JP2017008145A - Curable composition, adhesive sheet, laminate and device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、硬化性組成物、前記硬化性組成物を用いて形成された接着剤層を有する接着シート、前記硬化性組成物の硬化物、および前記硬化性組成物を用いて被接着物を接着して得られる積層物、装置に関する。 The present invention relates to a curable composition, an adhesive sheet having an adhesive layer formed using the curable composition, a cured product of the curable composition, and an adherend using the curable composition. The present invention relates to a laminate and an apparatus obtained by bonding.
半導体の積層や電子部品の接着に用いられる接着剤としては、ベンゾシクロブテン(BCB)、ノボラック系エポキシ樹脂、又はポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤が知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。 Thermosetting adhesives containing benzocyclobutene (BCB), novolac epoxy resin, or polyorganosilsesquioxane are known as adhesives used for semiconductor lamination and electronic component bonding (for example, Patent Documents 1 and 2).
しかし、BCBを含有する熱硬化型接着剤を硬化させるためには200〜350℃程度の高温で加熱することが必要であり、前記高温に曝されることで被接着物がダメージを受ける可能性があった。また、ノボラック系エポキシ樹脂を含有する熱硬化型接着剤は、鉛フリー半田リフローなどの高温プロセス(例えば、260〜280℃)に付した際に接着剤が分解して、接着性が低下し易いことが問題であった。 However, in order to cure the thermosetting adhesive containing BCB, it is necessary to heat at a high temperature of about 200 to 350 ° C., and the adherend may be damaged by being exposed to the high temperature. was there. In addition, a thermosetting adhesive containing a novolac epoxy resin is likely to degrade its adhesiveness due to decomposition of the adhesive when subjected to a high-temperature process (for example, 260 to 280 ° C.) such as lead-free solder reflow. That was the problem.
一方、ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する熱硬化型接着剤は、BCBを含有する熱硬化型接着剤に比べて低温で硬化させることができ、基板に対して接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。また、高温プロセスに付した際にも接着性を維持することができる。しかし、ポリオルガノシルセスキオキサンを含有する硬化型接着剤の硬化物は、熱衝撃によりクラックが発生し易いことが問題であった。 On the other hand, the thermosetting adhesive containing polyorganosilsesquioxane can be cured at a lower temperature than the thermosetting adhesive containing BCB, and has excellent adhesion and adhesion to the substrate. A cured product can be formed. In addition, adhesion can be maintained even when subjected to a high temperature process. However, a cured product of a curable adhesive containing polyorganosilsesquioxane has a problem that cracks are likely to occur due to thermal shock.
従って、本発明の目的は、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性(若しくは耐熱衝撃性)、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる硬化性組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物の硬化物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物を用いて形成された接着剤層を有する接着シートを提供することにある。
本発明の他の目的は、前記硬化性組成物で被接着体を接着して得られる積層物、及び該積層物を有する装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a curable composition that can be cured at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance (or thermal shock resistance), adhesion to an adherend, and adhesion. To provide things.
Another object of the present invention is to provide a cured product of the curable composition.
Another object of the present invention is to provide an adhesive sheet having an adhesive layer formed using the curable composition.
Another object of the present invention is to provide a laminate obtained by adhering an adherend with the curable composition, and an apparatus having the laminate.
本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)を有し、特定の構造の割合(T3体とT2体の割合、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位の割合)が特定範囲に制御され、かつ数平均分子量及び分子量分散度が特定範囲に制御されたポリオルガノシルセスキオキサンと、重合性官能基を有する他の化合物とを混合した硬化性組成物が、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができ、半導体の積層や電子部品等の接着剤として優れた特性を有することを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成されたものである。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing an epoxy group, and a ratio of a specific structure (a ratio of a T3 body and a T2 body, an epoxy group). Of the silsesquioxane-containing unit containing the polyorganosilsesquioxane whose number average molecular weight and molecular weight dispersity are controlled within the specific range, and other compounds having a polymerizable functional group Can be cured at a low temperature to form a cured product having excellent heat resistance, crack resistance, adhesion to the adherend and adhesion, and semiconductor lamination and electronic components. It has been found that it has excellent properties as an adhesive. The present invention has been completed based on these findings.
すなわち、本発明は、下記式(1) That is, the present invention provides the following formula (1):
[式(1)中、R1は、エポキシ基を含有する基を示す。]
で表される構成単位を有し、下記式(I)
[In Formula (1), R < 1 > shows group containing an epoxy group. ]
Having a structural unit represented by the following formula (I)
[式(I)中、Raは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。]
で表される構成単位と、下記式(II)
[In the formula (I), R a is a group containing an epoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. ]
A structural unit represented by the following formula (II):
[式(II)中、Rbは、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Rcは、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。]
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
[In the formula (II), R b represents an epoxy group-containing group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group. Represents a substituted or unsubstituted alkenyl group or a hydrogen atom. R c represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ]
The molar ratio of the structural unit represented by [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, and is based on the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit. The structural unit represented by the formula (1) and the following formula (4)
[式(4)中、R1は、式(1)におけるものと同じ。Rcは、式(II)におけるものと同じ。]
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるポリオルガノシルセスキオキサン(A)と、
重合性官能基を有する、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の化合物(B)とを含有することを特徴とする硬化性組成物を提供する。
[In formula (4), R 1 is the same as that in formula (1). R c is the same as in formula (II). ]
A polyorganosyl having a proportion of structural units represented by the formula: 55 to 100 mol%, a number average molecular weight of 1000 to 3000, and a molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 3.0. Sesquioxane (A),
A curable composition containing a compound (B) other than polyorganosilsesquioxane (A) having a polymerizable functional group is provided.
上記硬化性組成物において、重合性官能基は、エポキシ環、オキセタン環、ビニルエーテル基、及びビニルフェニル基からなる群から選ばれる少なくとも一種であってもよい。 In the curable composition, the polymerizable functional group may be at least one selected from the group consisting of an epoxy ring, an oxetane ring, a vinyl ether group, and a vinylphenyl group.
また、上記硬化性組成物において、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)が、さらに、下記式(2) In the curable composition, the polyorganosilsesquioxane (A) is further represented by the following formula (2):
[式(2)中、R2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。]
で表される構成単位を有していてもよい。
また、上記硬化性組成物において、R1は、下記式(1a)
[In the formula (2), R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group. An alkenyl group of ]
You may have the structural unit represented by these.
In the above curable composition, R 1 is the following formula (1a)
[式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1b)
[In Formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1b):
[式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、下記式(1c)
[In formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group. ]
A group represented by formula (1c):
[式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基、及び、下記式(1d)
[In Formula (1c), R 1c represents a linear or branched alkylene group. ]
And a group represented by the following formula (1d):
[式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。]
で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種であってもよい。
[In formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group. ]
It may be at least one selected from the group consisting of groups represented by:
また、上記硬化性組成物において、上記R2は、置換若しくは無置換のアリール基であってもよい。
また、上記硬化性組成物は、さらに、重合開始剤を含んでいてもよい。
また、上記硬化性組成物は、さらに、重合安定剤を含んでいてもよい。
また、上記硬化性組成物は、さらに、シランカップリング剤を含んでいてもよい。
また、上記硬化性組成物は、接着剤用組成物であってもよい。
In the curable composition, R 2 may be a substituted or unsubstituted aryl group.
The curable composition may further contain a polymerization initiator.
The curable composition may further contain a polymerization stabilizer.
The curable composition may further contain a silane coupling agent.
The curable composition may be an adhesive composition.
また、本発明は、上記硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物を提供する。
また、本発明は、基材と、該基材上の接着剤層とを有する接着シートであって、前記接着剤層が、上記硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シートを提供する。
さらに、本発明は、3層以上で構成される積層物であって、2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、前記接着層が、上記硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物を提供する。
さらに、本発明は、上記積層物を有する装置を提供する。
Moreover, this invention provides the hardened | cured material obtained by hardening the said curable composition.
The present invention also provides an adhesive sheet having a base material and an adhesive layer on the base material, wherein the adhesive layer is a layer of the curable composition. provide.
Furthermore, the present invention is a laminate composed of three or more layers, which has two adherend layers and an adhesive layer between the adherend layers, and the adhesive layer has the curable composition described above. Provided is a laminate characterized by being a layer of a cured product.
Furthermore, this invention provides the apparatus which has the said laminated body.
積層物中の接着層にクラックや剥離が生じると、被接着層が剥離したり、配線が破壊される原因となり、結果として積層物を備えた装置の故障の原因となるが、本発明の硬化物は耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れるため、接着層にクラックや剥離が生じることを防止することができ、装置の信頼性を向上することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 If cracks or peeling occurs in the adhesive layer in the laminate, the adherend layer may peel off or the wiring may be destroyed, resulting in a failure of the device provided with the laminate. Since the object is excellent in heat resistance, crack resistance, adhesion to an adherend and adhesion, it is possible to prevent the adhesion layer from being cracked or peeled off, and to improve the reliability of the apparatus. And, when the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it is more integrated and power-saving than the conventional semiconductor, so if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. An electronic device can be provided.
[硬化性組成物]
本発明の硬化性組成物は、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位(単位構造)を有し、特定の構造の割合(T3体とT2体の割合、エポキシ基を含むシルセスキオキサン構成単位の割合)が特定範囲に制御され、かつ数平均分子量及び分子量分散度が特定範囲に制御されたポリオルガノシルセスキオキサン(A)と、重合性官能基を有する、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の化合物(B)とを必須成分として含む硬化性組成物(硬化性樹脂組成物)である。後述のように、本発明の硬化性組成物は、さらに、重合開始剤、重合安定剤、シランカップリング剤、溶剤や表面調整剤あるいは表面改質剤等のその他の成分を含んでいてもよい。
[Curable composition]
The curable composition of the present invention has a silsesquioxane structural unit (unit structure) containing an epoxy group, and a ratio of a specific structure (a ratio of T3 and T2 forms, a silsesquioxane structure containing an epoxy group). A polyorganosilsesquioxane (A) in which the ratio of units) is controlled to a specific range, and the number average molecular weight and molecular weight dispersity are controlled to a specific range, and a polyorganosilsesquioxane having a polymerizable functional group It is a curable composition (curable resin composition) containing a compound (B) other than (A) as an essential component. As will be described later, the curable composition of the present invention may further contain other components such as a polymerization initiator, a polymerization stabilizer, a silane coupling agent, a solvent, a surface conditioner, or a surface modifier. .
[ポリオルガノシルセスキオキサン(A)]
ポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、下記式(1)で表される構成単位を有し;下記式(I)で表される構成単位(「T3体」と称する場合がある)と、下記式(II)で表される構成単位(「T2体」と称する場合がある)のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位;「T3体/T2体」と記載する場合がある]が5以上であり;シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する下記式(1)で表される構成単位及び下記の式(4)で表される構成単位の割合(総量)が55〜100モル%であり;数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度[重量平均分子量/数平均分子量]が1.0〜3.0であることを特徴とする。
[Polyorganosilsesquioxane (A)]
The polyorganosilsesquioxane (A) has a structural unit represented by the following formula (1); a structural unit represented by the following formula (I) (sometimes referred to as “T3 body”); The molar ratio of the structural unit represented by the following formula (II) (sometimes referred to as “T2 body”) [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II); May be described as “body / T2 body”] is 5 or more; the structural unit represented by the following formula (1) and the following formula (4) with respect to the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit. The ratio (total amount) of structural units is 55 to 100 mol%; the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersity [weight average molecular weight / number average molecular weight] is 1.0 to 3.0. And
上記式(1)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(いわゆるT単位)である。なお、上記式中のRは、水素原子又は一価の有機基を示し、以下においても同じである。上記式(1)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(a)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (1) is a silsesquioxane structural unit (so-called T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. In the above formula, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the same applies to the following. The structural unit represented by the above formula (1) is formed by hydrolysis and condensation reaction of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (a)). Is done.
式(1)中のR1は、エポキシ基を含有する基(一価の基)を示す。即ち、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、分子内にエポキシ基を少なくとも有するカチオン硬化性化合物(カチオン重合性化合物)である。上記エポキシ基を含有する基としては、オキシラン環を有する公知乃至慣用の基が挙げられ、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化性、硬化物の耐熱性の観点で、下記式(1a)で表される基、下記式(1b)で表される基、下記式(1c)で表される基、下記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは下記式(1a)で表される基、下記式(1c)で表される基、さらに好ましくは下記式(1a)で表される基である。 R 1 in the formula (1) represents a group (monovalent group) containing an epoxy group. That is, the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is a cationic curable compound (cationic polymerizable compound) having at least an epoxy group in the molecule. Examples of the group containing an epoxy group include known or commonly used groups having an oxirane ring, and are not particularly limited. However, from the viewpoint of curability of the curable composition and heat resistance of the cured product, the following formula (1a) Group represented by the following formula (1b), a group represented by the following formula (1c), and a group represented by the following formula (1d) are preferable, and more preferably the following formula (1a): A group represented by the following formula (1c), more preferably a group represented by the following formula (1a).
上記式(1a)中、R1aは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示す。直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、デカメチレン基等の炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。中でも、R1aとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1a), R 1a represents a linear or branched alkylene group. Examples of the linear or branched alkylene group include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, and a decamethylene group. Examples thereof include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. Among these, R 1a is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. A trimethylene group and a propylene group, more preferably an ethylene group and a trimethylene group.
上記式(1b)中、R1bは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1bとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1b), R 1b represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1b is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. A trimethylene group and a propylene group, more preferably an ethylene group and a trimethylene group.
上記式(1c)中、R1cは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1cとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In said formula (1c), R <1c> shows a linear or branched alkylene group, and the group similar to R <1a> is illustrated. Among these, R 1c is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. A trimethylene group and a propylene group, more preferably an ethylene group and a trimethylene group.
上記式(1d)中、R1dは、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基を示し、R1aと同様の基が例示される。中でも、R1dとしては、硬化物の硬化性の観点で、炭素数1〜4の直鎖状のアルキレン基、炭素数3又は4の分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、より好ましくはエチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、さらに好ましくはエチレン基、トリメチレン基である。 In the above formula (1d), R 1d represents a linear or branched alkylene group, and examples thereof include the same groups as R 1a . Among these, R 1d is preferably a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a branched alkylene group having 3 or 4 carbon atoms, more preferably an ethylene group, from the viewpoint of curability of the cured product. A trimethylene group and a propylene group, more preferably an ethylene group and a trimethylene group.
式(1)中のR1としては、特に、上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基]が好ましい。 R 1 in formula (1) is particularly a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) Ethyl group] is preferable.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、上記式(1)で表される構成単位を1種のみ有するものであってもよいし、上記式(1)で表される構成単位を2種以上有するものであってもよい。 The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention may have only one type of structural unit represented by the above formula (1), or the structural unit represented by the above formula (1). You may have 2 or more types.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、シルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]として、上記式(1)で表される構成単位以外にも、下記式(2)で表される構成単位を有していてもよい。 The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is represented by the following formula (2) in addition to the structural unit represented by the above formula (1) as the silsesquioxane structural unit [RSiO 3/2 ]. May have a structural unit.
上記式(2)で表される構成単位は、一般に[RSiO3/2]で表されるシルセスキオキサン構成単位(T単位)である。即ち、上記式(2)で表される構成単位は、対応する加水分解性三官能シラン化合物(具体的には、例えば、後述の式(b)で表される化合物)の加水分解及び縮合反応により形成される。 The structural unit represented by the above formula (2) is a silsesquioxane structural unit (T unit) generally represented by [RSiO 3/2 ]. That is, the structural unit represented by the above formula (2) is a hydrolysis and condensation reaction of a corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound (specifically, for example, a compound represented by the following formula (b)). It is formed by.
上記式(2)中のR2は、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。上記アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられる。上記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルケニル基が挙げられる。 R 2 in the above formula (2) is a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted group An alkenyl group of As said aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group. Examples of the cycloalkyl group include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and the like. Examples of the alkyl group include linear or branched alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, and isopentyl group. Groups. As said alkenyl group, linear or branched alkenyl groups, such as a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group, are mentioned, for example.
上述の置換アリール基、置換アラルキル基、置換シクロアルキル基、置換アルキル基、置換アルケニル基としては、上述のアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルキル基、アルケニル基のそれぞれにおける水素原子又は主鎖骨格の一部若しくは全部が、エーテル基、エステル基、カルボニル基、シロキサン基、ハロゲン原子(フッ素原子等)、アクリル基、メタクリル基、メルカプト基、アミノ基、及びヒドロキシ基(水酸基)からなる群より選択された少なくとも1種で置換された基が挙げられる。 As the above-mentioned substituted aryl group, substituted aralkyl group, substituted cycloalkyl group, substituted alkyl group, and substituted alkenyl group, the above-mentioned aryl group, aralkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, and alkenyl group are each a hydrogen atom or main chain. Part or all of the case is an ether group, ester group, carbonyl group, siloxane group, halogen atom (fluorine atom, etc.), acrylic group, methacryl group, mercapto group, amino group, and hydroxy group (hydroxyl group). And a group substituted with at least one selected.
中でも、R2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 Among them, R 2 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, more preferably a phenyl group. is there.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上述の各シルセスキオキサン構成単位(式(1)で表される構成単位、式(2)で表される構成単位)の割合は、これらの構成単位を形成するための原料(加水分解性三官能シラン)の組成により適宜調整することが可能である。 In the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention, the ratio of each of the above silsesquioxane structural units (the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (2)) is as follows. It is possible to adjust appropriately according to the composition of the raw material (hydrolyzable trifunctional silane) for forming the structural unit.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外にも、さらに、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位[RSiO3/2]、[R3SiO1/2]で表される構成単位(いわゆるM単位)、[R2SiO2/2]で表される構成単位(いわゆるD単位)、及び[SiO4/2]で表される構成単位(いわゆるQ単位)からなる群より選択される少なくとも1種のシロキサン構成単位を有していてもよい。なお、上記式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位以外のシルセスキオキサン構成単位としては、例えば、下記式(3)で表される構成単位等が挙げられる。 The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is represented by the above formula (1) in addition to the structural unit represented by the above formula (1) and the structural unit represented by the formula (2). Structural units other than the structural units represented by formula (2) and silsesquioxane structural units [RSiO 3/2 ], [R 3 SiO 1/2 ] (so-called M units), [ R 2 SiO 2/2 ] at least one siloxane selected from the group consisting of a structural unit (so-called D unit) and a structural unit represented by [SiO 4/2 ] (so-called Q unit) You may have a unit. In addition, as a silsesquioxane structural unit other than the structural unit represented by the said Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), the structural unit etc. which are represented by following formula (3) etc. are mentioned, for example. Can be mentioned.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上記式(I)で表される構成単位(T3体)と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)の割合[T3体/T2体]は、上述のように5以上であり、好ましくは5〜18、より好ましくは6〜16、さらに好ましくは7〜14である。上記割合[T3体/T2体]を5以上とすることにより、硬化物や接着性が著しく向上する。 In the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention, the proportion of the structural unit (T3 form) represented by the above formula (I) and the structural unit (T2 form) represented by the above formula (II) [T3 form] / T2 body] is 5 or more as described above, preferably 5 to 18, more preferably 6 to 16, and still more preferably 7 to 14. By setting the ratio [T3 body / T2 body] to 5 or more, the cured product and the adhesiveness are remarkably improved.
なお、上記式(I)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(I’)で表される。また、上記式(II)で表される構成単位をより詳細に記載すると、下記式(II’)で表される。下記式(I’)で表される構造中に示されるケイ素原子に結合した3つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(I’)に示されていないケイ素原子)と結合している。一方、下記式(II’)で表される構造中に示されるケイ素原子の上と下に位置する2つの酸素原子はそれぞれ、他のケイ素原子(式(II’)に示されていないケイ素原子)に結合している。即ち、上記T3体及びT2体は、いずれも対応する加水分解性三官能シラン化合物の加水分解及び縮合反応により形成される構成単位(T単位)である。 When the structural unit represented by the above formula (I) is described in more detail, it is represented by the following formula (I ′). Further, when the structural unit represented by the above formula (II) is described in more detail, it is represented by the following formula (II ′). Each of the three oxygen atoms bonded to the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (I ′) is bonded to another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (I ′)). . On the other hand, two oxygen atoms located above and below the silicon atom shown in the structure represented by the following formula (II ′) are each replaced with another silicon atom (a silicon atom not shown in the formula (II ′)). Are connected. That is, the T3 body and the T2 body are structural units (T units) formed by hydrolysis and condensation reaction of the corresponding hydrolyzable trifunctional silane compound.
上記式(I)中のRa(式(I’)中のRaも同じ)及び式(II)中のRb(式(II’)中のRbも同じ)は、それぞれ、エポキシ基を含有する基、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、又は水素原子を示す。Ra及びRbの具体例としては、上記式(1)におけるR1、上記式(2)におけるR2と同様のものが例示される。なお、式(I)中のRa及び式(II)中のRbは、それぞれ、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の原料として使用した加水分解性三官能シラン化合物におけるケイ素原子に結合した基(アルコキシ基及びハロゲン原子以外の基;例えば、後述の式(a)〜(c)におけるR1、R2、水素原子等)に由来する。 R a in the above formula (I) (formula (I ') in the R a same) and formula (II) in the R b (wherein (II') in the R b versa), respectively, an epoxy group A group containing, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted aralkyl group, substituted or unsubstituted cycloalkyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, or hydrogen atom Show. Specific examples of R a and R b are the same as R 1 in the above formula (1) and R 2 in the above formula (2). In addition, R a in the formula (I) and R b in the formula (II) are respectively silicon atoms in the hydrolyzable trifunctional silane compound used as a raw material of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. Derived from a group bonded to (group other than an alkoxy group and a halogen atom; for example, R 1 , R 2 and a hydrogen atom in formulas (a) to (c) described below).
上記式(II)中のRc(式(II’)中のRcも同じ)は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。式(II)中のRcにおけるアルキル基は、一般的には、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の原料として使用した加水分解性シラン化合物におけるアルコキシ基(例えば、後述のX1〜X3としてのアルコキシ基等)を形成するアルキル基に由来する。 R c in the formula (II) (Formula (II ') in the R c versa) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group. . The alkyl group represented by R c in the formula (II) is generally an alkoxy group (for example, X 1 described later) in the hydrolyzable silane compound used as a raw material for the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. Derived from an alkyl group forming an alkoxy group or the like as X 3 .
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上記割合[T3体/T2体]は、例えば、29Si−NMRスペクトル測定により求めることができる。29Si−NMRスペクトルにおいて、上記式(I)で表される構成単位(T3体)におけるケイ素原子と、上記式(II)で表される構成単位(T2体)におけるケイ素原子とは、異なる位置(化学シフト)にシグナル(ピーク)を示すため、これらそれぞれのピークの積分比を算出することにより、上記割合[T3体/T2体]が求められる。具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)が、上記式(1)で表され、R1が2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基である構成単位を有する場合には、上記式(I)で表される構造(T3体)におけるケイ素原子のシグナルは−64〜−70ppmに現れ、上記式(II)で表される構造(T2体)におけるケイ素原子のシグナルは−54〜−60ppmに現れる。従って、この場合、−64〜−70ppmのシグナル(T3体)と−54〜−60ppmのシグナル(T2体)の積分比を算出することによって、上記割合[T3体/T2体]を求めることができる。 The said ratio [T3 body / T2 body] in the polyorgano silsesquioxane (A) of this invention can be calculated | required by 29 Si-NMR spectrum measurement, for example. 29 In the Si-NMR spectrum, the silicon atom in the structural unit (T3 form) represented by the above formula (I) is different from the silicon atom in the structural unit (T2 form) represented by the above formula (II). In order to show a signal (peak) in (chemical shift), the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integration ratio of these respective peaks. Specifically, for example, the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is represented by the above formula (1), and R 1 is a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group. In the case of having a unit, the signal of the silicon atom in the structure (T3 form) represented by the above formula (I) appears at −64 to −70 ppm, and in the structure (T2 form) represented by the above formula (II). The silicon atom signal appears at -54 to -60 ppm. Therefore, in this case, the ratio [T3 body / T2 body] can be obtained by calculating the integral ratio of the signal (T3 body) of −64 to −70 ppm and the signal (T2 body) of −54 to −60 ppm. it can.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の29Si−NMRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「JNM−ECA500NMR」(日本電子(株)製)
溶媒:重クロロホルム
積算回数:1800回
測定温度:25℃
The 29 Si-NMR spectrum of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be measured by, for example, the following apparatus and conditions.
Measuring apparatus: Trade name “JNM-ECA500NMR” (manufactured by JEOL Ltd.)
Solvent: Deuterated chloroform Accumulated times: 1800 times Measurement temperature: 25 ° C
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の上記割合[T3体/T2体]が5以上であることは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)においてT3体に対し一定以上のT2体が存在していることを意味する。このようなT2体としては、例えば、下記式(4)で表される構成単位、下記式(5)で表される構成単位、下記式(6)で表される構成単位等が挙げられる。下記式(4)におけるR1及び下記式(5)におけるR2は、それぞれ上記式(1)におけるR1及び上記式(2)におけるR2と同じである。下記式(4)〜(6)におけるRcは、式(II)におけるRcと同じく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示す。 That the ratio [T3 / T2] of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is 5 or more is a certain amount or more with respect to T3 in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. It means that T2 body exists. Examples of such a T2 body include a structural unit represented by the following formula (4), a structural unit represented by the following formula (5), a structural unit represented by the following formula (6), and the like. R 2 in R 1 and the following formula (5) in the following equation (4) is the same as R 2 in R 1 and the formula in the formula (1) (2). R c in the formula (4) to (6), like the R c in Formula (II), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
一般に、完全カゴ型シルセスキオキサンは、T3体のみにより構成されたポリオルガノシルセスキオキサンであり、分子中にT2体が存在しない。即ち、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、さらに後述のようにFT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有する場合の本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、不完全カゴ型シルセスキオキサン構造を有することが示唆される。 In general, a complete cage silsesquioxane is a polyorganosilsesquioxane composed only of a T3 form, and no T2 form exists in the molecule. That is, the ratio [T3 body / T2 body] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, the molecular weight dispersity is 1.0 to 3.0, and in the FT-IR spectrum as described later. It is suggested that the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention having one intrinsic absorption peak in the vicinity of 1100 cm −1 has an incomplete cage silsesquioxane structure.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)がカゴ型(不完全カゴ型)シルセスキオキサン構造を有することは、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)が、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有せず、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することから確認される[参考文献:R.H.Raney, M.Itoh, A.Sakakibara and T.Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409(1995)]。これに対して、一般に、FT−IRスペクトルにおいて1050cm-1付近と1150cm-1付近にそれぞれ固有吸収ピークを有する場合には、ラダー型シルセスキオキサン構造を有すると同定される。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)のFT−IRスペクトルは、例えば、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「FT−720」((株)堀場製作所製)
測定方法:透過法
分解能:4cm-1
測定波数域:400〜4000cm-1
積算回数:16回
The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention has a cage-type (incomplete cage-type) silsesquioxane structure. The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention has an FT-IR spectrum. 1050 cm -1 and around 1150cm respectively in the vicinity of -1 does not have a specific absorption peak is confirmed by the fact that with a single specific absorption peak in the vicinity of 1100 cm -1 [ref: R. H. Raney, M.M. Itoh, A.D. Sakakibara and T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409 (1995)]. On the other hand, in general, when the FT-IR spectrum has intrinsic absorption peaks near 1050 cm −1 and 1150 cm −1 , it is identified as having a ladder-type silsesquioxane structure. In addition, the FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane (A) of this invention can be measured with the following apparatus and conditions, for example.
Measuring device: Trade name “FT-720” (manufactured by Horiba, Ltd.)
Measurement method: Transmission method Resolution: 4 cm -1
Measurement wavenumber range: 400 to 4000 cm −1
Integration count: 16 times
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位及び上記式(4)で表される構成単位の割合(総量)は、上述のように、55〜100モル%であり、好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。上記割合を55モル%以上とすることにより、硬化性組成物の硬化性が向上し、また、硬化物の接着性が著しく高くなる。なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における各シロキサン構成単位の割合は、例えば、原料の組成やNMRスペクトル測定等により算出できる。 The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%), the above formula (1 ) And the ratio (total amount) of the structural unit represented by the above formula (4) is 55 to 100 mol%, preferably 65 to 100 mol%, more preferably, as described above. 80 to 99 mol%. By making the said ratio 55 mol% or more, the sclerosis | hardenability of a curable composition improves and the adhesiveness of hardened | cured material becomes remarkably high. In addition, the ratio of each siloxane structural unit in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be calculated by, for example, the composition of raw materials or NMR spectrum measurement.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(2)で表される構成単位及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。上記割合を70モル%以下とすることにより、相対的に式(1)で表される構成単位及び式(4)で表される構成単位の割合を多くすることができるため、硬化性組成物の硬化性が向上し、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。 The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%), the above formula (2 The ratio (total amount) of the structural unit represented by formula (5) and the structural unit represented by the above formula (5) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 0 to 60 mol%, still more preferably. Is 0 to 40 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%. Since the ratio of the structural unit represented by the formula (1) and the structural unit represented by the formula (4) can be relatively increased by setting the ratio to 70 mol% or less, the curable composition There is a tendency that the curability of the cured product is improved and the adhesiveness of the cured product becomes higher.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシロキサン構成単位の全量[全シロキサン構成単位;M単位、D単位、T単位、及びQ単位の全量](100モル%)に対する、上記式(1)で表される構成単位、上記式(2)で表される構成単位、上記式(4)で表される構成単位、及び上記式(5)で表される構成単位の割合(総量)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。上記割合を60モル%以上とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる傾向がある。 The total amount of siloxane structural units in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention [total siloxane structural units; total amount of M units, D units, T units, and Q units] (100 mol%), the above formula (1 ), The structural unit represented by the above formula (2), the structural unit represented by the above formula (4), and the ratio (total amount) of the structural unit represented by the above formula (5) are as follows: Although not specifically limited, 60-100 mol% is preferable, More preferably, it is 70-100 mol%, More preferably, it is 80-100 mol%. There exists a tendency for the adhesiveness of hardened | cured material to become higher by making the said ratio 60 mol% or more.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、上述のように、1000〜3000であり、好ましくは1000〜2800、より好ましくは1100〜2600である。数平均分子量を1000以上とすることにより、硬化物の耐熱性、接着性がより向上する。一方、数平均分子量を3000以下とすることにより、硬化性組成物における他の成分との相溶性が向上し、硬化物の耐熱性がより向上する。 The number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is 1000 to 3000, preferably 1000 to 2800, more preferably as described above. Is 1100-2600. By setting the number average molecular weight to 1000 or more, the heat resistance and adhesiveness of the cured product are further improved. On the other hand, by setting the number average molecular weight to 3000 or less, compatibility with other components in the curable composition is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の分子量分散度(Mw/Mn)は、上述のように、1.0〜3.0であり、好ましくは1.1〜2.0、より好ましくは1.2〜1.9、特に好ましくは1.45〜1.8である。分子量分散度を3.0以下とすることにより、硬化物の接着性がより高くなる。一方、分子量分散度を1.0以上とすることにより、液状となりやすく、取り扱い性が向上する傾向がある。 The molecular weight dispersity (Mw / Mn) in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is 1.0 to 3.0 as described above, preferably It is 1.1 to 2.0, more preferably 1.2 to 1.9, and particularly preferably 1.45 to 1.8. By setting the molecular weight dispersity to 3.0 or less, the adhesiveness of the cured product becomes higher. On the other hand, when the molecular weight dispersity is 1.0 or more, it tends to be liquid and the handleability tends to be improved.
なお、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の数平均分子量、分子量分散度は、下記の装置及び条件により測定することができる。
測定装置:商品名「Alliance HPLCシステム 2695」(Waters製)、「Refractive Index Detector 2414」(Waters製)
カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)
ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)
カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)
溶媒:THF
測定条件:40℃
分子量:標準ポリスチレン換算
In addition, the number average molecular weight and molecular weight dispersity of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be measured by the following apparatus and conditions.
Measuring apparatus: Trade name “Alliance HPLC system 2695” (manufactured by Waters), “Refractive Index Detector 2414” (manufactured by Waters)
Column: Tskel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corporation)
Guard column: Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corporation)
Column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai)
Solvent: THF
Measurement conditions: 40 ° C
Molecular weight: Standard polystyrene conversion
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の空気雰囲気下における5%重量減少温度(Td5)は、特に限定されないが、330℃以上(例えば、330〜450℃)が好ましく、より好ましくは340℃以上、さらに好ましくは350℃以上である。5%重量減少温度が330℃以上であることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)が、上記割合[T3体/T2体]が5以上であって、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度が1.0〜3.0であり、FT−IRスペクトルにおいて1100cm-1付近に一つの固有ピークを有するものであることにより、その5%重量減少温度は330℃以上に制御される。なお、5%重量減少温度は、一定の昇温速度で加熱した時に加熱前の重量の5%が減少した時点での温度であり、耐熱性の指標となる。上記5%重量減少温度は、TGA(熱重量分析)により、空気雰囲気下、昇温速度5℃/分の条件で測定することができる。 The 5% weight loss temperature (T d5 ) in the air atmosphere of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is not particularly limited, but is preferably 330 ° C. or higher (for example, 330 to 450 ° C.), more preferably It is 340 ° C or higher, more preferably 350 ° C or higher. When the 5% weight reduction temperature is 330 ° C. or higher, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. Particularly, in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention, the ratio [T3 / T2] is 5 or more, the number average molecular weight is 1000 to 3000, and the molecular weight dispersity is 1.0 to 3. By being one and having one intrinsic peak in the vicinity of 1100 cm −1 in the FT-IR spectrum, the 5% weight loss temperature is controlled to 330 ° C. or higher. The 5% weight reduction temperature is a temperature at the time when 5% of the weight before heating is reduced when heated at a constant rate of temperature increase, and serves as an index of heat resistance. The 5% weight loss temperature can be measured by TGA (thermogravimetric analysis) under an air atmosphere at a temperature rising rate of 5 ° C./min.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、公知乃至慣用のポリシロキサンの製造方法により製造することができ、特に限定されないが、例えば、1種又は2種以上の加水分解性シラン化合物を加水分解及び縮合させる方法により製造できる。但し、上記加水分解性シラン化合物としては、上述の式(1)で表される構成単位を形成するための加水分解性三官能シラン化合物(下記式(a)で表される化合物)を必須の加水分解性シラン化合物として使用する必要がある。 The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be produced by a known or conventional polysiloxane production method, and is not particularly limited. For example, one or two or more hydrolyzable silane compounds may be used. It can be produced by a method of hydrolysis and condensation. However, as the hydrolyzable silane compound, a hydrolyzable trifunctional silane compound (compound represented by the following formula (a)) for forming the structural unit represented by the above formula (1) is essential. It is necessary to use it as a hydrolyzable silane compound.
より具体的には、例えば、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)におけるシルセスキオキサン構成単位(T単位)を形成するための加水分解性シラン化合物である下記式(a)で表される化合物、必要に応じてさらに、下記式(b)で表される化合物、下記式(c)で表される化合物を、加水分解及び縮合させる方法により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)を製造できる。 More specifically, for example, it is represented by the following formula (a) which is a hydrolyzable silane compound for forming a silsesquioxane structural unit (T unit) in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. The polyorganosilsesquioxane of the present invention by a method of hydrolyzing and condensing a compound represented by the following formula (b) and a compound represented by the following formula (c) as necessary. (A) can be manufactured.
上記式(a)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における式(1)で表される構成単位を形成する化合物である。式(a)中のR1は、上記式(1)におけるR1と同じく、エポキシ基を含有する基を示す。即ち、式(a)中のR1としては、上記式(1a)で表される基、上記式(1b)で表される基、上記式(1c)で表される基、上記式(1d)で表される基が好ましく、より好ましくは上記式(1a)で表される基、上記式(1c)で表される基、さらに好ましくは上記式(1a)で表される基、特に好ましくは上記式(1a)で表される基であって、R1aがエチレン基である基[中でも、2−(3’,4’−エポキシシクロヘキシル)エチル基]である。 The compound represented by the above formula (a) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (1) in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. R 1 in the formula (a), like that of R 1 in the formula (1), a group containing an epoxy group. That is, R 1 in the formula (a) is a group represented by the above formula (1a), a group represented by the above formula (1b), a group represented by the above formula (1c), or the above formula (1d). The group represented by the above formula (1a), the group represented by the above formula (1c), more preferably the group represented by the above formula (1a), particularly preferably Is a group represented by the above formula (1a), wherein R 1a is an ethylene group [in particular, a 2- (3 ′, 4′-epoxycyclohexyl) ethyl group].
上記式(a)中のX1は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X1におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブチルオキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基等が挙げられる。また、X1におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。中でもX1としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX1は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 1 in the above formula (a) represents an alkoxy group or a halogen atom. The alkoxy group in X 1, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, isopropyloxy group, a butoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as isobutyl group and the like. As the halogen atom in X 1, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, X 1 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 1 may be the same or different.
上記式(b)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における式(2)で表される構成単位を形成する化合物である。式(b)中のR2は、上記式(2)におけるR2と同じく、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は、置換若しくは無置換のアルケニル基を示す。即ち、式(b)中のR2としては、置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基が好ましく、より好ましくは置換若しくは無置換のアリール基、さらに好ましくはフェニル基である。 The compound represented by the above formula (b) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (2) in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. R 2 in formula (b), like the R 2 in the formula (2), a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted An alkyl group, or a substituted or unsubstituted alkenyl group. That is, R 2 in formula (b) is preferably a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, more preferably a substituted or unsubstituted aryl group, More preferred is a phenyl group.
上記式(b)中のX2は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X2の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X2としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX2は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 X 2 in the above formula (b) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 2 include those exemplified as X 1 . Among them, X 2 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 2 may be the same or different.
上記式(c)で表される化合物は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における式(3)で表される構成単位を形成する化合物である。上記式(c)中のX3は、アルコキシ基又はハロゲン原子を示す。X3の具体例としては、X1として例示したものが挙げられる。中でも、X3としては、アルコキシ基が好ましく、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。なお、3つのX3は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The compound represented by the above formula (c) is a compound that forms the structural unit represented by the formula (3) in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. X 3 in the above formula (c) represents an alkoxy group or a halogen atom. Specific examples of X 3 include those exemplified as X 1 . Among them, X 3 is preferably an alkoxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. The three X 3 may be the same or different.
上記加水分解性シラン化合物としては、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用してもよい。例えば、上記式(a)〜(c)で表される化合物以外の加水分解性三官能シラン化合物、M単位を形成する加水分解性単官能シラン化合物、D単位を形成する加水分解性二官能シラン化合物、Q単位を形成する加水分解性四官能シラン化合物等が挙げられる。 As said hydrolysable silane compound, you may use together hydrolysable silane compounds other than the compound represented by said formula (a)-(c). For example, hydrolyzable trifunctional silane compounds other than the compounds represented by the above formulas (a) to (c), hydrolyzable monofunctional silane compounds that form M units, and hydrolyzable bifunctional silanes that form D units Examples thereof include hydrolyzable tetrafunctional silane compounds that form compounds and Q units.
上記加水分解性シラン化合物の使用量や組成は、所望する本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の構造に応じて適宜調整できる。例えば、上記式(a)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、55〜100モル%が好ましく、より好ましくは65〜100モル%、さらに好ましくは80〜99モル%である。 The amount and composition of the hydrolyzable silane compound can be appropriately adjusted according to the desired structure of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention. For example, although the usage-amount of the compound represented by the said formula (a) is not specifically limited, 55-100 mol% is preferable with respect to the whole quantity (100 mol%) of the hydrolysable silane compound to be used, More preferably Is 65 to 100 mol%, more preferably 80 to 99 mol%.
また、上記式(b)で表される化合物の使用量は、特に限定されないが、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対して、0〜70モル%が好ましく、より好ましくは0〜60モル%、さらに好ましくは0〜40モル%、特に好ましくは1〜15モル%である。 The amount of the compound represented by the formula (b) is not particularly limited, but is preferably 0 to 70 mol%, more preferably based on the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used. Is 0 to 60 mol%, more preferably 0 to 40 mol%, particularly preferably 1 to 15 mol%.
さらに、使用する加水分解性シラン化合物の全量(100モル%)に対する式(a)で表される化合物と式(b)で表される化合物の割合(総量の割合)は、特に限定されないが、60〜100モル%が好ましく、より好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。 Furthermore, the ratio of the compound represented by the formula (a) and the compound represented by the formula (b) (the ratio of the total amount) to the total amount (100 mol%) of the hydrolyzable silane compound to be used is not particularly limited. 60-100 mol% is preferable, More preferably, it is 70-100 mol%, More preferably, it is 80-100 mol%.
また、上記加水分解性シラン化合物として2種以上を併用する場合、これらの加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、同時に行うこともできるし、逐次行うこともできる。上記反応を逐次行う場合、反応を行う順序は特に限定されない。 Moreover, when using together 2 or more types as said hydrolysable silane compound, the hydrolysis and condensation reaction of these hydrolysable silane compounds can also be performed simultaneously, and can also be performed sequentially. When performing the said reaction sequentially, the order which performs reaction is not specifically limited.
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、溶媒の存在下で行うこともできるし、非存在下で行うこともできる。中でも溶媒の存在下で行うことが好ましい。上記溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール等が挙げられる。上記溶媒としては、中でも、ケトン、エーテルが好ましい。なお、溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound can be performed in the presence of a solvent or in the absence. Among these, it is preferable to carry out in the presence of a solvent. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl acetate and ethyl acetate. , Esters such as isopropyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile; alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and butanol Etc. Among them, ketone and ether are preferable. In addition, a solvent can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type.
溶媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量100重量部に対して、0〜2000重量部の範囲内で、所望の反応時間等に応じて、適宜調整することができる。 The usage-amount of a solvent is not specifically limited, It can adjust suitably according to desired reaction time etc. within the range of 0-2000 weight part with respect to 100 weight part of whole quantity of a hydrolysable silane compound. .
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応は、触媒及び水の存在下で進行させることが好ましい。上記触媒は、酸触媒であってもアルカリ触媒であってもよい。上記酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸等の鉱酸;リン酸エステル;酢酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸;活性白土等の固体酸;塩化鉄等のルイス酸等が挙げられる。上記アルカリ触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属の水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩;炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩;酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム等のアルカリ金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);酢酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の有機酸塩(例えば、酢酸塩);リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムエトキシド、カリウムt−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド;ナトリウムフェノキシド等のアルカリ金属のフェノキシド;トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン等のアミン類(第3級アミン等);ピリジン、2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン等の含窒素芳香族複素環化合物等が挙げられる。なお、触媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、触媒は、水や溶媒等に溶解又は分散させた状態で使用することもできる。 The hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound is preferably allowed to proceed in the presence of a catalyst and water. The catalyst may be an acid catalyst or an alkali catalyst. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and boric acid; phosphoric acid esters; carboxylic acids such as acetic acid, formic acid and trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p -Sulfonic acids such as toluenesulfonic acid; solid acids such as activated clay; Lewis acids such as iron chloride. Examples of the alkali catalyst include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and cesium hydroxide; alkaline earth metals such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, and barium hydroxide. Hydroxides; carbonates of alkali metals such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate; carbonates of alkaline earth metals such as magnesium carbonate; lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate Alkali metal hydrogen carbonates such as cesium hydrogen carbonate; organic acid salts of alkali metals such as lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate and cesium acetate (for example, acetate); organic acids of alkaline earth metals such as magnesium acetate Salt (eg acetate); lithium methoxide, sodium methoxy Alkali metal alkoxides such as sodium ethoxide, sodium isopropoxide, potassium ethoxide and potassium t-butoxide; alkali metal phenoxides such as sodium phenoxide; triethylamine, N-methylpiperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4 0.0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and the like amines (tertiary amine, etc.); pyridine, 2,2′-bipyridyl, 1,10 -Nitrogen-containing aromatic heterocyclic compounds such as phenanthroline. In addition, a catalyst can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more type. Further, the catalyst can be used in a state dissolved or dispersed in water, a solvent or the like.
上記触媒の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.002〜0.200モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The usage-amount of the said catalyst is not specifically limited, It can adjust suitably in the range of 0.002-0.200 mol with respect to 1 mol of whole quantity of a hydrolysable silane compound.
上記加水分解及び縮合反応に際しての水の使用量は、特に限定されず、加水分解性シラン化合物の全量1モルに対して、0.5〜20モルの範囲内で、適宜調整することができる。 The amount of water used in the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, and can be appropriately adjusted within a range of 0.5 to 20 mol with respect to 1 mol of the total amount of the hydrolyzable silane compound.
上記水の添加方法は、特に限定されず、使用する水の全量(全使用量)を一括で添加してもよいし、逐次的に添加してもよい。逐次的に添加する際には、連続的に添加してもよいし、間欠的に添加してもよい。 The method for adding water is not particularly limited, and the total amount of water to be used (total amount used) may be added all at once or sequentially. When adding sequentially, you may add continuously and may add intermittently.
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応を行う際の反応条件としては、特に、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)における上記割合[T3体/T2体]が5以上となるような反応条件を選択することが重要である。上記加水分解及び縮合反応の反応温度は、特に限定されないが、40〜100℃が好ましく、より好ましくは45〜80℃である。反応温度を上記範囲に制御することにより、上記割合[T3体/T2体]をより効率的に5以上に制御できる傾向がある。また、上記加水分解及び縮合反応の反応時間は、特に限定されないが、0.1〜10時間が好ましく、より好ましくは1.5〜8時間である。また、上記加水分解及び縮合反応は、常圧下で行うこともできるし、加圧下又は減圧下で行うこともできる。なお、上記加水分解及び縮合反応を行う際の雰囲気は、特に限定されず、例えば、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下、空気下等の酸素存在下等のいずれであってもよいが、不活性ガス雰囲気下が好ましい。 As the reaction conditions for performing the hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound, the ratio [T3 body / T2 body] in the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is 5 or more. It is important to select such reaction conditions. Although the reaction temperature of the said hydrolysis and condensation reaction is not specifically limited, 40-100 degreeC is preferable, More preferably, it is 45-80 degreeC. By controlling the reaction temperature within the above range, the ratio [T3 / T2] tends to be more efficiently controlled to 5 or more. Moreover, the reaction time of the said hydrolysis and condensation reaction is although it does not specifically limit, 0.1 to 10 hours are preferable, More preferably, it is 1.5 to 8 hours. The hydrolysis and condensation reaction can be performed under normal pressure, or can be performed under pressure or under reduced pressure. In addition, the atmosphere at the time of performing the hydrolysis and condensation reaction is not particularly limited, and may be any of, for example, in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere, or in the presence of oxygen such as in the air. However, an inert gas atmosphere is preferred.
上記加水分解性シラン化合物の加水分解及び縮合反応により、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)が得られる。上記加水分解及び縮合反応の終了後には、エポキシ基の開環を抑制するために触媒を中和することが好ましい。また、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)を、例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段等により分離精製してもよい。 The polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is obtained by hydrolysis and condensation reaction of the hydrolyzable silane compound. After completion of the hydrolysis and condensation reaction, it is preferable to neutralize the catalyst in order to suppress the ring opening of the epoxy group. Further, the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be separated from, for example, separation means such as water washing, acid washing, alkali washing, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc. Separation and purification may be performed by a separation means combining the above.
本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は上述の構成を有するため、該ポリオルガノシルセスキオキサン(A)を必須成分として含む硬化性組成物を硬化させることにより、高い耐熱性を有し、また、接着性に優れた硬化物を形成できる。 Since the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention has the above-described configuration, it has high heat resistance by curing a curable composition containing the polyorganosilsesquioxane (A) as an essential component. In addition, a cured product having excellent adhesiveness can be formed.
本発明の硬化性組成物において本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 In the curable composition of the present invention, the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention can be used singly or in combination of two or more.
本発明の硬化性組成物における本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、溶媒を除く硬化性組成物の全量(100重量%)に対して、35重量%以上、85重量%未満が好ましく、より好ましくは40〜80重量%、さらに好ましくは45〜70重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の含有量を35重量%以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の含有量を85重量%未満とすることにより、耐クラック性が向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is based on the total amount (100% by weight) of the curable composition excluding the solvent. The content is preferably 35% by weight or more and less than 85% by weight, more preferably 40 to 80% by weight, and still more preferably 45 to 70% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention to 35% by weight or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention is less than 85% by weight, the crack resistance tends to be improved.
本発明の硬化性組成物に含まれる硬化性化合物(ポリオルガノシルセスキオキサン(A)及び後述の重合性化合物(B))の全量(100重量%)に対する本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の割合は、特に限定されないが、30〜90重量%が好ましく、より好ましくは35〜85重量%、さらに好ましくは40〜75重量%である。本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)の含有量を30重量%以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。 The polyorganosilsesquioxane of this invention with respect to the whole quantity (100 weight%) of the curable compound (Polyorganosilsesquioxane (A) and below-mentioned polymerizable compound (B)) contained in the curable composition of this invention. The proportion of (A) is not particularly limited, but is preferably 30 to 90% by weight, more preferably 35 to 85% by weight, and still more preferably 40 to 75% by weight. By setting the content of the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention to 30% by weight or more, the heat resistance of the cured product tends to be further improved.
[重合性官能基を有する、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の化合物(B)]
本発明の硬化性組成物は、上述のポリオルガノシルセスキオキサン(A)に加えて、重合性官能基を有する、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の化合物(B)(以下、単に、「重合性化合物(B)」と称する場合がある)を含有する。
[Compounds other than polyorganosilsesquioxane (A) having a polymerizable functional group (B)]
The curable composition of the present invention comprises a compound (B) other than the polyorganosilsesquioxane (A) having a polymerizable functional group (hereinafter simply referred to as “polyorganosilsesquioxane (A)”). , Sometimes referred to as “polymerizable compound (B)”.
本発明の重合性化合物(B)が有する「重合性官能基」は、重合性を有するものである限り特に限定されず、例えば、エポキシ環、オキセタン環、ビニルエーテル基、ビニルフェニル基等が挙げられる。
重合性官能基としては、硬化物の耐クラック性向上の観点から、エポキシ環、オキセタン環、ビニルエーテル基、ビニルフェニル基等が好ましく、エポキシ環がより好ましい。
The “polymerizable functional group” of the polymerizable compound (B) of the present invention is not particularly limited as long as it has polymerizability, and examples thereof include an epoxy ring, an oxetane ring, a vinyl ether group, and a vinylphenyl group. .
As the polymerizable functional group, an epoxy ring, an oxetane ring, a vinyl ether group, a vinylphenyl group, and the like are preferable, and an epoxy ring is more preferable from the viewpoint of improving crack resistance of the cured product.
本発明の重合性化合物(B)は、上記重合性官能基の1種を含むものであっても、2種以上を組み合わせて含むものであってもよい。 The polymerizable compound (B) of the present invention may contain one of the above polymerizable functional groups or may contain two or more kinds in combination.
本発明の重合性化合物(B)が1分子内に有する上記重合性官能基の数は、特に限定されないが、1〜50個が好ましく、より好ましくは1〜30個、さらに好ましくは2〜20個である。 Although the number of the said polymerizable functional group which the polymeric compound (B) of this invention has in 1 molecule is not specifically limited, 1-50 pieces are preferable, More preferably, it is 1-30 pieces, More preferably, it is 2-20. It is a piece.
本発明の重合性化合物(B)は、低分子化合物であってもよく、モノマー成分が重合した高分子化合物であってもよい。
本発明の重合性化合物(B)の分子量(高分子化合物の場合は、重量平均分子量)は、特に限定されないが、硬化物の耐クラック性向上の観点から、200〜500000が好ましく、より好ましくは300〜100000である。
本発明の重合性化合物(B)の重量平均分子量は、上述のポリオルガノシルセスキオキサン(A)と同様の方法で測定することができる。
The polymerizable compound (B) of the present invention may be a low molecular compound or a polymer compound in which monomer components are polymerized.
The molecular weight of the polymerizable compound (B) of the present invention (in the case of a polymer compound, the weight average molecular weight) is not particularly limited, but is preferably 200 to 500,000, more preferably from the viewpoint of improving crack resistance of the cured product. 300 to 100,000.
The weight average molecular weight of the polymerizable compound (B) of the present invention can be measured by the same method as that for the polyorganosilsesquioxane (A) described above.
本発明の重合性化合物(B)の重合性官能基当量は、特に限定されないが、硬化物の耐クラック性向上の観点から、100〜100000が好ましく、より好ましくは150〜50000である。
本発明の重合性化合物(B)の重合性官能基当量は、官能基1個当たりの化合物の分子量(高分子化合物の場合は、重量平均分子量)を意味し、公知の方法により測定することができる。例えば、重合性官能基がエポキシ環の場合は、JIS K 7236:2001(エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方)に準拠した方法により測定することができる。
Although the polymeric functional group equivalent of the polymeric compound (B) of this invention is not specifically limited, From a viewpoint of the crack-proof improvement of hardened | cured material, 100-100000 are preferable, More preferably, it is 150-50000.
The polymerizable functional group equivalent of the polymerizable compound (B) of the present invention means the molecular weight of the compound per functional group (in the case of a polymer compound, the weight average molecular weight) and can be measured by a known method. it can. For example, when the polymerizable functional group is an epoxy ring, it can be measured by a method based on JIS K 7236: 2001 (how to obtain an epoxy equivalent of an epoxy resin).
エポキシ環を有する重合性化合物(B)としては、分子内に1以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する、上記ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ化合物(脂環式エポキシ樹脂)、芳香族エポキシ化合物(芳香族エポキシ樹脂)、脂肪族エポキシ化合物(脂肪族エポキシ樹脂)等が挙げられる。 As the polymerizable compound (B) having an epoxy ring, a known or commonly used compound other than the polyorganosilsesquioxane (A) having at least one epoxy group (oxirane ring) in the molecule may be used. Although it is not specifically limited, For example, an alicyclic epoxy compound (alicyclic epoxy resin), an aromatic epoxy compound (aromatic epoxy resin), an aliphatic epoxy compound (aliphatic epoxy resin) etc. are mentioned.
上記脂環式エポキシ化合物としては、分子内に1個以上の脂環と1個以上のエポキシ基とを有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、(1)分子内に脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(「脂環エポキシ基」と称する)を有する化合物;(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物;(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物(グリシジルエーテル型エポキシ化合物)等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy compound include known or conventional compounds having one or more alicyclic rings and one or more epoxy groups in the molecule, and are not particularly limited. For example, (1) A compound having an epoxy group (referred to as “alicyclic epoxy group”) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring; (2) the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond. (3) compounds having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule (glycidyl ether type epoxy compound) and the like.
上記(1)分子内に脂環エポキシ基を有する化合物としては、下記式(i)で表される化合物が挙げられる。 As said (1) compound which has an alicyclic epoxy group in a molecule | numerator, the compound represented by following formula (i) is mentioned.
上記式(i)中、Yは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。 In the above formula (i), Y represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected.
上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。 As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.
上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。 Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.
上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、3,4,3’,4’−ジエポキシビシクロヘキサン、下記式(i−1)〜(i−10)で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式(i−5)、(i−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(i−5)中のR’は炭素数1〜8のアルキレン基であり、中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(i−9)、(i−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。また、上記式(i)で表される脂環式エポキシ化合物としては、その他、例えば、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル等が挙げられる。 Representative examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 3,4,3 ′, 4′-diepoxybicyclohexane, and the following formulas (i-1) to (i-10): The compound etc. which are represented by these are mentioned. In the following formulas (i-5) and (i-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R ′ in the following formula (i-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and among them, a linear or branched chain having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. -Like alkylene groups are preferred. N1-n6 in following formula (i-9) and (i-10) show the integer of 1-30, respectively. Other examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (i) include 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane and 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl). ) Ethane, 2,3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxirane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether and the like.
上述の(2)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(ii)で表される化合物等が挙げられる。 Examples of the compound (2) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (ii).
式(ii)中、R”は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R"(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(ii)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (ii), R ″ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the valent alcohol [R ″ (OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (ii) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].
上述の(3)分子内に脂環及びグリシジルエーテル基を有する化合物としては、例えば、脂環式アルコール(特に、脂環式多価アルコール)のグリシジルエーテルが挙げられる。より詳しくは、例えば、2,2−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5−ジメチル−4−(2,3−エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水素化ビフェノール型エポキシ化合物;水素化フェノールノボラック型エポキシ化合物;水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水素化クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水素化ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水素化エポキシ化合物;下記芳香族エポキシ化合物の水素化エポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the compound (3) having an alicyclic ring and a glycidyl ether group in the molecule include glycidyl ethers of alicyclic alcohols (particularly alicyclic polyhydric alcohols). More specifically, for example, 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) Compound obtained by hydrogenating bisphenol A type epoxy compound such as cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o , P- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [3,5-dimethyl-4- (2, 3-epoxypropoxy) cyclohexyl] Compound obtained by hydrogenating bisphenol F-type epoxy compound such as methane (hydrogenated bisphenol F-type epoxy compound) Hydrogenated biphenol type epoxy compound; hydrogenated phenol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound; hydrogenated cresol novolak type epoxy compound of bisphenol A; hydrogenated naphthalene type epoxy compound; epoxy compound obtained from trisphenolmethane And hydrogenated epoxy compounds of the following aromatic epoxy compounds.
上記芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類[例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール等]と、エピハロヒドリンとの縮合反応により得られるエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;これらのエピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を上記ビスフェノール類とさらに付加反応させることにより得られる高分子量エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノール類[例えば、フェノール、C1-9アルキルフェノール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等]とアルデヒド[例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等]とを縮合反応させて得られる多価アルコール類を、さらにエピハロヒドリンと縮合反応させることにより得られるノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フルオレン環の9位に2つのフェノール骨格が結合し、かつこれらフェノール骨格のヒドロキシ基から水素原子を除いた酸素原子に、それぞれ、直接又はアルキレンオキシ基を介してグリシジル基が結合しているエポキシ化合物等が挙げられる。 Examples of the aromatic epoxy compound include epibis type glycidyl ether type epoxy resins obtained by condensation reaction of bisphenols [for example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol and the like] and epihalohydrin; High molecular weight epibis type glycidyl ether type epoxy resin obtained by further addition reaction of bis type glycidyl ether type epoxy resin with the above bisphenols; phenols [for example, phenol, C 1-9 alkylphenol, xylenol, resorcin, catechol, Bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, etc.] and an aldehyde [eg, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzalde A novolac alkyl type glycidyl ether type epoxy resin obtained by condensation reaction of polyhydric alcohols obtained by condensation reaction with hydride, salicylaldehyde, etc.] with epihalohydrin; two phenol skeletons at the 9-position of the fluorene ring And an epoxy compound in which a glycidyl group is bonded to an oxygen atom obtained by removing a hydrogen atom from a hydroxy group of these phenol skeletons directly or via an alkyleneoxy group.
上記脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、q価の環状構造を有しないアルコール(qは自然数である)のグリシジルエーテル;一価又は多価カルボン酸[例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ステアリン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸等]のグリシジルエステル;エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化大豆油、エポキシ化ひまし油等の二重結合を有する油脂のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン等のポリオレフィン(ポリアルカジエンを含む)のエポキシ化物等が挙げられる。なお、上記q価の環状構造を有しないアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等の一価のアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の二価のアルコール;グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等の三価以上の多価アルコール等が挙げられる。また、q価のアルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール等であってもよい。 Examples of the aliphatic epoxy compound include a glycidyl ether of an alcohol having no q-valent cyclic structure (q is a natural number); a monovalent or polyvalent carboxylic acid [for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, stearic acid, Adipic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.] glycidyl ester; epoxidized oils and fats having double bonds such as epoxidized linseed oil, epoxidized soybean oil, epoxidized castor oil; polyolefins such as epoxidized polybutadiene (poly Epoxidized product of alkadiene). Examples of the alcohol having no q-valent cyclic structure include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and 1-butanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1 , 3-propanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and other dihydric alcohols; Examples include trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, diglycerin, erythritol, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and sorbitol. That. The q-valent alcohol may be polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polyolefin polyol, or the like.
オキセタン環を有する重合性化合物(B)としては、分子内に1以上のオキセタン環を有する公知乃至慣用の化合物が挙げられ、特に限定されないが、例えば、3,3−ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(ヒドロキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(2−エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3−エチル−3−(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3−エチル−3−(クロロメチル)オキセタン、3,3−ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、1,4−ビス{〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル)}オキセタン、キシリレンビスオキセタン、3−エチル−3−{[3−(トリエトキシシリル)プロポキシ]メチル}オキセタン、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられる。 Examples of the polymerizable compound (B) having an oxetane ring include known or commonly used compounds having one or more oxetane rings in the molecule, and are not particularly limited. For example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane 3-ethyl-3- (hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyl) Oxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis { [1-Ethyl (3-oxetanyl)] methyl} ether, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) Toximethyl] bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl -3-{[(3-Ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl)} oxetane, xylylenebisoxetane, 3-ethyl-3-{[3- (triethoxysilyl) propoxy] methyl} oxetane, oxetanylsil Examples thereof include sesquioxane and phenol novolac oxetane.
ビニルエーテル基を有する重合性化合物(B)としては、分子内に1以上のビニルエーテル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル(エチレングリコールモノビニルエーテル)、3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテル、3−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2−ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1−メチル−3−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−メチル−2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1−ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、1,8−オクタンジオールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、p−キシレングリコールモノビニルエーテル、p−キシレングリコールジビニルエーテル、m−キシレングリコールモノビニルエーテル、m−キシレングリコールジビニルエーテル、o−キシレングリコールモノビニルエーテル、o−キシレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールジビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールジビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールジビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールジビニルエーテル、イソソルバイドジビニルエーテル、オキサノルボルネンジビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ビスフェノールAジビニルエーテル、ビスフェノールFジビニルエーテル、ヒドロキシオキサノルボルナンメタノールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。 The polymerizable compound (B) having a vinyl ether group may be a known or conventional compound having one or more vinyl ether groups in the molecule, and is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl vinyl ether (ethylene glycol) Monovinyl ether), 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxyisopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl Vinyl ether, 1-methyl-3-hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxypropyl vinyl ether, 1-hydroxymethyl ester Pyrvinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol monovinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, 1,8-octanediol divinyl ether, 1,4-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,4- Cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexanedimethanol divinyl ether, p-xylene glycol Monovinyl ether, p-xylene glycol divinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol divinyl Ether, o-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene glycol divinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol Divinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol divinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether , Dipropylene glycol divinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, tetrapropylene glycol monovinyl ether, tetrapropylene glycol divinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, pentapropylene glycol divinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, oligo Propylene glycol divinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol divinyl ether, isosorbide divinyl ether, oxanorbornene divinyl ether, phenyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octyl vinyl ether, cyclohexyl Nyl ether, hydroquinone divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, bisphenol A divinyl ether, bisphenol F divinyl ether, hydroxyoxanorbornane methanol divinyl ether, Examples include 1,4-cyclohexanediol divinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, and the like.
また、ビニルエーテル基を有する重合性化合物(B)として、特に、分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物を使用した場合には、耐熱黄変性(加熱による黄変が生じにくい特性)に優れた硬化物が得られるという利点がある。このため、いっそう高品質かつ高耐久性の硬化物が得られる。分子内に1個以上の水酸基を有するビニルエーテル化合物が分子内に有する水酸基の数は、特に限定されないが、1〜4個が好ましく、より好ましくは1又は2個である。 In addition, as a polymerizable compound (B) having a vinyl ether group, particularly when a vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is used, it is excellent in heat-resistant yellowing (characteristic that hardly causes yellowing by heating). There is an advantage that a cured product can be obtained. For this reason, the hardened | cured material of higher quality and durability is obtained. The number of hydroxyl groups in the molecule of the vinyl ether compound having one or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited, but is preferably 1 to 4, more preferably 1 or 2.
ビニルフェニル基を有する重合性化合物(B)としては、分子内に1以上のビニルフェニル基を有する公知乃至慣用の化合物を使用することができ、特に限定されないが、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、酢酸4−ビニルフェニル、(4−ビニルフェニル)ジヒドロキシボラン、(4−ビニルフェニル)ボラン酸、(4−ビニルフェニル)ボロン酸、4−エテニルフェニルボロン酸、4−ビニルフェニルボラン酸、4−ビニルフェニルボロン酸、p−ビニルフェニルホウ酸、p−ビニルフェニルボロン酸、N−(4−ビニルフェニル)マレインイミド、N−(p−ビニルフェニル)マレイミド、N−(p−ビニルフェニル)マレインイミド等が挙げられる。 As the polymerizable compound (B) having a vinylphenyl group, a known or conventional compound having one or more vinylphenyl groups in the molecule can be used, and is not particularly limited. For example, styrene, divinylbenzene, methoxy Styrene, ethoxystyrene, hydroxystyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 4-vinylphenyl acetate, (4-vinylphenyl) dihydroxyborane, (4-vinylphenyl) boranoic acid, (4-vinylphenyl) boronic acid, 4-ester Tenenylphenylboronic acid, 4-vinylphenylboranoic acid, 4-vinylphenylboronic acid, p-vinylphenylboronic acid, p-vinylphenylboronic acid, N- (4-vinylphenyl) maleimide, N- (p-vinyl Phenyl) maleimide, N- (p-vinylphenyl) male Imide and the like.
本発明の硬化性組成物においては、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)とともに重合性化合物(B)としてエポキシ環を有する化合物を併用することが好ましく、脂環式エポキシ化合物又は芳香族エポキシ化合物がより好ましく、脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物、エピビスタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、又はノボラック・アルキルタイプグリシジルエーテル型エポキシ樹脂がさらに好ましく、特に好ましくは上記式(ii)で表される化合物、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、又は、フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物又はC1-9アルキルフェノール・ホルムアルデヒド重縮合物のエピクロルヒドリン又は2−メチルエピクロルヒドリンによるグリシジルエーテル化変性物である。これにより、硬化物の耐クラック性がより高くなる傾向がある。 In the curable composition of the present invention, it is preferable to use a compound having an epoxy ring as the polymerizable compound (B) together with the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention, and an alicyclic epoxy compound or aromatic An epoxy compound is more preferable, a compound in which an epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring by a single bond, an epibis type glycidyl ether type epoxy resin, or a novolak alkyl type glycidyl ether type epoxy resin is more preferable, and the above formula is particularly preferable. Glycididine by epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin of a compound represented by (ii), bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, or phenol / formaldehyde polycondensate or C 1-9 alkylphenol / formaldehyde polycondensate This is a modified etherified product. Thereby, there exists a tendency for the crack resistance of hardened | cured material to become higher.
本発明の硬化性組成物において重合性化合物(B)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、重合性化合物(B)は、公知乃至慣用の方法により製造することもできるし、例えば、商品名「EHPE3150」、「セロキサイド2021P」(以上、(株)ダイセル製)、商品名「jER4004P」、「jER4005P」、「jER4007P」、「jER4010P」(以上、三菱化学(株)製)、商品名「RE−303S−L」(日本化薬(株)製)等の市販品を使用することもできる。 In the curable composition of this invention, a polymeric compound (B) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. The polymerizable compound (B) can also be produced by a known or conventional method. For example, trade names “EHPE3150”, “Celoxide 2021P” (above, manufactured by Daicel Corporation), trade names “jER4004P” , “JER4005P”, “jER4007P”, “jER4010P” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and trade name “RE-303S-L” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) may be used. it can.
本発明の硬化性組成物における重合性化合物(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)と重合性化合物(B)の総量(100重量%;硬化性化合物の全量)に対して、15〜65重量%が好ましく、より好ましくは20〜60重量%、さらに好ましくは30〜55重量%である。重合性化合物(B)の含有量を65重量%以下(特に55重量%以下)とすることにより、硬化性組成物や硬化物に対して所望の性能(例えば、硬化性組成物に対する速硬化性や粘度調整等)や硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、重合性化合物(B)の含有量を15重量%以上とすることにより、耐クラック性を付与することができる場合がある。 The content (blending amount) of the polymerizable compound (B) in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount of the polyorganosilsesquioxane (A) and the polymerizable compound (B) of the present invention ( 100% by weight; the total amount of the curable compound) is preferably 15 to 65% by weight, more preferably 20 to 60% by weight, still more preferably 30 to 55% by weight. By setting the content of the polymerizable compound (B) to 65% by weight or less (particularly 55% by weight or less), desired performance (for example, fast curability to the curable composition) for the curable composition or the cured product. And viscosity adjustment) and the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, crack resistance may be imparted by setting the content of the polymerizable compound (B) to 15% by weight or more.
本発明の硬化性組成物におけるエポキシ環を有する重合性化合物(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)と重合性化合物(B)の総量(100重量%;重合性化合物の全量)に対して、10〜70重量%が好ましく、より好ましくは15〜65重量%、さらに好ましくは25〜60重量%である。エポキシ環を有する重合性化合物(B)の含有量を上記範囲に制御することにより、耐クラック性が非常に高い硬化物が得られる傾向がある。特に、脂環式エポキシ化合物の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化物の耐クラック性が特に高くなることに加えて、その耐熱性もいっそう向上する傾向がある。 The content (blending amount) of the polymerizable compound (B) having an epoxy ring in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but the polyorganosilsesquioxane (A) of the present invention and the polymerizable compound (B) ) To 100% by weight (100% by weight; the total amount of polymerizable compounds), preferably 10 to 70% by weight, more preferably 15 to 65% by weight, and still more preferably 25 to 60% by weight. By controlling the content of the polymerizable compound (B) having an epoxy ring within the above range, a cured product having very high crack resistance tends to be obtained. In particular, by controlling the content of the alicyclic epoxy compound within the above range, in addition to the particularly high crack resistance of the cured product, the heat resistance tends to be further improved.
[重合開始剤]
本発明の硬化性組成物は、さらに、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)、重合性化合物(B)等の硬化性化合物の重合反応を開始乃至促進することができる化合物である。重合開始剤にはカチオン重合開始剤とアニオン重合開始剤が含まれる。前記カチオン重合開始剤は加熱することによってカチオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、前記アニオン重合開始剤は加熱することによってアニオン種を発生して、重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物である。本発明の硬化性組成物が重合開始剤を含有すると、タックフリーとなるまでの硬化時間を短縮することができる。尚、重合開始剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Polymerization initiator]
The curable composition of the present invention preferably further contains a polymerization initiator. A polymerization initiator is a compound which can start thru | or accelerate | stimulate the polymerization reaction of curable compounds, such as the polyorgano silsesquioxane (A) of this invention, and a polymeric compound (B). The polymerization initiator includes a cationic polymerization initiator and an anionic polymerization initiator. The cationic polymerization initiator is a compound that generates cationic species by heating to initiate a curing reaction of the polymerizable compound, and the anionic polymerization initiator generates anionic species by heating to generate a polymerizable compound. It is a compound that initiates the curing reaction. When the curable composition of the present invention contains a polymerization initiator, the curing time until tack-free can be shortened. In addition, a polymerization initiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
本発明の硬化性組成物としては、加熱乾燥することにより硬化反応を進行させること無く速やかに接着剤層を形成することができ、また、得られる接着剤層は50℃未満では接着性を有さないため切削刃に糊が付着することなく切削加工を行うことができ、半導体チップ等の被接着物へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかに硬化する特性を有する点で、次に記載の硬化特性を有する重合開始剤を使用することが好ましい。 As the curable composition of the present invention, an adhesive layer can be rapidly formed by heating and drying without causing a curing reaction to proceed, and the obtained adhesive layer has adhesiveness at less than 50 ° C. Therefore, it is possible to perform cutting without attaching glue to the cutting blade, and it develops adhesiveness by heating at a temperature that can suppress damage to the adherend such as a semiconductor chip, and then promptly From the viewpoint of curing properties, it is preferable to use a polymerization initiator having the curing properties described below.
すなわち、カチオン重合開始剤の場合は、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート[例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)]100重量部に対してカチオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上(例えば3.5〜7.0分、好ましくは4.5〜6.0分)である重合開始剤を使用することが好ましい。 That is, in the case of a cationic polymerization initiator, with respect to 100 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate [for example, trade name “Celoxide 2021P” (manufactured by Daicel Corporation)]. The thermosetting time at 130 ° C. of the composition obtained by adding 1 part by weight of the cationic polymerization initiator is 3.5 minutes or more (for example, 3.5 to 7.0 minutes, preferably 4.5 to 6.0 minutes). It is preferable to use a polymerization initiator which is
また、アニオン重合開始剤の場合は、ビスフェノールAジグリシジルエーテル100重量部に対してアニオン重合開始剤を1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間(JIS K5909 1994準拠)が3.5分以上である重合開始剤を使用することが好ましい。 In the case of an anionic polymerization initiator, the composition obtained by adding 1 part by weight of an anionic polymerization initiator to 100 parts by weight of bisphenol A diglycidyl ether has a heat curing time at 130 ° C. (conforming to JIS K5909 1994). It is preferable to use a polymerization initiator that is 3.5 minutes or longer.
尚、本発明における熱硬化時間とは、JIS K5909(1994年)に準拠した方法で求めた、前記組成物を熱板上で熱してゴム状になるまで(より具体的には、硬化が進み、針先に糸状について上がらなくなるまで)の時間である。熱硬化時間が上記範囲を下回る重合開始剤を使用すると、加熱乾燥する際にカチオン重合開始剤を使用した場合はカチオン種、アニオン重合開始剤を使用した場合はアニオン種が発生し、それ以降室温でも徐々に重合が進行するため、保存安定性を有する接着剤層の形成が困難となる。 The heat curing time in the present invention is determined by a method based on JIS K5909 (1994) until the composition is heated on a hot plate to become rubbery (more specifically, curing proceeds). , Until the needle tip no longer rises about the thread shape. When a polymerization initiator having a heat curing time below the above range is used, a cationic species is generated when a cationic polymerization initiator is used during drying by heating, and an anionic species is generated when an anionic polymerization initiator is used. However, since the polymerization proceeds gradually, it becomes difficult to form an adhesive layer having storage stability.
本発明においては、とりわけ、カチオン重合開始剤を使用することが、タックフリーとなるまでの硬化時間がより短縮できる点で好ましい。カチオン重合開始剤には光カチオン重合開始剤と熱カチオン重合開始剤が含まれる。 In the present invention, it is particularly preferable to use a cationic polymerization initiator from the viewpoint that the curing time until tack-free can be further shortened. The cationic polymerization initiator includes a photocationic polymerization initiator and a thermal cationic polymerization initiator.
上記光カチオン重合開始剤としては、公知乃至慣用の光カチオン重合開始剤を使用することができ、例えば、スルホニウム塩(スルホニウムイオンとアニオンとの塩)、ヨードニウム塩(ヨードニウムイオンとアニオンとの塩)、セレニウム塩(セレニウムイオンとアニオンとの塩)、アンモニウム塩(アンモニウムイオンとアニオンとの塩)、ホスホニウム塩(ホスホニウムイオンとアニオンとの塩)、遷移金属錯体イオンとアニオンとの塩等が挙げられる。これらは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 As the photocationic polymerization initiator, known or commonly used photocationic polymerization initiators can be used. For example, sulfonium salts (salts of sulfonium ions and anions), iodonium salts (salts of iodonium ions and anions). Selenium salt (selenium ion and anion salt), ammonium salt (ammonium ion and anion salt), phosphonium salt (phosphonium ion and anion salt), transition metal complex ion and anion salt, etc. . These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
上記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム塩、トリ−p−トリルスルホニウム塩、トリ−o−トリルスルホニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム塩、1−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、2−ナフチルジフェニルスルホニウム塩、トリス(4−フルオロフェニル)スルホニウム塩、トリ−1−ナフチルスルホニウム塩、トリ−2−ナフチルスルホニウム塩、トリス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム塩、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩、4−(p−トリルチオ)フェニルジ−(p−フェニル)スルホニウム塩等のトリアリールスルホニウム塩;ジフェニルフェナシルスルホニウム塩、ジフェニル4−ニトロフェナシルスルホニウム塩、ジフェニルベンジルスルホニウム塩、ジフェニルメチルスルホニウム塩等のジアリールスルホニウム塩;フェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩、4−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム塩等のモノアリールスルホニウム塩;ジメチルフェナシルスルホニウム塩、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム塩、ジメチルベンジルスルホニウム塩等のトリアルキルスルホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium salt, tri-p-tolylsulfonium salt, tri-o-tolylsulfonium salt, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium salt, 1-naphthyldiphenylsulfonium salt, and 2-naphthyldiphenyl. Sulfonium salt, tris (4-fluorophenyl) sulfonium salt, tri-1-naphthylsulfonium salt, tri-2-naphthylsulfonium salt, tris (4-hydroxyphenyl) sulfonium salt, diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt , Triarylsulfonium salts such as 4- (p-tolylthio) phenyldi- (p-phenyl) sulfonium salt; diphenylphenacylsulfonium salt, diphenyl-4-nitrophenacylsulfonium salt, diphenylbenzyl Diarylsulfonium salts such as ruphonium salt and diphenylmethylsulfonium salt; monoarylsulfonium salts such as phenylmethylbenzylsulfonium salt, 4-hydroxyphenylmethylbenzylsulfonium salt and 4-methoxyphenylmethylbenzylsulfonium salt; dimethylphenacylsulfonium salt, phena And trialkylsulfonium salts such as siltetrahydrothiophenium salt and dimethylbenzylsulfonium salt.
上記ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム塩としては、例えば、商品名「CPI−101A」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート50%炭酸プロピレン溶液)、商品名「CPI−100P」(サンアプロ(株)製、ジフェニル[4−(フェニルチオ)フェニル]スルホニウムヘキサフルオロホスファート50%炭酸プロピレン溶液)等の市販品を使用できる。 Examples of the diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium salt include a trade name “CPI-101A” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluoroantimonate 50% propylene carbonate solution). ), Trade name “CPI-100P” (manufactured by San Apro Co., Ltd., diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate 50% propylene carbonate solution) and the like can be used.
上記ヨードニウム塩としては、例えば、商品名「UV9380C」(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート45%アルキルグリシジルエーテル溶液)、商品名「RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074」(ローディア・ジャパン(株)製、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート[(1−メチルエチル)フェニル](メチルフェニル)ヨードニウム)、商品名「WPI−124」(和光純薬工業(株)製)、ジフェニルヨードニウム塩、ジ−p−トリルヨードニウム塩、ビス(4−ドデシルフェニル)ヨードニウム塩、ビス(4−メトキシフェニル)ヨードニウム塩等が挙げられる。 Examples of the iodonium salt include trade name “UV9380C” (Momentive Performance Materials Japan GK, bis (4-dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate 45% alkyl glycidyl ether solution), trade name “RHODORSIL”. “PHOTOINITIATOR 2074” (Rhodia Japan K.K., tetrakis (pentafluorophenyl) borate [(1-methylethyl) phenyl] (methylphenyl) iodonium), trade name “WPI-124” (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Manufactured), diphenyliodonium salt, di-p-tolyliodonium salt, bis (4-dodecylphenyl) iodonium salt, bis (4-methoxyphenyl) iodonium salt, and the like.
上記セレニウム塩としては、例えば、トリフェニルセレニウム塩、トリ−p−トリルセレニウム塩、トリ−o−トリルセレニウム塩、トリス(4−メトキシフェニル)セレニウム塩、1−ナフチルジフェニルセレニウム塩等のトリアリールセレニウム塩;ジフェニルフェナシルセレニウム塩、ジフェニルベンジルセレニウム塩、ジフェニルメチルセレニウム塩等のジアリールセレニウム塩;フェニルメチルベンジルセレニウム塩等のモノアリールセレニウム塩;ジメチルフェナシルセレニウム塩等のトリアルキルセレニウム塩等が挙げられる。 Examples of the selenium salt include triaryl selenium such as triphenyl selenium salt, tri-p-tolyl selenium salt, tri-o-tolyl selenium salt, tris (4-methoxyphenyl) selenium salt, and 1-naphthyldiphenyl selenium salt. Salts: Diaryl phenacyl selenium salts, diphenyl benzyl selenium salts, diaryl selenium salts such as diphenyl methyl selenium salts; monoaryl selenium salts such as phenyl methyl benzyl selenium salts; trialkyl selenium salts such as dimethyl phenacyl selenium salts, etc. .
上記アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウム塩、エチルトリメチルアンモニウム塩、ジエチルジメチルアンモニウム塩、トリエチルメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、トリメチル−n−プロピルアンモニウム塩、トリメチル−n−ブチルアンモニウム塩等のテトラアルキルアンモニウム塩;N,N−ジメチルピロリジウム塩、N−エチル−N−メチルピロリジウム塩等のピロリジウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリニウム塩、N,N’−ジエチルイミダゾリニウム塩等のイミダゾリニウム塩;N,N’−ジメチルテトラヒドロピリミジウム塩、N,N’−ジエチルテトラヒドロピリミジウム塩等のテトラヒドロピリミジウム塩;N,N−ジメチルモルホリニウム塩、N,N−ジエチルモルホリニウム塩等のモルホリニウム塩;N,N−ジメチルピペリジニウム塩、N,N−ジエチルピペリジニウム塩等のピペリジニウム塩;N−メチルピリジニウム塩、N−エチルピリジニウム塩等のピリジニウム塩;N,N’−ジメチルイミダゾリウム塩等のイミダゾリウム塩;N−メチルキノリウム塩等のキノリウム塩;N−メチルイソキノリウム塩等のイソキノリウム塩;ベンジルベンゾチアゾニウム塩等のチアゾニウム塩;ベンジルアクリジウム塩等のアクリジウム塩等が挙げられる。 Examples of the ammonium salt include tetramethylammonium salt, ethyltrimethylammonium salt, diethyldimethylammonium salt, triethylmethylammonium salt, tetraethylammonium salt, trimethyl-n-propylammonium salt, and trimethyl-n-butylammonium salt. Pyrrolium salts such as alkyl ammonium salts; N, N-dimethylpyrrolidinium salts, N-ethyl-N-methylpyrrolidinium salts; N, N′-dimethylimidazolinium salts, N, N′-diethylimidazolinium salts, etc. Imidazolinium salts; tetrahydropyrimidinium salts such as N, N′-dimethyltetrahydropyrimidinium salt, N, N′-diethyltetrahydropyrimidinium salt; N, N-dimethylmorpholinium salt, N, N -Diethylmorpholini Morpholinium salts such as N salt, piperidinium salts such as N, N-dimethylpiperidinium salt and N, N-diethylpiperidinium salt; pyridinium salts such as N-methylpyridinium salt and N-ethylpyridinium salt; N, N '-Imidazolium salt such as dimethylimidazolium salt; Quinolium salt such as N-methylquinolium salt; Isoquinolium salt such as N-methylisoquinolium salt; Thiazonium salt such as benzylbenzothiazonium salt; And the like.
上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム塩、テトラ−p−トリルホスホニウム塩、テトラキス(2−メトキシフェニル)ホスホニウム塩等のテトラアリールホスホニウム塩;トリフェニルベンジルホスホニウム塩等のトリアリールホスホニウム塩;トリエチルベンジルホスホニウム塩、トリブチルベンジルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラブチルホスホニウム塩、トリエチルフェナシルホスホニウム塩等のテトラアルキルホスホニウム塩等が挙げられる。 Examples of the phosphonium salt include tetraarylphosphonium salts such as tetraphenylphosphonium salt, tetra-p-tolylphosphonium salt and tetrakis (2-methoxyphenyl) phosphonium salt; triarylphosphonium salts such as triphenylbenzylphosphonium salt; Examples thereof include tetraalkylphosphonium salts such as benzylphosphonium salt, tributylbenzylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrabutylphosphonium salt, and triethylphenacylphosphonium salt.
上記遷移金属錯体イオンの塩としては、例えば、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Cr+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Cr+等のクロム錯体カチオンの塩;(η5−シクロペンタジエニル)(η6−トルエン)Fe+、(η5−シクロペンタジエニル)(η6−キシレン)Fe+等の鉄錯体カチオンの塩等が挙げられる。 Examples of the salt of the transition metal complex ion include salts of chromium complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Cr + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Cr +. And salts of iron complex cations such as (η5-cyclopentadienyl) (η6-toluene) Fe + and (η5-cyclopentadienyl) (η6-xylene) Fe + .
上述の塩を構成するアニオンとしては、例えば、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、(CF3CF2)3PF3 -、(CF3CF2CF2)3PF3 -、(C6F5)4B-、(C6F5)4Ga-、スルホン酸アニオン(トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸アニオン、ノナフルオロブタンスルホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、p−トルエンスルホン酸アニオン等)、(CF3SO2)3C-、(CF3SO2)2N-、過ハロゲン酸イオン、ハロゲン化スルホン酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、アルミン酸イオン、ヘキサフルオロビスマス酸イオン、カルボン酸イオン、アリールホウ酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。 Examples of the anion constituting the above-described salt include SbF 6 − , PF 6 − , BF 4 − , (CF 3 CF 2 ) 3 PF 3 − , (CF 3 CF 2 CF 2 ) 3 PF 3 − , (C 6 F 5 ) 4 B − , (C 6 F 5 ) 4 Ga − , sulfonate anion (trifluoromethanesulfonate anion, pentafluoroethanesulfonate anion, nonafluorobutanesulfonate anion, methanesulfonate anion, benzenesulfonate Anion, p-toluenesulfonic acid anion, etc.), (CF 3 SO 2 ) 3 C − , (CF 3 SO 2 ) 2 N − , perhalogenate ion, halogenated sulfonate ion, sulfate ion, carbonate ion, aluminate Ion, hexafluorobismuth acid ion, carboxylate ion, arylborate ion, thiocyanate ion, nitrate ion and the like.
上記熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールスルホニウム塩、アリールヨードニウム塩、アレン−イオン錯体、第4級アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体等が挙げられる。 Examples of the thermal cationic polymerization initiator include arylsulfonium salts, aryliodonium salts, allene-ion complexes, quaternary ammonium salts, aluminum chelates, and boron trifluoride amine complexes.
上記アリールスルホニウム塩としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩等が挙げられる。本発明の硬化性組成物においては、例えば、商品名「SP−66」、「SP−77」(以上、(株)ADEKA製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製)等の市販品を使用することができる。上記アルミニウムキレートとしては、例えば、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。また、上記三フッ化ホウ素アミン錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素イミダゾール錯体、三フッ化ホウ素ピペリジン錯体等が挙げられる。 Examples of the arylsulfonium salts include hexafluoroantimonate salts. In the curable composition of the present invention, for example, trade names “SP-66”, “SP-77” (manufactured by ADEKA Corporation); trade names “Sun Aid SI-60L”, “Sun Aid SI-80L”. Commercial products such as “Sun-Aid SI-100L” and “Sun-Aid SI-150L” (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) can be used. Examples of the aluminum chelate include ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate and aluminum tris (ethyl acetoacetate). Examples of the boron trifluoride amine complex include boron trifluoride monoethylamine complex, boron trifluoride imidazole complex, and boron trifluoride piperidine complex.
アニオン重合開始剤としては、例えば、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、イミダゾール類、三フッ化ホウ素−アミン錯体等を挙げることができる。前記イミダゾール類には、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]エチル−s−トリアジン、2−フェニルイミダゾリン、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール等が挙げられる。また、前記第3級アミンには、例えば、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ベンジルジメチルアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7)等が挙げられる。 Examples of the anionic polymerization initiator include primary amines, secondary amines, tertiary amines, imidazoles, and boron trifluoride-amine complexes. Examples of the imidazoles include 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2,4-diamino-6- [2- Methylimidazolyl- (1)] ethyl-s-triazine, 2-phenylimidazoline, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- Examples include 2-undecylimidazole. Examples of the tertiary amine include tris (dimethylaminomethyl) phenol, benzyldimethylamine, DBU (1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7), and the like.
本発明の硬化性組成物における上記重合開始剤の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)と重合性化合物(B)の合計量100重量部に対して、0.01〜3.0重量部が好ましく、より好ましくは0.05〜3.0重量部、さらに好ましくは0.1〜1.0重量部(例えば、0.3〜1.0重量部)である。重合開始剤の含有量を0.01重量部以上とすることにより、硬化反応を効率的に十分に進行させることができ、硬化物の接着性がより向上する傾向がある。一方、重合開始剤の含有量を3.0重量部以下とすることにより、硬化性組成物の保存性がいっそう向上したり、硬化物の着色が抑制される傾向がある。 The content (blending amount) of the polymerization initiator in the curable composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount of the polyorganosilsesquioxane (A) and the polymerizable compound (B) of the present invention is 100%. Is preferably 0.01 to 3.0 parts by weight, more preferably 0.05 to 3.0 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 1.0 parts by weight (for example, 0.3 to 1 part by weight). 0.0 parts by weight). By setting the content of the polymerization initiator to 0.01 parts by weight or more, the curing reaction can be efficiently and sufficiently advanced, and the adhesiveness of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the polymerization initiator is 3.0 parts by weight or less, the storability of the curable composition tends to be further improved, and coloring of the cured product tends to be suppressed.
[重合安定剤]
上記重合安定剤は、カチオンをトラップすることによりカチオン重合の進行を抑制し、重合安定剤によるカチオンのトラップ能が飽和し、失活した段階で重合を進行させる作用を有する化合物である。本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤と共に重合安定剤を含有する場合、塗布・乾燥して接着剤層を形成した後、長期に亘って重合の進行を抑制することができ、接着性が求められるタイミングで加熱することで優れた接着性を発現する、保存安定性に優れた接着剤層を形成することができる。
[Polymerization stabilizer]
The polymerization stabilizer is a compound having an action of suppressing the progress of cationic polymerization by trapping cations, saturating the ability of trapping cations by the polymerization stabilizer, and allowing the polymerization to proceed at the stage of deactivation. When the curable composition of the present invention contains a polymerization stabilizer together with a cationic polymerization initiator, after the coating and drying to form an adhesive layer, the progress of polymerization can be suppressed over a long period of time. It is possible to form an adhesive layer that exhibits excellent adhesiveness and is excellent in storage stability by heating at the timing required.
前記重合安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ポリ([6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニルベンゾエート、(ミックスト2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ミックスト(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル/β,β,β’,β’−テトラメチル−3−9−[2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン]ジエチル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ポリ([6−N−モルホリル−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ])、[N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]プロピオンアミド、商品名「LA−77」、「LA−67」、「LA−57」(以上、ADEKA製)、商品名「TINUVIN123」、「TINUVIN152」(以上、チバ・ジャパン(株)製)等のヒンダードアミン系化合物、(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(サンエイドSI助剤、三新化学工業(株)製)等のスルホニウム硫酸塩系化合物、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジホスファイト(商品名「アデカスタブPEP−36」、(株)ADEKA製)、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(モノ、ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリスフェニルホスファイト、トリス(モノノニルフェニル)ホスファイト、トリスイソデシルホスファイト等の亜リン酸エステル化合物等を挙げることができ、スルホニウム硫酸塩系化合物、亜リン酸エステル化合物が好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。 Examples of the polymerization stabilizer include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, poly ([6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1, 3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) Imino]), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidi Nylbenzoate, (mixed 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl / tridecyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, mixed (2,2,6,6-tetramethyl) -4-piperidi /Β,β,β′,β′-tetramethyl-3-9-[2,4,8,10-tetraoxaspiro(5.5)undecane]diethyl)-1,2,3,4-butanetetra Carboxylate, poly ([6-N-morpholyl-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]), [N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -2-methyl-2- (2,2,6 , 6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] propionamide, trade names “LA-77”, “LA-67”, “LA-57” (manufactured by ADEKA), trade names “TINUVIN123”, “TINUVIN152” (Ciba Japan Co., Ltd. )) Hindered amine compounds, (4-hydroxyphenyl) dimethylsulfonium methylsulfite (Sun aid SI auxiliary, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like, for example, 9,10-dihydro -9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite (trade name “ADK STAB PEP-36”, ADEKA), bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol-diphosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tris (mono, dinonylphenyl) phosphite, Tris (2-ethylhexyl) phosphite, Trisphenyl phosphite, Tris Nonylphenyl) phosphite, may be mentioned phosphorous acid ester compounds such as tris isodecyl phosphite, sulfonium sulfate compounds, phosphorous acid ester compounds are preferred. These can be used alone or in combination of two or more.
本発明の硬化性組成物がカチオン重合開始剤を含有する場合、重合安定剤の使用量は、カチオン重合開始剤100重量部に対して、例えば0.1重量部以上、好ましくは0.3〜20重量部、特に好ましくは0.5〜15重量部である。 When the curable composition of the present invention contains a cationic polymerization initiator, the amount of the polymerization stabilizer used is, for example, 0.1 parts by weight or more, preferably 0.3 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cationic polymerization initiator. 20 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 15 parts by weight.
[シランカップリング剤]
本発明の硬化性組成物には、好ましくはシランカップリング剤が含有されていてもよい。シランカップリング剤を含有することにより、得られる硬化物に一層優れた密着性、耐候性、耐熱性等の特性を付与することができる。
[Silane coupling agent]
The curable composition of the present invention may preferably contain a silane coupling agent. By containing a silane coupling agent, properties such as better adhesion, weather resistance, heat resistance and the like can be imparted to the resulting cured product.
前記シランカップリング剤としては、例えば、3−トリメトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−トリエトキシシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメトキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、3−ジエトキシメチルシリルプロピル(メタ)アクリレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。官能基が(メタ)アクリロイルオキシ基であるシランカップリング剤を用いる場合には、ラジカル重合開始剤を少量添加してもよい。 Examples of the silane coupling agent include 3-trimethoxysilylpropyl (meth) acrylate, 3-triethoxysilylpropyl (meth) acrylate, 3-dimethoxymethylsilylpropyl (meth) acrylate, and 3-diethoxymethylsilylpropyl. (Meth) acrylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane , 3-glycidoxypropyltriethoxysilane and the like. These can be used alone or in combination of two or more. When using a silane coupling agent whose functional group is a (meth) acryloyloxy group, a small amount of a radical polymerization initiator may be added.
本発明においては、例えば、商品名「KBE−403」(3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業(株)製)、商品名「Z−6040」(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、東レ・ダウコーニング(株)製)等の市販品を使用することができる。 In the present invention, for example, trade name “KBE-403” (3-glycidoxypropyltriethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), trade name “Z-6040” (3-glycidoxypropyltrimethoxy) Commercial products such as Silane and Toray Dow Corning Co., Ltd.) can be used.
本発明の硬化性組成物がシランカップリング剤を含有する場合、その使用量としては、本発明の硬化性組成物に含まれる重合性化合物(ポリオルガノシルセスキオキサン(A)及び重合性化合物(B)の総量)100重量部に対して、例えば0〜10重量部程度であり、その上限は、好ましくは5重量部、特に好ましくは3重量部、最も好ましくは1重量部である。下限は、好ましくは0.005重量部、特に好ましくは0.01重量部である。 When the curable composition of the present invention contains a silane coupling agent, the amount used is a polymerizable compound (polyorganosilsesquioxane (A) and polymerizable compound contained in the curable composition of the present invention. The total amount of (B)) is, for example, about 0 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight, and the upper limit is preferably 5 parts by weight, particularly preferably 3 parts by weight, and most preferably 1 part by weight. The lower limit is preferably 0.005 parts by weight, particularly preferably 0.01 parts by weight.
[溶剤]
本発明の硬化性組成物には、好ましくは溶剤がさらに含有されていてもよい。溶剤としては、上記ポリオルガノシルセスキオキサン(A)、重合性化合物(B)、及び必要に応じて使用される添加物を溶解することができ、且つ重合を阻害しないものであれば特に制限されることはない。
[solvent]
The curable composition of the present invention may preferably further contain a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the polyorganosilsesquioxane (A), the polymerizable compound (B), and additives used as necessary and does not inhibit the polymerization. It will never be done.
溶剤は、スピンコートによって塗布するのに適した流動性を付与することができ、且つ重合の進行を抑制可能な温度において加熱することにより容易に除去できる溶剤を使用することが好ましく、沸点(1気圧における)が170℃以下の溶剤(例えば、トルエン、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、キシレン、メシチレン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン等)を1種又は2種以上使用することが好ましい。 As the solvent, it is preferable to use a solvent that can impart fluidity suitable for application by spin coating and can be easily removed by heating at a temperature at which the progress of polymerization can be suppressed. Use of one or more solvents whose atmospheric pressure is 170 ° C. or lower (for example, toluene, butyl acetate, methyl isobutyl ketone, xylene, mesitylene, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, etc.) preferable.
溶剤は、硬化性組成物に含まれる不揮発分の濃度が例えば30〜80重量%程度、好ましくは40〜70重量%、特に好ましくは50〜60重量%となる範囲で使用することが、スピンコートする際に塗布性に優れる点で好ましい。溶剤の使用量が過剰であると、硬化性組成物の粘度が低くなり適度な膜厚(例えば、0.5〜30μm程度)の層を形成することが困難となる傾向がある。一方、溶剤の使用量が少なすぎると、硬化性組成物の粘度が高くなりすぎ、支持体若しくは被着物に均一に塗布することが困難となる傾向がある。 The solvent may be used in such a range that the concentration of the nonvolatile content contained in the curable composition is, for example, about 30 to 80% by weight, preferably 40 to 70% by weight, particularly preferably 50 to 60% by weight. It is preferable in that it is excellent in coatability. When the amount of the solvent used is excessive, the viscosity of the curable composition tends to be low, and it becomes difficult to form a layer having an appropriate film thickness (for example, about 0.5 to 30 μm). On the other hand, when the amount of the solvent used is too small, the viscosity of the curable composition becomes too high and it tends to be difficult to uniformly apply it to the support or the adherend.
本発明の硬化性組成物は、さらに、その他任意の成分として、沈降シリカ、湿式シリカ、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、酸化チタン、アルミナ、ガラス、石英、アルミノケイ酸、酸化鉄、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、カーボンブラック、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素等の無機質充填剤、これらの充填剤をオルガノハロシラン、オルガノアルコキシシラン、オルガノシラザン等の有機ケイ素化合物により処理した無機質充填剤;シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等の有機樹脂微粉末;銀、銅等の導電性金属粉末等の充填剤、硬化助剤、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤、重金属不活性化剤など)、難燃剤(リン系難燃剤、ハロゲン系難燃剤、無機系難燃剤など)、難燃助剤、補強材(他の充填剤など)、核剤、滑剤、ワックス、可塑剤、離型剤、耐衝撃改良剤、色相改良剤、透明化剤、レオロジー調整剤(流動性改良剤など)、加工性改良剤、着色剤(染料、顔料など)、帯電防止剤、分散剤、表面調整剤(消泡剤、レベリング剤、ワキ防止剤など)、表面改質剤(スリップ剤など)、艶消し剤、消泡剤、抑泡剤、脱泡剤、抗菌剤、防腐剤、粘度調整剤、増粘剤、光増感剤、発泡剤などの慣用の添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用できる。 The curable composition of the present invention further includes, as other optional components, precipitated silica, wet silica, fumed silica, calcined silica, titanium oxide, alumina, glass, quartz, aluminosilicate, iron oxide, zinc oxide, calcium carbonate. Inorganic fillers such as carbon black, silicon carbide, silicon nitride and boron nitride, inorganic fillers obtained by treating these fillers with organosilicon compounds such as organohalosilanes, organoalkoxysilanes and organosilazanes; silicone resins, epoxy resins , Organic resin fine powders such as fluororesins; fillers such as conductive metal powders such as silver and copper, curing aids, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, heavy metals) Deactivators, etc.), flame retardants (phosphorous flame retardants, halogen flame retardants, inorganic flame retardants, etc.), flame retardant aids, reinforcing materials (other charge) Agents), nucleating agents, lubricants, waxes, plasticizers, mold release agents, impact modifiers, hue modifiers, clearing agents, rheology modifiers (fluidity modifiers, etc.), processability improvers, colorants ( Dyes, pigments, etc.), antistatic agents, dispersants, surface conditioners (such as antifoaming agents, leveling agents, anti-waxing agents), surface modifiers (such as slip agents), matting agents, antifoaming agents, and foam suppression Conventional additives such as an agent, a defoaming agent, an antibacterial agent, an antiseptic, a viscosity modifier, a thickener, a photosensitizer, and a foaming agent may be included. These additives can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を室温で又は必要に応じて加熱しながら攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。 Although the curable composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing each said component, heating at room temperature or as needed. In addition, the curable composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more components stored separately. Can be used as a multi-liquid composition (for example, a two-liquid system) used by mixing them at a predetermined ratio before use.
本発明の硬化性組成物は、特に限定されないが、常温(約25℃)で液体であることが好ましい。スピンコートにて塗布を行う場合、硬化性組成物の粘度は塗布膜厚に応じて調整することが好ましく、0.1〜50μmの膜厚で塗布する場合には、1〜5000mPa・sとすることが好ましい。この粘度において、例えばシリコンウエハなどの基板に均一な膜厚を有する塗膜を形成することができる。なお、本発明の硬化性組成物の粘度は、粘度計(商品名「MCR301」、アントンパール社製)を用いて、振り角5%、周波数0.1〜100(1/s)、温度:25℃の条件で測定される。 Although the curable composition of this invention is not specifically limited, It is preferable that it is a liquid at normal temperature (about 25 degreeC). When coating by spin coating, the viscosity of the curable composition is preferably adjusted according to the coating film thickness. When coating with a film thickness of 0.1 to 50 μm, the viscosity is set to 1 to 5000 mPa · s. It is preferable. With this viscosity, for example, a coating film having a uniform film thickness can be formed on a substrate such as a silicon wafer. The viscosity of the curable composition of the present invention was measured using a viscometer (trade name “MCR301”, manufactured by Anton Paar Co., Ltd.) with a swing angle of 5%, a frequency of 0.1 to 100 (1 / s), and temperature: It is measured at 25 ° C.
[硬化物]
本発明の硬化性組成物におけるカチオン硬化性化合物(本発明のポリオルガノシルセスキオキサン(A)、重合性化合物(B)等)の重合反応を進行させることにより、該硬化性組成物を硬化させることができ、硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の方法は、周知の方法より適宜選択でき、特に限定されないが、例えば、活性エネルギー線の照射、及び/又は、加熱する方法が挙げられる。上記活性エネルギー線としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、γ線等のいずれを使用することもできる。中でも、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。
[Cured product]
The curable composition is cured by advancing the polymerization reaction of the cationic curable compound (polyorganosilsesquioxane (A), polymerizable compound (B), etc. of the present invention) in the curable composition of the present invention. And a cured product (sometimes referred to as “cured product of the present invention”) can be obtained. The curing method can be appropriately selected from well-known methods and is not particularly limited, and examples thereof include a method of irradiation with active energy rays and / or heating. As the active energy ray, for example, any of infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, electron beams, α rays, β rays, γ rays and the like can be used. Among these, ultraviolet rays are preferable in terms of excellent handleability.
本発明の硬化性組成物を活性エネルギー線の照射により硬化させる際の条件(活性エネルギー線の照射条件等)は、照射する活性エネルギー線の種類やエネルギー、硬化物の形状やサイズ等に応じて適宜調整することができ、特に限定されないが、紫外線を照射する場合には、例えば1〜1000mJ/cm2程度とすることが好ましい。なお、活性エネルギー線の照射には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、LEDランプ、レーザー等を使用することができる。活性エネルギー線の照射後には、さらに加熱処理(アニール、エージング)を施してさらに硬化反応を進行させることができる。 Conditions for curing the curable composition of the present invention by irradiation with active energy rays (irradiation conditions for active energy rays, etc.) depend on the type and energy of the active energy rays to be irradiated, the shape and size of the cured product, etc. Although it can adjust suitably and it is not specifically limited, When irradiating an ultraviolet-ray, it is preferable to set it as about 1-1000 mJ / cm < 2 >, for example. For irradiation with active energy rays, for example, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, sunlight, an LED lamp, a laser, or the like can be used. After the irradiation with the active energy ray, a heating treatment (annealing and aging) can be further performed to further advance the curing reaction.
一方、本発明の硬化性組成物を加熱により硬化させる際の条件は、本発明の硬化性組成物はポリオルガノシルセスキオキサン(A)、重合性化合物(B)を含有するため、200℃未満の低温で加熱することにより速やかに硬化物を形成することができる。すなわち、低温硬化性を有する。加熱温度としては、例えば、50〜190℃である。硬化時間は適宜設定可能である。 On the other hand, the conditions for curing the curable composition of the present invention by heating are such that the curable composition of the present invention contains a polyorganosilsesquioxane (A) and a polymerizable compound (B), and therefore 200 ° C. A cured product can be rapidly formed by heating at a low temperature below. That is, it has low temperature curability. As heating temperature, it is 50-190 degreeC, for example. The curing time can be appropriately set.
本発明の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物は耐熱性に優れ、熱分解温度は200℃以上(例えば200〜500℃)、好ましくは260℃以上である。 The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention is excellent in heat resistance, and the thermal decomposition temperature is 200 ° C. or higher (for example, 200 to 500 ° C.), preferably 260 ° C. or higher.
本発明の硬化性組成物を硬化させることにより得られる硬化物は、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する優れた接着性及び密着性を有する。そのため、本発明の硬化性組成物は、接着剤(「接着剤用組成物」と称する場合がある)として好ましく使用でき、それを硬化させることにより、耐熱性、耐クラック性、被着体に対する接着性及び密着性に優れた接着材へと転化させることができる。上記接着剤は、例えば、本発明の硬化性組成物が光カチオン重合開始剤を含む場合には光硬化性接着剤として、熱カチオン重合開始剤を含む場合には熱硬化性接着剤として使用することができる。 The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has heat resistance, crack resistance, and excellent adhesion and adhesion to an adherend. Therefore, the curable composition of the present invention can be preferably used as an adhesive (sometimes referred to as an “adhesive composition”), and by curing it, heat resistance, crack resistance, and adherend It can be converted into an adhesive having excellent adhesion and adhesion. The adhesive is used, for example, as a photocurable adhesive when the curable composition of the present invention contains a cationic photopolymerization initiator, and as a thermosetting adhesive when it contains a thermal cationic polymerization initiator. be able to.
本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)は、後述の接着シートや積層物を得るための用途に限定されず、所望の物品(部品等)同士を接着する各種用途に使用することができる。 The curable composition (adhesive composition) of the present invention is not limited to the use for obtaining an adhesive sheet or a laminate described later, and is used for various uses for bonding desired articles (parts, etc.) to each other. Can do.
[接着シート]
本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、基材と、該基材上の接着剤層とを少なくとも有する接着シートであって、上記接着剤層が本発明の硬化性組成物の層(「本発明の接着剤層」と称する場合がある)である接着シート(「本発明の接着シート」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の接着シートには、シート状のみならず、フィルム状、テープ状、板状等のシート状に類する形態が包含される。本発明の接着シートは、特に限定されないが、例えば、基材に本発明の硬化性組成物を塗布し、さらに、必要に応じて乾燥させることによって得ることができる。塗布の方法は特に限定されず、周知慣用の手段を利用することができる。また、乾燥の手段や条件も特に限定されず、溶媒等の揮発分をできるだけ除去できる条件を設定することができ、周知慣用の手段を用いることができる。特に、本発明の接着剤組成物が、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間が3.5分以上である重合開始剤を含有する場合は、加熱乾燥することにより、硬化反応を進行させること無く速やかに接着剤層を形成することができ、また、得られる接着剤層は50℃未満では接着性を有さないため切削刃に糊が付着することなく切削加工を行うことができ、半導体チップ等の被接着層へのダメージを抑制可能な温度で加熱することにより接着性を発現し、その後、速やかに硬化する特性を有する。
[Adhesive sheet]
By using the curable composition (adhesive composition) of the present invention, an adhesive sheet having at least a substrate and an adhesive layer on the substrate, wherein the adhesive layer is cured according to the present invention. An adhesive sheet (sometimes referred to as “the adhesive sheet of the present invention”) that is a layer of the adhesive composition (sometimes referred to as “the adhesive layer of the present invention”) can be obtained. The adhesive sheet of the present invention includes not only a sheet shape but also a form similar to a sheet shape such as a film shape, a tape shape, and a plate shape. Although the adhesive sheet of this invention is not specifically limited, For example, it can obtain by apply | coating the curable composition of this invention to a base material, and also making it dry as needed. The method of application is not particularly limited, and well-known and commonly used means can be used. Also, the means and conditions for drying are not particularly limited, and conditions under which volatile components such as solvents can be removed as much as possible can be set, and well-known and commonly used means can be used. In particular, the thermosetting time at 130 ° C. of the composition obtained by adding 1 part by weight of the adhesive composition of the present invention to 100 parts by weight of Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Corporation) is 3.5 minutes or more. In the case of containing a certain polymerization initiator, it is possible to form an adhesive layer promptly without advancing the curing reaction by heating and drying, and the obtained adhesive layer has an adhesive property at less than 50 ° C. Since there is no adhesive, cutting can be performed without sticking to the cutting blade, and adhesiveness is developed by heating at a temperature that can suppress damage to the adherend layer such as a semiconductor chip, and then promptly Has the property of curing.
本発明の接着シートは、基材の片面側のみに接着剤層を有する片面接着シートであってもよいし、基材の両面側に接着剤層を有する両面接着シートであってもよい。本発明の接着シートが両面接着シートである場合、少なくとも一方の接着剤層が本発明の接着剤層であればよく、他方は、本発明の接着剤層であってもよいし、その他の接着剤層であってもよい。 The adhesive sheet of the present invention may be a single-sided adhesive sheet having an adhesive layer only on one side of the substrate, or a double-sided adhesive sheet having an adhesive layer on both sides of the substrate. When the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet, at least one of the adhesive layers may be the adhesive layer of the present invention, and the other may be the adhesive layer of the present invention or other adhesives. It may be an agent layer.
本発明の接着シートにおける基材としては、周知慣用の基材(接着シートに使用される基材)を使用することができ、特に限定されないが、例えば、プラスチック基材、金属基材、セラミックス基材、半導体基材、ガラス基材、紙基材、木基材、表面が塗装表面である基材等が挙げられる。また、本発明の接着シートにおける基材は、いわゆる剥離ライナーであってもよい。尚、本発明の接着シートは、基材を1層のみ有するものであってもよいし、2層以上有するものであってもよい。また、上記基材の厚みは特に限定されず、例えば、1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。 As a base material in the adhesive sheet of the present invention, a well-known and commonly used base material (a base material used in the adhesive sheet) can be used, and is not particularly limited. For example, plastic base material, metal base material, ceramic base material Examples include materials, semiconductor substrates, glass substrates, paper substrates, wood substrates, and substrates whose surfaces are painted surfaces. The base material in the adhesive sheet of the present invention may be a so-called release liner. The adhesive sheet of the present invention may have only one layer of the base material, or may have two or more layers. Moreover, the thickness of the said base material is not specifically limited, For example, it can select suitably in the range of 1-10000 micrometers.
本発明の接着シートは、本発明の接着剤層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着剤層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。その他の接着剤層(本発明の接着剤層以外の接着剤層)についても同様である。 The adhesive sheet of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more types. Further, the thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected within a range of, for example, 0.1 to 10,000 μm. The same applies to other adhesive layers (adhesive layers other than the adhesive layer of the present invention).
本発明の接着シートは、基材と接着剤層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層等)を有するものであってもよく、上述のシランカップリング剤等で表面処理されたものであってもよい。 In addition to the base material and the adhesive layer, the adhesive sheet of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, etc.), and is surface-treated with the above-described silane coupling agent or the like. It may be.
[積層物]
本発明の硬化性組成物(接着剤用組成物)を用いることにより、3層以上(少なくとも3層)で構成される積層物(積層体)であって、2層の被接着層と、これらの被接着層の間に位置する接着層(上記被接着層同士を接着する層)とを少なくとも有し、上記接着層が本発明の硬化性組成物の硬化物の層(「本発明の接着層」と称する場合がある)である積層物(「本発明の積層物」と称する場合がある)を得ることができる。本発明の積層物は、特に限定されないが、例えば、一方の被接着層に本発明の接着剤層を形成し(例えば、本発明の接着シートにおける接着剤層と同様に形成できる)、さらに、当該接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。また、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが片面接着シートである場合には、本発明の接着シートを被接着層に貼り合わせ、次いで、光照射や加熱等によって上記接着シート中の本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。この場合、本発明の接着シートにおける基材が被接着層に当たる積層物が得られる。さらに、本発明の積層物は、例えば、本発明の接着シートが両面接着シートであって基材が剥離ライナーである場合には、本発明の接着シートを一方の被接着層に貼り合わせ、剥離ライナーを剥離し、次いで、露出させた接着剤層に対して他方の被接着層を貼り合わせ、その後、光照射や加熱等によって本発明の接着剤層を硬化させることによって、得ることができる。但し、本発明の積層物の製造方法は、これらの方法に限定されない。
[Laminate]
By using the curable composition (adhesive composition) of the present invention, a laminate (laminate) composed of three or more layers (at least three layers), two layers to be adhered, and these At least an adhesive layer (a layer for adhering the adherend layers), and the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition of the present invention ("adhesion of the present invention"). It is possible to obtain a laminate (sometimes referred to as “a laminate of the present invention”). Although the laminate of the present invention is not particularly limited, for example, the adhesive layer of the present invention is formed on one adherend layer (for example, it can be formed in the same manner as the adhesive layer in the adhesive sheet of the present invention), and The other adhesive layer can be bonded to the adhesive layer, and then the adhesive layer of the present invention can be cured by light irradiation or heating. In addition, the laminate of the present invention is, for example, when the adhesive sheet of the present invention is a single-sided adhesive sheet, the adhesive sheet of the present invention is bonded to an adherend layer, and then the adhesive sheet is irradiated by light irradiation or heating. It can be obtained by curing the adhesive layer of the present invention inside. In this case, a laminate in which the substrate in the adhesive sheet of the present invention hits the adherend layer is obtained. Further, when the adhesive sheet of the present invention is a double-sided adhesive sheet and the base material is a release liner, the laminate of the present invention is bonded to one adhesive layer and peeled off. It can be obtained by peeling the liner, then bonding the other layer to the exposed adhesive layer, and then curing the adhesive layer of the present invention by light irradiation or heating. However, the manufacturing method of the laminate of the present invention is not limited to these methods.
本発明の積層物における被接着体は特に限定されず、例えば、上記接着シートにおける基材と同様のものが例示される。尚、本発明の積層物は、被接着体を2層のみ有するものであってもよいし、3層以上有するものであってもよい。また、被接着体の厚みは特に限定されず、例えば、1〜100000μmの範囲で適宜選択できる。被接着体は、厳密な層状の形態を有していなくてもよい。 The adherend in the laminate of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include those similar to the base material in the adhesive sheet. The laminate of the present invention may have only two layers of the adherend, or may have three or more layers. Moreover, the thickness of a to-be-adhered body is not specifically limited, For example, it can select suitably in the range of 1-100,000 micrometers. The adherend need not have a strict layered form.
本発明の積層物は、本発明の接着層を1層のみ有するものであってもよいし、2種以上有するものであってもよい。また、本発明の接着層の厚みは、特に限定されず、例えば、0.1〜10000μmの範囲で適宜選択できる。 The laminate of the present invention may have only one adhesive layer of the present invention, or may have two or more. Further, the thickness of the adhesive layer of the present invention is not particularly limited, and can be appropriately selected within a range of, for example, 0.1 to 10,000 μm.
本発明の積層物は、上記被接着体と本発明の接着層以外にも、その他の層(例えば、中間層、下塗り層、その他の接着層等)を有するものであってもよく、上述のシランカップリング剤等で表面処理されたものであってもよい。 The laminate of the present invention may have other layers (for example, an intermediate layer, an undercoat layer, other adhesive layers, etc.) in addition to the adherend and the adhesive layer of the present invention. It may be surface-treated with a silane coupling agent or the like.
本発明の積層物は、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた接着層により被接着体が接着された構成を有する。そのため、本発明の積層物は、接着層にクラックや剥離が生じることにより被接着体が剥離したり、配線が破壊されたりすることを防止することができ、積層物を備えた装置の信頼性を向上することができる。そして、本発明の積層物が半導体チップの三次元積層体である場合は、従来の半導体よりも高集積、省電力であるため、本発明の積層物を使用すれば、より小型で高性能な電子機器を提供することができる。 The laminate of the present invention has a configuration in which an adherend is bonded by an adhesive layer having excellent heat resistance, crack resistance, adhesion to the adherend, and adhesion. Therefore, the laminate of the present invention can prevent the adherend from being peeled off or the wiring from being broken due to cracks or peeling in the adhesive layer, and the reliability of the device provided with the laminate. Can be improved. And, when the laminate of the present invention is a three-dimensional laminate of semiconductor chips, it is more integrated and power-saving than the conventional semiconductor, so if the laminate of the present invention is used, it is smaller and has higher performance. An electronic device can be provided.
本発明の積層物としては、例えば、マイクロプロセッサ、半導体メモリ、電源用IC、通信用IC、半導体センサー、MEMS、及びこれらを組み合わせた半導体等を挙げることができる。これらは高性能なサーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等において使用される。 Examples of the laminate of the present invention include a microprocessor, a semiconductor memory, a power supply IC, a communication IC, a semiconductor sensor, a MEMS, and a semiconductor in which these are combined. These are used in high-performance servers, workstations, in-vehicle computers, personal computers, communication devices, photographing devices, image display devices, and the like.
従って、前記積層物を有する(若しくは、積層物を備えた)本発明の装置としては、例えば、サーバー、ワークステーション、車載用コンピュータ、パーソナルコンピュータ、通信機器、撮影機器、画像表示装置等を挙げることができる。 Accordingly, examples of the apparatus of the present invention having (or including) the laminate include a server, a workstation, a vehicle-mounted computer, a personal computer, a communication device, a photographing device, and an image display device. Can do.
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
なお、生成物の分子量の測定は、Alliance HPLCシステム 2695(Waters製)、Refractive Index Detector 2414(Waters製)、カラム:Tskgel GMHHR−M×2(東ソー(株)製)、ガードカラム:Tskgel guard column HHRL(東ソー(株)製)、カラムオーブン:COLUMN HEATER U−620(Sugai製)、溶媒:THF、測定条件:40℃、分子量:標準ポリスチレン換算により行った。
また、生成物におけるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]の測定は、JEOL ECA500(500MHz)による29Si−NMRスペクトル測定により行った。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
The molecular weight of the product was measured using Alliance HPLC system 2695 (manufactured by Waters), Refractive Index Detector 2414 (manufactured by Waters), column: Tskel GMH HR- M × 2 (manufactured by Tosoh Corporation), guard column: Tskel guard column H HR L (manufactured by Tosoh Corporation), column oven: COLUMN HEATER U-620 (manufactured by Sugai), solvent: THF, measurement conditions: 40 ° C., molecular weight: standard polystyrene conversion.
Moreover, the measurement of the ratio [T3 body / T2 body] of T2 body and T3 body in a product was performed by 29 Si-NMR spectrum measurement by JEOL ECA500 (500 MHz).
調製例1
温度計、攪拌装置、還流冷却器、及び窒素導入管を取り付けた300ミリリットルのフラスコ(反応容器)に、窒素気流下で2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(以下、「EMS」と称する)161.5ミリモル(39.79g)、フェニルトリメトキシシラン(以下、「PMS」と称する)9ミリモル(1.69g)、及びアセトン165.9gを仕込み、50℃に昇温した。このようにして得られた混合物に、5%炭酸カリウム水溶液4.70g(炭酸カリウムとして1.7ミリモル)を5分で滴下した後、水1700ミリモル(30.60g)を20分かけて滴下した。なお、滴下の間、著しい温度上昇は起こらなかった。その後、50℃のまま、重縮合反応を窒素気流下で4時間行った。
重縮合反応後の反応溶液中の生成物を分析したところ、数平均分子量は1900であり、分子量分散度は1.5であった。上記生成物の29Si−NMRスペクトルから算出されるT2体とT3体の割合[T3体/T2体]は10.3であった。
その後、反応溶液を冷却し、下層液が中性になるまで水洗を行い、上層液を分取した後、1mmHg、40℃の条件で溶剤量が25重量%になるまで上層液から溶媒を留去し、無色透明の液状の生成物(エポキシ基含有ポリオルガノシルセスキオキサン)を得た。
Preparation Example 1
A 300 ml flask (reaction vessel) equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen inlet tube was charged with 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (hereinafter, “EMS” under a nitrogen stream. 161.5 mmol (39.79 g), phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “PMS”) 9 mmol (1.69 g), and acetone 165.9 g were charged and heated to 50 ° C. To the mixture thus obtained, 4.70 g of 5% aqueous potassium carbonate solution (1.7 mmol as potassium carbonate) was added dropwise over 5 minutes, and then 1700 mmol (30.60 g) of water was added dropwise over 20 minutes. . Note that no significant temperature increase occurred during the dropping. Thereafter, the polycondensation reaction was carried out for 4 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 50 ° C.
When the product in the reaction solution after the polycondensation reaction was analyzed, the number average molecular weight was 1900 and the molecular weight dispersity was 1.5. The ratio of T2 body and T3 body [T3 body / T2 body] calculated from the 29 Si-NMR spectrum of the product was 10.3.
Thereafter, the reaction solution is cooled, washed with water until the lower layer solution becomes neutral, and after separating the upper layer solution, the solvent is distilled from the upper layer solution until the amount of the solvent reaches 25% by weight under the conditions of 1 mmHg and 40 ° C. This gave a colorless and transparent liquid product (epoxy group-containing polyorganosilsesquioxane).
なお、調製例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサンのFT−IRスペクトルを上述の方法で測定したところ、1100cm-1付近に一つの固有吸収ピークを有することが確認された。 In addition, when the FT-IR spectrum of the polyorganosilsesquioxane obtained in Preparation Example 1 was measured by the above method, it was confirmed that the polyorganosilsesquioxane had one intrinsic absorption peak in the vicinity of 1100 cm −1 .
実施例1〜8
(接着剤組成物の作製)
表1に示す組成及び量に従って混合溶解して、接着剤組成物(1)〜(8)を調製した。表中の数字は重量部である。なお、商品名「SI−150L」の配合量は、固形分換算の量で示した。
Examples 1-8
(Preparation of adhesive composition)
Adhesive compositions (1) to (8) were prepared by mixing and dissolving according to the compositions and amounts shown in Table 1. The numbers in the table are parts by weight. In addition, the compounding quantity of brand name "SI-150L" was shown by the quantity of solid content conversion.
(接着剤層の作製)
シリコン板(サイズ:2cm×5cm、(株)SUMCO製、直径100mmのシリコンウエハをダイシングして得た)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きシリコン板を得た。
シランカップリング剤層付きシリコン板に接着剤組成物(1)〜(8)をスピンコートで塗布し、80℃で4分、次いで100℃で2分加熱して残留する溶剤を除去して、接着剤層(1)〜(8)付きシリコン板を得た。接着剤層(1)〜(8)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer)
A silane coupling agent (trade name “KBE403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), hereinafter referred to as “KBE403” on a silicon plate (size: 2 cm × 5 cm, obtained by dicing a silicon wafer having a diameter of 100 mm, manufactured by SUMCO Corporation) Is sometimes applied by spin coating and heated at 120 ° C. for 5 minutes to obtain a silicon plate with a silane coupling agent layer.
The adhesive composition (1) to (8) is applied to a silicon plate with a silane coupling agent layer by spin coating, and the remaining solvent is removed by heating at 80 ° C. for 4 minutes and then at 100 ° C. for 2 minutes, Silicon plates with adhesive layers (1) to (8) were obtained. The film thicknesses of the adhesive layers (1) to (8) were 5 to 6 μm.
(積層物の作製)
ガラス板(4インチ、SCHOTT日本(株)製)にシランカップリング剤(商品名「KBE403」、信越化学工業(株)製、以後「KBE403」と称する場合がある)をスピンコートで塗布し、120℃で5分加熱して、シランカップリング剤層付きガラス板を得た。減圧下で、作製したシランカップリング剤層付きガラス板のシランカップリング剤層面を接着剤層(1)〜(8)面と合わせ、60℃に加熱しながら200g/cm2の圧力をかけて貼り合わせた後、150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱することにより、積層物(1)〜(8)を得た。
(Production of laminate)
A silane coupling agent (trade name “KBE403”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., hereinafter sometimes referred to as “KBE403”) is applied to a glass plate (4 inches, manufactured by SCHOTT Japan Co., Ltd.) by spin coating, The glass plate with a silane coupling agent layer was obtained by heating at 120 ° C. for 5 minutes. Under reduced pressure, the silane coupling agent layer surface of the prepared glass plate with a silane coupling agent layer is aligned with the adhesive layer (1) to (8) surface, and a pressure of 200 g / cm 2 is applied while heating to 60 ° C. After bonding, the laminates (1) to (8) were obtained by heating at 150 ° C. for 30 minutes and then heating at 170 ° C. for 30 minutes.
実施例1〜8で得られた接着剤組成物(1)〜(8)、接着剤層(1)〜(8)、積層物(1)〜(8)について以下の通り評価を行った。 The adhesive compositions (1) to (8), adhesive layers (1) to (8), and laminates (1) to (8) obtained in Examples 1 to 8 were evaluated as follows.
[評価]
(耐熱性)
接着剤組成物を加熱して得られた硬化物について、熱分析装置(商品名「TG−DTA6300」、セイコー電子工業(株)製)を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度10℃/分の条件で熱重量分析し、下記基準で耐熱性を評価した。尚、熱分解温度(T)とは、図1に示すように、初期の重量減少のない、或いは漸減しているところ(図中のAで示される範囲)の接線と、急激に重量減少が起こっているところ(図中のBで示される範囲)の変曲点の接線が交叉するところの温度である。
評価基準:熱分解温度(T)が260℃以上のときを合格(○)とする。
[Evaluation]
(Heat-resistant)
The cured product obtained by heating the adhesive composition is heated at a rate of 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere using a thermal analyzer (trade name “TG-DTA6300”, manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.). The thermogravimetric analysis was performed under the following conditions, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria. As shown in FIG. 1, the thermal decomposition temperature (T) is a tangential line where there is no initial weight loss or is gradually decreasing (range indicated by A in the figure), and a sudden weight reduction. It is the temperature at which the tangent of the inflection point where it is occurring (range indicated by B in the figure) intersects.
Evaluation criteria: A case where the thermal decomposition temperature (T) is 260 ° C. or higher is regarded as acceptable (◯).
(密着性)
接着剤層付きシリコン板における接着剤層を加熱して得られた接着剤層の硬化物について、碁盤目テープ試験(JIS K5400−8.5準拠)を行い、下記基準でシリコン板への密着性を評価した。
評価基準:接着剤層の剥離が見られないときを合格(○)とする。
(Adhesion)
For the cured product of the adhesive layer obtained by heating the adhesive layer in the silicon plate with the adhesive layer, a cross-cut tape test (conforms to JIS K5400-8.5) is performed, and the adhesion to the silicon plate according to the following criteria: Evaluated.
Evaluation criteria: The case where peeling of the adhesive layer is not observed is regarded as acceptable (◯).
(耐クラック性)
接着剤層付きシリコン板における接着剤層を加熱して得られた接着剤層の硬化物について、冷熱衝撃(250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷)を付与し、下記基準でクラックの程度を評価した。
評価基準:クラックの無い部分が硬化物の60%以上であるときを合格(○)とする。
(Crack resistance)
The cured product of the adhesive layer obtained by heating the adhesive layer in the silicon plate with the adhesive layer was given a cold shock (heated at 250 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooled to room temperature), and cracked according to the following criteria: Was evaluated.
Evaluation criteria: A case where the crack-free portion is 60% or more of the cured product is regarded as acceptable (◯).
(接着性)
積層物の接着界面にカミソリ刃(商品名「片刃トリミング用カミソリ」、日新EM社製)を挿入し、下記基準で密着性を評価した。
評価基準:接着面での剥離が見られないときを合格(○)とする。
(Adhesiveness)
A razor blade (trade name “single-blade trimming razor”, manufactured by Nissin EM Co., Ltd.) was inserted into the adhesive interface of the laminate, and adhesion was evaluated according to the following criteria.
Evaluation criteria: A case where peeling on the adhesive surface is not observed is regarded as acceptable (◯).
[結果]
(耐熱性)
接着剤組成物(1)〜(8)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、熱分解温度は、260℃以上であった。結果を表1に示す。
[result]
(Heat-resistant)
About the hardened | cured material obtained by heating adhesive composition (1)-(8) at 150 degreeC for 30 minutes, and then heating at 170 degreeC for 30 minutes, thermal decomposition temperature was 260 degreeC or more. The results are shown in Table 1.
(耐クラック性)
接着剤層(1)〜(8)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷したところ、クラックの無い部分は硬化物の60%以上であった。結果を表1に示す。
(Crack resistance)
The cured product obtained by heating the adhesive layers (1) to (8) at 150 ° C. for 30 minutes and then heating at 170 ° C. for 30 minutes was heated at 250 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooled to room temperature. However, the portion without cracks was 60% or more of the cured product. The results are shown in Table 1.
(密着性)
接着剤層(1)〜(8)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、碁盤目テープ試験の結果、接着剤層(1)〜(8)の剥離は見られず、密着性に優れることが確認された。結果を表1に示す。
(Adhesion)
The adhesive layers (1) to (8) were heated at 150 ° C. for 30 minutes and then heated at 170 ° C. for 30 minutes. As a result of the cross-cut tape test, the adhesive layers (1) to (8) Peeling of (8) was not observed, and it was confirmed that the adhesiveness was excellent. The results are shown in Table 1.
(接着性)
積層物(1)〜(8)の接着界面にカミソリ刃を挿入したところ、接着面での剥離は生じず、積層物における接着層は接着性に優れることが確認された。結果を表1に示す。
(Adhesiveness)
When a razor blade was inserted into the adhesive interfaces of the laminates (1) to (8), peeling on the adhesive surface did not occur, and it was confirmed that the adhesive layer in the laminate was excellent in adhesiveness. The results are shown in Table 1.
比較例1
(接着剤組成物(9)の作製)
表1に示す組成及び量に従って混合溶解して、接着剤組成物(9)を調製した。表中の数字は重量部である。
Comparative Example 1
(Preparation of adhesive composition (9))
An adhesive composition (9) was prepared by mixing and dissolving according to the composition and amount shown in Table 1. The numbers in the table are parts by weight.
(接着剤層の作製)
接着剤組成物(1)〜(8)に代えて接着剤組成物(9)を使用した以外は実施例1〜8と同様にして接着剤層(9)付きシリコン板を得た。接着剤層(9)の膜厚は5〜6μmであった。
(Preparation of adhesive layer)
A silicon plate with an adhesive layer (9) was obtained in the same manner as in Examples 1 to 8, except that the adhesive composition (9) was used in place of the adhesive compositions (1) to (8). The film thickness of the adhesive layer (9) was 5 to 6 μm.
比較例1で得られた接着剤層(9)について耐クラック性を評価した。
接着剤層(2)を150℃で30分加熱し、次いで、170℃で30分加熱して得られた硬化物について、250℃で30分加熱し、続いて室温まで急冷したところ、激しくクラックが発生した。結果を表1に示す。
The adhesive layer (9) obtained in Comparative Example 1 was evaluated for crack resistance.
The cured product obtained by heating the adhesive layer (2) at 150 ° C. for 30 minutes and then heating at 170 ° C. for 30 minutes was heated at 250 ° C. for 30 minutes and then rapidly cooled to room temperature. There has occurred. The results are shown in Table 1.
なお、表1中の記号は下記化合物を示す。
SQ:調製例1で得られたポリオルガノシルセスキオキサン
4004P:フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物又はアルキル(C=1〜9)フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物のエピクロルヒドリン又は2−メチルエピクロルヒドリンによるグリシジルエーテル化変性物(商品名「jER4004P」、三菱化学(株)製)、重量平均分子量:5000、エポキシ当量:840〜975
4005P:フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物又はアルキル(C=1〜9)フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物のエピクロルヒドリン又は2−メチルエピクロルヒドリンによるグリシジルエーテル化変性物(商品名「jER4005P」、三菱化学(株)製)、重量平均分子量:6200、エポキシ当量:950〜1200
4007P:フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物又はアルキル(C=1〜9)フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物のエピクロルヒドリン又は2−メチルエピクロルヒドリンによるグリシジルエーテル化変性物(商品名「jER4007P」、三菱化学(株)製)、重量平均分子量:20000、エポキシ当量:2000〜2500
4010P:フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物又はアルキル(C=1〜9)フェノール・ホルムアルデヒド重縮合物のエピクロルヒドリン又は2−メチルエピクロルヒドリンによるグリシジルエーテル化変性物(商品名「jER4010P」、三菱化学(株)製)、重量平均分子量:45000、エポキシ当量:3800〜4600
EHPE:2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物(商品名「EHPE3150」、(株)ダイセル製)、重量平均分子量:2400、エポキシ当量:177
RE−303S−L:ビスフェノールF・エピクロルヒドリンのジグリシジルエーテル(商品名「RE−303S−L」、日本化薬(株)製)、分子量:312、エポキシ当量:156
PGMEA:プロプレングリコールモノメチルエーテルアセテート
SI−150L:アンチモン系スルホニウム塩(商品名「SI−150L」、三新化学工業(株)製)、セロキサイド2021P((株)ダイセル製)100重量部に対して1重量部添加して得られる組成物の130℃における熱硬化時間:5.4分)
SI助剤:(4−ヒドロキシフェニル)ジメチルスルホニウムメチルサルファイト(商品名「サンエイドSI助剤」、三新化学工業(株)製)
In addition, the symbol in Table 1 shows the following compound.
SQ: Polyorganosilsesquioxane 4004P obtained in Preparation Example 1: Phenol / formaldehyde polycondensate or alkyl (C = 1-9) phenol / formaldehyde polycondensate modified with epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin Product (trade name “jER4004P”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), weight average molecular weight: 5000, epoxy equivalent: 840-975
4005P: Phenol-formaldehyde polycondensate or alkyl (C = 1 to 9) phenol-formaldehyde polycondensate glycidyl etherification modified with epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin (trade name “jER4005P”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) , Weight average molecular weight: 6200, epoxy equivalent: 950-1200
4007P: Phenol / formaldehyde polycondensate or alkyl (C = 1-9) glycidyl etherification modified product of phenol / formaldehyde polycondensate with epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin (trade name “jER4007P”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) , Weight average molecular weight: 20000, epoxy equivalent: 2000-2500
4010P: Phenol / formaldehyde polycondensate or alkyl (C = 1 to 9) phenol / formaldehyde polycondensate glycidyl etherification modified with epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin (trade name “jER4010P”, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) , Weight average molecular weight: 45000, epoxy equivalent: 3800-4600
EHPE: 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (trade name “EHPE3150”, manufactured by Daicel Corporation), weight average molecular weight: 2400, epoxy equivalent: 177
RE-303S-L: Diglycidyl ether of bisphenol F / epichlorohydrin (trade name “RE-303S-L”, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), molecular weight: 312, epoxy equivalent: 156
PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate SI-150L: antimony-based sulfonium salt (trade name “SI-150L”, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Corporation) per 100 parts by weight (The thermosetting time at 130 ° C. of the composition obtained by adding 1 part by weight: 5.4 minutes)
SI aid: (4-Hydroxyphenyl) dimethylsulfonium methylsulfite (trade name “Sun aid SI aid”, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
本発明の硬化性組成物は、低温で硬化して、耐熱性、耐クラック性、被接着体に対する接着性及び密着性に優れた硬化物を形成することができる。従って、半導体の積層や電子部品等の接着に使用される接着剤として有用である。 The curable composition of the present invention can be cured at a low temperature to form a cured product excellent in heat resistance, crack resistance, adhesion to an adherend and adhesion. Therefore, it is useful as an adhesive used for bonding semiconductors and electronic parts.
A 重量変化がほとんどない領域
B 急激に重量が減少する領域
A Area with almost no weight change B Area with sudden weight loss
Claims (13)
で表される構成単位を有し、下記式(I)
で表される構成単位と、下記式(II)
で表される構成単位のモル比[式(I)で表される構成単位/式(II)で表される構成単位]が5以上であり、シロキサン構成単位の全量(100モル%)に対する上記式(1)で表される構成単位及び下記式(4)
で表される構成単位の割合が55〜100モル%であり、数平均分子量が1000〜3000、分子量分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜3.0であるポリオルガノシルセスキオキサン(A)と、
重合性官能基を有する、ポリオルガノシルセスキオキサン(A)以外の化合物(B)とを含有することを特徴とする硬化性組成物。 Following formula (1)
Having a structural unit represented by the following formula (I)
A structural unit represented by the following formula (II):
The molar ratio of the structural unit represented by [the structural unit represented by the formula (I) / the structural unit represented by the formula (II)] is 5 or more, and is based on the total amount (100 mol%) of the siloxane structural unit. The structural unit represented by the formula (1) and the following formula (4)
A polyorganosyl having a proportion of structural units represented by the formula: 55 to 100 mol%, a number average molecular weight of 1000 to 3000, and a molecular weight dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.0 to 3.0. Sesquioxane (A),
A curable composition comprising a compound (B) other than polyorganosilsesquioxane (A) having a polymerizable functional group.
で表される構成単位を有する、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。 Polyorganosilsesquioxane (A) is further represented by the following formula (2)
The curable composition of Claim 1 or 2 which has a structural unit represented by these.
で表される基、下記式(1b)
で表される基、下記式(1c)
で表される基、及び、下記式(1d)
で表される基からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 R 1 is represented by the following formula (1a)
A group represented by formula (1b):
A group represented by formula (1c):
And a group represented by the following formula (1d):
The curable composition of any one of Claims 1-3 which is at least 1 type chosen from the group which consists of group represented by these.
前記接着剤層が、請求項9に記載の硬化性組成物の層であることを特徴とする接着シート。 An adhesive sheet having a substrate and an adhesive layer on the substrate,
The adhesive sheet, wherein the adhesive layer is a layer of the curable composition according to claim 9.
2層の被接着層と、該被接着層の間の接着層とを有し、
前記接着層が、請求項9に記載の硬化性組成物の硬化物の層であることを特徴とする積層物。 A laminate composed of three or more layers,
Having two layers to be adhered and an adhesion layer between the layers to be adhered;
The laminate according to claim 9, wherein the adhesive layer is a layer of a cured product of the curable composition according to claim 9.
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