JP2016538556A - キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用プレート、キャピラリー装置、およびガスクロマトグラフ - Google Patents

キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用プレート、キャピラリー装置、およびガスクロマトグラフ Download PDF

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Abstract

本発明は、キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフィに関し、より具体的には、キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレート1、2、キャピラリー装置4、およびそのようなキャピラリー装置を備えているガスクロマトグラフに関する。上記プレート1、2の少なくとも1つの面10、20は、上記キャピラリーカラムの第1の部分を形成する溝12、22でエッチングされている。キャピラリー装置4は、互いに密接に積層された少なくとも2つのプレート1、2を備え、ガスクロマトグラフのキャピラリーカラムを形成している。上記溝は、固定相で覆われてもよい。そのようにして提供された上記キャピラリー装置は、実験室用ガスクロマトグラフに対して小型化の点で有利であり、実験室用ガスクロマトグラフにおける従来の寸法を有したキャピラリーカラムを有している。

Description

発明の詳細な説明
〔背景技術〕
本発明はキャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフィに関する。
本発明は、より具体的には、キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレート、キャピラリー装置、およびそのようなキャピラリー装置を備えているガスクロマトグラフに関する。
本項目に記載した方法は実行可能であるが、必ずしも事前に考案され、あるいは実行された方法ではない。したがって、本明細書においてそうでないと示されない限り、本項目に記載した方法は、本出願における請求項に対する先行技術ではなく、本項目に含まれることによって先行技術であると認められるものではない。さらに、全ての実施形態は、本項目で提示された全ての問題、またはいかなる問題でも解決することを必ずしも意図していない。
ガスクロマトグラフィは、混合物の合成物を分離する工程のことであり、この工程は、固定相と移動相との間で行われる。特に、複雑な炭化水素混合物の分析を目的としたキャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフィによる分析方法が存在するが、この分析方法は、実験室用ガスクロマトグラフで実施される。
実験室用ガスクロマトグラフは、複雑な炭化水素混合物、より具体的にはC1からC40以上の炭化水素混合物(油、石油、多環芳香族炭化水素(PAH)等)の分析を可能とするのに十分な長さおよび直径のキャピラリーカラムを有利に備えている。そのようなカラムの長さは約25〜100mである。しかし、従来の実験室用ガスクロマトグラフは重く、約50kgの重さがある。そのため、大容量(つまり、数立方デシメートルのオーダーの体積)である必要があるオーブンに挿入されるケースによって、キャピラリーカラムを支える必要がある。したがって、そのような実験室用ガスクロマトグラフは、非可動式であり、現場への設置が容易ではない。
したがって、好ましくは実験室用ガスクロマトグラフの性能に類似した性能を有している持ち運び可能なガスクロマトグラフが必要とされている。
〔発明の概要〕
第1の態様によると、本発明は、キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレートに関し、上記プレートにおける少なくとも1つの面が溝でエッチングされ、上記キャピラリーカラムの第1の部分を形成している。
そのようなプレートによって形成される基本部材により、キャピラリー装置は、実験室用ガスクロマトグラフに対して小型化の点で有利であり、実験室用ガスクロマトグラフにおける従来の寸法を有するキャピラリーカラムを有して形成されてもよい。
ある実施形態においては、複数の独立した溝が、上記プレートの上記同じ面にエッチングされ、各溝はキャピラリーカラムの第1の部分を形成している。
ある特徴によると、各溝は、厳密に1より大きい曲率を有している。
他の特徴によると、各溝の横断面は、100〜500μmの大きな内寸を有している。
他の特徴によると、上記プレートは、1〜10cmの大きな寸法を有している。
他の特徴によると、各溝は上記プレートを貫通する孔により延伸し、各孔は上記キャピラリーカラムの一部を形成している。
他の特徴によると、少なくとも各溝は固定相の膜で覆われている。この特徴の変形によると、上記固定相は、上記溝の内面に化学結合することができる。
前記特徴の変形によると、上記プレートは、上記固定相の少なくとも熱分解温度において熱安定性を有する材料で構成されている。
他の特徴によると、上記プレートは、ステンレスの熱膨張係数より低い熱膨張係数を有する材料で構成されている。
本発明の他の態様は、本発明の第1の態様に係る第1のプレートと、第2のプレートとを備えているキャピラリー装置に関しており、当該キャピラリー装置において、上記第1のプレートのエッチングされた面が、上記第2のプレートの面に接触し、上記第2のプレートの上記面の少なくとも一部が、各キャピラリーカラムの第2の部分を形成している。
したがって、キャピラリー装置は、実験室用ガスクロマトグラフに対して小型化の点で有利であり、実験室用ガスクロマトグラフにおける従来の寸法を有するキャピラリーカラムを有して提供される。
ある特徴によると、各キャピラリーカラムの少なくとも上記第2の部分は固定相の膜で覆われている。この特徴の変形によると、上記固定相は、上記溝の内面に化学結合することができる。
ある特徴によると、上記装置の上記第1のプレートおよび上記第2のプレートは、各キャピラリーカラムがキャリアガス(窒素、ヘリウム、または水素)で横断的に満たされるように密接に接合されている。
ある特徴によると、上記第1のプレートのエッチングされた面の少なくとも1つの溝は、少なくとも上記第1のプレートを貫通する孔により延伸し、上記孔は、上記第2のプレートの面上にエッチングされた溝と連結される。
前記特徴の変形によると、各孔の横断面は、100〜500μmの大きな内寸を有し、各孔の内面は固定相の膜で覆われている。この特徴の変形によると、上記固定相は、上記孔の上記内面に化学結合することができる。
本発明のさらに他の態様は、本発明の第2の態様に係るキャピラリー装置を備えるガスクロマトグラフに関する。
そのようなガスクロマトグラフは、キャピラリー装置の小型化の点で有利であり、持ち運び可能な点と、実験室用ガスクロマトグラフと同様の分析能力とを同時に有する。
本明細書に開示した、キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレート、キャピラリー装置、およびガスクロマトグラフの他の特徴および利点は、添付の図面を参照して、下記の非限定的な実施形態の説明から明らかになるであろう。
〔図面の簡単な説明〕
本発明は、添付の図面において、限定ではなく一例として例示されている。添付の図面において、同じ参照番号は、同様の要素を示している。
図1Aおよび1Bは、本発明の第1の態様の第1の実施形態に係るプレートの上面図である。
図1Cは、本発明の第1の態様の第1の実施形態の変形に係るプレートの上面図である。
図2Aおよび2Bは、本発明の第1の態様の他の実施形態に係るプレートの上面図である。
図3は、本発明の第2の態様の実施形態に係るキャピラリー装置の少なくとも一部の分解斜視図である。
図4は、本発明の第3の態様の実施形態に係るガスクロマトグラフの斜視図である。
図5は、図4に示されたガスクロマトグラフの斜視図であり、上記ガスクロマトグラフがオーブンに嵌め込まれている。
図6Aは、2つの接合されたプレート間に形成されたキャピラリーカラムの横断面を示している断面図である。
図6Bは、プレートを貫通して延伸する孔を基準とする、キャピラリーカラムの縦断面を示す断面図である。
〔好ましい実施形態の説明〕
図1Aおよび1Bは、本発明の第1の態様の実施形態に係るキャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレート1、2の上面図である。
各プレート1、2は、固定相(図6Aおよび6Bで参照番号5と示される)の結合を可能とし、温度変化の中で適当な反応を有する任意の材料から構成されてもよい。各プレートは、固定相を結合するのに有利な材料で構成されることが好ましく、固定相の結合支持体が、通常、ガスクロマトグラフィ分析中に起こる温度変化(例えば、40〜300℃以上)に影響されないことが好ましい。
通常、固定相は、不活性固体支持体上の微細な液体層またはポリマー層である。極性または無極性、結合または非結合の任意の従来の固定相を使用してもよい。例えば、シリコーン層またはフルオロシリコーン層を使用してもよい。
各プレート1、2は、より具体的には、パイレックス(Pyrex)(登録商標)等のガラスで構成されてもよく、あるいは、チタン、モリブデン、またはステンレス等の金属で構成されてもよく、あるいはシリコン等のメタロイドで構成されてもよい。
固定相を結合する前に表面を改変する(例えば、シリコンに関して、多孔質シリコンの酸化および形成)ことが有利である。
少なくとも3つの理由からガラスよりも金属が好まれ得る。
第一に、ほとんどの金属は、通常、ガスクロマトグラフィの分析中に起こる温度変化の中で、ガラスよりも有利な反応を有する。例えば、チタンは、急激な温度変化に対してガラスよりも影響を受けにくい。
第二に、ほとんどの金属は、特に、固定相の熱分解温度においてガラスよりもはるかに熱安定的である。固定相の熱分解はキャピラリーカラムの再資源化に利用されてもよい。したがって、金属プレートは、固定相の熱分解後、ガラスプレートよりも再資源化されることが多く、より一般的に再利用され得る。そのため、複数のガスクロマトグラフィ分析においてコストが有利に削減される。さらに、ガラスプレートと、固定相として使用されるシリカ層との間に共有結合が形成される傾向があり、ガラスプレートを傷つけることなく共有結合を壊すことは難しい。
第三に、チタン等のほとんどの金属は、ガラスと比べて、そのバルクにおいて、十分な温度均質性を達成することを可能とする。これはガスクロマトグラフィ分析の品質に寄与し得る。
金属プレートに関しては、低熱膨張係数を有する金属が好まれ得る。例えば、チタンの熱膨張係数は、ステンレスの熱膨張係数よりも低いため、チタンはステンレスより好まれ得る。チタンは温度変化に応じて体積が変化するが、チタンは熱膨張係数が低いため、ステンレスに比べて、少なくともガスクロマトグラフィ分析中、または固定相の熱分解中に、チタンがキャピラリーカラムの寸法、および/または形状に干渉する程度は小さい。
図2Bに示すように、各プレート1、2は、1〜10cmの大きな寸法11、21を有している。例えば、各プレート1、2の大きな寸法11、21は1.5cm、3cm、または5cmである。上記プレートはディスク型、長方形、正方形、三角形、または楕円形の形状であってもよい。好ましくは、プレート1、2の形状は、下記に説明するように、複数のプレートが互いに密接に積層されたとき、その境界において均質な力の分散がなされるように選択されてもよい。
図1A、1B、2A、および2Bに示すように、各プレート1、2は、少なくとも1つの溝12、22がエッチングされた少なくとも1つの面10、20を有している。各溝はプレートの表面にエッチングされた窪みである。
溝のエッチングは、プレートを構成する材料に作用するナノ秒からフェムト秒のレーザーを使用して行われてもよい。上記エッチングは、公知の機械的、または化学的エッチング技術によって行われてもよい。エッチングされたプレートの製造方法は、成型、および金属3Dプリンタを使用する金属3D(三次元)印刷も含んでもよい。
各溝12、22は、ガスクロマトグラフのキャピラリーカラムの少なくとも第1の部分を形成する。固定相の膜が、少なくとも各溝12、22上を覆うことが意図されてもよい。
各溝12、22の底部は、半円筒形であることが好ましい。代替実施形態においては、各溝の横断面はU字型曲線、またはV字型曲線であってもよい。
図6Aに示すように、各溝12、22の横断面は、100〜500μm、好ましくは250μmの大きな内寸121、221を有してもよい。例えば、溝12、22が半円筒形である場合、上記大きな内寸121、221は、上記半円筒の直径を示している。
各溝12、22は、厳密に1より大きい曲率を有していることが好ましい。したがって、直線状の溝は除外されることが好ましい。サイン関数の曲率(半周期の整数で割る)を、1.216と計算することが可能である。各溝の曲率は、上記サイン関数の曲率よりも大きいことが好ましく、10より大きいことがより好ましい。
例えば、各溝は、図1A、1B、および1Cに示すような螺旋、図2Aおよび2Bに示すような屈曲経路、あるいは任意の種類の直線ではない連続した経路を描いている。例えば、上記螺旋は、図1Aおよび1Bに示すようなアルキメデスの螺旋、図1Cに示すようなフェルマーの螺旋、あるいはそのような螺旋形状に近い任意の形状である。そのような溝は、当該溝にエッチングされるプレート1、2の面10、20の大部分を占有してもよい。
図1Cの連続線と破線とを含む溝による例に示すように、溝の2つの端部は互いに結合することなく、互いにできるだけ近接してもよい。より一般的には、溝の端部間の距離は0になりやすく、その結果、どのような溝の長さであっても、曲率が無限大に近づきやすくなり得る。この数学的な特異性に精通している当業者であれば、各溝の曲率に関する下方閾値を特定することによって保護される主な技術的特徴は、各プレートの面によって構成される限定的なエッチング表面において、可能な限り、および少なくとも任意の直線よりも長くなるように、各溝がエッチングされることが好ましいことを理解する。
各溝12、22の長さが長くなるにつれ、下記に説明する積層されたプレートの数が少なくなり、適当な長さを有するキャピラリーカラムが形成され得る。通常、キャピラリーカラムの適切な長さは20m〜150mであり、25m〜120mであることが好ましく、好ましい実施形態によると約100mである。各溝12、22は、20cm〜10mの長さを有してもよく、50cmより長いことがより好ましい。
図2Bに示すように、複数の独立した溝12、22が、各プレート1、2の上記の少なくとも1つの面10、20にエッチングされてもよい。より具体的には、図2Bに、3つの独立した溝が部分的に示されている。上記複数の各溝は、ガスクロマトグラフが対応する複数のキャピラリーカラムを備えるように、ガスクロマトグラフのキャピラリーカラムの第1の部分を形成する。有利には、そのようなガスクロマトグラフによって、複数のクロマトグラフの分析が同時に行われてもよい。上記2つの独立した溝は、同じ長さを有してもよく、少なくとも2つの独立した溝12、22は、アルキメデスの螺旋状の溝を有して同じ面10、20にエッチングされてもよいことに留意されたい。
図2Aに示すように、連続線および破線によって描かれる屈曲経路12、22は、少なくとも約180°回転に対して回転対称を有している。したがって、1種類のプレートのみを製造することで、有利には、下記に説明するようなキャピラリー装置を製造することができる。
1つのキャピラリー装置を形成するために接触して設置されるプレート1、2は、プレート1、2の同じ位置において、同じ型の溝12、22でエッチングされることが好ましいことに留意すべきである。さらに、各溝は、各プレート1、2の面10、20上に同心円状にエッチングされることが好ましい。
図1A、1B、2A、および2Bに示すように、各溝12、22は、プレート1、2を貫通する孔14、24から(より好ましくは1つの穴のみから)延伸する。各孔はキャピラリーカラムの一部であることが意図されている。より具体的には、各貫通孔14、24は、キャピラリーカラムの屈曲経路の種類を形成することが意図されてもよい。
図6Bに示すように、各孔14、24の内面は、固定相の膜で覆われてもよく、各孔の横断面は、100〜500μm、より好ましくは250μmの大きな内寸141、241を有してもよい。
各溝12、22は、2つの端部を有している。溝の少なくとも1つの端部は、プレート1、2の周辺部まで延伸し、当該周辺部にて上記プレートの外側に向かう溝の縦方向の開口部となるか、あるいはプレート1、2の上記周辺部に連結される前に止まってもよい。図1A、1B、および2Aに特に示されるように、溝1、2の両端部はプレート1、2の周辺部に連結される前に止まることが好ましい。
図6Bに示すように、プレート1、2を貫通する孔14、24は、各溝12、22の少なくとも1つの端部、好ましくは、各溝12、22の1つの端部の延長であってもよい。
図1Aと1Bとを比較することで示されるように、プレート1とプレート2との間の1つの構造的な違いは、プレート1の溝12は、当該溝によって描かれた螺旋と同心である、溝12の端部における孔14から延伸しており、プレート2の溝22は、当該溝によって描かれた螺旋に対して偏心している、溝22の端部における孔24から延伸していることであってもよい。
屈曲経路12、22が、連続線と破線とによって描かれている図2Aに示す場合においては、溝12、22の少なくとも1つの端部が、プレートを貫通する孔14、24から延伸する場合、約180°の回転に対して回転対称のままであることに留意すべきである。
この場合、各プレートの溝12、22が面10、20上で同心円状にエッチングされると仮定すると、下記に説明するようなキャピラリー装置の複数のプレートは、互いに正確に一致しており、それゆえ製造が単純になる。図1Cに示す場合にも同様のことが当てはまる(破線は考慮しない)。
図3は、本発明の第2の態様の実施形態に係るキャピラリー装置4の少なくとも一部の分解斜視図である。
キャピラリー装置4は、上述したように、第1のプレート1、2と、第2のプレートとを備えている。第1のプレート1、2のエッチングされた面10、20は、第2のプレートの面と接触することが意図されている。第2のプレートの上記面の少なくとも一部(例えば、第1のプレート1、2のエッチングされた面10、20の溝に向かい合う第2のプレートの面部分)は、各キャピラリーカラムの第2の部分を形成することが意図されている。各キャピラリーカラムの上記第2の部分は、図6Aおよび6Bに示すように、固定相5の膜で覆われてもよい。
上記第2のプレートは、上述したプレート1、2、またはエンドプレートのいずれかであってもよい。
上記エンドプレートはエッチングされた面を備えていなくてもよく、例えば、エッチングされていない、または厳密に平らな面を有する、単なる通常のプレートでもよい。上記エンドプレートは、プレート1、2の溝に向いた開口部を形成する貫通孔を備えてもよく、エンドプレートはプレート1、2と接触するようになっている。エンドプレートは、第1のプレート1、2以外の他のプレートと接触するようになっていなくてもよい。つまり、第1のプレート1、2と接触するようになっている面の反対側のエンドプレートの面は、他のプレートと接触するようになっていなくてもよい。
図3にはエンドプレートは特に示されていない。しかし、図3に示すように、積層される各プレート1、2の上面がエッチングされる場合、エンドプレートは、積層の最上のプレートを適当に構成してもよい。
第2のプレートが、プレート1、2であって、第1のプレート1、2の少なくとも1つの溝12、22が、少なくとも第1のプレート1、2を貫通する孔14、24から延伸する場合、上記孔14、24は、第2のプレート1、2の面10、20上でエッチングされた溝12、22と連結される。
図3に示す実施形態によると、各プレートが螺旋状の溝を有しており、交互のプレート1、2を積層することによって、どのようにしてキャピラリーカラムを備えるキャピラリー装置4を形成することが可能となるのかを示している。
例えば、図3において「IN」と記される矢印によって示されるように、積層の最下のプレートであるプレート2から開始する。キャピラリーカラムは上記プレート2の孔24から始まり、この孔24から上記最下のプレートの上面20上にエッチングされた溝22を通って、上記溝の同心端部に到達するまで延伸する。そして、キャピラリーカラムは、積層のその次に高いプレート1の孔14を介して延伸し、この孔14から上記その次に高いプレートの上面10上にエッチングされた溝12を通って、当該溝の偏心端部に到達するまで延伸する。そして、キャピラリーカラムは積層のその次に高いプレート2の孔24を介して延伸し、この孔24から積層の上記その次に高いプレートの上面20上にエッチングされた溝22を通って、当該溝の同心端部に到達するまで延伸する。そして、キャピラリーカラムは、その次に高いプレート1(図3に示す最上のプレート)の孔14を介して延伸し、この孔14から、上記その次に高いプレートの上面10上にエッチングされた溝12を通って、図3の「OUT」と記す矢印につながる上記溝の偏心端部に到達するまで延伸する。「OUT」の矢印に示すように積層を終える代わりに、その次に高いプレート2、そしてその次に高いプレート1等と積層を続けてもよい。
キャピラリー装置4の第1のプレート1、2および第2のプレートは密接に接合されている。より具体的には、積層の各プレートは、当該積層の接触している各プレートと密接に接合している。上記積層の連続するプレート間の接合は、接着剤、溶接によって行ってもよく、例えば、磁力、機械的締結(例えば、プレートの両側に形成された孔(図1A、1B、2A、2B、および3に示している)を介して積層にボルト(不図示)をわたらせ、対応するナット(不図示)に嵌める)を利用して行ってもよい。
積層の連続したプレートの間の接合は、各キャピラリーカラムがキャリアガスで横断的に満たされるようになることが好ましい。ガスクロマトグラフィにおいては、キャリアガスは移動相である。上記キャリアガスは、通常、ヘリウム等の不活性ガス、または窒素等の非反応性ガスであってもよい。各キャピラリーカラムが水素で横断的に満たされていてもよい。
このようにして得られたキャピラリー装置4は、積層プレートの溝の長さの加算とほぼ同じ長さのキャピラリーカラムを有している。
キャピラリーカラム4の製造方法の実施形態によると、積層プレートが接合されることによって、少なくとも1つのキャピラリーカラムが形成されると、上記少なくとも1つのキャピラリーカラムに固定相5が注入、または結合されて、上記プレートの内壁に堆積される。それゆえ、図6Aおよび6Bに示すように、固定相5は、各溝12、22(より具体的には、各溝の底面)、溝12、22の反対側の積層における連続したプレート1、2の各表面部、および各孔14、24の内面を連続的に覆っている。
有利には、キャピラリー装置4は、そのように小型化されるが(例えば、実験室用ガスクロマトグラフについての数dmではなく、数cmしか占有しない)、実験室用ガスクロマトグラフにおける従来の寸法を有したキャピラリーカラムを有している(例えば、長さ100m×i.d.(内径)0.25mm)。例えば、10メートルの長さのキャピラリーカラムは、1.5cm×1.5cm×1.5cmのキャピラリー装置4に設置可能であり、50メートルの長さのキャピラリーカラムは、2cm×2cm×2cmのキャピラリー装置4に設置可能であり、100mの長さのキャピラリーカラムは、3cm×3cm×3cmのキャピラリー装置4に設置可能である。これらの提示した例は立方キャピラリー装置4に対応するが、本明細書に記載したキャピラリー装置はこれに限定されない。キャピラリー装置4の2つの寸法は、プレート面の寸法に主に依存し、第3の寸法は積層中のプレートの数と、当該積層の各プレートの厚さに主に依存する。
図4に示されるように、ガスクロマトグラフ6を得るために、キャピラリー装置4が配置されてもよい。キャピラリー装置4は少なくとも、該キャピラリー装置4の右側面に描かれている注入装置と、該キャピラリー装置4の左側面に描かれている検出装置とを有する。注入装置は従来のものである。検出装置も従来のものであり、例として質量分析器を含んでもよい。圧力調節および電子制御は従来のものである。
このようなガスクロマトグラフ6は、キャピラリー装置4の小型化の点で有利であり、持ち運び可能な点と、実験室用ガスクロマトグラフと同様の分析能力とを同時に有する。
このため、(現場での、あるいは稼働中の)機側操作のみならず、研究室での複雑な炭化水素混合物(C1からC40以上)の分析に対して設計されたガスクロマトグラフ6が提供される。さらに、キャピラリー装置4の大きさ、ひいてはガスクロマトグラフ6の大きさは、底孔測定に適合するものであってもよい。さらには、ガスクロマトグラフ6は、汚染物の分析に適用されるため、自然環境用途や、芳香剤、医薬品等の分析に適用されるため、化学および製薬技術分野、あるいは、ドラッグの分析に適用されるため、ドラッグに対する戦い等のような、様々な技術分野に使用されてもよい。
さらに、このようなガスクロマトグラフ6は、低電力消費で使用することができ、クロマトグラフオーブンの使用を避けて使用することができる。
実際には、図5に示されるように、キャピラリー装置4を温めるために使用されるオーブンを形成するために、キャピラリー装置4の周囲に、例えば、ペルチェ効果を使用した、いくつかの熱電装置を有利に配置してもよい。例として、キャピラリー装置4が立方体の場合、6つの熱電装置が、キャピラリー装置4の6面それぞれに対して設置されていてもよい。図に示されたキャピラリー装置4の正面に設置されているべき、少なくとも一つの熱電装置は、キャピラリー装置4を示すため、図5においては図示されていないことに留意すべきである。
このため、ガスクロマトグラフ6およびオーブン8全体は、ドローン、飛行機、ヘリコプター、陸上輸送手段、船等での輸送および操作が可能な寸法と重量とを有している。
結果的に、ガスクロマトグラフ6およびオーブン8は、全体として、ATEX指令のような保全要求に、簡単に答えることができる。
「備える(comprise)」、「含む(include)」、「組み込む(incorporate)」、「包含する(contain)」、「である(is)」および「有している(have)」のような表現は、本明細書およびその請求項を理解する場合、非限定的な様式に解釈されるべきである。すなわち、明確に定義されず、存在が示されていない他の部材および構成要素を許容するものと解釈される。単数を示す用語は、複数を示す用語とも解釈され、逆もまた同様である。
当業者は、本発明の範囲から外れない範囲で、本明細書で開示される様々なパラメータを変形でき、その開示された様々な実施形態を組み合わせることができることを、容易に認識できるであろう。
例えば、プレートの厚さは変化してもよく、逆に一定でもよく、プレート1、2の厚さは、エッチングされた溝12、22の深さの2倍、あるいは3倍であってもよい。
積層の最下のプレートと最上のプレートとは、各々のプレートの組立の間の、構造に対する剛性の分散と、分析の間のそれらの温度上昇とのために、積層の他のプレートよりもより厚くてもよい。
他の例として、それぞれのプレートもしくはそれらのいくつかは、それらの2面に溝がエッチングされていてもよく、プレートの面にエッチングされた溝は、接触するプレートの面にエッチングされた溝と逆側になるように配置されていてもよい。このようにして、キャピラリーカラムは円形横断面を有してもよい。
本発明は、添付の図面において、限定ではなく例として例示されている。添付の図面において、同じ参照番号は、同様の要素を示している。
本発明の第1の態様の第1の実施形態に係るプレートの上面図である。 本発明の第1の態様の第1の実施形態に係るプレートの上面図である。 本発明の第1の態様の第1の実施形態の変形に係るプレートの上面図である。 本発明の第1の態様の他の実施形態に係るプレートの上面図である。 本発明の第1の態様の他の実施形態に係るプレートの上面図である。 本発明の第2の態様の実施形態に係るキャピラリー装置の少なくとも一部の分解斜視図である。 本発明の第3の態様の実施形態に係るガスクロマトグラフの斜視図である。 図4に示されたガスクロマトグラフの斜視図であり、上記ガスクロマトグラフがオーブンに嵌め込まれている。 2つの接合されたプレート間に形成されたキャピラリーカラムの横断面を示している断面図である。 プレートを貫通して延伸する孔を基準とする、キャピラリーカラムの縦断面を示す断面図である。

Claims (15)

  1. キャピラリーカラムを有するガスクロマトグラフ用のプレート(1、2)であって、上記プレートにおける少なくとも1つの面(10、20)が溝(12、22)でエッチングされ、上記キャピラリーカラムの第1の部分を形成していることを特徴とするプレート。
  2. 複数の独立した溝が、上記プレート(1、2)の上記同じ面(10、20)にエッチングされ、各溝は、キャピラリーカラムの第1の部分を形成していることを特徴とする、請求項1に記載のプレート。
  3. 各溝(12、22)は、厳密に1より大きい曲率を有していることを特徴とする、請求項1または2に記載のプレート。
  4. 各溝(12、22)の横断面は、100〜500μmの大きな内寸(121、122)を有していることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプレート。
  5. 上記プレート(1、2)は、1〜10cmの大きな寸法(11、21)を有していることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプレート。
  6. 各溝(12、22)は、上記プレート(1、2)を貫通する孔(14、24)により延伸し、各孔(14、24)が、上記キャピラリーカラムの一部を形成していることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプレート。
  7. 少なくとも各溝(12、22)は、固定相の膜で覆われていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプレート。
  8. 上記プレート(1、2)は、上記固定相の少なくとも熱分解温度において熱安定性を有する材料で構成されていることを特徴とする、請求項7に記載のプレート。
  9. 上記プレート(1、2)は、ステンレスの熱膨張係数より低い熱膨張係数を有する材料で構成されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のプレート。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の第1のプレート(1、2)と、第2のプレートとを備えるキャピラリー装置(4)であって、上記第1のプレート(1、2)のエッチングされた面(10、20)が、上記第2のプレートの面に接触し、上記第2のプレートの上記面の少なくとも一部が、各キャピラリーカラムの第2の部分を形成することを特徴とするキャピラリー装置。
  11. 各キャピラリーカラムの少なくとも上記第2の部分は、固定相の膜で覆われていることを特徴とする、請求項10に記載のキャピラリー装置。
  12. 上記装置の上記第1のプレート(1、2)および上記第2のプレートは、各キャピラリーカラムがキャリアガスで横断的に満たされるように密接に接合されることを特徴とする、請求項10または11に記載のキャピラリー装置。
  13. 上記第1のプレート(1、2)のエッチングされた面(10、20)の少なくとも1つの溝(12、22)は、少なくとも上記第1のプレート(1、2)を貫通する孔(14、24)により延伸し、上記孔(14、24)は、上記第2のプレート(1、2)の面(10、20)上にエッチングされた溝(12、22)と連結されることを特徴とする、請求項10〜12のいずれか1項に記載のキャピラリー装置。
  14. 各孔(14、24)の横断面は、100〜500μmの大きな内寸(141、241)を有し、各孔(14、24)の内面は、固定相の膜で覆われていることを特徴とする、請求項13に記載のキャピラリー装置。
  15. 請求項10〜14のいずれか1項に記載のキャピラリー装置(4)を備えるガスクロマトグラフ(6)。
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