JP2016517546A - レーザビーム位置決めシステムのためのフェーズドアレイステアリング - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (30)
- 位置コマンドに応答してワークピース上のターゲット位置に向けてレーザビームを案内するための装置であって、
前記位置コマンドの低周波数部分に応答して、前記ワークピース及び前記レーザビームのうち少なくとも一方を互いに方向付ける低帯域幅ポジショナステージと、
前記位置コマンドの中間周波数部分に応答して、前記ワークピース及び前記レーザビームのうち少なくとも一方を互いに方向付ける中間帯域幅ポジショナステージと、
前記位置コマンドの高周波数部分に応答して前記ワークピースに対して前記レーザビームをフェーズドアレイステアリングするように構成された位相変調器アレイを含む高帯域幅ポジショナステージと、
を備える装置。 - 前記中間帯域幅ポジショナステージは、第1の中間帯域幅ポジショナステージを備え、さらに第2の中間帯域幅ポジショナステージを備える、請求項1の装置。
- 前記低帯域幅位置ステージは可動ステージを備え、前記第1の中間帯域幅ポジショナステージはガルバノメータを利用したポジショナを備え、前記第2の中間帯域幅ポジショナステージはゼロ慣性光学偏向器を備える、請求項2の装置。
- 前記中間帯域幅ポジショナステージは、ガルバノメータを利用したポジショナ、音響光学偏向器、電気光学偏向器、又は他のゼロ慣性光学偏向器、ファーストステアリングミラー、又はこれらの組み合わせからなる群から選択される要素を備える、請求項1の装置。
- 前記高帯域幅ポジショナステージはファイバ結合システムである、請求項1の装置。
- 前記高帯域幅ポジショナステージは、マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器を含む、請求項1の装置。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、少なくとも7つのコアを含む、請求項6の装置。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、一時結合された増幅器コアを含む、請求項6の装置。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、前記レーザビームを増幅するのに応答してパッシブ位相ロックされるように構成された増幅器コアを含む、請求項6の装置。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、前記レーザビームを増幅することに応答してアクティブ位相ロックされるように構成された増幅器コアを含む、請求項6の装置。
- 前記高帯域幅ポジショナステージは、一時結合されていない増幅器コアを含むマルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器を含む、請求項1の装置。
- 前記高帯域幅ポジショナステージは、前記レーザビームの中央ローブエネルギー変化を生じるように構成されており、
前記中央ローブエネルギー変化を補償するように構成されたシードレーザ源をさらに備える
請求項1の装置。 - 前記シードレーザ源は、前記シードレーザ源の動作を前記位相変調器アレイの動作と同期させる情報を受信することにより前記ターゲット位置に基づいて前記中央ローブエネルギー変化を補償するように構成されている、請求項12の装置。
- 前記レーザビームは、パルス幅持続時間を有するパルスを含み、前記位相変調器アレイは、前記パルスの異なる部分を前記ターゲット位置内で異なる位置にステアリングするように、前記パルス幅持続時間の期間内に前記パルスをフェーズドアレイステアリングするように構成されている、請求項1の装置。
- 前記パルス幅は1ナノ秒以上である、請求項14の装置。
- 前記位相変調器アレイは、前記ワークピースの表面に対して2つの寸法で同時に前記パルスをフェーズドアレイステアリングするように構成されている、請求項14の装置。
- 位置コマンドに応答してワークピース上のターゲット位置を加工するためのレーザビームを案内するための方法であって、
前記位置コマンドの低周波数部分に応答して、前記ワークピース及び前記レーザビームのうち少なくとも一方を互いに方向付け、
前記位置コマンドの中間周波数部分に応答して、前記ワークピース及び前記レーザビームのうち少なくとも一方を互いに方向付け、
位相変調器アレイを用いて、前記位置コマンドの高周波数部分に応答して前記ワークピースに対して前記レーザビームをフェーズドアレイステアリングする、
方法。 - 前記加工は、穿孔、微細加工、ディザリング、螺旋穿孔、トレパン穿孔、及び孔の丸みの補正の少なくとも1つを含む、請求項17の方法。
- 前記ワークピースは電子回路を含み、前記加工は前記電子回路上の回路要素を微調整することを含む、請求項17の方法。
- 前記ワークピースは電子回路基板を含み、前記加工は前記電子回路基板に孔を形成することを含む、請求項17の方法。
- ワークピース特徴部の加工中にレーザビームを案内するレーザビーム位置決め及び光学構成要素に対する動的及び熱的不可に起因するワークピース特徴部の加工の不正確さと品質の低下を最小限にしつつ、密集パターンで配置されたワークピース特徴部の高スループットレーザ加工を達成する方法であって、
加工表面領域を規定する加工表面を有するワークピースをサポート上に位置決めし、
レーザビームをビーム位置決めシステムに案内して前記ワークピースの前記加工表面上の特徴部位置に入射するように加工レーザビームを供給し、前記ビーム位置決めシステムは、可動ステージと、ワークピース特徴部を前記ワークピースの前記加工表面上の前記特徴部位置で加工するように前記可動ステージと連係する第1及び第2のビームポジショナとを含み、
前記第1のビームポジショナは、第1の応答時間を有し、前記加工表面のスキャン領域範囲内で前記加工レーザビームを位置決め可能であり、前記第2のビームポジショナは、第2の応答時間を有し、前記加工表面のスキャン領域範囲内の位置に前記加工ビームをフェーズドアレイステアリングすることができる位相変調器アレイを含み、前記第2の応答時間は前記第1の応答時間よりも短く、
前記可動ステージ、前記第1のビームポジショナ、及び前記第2のビームポジショナの動作を連係させて前記加工レーザビームを前記スキャン領域範囲内で位置決めし、前記スキャン領域範囲を移動して前記加工表面をカバーする、
方法。 - 前記ワークピースはシリコンウェハである、請求項21の方法。
- 前記第1のビームポジショナは、ミラーを利用したビームポジショナを含む、請求項21の方法。
- 前記ビーム位置決めシステムは、ゼロ慣性光学偏向器を含む第3のビームポジショナを含む、請求項21の方法。
- 前記第2のビームポジショナは、マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器を含む、請求項21の方法。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、パッシブ位相ロック増幅器コアを含む、請求項25の方法。
- 前記マルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッド増幅器は、少なくとも7つの一時結合コアを含む、請求項25の方法。
- さらに、前記第2のビームポジショナを用いて、前記第1のビームポジショナに伝搬される、ステアリングされた入力レーザビームを生成することによって前記加工ビームをフェーズドアレイステアリングする、請求項21の方法。
- 前記第2のビームポジショナは、シードレーザと、前記シードレーザを制御して前記位相変調器アレイのビー偏向に基づいて前記ステアリングされた入力レーザビームを増幅するパルス振幅コントローラとを含む、請求項28の方法。
- 前記第2のビームポジショナは、前記位相変調器アレイからビームレットを受け入れこれらをマルチコアフォトニック結晶ファイバ又はロッドに伝搬する3次元導波路を含むファイバ結合光学系である、請求項21の方法。
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