JP2016517028A5 - - Google Patents
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- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201361781280P | 2013-03-14 | 2013-03-14 | |
| DE102013204427.5 | 2013-03-14 | ||
| US61/781,280 | 2013-03-14 | ||
| DE102013204427.5A DE102013204427A1 (de) | 2013-03-14 | 2013-03-14 | Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| PCT/EP2014/054487 WO2014139896A2 (en) | 2013-03-14 | 2014-03-07 | Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016517028A JP2016517028A (ja) | 2016-06-09 |
| JP2016517028A5 true JP2016517028A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2017-04-13 |
| JP6483626B2 JP6483626B2 (ja) | 2019-03-13 |
Family
ID=51418762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015562046A Active JP6483626B2 (ja) | 2013-03-14 | 2014-03-07 | 特にマイクロリソグラフィー投影露光装置内のミラーの熱作動用装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9798254B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| JP (1) | JP6483626B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| KR (1) | KR102211633B1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| CN (1) | CN105190443B (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| DE (1) | DE102013204427A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| WO (1) | WO2014139896A2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013219808A1 (de) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung |
| DE102014223750A1 (de) * | 2014-11-20 | 2016-05-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator |
| CN106324792B (zh) * | 2015-06-19 | 2020-11-03 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种适用高功率激光使用的相变冷却反射镜 |
| DE102015225509A1 (de) | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element |
| CN106125298A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-11-16 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 非接触式空间光学遥感器反射镜面形控制系统 |
| SG11201908803XA (en) | 2017-04-11 | 2019-10-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and cooling method |
| CN107390346A (zh) * | 2017-09-19 | 2017-11-24 | 北京仿真中心 | 一种低辐射红外场镜装置 |
| DE102019219231A1 (de) | 2019-12-10 | 2020-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie |
| DE102019219289A1 (de) | 2019-12-11 | 2021-06-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System |
| DE102020201724A1 (de) * | 2020-02-12 | 2021-08-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system und lithographieanlage |
| CN116324621A (zh) * | 2020-08-07 | 2023-06-23 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 光学系统与操作光学系统的方法 |
| EP4002009A1 (en) * | 2020-11-11 | 2022-05-25 | ASML Netherlands B.V. | A method and apparatus for thermally deforming an optical surface of an optical element |
| EP4244676A1 (en) * | 2020-11-11 | 2023-09-20 | ASML Netherlands B.V. | A method and apparatus for thermally deforming an optical element |
| DE102021201258A1 (de) | 2021-02-10 | 2022-08-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie optisches System |
| DE102021213458A1 (de) | 2021-11-30 | 2022-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie |
| DE102021214366A1 (de) * | 2021-12-15 | 2023-06-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Vermeidung einer Degradation einer optischen Nutzoberfläche eines Spiegelmoduls, Projektionssystem, Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage |
| CN114924378B (zh) * | 2022-05-30 | 2023-10-27 | 深圳综合粒子设施研究院 | 一种反射镜面形控制结构及光束线装置 |
| DE102022211636A1 (de) | 2022-11-04 | 2024-05-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems |
| WO2024145826A1 (zh) * | 2023-01-04 | 2024-07-11 | 深圳综合粒子设施研究院 | 反射镜的面形优化方法及装置 |
| CN116203722A (zh) * | 2023-01-04 | 2023-06-02 | 深圳综合粒子设施研究院 | 反射镜的面形优化方法及装置 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0868898A (ja) * | 1994-08-29 | 1996-03-12 | Nikon Corp | 反射鏡およびその製造方法 |
| US6880942B2 (en) * | 2002-06-20 | 2005-04-19 | Nikon Corporation | Adaptive optic with discrete actuators for continuous deformation of a deformable mirror system |
| JP2004056125A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-02-19 | Nikon Corp | 個別アクチュエータを有する反射投影光学系 |
| EP1376239A3 (en) | 2002-06-25 | 2005-06-29 | Nikon Corporation | Cooling device for an optical element |
| JP2005019628A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Nikon Corp | 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| DE60315986T2 (de) * | 2003-10-09 | 2008-05-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung |
| JP4537087B2 (ja) * | 2004-02-12 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置、デバイスの製造方法 |
| DE102006045075A1 (de) | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Steuerbares optisches Element |
| EP1950594A1 (de) | 2007-01-17 | 2008-07-30 | Carl Zeiss SMT AG | Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik |
| US7894038B2 (en) | 2007-03-14 | 2011-02-22 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method, lithographic apparatus, and a computer program |
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| DE102011081259A1 (de) | 2010-09-28 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Spiegeltemperaturmessung und/oder zur thermischen Aktuierung eines Spiegels in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102011005778A1 (de) * | 2011-03-18 | 2012-09-20 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element |
| DE102011005840A1 (de) | 2011-03-21 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Steuerbare Mehrfachspiegelanordnung, optisches System mit einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung sowie Verfahren zum Betreiben einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung |
-
2013
- 2013-03-14 DE DE102013204427.5A patent/DE102013204427A1/de not_active Withdrawn
-
2014
- 2014-03-07 JP JP2015562046A patent/JP6483626B2/ja active Active
- 2014-03-07 KR KR1020157026654A patent/KR102211633B1/ko active Active
- 2014-03-07 CN CN201480014966.9A patent/CN105190443B/zh active Active
- 2014-03-07 WO PCT/EP2014/054487 patent/WO2014139896A2/en not_active Ceased
-
2015
- 2015-09-09 US US14/848,593 patent/US9798254B2/en active Active
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