JP2016521440A - パルス信号反転による電気化学的スケール除去 - Google Patents

パルス信号反転による電気化学的スケール除去 Download PDF

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Abstract

本発明は、加熱エレメントとカウンタ電極とを有するヒータにおいて液体を加熱する方法であって、(i)前記加熱エレメントを120乃至250°Cの範囲の温度に加熱することにより前記ヒータの中の液体を加熱するステップと、(ii)前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間にAC電位差を印加するステップとを有し、前記AC電位差は200乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、1乃至5Vの振幅を有し、前記液体は前記ヒータの中の前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間を流れる。

Description

本発明は、液体の、特に水の加熱方法、かかる方法を適用する(水)加熱装置、及びかかる(水)加熱装置を有する電子デバイスに関する。
水加熱デバイスは、スチームアイロン、電気ケトル、ホットドリンクベンディングマシンなどすべての種類のアプリケーションに適用される。かかるデバイスの問題は、水と接触している加熱エレメント上にスケール(scale)が付着することである。
例えば、水蒸気発生デバイスの動作中には、水が水設備の一部分に供給され、そこで(例えば、システムアイロンの(外部)ボイラー中で)加熱され、その結果としてスケールが付着する。スケールが(定期的に)取り除かれなければ、目詰まりが生じ、その結果水蒸気発生デバイスの性能が低下し、最終的に、水蒸気発生デバイスが使用に適さなくなってします。
大量のCa2+やHCO3−(重炭酸塩)を含む硬水は、温度が上昇すると、次の化学反応式によりスケール(CaCO)を形成する:
Ca(HCO→CaCO+HO+CO
特に、沸騰水では分かれてスケールする。スケールは水中で発生し、加熱エレメント自体の上にも、温度が最高なので、発生する。時間的に、加熱エレメント上のスケールは大きくなり、内部ストレスが大きくなると、エレメントから離れる(break loose)。スケール発生(scaling)を防止する水処理が文献に記載されている。周知の方法は、Ca2+をNa又はHと交換するイオン交換器の利用である。第2の周知の方法は、ホスホン酸塩の利用であり、少量のホスホン酸塩を水に加え、硬水におけるシード結晶の形成を阻止し、効果的に結晶の成長を防止し、それによりスケールの形成を防止する。
前者では、イオン交換レジンを中に入れたカートリッジを用いる必要がある。使用済み後、カートリッジは再生又は新しいものと交換する必要がある。後者の場合、継続的にホスホン酸塩を加える必要がある。ホスホン酸は硬水のpH7−8.5では安定性が限られているからである。継続的添加は、ホスホン酸塩を非常にゆっくり水に放出するハードプレスしたタブレットを用いて実施できる。先行技術のスチームアイロンではこうした働き方が用いられている。しかし、化学薬品が水に添加され、例えば、水が飲料で(も)ある場合には、これは欠点となり得る。
スケール形成を防止する物理的方法も提案されているが、これらの作用原理はあまり明らかではなく、場合によってはその有用性には疑問が残る場合もある。例えば、スケール防止のために配水管に(電)磁石を用いることは、よく理解できない、再現性のないスケール防止方法の一例である。
また、特許文献1、2はスケール発生を防止する方法を記載している。
国際出願公開第WO2012011026号 国際出願公開第WO2012011051号
よって、本発明の一態様では、水ヒータにおけるスケール付着(scaling)を防止又は減少させる代替的方法、及び/又は代替的水ヒータ装置であって、上記の欠点のうち一以上を、及び/又は先行技術の比較的複雑な構成又はソリューションを防止又は少なくとも部分的に取り除くものを提供する。特に、本発明の目的は、加熱機器中の(加熱可能壁又は浸水ヒータなどの)加熱エレメントにおけるスケールの形成を防止又は低減すること、及び/又はかかる加熱エレメントの石灰化表面を脱灰(decalcify)することである。
ここで、水などの(水性)液体による電気化学的スケール防止及び/又は除去を提案する。原理としては、DC電源に接続された2つの電極を水中に入れる。アノード(+電極)において酸化が起こる。カソード(−電極)において、還元が起こる。実際には、これはカソードにおいて水が還元されることを意味する:
2HO+O+4e→4OH
OHの形成により局所的にpHが上昇し、HCO3−をCO3−に変換する。CO3−はCa2+と反応して、炭酸カルシウムがカソード上に沈殿する。
アノードにおいて酸化が起こる。アノード材料が耐酸化性を有するとき、水が酸化され酸素と酸になる。酸が電極上に積層された炭酸カルシウムを分解し、加熱された(硬)水中で使われても、電極はきれいなままである:
2HO→O+4H+4e
アノードは、反応性であれば、酸化されることがある。例えば、金属アノードは、非常に安定な金属(Pt)、一定の遷移金属酸化物、又はカーボンアノードが使われない限り、分解する。石灰化した鉄は正電圧を印加することにより脱灰(decalcified)することができるが、その効果は、金属の腐食抵抗によりごく少量の電圧/電流が実現するだけなので、限定的である
要するに、このような単純なセットアップにより、水からスケール(scale)を取り除くことができ、それはスケールをカソード上に積層し、(耐酸化性の)アノードをきれいに保つことによる。欠点として、耐腐食性のアノード材料が必要であること以外に、カソードを定期的に掃除する必要がある。
分かったことによると、スケール(すなわち、炭酸カルシウム(「calc」)形成)の防止は、一方が加熱エレメントである2つの電極にAC信号を印加することによりできる。信号の継続的反転により、加熱エレメントは交互にアノード又はカソードになる。すなわち、加熱エレメントの表面において酸と塩基が交互に生成され、加熱エレメント上へのスケールの付着を有効に弱める。
AC信号の背後にある基本的アイデアは、金属イオンが電極から溶液中に移動するのを防止することにより、腐食が抑制されるということである。信号が正のとき、金属イオンは電極を離れ水中に行く傾向がある(腐食)。信号が十分速く逆転されれば、金属イオンは電極に引き戻される。逆転が十分速ければ、イオンは金属表面の境界レイヤから出られず、腐食が防止される。
高周波数信号の付加により、単一の低周波数AC信号の腐食を抑制できるが、欠点がある。第2のAC信号は有効であるためには一定の振幅を有している必要がある。それは、例えば、両方のAC信号の振幅が等しい場合、低周波数信号のピークのとき、振幅は第2の周波数により変調され、最低で0Vになるが、最大で2倍になることを意味する(下記参照)。振幅が2倍になることにより、腐食を防止できるだろう第2のAC信号があっても腐食する結果となり、これはピーク振幅が腐食閾値を超えるからである。
さらに、留意点として、この例では、低周波数信号のピークにおいては、このように腐食のリスクが最高になり、信号は0Vまでしか反転されない。実際には、これが意味することは、水加熱デバイスに対して適切な信号を調整してスケール形成及び腐食を防止することはむしろ手間がかかり、それは周波数だけでなく振幅(任意的なDCも含む)も正しく選択しなければならないからである。十分な振幅がスケール防止には必要であるが、ピークにおいて振幅は、電極において境界層が破壊され腐食が起こる一定の閾値と交差すべきではない。
驚くべきこととして分かったことであるが、ある特定条件下では、速いAC信号が適切な振幅及び適切な温度を有すれば、及び加熱すべき液体が2つの電極間を流れる構成では、先行技術の欠点を解消することが可能であり、スケール形成及び腐食を防止及び/又は低減することができる。しかし、上記の通り、周波数は低すぎても高すぎても望ましくない。
したがって、本発明の第1の態様では、加熱エレメントとカウンタ電極とを有するヒータにおいて液体を加熱する方法であって、(i)前記加熱エレメントを摂氏120ー乃至250ーの範囲の温度に加熱することにより前記ヒータの中の液体を加熱するステップと、(ii)前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間にAC電位差(V)を印加するステップとを有し、前記AC電位差は200Hz乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、特に1V乃至5Vの範囲の振幅を有し、特に、前記液体は前記ヒータの中の前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間を流れる。それゆえ、本発明が提供する方法は、液体を加熱しているとき、又はその後に、(及び(熱い)水性液体、特に水と接触している間に)加熱エレメントは変動する電位差にさらされ、この変動は比較的高周波数であり、200乃至2500Hzの範囲内である。特に、AC周波数は400−2200Hzの範囲内にあり、例えば600−2000Hzの範囲内にある。示されたAC周波数の外側での、すなわち周波数が低すぎる又は高すぎる場合、例えば200Hzより下又は2500Hzより上での動作は、スケール形成及び/又は酸化の点で悪い結果となるようである。よって、驚くべきことに、このソリューションを用いると、スケーリングを大幅に防止及び/又は除去でき、腐食を防止できる。電極に交流電流(AC)を供給すると、その電極に交互に酸と塩基が形成される。スケールは、加熱中に形成されている間、電極壁には実質的には付着しないが、電極表面において常に分解され再沈殿するからである。この方法はすでに石灰化した表面を脱灰するのにも用いることができる。
(加熱される又は加熱中の液体における)イオンのモビリティは温度に依存する。比較的ローパワーで動作している水加熱システムにおいては、モビリティは比較的低い。ヒータが、例えばエスプレッソコーヒーマシンの(フロースルー)ヒータ内などで、圧力下においてハイパワーで動作するとき、モビリティは比較的高い。動作温度が高ければ高いほど、腐食を防止するために電気信号はより対称的になる。ヒータが高温で動作されているとき、付加的DC信号は小さく又はゼロであってもよい。高温では、例えば、120°C以上では、(すなわち、液体と接触している加熱エレメントにおいて)信号は特に比較的対称的であり得る。
一般的に、信号は100%に近いデューティサイクルを有する。「デューティサイクル」との用語は本技術分野で知られており、特に、エンティティがアクティブ状態にいる時間の、考えている総時間の関数としてのパーセンテージに関する。例えば、AC電位が正弦波形状を有し、信号がこのサインに従うとき、デューティサイクルは100%である。しかし、25%の時間、信号がゼロであり、又は、例えば(信号が正弦波に従う場合に対して)逆の信号を有する場合、デューティサイクルは75%となるだろう。よって、特にAC電圧の印加は、パルスのデューティサイクルが例えば≧95%、例えば100%で行われる。よって、特にAC電圧のみが印加され、さらなる追加や微調整はされない。よって、印加されるAC電圧は(示した周波数を有する)単一成分に基づき、デューティサイクルは100%であり、DC成分<0.2V(例えば、0V)である。
さらに、実施形態では、特に有利なのは、AC周波数(f)が500−1500Hzの範囲にあるときである。このとき、AC電圧は正弦波特性を有し、電位差は1−5Vの範囲にあり、例えば少なくとも1.2Vであり、1.5−5Vであってよく、特に1.5−4Vであり得る。留意点として、本発明では、任意的に、すべてのカウンタ電極も加熱エレメントとして構成されてもよい。よって、一実施形態では、液体は2つの加熱エレメントの間を流れても良く、両方とも電極として用いられる。
さらに別の実施形態では、本方法は、加熱エレメントを120−250°Cの範囲、例えば140−200°Cの範囲の温度に加熱するステップを有しても良い。ここに説明する条件下では、これは水が約80−110°Cの範囲、特に約85−100°Cの範囲の温度に加熱されてもよいことを示唆する。加熱エレメントは、液体を(それの)沸点温度に近い温度まで加熱するために用いられ得る。さらに、液体は加圧下で、すなわち約1barより昇圧下で加熱されてもよい。よって、一実施形態では、加熱エレメントと接触している液体は、1−12barの範囲の圧力に、特に1−10barの範囲の圧力である(にされる)。幾つかの例では、圧力は7−12barの範囲にあってもよく、例えば、7−10barの範囲にあってもよい。この目的のため、ヒータ装置は、さらに、液体に圧力をかける、特に1barより大きく12bar以下の圧力、例えば>1barかつ≦10bar、例えば7−10barの範囲の圧力をかけるように構成されたデバイスを有しても良い。例えば、かかるデバイスは本技術分野の当業者に知られたポンプであってもよい。ある実施形態では、(熱い)液体は、沸点温度より0.25−20°C低い、例えば沸点温度より1−15°C低い範囲の温度を有する。よって、加熱エレメントの少なくとも一部は、少なくとも動作時間の一部の間は、かかる温度で液体と接触していることがある。よって、一実施形態では、本発明はまた方法に関し、沸点温度より0.25−20°C低い範囲の温度に、例えば、沸点温度より1−15°C低い範囲の温度に、加熱エレメントで液体が加熱される。
液体は加熱エレメントに沿って流れることができる。ここで、一実施形態では、本方法は、さらに、特に1.5−10ml/sのフロースピードで、特に2−2.5ml/s又は4.5−7ml/sの範囲で、加熱エレメントに沿って液体を流すステップを有する。具体的な一実施形態では、本方法は、さらに、特に1.5−10ml/sの範囲のフロースピードで、特に3−6ml/sの範囲で、例えば4−6ml/sで、加熱エレメントとカウンタ電極との間に液体を流すステップを有する。それゆえ、一実施形態では、ヒータは、加熱エレメントとカウンタ電極との間に液体を流すように構成されている。さらに別の具体的な一実施形態では、ヒータはフロースルーヒータを含み、加熱エレメントがカウンタ電極を囲んでいる。さらに別の具体的な一実施形態では、加熱エレメントとカウンタ電極とは、0.5−5mmの範囲の相互(最短)距離を有する。別の実施形態では、ヒータはフロースルーヒータ(flow through heater)を含み、カウンタ電極が加熱エレメントを囲んでいる。さらに別の実施形態では、加熱エレメントとカウンタ電極との両方が液体を加熱するように構成されている(カウンタ電極は第2の加熱エレメントを含む)。
特に有利なのは、正弦波形状又は三角形状又はブロック形状のAC信号の利用である。特に、正弦波形状のAC信号が興味深いかも知れない。よって、一実施形態では、AC電圧は正弦波形状を有する。
AC電圧の印加は、(水性)液体の加熱の前、中、又は後でもよい。好ましくは、AC電圧は(水性)液体の加熱中に印加される。「加熱エレメントとカウンタ電極との間にAC電圧を印加する」とのフレーズ及び同様のフレーズは、加熱エレメントとカウンタ電極とが両方とも(水性)液体と接触している実施形態に関する。よって、「加熱エレメントとカウンタ電極との間にAC電圧を印加する」とのフレーズは、加熱エレメントとカウンタ電極が(水性)液体と接触している間に、加熱エレメントとカウンタ電極との間にAC電圧を印加することを指す。「接触している」とのフレーズは、アイテムの少なくとも一部が接触している実施形態を含む。例えば、加熱エレメントの少なくとも一部、又はカウンタ電極の少なくとも一部が、それぞれ(水性)液体と接触していてもよい。特に、加熱エレメントは接地(グランド)されていてもよい。
ここで、液体は特に水である(しかし、ここに説明する方法及びヒータ装置でそれ以外の水性液体を加熱してもよい)。本方法は、硬水と軟水に用いられ、特に、水伝導率が好ましくは少なくとも100μS/cmの水に用いられる。
加熱エレメントは水に直接沈めることができ、又はヒータの壁(の一部)として構成できる。両方の場合において、ヒータエレメント(壁)は電極として機能し、カウンタ電極に電気的に接続される。加熱エレメント(の表面)はこのようにヒータ中の(水性)液体と接触している。これは、「加熱エレメントは(水性)液体と接触している」とのフレーズによっても示されている。留意点として、加熱エレメントとの用語は、(水性)液体と接触し、(ヒータを用いて(水性)液体を加熱するときに)ヒータから(水性)液体に熱を供給する部分(エレメント)を指す。加熱エレメント(又は、(水性)液体と接触している特にその表面(の一部))の上に、スケールが堆積(deposit)するのである。「加熱エレメント」との用語は、必ずしも、熱を発生する発熱デバイスを指さず、熱を(水性)液体に伝える部分/エレメントを指しても良い。一実施形態では、「加熱エレメント」との用語は、複数の加熱エレメントを指しても良い。
ここで(水性)液体を加熱する加熱エレメントは、好ましくは、液体を加熱する一以上のメタルパーツを有し、又は基本的に金属、例えばスチール壁又はスチール浸水ヒータからできている。よって、加熱エレメントはここではメタル加熱エレメントも指す。(水性)液体と接触している加熱エレメントのこのメタル上に、スケールが堆積することがある。好ましくは、(水性)液体を加熱する加熱エレメントは、ここでは、好ましくは、液体を加熱する一以上のスチールパーツを含み、又は基本的にスチール(steel)からできている。よって、加熱エレメント、又は水と接触している加熱エレメントの部分は、(他の材料も可能であるが)好ましくはスチールからできている。ある実施形態では、加熱エレメントはスチール加熱エレメントである。
「カウンタ電極」との用語は、一実施形態では、複数のカウンタ電極を指してもよい。例えば、一以上の信号を印加するとき、原則として異なるカウンタ電極に印加する。一実施形態では、印加される信号は離れたカウンタ電極に印加され、それゆえカウンタ電極は複数のカウンタ電極を含み、加熱エレメントと第1のカウンタ電極との間にAC電圧が印加され、加熱エレメントと別のカウンタ電極との間に第2のAC電圧が印加される。特に、2以上のAC信号が印加されるとき、任意的に各AC信号に対して異なるカウンタ電極を用いても良い。
カウンタ電極は、例えば、ステンレススチール、又は混合金属酸化物(MMO)、カーボンベース又はプラチナ電極であってもよい。ヒータの壁をカウンタ電極として用いる場合、好ましくは、カウンタ電極は金属であり、より好ましくはスチールである。
ここで「スチール(steel)」との用語は、特にステンレススチールを指す。どのグレードのステンレススチールでも使える。好ましくは、スチールはCrとNiを両方含み(例えば、グレード304)、少量のMoが付加されていても特に有利である(例えば、グレード316以上)。
「ヒータ(heater)」との用語を用いて、液体、例えば水を加熱するように構成されたデバイスを示す。ヒータは特に水ヒータに関する。「水ヒータ(water heater)」との用語を用いて、(水性)液体、例えば水を加熱するように構成されたデバイスを示す。「水ヒータ」(ここでは、縮めて「ヒータ」と言う)との用語は、例えば、((水性)液体の加熱に基づく)水蒸気発生チャンバを指すこともある。ヒータはフロースルーヒータタイプのものであってもよい。ヒータは、一実施形態では、例えば、ヒータ壁に接続された発熱デバイスを介して(水性)液体を加熱できる。ここで、((水性)液体と接触している)壁は((水性)液体を加熱する)加熱エレメントであってもよい。又は、一実施形態では、例えば、(加熱エレメントが(水性)液体と接触している)浸水タイプのヒータの場合など、(水性)液体例えば水の中のエレメントを介して加熱してもよい。異なるタイプの加熱エレメントを(同時に)用いても良い。「(水)ヒータ」との用語は、水蒸気を発生するように構成された(密閉式)ボイラーを指しても良いし、加熱水を生成するように構成された(密閉式)ボイラーを指しても良いし、フロースルーヒータ(flow through heater)又はスチーマーを指しても良い。具体的な実施形態では、(水性)液体を加熱するように構成されたヒータは、フロースルーヒータ(下記も参照)、フロースルースチーマー、水を加熱するヒータ、及び水蒸気を作るヒータよりなるグループから選択される。さらに、ヒータは加熱された水及び水蒸気を生成するように構成されていてもよい。また、加熱エレメント及び、例えば、水を運ぶチューブがアルミのブロックに組み込まれているヒータブロックが含まれても良い。
加熱は、室温より高い温度におけるいかなる加熱であってもよいが、特に50°Cより高くへの((水性)液体の)加熱、例えば、特にヒータ中の(水性)液体の少なくとも85°Cの温度への加熱を言う。加熱という用語は、昇温すること、沸騰させること、及び/又は水蒸気を発生させることを含んでも良い。
ヒータはどんなヒータでもよく、例えば、水蒸気を発生する水蒸気発生デバイスのヒータ(例えば、加圧水蒸気ジェネレータ(システムアイロンとして示されていることもある)に使われているようなもの)、(例えば、コーヒー、お茶、カプチーノ、ホットチョコレートなどの)高温液体ベンディングマシンなどで高温飲料水を提供する水ヒータ、電気ケトル、コーヒーメーカ(ドリップフィルタ)、エスプレッソマシン、パッドコーヒーマシン、ボイラー(家やアパートメント(家庭用ボイラー)、オフィスビルディング(産業用ボイラーなど)の内部暖房用)、洗濯機や食器洗い機で配置された水ヒータ、又は高温水ベースの雑草除去デバイス(又はスプレー)(雑草を除去する高温水を供給するように構成されたもの)であってもよい。
本発明は、本発明の方法を適用できる装置も提供する。それゆえ本発明は、一実施形態では、(水性)液体を加熱するように構成された(水)ヒータを有する(水)ヒータ装置を提供し、該(水)ヒータは、(水)ヒータ中の(水性)液体を加熱する加熱エレメントであって、(水性)液体と接触しているように構成された加熱エレメントと、加熱エレメントとカウンタ電極との間にAC電圧を供給するように構成された電源とを有する。よって、ヒータ装置はここに説明する方法を実行できる。
よって、本発明は、さらに、(水)ヒータ装置を提供する。該装置は、液体を加熱するように構成されたヒータを有し、該ヒータは、ヒータ中の液体を加熱する加熱エレメントと、カウンタ電極と、前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間に前記液体を流すように構成された流れユニットと、前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間にAC電位差を印加するように構成された電源とを有し、前記AC電位差は200Hz乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、1V乃至5Vの振幅を有する。
さらに別の一実施形態では、ヒータは加熱エレメントとカウンタ電極との間に液体を流すように構成され、ヒータはフロースルーヒータを含み、加熱エレメントはカウンタ電極を囲んでいる(上記も参照されたい)。フロースルーヒータは、なかんずく、国際出願公開第WO2006/067695号と国際出願公開第WO2010/055472号に記載されたものであり、これらの文献はここに参照援用する。
よって、別の態様では、本発明は、かかる加熱装置を有し、加熱された水及び/又は水蒸気を提供するように構成された電子デバイスを提供する。特に、電子デバイスは、一実施形態では、アイロン、加圧水蒸気ジェネレータ、非加圧水蒸気ジェネレータ(ガーメントスチーマーとも呼ばれる)、高温液体ベンディングマシン、電気ケトル、コーヒーメーカ(ドリップフィルタ)、エスプレッソマシン、パッドコーヒーマシン、洗濯機、食器洗い機、高温水ベースの雑草除去デバイス(スプレー)よりなるグループから選択されてもよい。高温液体ベンディングマシンは、例えば、コーヒーメーカ、エスプレッソマシン、パッドコーヒーマシン、ホットチョコレートマシン、ホットチョコレートパッドマシン、スープマシン、ホットティーマシン、かかる機能を2つ以上有するベンディングマシンなどであってもよい。よって、本発明はさらに、昇温された液体を含む飲料を提供する電子デバイスを提供する。該電子デバイスは、ここに確定したような(水)ヒータ装置を有し、その飲料のために加熱された水及び/又は水蒸気を生成するように構成されている。かかる飲料はコーヒー、お茶、エスプレッソ、ホットチョコレートであってもよい。一実施形態では、電子デバイス又はベンディングマシンは、任意的に、エスプレッソマキアート、エスプレッソコンパンナ、カフェラテ、フラットホワイト、カフェブレーベ、カプチーノ、カフェモカ、アメリカーノ、ラテマキアート、レッドアイ、カフェオレ、リストレット、エスプレッソドピオ、カフェクリーム、ペプレッソなどなどのうち一以上を作れるものであってもよい。
さらに別の態様では、本発明は、高温液体と接触した加熱エレメントとカウンタ電極の間のAC電位差の使用も提供する。ここで、AC電位差は、200−2500Hzの範囲のAC周波数(f)で変化し、1−5Vの範囲の振幅を有し、加熱エレメントのスケール付着(scaling)を防止又は低減できる。上記の通り、ここに確定するAC電圧は、好ましくは、加熱エレメントを有するヒータで(水性)液体の加熱中に印加される。これにより、加熱エレメント上のスケール付着の防止及び/又は低減において最大インパクトが得られる。
一実施形態では、本方法はさらに、(水性)液体の伝導率及び任意的にその他のパラメータの測定を含み、任意的にAC電圧、測定に応じた一以上のパラメータ、及び伝導率と(任意的なその他のパラメータと)AC電圧と任意的な一以上のその他のパラメータとの所定の関係の制御を含む。測定できる任意的なその他の一以上のパラメータは、例えば、(水性)液体の温度、(水性)液体のpH、(加熱エレメントとカウンタ電極との間を)流れている電流、2つの電極(すなわち加熱エレメントとカウンタ電極)を接続した時の電圧低下などよりなるグループから選択してもよい。特に、本方法は、前記電位差とAC周波数(f)とのうち一以上を、及び任意的にデューティサイクルを、(i)前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間の電流と、(ii)前記液体の導電率とのうち一以上の関数として制御するステップを有してもよい。特に、加熱エレメントとカウンタ電極との間の電流を測定する。電流及び/又は伝導率測定により、起こっている化学プロセスに関する情報が与えられる。
一般的に、(加熱エレメントとカウンタ電極との間の)電流密度は、0.1−10mA/cmの範囲にあり、特に0.1−5mA/cmの範囲にあり、例えばボイラーシステムでフラット加熱エレメント又はスパイラル形状加熱エレメントを用いるとき、0.2−0.6mA/cmであってもよく、またはフロースルーヒータの場合には0.2−5mA/cm2であってもよい。
電源はAC電圧を発生できるシステムであればどんなものでもよい。任意的に、ACの周波数とACのピークツーピーク電圧等のうち一以上は、可変かつ制御可能である。例えば、液体の導電率及び/又は液体の温度、又は流れている電流などのパラメータに関する一以上のパラメータを制御できる。電源との用語は、一実施形態では、複数の電源を指すこともある。原理的には、各電圧は異なる電源により発生され得る。
電圧(すなわち電位差)は、(水性)液体が昇温(elevated temperature)されている間に常に印加されることが好ましいが、一実施形態では定期的に印加してもよい。任意的に、電圧は(水性)液体の加熱の前後に印加される。しかし、もっともよい結果は、少なくとも(水性)液体の加熱中に電圧を印加したときに得られる。
特に、水の伝導率は100−50,000μS/cmの範囲にあり、水温は50°C−沸点温度の範囲にあり、特に85°C以上である。
「実質的に(substantially)」との用語は、例えば「substantially consists」のように用いたとき、本技術分野の当業者には明らかであろう。「実質的に」との用語は、「全体として(entirely)」、「完全に(completely)」、「すべての(all)」などの実施形態に含まれてもよい。よって、実施形態では、実質的にとの言葉は記載していないこともある。場合によって、「実質的に」との用語は、90%以上を指し、例えば95%を指し、99%以上を指し、さらに99.5%以上を指すこともあり、100%を含むこともあり得る。「有する(comprise)」との用語は、「有する」との用語が「consists of」を意味する実施形態も含む。
さらに、明細書及び特許請求の範囲において、第1の、第2の、第3のなどの文言は、同様のエレメントを区別するために用いられ、必ずしも生起や時間的順序を記述するものではない。言うまでもなく、これらの用語は適切な状況では交換可能に用いられ、ここに説明する発明の実施形態はここに説明又は例示するのとは別の順序で動作することができる。
ここで、デバイス又は装置は、なかんずく動作中の状態を説明する。本技術分野の当業者には言うまでもないが、本発明は、動作方法や動作中のデバイスに限定されるものではない。
もちろん、上記の実施形態は、本発明を例示するものであり、限定するものではなく、当業者は、添付したクレームの範囲を逸脱することなく、別の実施形態を多数設計することができる。クレームにおいて、括弧の間に入れた参照符号はクレームを限定するものと解釈してはならない。「有する」という動詞及びその変化形を用いたが、請求項に記載された要素または段階以外の要素の存在を排除するものではない。構成要素に付された「1つの」、「一」という前置詞は、その構成要素が複数あることを排除するものではない。「及び/又は(and/or)」との用語は特に「〜のうち一以上(one or more of)」を示す。本発明は、複数の異なる構成要素を有するハードウェア手段によって、または好適にプログラムされたコンピュータによって実施してもよい。複数の手段を挙げる装置クレームにおいて、これらの手段は、1つの同じハードウェアにより実施してもよい。相異なる従属クレームに手段が記載されているからといって、その手段を組み合わせて有利に使用することができないということではない。
本発明はさらに、明細書に記載した、及び/又は添付した図面に示した特徴的フィーチャのうち一以上を有する装置やデバイスに適用される。本発明はさらに、明細書に記載した、及び/又は添付した図面に示した特徴的フィーチャのうち一以上を有する方法やプロセスに関する。
本願で説明する様々な態様は、追加的な利点を提供するため、組み合わせることができる。さらに、フィーチャの一部は一以上の分割出願の基礎となり得る。
ここで、添付した図面を参照して、本発明の実施形態を例により説明する。対応する参照記号は対応するパーツを示す。
加熱エレメントが水につかっているか、加熱エレメントが(水)加熱器の壁である加熱装置の構成を示し、本発明の一態様を示す模式図である。 加熱エレメントが水につかっているか、加熱エレメントが(水)加熱器の壁である加熱装置の構成を示し、本発明の一態様を示す模式図である。 加熱エレメントが水につかっているか、加熱エレメントが(水)加熱器の壁である加熱装置の構成を示し、本発明の一態様を示す模式図である。 電気化学作用とAC電圧の一例を示す模式図である。 電気化学作用とAC電圧の一例を示す模式図である。 電気化学作用とAC電圧の一例を示す模式図である。
図1aは、(水性)液体20を加熱するように構成された(水)加熱器(「ヒータ」)100を有する(水)加熱装置(「ヒータ装置」)を示す模式図である。(水性)液体20は、特に水は、ヒータ100に入れられている。ヒータ100は、その中の(水性)液体20を加熱する金属加熱エレメント110を有する。ヒータ装置1は、さらに、電力源200を有する。これは加熱エレメント110とカウンタ電極120との間にAC電圧を供給するように構成されている。電圧の印加により、加熱エレメント110はスケール形成(scaling)が防止され、及び/又は形成されたスケールが取り除かれ得る。図1aは、フロースルーヒータ(flow through heater;FTH)の一実施形態を示す。ここで、ヒータ100は、(水性)液体20が加熱されながら中を流れるヒータである。図1aの実施形態では、発熱デバイス115がヒータ100の壁に接続され、ヒータ内のロッドはカウンタ電極120として用いられる。壁はそれを熱する発熱デバイス115に接続され、好ましくは(ステンレス)スチール製である。壁は(水性)液体(図示せず)と接触しており、加熱エレメント110として用いられる。カウンタ電極120は、図1bの上記説明に示した材料を含み得る。加熱エレメント(110)とカウンタ電極(120)とは、(相互に)距離(d2)を有し、これは例えば0.5−5mmの範囲にある。
任意的に、円周加熱エレメントとカウンタ電極は逆に配置されていてもよく、カウンタ電極が加熱エレメントを取り囲んでもよい(この実施形態は図示していない)。
図1bは、図1aに示したのと実質的に同じ実施形態を示すが、断面図である。エレメント115はヒータ100の壁を加熱する。それゆえ、その壁は加熱エレメント110として示されている。この壁すなわち加熱エレメント110とカウンタ電極120に、電源200で電圧を印加する。ここで、壁は加熱エレメント110として用いられ、好ましくは(ステンレス)スチールでできている。カウンタ電極120は、図1bの上記説明に示した材料を含み得る。
図1cは、電子デバイス20の例として、ベンディングマシンの一例を示す。参照記号300は飲み物を示す。
AC信号の背後にある基本的アイデアは、金属イオンが電極から溶液中に移動するのを防止することにより、腐食が抑制されるということである。信号が正のとき、金属イオンは電極を離れ水中に行く傾向がある(腐食)。信号が十分速く逆転されれば、金属イオンは電極に引き戻される。逆転が十分速ければ、イオンは金属表面の境界レイヤから出られず、腐食が防止される。図2aは、加熱エレメントとカウンタ電極などの2つの電極を模式的に示す。電極はELと示した。AC電圧が印加されたとき、表面電荷SCが形成される。これは、AC特性のため符号が連続的に変化する。電極の近傍では、電気二重層ができる。これはDLで示した。破線は、移動する流体と表面に残る流体とを分けるスリッピング面SPを示す。図2bは、参考としての一ソリューションを示し、これでは遅いACが速いACで変調されている。高周波数信号の付加により、単一の低周波数AC信号の腐食を抑制できるが、欠点がある。第2のAC信号は有効であるためには一定の振幅を有している必要がある。それは、例えば、両方のAC信号の振幅が等しい場合、低周波数信号のピークのとき、振幅は第2の周波数により変調され、最低で0Vになるが、最大で2倍になることを意味する(図2b)。(この例における)振幅が2倍になることにより、腐食を防止できるだろう第2のAC信号があっても腐食する結果となり、これはピーク振幅が腐食閾値を超えるからである。
図2cは、異なるAC信号を示す模式図であり、a)三角波を示し、b)サイン波を示し、c)方形波を示す。最も良い結果はサイン波で得られた。
ヒータ装置1は、さらに、(水の)液体の伝導率、(水性)液体の温度などのパラメータを検知するセンサ(図示せず)を有しても良い。さらに、ヒータ装置1は、ACの特性の一以上のフィーチャと、電位差の時間的符号変化を制御するコントローラを有しても良い。コントローラは、一以上のパラメータ、及びその一以上のパラメータと一以上のフィーチャとの間の一以上の所定の関係とに応じて、その一以上のフィーチャを制御できる。
≪実施例≫
<水の準備>
CaCl2.2HO(65.6gr/ltr),MgSO.7HO(38gr/ltr)、及びNaHCO(76.2gr/ltr)のストック溶液を作成した。50グラムの各ストック溶液を9リットルの脱イオン化した水に混ぜて、10リットルとして標準硬水を作成した。その結果得られた水は、総硬度が16.80DHであり、一時硬度が11.20DHであった。
総硬度は2.8x2x[mmol/ltrCammolMg/ltr]と定義されている。一時硬度は2.8x[mmolHCO /ltr]と定義されている。
第1の一連の実施例は比較例である。これらの実施例は、各AC信号により所望の結果が得られないこと、及びACポテンシャル差の調節により必ずしも所望の結果が得られないことを示す。
<腐食実験(低温)>
以下の実施例では、様々なパラメータの効果が示され、特に振幅が大きくされたときの電極の腐食について示している。典型的な実験では、半径2.5mm及び6mmの2つのステンレススチール電極(316グレード)を、標準硬水で満たしたビーカーに浸した。水を75°Cに加熱し、電極に電気信号を印加した。30分間電流を流し、電極を目視検査した。
<比較実験1>
3V、0.5Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。両電極において激しい腐食が発生した。
<比較実験2>
3V、0.5HzのAC信号が、80%デューティサイクル100Hzで信号を反転するパルスで変調され、前述の実験のように2つの電極に印加された。30分後、電極を目視検査した。小型(2.5mm)電極は薄く黄色みがかった色がついたが、6mm電極は色が付かなかった。
<比較実験3>
前述の実験のように、3V、0.5HzのAC信号が、100Hz、85%デューティサイクルで変調され、2つの電極に印加された。30分後、電極を目視検査した。小型(2.5mm)電極は薄く黄色みがかった色がついたが、6mm電極は少し変色した。85%デューティサイクルの着色は、実験2の80%デューティサイクルの着色と同等であった。
<比較実験4>
前述の実験のように、3V、0.5HzのAC信号が、100Hz、90%デューティサイクルで変調され、2つの電極に印加された。30分後、電極を目視検査した。小型(2.5mm)電極は腐食し、濃い黄色を示した。また、大きい方の6mm電極はきれいな黄色であった。
上記の実験は、明らかに、腐食を防止するためにある周波数で基本信号を反転する効果と、パルスのデューティサイクルの効果とを示す。
<比較実験5>
前述の実験のように、3V、0.5HzのAC信号が、(100Hzではなく)50Hz、80%デューティサイクルで変調され、2つの電極に印加された。30分後、電極を目視検査した。小型(2.5mm)電極は、6mm電極と同様に、少し黄色くなった。変色は100Hzパルスのときより強かった。
<比較実験6>
3V、0.5HzのAC信号が、100Hz、80%デューティサイクルで変調され、2つの電極に印加された。信号は100%反転されず、0Vまでであった。30分後、電極を目視検査した。小型(2.5mm)電極は激しく腐食したが、6mm電極は色が黄色くなっただけであった。
<比較実験7>
3V、0.1HzのAC信号が、振幅が正のときは100Hz、80%デューティサイクルで変調され、振幅が負のときは100Hz20%で変調された。(2.5mm電極は正端子に接続されていた)。2.5mm電極は黄色い変色を示したが、6mm電極はきれいであった。その上、6mm電極はスケール形成を示した。後者は、明らかに水が分解されたことを示す。デューティサイクルにより、6mm電極がスケール形成を増加する高pHに継続的にさらされたからである。
<フロースルーヒータのテストセットアップ>
ヒータは図1cと図1dに模式的に示されている。外側チューブの第1の加熱エレメント110は、ステンレススチールチューブであり、両側に発熱デバイス115がある。外側チューブは長さが15cmであり、内径が13mmである。これらは一緒になって1つの加熱エレメントを形成する。アルミニウムにより囲まれ、それと液体は、液体がチューブ内を流れるときに接触する。内側チューブもステンレススチールであってもよく、直径は図1cと図1dに模式的に示したより大きい:カウンタ電極120として、直径8mmのステンレススチールチューブが挿入されている。水は2つのステンレススチールチューブの間のエリアを、2.25ml/secの速さで通る;ヒータシステム中の圧力は6−10barであった。水加熱システムの外側チューブと内側チューブは両方とも電気的に接続されている。典型的なテストサイクルは、70秒間の加熱と50秒間の冷却を含む。このサイクルを500回繰り返した。
<比較実験8>
2つの電極に電気信号を印加することなく、2種類の水による石灰化をテストするため、前記(水)ヒータを用いた。両方の場合で、特に影が完全に石灰化し、密なスケールレイヤが形成され、壁に強く貼り付いた。
<腐食実験>
以下の実施例では、様々なパラメータの効果が示され、特に周波数と振幅が変更されたときの電極の腐食について示している。実験はフロースルーヒータで行った。ヒータはステンレススチールチューブ(316グレード)よりなり、内径は13mmであり、電極として機能した。2つの加熱エレメントはチューブの外側に接続されている。スチールチューブの内側に、第2のチューブ(304グレード)が取り付けられている。第2のチューブは外径が8mmであり、第2の電極として機能する。水は2つのチューブの間を流れる。典型的な実験は500サイクルよりなり、各サイクルは、150mlの標準硬水を摂氏100°に加熱し、電極に電気信号を印加することを含む。水は、加熱され、エスプレッソ条件に似た6乃至10barsの間の高圧で2.25ml/sで吐出(dispense)される。一回の実験はエスプレッソ1500杯に相当する。
<実験1>
振幅2.8V、周波数200Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。外側チューブに孔食が発生し、両電極に変色が発生した。
<実験2>
振幅2.8V、周波数1000Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。腐食は発生しなかった。炭酸カルシウムの積層もほぼ無かった。
<実験3>
振幅2.8V、周波数2000Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。腐食は発生せず、石灰化効果も観察されなかった。
周波数が低すぎると、金属イオンは電極を離れてから水に移動し、腐食が起きる。周波数が高すぎると、酸ができ炭酸カルシウムに作用する十分な時間がない。イオンのモビリティが高ければ、石灰化を防止するAC信号の印加だけでうまくいく点に注意しなくてはいけない。実験では、フロースルーヒータ壁の温度は摂氏140乃至180°である。
<実験4>
振幅1.6V、周波数1000Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。腐食は起こらず、石灰化効果も限定的である。
<実験5>
振幅3.2V、周波数1000Hzの正弦AC信号を2つの電極に印加した。孔食は発生しなかった。
実験4及び5を実験1と比較すると、振幅の重要性が明らかになる。小振幅により腐食が防止されるが、石灰化を有効に防止するのに足る酸の形成がされない。振幅が大きすぎると腐食が生じる。
方形波信号(block signal)を用いてさらに実験を行った:
<実験6>
振幅1.6V、周波数1000Hzの方形AC信号(block shaped AC signal)を2つの電極に印加した。腐食は発生せず、石灰化効果も限定的であった。
<実験7>
振幅2.0V、周波数1000Hzの方形AC信号を2つの電極に印加した。電極は両方とも着色を示した。
<実験8>
振幅2.8V、周波数1000Hzの方形AC信号を2つの電極に印加した。結果はそれほど良くなかった。

Claims (15)

  1. 加熱エレメントとカウンタ電極とを有するヒータにおいて液体を加熱する方法であって、
    (i)前記加熱エレメントを摂氏120乃至250°Cの範囲の温度に加熱することにより前記ヒータの中の液体を加熱するステップと、
    (ii)前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間にAC電位差を印加するステップとを有し、
    前記AC電位差は200乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、1乃至5Vの振幅を有し、前記液体は前記ヒータの中の前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間を流れる、方法。
  2. 前記AC周波数は500乃至1500Hzの範囲にあり、前記AC電圧は正弦波特性を有し、前記電位差は1.5乃至4Vの範囲にある、請求項1に記載の方法。
  3. 前記加熱エレメントを120乃至250°Cの範囲の温度に加熱するステップを有する、請求項1又は2に記載の方法。
  4. 前記液体を、1.5乃至10ml/sの範囲の流速で前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間を流すステップを有する、請求項1乃至3いずれか一項に記載の方法。
  5. 前記ヒータはフロースルーヒータを有し、前記加熱エレメントは前記カウンタ電極を囲んでいる、請求項1乃至4いずれか一項に記載の方法。
  6. 前記加熱エレメントと前記カウンタ電極とは、0.5−5mmの範囲の相互距離を有する、請求項1乃至5いずれか一項に記載の方法。
  7. 前記加熱エレメントと接触する液体は7乃至12barの範囲の圧力である、
    請求項1乃至6いずれか一項に記載の方法。
  8. 前記電位差とAC周波数とのうち一以上を、(i)前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間の電流と、(ii)前記液体の導電率とのうち一以上の関数として制御するステップを有する、請求項1乃至7いずれか一項に記載の方法。
  9. 液体を加熱するように構成され、ヒータ内の液体を加熱する加熱エレメントと、カウンタ電極とを有するヒータと、
    前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間に前記液体を流すように構成された流れユニットと、
    前記加熱エレメントと前記カウンタ電極との間にAC電位差を印加するように構成された電源とを有し、
    前記AC電位差は200乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、1V乃至5Vの振幅を有する、ヒータ装置。
  10. 前記ヒータはフロースルーヒータを有し、前記加熱エレメントは前記カウンタ電極を囲んでいる、請求項9に記載のヒータ装置。
  11. 前記加熱エレメントと前記カウンタ電極とは、0.5−5mmの範囲の相互距離を有する、請求項9ないし10いずれか一項に記載のヒータ装置。
  12. 昇温された液体を含む飲料を供給する電子デバイスであって、
    請求項9ないし11いずれか一項に記載のヒータ装置を有し、
    前記電子デバイスは前記飲料用の加熱された水及び/又は水蒸気を作るように構成されている、
    電子デバイス。
  13. 前記電子デバイスはベンディングマシンである、請求項12に記載の電子デバイス。
  14. 熱い液体と接触している加熱エレメント及びカウンタ電極の間のAC電位差の使用であって、
    前記AC電位差は200乃至2500Hzの範囲内のAC周波数で変化し、1V乃至5Vの振幅を有し、前記加熱エレメントのスケール付着を防止又は低減する、
    使用。
  15. 前記熱い液体は沸点より0.25乃至20°C低い範囲の温度である、
    請求項14に記載の使用。
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ES (1) ES2737422T3 (ja)
PL (1) PL3063477T3 (ja)
RU (1) RU2656806C2 (ja)
WO (1) WO2014162231A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6363695B2 (ja) * 2013-04-02 2018-07-25 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. パルス信号反転による電気化学スケール除去
CN105865034B (zh) * 2015-01-19 2020-03-20 青岛海尔智能技术研发有限公司 热水器及其控制方法
CN105865035B (zh) * 2015-01-19 2020-02-14 青岛海尔智能技术研发有限公司 热水器及其控制方法
CN105865017B (zh) * 2015-01-19 2020-10-20 青岛海尔智能技术研发有限公司 热水器
US10425991B2 (en) * 2016-08-12 2019-09-24 Ken Gen Energy, Llc Pulse energy generator system

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0493313A1 (de) * 1990-11-26 1992-07-01 Aquasal Kalkschutzanlagen Ag Elektronische Kalkschutzvorrichtung
JPH05111690A (ja) * 1991-08-29 1993-05-07 Hideo Hayakawa 水処理方法
JPH05309393A (ja) * 1992-05-08 1993-11-22 Gastar Corp 電極式水処理装置
JPH0737098U (ja) * 1993-12-22 1995-07-11 株式会社ガスター スケール障害防止装置付スチームアイロン
JP2002336861A (ja) * 2001-05-21 2002-11-26 Tousui:Kk 電極式スケール成分の析出抑制装置
WO2012011051A1 (en) * 2010-07-22 2012-01-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Prevention or reduction of scaling on a heater element of a water heater
WO2012069958A1 (en) * 2010-11-26 2012-05-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for making a beverage, adapted to accurately setting a dispense temperature of the beverage

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5677989A (en) 1993-04-30 1997-10-14 Lucent Technologies Inc. Speaker verification system and process
IL121527A0 (en) * 1997-08-12 1998-02-08 U E T Ltd Heating systems based on alternating-current electrodes
US8428449B2 (en) 2004-12-20 2013-04-23 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of operating a flow-through heating
US8187444B2 (en) * 2007-08-10 2012-05-29 Eric John Kruger Fluid treatment device
DE202009015187U1 (de) 2008-11-14 2010-06-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Einsatzteil für einen Durchlauferhitzer
EP2226583A1 (en) * 2009-03-02 2010-09-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Electrical water heating system
JP5868973B2 (ja) * 2010-07-22 2016-02-24 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 温水器の加熱素子上の湯垢の防止又は低減
US20140138247A1 (en) * 2012-11-21 2014-05-22 Ove T. Aanensen Apparatus and method for water treatment mainly by substitution using a dynamic electric field
JP6363695B2 (ja) * 2013-04-02 2018-07-25 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. パルス信号反転による電気化学スケール除去

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0493313A1 (de) * 1990-11-26 1992-07-01 Aquasal Kalkschutzanlagen Ag Elektronische Kalkschutzvorrichtung
JPH05111690A (ja) * 1991-08-29 1993-05-07 Hideo Hayakawa 水処理方法
JPH05309393A (ja) * 1992-05-08 1993-11-22 Gastar Corp 電極式水処理装置
JPH0737098U (ja) * 1993-12-22 1995-07-11 株式会社ガスター スケール障害防止装置付スチームアイロン
JP2002336861A (ja) * 2001-05-21 2002-11-26 Tousui:Kk 電極式スケール成分の析出抑制装置
WO2012011051A1 (en) * 2010-07-22 2012-01-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Prevention or reduction of scaling on a heater element of a water heater
JP2013535645A (ja) * 2010-07-22 2013-09-12 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 温水器の加熱素子上の湯垢の防止又は低減
WO2012069958A1 (en) * 2010-11-26 2012-05-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Device for making a beverage, adapted to accurately setting a dispense temperature of the beverage
JP2013543783A (ja) * 2010-11-26 2013-12-09 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 飲料の供給温度を正確に設定するように適合された飲料を製造するための装置

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