JP2016523666A - エアパージ及びヒーターを備えた調理装置及びシステム - Google Patents

エアパージ及びヒーターを備えた調理装置及びシステム Download PDF

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Abstract

調理装置は、金属容器等に入れられ得る調理媒体を温めるために加熱区画を含む。ヒーターシステムは、未使用の調理媒体の容器の底部を加熱するために、ある位置に配置された少なくとも1つのヒーターを含む。ヒーターシステムは、未使用の調理媒体の容器の側部を加熱するためにある位置に配置された少なくとも1つのヒーターも含み得る。調理装置は少なくとも1つの供給容器と、流体動力装置と、様々な密閉調理媒体導体又はラインと、ラインをパージするために空気を導入する三方弁と、調理媒体受容システムとを含む。

Description

本発明は、一般に、ヒーターを有するとともに、エアパージ可能な調理装置及びシステムに関する。
調理媒体(cooking medium)を使用するフライヤー装置(例えば、オープンフライヤー及び圧力フライヤーを含む)で食品を調理する場合、調理媒体(例えば、油、液体ショートニング、融解性固形(meltable-solid)ショートニング及び半固形ショートニング)の品質が調理中の食品(例えば、鶏肉、魚及びジャガイモ等の食品)の品質に影響を及ぼすことがある。既知のフライヤー装置は、調理媒体が充填され得る1つ以上の調理室、例えばフライヤーポット又はタンク(vats)を含み得る。
食品の調理に調理媒体を用いると、食品の粒子で調理媒体が汚染され得る。これらの食品の粒子のそれぞれの味覚特性が調理媒体内に浸出し得る。この浸出によって食品の品質に悪影響が及ぼされ得る。さらに、調理媒体を加熱する際、調理媒体に化学反応、例えば加水分解、酸化、重合又はその組み合わせが起こり得る。これらの化学反応によって遊離脂肪酸、ヒドロペルキシド、重合トリグリセリド(polymerized triglycerides)又はその組み合わせが生じ得る。それに加えて、そのような反応によって調理媒体の粘度が低下することがあり、調理性能に悪影響を及ぼし得る。そのため、濾過プロセスがしばしば実施され、調理室からフィルター容器に調理媒体を排出して該媒体を濾過し、そして濾過した媒体が調理室に戻される。しばらく経つと、調理媒体を交換する必要がある。使用中の調理媒体は低粘度の液体から室温では実質的に固体までと幅がある。新しい調理媒体は、調理装置で用いるために容器、例えば金属容器又はプラスチック容器等に入れられている。それに加えて、調理媒体は局所的に凍るか又は硬化することによって調理装置のライン又はパイプ内で凝固する。
従って、未使用の調理媒体をより簡単に1つ以上の調理室に供給できるよう該調理媒体を加熱するために、調理装置内に位置するヒーター、及び調理ラインから調理媒体をパージする手段に対するニーズがあり、それらは関連技術の上記の欠点及び他の欠点を解消するものである。
本発明の一実施形態では、調理装置は、金属容器、プラスチック容器等に入れられ得る(packaged)調理媒体を温めるために加熱区画を含む。ヒーターシステムは、未使用の調理媒体の容器の底部を加熱するために、ある位置に配置された少なくとも1つのヒーターを含む。ヒーターシステムは、未使用の調理媒体の容器の側部を加熱するために、ある位置に配置された少なくとも1つのヒーターも含み得る。
本発明の一実施形態では、調理装置は少なくとも1つの供給容器と、流体動力装置(fluid motive device)(例えば、ポンプ等)と、少なくとも1つの三方弁と、様々な密閉調理媒体導体又はライン(enclosed cooking medium conductors or lines)と、調理媒体受容システムとを含む。
本発明の下記の詳細な説明及び添付の図面を参酌することで、本発明の他の目的、特徴及び利点が当業者に明らかとなる。
本発明の実施形態、それらによって満たされるニーズ並びに本発明の実施形態の目的、特徴及び利点の理解をより完全なものにするために、添付の図面に関連付けて以下の詳細な説明を参照する。
図1は、本発明の一実施形態に係る、調理装置を示す概略図である。 図2Aは、本発明の一実施形態に係る、三方弁の斜視図である。 図2Bは、本発明の一実施形態に係る、三方弁の斜視図である。 図3Aは、本発明の一実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの斜視図である。 図3Bは、本発明の一実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの上面図である。 図3Cは、本発明の一実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの正面図である。 図3Dは、本発明の一実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの側面図である。 図4Aは、本発明の別の実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの斜視図である。 図4Bは、本発明の別の実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの上面図である。 図4Cは、本発明の別の実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの正面図である。 図4Dは、本発明の別の実施形態に係る、調理媒体容器を保持するためのシェルフの側面図である。 図5Aは、本発明の一実施形態に係る、ヒーター組立体の分解図である。 図5Bは、本発明の一実施形態に係る、ヒーター組立体の背面図である。 図5Cは、本発明の一実施形態に係る、ヒーター組立体の側面図である。 図6Aは、本発明の一実施形態に係る、ヒーターの正面図である。 図6Bは、本発明の一実施形態に係る、ヒーターの斜視図である。 図7Aは、本発明の一実施形態に係る、第1のヒータープレートの正面図である。 図7Bは、本発明の一実施形態に係る、第1のヒータープレートの斜視図である。 図8Aは、本発明の別の実施形態に係る、第1のヒータープレートの正面図である。 図8Bは、本発明の別の実施形態に係る、第1のヒータープレートの斜視図である。 図9Aは、本発明の一実施形態に係る、第2のヒータープレートの斜視図である。 図9Bは、本発明の別の実施形態に係る、第2のヒータープレートの斜視図である。 図10Aは、本発明のさらなる実施形態に係る、ヒーターバーの上面図である。 図10Bは、本発明のさらなる実施形態に係る、ヒーターバーの斜視図である。 図11は、本発明の一実施形態に係る、調理装置内にヒーターシステムを有するシェルフの正面図である。
本発明の好ましい実施形態、それらの特徴及び利点は、図1〜図11を参照することによって理解できる。様々な図面において対応する部分には同様の参照符号を用いている。
図1は、本発明の一実施形態に係る、調理装置100の概略図を示す。調理装置100は、内部で調理媒体を保持するように構成された調理室110を含み得る。調理装置100は、互いに隣接して配置された複数の調理室、例えば、図1に示すように調理室110、112、114及び116を含み得る。調理室110〜116のそれぞれは、調理室110〜116のそれぞれの出口部に連結されたドレン弁111、113、115及び117をそれぞれ有し得る。ドレン弁111〜117のそれぞれは、調理室110〜116のそれぞれからドレン部120内に調理媒体を選択的に排出し得る。ドレン弁111〜117は、調理室110〜116のそれぞれからドレン部120内に調理媒体を自動的に排出するように構成され得る。ドレン部120は、調理媒体がフィルター付受け皿(filter pan)130に向かわせるように構成され得る。調理媒体は、出口を通ってドレン部120から出てフィルター付受け皿130に入り得る。フィルター付受け皿130に入った調理媒体は濾過プロセスを通じて濾過され得る。
上述の濾過は様々な濾過プロセスを含み得る。例えば、濾過は頻回な濾過(frequent filtering)若しくはメンテナンス濾過(maintenance filtering)等又はその組み合わせを含み得る。頻回な濾過は、調理媒体に対して日中又は他の時間に定期的に行われる複数ある濾過のうちの1つであり、屑(crumbs)、シルト、塊、脂肪かす(crackings)、調理媒体の劣化化合物(deterioration compounds)等の粒子を除去するために行われ得るものである。例えば、頻回な濾過は、調理室110からフィルター付受け皿130に調理媒体を排出することと、フィルター135を通して調理媒体を循環させること、及びポンプ140により調理媒体をフィルター付受け皿130から汲み上げて調理室110に戻すことを含み得る。頻回な濾過は、例えば調理媒体から、屑、シルト、塊、脂肪かす、調理媒体の劣化化合物等を取り除くこと(skimming)も含み得る。
メンテナンス濾過は、調理室110、フィルター付受け皿130又は調理装置の他の構成要素を洗浄するために毎日又は他の時間間隔(例えば、1日よりも多いか又は1日未満の間隔)で定期的に行われ得る。例えば、メンテナンス濾過は、調理室110をより徹底的に洗浄することを含み得る。より徹底的に洗浄することは、調理室の壁から粒子の付着物を擦り落とすこと、調理室の隙間及び空洞(crevices and cavities)から粒子をブラシで落とすこと、及び洗浄液(例えば洗剤、pHが僅かに高い洗浄液等)で調理室を浸すことを含み得る。粒子は、例えば屑、シルト、塊、脂肪かす、調理媒体の劣化化合物を含み得る。
上述したように、ポンプ140は、フィルター付受け皿135からフィルター135を通して調理媒体を汲み上げてフィルター付受け皿135からフィルターラインに送る。三方弁145はフィルターポンプ140と流体連通しており、調理媒体がフィルター付受け皿130から調理室110〜116に戻るようにする。戻された濾過後の調理媒体は切り替え弁170を通過し得る。切り替え弁170は調理室110〜116のうちの1つに選択的に調理媒体を向かわせるように構成され得る。それに加えて、圧力トランスデューサー180は切り替え弁170に流体連通し、調理装置100内の調理媒体の圧力を測定するように構成され得る。所定の時間又は所定数の濾過周期の後、調理媒体は交換が必要になり得る。
新しい調理媒体は調理媒体容器150に保管され得る。調理媒体容器150は三方弁160と流体連通し得る。それに加えて、三方弁160はシステム内に外気を導入するように構成され得る。図2A及び図2Bは、本発明の一実施形態に係る三方弁200の斜視図を示す。三方弁200は、三方弁145及び/又は三方弁160として使用され得る三方弁の一例である。使用時、調理媒体は調理装置の様々な調理ライン内で硬化するか又は凝固することがある。そのため、ラインから調理媒体を除去して、ライン内で調理媒体が硬化又は凝固するのを防止するためにラインのパージングが望ましいことがある。調理媒体容器150から調理媒体を汲み上げるのが望ましい場合、三方弁160はライン(例えば、パイプ、管等)を通じて調理媒体容器150をポンプ140に連結するとともに、ラインを通じて空気を送り込むのが望ましい場合に空気入口をポンプ140に連結し得る。従って、ラインから調理媒体をパージするためにラインを通じて空気が選択的に送り込まれ得る。
図1に図示するように、調理装置100は三方弁145を含み得る。三方弁145は、ポンプ140の入口を、調理室110〜116のうちの空にすべきいずれか1つに又は三方弁160に連結するように構成され得る。調理装置100は三方弁160をさらに含み得る。三方弁160は、三方弁145の非調理室入口を調理媒体容器150又は空気入口のいずれかに連結するように構成され得る。従って、容器を少なくとも部分的に充填した状態で維持すべき場合又は空にすべきでない場合であってもラインをパージできる。一実施形態では、一度に調理室110〜116のうちの1つのみがポンプ140と流体連通し得る。
作動中、ポンプ140は調理媒体を所定の時間送り込むように構成され得る。所定の時間の後、三方弁160を通じて空気が導入され、所定の時間送り込まれ得る。そして、連結された調理室内の調理媒体の水準が判定され得る。判定された調理室内の調理媒体の量又は水準を閾値と比較して調理媒体の水準が十分かどうか、即ち、調理媒体の量又は水準が閾値以上かどうか判定される。調理媒体の量又は水準が閾値よりも小さいと判定された場合、別の周期の調理媒体の送り込みが始まり、所定の時間行われ、その後に空気が所定の時間送り込まれ得る。従って、調理室110〜116のうちの連結されたもの内の調理媒体の量又は水準が所定の閾値よりも大きくなるまで調理媒体と空気とを交互に送り込むことが複数周期実行される。調理室110〜116内の調理媒体の量又は水準は、調理室110〜116内の調理媒体の量又は水準に関連するフィードバックとして信号を提供する例えば1又は複数のセンサを含む様々な方法で判定され得る。
調理室110内に送り込まれる新しい油は調理媒体容器150内で保管され得る。調理媒体容器150は調理装置100のシェルフ内に配置され得る。図3Aは、本発明の一実施形態に係る調理媒体容器(例えば、調理媒体容器150)を保持するためのシェルフ300の斜視図を示す。シェルフ300は内部で、例えばケース内で調理媒体容器150を保持するように構成され得る。調理媒体容器150は金属容器であり得る。調理媒体容器150内の調理媒体の一部又は全ては粘度が低下し得るか又は部分的に若しくは全体的に凝固し得る。そのため、調理媒体容器150に含まれる調理媒体を温めるためにシェルフ300内にヒーターシステムを設けることが有益であり得る。調理媒体容器150内で調理媒体を温めることにより、調理媒体を調理室110〜116の1つ以上により容易に供給できる。
シェルフ300は底壁340、後壁310、側壁320、330、前壁350、側端325、上端360及び上側端365を含み得る。開口370が上端360内に形成され、開口370は三方弁160を収容するように構成され得る。側壁320及び330は実質的に互いに平行であり得るとともに、底壁340、後壁310及び前壁350と実質的に垂直であり得る。図3Bはシェルフ300の上面図を示し、図3Cはシェルフ300の前面図を示す。図3Cに示すように、側端325は側壁320に実質的に垂直であり得る。シェルフ300の側面図を示す図3Dに示すように、上端360は実質的に後壁310及び上側端365に実質的に垂直であり得る。図3Dに図示するように、側壁320、330及び後壁310の間に空間が設けられ得る。
図4Aは、本発明の別の実施形態に係る調理媒体容器(例えば調理媒体容器150)を保持するためのシェルフ400の斜視図を示す。シェルフ400は底壁440、後壁410、2つの側壁420及び430、側端425、上端460及び上側端465を含み得る。上端460には開口470が形成され得る。開口470は三方弁160を収容するように構成され得る。側壁420及び430は実質的に互いに平行であるとともに、底壁440及び後壁410に実質的に垂直であり得る。図4Bはシェルフ400の上面図を図示し、図4Cはシェルフ400の前面図を示す。図4Cに示すように、側端425は側壁420に実質的に垂直であり得る。シェルフ400の側面図を示す図4Dに示すように、上端460は後壁410及び上側端465に実質的に垂直であり得る。
図5Aは、本発明の一実施形態に係る、ヒーター組立体500の分解図を示す。ヒーター組立体500は第1のヒータープレート510、ヒーター520(例えばシリコーンヒーター)及び第2のヒータープレート530を含み得る。第2のヒータープレート530は、その上に配置されるか又は第2のヒータープレート530と一体化された複数のスタッドを有し得る。ヒーター520及び第1のヒータープレート510のそれぞれには、複数のスタッドに対応する複数の孔が形成されている。ヒーター組立体500の側面図を示す図5Cに図示するように、組み立てられた場合、スタッドはヒーター520及びヒータープレート510に形成された対応する孔を貫通するように配置され、複数の固定ナット540等がスタッドを取り囲んで固定し、ヒーター組立体500が固定される。 図5Bはヒーター組立体500の背面図を示す。ヒーター組立体500はシェルフ300の底壁340及び後壁310に取り付けられ得る。使用時、調理媒体容器150は、底壁340に取り付けられたヒーター組立体500の第2のヒータープレート530上に直接配置され得る。代替的な実施形態では、調理媒体容器150と第2のヒータープレート530との間に1以上の介在層が配置され得る。ヒーター組立体500の記載した方向付け(orientation)では、底壁340が比較的低温で維持されつつも第1のヒータープレート510及び調理媒体容器150に隣接する第2のヒータープレート530を含むヒーター組立体500が高温に加熱されるように、シェルフ300の底壁340と第1のヒータープレート510との間に空隙が形成され得る。
図6Aは、本発明の一実施形態に係るヒーター520の前面図を示す。ヒーター520はシリコーン、シリコーンゴム等を含み得るとともに、ヒーター520の角部に隣接して連結されたリード線525を有し得る。ヒーター520は実質的に正方形であり得る。ヒーター520は矩形、円形、三角形、楕円形等の代替的な形状を有していてもよい。ヒーター520は湾曲した角部又は尖った角部を有し得る。ヒーター520には複数の孔が形成され得る。例えば、ヒーター520の各角部の近くに1つの孔が形成され、別の孔がヒーター520の実質的に中央に形成され得る。図6Bは、リード線525を有するヒーター520の斜視図を示す。ヒーター520は例えば200ワットヒーターであり得る。
図7Aは、本発明の一実施形態に係る第2のヒータープレート730の前面図を示す。第2のヒータープレート730に複数のスタッドが取り付けられ得る。例えば、スタッドは第2のヒータープレート730の各角部に隣接して取り付けられるとともに、第2のヒータープレート730の実質的中央に取り付けられ得る。ヒーター520は第2のヒータープレート730に取り付けられ得る。図7Bは第2のヒータープレート730の斜視図を示す。第2のヒータープレート730は、ヒーター520の後壁310/410とは反対側に配置され得る。第2のヒータープレート730はアルミニウムを含むとともに、ヒーター520と実質的に同じ形状を有し得る。
図8Aは本発明の一実施形態に係る第1のヒータープレート510の前面図である。第1のヒータープレート510には切り欠きが形成されており、ヒーター520のリード線525に実質的に対応する。複数の孔が第1のヒータープレート510に形成され得る。例えば、第1のヒータープレート510の各角部の近くに1つの孔が形成され、別の孔が第1のヒータープレート510の実質的に中央に形成され得る。図8Bは第1のヒータープレート510の斜視図を示す。第1のヒータープレート510はヒーター520のシェルフ300/400に最も近い側に配置され得る。第1のヒータープレート510はステンレススチールを含み、ヒーター520と実質的に同じ形状を有し得る。
図9Aは、本発明の一実施形態に係る第2のヒータープレート530の斜視図を示す。図9Aに示すように、複数のスタッド535が第2のヒータープレート530の面内に押し込まれている。あるいは、スタッド535は第2のヒータープレート530と一体形成され得る。スタッド535は様々な構成で配置され得る。例えば、1つのスタッドが第2のヒータープレート530の各角部の近くに配置され、別のスタッドが第2のヒータープレート530の実質的に中央に配置され得る。
図9Bは、本発明の別の実施形態に係る第2のヒータープレート930の斜視図を示す。第2のヒータープレート930は、第2のヒータープレート930に連結された複数のスタッド935を有し得る。あるいは、スタッド935は第2のヒータープレート930と一体形成され得る。スタッド935は第2のヒータープレート930上に所定のパターン又は配列で配置され得る。
図10Aは、本発明のさらなる実施形態に係るヒーターバー(heater bar)1020の上面図を示す。ヒーターバー1020はその一端に配置されたリード線1025を有し得る。ヒーターバー1020は、調理媒体容器150を加熱するためにシェルフ300/400の底壁340/440に配置され得る。複数のヒーターバー1020がシェルフ300/400の底壁340/440に配置され得る。複数のヒーターバー1020を底壁340/440上で入れ子状にしてもよい。ヒーターバー1020はU字状に湾曲し得る。代替的な実施形態では、ヒーターバー1020はL字状に湾曲され得るか、実質的に真っ直ぐであるか又は別の形に湾曲若しくは屈曲され得る。図10Bはリード線1025を有するヒーターバー1020の斜視図を示す。
図11は、本発明の一実施形態に係る、調理装置内にヒーターシステムを有するシェルフ300の前面図を示す。例えば、ヒーター組立体500が後壁310に取り付けられ、別のヒーター組立体500が底壁340に取り付けられ得る。従って、ヒーターシステムは側部と底部の双方から調理媒体容器150に熱を提供し得る。調理装置にシェルフ300を取り付けるのに側端325が用いられ得る。
作動中、各ヒーター組立体500は、調理装置が電源に差し込まれているか又は代替的な手段から電力が供給されている場合に常にオンにされ得る。あるいは、各ヒーター組立体500は調理装置がオンの場合又は調理装置に配置されたスイッチ若しくは調理装置の制御パネルがオンの場合にのみオンにされ得る。従って、調理媒体容器150が加熱され、それにより、調理装置が調理媒体の温度を調理温度に上昇させるのを始めるのと共に又は同時に調理媒体容器150により調理媒体が温められ得る。従って、調理媒体容器150内の調理媒体は調理室110〜116のうちの1つ以上により容易に供給できるように温められ得る。
好ましい実施形態との関連で本発明を説明してきたが、当業者であれば、本発明の範囲から逸脱することなく、上述した好ましい実施形態に他の変更及び改良が加えられ得ることが分かる。当業者であれば、本明細書の検討又は本願開示の発明を実施することから他の実施形態が明らかになる。本明細書及び説明した実施例は例示にすぎないとみなすべきであり、本発明の真の範囲及び精神は下記の請求の範囲によって示される。

Claims (18)

  1. 調理装置であって、
    調理媒体を供給するように構成された供給容器と、
    前記供給容器と流体連通する流体動力装置と、
    前記供給容器と前記流体動力装置との間に配置された密閉調理媒体ラインと
    前記密閉調理媒体ラインに連結されるとともに、前記密閉調理媒体ライン内に外気を導入するように構成された三方弁と、
    調理媒体を受容するように構成された調理媒体受容システムと、
    内部で前記供給容器を保持するように構成されるとともに、底壁及び側壁を含むシェルフと、
    前記シェルフの底壁に隣接する第1のヒーター及び前記シェルフの側壁に隣接する第2のヒーターと、
    を含み、
    前記ヒーターは前記供給容器内で保管される調理媒体を温めるように構成されている、調理装置。
  2. 前記シェルフは、前記シェルフの上部に形成された開口を含み、該開口は前記三方弁の少なくとも一部を収容するように構成されている、請求項1に記載の調理装置。
  3. 前記三方弁は、前記密閉調理媒体ラインから調理媒体をパージするために前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を選択的に導入するように構成されている、請求項1に記載の調理装置。
  4. 前記流体動力装置は、第1の所定の時間の間前記調理媒体受容システムに調理媒体を移動させるように構成され、前記三方弁は、第2の所定の時間の間前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を導入するように構成されている、請求項3に記載の調理装置。
  5. 前記調理媒体受容システムは、前記流体動力装置及び前記密閉調理媒体ラインを通じて前記供給容器と流体連通する複数の調理室を含む、請求項1に記載の調理装置。
  6. 各前記複数の調理室は、各前記複数の調理室内の調理媒体の量を判定するように構成されたセンサを含む、請求項5に記載の調理装置。
  7. 前記流体動力装置及び前記三方弁は、調理媒体の量が所定の量よりも小さいと前記センサが判定するのに応答して、第1の所定の時間の間前記調理媒体受容システムに調理媒体を移動させることと、第2の所定の時間の間前記密閉調理媒体ラインを通じて外気を導入することを交互に行うように構成されている、請求項6に記載の調理装置。
  8. 前記シェルフと前記第1のヒーターとの間に間隙が形成されている、請求項1に記載の調理装置。
  9. 前記供給容器は設置された状態では前記第1のヒーター及び前記第2のヒーターに隣接する、請求項1に記載の調理装置。
  10. 前記第1のヒーター及び前記第2のヒーターのそれぞれは、ヒータープレートと、該ヒータープレートに連結される加熱機構とを含む、請求項1に記載の調理装置。
  11. 前記第1のヒーター及び前記第2のヒーターのそれぞれはヒーターバーを含む、請求項1に記載の調理装置。
  12. 前記第1のヒーター及び前記第2のヒーターのそれぞれは、前記調理装置に電力が供給されている場合に作動される、請求項1に記載の調理装置。
  13. 調理装置を維持する方法であって、
    壁部と、該壁部に隣接するヒーターとを有するシェルフ上で保持された調理媒体容器内に保管された調理媒体を加熱するステップと、
    流体動力装置により、第1の所定の時間の間前記調理媒体容器から調理室に調理媒体を移動させるステップと、
    前記第1の所定の時間の後で、第2の所定の時間の間前記調理媒体容器と前記調理室との間に配置された密閉調理媒体ラインを通じて外気を導入するステップと、
    を含み、
    前記外気は、前記密閉調理媒体ラインから調理媒体をパージするために前記密閉調理媒体ラインを通じて弁により選択的に導入される、方法。
  14. 前記調理室内のセンサを用いて前記調理室内の調理媒体の量を判定するステップをさらに含み、
    調理媒体の量が所定の量以上であると前記センサが判定するまで、前記調理媒体を移動させるステップと前記外気を導入するステップが交互に行われる、請求項13に記載の方法。
  15. 前記調理装置に電力が供給されている場合に前記ヒーターを作動させるステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
  16. スイッチがオンにされたことに応答して前記ヒーターを作動させるステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
  17. 前記シェルフは底壁と側壁とを含み、前記ヒーターは前記シェルフの底壁に隣接する第1のヒーターと、前記シェルフの側壁に隣接する第2のヒーターとを含む、請求項13に記載の方法。
  18. 前記弁は、前記密閉調理媒体ラインに連結された三方弁を含む、請求項13に記載の方法。
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