagnetic waves by absorption.

以下、電磁波遮断層3を構成する各層31、35、36について説明する。
(第1導電体層および第2導電体層)
第1導電体層31および第2導電体層36は、ともに、導電性材料を含有し、これにより、これら同士の間に誘電体材料(誘電性材料)を含有する誘電体層35が介在することで、電磁波遮断層3にコンデンサとしての機能を発揮させるためのものである。
Hereinafter, the layers 31, 35, and 36 constituting the electromagnetic wave shielding layer 3 will be described.
(First conductor layer and second conductor layer)
Both the first conductor layer 31 and the second conductor layer 36 contain a conductive material, and thereby a dielectric layer 35 containing a dielectric material (dielectric material) is interposed therebetween. In this way, the electromagnetic wave blocking layer 3 can function as a capacitor.

このような導電体層31、36は、如何なる導電性材料を含有するものであってもよく、この導電性材料としては、例えば、導電性高分子、金属および金属酸化物のうちの少なくとも1種を含む金属系粒子、ならびに、炭素系材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、中でも、導電性高分子を含むものであることが好ましい。これにより、導電性高分子を含む導電体層31、36の膜厚(厚み)を比較的薄く設定したとしても、電磁波遮断層3に、特に優れた吸収性を発揮させることができる。したがって、電磁波遮断層3に、吸収層としての機能を発揮させつつ、その薄膜化および軽量化が可能である。   Such conductor layers 31 and 36 may contain any conductive material. Examples of the conductive material include at least one of a conductive polymer, a metal, and a metal oxide. Among these, metal particles containing carbon and carbon-based materials can be used, and one or more of these can be used in combination. Among them, a conductive polymer is preferably included. Thereby, even if the film thickness (thickness) of the conductor layers 31 and 36 containing the conductive polymer is set to be relatively thin, the electromagnetic wave blocking layer 3 can exhibit particularly excellent absorbability. Accordingly, it is possible to reduce the thickness and weight of the electromagnetic wave shielding layer 3 while exhibiting the function as the absorbing layer.

導電性高分子としては、例えば、ポリアセチレン、ポリピロール、PEDOT(poly−ethylenedioxythiophene)、PEDOT/PSS、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(p−フェニレン)、ポリフルオレン、ポリカルバゾール、ポリシランまたはこれらの誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンであるのが好ましい。これらによれば、前述した導電性高分子を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。   Examples of the conductive polymer include polyacetylene, polypyrrole, PEDOT (poly-ethylenedioxythiophene), PEDOT / PSS, polythiophene, polyaniline, poly (p-phenylene), polyfluorene, polycarbazole, polysilane, and derivatives thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, polyaniline, PEDOT / PSS, polypyrrole and polythiophene are preferable. According to these, the effect acquired by using the conductive polymer mentioned above can be exhibited more notably.

なお、金属系粒子としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、またはこれらを含む合金のような金属、および、AFe(式中、Aは、Mn、Co、Ni、CuまたはZnである)で表されるフェライト、ITO、ATO、FTOのような金属酸化物等を含むものが挙げられる。 Examples of the metal-based particles include gold, silver, copper, iron, nickel and aluminum, or a metal such as an alloy containing these, and AFe 2 O 4 (where A is Mn, Co, Ni Or a metal oxide such as ITO, ATO, or FTO.

金属系粒子の平均粒径は、1.0μm以上10.0μm以下であるのが好ましく、4.5μm以上7.5μm以下であるのがより好ましい。これにより、金属系粒子を導電体層31、36中に均一に分散させることができる。そのため、導電体層31、36を、この導電体層としての特性をその全体に亘って均質に発揮するものとできる。   The average particle diameter of the metal-based particles is preferably 1.0 μm or more and 10.0 μm or less, and more preferably 4.5 μm or more and 7.5 μm or less. As a result, the metal particles can be uniformly dispersed in the conductor layers 31 and 36. Therefore, the conductor layers 31 and 36 can exhibit the characteristic as this conductor layer uniformly over the whole.

また、炭素系材料としては、例えば、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブのようなカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、CNナノチューブ、CNナノファイバー、BCNナノチューブ、BCNナノファイバー、グラフェンや、カーボンマイクロコイル、カーボンナノコイル、カーボンナノホーン、カーボンナノウォール、カーボンブラックのような炭素等が挙げられる。   Examples of carbon-based materials include carbon nanotubes such as single-walled carbon nanotubes and multi-walled carbon nanotubes, carbon nanofibers, CN nanotubes, CN nanofibers, BCN nanotubes, BCN nanofibers, graphene, carbon microcoils, carbon Examples thereof include carbon such as nanocoil, carbon nanohorn, carbon nanowall, and carbon black.

さらに、導電体層31、36は、その構成材料として、導電性材料の他に、バインダー樹脂を含有するものであることが好ましい。これにより、導電性材料を導電体層31、36中により均一に分散させることができるため、導電体層31、36を、前述した特性を均質に発揮するものとできる。また、導電性材料を、それぞれ、容易に目的とする含有量に設定することができるようになるため、電磁波遮断層3にコンデンサとしての機能を確実に発揮させることができる。   Furthermore, it is preferable that the conductor layers 31 and 36 contain a binder resin as a constituent material in addition to the conductive material. As a result, the conductive material can be more uniformly dispersed in the conductor layers 31 and 36, so that the conductor layers 31 and 36 can exhibit the above-described characteristics uniformly. In addition, each of the conductive materials can be easily set to a desired content, so that the electromagnetic wave shielding layer 3 can reliably function as a capacitor.

なお、バインダー樹脂としては、各種樹脂材料を用いることができ特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性エラストマー等の熱硬化性樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマーのような熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Various resin materials can be used as the binder resin, and are not particularly limited. For example, thermosetting resins such as epoxy resins, phenol resins, amino resins, unsaturated polyester resins, thermosetting elastomers, acrylic resins, Examples include thermoplastic resins such as polyester resins, vinyl chloride resins, styrene resins, styrene thermoplastic elastomers, thermoplastic elastomers such as olefin thermoplastic elastomers, and one or more of these are used in combination. be able to.

また、導電体層31、36の平均層厚みTは、特に限定されないが、0.5μm以上、30μm以下であることが好ましく、1μm以上、20μm以下であることがより好ましい。導電体層31、36の厚みが前記下限値未満である場合、導電体層31、36の構成材料等によっては、基板搭載部品の端部で破断するおそれがある。また、導電体層31、36の厚みが前記上限値を超える場合、導電体層31、36の構成材料等によっては形状追従性が不足するおそれがある。また、かかる範囲内の厚みTとしても、優れた電磁波シールド性を発揮させることができるため、導電体層31、36の厚みTの薄膜化を実現すること、ひいては、基板5上において絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆された電子部品4が搭載された電子部品搭載基板の軽量化を実現することができる。   The average layer thickness T of the conductor layers 31 and 36 is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the conductor layers 31 and 36 is less than the lower limit, depending on the constituent material of the conductor layers 31 and 36, there is a possibility of breaking at the end of the board mounted component. Moreover, when the thickness of the conductor layers 31 and 36 exceeds the said upper limit, depending on the constituent material etc. of the conductor layers 31 and 36, there exists a possibility that shape followability may be insufficient. Moreover, since the excellent electromagnetic wave shielding property can be exhibited even with the thickness T within such a range, it is possible to reduce the thickness T of the conductor layers 31 and 36, and consequently, the insulating layer 2 on the substrate 5. And the weight reduction of the electronic component mounting board | substrate with which the electronic component 4 coat | covered with the electromagnetic wave shielding layer 3 was mounted is realizable.

なお、第1導電体層31および第2導電体層36に含まれる導電性材料は、第1導電体層31と第2導電体層36とで同一(同種)のものであっても良いし、異なるものであってもよい。さらに、第1導電体層31および第2導電体層36の平均層厚みTは、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。   The conductive material contained in the first conductor layer 31 and the second conductor layer 36 may be the same (same type) in the first conductor layer 31 and the second conductor layer 36. May be different. Furthermore, the average layer thickness T of the first conductor layer 31 and the second conductor layer 36 may be the same or different.

(誘電体層)
誘電体層35は、誘電体材料を含有し、これにより、このものを、導電性材料を含有する導電体層31、36で挾持することで、電磁波遮断層3にコンデンサとしての機能を発揮させるためのものである。
(Dielectric layer)
The dielectric layer 35 contains a dielectric material, and by holding this with the conductor layers 31 and 36 containing a conductive material, the electromagnetic wave blocking layer 3 functions as a capacitor. Is for.

このような誘電体層35は、如何なる誘電体材料を含有するものであってもよく、この誘電体材料としては、例えば、セラミックス材料、ガラス材料および樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、中でも、セラミックス材料を含むものであることが好ましい。これにより、セラミックス材料を含む誘電体層35の膜厚(厚み)を比較的薄く設定したとしても、電磁波遮断層3に、特に優れた吸収性を発揮させることができる。したがって、電磁波遮断層3に、吸収層としての機能を発揮させつつ、その薄膜化および軽量化が可能である。   Such a dielectric layer 35 may contain any dielectric material, and examples of the dielectric material include ceramic materials, glass materials, resin materials, and the like. Although it can be used in combination of seeds or two or more, it is preferable to include a ceramic material. Thereby, even if the film thickness (thickness) of the dielectric layer 35 containing the ceramic material is set to be relatively thin, the electromagnetic wave blocking layer 3 can exhibit particularly excellent absorbability. Accordingly, it is possible to reduce the thickness and weight of the electromagnetic wave shielding layer 3 while exhibiting the function as the absorbing layer.

セラミックス材料としては、例えば、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、シリカ、チタニア、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、チタン酸バリウム、ペロブスカイト型チタン酸ジルコン酸バリウムカルシウム結晶粒子(BCTZ型結晶粒子)等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、チタン酸バリウム(BaTiO)、ペロブスカイト型チタン酸ジルコン酸バリウムカルシウム結晶粒子(BCTZ型結晶粒子)、チタニア(TiO)、アルミナ(Al)、ジルコニア(ZrO)、炭化ケイ素(SiC)および窒化アルミニウム(AlN)であるのが好ましい。これらによれば、前述した導電性高分子を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。
なお、ガラス材料としては、例えば、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
Examples of the ceramic material include alumina, zirconia, magnesia, silica, titania, aluminum nitride, silicon nitride, silicon carbide, barium titanate, perovskite-type barium calcium zirconate titanate crystal particles (BCTZ-type crystal particles), and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, barium titanate (BaTiO 3 ), perovskite-type barium calcium zirconate titanate crystal particles (BCTZ-type crystal particles), titania (TiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), zirconia (ZrO 2 ), carbonized Silicon (SiC) and aluminum nitride (AlN) are preferred. According to these, the effect acquired by using the conductive polymer mentioned above can be exhibited more notably.
Examples of the glass material include quartz glass and borosilicate glass.

また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリフッ化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイド、フェノール樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin material include polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, polyethylene terephthalate, polyvinylidene fluoride, polyphenylene sulfide, phenol resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, and epoxy resin.

さらに、誘電体層35は、その構成材料に、セラミックス材料および/またはガラス材料が誘電体材料として含まれる場合、その全体が誘電体材料で構成されるものであっても良いが、誘電体材料の他に、バインダー樹脂を含有するものであることが好ましい。これにより、誘電体材料を誘電体層35中により均一に分散させることができるため、誘電体層35を、前述した特性を均質に発揮し得るものとできる。また、誘電体材料を、それぞれ、容易に目的とする含有量に設定することができるようになるため、電磁波遮断層3にコンデンサとしての機能を確実に発揮させることができる。   Furthermore, when the dielectric layer 35 includes a ceramic material and / or a glass material as a dielectric material, the dielectric layer 35 may be entirely composed of a dielectric material. In addition, it is preferable to contain a binder resin. As a result, the dielectric material can be more uniformly dispersed in the dielectric layer 35, so that the dielectric layer 35 can exhibit the above-described characteristics uniformly. In addition, each of the dielectric materials can be easily set to a target content, so that the electromagnetic wave shielding layer 3 can reliably function as a capacitor.

なお、バインダー樹脂としては、導電体層31、36に含まれるバインダー樹脂として説明したのと同様のものを用いることができる。   In addition, as a binder resin, the thing similar to having demonstrated as binder resin contained in the conductor layers 31 and 36 can be used.

また、誘電体層35の平均層厚みTは、特に限定されないが、0.5μm以上、30μm以下であることが好ましく、1μm以上、20μm以下であることがより好ましい。誘電体層35の厚みが前記下限値未満である場合、誘電体層35の構成材料等によっては、基板搭載部品の端部で破断するおそれがある。また、誘電体層35の厚みが前記上限値を超える場合、誘電体層35の構成材料等によっては形状追従性が不足するおそれがある。また、かかる範囲内の厚みTとしても、優れた電磁波シールド性を発揮させることができるため、誘電体層35の厚みTの薄膜化を実現すること、ひいては、基板5上において絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆された電子部品4が搭載された電子部品搭載基板の軽量化を実現することができる。   The average layer thickness T of the dielectric layer 35 is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the dielectric layer 35 is less than the lower limit, depending on the constituent material of the dielectric layer 35, there is a risk of breakage at the end of the board-mounted component. Further, when the thickness of the dielectric layer 35 exceeds the upper limit value, the shape following property may be insufficient depending on the constituent material of the dielectric layer 35 and the like. Moreover, since the excellent electromagnetic wave shielding property can be exhibited even when the thickness T is within such a range, it is possible to reduce the thickness T of the dielectric layer 35, and consequently, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave on the substrate 5. The weight reduction of the electronic component mounting board on which the electronic component 4 covered with the blocking layer 3 is mounted can be realized.

なお、電磁波遮断層3は、その150℃における貯蔵弾性率が1.0E+05〜1.0E+09Paであるのが好ましく、5.0E+05〜5.0E+08Paであるのがより好ましい。前記貯蔵弾性率をかかる範囲内に設定することにより、貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10の加熱の後、保護層1からの押圧力により、基板5上の凹凸6に絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込むことで、この凹凸6を被覆する際に、前記保護層1からの押圧力に応じて、電磁波遮断層3を凹凸6の形状に対応して変形させることができる。すなわち、電磁波遮断層3の凹凸6に対する形状追従性を向上させることができる。   In addition, as for the electromagnetic wave shielding layer 3, it is preferable that the storage elastic modulus in 150 degreeC is 1.0E + 05-1.0E + 09Pa, and it is more preferable that it is 5.0E + 05-5.0E + 08Pa. By setting the storage elastic modulus within such a range, in the pasting process, after heating the electromagnetic shielding film 10, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding are formed on the irregularities 6 on the substrate 5 by pressing force from the protective layer 1. By pressing the layer 3, the electromagnetic wave shielding layer 3 can be deformed corresponding to the shape of the unevenness 6 according to the pressing force from the protective layer 1 when the unevenness 6 is covered. That is, the shape followability of the electromagnetic wave shielding layer 3 with respect to the unevenness 6 can be improved.

<絶縁層2>
次に、絶縁層2について説明する。
<Insulating layer 2>
Next, the insulating layer 2 will be described.

絶縁層2は、電磁波遮断層3に接触して設けられ、保護層1側から電磁波遮断層3、絶縁層2の順で積層されている。このように積層された絶縁層2および電磁波遮断層3を備える電磁波シールド用フィルム10を用いて基板5上の凹凸6を被覆することで、基板5および電子部品4に絶縁層2が接触し、基板5側から絶縁層2、電磁波遮断層3の順で被覆することとなる。   The insulating layer 2 is provided in contact with the electromagnetic wave shielding layer 3, and the electromagnetic wave shielding layer 3 and the insulating layer 2 are laminated in this order from the protective layer 1 side. The insulating layer 2 is in contact with the substrate 5 and the electronic component 4 by covering the unevenness 6 on the substrate 5 using the electromagnetic wave shielding film 10 including the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 laminated in this manner, The insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 are coated in this order from the substrate 5 side.

このように、本実施形態では、絶縁層2は、基板5および電子部品4を被覆し、これにより、基板5上で隣接する電子部品4同士を絶縁するとともに、基板5および電子部品4を、絶縁層2を介して基板5と反対側に位置する電磁波遮断層3および他の部材(電子部品等)から絶縁する。   Thus, in the present embodiment, the insulating layer 2 covers the substrate 5 and the electronic component 4, thereby insulating the adjacent electronic components 4 on the substrate 5, and the substrate 5 and the electronic component 4. It insulates from the electromagnetic wave shielding layer 3 and other members (electronic parts etc.) located on the opposite side to the substrate 5 through the insulating layer 2.

この絶縁層2としては、例えば、熱硬化性を有する絶縁樹脂または熱可塑性を有する絶縁樹脂(絶縁フィルム)が挙げられる。これらの中でも、熱可塑性を有する絶縁樹脂を用いることが好ましい。熱可塑性を有する絶縁樹脂は、屈曲性に優れたフィルムであることから、後述する貼付工程において、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、絶縁層2を、凹凸6の形状に対応して容易に追従させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂は、その軟化点温度に加熱すると、接着対象の基板から再剥離することができるので、基板の修理の際には、特に有用である。   Examples of the insulating layer 2 include a thermosetting insulating resin or a thermoplastic insulating resin (insulating film). Among these, it is preferable to use an insulating resin having thermoplasticity. Since the insulating resin having thermoplasticity is a film having excellent flexibility, when the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 are pushed into the unevenness 6 on the substrate 5 in the pasting step described later, the insulating layer 2 Can be easily followed in accordance with the shape of the irregularities 6. In addition, an insulating resin having thermoplasticity is particularly useful when repairing a substrate because it can be re-peeled from the substrate to be bonded when heated to its softening point temperature.

熱可塑性を有する絶縁樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性ポリエステル、α−オレフィン、酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、エチレン酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル、ポリアミド、セルロースが挙げられる。これらの中でも基板との密着性、屈曲性、耐薬品性に優れるという理由から熱可塑性ポリエステル、α−オレフィンを用いることが好ましい。   Examples of the insulating resin having thermoplasticity include thermoplastic polyesters such as polyethylene terephthalate, α-olefin, vinyl acetate, polyvinyl acetal, ethylene vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic, polyamide, and cellulose. Among these, it is preferable to use thermoplastic polyesters and α-olefins because they are excellent in adhesion to the substrate, flexibility and chemical resistance.

さらに、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、耐熱性や耐屈曲性等の性能を損なわない範囲で、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ユリア系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂等を含有させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、後述する導電性接着剤層の場合と同様に、接着性、耐ハンダリフロー性を劣化させない範囲で、シランカップリング剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤等を添加してもよい。   Furthermore, the insulating resin having thermoplasticity is a phenolic resin, a silicone resin, a urea resin, an acrylic resin, a polyester resin, a polyamide resin, as long as the performance such as heat resistance and flex resistance is not impaired. A polyimide resin or the like can be contained. In addition, in the insulating resin having thermoplasticity, as in the case of the conductive adhesive layer described later, a silane coupling agent, an antioxidant, a pigment, a dye, as long as the adhesiveness and solder reflow resistance are not deteriorated. You may add tackifying resin, a plasticizer, a ultraviolet absorber, an antifoamer, a leveling regulator, a filler, a flame retardant, etc.

絶縁層2の厚みT(D)は、特に限定されないが、3μm以上、50μm以下であることが好ましく、4μm以上、30μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは5μm以上、20μm以下である。絶縁層2の厚みが前記下限値未満である場合、耐ハゼ折り性が不足し、凹凸6への熱圧着後に折り曲げ部にてクラックが発生したり、フィルム強度が低下し、電磁波遮断層3の絶縁性支持体としての役割を担うことが難しい。前記上限値を超える場合、形状追従性が不足するおそれがある。すなわち、絶縁層2の厚みT(D)を前記範囲内に設定することにより、絶縁層2に屈曲性を確実に付与することができ、貼付工程において、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、絶縁層2を、凹凸6の形状に対応して容易に追従させることができる。また、絶縁層2の厚みT(D)の薄膜化を実現すること、ひいては、絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆された電子部品4が搭載された基板5の軽量化および薄型化を実現することができる。   The thickness T (D) of the insulating layer 2 is not particularly limited, but is preferably 3 μm or more and 50 μm or less, more preferably 4 μm or more and 30 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 20 μm or less. When the thickness of the insulating layer 2 is less than the lower limit value, the resistance to goby folds is insufficient, cracks occur at the bent portion after thermocompression bonding to the irregularities 6, the film strength decreases, and the electromagnetic wave shielding layer 3 It is difficult to play a role as an insulating support. If the upper limit is exceeded, shape followability may be insufficient. That is, by setting the thickness T (D) of the insulating layer 2 within the above range, the insulating layer 2 can be reliably provided with flexibility, and in the pasting process, the insulating layer 2 is insulated against the unevenness 6 on the substrate 5. When the layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 are pushed in, the insulating layer 2 can easily follow the shape of the irregularities 6. In addition, the thickness T (D) of the insulating layer 2 can be reduced, and the substrate 5 on which the electronic component 4 covered with the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 is mounted can be reduced in weight and thickness. can do.

また、絶縁層2の25〜150℃における平均線膨張係数は、50〜1000[ppm/℃]であるのが好ましく、100〜700[ppm/℃]であるのがより好ましい。絶縁層2の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10の加熱時において、絶縁層2は、優れた伸縮性を有するものとなるため、絶縁層2、さらには電磁波遮断層3の凹凸6に対する形状追従性が向上することとなる。   Moreover, it is preferable that the average linear expansion coefficient in 25-150 degreeC of the insulating layer 2 is 50-1000 [ppm / degrees C], and it is more preferable that it is 100-700 [ppm / degrees C]. By setting the average linear expansion coefficient of the insulating layer 2 within such a range, the insulating layer 2 has excellent stretchability when the electromagnetic wave shielding film 10 is heated. The shape followability with respect to the unevenness 6 of the electromagnetic wave shielding layer 3 is improved.

なお、この絶縁層2は、図1で示したように、1層で構成されるものの他、上述した絶縁フィルムのうち異なるものを積層させた2層以上の積層体であってもよい。   In addition, as shown in FIG. 1, this insulating layer 2 may be a laminated body of two or more layers in which different ones of the above-described insulating films are laminated, in addition to those constituted by one layer.

さらに、絶縁層2は、その電磁波遮断層3側の面、および、電磁波遮断層3と反対側の面の双方または何れか一方に、粘着剤層を備えるものであってもよい。これにより、電磁波遮断層3と絶縁層2との粘着性(密着性)および/または電磁波シールド用フィルム10で被覆する基板5と絶縁層2との粘着性(密着性)の向上が図られる。   Furthermore, the insulating layer 2 may be provided with a pressure-sensitive adhesive layer on both or any one of the surface on the electromagnetic wave shielding layer 3 side and the surface opposite to the electromagnetic wave shielding layer 3. Thereby, the adhesiveness (adhesiveness) between the electromagnetic wave shielding layer 3 and the insulating layer 2 and / or the adhesiveness (adhesiveness) between the substrate 5 covered with the electromagnetic wave shielding film 10 and the insulating layer 2 is improved.

この粘着剤層としては、前述した保護層1の説明で記載した粘着剤層と同様のものが挙げられる。   As this adhesive layer, the thing similar to the adhesive layer described by description of the protective layer 1 mentioned above is mentioned.

なお、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム10を、絶縁層2を備えるものとすることで、基板5および電子部品4を被覆し、これにより、基板5上で隣接する電子部品4同士を絶縁することとしたが、この絶縁層2による電子部品4同士の絶縁を必要としない場合には、この絶縁層2を省略することもできる。   In the present embodiment, the electromagnetic wave shielding film 10 includes the insulating layer 2 to cover the substrate 5 and the electronic component 4, thereby insulating the adjacent electronic components 4 on the substrate 5. However, when it is not necessary to insulate the electronic components 4 by the insulating layer 2, the insulating layer 2 can be omitted.

電磁波シールド用フィルム10を、上記のような構成の保護層1、電磁波遮断層3および絶縁層2を備えるものとすることにより、電磁波シールド用フィルム10の軽量化・薄型化を図ることができる。   By providing the electromagnetic wave shielding film 10 with the protective layer 1, the electromagnetic wave shielding layer 3, and the insulating layer 2 having the above-described configuration, the electromagnetic wave shielding film 10 can be reduced in weight and thickness.

また、電磁波シールド用フィルム10は、波長300nm以上、800nm以下における光線透過率が0.01%以上、30%以下であることが好ましく、0.01%以上、10%以下であることがより好ましい。これにより、光を吸収、遮断し電磁波遮断層3で被覆している内部すなわち電子部品4を見えなくすることができるため、例えば、電磁波遮断層3で被覆された電子部品搭載基板の流通時における電子部品4の秘匿性を担保することができるという利点が得られる。
なお、前記光線透過率は、例えば、紫外可視分光光度計により求めることができる。
The electromagnetic wave shielding film 10 preferably has a light transmittance of 0.01% or more and 30% or less at a wavelength of 300 nm or more and 800 nm or less, more preferably 0.01% or more and 10% or less. . As a result, it is possible to absorb and block light and to hide the inside covered with the electromagnetic wave shielding layer 3, that is, the electronic component 4, so that, for example, at the time of distribution of the electronic component mounting substrate coated with the electromagnetic wave shielding layer 3 The advantage that the secrecy of the electronic component 4 can be secured is obtained.
In addition, the said light transmittance can be calculated | required with an ultraviolet visible spectrophotometer, for example.

<第2実施形態>
次に、電磁波シールド用フィルムの第2実施形態について説明する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the electromagnetic wave shielding film will be described.

図3は、本発明の電磁波シールド用フィルムの第2実施形態が備える電磁波遮断層を示す縦断面図である。   FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing an electromagnetic wave shielding layer provided in the second embodiment of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.

以下、第2実施形態の電磁波シールド用フィルム10について、前記第1実施形態の電磁波シールド用フィルム10との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。   Hereinafter, the electromagnetic wave shielding film 10 of the second embodiment will be described with a focus on differences from the electromagnetic wave shielding film 10 of the first embodiment, and the description of the same matters will be omitted.

本実施形態の電磁波シールド用フィルム10は、構成が異なる電磁波遮断層3を備えること以外は、第1実施形態の電磁波シールド用フィルム10と同様である。   The electromagnetic wave shielding film 10 of the present embodiment is the same as the electromagnetic wave shielding film 10 of the first embodiment except that the electromagnetic wave shielding layer 3 having a different configuration is provided.

すなわち、第2実施形態の電磁波シールド用フィルム10において、電磁波遮断層3は、図3に示すように、上側(保護層1側)から、第1導電体層31、誘電体層35、第2導電体層36、誘電体層35および第2導電体層36がこの順で積層されており、上側の誘電体層35を2つの導電体層31、36で挾持し、下側の誘電体層35を2つの導電体層36で挾持した構成となっている。すなわち、第1導電体層31側に、誘電体層35を第1導電体層31側にして2つの積層体32が繰返し体として積層されている。このように積層体32を繰返し体として複数(本実施形態では2つ)備えることで、電磁波遮断層3は、その厚さ方向に沿って、複数(本実施形態では2つ)のコンデンサが並設されている構成をなしていると言うことができ、電磁波遮断層3にコンデンサとしての機能をより確実に付与することができる。そのため、電磁波遮断層3は、コンデンサ効果による電磁波の吸収をより効果的に行い得るものとなる。   That is, in the electromagnetic wave shielding film 10 of the second embodiment, the electromagnetic wave shielding layer 3 includes the first conductor layer 31, the dielectric layer 35, and the second layer from the upper side (the protective layer 1 side) as shown in FIG. The conductor layer 36, the dielectric layer 35, and the second conductor layer 36 are laminated in this order. The upper dielectric layer 35 is held between the two conductor layers 31, 36, and the lower dielectric layer is formed. 35 is held by two conductor layers 36. That is, two laminated bodies 32 are laminated on the first conductor layer 31 side as a repetitive body with the dielectric layer 35 on the first conductor layer 31 side. Thus, by providing a plurality (two in the present embodiment) of the laminates 32 as repeating bodies, the electromagnetic wave shielding layer 3 includes a plurality of (two in the present embodiment) capacitors in parallel along the thickness direction. It can be said that the configuration is provided, and the function as a capacitor can be more reliably imparted to the electromagnetic wave shielding layer 3. Therefore, the electromagnetic wave shielding layer 3 can more effectively absorb electromagnetic waves due to the capacitor effect.

なお、電磁波遮断層3が備える積層体32の数は、本実施形態のように2つの場合に限らず、3つ以上であってもよいが、好ましくは5個以上25個以下に設定される。   Note that the number of the stacked bodies 32 included in the electromagnetic wave shielding layer 3 is not limited to two as in the present embodiment, but may be three or more, but is preferably set to 5 or more and 25 or less. .

このような第2実施形態の電磁波シールド用フィルム10によっても、前記第1実施形態と同様の効果が得られる。   The effect similar to the said 1st Embodiment is acquired also by the electromagnetic wave shielding film 10 of such 2nd Embodiment.

<電子部品の被覆方法>
以上のような構成の電磁波シールド用フィルム10を用いて、例えば、以下のようにして、基板5上に搭載された電子部品4が被覆される。
<Method of coating electronic parts>
Using the electromagnetic wave shielding film 10 having the above configuration, for example, the electronic component 4 mounted on the substrate 5 is covered as follows.

図4は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第1の被覆方法を説明するための縦断面図である。   FIG. 4 is a longitudinal sectional view for explaining a first coating method of the electronic component coating method using the electromagnetic wave shielding film shown in FIG.

以下の電子部品の第1の被覆方法は、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程を有する。   The following first coating method for electronic components has a pasting step of pasting the electromagnetic shielding film 10 on the substrate 5 so that the insulating layer 2 and the electronic component 4 are adhered.

(貼付工程)
前記貼付工程とは、図4(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する工程である。
(Attaching process)
As shown in FIG. 4 (a), the pasting step is such that, in this embodiment, the electromagnetic wave shielding film 10 follows the unevenness 6 provided by mounting the electronic component 4 on the substrate 5. It is a process of sticking.

凹凸6に追従して貼付する方法としては、特に限定されないが、例えば、以下のような方法が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a method of sticking following the unevenness | corrugation 6, For example, the following methods are mentioned.

すなわち、まず、基板5の凹凸6が形成されている側の面と、電磁波シールド用フィルム10の絶縁層2側の面とが対向するように、基板5と電磁波シールド用フィルム10とを重ね合わせた状態でセットし、その後、これらを常温下において、電磁波シールド用フィルム10側から均一に電磁波シールド用フィルム10と基板5とが互いに接近するように、加圧することにより実施される。   That is, first, the substrate 5 and the electromagnetic wave shielding film 10 are overlapped so that the surface of the substrate 5 where the irregularities 6 are formed faces the surface of the electromagnetic wave shielding film 10 on the insulating layer 2 side. Then, these are carried out by applying pressure so that the electromagnetic wave shielding film 10 and the substrate 5 approach each other uniformly from the electromagnetic wave shielding film 10 side at room temperature.

このように電磁波シールド用フィルム10側から均一に加圧することで、保護層1が凹凸6の形状に追従し、さらに、これに併せて、保護層1よりも基板5側に位置する、絶縁層2および電磁波遮断層3も凹凸6の形状に追従する。これにより、凹凸6の形状に保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3が追従した状態で、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。   Thus, by uniformly pressing from the electromagnetic shielding film 10 side, the protective layer 1 follows the shape of the projections and depressions 6, and in addition to this, the insulating layer is located closer to the substrate 5 than the protective layer 1. 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 also follow the shape of the irregularities 6. Accordingly, the unevenness 6 is covered with the protective layer 1, the insulating layer 2, and the electromagnetic wave blocking layer 3 in a state where the protective layer 1, the insulating layer 2, and the electromagnetic wave blocking layer 3 follow the shape of the unevenness 6.

このような貼付工程において、貼付する温度は、常温であり、具体的には、5℃以上、35℃以下であることが好ましく、20℃以上、30℃以下であることがより好ましく、25℃であることがさらに好ましい。   In such a pasting step, the temperature to be pasted is normal temperature, specifically, preferably 5 ° C. or higher and 35 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or higher and 30 ° C. or lower, more preferably 25 ° C. More preferably.

また、貼付する圧力は、特に限定されないが、0.05MPa以上、0.5MPa以下であることが好ましく、より好ましくは0.1MPa以上、0.3MPa以下である。   The pressure to be applied is not particularly limited, but is preferably 0.05 MPa or more and 0.5 MPa or less, more preferably 0.1 MPa or more and 0.3 MPa or less.

さらに、貼付する時間は、特に限定されないが、1秒以上、60秒以下であることが好ましく、より好ましくは5秒以上、30秒以下である。   Furthermore, the sticking time is not particularly limited, but is preferably 1 second or longer and 60 seconds or shorter, more preferably 5 seconds or longer and 30 seconds or shorter.

貼付工程における条件を上記範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10側からの加圧による電子部品4の破損を招くことなく、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3が追従した状態で、これら絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を確実に被覆することができる。   By setting the conditions in the affixing step within the above range, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding against the unevenness 6 on the substrate 5 without causing damage to the electronic component 4 due to pressurization from the electromagnetic wave shielding film 10 side. The unevenness 6 can be reliably covered with the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 in a state in which the layer 3 follows.

以上のような工程を経ることにより、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を追従するように被覆することができる。なお、本実施形態のように、被覆した凹凸6に保護層1が残存する被覆方法では、基板5の反対側に位置する他の部材(電子部品等)と電磁波遮断層3とを絶縁する絶縁層としての機能を保護層1が発揮する。   By passing through the above processes, it can coat | cover so that the unevenness | corrugation 6 may follow by the protective layer 1, the insulating layer 2, and the electromagnetic wave shielding layer 3. FIG. In the covering method in which the protective layer 1 remains on the coated unevenness 6 as in the present embodiment, insulation that insulates the electromagnetic wave blocking layer 3 from other members (such as electronic components) located on the opposite side of the substrate 5. The protective layer 1 exhibits the function as a layer.

また、電子部品4の被覆は、電磁波シールド用フィルム10で凹凸6に追従して被覆する上述した方法の他、凹凸6に追従することなく、電子部品4を被覆するように行ってもよい。   Further, the electronic component 4 may be coated so as to cover the electronic component 4 without following the unevenness 6 in addition to the above-described method of covering the unevenness 6 with the electromagnetic wave shielding film 10.

図5は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第2の被覆方法を説明するための縦断面図である。   FIG. 5 is a longitudinal sectional view for explaining a second coating method of the electronic component coating method using the electromagnetic wave shielding film shown in FIG.

以下の電子部品の第2の被覆方法は、第1の被覆方法と同様に、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程を有する。   The second electronic component covering method described below includes an attaching step of attaching the electromagnetic wave shielding film 10 on the substrate 5 so that the insulating layer 2 and the electronic component 4 are adhered, as in the first covering method. .

(貼付工程)
この貼付工程では、図5(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従することなく貼付する。
(Attaching process)
In this pasting step, as shown in FIG. 5A, in this embodiment, the electromagnetic wave shielding film 10 is pasted on the unevenness 6 provided by mounting the electronic component 4 on the substrate 5. To do.

凹凸6に追従することなく貼付するには、例えば、前記第1の被覆方法で説明した貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10と基板5とが互いに接近するように、電磁波シールド用フィルム10側から均一に加圧する際に、この加圧条件を設定することにより実現できる。すなわち、前記加圧条件を、凹凸6に追従させる際の圧力よりも低く設定すること、および、凹凸6に追従させる際の時間よりも短く設定することにより、凹凸6に追従することなく電磁波シールド用フィルム10を貼付することができる。   In order to attach without following the irregularities 6, for example, from the electromagnetic wave shielding film 10 side so that the electromagnetic wave shielding film 10 and the substrate 5 come close to each other in the attaching step described in the first covering method. This can be realized by setting the pressurizing condition when pressurizing uniformly. That is, by setting the pressurizing condition lower than the pressure when following the unevenness 6 and setting the pressure condition shorter than the time when following the unevenness 6, the electromagnetic wave shield without following the unevenness 6. The film 10 for use can be affixed.

このような被覆方法により、凹凸6の形状に保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3が追従していない状態で、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。   By such a coating method, the unevenness 6 is covered by the protective layer 1, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 in a state where the protective layer 1, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 do not follow the shape of the unevenness 6. The

なお、このように、電磁波シールド用フィルム10を凹凸6の形状に追従させない場合、絶縁層2および電磁波遮断層3が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能する保護層1の形成を省略することもできる。   In addition, when the electromagnetic wave shielding film 10 does not follow the shape of the unevenness 6 as described above, the formation of the protective layer 1 that functions as a protective (buffer) material that prevents the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 from breaking. It can be omitted.

さらに、電子部品4の被覆は、電磁波シールド用フィルム10で被覆する方法、すなわち、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆する上述した方法(第1の被覆方法および第2の被覆方法)の他、電磁波シールド用フィルム10から保護層1を剥離して、絶縁層2および電磁波遮断層3により、電子部品4を被覆するようにしてもよい。   Further, the electronic component 4 is coated with the electromagnetic shielding film 10, that is, the above-described method of coating with the protective layer 1, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 (the first coating method and the second coating). In addition to the method, the protective layer 1 may be peeled from the electromagnetic wave shielding film 10 and the electronic component 4 may be covered with the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3.

図6は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第3の被覆方法を説明するための縦断面図である。   FIG. 6 is a longitudinal sectional view for explaining a third coating method of the electronic component coating method using the electromagnetic wave shielding film shown in FIG.

以下の電子部品の第3の被覆方法は、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程と、前記貼付工程の後、保護層1を剥離する剥離工程とを有する。   The following third method for coating an electronic component includes a step of applying an electromagnetic shielding film 10 on a substrate 5 so that the insulating layer 2 and the electronic component 4 are adhered, and a protective layer 1 after the application step. And a peeling step for peeling off.

(貼付工程)
貼付工程では、図4で説明した電子部品の被覆方法と同様に、図6(a)に示すように、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する。
(Attaching process)
In the pasting step, as in the electronic component covering method described with reference to FIG. 4, as shown in FIG. 6A, the unevenness 6 provided by mounting the electronic component 4 on the substrate 5 is used for electromagnetic wave shielding. It sticks so that the film 10 may follow.

(剥離工程)
剥離工程では、例えば、図6(b)に示すように、前記貼付工程の後、保護層1を電磁波シールド用フィルム10から剥離する。
(Peeling process)
In the peeling step, for example, as shown in FIG. 6B, the protective layer 1 is peeled from the electromagnetic shielding film 10 after the pasting step.

この剥離工程により、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム10における保護層1と電磁波遮断層3との界面において、剥離が生じ、その結果、電磁波遮断層3から保護層1が剥離される。これにより、電磁波遮断層3から保護層1を剥離した状態で、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。   By this peeling process, in this embodiment, peeling arises in the interface of the protective layer 1 and the electromagnetic wave shielding layer 3 in the electromagnetic wave shielding film 10, and as a result, the protective layer 1 is peeled from the electromagnetic wave shielding layer 3. Thus, the unevenness 6 is covered with the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 in a state where the protective layer 1 is peeled from the electromagnetic wave shielding layer 3.

なお、保護層1を剥離する方法としては、特に限定されないが、例えば、手作業による剥離が挙げられる。   In addition, although it does not specifically limit as a method of peeling the protective layer 1, For example, peeling by manual work is mentioned.

この手作業による剥離では、まず、保護層1の一方の端部を把持し、この把持した端部から保護層1を電磁波遮断層3から引き剥がし、次いで、この端部から中央部へさらには他方の端部へと順次保護層1を引き剥がすことにより、電磁波遮断層3から保護層1が剥離される。   In this manual peeling, first, one end portion of the protective layer 1 is gripped, the protective layer 1 is peeled off from the electromagnetic wave shielding layer 3 from the gripped end portion, and then further from the end portion to the central portion. The protective layer 1 is peeled from the electromagnetic wave shielding layer 3 by sequentially peeling the protective layer 1 to the other end.

以上のような工程を経ることにより、電磁波遮断層3から保護層1を剥離した状態で、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を被覆することができる。かかる被覆方法によれば、電磁波遮断層3で電磁波を遮断する際のさらなる軽量化・薄型化を図ることができる。   By passing through the above processes, the unevenness | corrugation 6 can be coat | covered with the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 in the state which peeled the protective layer 1 from the electromagnetic wave shielding layer 3. FIG. According to such a coating method, it is possible to further reduce the weight and thickness when the electromagnetic wave blocking layer 3 blocks the electromagnetic wave.

また、第2の被覆方法と第3の被覆方法とを組み合わせるようにしてもよい。すなわち、凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従させることなく貼付した後に、電磁波シールド用フィルム10から保護層1を剥離して、凹凸6に追従していない絶縁層2および電磁波遮断層3により、電子部品4を被覆するようにしてもよい。   Further, the second coating method and the third coating method may be combined. That is, after affixing the electromagnetic wave shielding film 10 to the irregularities 6 without following, the protective layer 1 is peeled off from the electromagnetic wave shielding film 10, and the insulating layer 2 and the electromagnetic wave blocking layer 3 not following the irregularities 6. The electronic component 4 may be covered.

なお、前記実施形態では、図1に示したように、電磁波シールド用フィルム10が備える保護層1が1層で構成される場合について説明したが、かかる構成のものに限定されず、例えば、保護層1は、第1の層、第2の層がこの順で積層された2層の積層体であってもよいし、第1の層、第2の層、第3の層がこの順で積層された3層の積層体であってもよい。   In addition, in the said embodiment, as shown in FIG. 1, although the case where the protective layer 1 with which the film 10 for electromagnetic wave shielding was comprised was comprised by 1 layer, it is not limited to the thing of this structure, For example, protection The layer 1 may be a two-layer stack in which the first layer and the second layer are stacked in this order, or the first layer, the second layer, and the third layer in this order. It may be a laminated body of three layers.

2層の積層体の構成とする場合、第1の層としては、前記実施形態で説明した、保護層1と同様の構成のものを用いることができる。   When it is set as the structure of a 2 layer laminated body, the thing of the structure similar to the protective layer 1 demonstrated in the said embodiment can be used as a 1st layer.

第2の層は、第1の層と電磁波遮断層3との間に位置して、電磁波シールド用フィルムの製造方法の第1の工程において、電磁波遮断層3に保護層(保護シート)1を貼付する際に、第1の層を電磁波遮断層3に粘着(貼付)させる粘着層として機能するものである。   The second layer is located between the first layer and the electromagnetic wave shielding layer 3, and in the first step of the method for producing the electromagnetic wave shielding film, the protective layer (protective sheet) 1 is applied to the electromagnetic wave shielding layer 3. When pasting, the first layer functions as an adhesive layer that adheres (sticks) to the electromagnetic wave shielding layer 3.

この第2の層は、特に限定されないが、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ポリイミド系接着剤およびシアネート系接着剤等の各種接着剤を用いて形成される。   Although this 2nd layer is not specifically limited, For example, it forms using various adhesive agents, such as an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, a polyimide adhesive, and a cyanate adhesive.

第2の層の厚みT(C)は、特に限定されないが、1μm以上、10μm以下であることが好ましく、3μm以上、8μm以下であることがより好ましい。第2の層の厚みが前記下限値未満である場合、第2の層の構成材料の種類によっては、第2の層による粘着性が十分に発揮されないおそれがある。また、第2の層の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム10を用いて被覆する基板5の設計によっては、基板5を電磁波シールド用フィルム10で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。   The thickness T (C) of the second layer is not particularly limited, but is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 8 μm or less. When the thickness of the second layer is less than the lower limit, depending on the type of the constituent material of the second layer, there is a possibility that the adhesiveness due to the second layer is not sufficiently exhibited. When the thickness of the second layer exceeds the upper limit, depending on the design of the substrate 5 covered with the electromagnetic wave shielding film 10, the weight of the laminate in which the substrate 5 is covered with the electromagnetic wave shielding film 10 can be reduced. Thinning may not be realized.

さらに、3層の積層体の構成とする場合、第1の層および第3の層としては、前記実施形態で説明した、保護層1と同様の構成のものを用いることができる。   Furthermore, when it is set as the structure of a 3 layer laminated body, the thing of the structure similar to the protective layer 1 demonstrated in the said embodiment can be used as a 1st layer and a 3rd layer.

第2の層は、電子部品の被覆方法の貼付工程において、保護層1を押し込み用の保護として用いて基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、第3の層を、凹凸6に対して押し込む(埋め込む)ためのクッション機能を有するものである。また、第2の層は、この押し込む力を、第3の層、さらには、この第3の層を介して絶縁層2および電磁波遮断層3に、均一に作用させる機能を有しており、これにより、電磁波遮断層3と凹凸6との間にボイドを発生させることなく、絶縁層2および電磁波遮断層3を凹凸6に対して優れた密閉性をもって押し込むことができる。   The second layer is formed when the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 are pushed into the unevenness 6 on the substrate 5 using the protective layer 1 as a push protection in the attaching step of the electronic component covering method. 3 has a cushion function for pushing (embedding) the layer 3 into the irregularities 6. Further, the second layer has a function of causing the pushing force to uniformly act on the third layer, and further on the insulating layer 2 and the electromagnetic wave shielding layer 3 via the third layer. Thereby, the insulating layer 2 and the electromagnetic wave blocking layer 3 can be pushed into the unevenness 6 with excellent sealing properties without generating a void between the electromagnetic wave blocking layer 3 and the unevenness 6.

この第2の層(クッション層)の構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロプレン等のαオレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を共重合体成分として有するαオレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられ、これらを単独あるいは複数併用してもよい。これらの中でも、αオレフィン系共重合体を用いることが好ましい。具体的には、エチレン等のαオレフィンと、(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体(EMMA)、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。αオレフィン系共重合体は、形状追従性に優れ、さらに、第3の層の構成材料と比較して柔軟性に優れることから、かかる構成材料で構成される第2の層に、第3の層を凹凸6に対して押し込む(埋め込む)ためのクッション機能を確実に付与することができる。   As a constituent material of this second layer (cushion layer), for example, an α-olefin polymer such as polyethylene or polypropylene, an α having an ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, methylpentene or the like as a copolymer component. Engineering plastics resins such as olefin copolymers, polyethersulfone, polyphenylene sulfide and the like may be used, and these may be used alone or in combination. Among these, it is preferable to use an α-olefin copolymer. Specifically, a copolymer of α-olefin such as ethylene and (meth) acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and vinyl acetate, a copolymer of ethylene and (meth) acrylic acid (EMMA), And a partial ion cross-linked product thereof. Since the α-olefin copolymer is excellent in shape followability and further excellent in flexibility as compared with the constituent material of the third layer, the third layer is formed in the second layer composed of the constituent material. A cushion function for pushing (embedding) the layer into the unevenness 6 can be surely imparted.

第2の層の厚みT(C)は、特に限定されないが、10μm以上、100μm以下であることが好ましく、20μm以上、80μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは30μm以上、60μm以下である。第2の層の厚みが前記下限値未満である場合、第2の層の形状追従性が不足し、熱圧着工程で凹凸6への追従性が不足するというおそれがある。また、第2の層の厚みが前記上限値を超える場合、熱圧着工程において、第2の層からの樹脂のシミ出しが多くなり、圧着装置の熱盤に付着し、作業性が低下するというおそれがある。   The thickness T (C) of the second layer is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 20 μm or more and 80 μm or less, and further preferably 30 μm or more and 60 μm or less. . When the thickness of the second layer is less than the lower limit value, the shape followability of the second layer is insufficient, and the followability to the unevenness 6 may be insufficient in the thermocompression bonding step. In addition, when the thickness of the second layer exceeds the upper limit, in the thermocompression bonding process, the resin is more likely to be smeared out from the second layer, and adheres to the hot platen of the crimping apparatus, thereby reducing workability. There is a fear.

また、第2の層の25〜150℃における平均線膨張係数は、500以上[ppm/℃]であるのが好ましく、1000以上[ppm/℃]であるのがより好ましい。第2の層の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10の加熱時において、第2の層を、第3の層と比較してより優れた伸縮性を有するものと容易にすることができる。そのため、第2の層、さらには電磁波遮断層3および絶縁層2の凹凸6に対する形状追従性をより確実に向上させることができる。   The average linear expansion coefficient of the second layer at 25 to 150 ° C. is preferably 500 or more [ppm / ° C.], more preferably 1000 or more [ppm / ° C.]. By setting the average linear expansion coefficient of the second layer within such a range, the second layer has more excellent stretchability than the third layer when the electromagnetic wave shielding film 10 is heated. Can be made easy with stuff. Therefore, the shape followability of the second layer, and further the electromagnetic wave shielding layer 3 and the insulating layer 2 with respect to the irregularities 6 can be improved more reliably.

また、前記実施形態では、基板への電子部品の搭載により、基板上に凹凸が形成されており、この凹凸を電磁波シールド用フィルムで被覆する場合について説明したが、電磁波シールド用フィルムによる被覆は、このような凹凸に対する被覆に限定されず、例えば、筐体等が備える平坦(フラット)な領域に対して施すようにしてもよい。   Further, in the above-described embodiment, the unevenness is formed on the substrate by mounting the electronic component on the substrate, and the case where the unevenness is covered with the electromagnetic wave shielding film has been described. The coating is not limited to such unevenness, and for example, it may be applied to a flat region provided in a housing or the like.

以上、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。   The electromagnetic shielding film and the electronic component mounting substrate of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to these.

例えば、本発明の電磁波シールド用フィルムおよび本発明の電子部品搭載基板には、同様の機能を発揮し得る、任意の層が追加されていてもよい。   For example, an arbitrary layer capable of exhibiting the same function may be added to the electromagnetic wave shielding film of the present invention and the electronic component mounting substrate of the present invention.

10 電磁波シールド用フィルム
1 保護層
2 絶縁層
3 電磁波遮断層
31 第1導電体層
32 積層体
35 誘電体層
36 第2導電体層
4 電子部品
5 基板
6 凹凸
65 凸部
66 凹部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electromagnetic wave shielding film 1 Protective layer 2 Insulating layer 3 Electromagnetic wave shielding layer 31 1st conductor layer 32 Laminate 35 Dielectric layer 36 2nd conductor layer 4 Electronic component 5 Substrate 6 Concavity and convexity 65 Convex part 66 Concave part

Claims (11)

導電性材料を含有する第1導電体層と、
前記導電性材料を含有する第2導電体層、および、誘電体材料を含有する誘電体層が積層された積層体とを有する電磁波遮断層を備えて構成されており、
前記積層体は、前記誘電体層を前記第1導電体層側にして積層されていることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
A first conductor layer containing a conductive material;
An electromagnetic wave shielding layer having a second conductor layer containing the conductive material and a laminate in which a dielectric layer containing a dielectric material is laminated;
The electromagnetic wave shielding film, wherein the laminate is laminated with the dielectric layer facing the first conductor layer.
前記電磁波遮断層は、複数の前記積層体を備える請求項1に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic wave shielding film according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer includes a plurality of the laminated bodies. 前記導電性材料は、導電性高分子を含有する請求項1または2に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic wave shielding film according to claim 1, wherein the conductive material contains a conductive polymer. 前記導電性高分子は、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも1種である請求項3に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic conductive film according to claim 3, wherein the conductive polymer is at least one of polyaniline, PEDOT / PSS, polypyrrole, and polythiophene. 前記誘電体材料は、セラミックス材料を含有する請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic dielectric shielding film according to claim 1, wherein the dielectric material contains a ceramic material. 前記セラミックス材料は、チタン酸バリウム、ペロブスカイト型チタン酸ジルコン酸バリウムカルシウム結晶粒子、チタニア、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素および窒化アルミニウムのうちの少なくとも1種である請求項5に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic shielding film according to claim 5, wherein the ceramic material is at least one of barium titanate, perovskite-type barium calcium zirconate titanate crystal particles, titania, alumina, zirconia, silicon carbide, and aluminum nitride. 前記第1導電体層および前記第2導電体層は、それぞれ、その平均層厚みが0.5μm以上、30μm以下である請求項1ないし6のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。   7. The electromagnetic wave shielding film according to claim 1, wherein each of the first conductor layer and the second conductor layer has an average layer thickness of 0.5 μm or more and 30 μm or less. 前記誘電体層は、その平均層厚みが0.5μm以上、30μm以下である請求項1ないし7のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。   8. The electromagnetic wave shielding film according to claim 1, wherein the dielectric layer has an average layer thickness of 0.5 μm or more and 30 μm or less. 当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む請求項1ないし8のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。   The electromagnetic wave shielding film according to any one of claims 1 to 8, wherein the electromagnetic wave shielding film further includes a protective sheet laminated on one surface side of the electromagnetic wave shielding layer. 絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている請求項1ないし9のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。   10. The insulating layer according to claim 1, wherein the insulating layer is provided in contact with the other surface side of the electromagnetic wave shielding layer, and is laminated in order of the electromagnetic wave shielding layer and the insulating layer from the protective sheet side. Film for electromagnetic wave shielding. 基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有する第1導電体層と、前記導電性材料を含有する第2導電体層および誘電体材料を含有する誘電体層が積層された積層体とを有し、
前記積層体は、前記誘電体層を前記第1導電体層側にして積層されていることを特徴する電子部品搭載基板。
An electronic component mounting substrate having a substrate, an electronic component mounted on the substrate, and an electromagnetic wave shielding layer that covers the substrate and the electronic component from a surface side of the substrate on which the electronic component is mounted,
The electromagnetic wave shielding layer has a first conductor layer containing a conductive material, and a laminate in which a second conductor layer containing the conductive material and a dielectric layer containing a dielectric material are laminated. And
The electronic component mounting board, wherein the laminate is laminated with the dielectric layer facing the first conductor layer.
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