JP2017011766A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動作を低減し、より
確度の高い動作を保証する駆動回路を提供する。
【解決手段】シフトレジスタに設けられたパルス出力回路において、パルスの出力が行わ
れない非選択期間、ゲート電極がオンするように浮遊状態となっているトランジスタのゲ
ート電極が接続されたノードに対し、クロック信号がトランジスタのゲート電極に入力さ
れるように設けることで、定期的に電位を供給する。また、ブートストラップ動作を行う
トランジスタのゲートにゲートが固定電位に接続されたトランジスタを設ける。
【選択図】図1

Description

本発明は、駆動回路(パルス出力回路、シフトレジスタともいう)に関する。または、画
素部と同じ基板に形成される駆動回路を有する表示装置に関する。または、当該表示装置
を具備する電子機器に関する。
表示装置は、液晶テレビなどの大型表示装置の普及に伴い、より付加価値の高い製品が求
められており、開発が進められている。特に、チャネル領域が非晶質半導体によって構成
される薄膜トランジスタ(TFT)を用いて、画素部と同じ基板に走査線駆動回路などの
駆動回路を構成する技術は、コストの低減、信頼性の向上に大きく貢献するため、活発に
開発が進められている。
チャネル領域が非晶質半導体によって構成される薄膜トランジスタは、閾値電圧の上昇、
又は電界効果移動度の低下などの劣化を生じる。この薄膜トランジスタの劣化が進むと、
駆動回路が動作しづらくなくなり、画像を表示できなくなるといった問題がある。そこで
、特許文献1には、薄膜トランジスタの劣化を抑制することができるシフトレジスタにつ
いて開示がある。特許文献1では、薄膜トランジスタの特性劣化を抑制するために、二つ
の薄膜トランジスタを設け、当該薄膜トランジスタをフリップフロップの出力端子と、V
SS(以下負電源)が供給される配線との間に接続する。そして、一方の薄膜トランジス
タと、他方の薄膜トランジスタとが交互にオンになる。こうすることによって、薄膜トラ
ンジスタがオンになる時間を1フレーム期間の半分程度に短くすることができるので、あ
る程度、薄膜トランジスタの特性劣化を抑制することができる。
特開2005−050502号公報
本発明の一態様は、薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動作を低
減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路を提供することを課題の一とする。
本発明の一態様は、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタと、第1の入力端子乃
至第5の入力端子及び出力端子を有し、第1の電源線乃至第6の電源線と電気的に接続さ
れ、第1のトランジスタは、第1の電極が第1の電源線に電気的に接続され、第2の電極
が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子に
電気的に接続され、第2のトランジスタは、第1の電極が第2の電源線に電気的に接続さ
れ、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第
4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第3のトランジスタは、第1の電極
が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極が出力端子に電気的に接続され、第4
のトランジスタは、第1の電極が第3の電源線に電気的に接続され、第2の電極が出力端
子に電気的に接続され、第5のトランジスタは、第1の電極が第4の電源線に電気的に接
続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート
電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子に電気的に接続され、第6のトラ
ンジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2のトラン
ジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電
極が第5の入力端子に電気的に接続され、第7のトランジスタは、第1の電極が第5の電
源線に電気的に接続され、第2の電極が第8のトランジスタの第1の電極に電気的に接続
され、ゲート電極が第3の入力端子に電気的に接続され、第8のトランジスタは、第2の
電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に
接続され、ゲート電極が第2の入力端子に電気的に接続され、第9のトランジスタは、ゲ
ート電極が第6の入力端子に電気的に接続されているパルス出力回路である。
本発明の一態様において、第1の電源線の電位は、第2の電源線、第3の電源線、第4
の電源線、第5の電源線、及び第6の電源線の電位より高いパルス出力回路でもよい。
本発明の一態様において、第5の電源線の電位及び第6の電源線の電位は、第1の電源
線の電位より低いパルス出力回路でもよい。
本発明の一態様において、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタは、酸化物半導
体を用いて形成されているパルス出力回路でもよい。
本発明の一態様において、第1のトランジスタ乃至第9のトランジスタは、Nチャネル
型の薄膜トランジスタであるパルス出力回路でもよい。
本発明の一態様は、第1のトランジスタ乃至第13のトランジスタと、第1の入力端子
乃至第5の入力端子及び第1の出力端子乃至第2の出力端子を有し、第1の電源線乃至第
9の電源線と電気的に接続され、第1のトランジスタは、第1の電極が第1の電源線に電
気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲ
ート電極が第4の入力端子に電気的に接続され、第2のトランジスタは、第1の電極が第
2の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタの第1の電極に電気的
に接続され、ゲート電極が第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第3の
トランジスタは、第1の電極が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極が第1の
出力端子に電気的に接続され、第4のトランジスタは、第1の電極が第3の電源線に電気
的に接続され、第2の電極が第1の出力端子に電気的に接続され、第5のトランジスタは
、第1の電極が第4の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲ
ート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の
入力端子に電気的に接続され、第6のトランジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気
的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第4のトランジスタの
ゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第5の入力端子に電気的に接続され、第7
のトランジスタは、第1の電極が第5の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第8の
トランジスタの第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第3の入力端子に電気的に
接続され、第8のトランジスタは、第2の電極が第2のトランジスタのゲート電極及び第
4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第2の入力端子に電気
的に接続され、第9のトランジスタは、ゲート電極が第6の電源線に電気的に接続され、
第10のトランジスタは、第1の電極が第1の入力端子に電気的に接続され、第2の電極
が第2の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第3のトランジスタのゲート電極に
電気的に接続され、第11のトランジスタは、第1の電極が第8の電源線に電気的に接続
され、第2の電極が第2の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第2のトランジス
タのゲート電極及び第4のトランジスタのゲート電極に電気的に接続され、第12のトラ
ンジスタは、第1の電極が第9の電源線に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端
子に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタのゲート電極に電気的に接続さ
れ、第13のトランジスタは、第1の電極が第7の電源線に電気的に接続され、第2の電
極が第1の出力端子に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタのゲート電極
に電気的に接続されているパルス出力回路である。
本発明の一態様は、パルス出力回路は、第(m−1)のパルス出力回路、第mのパルス
出力回路、第(m+1)のパルス出力回路、及び第(m+2)のパルス出力回路(m≧2
)を少なくとも含み、クロック信号を出力する第1の信号線乃至第4の信号線を有し、第
mのパルス出力回路において、第1の入力端子乃至第3の入力端子は、第1の信号線乃至
第4の信号線のうち3本の異なった信号線と電気的に接続され、第4の入力端子は、第(
m−1)のパルス出力回路の出力端子と電気的に接続され、第5の入力端子は、第(m+
2)のパルス出力回路の出力端子と電気的に接続され、出力端子は、第(m+1)のパル
ス出力回路の第4の入力端子と電気的に接続されているシフトレジスタである。
本発明の一態様において、第1の信号線乃至第4の信号線の各々は、順に1/4周期遅
延したクロック信号を出力するシフトレジスタでもよい。
本発明の一態様により、薄膜トランジスタの特性劣化の程度を小さくし、回路内の誤動
作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路を提供することができる。
シフトレジスタ及びパルス出力回路の一例を示す図。 パルス出力回路の動作一例を示す図。 パルス出力回路の動作一例を示す図。 パルス出力回路の動作一例を示す図。 パルス出力回路の動作を比較して示した図。 シフトレジスタ及びパルス出力回路の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた電子機器の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示装置の表示素子の一例を示す図。 シフトレジスタが設けられた表示パネルの表示を示す図。 シフトレジスタのタイミングチャートと、観察される信号波形を示す図。
以下、本発明の実施の形態及び実施例について図面を参照しながら説明する。但し、本
発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸
脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解さ
れる。従って本実施の形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。な
お、以下に説明する本発明の構成において、同じ物を指し示す符号は異なる図面間におい
て共通とする。
(実施の形態1)
本実施の形態では、駆動回路であるパルス出力回路、当該パルス出力回路を含むシフト
レジスタの一例に関して図面を参照して説明する。
本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス
出力回路10_n(n≧2)と、クロック信号を出力する第1の信号線11〜第4の信号
線14を有している(図1(A)参照)。第1の信号線11は第1のクロック信号(CK
1)を出力し、第2の信号線12は第2のクロック信号(CK2)を出力し、第3の信号
線13は第3のクロック信号(CK3)を出力し、第4の信号線14は第4のクロック信
号(CK4)を出力する。
クロック信号(CK)は、一定の間隔でH(High)信号とL(Low)信号を繰り
返す信号であり、ここでは、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK
4)は、順に1/4周期分遅延している。本実施の形態では、第1のクロック信号(CK
1)〜第4のクロック信号(CK4)を利用して、パルス出力回路の駆動の制御等を行う
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1の入力
端子21、第2の入力端子22、第3の入力端子23、第4の入力端子24、第5の入力
端子25、出力端子26を有している(図1(B)参照)。
第1の入力端子21、第2の入力端子22及び第3の入力端子23は、第1の信号線1
1〜第4の信号線14のいずれかと電気的に接続されている。例えば、図1において、第
1のパルス出力回路10_1は、第1の入力端子21が第1の信号線11と電気的に接続
され、第2の入力端子22が第2の信号線12と電気的に接続され、第3の入力端子23
が第3の信号線13と電気的に接続されている。また、第2のパルス出力回路10_2
、第1の入力端子21が第2の信号線12と電気的に接続され、第2の入力端子22が第
3の信号線13と電気的に接続され、第3の入力端子23が第4の信号線14と電気的に
接続されている。
また、本実施の形態で示すシフトレジスタの第mのパルス出力回路(m≧2)において
、第4の入力端子24は第(m−1)のパルス出力回路の出力端子26と電気的に接続さ
れ、第5の入力端子25は第(m+2)のパルス出力回路の出力端子26と電気的に接続
され、出力端子26は第(m+1)のパルス出力回路の第4の入力端子24と電気的に接
続され、且つOUT(m)に信号を出力する。
例えば、第3のパルス出力回路10_3において、第4の入力端子24は第2のパルス
出力回路10_2の出力端子26と電気的に接続され、第5の入力端子25は第5のパル
ス出力回路10_5の出力端子26と電気的に接続され、出力端子26は第4のパルス出
力回路10_4の第4の入力端子24及び第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端
子25と電気的に接続されている。
また、第1のパルス出力回路10_1では、第4の入力端子24に第1のスタートパル
ス(SP1)が入力される。また、第(nー1)のパルス出力回路10(nー1)では、
第5の入力端子25に第2のスタートパルス(SP2)が入力される。また、第nのパル
ス出力回路10_n)では、第5の入力端子25に第3のスタートパルス(SP3)が入
力される。なお、第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3)
は、外部より入力される信号でもよいし、別途駆動回路の内部で生成された信号であって
もよい。例えば、表示部へのパルス出力に寄与しない第(n+1)のパルス出力回路10
(n+1)、第(n+2)のパルス出力回路10(n+2)を設け(ダミー段ともいう)
、当該ダミー段より第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3
)に相当する信号を生成する構成としてもよい。
次に、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの具体的な構成
に関して説明する。
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1のトラ
ンジスタ101〜第9のトランジスタ109を有している(図1(C)参照)。また、上
述した第1の入力端子21〜第5の入力端子25及び出力端子26に加え、第1の電源線
31〜第6の電源線36から第1のトランジスタ101〜第9のトランジスタ109に信
号が供給される。
第1のトランジスタ101は、第1の電極(ソース電極又はドレイン電極の一方)が第
1の電源線31に電気的に接続され、第2の電極(ソース電極又はドレイン電極の他方)
が第9のトランジスタ109の第1の電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力
端子24に電気的に接続されている。第2のトランジスタ102は、第1の電極が第2の
電源線32に電気的に接続され、第2の電極が第9のトランジスタ109の第1の電極に
電気的に接続され、ゲート電極が第4のトランジスタ104のゲート電極に電気的に接続
されている。第3のトランジスタ103は、第1の電極が第1の入力端子21に電気的に
接続され、第2の電極が出力端子26に電気的に接続されている。第4のトランジスタ1
04は、第1の電極が第3の電源線33に電気的に接続され、第2の電極が出力端子26
に電気的に接続されている。第5のトランジスタ105は、第1の電極が第4の電源線3
4に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4の
トランジスタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第4の入力端子24
に電気的に接続されている。第6のトランジスタ106は、第1の電極が第5の電源線3
5に電気的に接続され、第2の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4の
トランジスタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第5の入力端子25
に電気的に接続されている。第7のトランジスタ107は、第1の電極が第5の電源線3
5に電気的に接続され、第2の電極が第8のトランジスタ108の第2の電極に電気的に
接続され、ゲート電極が第3の入力端子23に電気的に接続されている。第8のトランジ
スタ108は、第1の電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4のトランジ
スタ104のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第2の入力端子22に電気的
に接続されている。第9のトランジスタ109は、第1の電極が第1のトランジスタ10
1の第2の電極及び第2のトランジスタ102の第2の電極に電気的に接続され、第2の
電極が第3のトランジスタ103のゲート電極に電気的に接続され、ゲート電極が第6の
電源線36に電気的に接続されている。
図1(C)において、第3のトランジスタ103のゲート電極、第9のトランジスタ1
09の第2の電極の接続箇所をノードAとする。また、第2のトランジスタ102のゲー
ト電極、第4のトランジスタ104のゲート電極、第5のトランジスタ105の第2の電
極、第6のトランジスタ106の第2の電極、第8のトランジスタ108の第1の電極の
接続箇所をノードBとする。また、第3のトランジスタ103の第2の電極、第4のトラ
ンジスタ104の第2の電極、出力端子26の接続箇所をノードCとする。
なお、ノードAとノードCとの間には、ノードAを浮遊状態とすることによりブートスト
ラップ動作を行うための、容量素子を別途設けても良い。またノードBの電位を保持する
ため、一方の電極をノードBに電気的に接続した容量素子を別途設けてもよい。
なお、第7のトランジスタ107のゲート電極に第3の入力端子によって供給されるクロ
ック信号、第8のトランジスタ108のゲート電極に第2の入力端子によって供給される
クロック信号は、第7のトランジスタのゲート電極に第2の入力端子によって供給される
クロック信号、第8のゲート電極に第3の入力端子によって供給されるクロック信号とな
るように、結線関係を入れ替えても同様の作用を奏する。なお、図3(D)の期間のよう
に、第7のトランジスタ107及び第8のトランジスタ108が共にオンの状態から、第
7のトランジスタ107がオフ、第8のトランジスタ108がオンの状態、次いで第7の
トランジスタ107がオフ、第8のトランジスタ108がオフの状態とすることによって
、第2の入力端子22及び第3の入力端子23の電位が低下することで生じる、ノードB
の電位の低下が第7のトランジスタ107のゲート電極の電位の低下、及び第8のトラン
ジスタ108のゲート電極の電位の低下に起因して2回生じることとなる。一方、図3(
D)の期間のように、第7のトランジスタ107及び第8のトランジスタ108が共にオ
ンの状態から、図4(A)の期間のように、第7のトランジスタ107がオン、第8のト
ランジスタ108がオフの状態、次いで図4(B)の期間のように、第7のトランジスタ
107がオフ、第8のトランジスタ108がオフの状態とすることによって、第2の入力
端子22及び第3の入力端子23の電位が低下することで生じるノードBの電位の低下を
、第8のトランジスタ108のゲート電極の電位の低下による一回に低減することができ
る。そのため、第7のトランジスタ107のゲート電極に第3の入力端子によって供給さ
れるクロック信号、第8のゲート電極に第2の入力端子によって供給されるクロック信号
とすることによって、ノードBの電位の変動を小さくすることで、ノイズを低減すること
が出来るため好適である。
次に、図1に示したシフトレジスタの動作について図2〜図4を参照して説明する。具
体的には、図2のタイミングチャートにおいて、第1の期間51、第2の期間52、第3
の期間53、第4の期間54、第5の期間55に分割して説明する。なお、以下の説明に
おいて、第1のトランジスタ101〜第9のトランジスタ109は、Nチャネル型の薄膜
トランジスタとし、ゲートとソース間電圧(Vgs)がしきい値電圧(Vth)を上回っ
たとき導通状態になるものとする。
また、ここでは、第1のパルス出力回路10_1の出力に関して説明する。第2のパル
ス出力回路10_1は、第1の入力端子21が第1のクロック信号(CK1)を供給する
第1の信号線11と電気的に接続され、第2の入力端子22が第2のクロック信号(CK
2)を供給する第2の信号線12と電気的に接続され、第3の入力端子23が第3のクロ
ック信号(CK3)を供給する第3の信号線13と電気的に接続されている。
なお、第1の電源線31には第1の電位(VDD)が供給され、第5の電源線35及び
第6の電源線36には第2の電位(VCC)が供給され、第2の電源線32〜第4の電源
線34には第3の電位(VSS)が供給されるものとする。ここで、VDD>VCC>V
SSとする。また、第1のクロック信号(CK1)〜第4のクロック信号(CK4)は、
一定の間隔でHレベルとLレベルを繰り返す信号であるが、HレベルのときVDD、Lレ
ベルのときVSSであるとする。また、ここでは説明の簡略化のためVSS=0とするが
、これに限られない。なお、VDDとのVSSの差分、VCCとVSSとの差分は、トラ
ンジスタのしきい値電圧より大きくなるものとし、すなわちトランジスタをオン状態(導
通状態)にするものとする。なお第5の電源線35の電位を、第1の電源線31の電位よ
り低くすることにより、第2のトランジスタ102、第4のトランジスタ104のゲート
電極に印加される電位を低く抑えることができ、当該第2のトランジスタ102、第4の
トランジスタ104のしきい値電圧のシフトを低減し、劣化を抑制することができる。
第1の期間51において、第1のスタートパルス(SP1)がHレベルとなり第2のパ
ルス出力回路10_1の第4の入力端子24に電気的に接続された第1のトランジスタ1
01と第5のトランジスタ105が導通状態になる。第3のクロック信号(CK3)もH
レベルであるため第7のトランジスタ107もオンする。また、第9のトランジスタ10
9のゲートには第2の電位VCCが印加されており、第9のトランジスタもオンする(図
3(A)参照)。
このとき、第1のトランジスタ101及び第9のトランジスタがオンであるためノード
Aの電位は上昇する。また、第5のトランジスタ105がオンであるためノードBの電位
は下降する。なお、第1のトランジスタはオフしており、ノードCの電位はLレベルとな
る。
このとき、第1のトランジスタ101の第2の電極の電位は、第1のトランジスタ10
1の第2の電極がソースとなって、第1の電源線31の電位から第1のトランジスタ10
1のしきい値電圧を引いた値となるためVDD−Vth101(Vth101は第1のト
ランジスタ101のしきい値電圧)となる。そしてノードAの電位は、第9のトランジス
タ109の第2の電極がソースとなって、(VDD−Vth101)から第9のトランジ
スタ109のしきい値電圧を引いた値となるためVDD−Vth101−Vth109(
Vth109は第9のトランジスタ109のしきい値電圧)となる。そして、第1のトラ
ンジスタ101及び第9のトランジスタ109がオフし、ノードAが(VDD−Vth1
01−Vth109)を維持したまま浮遊状態となる。
ここで、第3のトランジスタ103において、ゲート電極の電位が(VDD−Vth1
01−Vth109)となっている。第3のトランジスタ103のゲートとソース間の電
圧がそのしきい値電圧を上回っている場合、すなわち、VDD−Vth101−Vth1
09VSS>Vth103(Vth103は第3のトランジスタ103のしきい値電圧)
であれば、第3のトランジスタ103がオンする。
第2の期間52において、第1のパルス出力回路10_1の第1の入力端子21がLレ
ベルからHレベルに切り替わる。ここで、第3のトランジスタ103がオンしているため
、ソースとドレインの間に電流が生じ、ノードC(出力端子26(OUT(1)))、す
なわち第3のトランジスタ103の第2の電極(この場合、ソース電極)の電位が上昇を
始める。第3のトランジスタ103のゲートとソース間には寄生容量による容量結合が存
在し、ノードCの電位上昇に伴い、浮遊状態となっている第3のトランジスタ103のゲ
ート電極の電位が上昇する(ブートストラップ動作)。最終的には、第3のトランジスタ
103のゲート電極の電位は、VDD+Vth103より高くなり、ノードCの電位はV
DDに等しくなる(図2、図3(B)参照)。
また、このとき、第1のパルス出力回路10_1の第4の入力端子24が第1のスター
トパルス(SP1)によりHレベルであるため、第5のトランジスタ105がオンしてノ
ードBがLレベルに維持されている。従って、ノードCの電位がLレベルからHレベルに
立ち上がるとき、ノードBとノードCの容量結合による不具合を抑制することができる。
次いで、第3の期間53において、第1のスタートパルス(SP1)がLレベルとなり
第1のトランジスタ101と第5のトランジスタ105がオフする。また、第1のクロッ
ク信号(CK1)が第2の期間52に続いてHレベルを保持し、また第2の期間52に続
いてノードAの電位も変化しないため、トランジスタ103の第1の電極にはHレベルの
信号が供給される(図3(C)参照)。なお、第3の期間53では、各トランジスタがオ
フとなることにより、ノードBが浮遊状態となるが、ノードCの電位も変化しないため、
ノードBとノードCの容量結合による不具合の影響はほとんど無視できる程度となる。
なお、図1(C)に示すように、ゲートに第1の電位VDDが印加される第9のトランジ
スタ109を設けておくことにより、ブートストラップ動作の前後において、以下のよう
な利点がある。
ゲートに第2の電位VCCが印加される第9のトランジスタ109がない場合、ブートス
トラップ動作によりノードAの電位が上昇すると、第1のトランジスタ101の第2の電
極であるソースの電位が上昇していき、第1の電位VDDより大きくなる。そして、第1
のトランジスタ101のソースが第1の電極側、即ち第1の電源線31側に切り替わる。
そのため、第1のトランジスタ101においては、図3(C)の期間にゲートとソースの
間、ゲートとドレインの間ともに、大きなバイアス電圧が印加されるために大きなストレ
スがかかり、トランジスタの劣化の要因となりうる。
ゲートに高電源電位VDDが印加される第9のトランジスタ109を設けておくことによ
り、ブートストラップ動作によりノードAの電位は上昇するものの、第1のトランジスタ
101の第2の電極の電位の上昇を生じないようにすることができる。つまり、第9のト
ランジスタ109を設けることにより、第1のトランジスタ101のゲートとソースの間
に印加される負のバイアス電圧の値を小さくすることができる。よって、本実施の形態の
回路構成とすることにより、第1のトランジスタ101のゲートとソースの間に印加され
る負のバイアス電圧も小さくできるため、ストレスによる第1のトランジスタ101の劣
化を抑制することができる。
なお、第9のトランジスタ109を設ける箇所については、第1のトランジスタ101の
第2の電極と第3のトランジスタ103のゲートとの間に第1の電極と第2の電極を介し
て接続されるように設ける構成であればよい。なお、本実施形態でのパルス出力回路を複
数具備するシフトレジスタを構成する場合、走査線駆動回路より段数の多い信号線駆動回
路では、第9のトランジスタ109を省略してもよい。
なお第1のトランジスタ101乃至第9のトランジスタの半導体層として、酸化物半導体
を用いてもよい。酸化物半導体をトランジスタの半導体層として用いることにより、薄膜
トランジスタのオフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高めることが
出来ると共に、劣化の度合いを低減することが出来るため、回路内の誤動作を低減し、よ
り確度の高い動作を保証する駆動回路とすることができる。また酸化物半導体を用いたト
ランジスタ、アモルファスシリコンを用いたトランジスタに比べ、ゲート電極に高電位が
印加されることによるトランジスタの劣化の程度が小さい。そのため、第2の電位VCC
を第1の電位VDDにしても同様の動作が得られ、且つ回路間を引き回す配線の数を低減
することができるため、回路の小型化を図ることが出来る。なお酸化物半導体としては、
例えば、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)なども用いることができる。ZnO
を半導体層に用いる場合、ゲート絶縁層をY、Al、TiO、それらの積
層などを用い、ゲート電極層、ソース電極層、ドレイン電極層としては、ITO、Au、
Tiなどを用いることができる。また、ZnOにInやGaなどを添加することもできる
酸化物半導体としてInMO(ZnO)(x>0)で表記される薄膜を用いることが
できる。なお、Mは、ガリウム(Ga)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(M
n)及びコバルト(Co)から選ばれた一の金属元素又は複数の金属元素を示す。例えば
Mとして、Gaの場合があることの他、GaとNi又はGaとFeなど、Ga以外の上記
金属元素が含まれる場合がある。また、上記酸化物半導体において、Mとして含まれる金
属元素の他に、不純物元素としてFe、Niその他の遷移金属元素、又は該遷移金属の酸
化物が含まれているものがある。例えば、酸化物半導体層としてIn−Ga−Zn−O系
非単結晶膜を用いることができる。
酸化物半導体(InMO(ZnO)(x>0)膜)としてIn−Ga−Zn−O系非
単結晶膜のかわりに、Mを他の金属元素とするInMO(ZnO)(x>0)膜を用
いてもよい。また、酸化物半導体として上記の他にも、In−Sn−Zn−O系、In−
Al−Zn−O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−Zn−O系、Sn−Al−Z
n−O系、In−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Zn−O系、In−O系、Sn
−O系、Zn−O系の酸化物半導体を適用することができる。
その後、第3の期間53の後半に、第1のパルス出力回路10_1の第1の入力端子2
1がLレベルとなり、ノードCの電位が下降する。また、第3の期間53の後半に第2の
入力端子22及び第3の入力端子23、並びに第5の入力端子25がHレベルとなること
により、ノードBの電位を急峻にVCCに上昇となる。その結果、第2のトランジスタ1
02及び第4のトランジスタ104がオンすることとなり、ノードCの電位が急峻に下降
させることができる。
なお上述した第2のスタートパルス(SP2)と第3のスタートパルス(SP3)がH(
High)信号を出力するタイミング、すなわち第5の入力端子25がHレベルとなるタ
イミングは、第2の入力端子22及び第3の入力端子23がHレベルとなるタイミングと
重なる。そのため、第2のスタートパルス(SP2)及び第3のスタートパルス(SP3
)を入力するための配線は、省略することが可能である。
第4の期間54の前半において、第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端子25が
Hレベルを保持することにより、ノードBがVCCを保持することとなる。これにより、
第2のトランジスタ102、第4のトランジスタ104がオンして、第3のトランジスタ
103がオフし、ノードCの電位、すなわち出力端子26の電位がLレベルとなる。(図
4(A)参照)。
その後、第4の期間54の後半に、第1のパルス出力回路10_1の第5の入力端子2
5がLレベルとなり、第6のトランジスタ106がオフする(図4(B)参照)。このと
き、ノードBは、VCCレベルを保持した状態から浮遊状態となる。これにより、第2の
トランジスタ102、第4のトランジスタ104がオンし続ける状態となる(図4(C)
参照)。ただし、図2に示すように、ノードBの電位は、VCCレベルからトランジスタ
のオフ電流等に起因して下降することとなる。
その後、第5の期間55のある期間(第2のクロック信号(CK2)及び第3のクロッ
ク信号(CK3)が共にHレベルであるとき)において、第7のトランジスタ107と第
8のトランジスタ108がオンし、ノードBに定期的にVCCレベルの信号が供給される
(図4(D)参照)。
このように、出力端子26の電位をLレベルに保持する期間にノードBに定期的にHレ
ベルの信号が供給される構成とすることにより、パルス出力回路の誤動作を抑制すること
ができる。また、第7のトランジスタ108と、第8のトランジスタ109のオン又はオ
フを定期的に行うことによって、トランジスタのしきい値電圧のシフトを低減することが
可能となる。
また、第5の期間55において、ノードBに第5の電源線35からHレベルの信号が供給
されていない間に、第5のトランジスタ105及び第6のトランジスタ106のオフ電流
によって、ノードBの電位が下がることがある。そのため予めノードBに容量素子を設け
、ノードBの電位の下降を緩和する構成としてもよい。
また、本実施の形態で示したシフトレジスタは、図5(A)に示すように、第mのパル
ス出力回路から出力されるパルスと第(m+1)のパルス出力回路から出力されるパルス
が半分(1/4周期分)重なった駆動方法を用いている。これは、従来のシフトレジスタ
における第mのパルス出力回路から出力されるパルスと第(m+1)のパルス出力回路か
ら出力されるパルスが重ならない駆動方法(図5(B)参照)と比較して、配線に充電す
る時間を約2倍とすることができる。このように、第mのパルス出力回路から出力される
パルスと第(m+1)のパルス出力回路から出力されるパルスが半分(1/4周期分)重
なった駆動方法を用いることによって、大きな負荷をかけることができ、高い周波数で動
作するパルス出力回路を提供することができる。また、パルス出力回路の動作条件を大き
くすることができる。そのため、電気的特性が劣るアモルファスシリコンを用いた薄膜ト
ランジスタに図5(A)に示す駆動方法を用いることは非常に有効となる。
なお、本実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路は、本明細書中の他の
実施の形態で示すシフトレジスタ及びパルス出力回路の構成と組み合わせて実施すること
が可能である。また、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。本明細書中にお
いて半導体装置とは、半導体特性を利用することで機能しうる装置を意味する。
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路と異な
る構成に関して図面を参照して説明する。
本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス
出力回路10_n(n≧2)と、クロック信号を出力する第1の信号線11〜第4の信号
線14を有している(図6(A)参照)。また、第1のパルス出力回路10_1〜第nの
パルス出力回路10_nの各々は、第1の入力端子21、第2の入力端子22、第3の入
力端子23、第4の入力端子24、第5の入力端子25、第1の出力端子26、第2の出
力端子27を有している(図6(B)参照)。なお、上記実施の形態1で示したパルス出
力回路において、第2の出力端子27が新たに追加された構成となっている。
第1の入力端子21、第2の入力端子22及び第3の入力端子23は、第1の信号線1
1〜第4の信号線14のいずれかと電気的に接続されている。また、本実施の形態で示す
シフトレジスタの第mのパルス出力回路(m≧2)において、第4の入力端子24は第(
m−1)のパルス出力回路の第1の出力端子26と電気的に接続され、第5の入力端子2
5は第(m+2)のパルス出力回路の第1の出力端子26と電気的に接続され、第1の出
力端子26は第(m+1)のパルス出力回路の第4の入力端子24第2の出力端子27は
OUT(m)に信号を出力する。
つまり、本実施の形態で示すシフトレジスタは、第1の出力端子26と第2の出力端子
27を設け、他のパルス出力回路に信号を出力するための出力端子と外部に信号を出力す
るための出力端子を別に設けた構成となっている。
次に、本実施の形態で示す第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10
_nの具体的な構成に関して説明する。
第1のパルス出力回路10_1〜第nのパルス出力回路10_nの各々は、第1のトラ
ンジスタ101〜第9のトランジスタ109、第10のトランジスタ201〜第13のト
ランジスタ204、を有している(図6(C)参照)。本実施の形態で示すパルス出力回
路は、上記実施の形態1で示したパルス出力回路に第10のトランジスタ201〜第13
のトランジスタ204を追加した構成となっている。また、上記実施の形態1で示した第
1の入力端子21〜第5の入力端子25、第1の出力端子26、第1の電源線31〜第6
の電源線36に加え、第2の出力端子27、第7の電源線37〜第9の電源線39から各
トランジスタに信号が供給される。
第10のトランジスタ201は、第1の電極が第1の入力端子21に電気的に接続され
、第2の電極が第2の出力端子27に電気的に接続され、ゲート電極が第9のトランジス
タ109の第2の電極に電気的に接続されている。第11のトランジスタ202は、第1
の電極が第8の電源線38に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端子27に電気
的に接続され、ゲート電極が第2のトランジスタ102のゲート電極及び第4のトランジ
スタ104のゲート電極に電気的に接続されている。第12のトランジスタ203は、第
1の電極が第9の電源線39に電気的に接続され、第2の電極が第2の出力端子27に電
気的に接続され、ゲート電極が第7のトランジスタ107のゲート電極に電気的に接続さ
れている。第13のトランジスタ204は、第1の電極が第7の電源線37に電気的に接
続され、第2の電極が第1の出力端子26に電気的に接続され、ゲート電極が第7のトラ
ンジスタ107のゲート電極に電気的に接続されている。
また、第7の電源線37〜第9の電源線39には、第2の電源線32〜第4の電源線34
と同様にV2の電位(VSS)が供給される構成とすることができる。
第1の出力端子26と第2の出力端子27は、同一の信号が出力されるように設けられて
おり、第3のトランジスタ103に第10のトランジスタ201が対応し、第4のトラン
ジスタ104に第11のトランジスタ202が対応する構成となっている。つまり、第1
0のトランジスタ201は第3のトランジスタ103と同様にブートストラップ動作を行
う。なお、第10のトランジスタ201のブートストラップ動作は、第10のトランジス
タ201のゲート電極と第2の電極との間の寄生容量の容量結合によって行えばよい。な
お、別途容量素子を設ける構成としてもよい。
第12のトランジスタ203と第13のトランジスタ204は、走査線の電位の立ち下が
り時間を短くするのに用いられる。第12のトランジスタ203と第13のトランジスタ
204で十分に走査線の電位の立ち下がり時間を短くできれば、第4のトランジスタ10
4,第11のトランジスタ202で走査線の電位の立ち下がり時間を短くする必要はなく
なるので第5の電源線35の電位を第1の電源線31の電源より低く設定することもでき
る。これは、第4のトランジスタ104、第11のトランジスタ202、第2のトランジ
スタ102のしきい値電圧のシフトを軽減することが可能になる。
なお、本実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路は、本明細書中の他の
実施の形態で示すシフトレジスタ及びパルス出力回路の構成と組み合わせて実施すること
が可能である。また、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。
(実施の形態3)
本実施の形態では、上記実施の形態で示したシフトレジスタ及びパルス出力回路と異な
る構成に関して説明する。
上記実施の形態1、実施の形態2において示した構成では、回路は全てNチャネル型薄
膜トランジスタを用いて構成した例を示したが、単極性の薄膜トランジスタを用いるとい
う点で、Pチャネル型の薄膜トランジスタのみを用いて同様の構成としてもよい。特に図
示はしないが、図1(C)又は図6(C)で示した図において、トランジスタの接続は同
様とし、電源線の電位の高低を実施の形態1及び実施の形態2で説明した場合と逆にすれ
ばよい。また、入力される信号のHレベルとLレベルを全て逆として入力される構成とす
ればよい。なお、本実施の形態の構成は半導体装置にも適用できる。
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
(実施の形態4)
上記実施の形態で示したシフトレジスタを表示装置に設ける構成に関して図面を参照し
て説明する。
図7(A)において、基板1107上に、複数の画素1101がマトリクス状に配置さ
れた画素部1102を有し、画素部1102の周辺には、信号線駆動回路1103、第1
の走査線駆動回路1104及び第2の走査線駆動回路1105を有する。これらの駆動回
路は、FPC1106を介して外部より信号が供給される。
図7(B)には、第1の走査線駆動回路1104及び第2の走査線駆動回路1105の
構成を示す。走査線駆動回路1104、1105は、シフトレジスタ1114、バッファ
1115を有する。また、図7(C)には、信号線駆動回路1103の構成を示す。信号
線駆動回路1103はシフトレジスタ1111、第1のラッチ回路1112、第2のラッ
チ回路1113、バッファ1117を有する。
本実施の形態で示すシフトレジスタとして動作する回路は、上記シフトレジスタ111
1、及びシフトレジスタ1114の回路に適用することができる。上記実施の形態で示し
たシフトレジスタとして動作する回路を適用することによって、アモルファスシリコンを
用いた薄膜トランジスタで当該シフトレジスタとして動作する回路を設けた場合であって
も高い周波数で動作させることができる。また酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで
当該シフトレジスタとして動作する回路を設けることも可能である。酸化物半導体を用い
た薄膜トランジスタは、オフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高め
ることができ、またアモルファスシリコンと比べて劣化の度合いを低減することが出来る
ため、回路内の誤動作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路とすることがで
きる。
なお、走査線駆動回路と信号線駆動回路の構成は、図7に示した構成に限定されず、例
えばサンプリング回路やレベルシフタなどを具備していてもよい。また、上記駆動回路以
外に、CPUやコントローラなどの回路を基板1107に一体形成してもよい。そうする
と、接続する外部回路(IC)の個数が減少し、軽量、薄型がさらに図れるため、携帯端
末などには特に有効である。
なお、本実施の形態で示した表示装置は、本明細書中の他の実施の形態で示すシフトレ
ジスタ、パルス出力回路又は表示装置の構成と組み合わせて実施することが可能である。
(実施の形態5)
本実施の形態では、上記実施の形態4で示した表示装置に用いる表示パネルの構成につ
いて図面を参照して説明する。
まず、表示装置に適用可能な表示パネルについて図8を用いて説明する。なお、図8(
A)は、表示パネルを示す上面図、図8(B)は図8(A)をA−A’で切断した断面図
である。点線で示された信号線駆動回路3601、画素部3602、第2の走査線駆動回
路3603、第1の走査線駆動回路3606を有する。また、封止基板3604、シール
材3605を有し、シール材3605で囲まれた内側は、空間3607になっている。
なお、配線3608は第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路3606
及び信号線駆動回路3601に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端
子となるFPC(フレキシブルプリントサーキット)3609からビデオ信号、クロック
信号、スタート信号等を受け取る。FPC3609と表示パネルとの接合部上にはICチ
ップ(メモリ回路や、バッファ回路などが形成された半導体チップ)3618及びICチ
ップ3619がCOG(Chip On Glass)等で実装されている。なお、ここ
ではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り
付けられていても良い。本明細書における表示装置とは、表示パネル本体だけでなく、そ
れにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。また、ICチップ
などが実装されたものを含むものとする。
次に、断面構造について図8(B)を用いて説明する。基板3610上には画素部36
02とその周辺駆動回路(第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路360
6及び信号線駆動回路3601)が形成されているが、ここでは、信号線駆動回路360
1と、画素部3602が示されている。
なお、信号線駆動回路3601はNチャネル型TFT3620やPチャネル型TFT3
621を用いてCMOS回路を構成している。また、本実施の形態では、基板上に周辺駆
動回路を一体形成した表示パネルを示すが、必ずしもその必要はなく、周辺駆動回路の全
部若しくは一部をICチップなどに形成し、COGなどで実装しても良い。
また、画素部3602はスイッチング用TFT3611と、駆動用TFT3612とを
含む画素を構成する複数の回路を有している。なお、駆動用TFT3612のソース電極
は第1の電極3613と電気的に接続されている。また、第1の電極3613の端部を覆
って絶縁物3614が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用い
ることにより形成する。
また、カバレッジを良好なものとするため、絶縁物3614の上端部または下端部に曲
率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物3614の材料としてポジ型の
感光性アクリルを用いた場合、絶縁物3614の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3
μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物3614として、感光性の
光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解
性となるポジ型のいずれも使用することができる。
第1の電極3613上には、有機化合物を含む層3616、および第2の電極3617
がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極3613に用いる材
料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウ
ムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)膜、窒化チタン膜、クロム膜、タン
グステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とす
る膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構
造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好な
オーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
また、有機化合物を含む層3616は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェ
ット法によって形成される。有機化合物を含む層3616には、元素周期表第4族金属錯
体をその一部に用いることとし、その他、組み合わせて用いることのできる材料としては
、低分子系材料であっても高分子系材料であっても良い。また、有機化合物を含む層に用
いる材料としては、通常、有機化合物を単層もしくは積層で用いる場合が多いが、本実施
の形態においては、有機化合物からなる膜の一部に無機化合物を用いる構成も含めること
とする。さらに、公知の三重項材料を用いることも可能である。
さらに、有機化合物を含む層3616上に形成される第2の電極(陰極)3617に用
いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合
金MgAg、MgIn、AlLi、CaF、または窒化カルシウム)を用いればよい。
なお、有機化合物を含む層3616で生じた光が第2の電極3617を透過させる場合に
は、第2の電極(陰極)3617として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(IT
O(インジウムスズ酸化物)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In―ZnO)、酸
化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのが良い。
さらにシール材3605で封止基板3604を基板3610と貼り合わせることにより
、基板3610、封止基板3604、およびシール材3605で囲まれた空間3607に
表示素子3622が備えられた構造になっている。なお、空間3607には、不活性気体
(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材3605で充填される構成も含む
ものとする。
なお、シール材3605にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材
料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板36
04に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−R
einforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエス
テルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
以上のようにして、表示パネルを得ることができる。
図8に示すように、信号線駆動回路3601、画素部3602、第2の走査線駆動回路
3603及び第1の走査線駆動回路3606を一体形成することで、表示装置の低コスト
化が図れる。
なお、表示パネルの構成としては、図8(A)に示したように信号線駆動回路3601
、画素部3602、第2の走査線駆動回路3603及び第1の走査線駆動回路3606を
一体形成した構成に限られず、信号線駆動回路3601に相当する図9(A)に示す信号
線駆動回路4201をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成と
しても良い。なお、図9(A)の基板4200、画素部4202、第2の走査線駆動回路
4203、第1の走査線駆動回路4204、FPC4205、ICチップ4206、IC
チップ4207、封止基板4208、シール材4209は図8(A)の基板3610、画
素部3602、第2の走査線駆動回路3603、第1の走査線駆動回路3606、FPC
3609、ICチップ3618、ICチップ3619、封止基板3604、シール材36
05に相当する。
つまり、駆動回路のうちで高速動作が要求される信号線駆動回路のみを、CMOS等を
用いてICチップに形成し、低消費電力化を図る。また、ICチップはシリコンウエハ等
の半導体チップとすることで、より高速動作且つ低消費電力化を図れる。
そして、上記実施の形態で示したシフトレジスタが設けられた第1の走査線駆動回路4
203や第2の走査線駆動回路4204を画素部4202と一体形成することで、低コス
ト化が図れる。
こうして、高精細な表示装置の低コスト化が図れる。また、FPC4205と基板42
00との接続部において機能回路(メモリやバッファ)が形成されたICチップを実装す
ることで基板面積を有効利用することができる。
また、図8(A)の信号線駆動回路3601、第2の走査線駆動回路3603及び第1
の走査線駆動回路3606に相当する図9(B)の信号線駆動回路4211、第2の走査
線駆動回路4214及び第1の走査線駆動回路4213をICチップ上に形成して、CO
G等で表示パネルに実装した構成としても良い。この場合には高精細な表示装置をより低
消費電力にすることが可能である。よって、より消費電力が少ない表示装置とするため、
画素部に用いられるトランジスタの半導体層にはポリシリコンを用いることが望ましい。
なお、図9(B)の基板4210、画素部4212、FPC4215、ICチップ421
6、ICチップ4217、封止基板4218、シール材4219は図8(A)の基板36
10、画素部3602、FPC3609、ICチップ3618、ICチップ3619、封
止基板3604、シール材3605に相当する。
また、画素部4212のトランジスタの半導体層にアモルファスシリコンを用いること
により低コスト化を図ることができる。さらに、大型の表示パネルを作製することも可能
となる。また酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタで画素部のトランジスタ及びシフト
レジスタを構成するトランジスタを用いることも可能である。酸化物半導体を用いた薄膜
トランジスタは、オフ電流を低減すると共に、オン電流及び電界効果移動度を高めること
ができ、またアモルファスシリコンと比べて劣化の度合いを低減することが出来るため、
回路内の誤動作を低減し、より確度の高い動作を保証する駆動回路とすることができる。
さらに、表示素子3622に適用可能な表示素子の例を図13(A)、(B)に示す。
つまり、上記実施の形態で示した画素に適用可能な表示素子の構成について図13(A)
、(B)を用いて説明する。
図13(A)の表示素子は、基板4401の上に陽極4402、正孔注入材料からなる
正孔注入層4403、その上に正孔輸送材料からなる正孔輸送層4404、発光層440
5、電子輸送材料からなる電子輸送層4406、電子注入材料からなる電子注入層440
7、そして陰極4408を積層させた素子構造である。ここで、発光層4405は、一種
類の発光材料のみから形成されることもあるが、2種類以上の材料から形成されてもよい
。また素子の構造は、この構造に限定されない。
また、図13(A)、15(B)で示した各機能層を積層した積層構造の他、高分子化
合物を用いた素子、発光層に三重項励起状態から発光する三重項発光材料を利用した高効
率素子など、バリエーションは多岐にわたる。ホールブロック層によってキャリヤの再結
合領域を制御し、発光領域を二つの領域にわけることによって得られる白色表示素子など
にも応用可能である。
図13(A)に示す素子作製方法は、まず、陽極4402(ITO)を有する基板44
01に正孔注入材料、正孔輸送材料、発光材料を順に蒸着する。次に電子輸送材料、電子
注入材料を蒸着し、最後に陰極4408を蒸着で形成する。
次に、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料の材料に
好適な材料を以下に列挙する。
正孔注入材料としては、有機化合物であればポルフィリン系の化合物や、フタロシアニ
ン(以下「HPc」と記す)、銅フタロシアニン(以下「CuPc」と記す)などが有
効である。また、使用する正孔輸送材料よりもイオン化ポテンシャルの値が小さく、かつ
、正孔輸送機能をもつ材料であれば、これも正孔注入材料として使用できる。導電性高分
子化合物に化学ドーピングを施した材料もあり、ポリスチレンスルホン酸(以下「PSS
」と記す)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(以下「PEDOT」と記す)
や、ポリアニリンなどが挙げられる。また、絶縁体の高分子化合物も陽極の平坦化の点で
有効であり、ポリイミド(以下「PI」と記す)がよく用いられる。さらに、無機化合物
も用いられ、金や白金などの金属薄膜の他、酸化アルミニウム(以下「アルミナ」と記す
)の超薄膜などがある。
正孔輸送材料として最も広く用いられているのは、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼ
ン環−窒素の結合を有するもの)の化合物である。広く用いられている材料として、4,
4’−ビス(ジフェニルアミノ)−ビフェニル(以下、「TAD」と記す)や、その誘導
体である4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフ
ェニル(以下、「TPD」と記す)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェ
ニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「α−NPD」と記す)がある。4,4’,4”−
トリス(N,N− ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(以下、「TDATA」
と記す)、4,4’,4”−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N− フェニル−ア
ミノ]−トリフェニルアミン(以下、「MTDATA」と記す)などのスターバースト型
芳香族アミン化合物が挙げられる。
電子輸送材料としては、金属錯体がよく用いられ、Alq、BAlq、トリス(4−メ
チル−8−キノリノラト)アルミニウム(以下、「Almq」と記す)、ビス(10−ヒ
ドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(以下、「BeBq」と記す)などのキ
ノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体などがある。また、ビス[2−(
2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BOX)」と
記す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(以下、「Z
n(BTZ)」と記す)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体
もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−
ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下、「PBD」と記す)、OXD
−7などのオキサジアゾール誘導体、TAZ、3−(4−tert−ブチルフェニル)−
4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(
以下、「p−EtTAZ」と記す)などのトリアゾール誘導体、バソフェナントロリン(
以下、「BPhen」と記す)、BCPなどのフェナントロリン誘導体が電子輸送性を有
する。
電子注入材料としては、上で述べた電子輸送材料を用いることができる。その他に、フ
ッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウムなどの金属ハロゲン化物や、酸化リチ
ウムなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の、超薄膜がよく用いられる。また、リチ
ウムアセチルアセトネート(以下、「Li(acac)」と記す)や8−キノリノラト−
リチウム(以下、「Liq」と記す)などのアルカリ金属錯体も有効である。
発光材料としては、Alq、Almq、BeBq、BAlq、Zn(BOX)、Zn
(BTZ)などの金属錯体の他、各種蛍光色素が有効である。蛍光色素としては、青色
の4,4’−ビス(2,2 − ジフェニル−ビニル)−ビフェニルや、赤橙色の4−(
ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン
などがある。また、三重項発光材料も可能であり、白金ないしはイリジウムを中心金属と
する錯体が主体である。三重項発光材料として、トリス(2−フェニルピリジン)イリジ
ウム、ビス(2−(4’−トリル)ピリジナト−N,C2’)アセチルアセトナトイリジ
ウム(以下「acacIr(tpy)」と記す)、 2,3,7,8,12,13,1
7,18−オクタエチル−21H,23Hポルフィリン−白金などが知られている。
以上で述べたような各機能を有する材料を、各々組み合わせ、高信頼性の表示素子を作
製することができる。
また、上記実施の形態で示した画素構成の駆動トランジスタの極性を変更し、Nチャネ
ル型のトランジスタにして、表示素子の対向電極の電位と電源線に設定する電位との高低
を逆にすれば、図13(A)とは逆の順番に層を形成した表示素子を用いることができる
。つまり、図13(B)に示すように、基板4401の上に陰極4408、電子注入材料
からなる電子注入層4407、その上に電子輸送材料からなる電子輸送層4406、発光
層4405、正孔輸送材料からなる正孔輸送層4404、正孔注入材料からなる正孔注入
層4403、そして陽極4402を積層させた素子構造である。
また、表示素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であれば
よい。そして、基板上にTFT及び表示素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り
出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側
の面から発光を取り出す両面射出構造の表示素子があり、上記実施の形態で示した画素構
成はどの射出構造の表示素子にも適用することができる。
上面射出構造の表示素子について図10(A)を用いて説明する。
基板4500上に下地膜4505を介して駆動用TFT4501が形成され、駆動用T
FT4501のソース電極に接して第1の電極4502が形成され、その上に有機化合物
を含む層4503と第2の電極4504が形成されている。
また、第1の電極4502は表示素子の陽極である。そして第2の電極4504は表示
素子の陰極である。つまり、第1の電極4502と第2の電極4504とで有機化合物を
含む層4503が挟まれているところが表示素子となる。
また、ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関
数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、窒化チタン膜、クロム膜、タングステ
ン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜と
の積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を
用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミ
ックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。光を反射する金属膜
を用いることで光を透過させない陽極を形成することができる。
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウ
ムスズ酸化物)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を
用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光
を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
こうして、図10(A)の矢印に示すように表示素子からの光を上面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、封止基板3604側に光が
射出することになる。従って上面射出構造の表示素子を表示装置に用いる場合には封止基
板3604は光透過性を有する基板を用いる。
また、光学フィルムを設ける場合には、封止基板3604に光学フィルムを設ければよ
い。
次に、下面射出構造の表示素子について図10(B)を用いて説明する。射出構造以外
は図10(A)と同じ構造の表示素子であるため同じ符号を用いて説明する。
ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関数の大
きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジ
ウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透
明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF、または窒化カルシウム)からなる金属膜を用いることができる。こうして、光
を反射する金属膜を用いることで光が透過しない陰極を形成することができる。
こうして、図10(B)の矢印に示すように表示素子からの光を下面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、基板3610側に光が射出
することになる。従って下面射出構造の表示素子を表示装置に用いる場合には基板361
0は光透過性を有する基板を用いる。
また、光学フィルムを設ける場合には、基板3610に光学フィルムを設ければよい。
次に、両面射出構造の表示素子について図10(C)を用いて説明する。射出構造以外
は図10(A)と同じ構造の表示素子であるため同じ符号を用いて説明する。
ここで、陽極として機能する第1の電極4502に用いる材料としては、仕事関数の大
きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジ
ウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透
明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
また、陰極として機能する第2の電極4504に用いる材料としては、仕事関数の小さ
い材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、
CaF、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウ
ムスズ酸化物)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In―ZnO)、酸化亜鉛(Zn
O)等)との積層を用いるのが良い。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電
膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
こうして、図10(C)の矢印に示すように表示素子からの光を両面に取り出すことが
可能になる。つまり、図8の表示パネルに適用した場合には、基板3610側と封止基板
3604側に光が射出することになる。従って両面射出構造の表示素子を表示装置に用い
る場合には基板3610および封止基板3604は、ともに光透過性を有する基板を用い
る。
また、光学フィルムを設ける場合には、基板3610および封止基板3604の両方に
光学フィルムを設ければよい。
また、白色の表示素子とカラーフィルターを用いてフルカラー表示を実現する表示装置
にも上記実施の形態で述べたパルス出力回路の構成を適用することが可能である。
例えば、図11に示すように、基板4600上に下地膜4602が形成され、その上に
駆動用TFT4601が形成され、駆動用TFT4601のソース電極に接して第1の電
極4603が形成され、その上に有機化合物を含む層4604と第2の電極4605が形
成された構成とすることもできる。
また、第1の電極4603は表示素子の陽極である。そして第2の電極4605は表示
素子の陰極である。つまり、第1の電極4603と第2の電極4605とで有機化合物を
含む層4604が挟まれているところが表示素子となる。図11の構成では白色光を発光
する。そして、表示素子の上部に赤色のカラーフィルター4606R、緑色のカラーフィ
ルター4606G、青色のカラーフィルター4606Bを設けられており、フルカラー表
示を行うことができる。また、これらのカラーフィルターを隔離するブラックマトリクス
(BMともいう)4607が設けられている。
上述した表示素子の構成は組み合わせて用いることができ、上記実施の形態で説明した
パルス出力回路、シフトレジスタにより駆動する表示装置に適宜用いることができる。ま
た、上述した表示パネルの構成や、表示素子は例示であり、もちろん他の構成を適用する
こともできる。
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
(実施の形態6)
本実施の形態においては、電子機器の例について説明する。具体的には電子機器の表示
部の駆動に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、デジタル
カメラ等のカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(
カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モ
バイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画
像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の
記録媒体を再生し、その画像を表示しうる発光装置を備えた装置)などが挙げられる。
図12(A)は発光装置であり、筐体6001、支持台6002、表示部6003、ス
ピーカー部6004、ビデオ入力端子6005等を含む。上記実施の形態で述べたパルス
出力回路を具備する表示装置を表示部6003に用いることができる。なお、発光装置は
、パーソナルコンピュータ用、テレビジョン放送受信用、広告表示用などの全ての情報表
示用発光装置が含まれる。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部600
3を駆動することによって誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備す
る電子機器を提供することができる。
図12(B)はカメラであり、本体6101、表示部6102、受像部6103、操作
キー6104、外部接続ポート6105、シャッターボタン6106等を含む。上記実施
の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6102を駆動することによって、誤動作
を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができ
る。
図12(C)はコンピュータであり、本体6201、筐体6202、表示部6203、
キーボード6204、外部接続ポート6205、ポインティングデバイス6206等を含
む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6203を駆動することによ
って、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供す
ることができる。
図12(D)はモバイルコンピュータであり、本体6301、表示部6302、スイッ
チ6303、操作キー6304、赤外線ポート6305等を含む。上記実施の形態で述べ
たのシフトレジスタを用いて表示部6302を駆動することによって、誤動作を低減した
駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
図12(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)
であり、本体6401、筐体6402、表示部A6403、表示部B6404、記録媒体
(DVD等)読み込み部6405、操作キー6406、スピーカー部6407等を含む。
表示部A6403は主として画像情報を表示し、表示部B6404は主として文字情報を
表示することができる。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部A640
3や表示部B6404を駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作
する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
図12(F)はゴーグル型ディスプレイであり、本体6501、表示部6502、アー
ム部6503を含む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部6502を
駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具備する
電子機器を提供することができる。
図12(G)はビデオカメラであり、本体6601、表示部6602、筐体6603、
外部接続ポート6604、リモコン受信部6605、受像部6606、バッテリー660
7、音声入力部6608、操作キー6609、接眼部6610等を含む。上記実施の形態
で述べたシフトレジスタを用いて表示部6602を駆動することによって、誤動作を低減
した駆動回路によって動作する表示装置を具備する電子機器を提供することができる。
図12(H)は携帯電話機であり、本体6701、筐体6702、表示部6703、音
声入力部6704、音声出力部6705、操作キー6706、外部接続ポート6707、
アンテナ6708等を含む。上記実施の形態で述べたシフトレジスタを用いて表示部67
03を駆動することによって、誤動作を低減した駆動回路によって動作する表示装置を具
備する電子機器を提供することができる。
なお、本実施の形態において、各々の図で述べた内容は、別の実施の形態で述べた内容に
対して、適宜、組み合わせ、又は置き換えなどを自由に行うことができる。
上記実施の形態で説明した図1(A)のシフトレジスタを有する走査線駆動回路(以下、
ゲートドライバという)、及び信号線駆動回路(ソースドライバという)を表示部が設け
られる基板上に形成し、表示素子として有機EL素子を採用した表示パネルの写真につい
て、図14に示す。図14に示す表示パネルは、矩形状の基板上において、短辺方向にソ
ースドライバを配置し、長辺方向にゲートドライバを配置し、ソースドライバが配置され
た短辺方向にFPC端子部を設ける構成としている。また各画素、ゲートドライバ、及び
ソースドライバに配置される薄膜トランジスタの半導体層として、酸化物半導体であるI
n−Ga−Zn−O系非単結晶膜を用いている。なお図14に示す表示パネルのカラー表
示方式については、薄膜トランジスタ上にカラーフィルターを設け、カラーフィルター上
の有機EL素子より白色光を発光させることで、カラー表示を実現する構成としている。
図14に示す表示パネルの具体的な仕様について、表1に示す。
なお表1において、2Tr1Cとは、1画素内に2つのトランジスタと1つの容量素子を
具備する構成について略記したものである。
また実際に作製したシフトレジスタを具備するソースドライバにおいて観察される信号波
形の様子について図15(A)、(B)に示し説明する。なお図15(A)では、上記実
施の形態で説明した駆動回路のタイミングチャートであり、図15(B)では実際に観察
される信号波形について示したものである。なお図15(A)、(B)において、SSP
はソースドライバの第1のスタートパルス(S−SP)、SCK1はソースドライバの第
1のクロック信号、SOUT1はソースドライバの1段目のパルス出力回路の出力信号、
SOUT(dum)はソースドライバのパルス出力回路の最終段(ダミー段)の出力信号
である。
図15(A)、図15(B)に示すタイミングチャート通りに、実際に観察される信号波
形が得られていることがわかる。
10 パルス出力回路
11 信号線
12 信号線
13 信号線
14 信号線
21 入力端子
22 入力端子
23 入力端子
24 入力端子
25 入力端子
26 出力端子
27 出力端子
31 電源線
32 電源線
33 電源線
34 電源線
35 電源線
36 電源線
37 電源線
38 電源線
39 電源線
51 期間
52 期間
53 期間
54 期間
55 期間
101 トランジスタ
102 トランジスタ
103 トランジスタ
104 トランジスタ
105 トランジスタ
106 トランジスタ
107 トランジスタ
108 トランジスタ
109 トランジスタ
201 トランジスタ
202 トランジスタ
203 トランジスタ
204 トランジスタ
1101 画素
1102 画素部
1103 信号線駆動回路
1104 走査線駆動回路
1105 走査線駆動回路
1106 FPC
1107 基板
1111 シフトレジスタ
1112 ラッチ回路
1113 ラッチ回路
1114 シフトレジスタ
1115 バッファ
1117 バッファ
3601 信号線駆動回路
3602 画素部
3603 走査線駆動回路
3604 封止基板
3605 シール材
3606 走査線駆動回路
3607 空間
3608 配線
3609 FPC
3610 基板
3611 スイッチング用TFT
3612 駆動用TFT
3613 電極
3614 絶縁物
3616 層
3617 電極
3618 ICチップ
3619 ICチップ
3620 Nチャネル型TFT
3621 Pチャネル型TFT
3622 表示素子
4200 基板
4201 信号線駆動回路
4202 画素部
4203 走査線駆動回路
4204 走査線駆動回路
4205 FPC
4206 ICチップ
4207 ICチップ
4208 封止基板
4209 シール材
4210 基板
4211 信号線駆動回路
4212 画素部
4213 走査線駆動回路
4214 走査線駆動回路
4215 FPC
4216 ICチップ
4217 ICチップ
4218 封止基板
4219 シール材
4401 基板
4402 陽極
4403 正孔注入層
4404 正孔輸送層
4405 発光層
4406 電子輸送層
4407 電子注入層
4408 陰極
4500 基板
4501 駆動用TFT
4502 電極
4503 層
4504 電極
4505 下地膜
4600 基板
4601 駆動用TFT
4602 下地膜
4603 電極
4604 層
4605 電極
6001 筐体
6002 支持台
6003 表示部
6004 スピーカー部
6005 ビデオ入力端子
6101 本体
6102 表示部
6103 受像部
6104 操作キー
6105 外部接続ポート
6106 シャッターボタン
6201 本体
6202 筐体
6203 表示部
6204 キーボード
6205 外部接続ポート
6206 ポインティングデバイス
6301 本体
6302 表示部
6303 スイッチ
6304 操作キー
6305 赤外線ポート
6401 本体
6402 筐体
6403 表示部A
6404 表示部B
6405 部
6406 操作キー
6407 スピーカー部
6501 本体
6502 表示部
6503 アーム部
6601 本体
6602 表示部
6603 筐体
6604 外部接続ポート
6605 リモコン受信部
6606 受像部
6607 バッテリー
6608 音声入力部
6609 操作キー
6610 接眼部
6701 本体
6702 筐体
6703 表示部
6704 音声入力部
6705 音声出力部
6706 操作キー
6707 外部接続ポート
6708 アンテナ
4606B カラーフィルター
4606G カラーフィルター
4606R カラーフィルター

Claims (2)

  1. 第1乃至第5のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第1の配線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第4の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタを介して前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのゲートは、第5の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第5の配線と電気的に接続され、
    前記第1の配線は、クロック信号を供給する機能を有し、
    前記第1のトランジスタは、前記クロック信号を前記第2の配線に出力する機能を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 第1乃至第5のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第1の配線と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第4の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタを介して前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのゲートは、第5の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのゲートは、前記第5の配線と電気的に接続され、
    前記第1の配線は、クロック信号を供給する機能を有し、
    前記第1のトランジスタは、前記クロック信号を前記第2の配線に出力する機能を有することを特徴とする半導体装置。
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