JP2016513989A - レーザー装置および標的材料をレーザー処理するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (26)
- レーザー装置であって、
超短パルス持続期間を有するパルスレーザー光線を生成するように構成されるレーザー源(22)と、
前記レーザー光線からパルスの群(60)を選択するように構成されるセレクタ(24)であって、各パルス群は、少なくとも100MHzのパルス繰り返し数の複数のパルスを含み、前記パルス群は、約1MHz以下の群繰り返し数を有する、セレクタ(24)と、
前記パルスレーザー光線の焦点をスキャンするように構成されるスキャナデバイス(26)と、
コントローラにより実行された場合に、標的材料において切断の形成をもたらす命令を含む制御プログラム(36)に基づいて、前記スキャナデバイスを制御するように構成される前記コントローラ(18)とを備える、レーザー装置。 - 前記レーザー源(22)は、半導体レーザーを含む、請求項1に記載のレーザー装置。
- 前記半導体レーザーは、VECSEL型、VCSEL型およびMIXSEL型の1つである、請求項2に記載のレーザー装置。
- 前記パルス繰り返し数は、少なくとも500MHz、800MHzまたは1GHzである、請求項1から3のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- パルス群(60)は、10パルスまたは20パルスまたは50パルスまたは80パルスまたは100パルス以上を含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- パルス群(60)は、200nsまたは150nsまたは120ns以下の群持続期間を有する、請求項1から5のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- 連続パルス群(60)は、少なくともパルス群の持続期間だけ時間変位している、請求項1から6のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- 前記パルスレーザー光線を標的材料に向けて出力するための射出場所を備え、前記射出場所において出力されるパルスは、各パルス群によるヒトの眼組織におけるレーザー誘導光学破壊の生成を確実とするパルス特性により特徴付けられる、請求項1から7のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- 前記射出場所において出力されるパルスの群(60)の総エネルギーは、ナノジュールまたはマイクロジュールの範囲内である、請求項8に記載のレーザー装置。
- 前記射出場所において出力されるパルスの群(60)の総エネルギーは、0.1から1マイクロジュールの間である、請求項9に記載のレーザー装置。
- 前記射出場所において出力されるパルスのエネルギーは、ピコジュールまたはナノジュールの範囲内である、請求項8から10のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- パルス群は、前記群の全てのパルスに対して同じエネルギーを有する、請求項1から11のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- パルス群は、前記群の全てのパルスに対して同じピーク出力を有する、請求項1から12のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- 前記パルス群(60)の選択の前に前記パルスレーザー光線の前記パルスを増幅するように構成される第1の増幅器(52)を備える、請求項1から13のいずれか一項に記載のレーザー装置。
- 前記第1の増幅器(52)は、ピコジュールからナノジュールにパルスのエネルギーを増幅するように構成される、請求項14に記載のレーザー装置。
- 前記セレクタ(54)により選択された前記パルスを増幅するように構成される第2の増幅器(56)を備える、請求項14または15に記載のレーザー装置。
- 任意選択で請求項1から13のいずれか一項に記載のレーザー装置であって、
フェムト秒以下の範囲内パルス持続期間を有し、少なくとも100MHzのパルス繰り返し数を有するパルスレーザー光線を生成するように構成される、半導体レーザー(22)と、
前記レーザー光線からパルスの群(60)を選択するように構成されるセレクタ(54)であって、各パルス群は、前記パルス繰り返し数の複数のパルスを含み、前記パルス群は、少なくとも500nsだけ時間変位している、セレクタ(54)と、
前記レーザー光線の焦点をスキャンするように構成されるスキャナデバイス(26)と、
コントローラにより実行された場合に、各パルス群に対しヒトの眼組織においてLIOBベース光切断の形成をもたらす命令を含む制御プログラム(36)に基づいて、前記スキャナデバイスを制御するように構成される前記コントローラ(18)とを備える、レーザー装置。 - 標的材料のレーザー処理の方法であって、
半導体レーザーを使用して超短パルス持続期間を有するパルスレーザー光線を生成することと、
レーザー光線からパルスの群を選択することであって、各パルス群は、少なくとも100MHzのパルス繰り返し数の複数のパルスを含み、前記パルス群は、約1MHz以下の群繰り返し数を有する、選択することと、
標的材料の標的領域上で、前記パルスレーザー光線の焦点を操作し、前記標的材料における切断を形成することとを含む方法。 - 前記標的材料に、パルス群の全てのパルスに対して同じエネルギーおよび同じピーク出力の少なくとも一方を有する前記レーザー光線を印加することを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記パルス繰り返し数は、少なくとも500MHz、800MHzまたは1GHzである、請求項18または19に記載の方法。
- パルス群は、10パルスまたは20パルスまたは50パルスまたは80パルスまたは100パルス以上を含む、請求項18から20のいずれか一項に記載の方法。
- パルス群は、500nsまたは200nsまたは150nsまたは120ns以下の群持続期間を有する、請求項18から21のいずれか一項に記載の方法。
- 連続パルス群は、少なくともパルス群の持続期間だけ時間変位している、請求項18から22のいずれか一項に記載の方法。
- 前記標的材料に印加されるパルスの群の総エネルギーは、ナノジュールまたはマイクロジュールの範囲内である、請求項18から23のいずれか一項に記載の方法。
- 前記標的材料に印加されるパルスのエネルギーは、ピコジュールまたはナノジュールの範囲内である、請求項18から24のいずれか一項に記載の方法。
- 前記標的材料は、ヒトの眼組織であり、各パルスは、前記眼組織におけるLIOBの生成のための単一パルス閾値フルエンスを下回るフルエンスを有する、請求項18から25のいずれか一項に記載の方法。
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