JP2016511372A - ディスク開口制御構造および断片化防止制御構造を備える、レーザで規定された弱め線を有する破裂ディスク - Google Patents

ディスク開口制御構造および断片化防止制御構造を備える、レーザで規定された弱め線を有する破裂ディスク Download PDF

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Abstract

少なくとも一つの面に形成された開口線(16)を有する破裂ディスク(10)を提供する。開口線(16)は、ディスク面をレーザ加工することにより形成され、少なくとも1つのディスク開口制御機構(20)を含む。ディスク開口制御機構(20)は、ディスク(10)を最初に破裂させることを助けるように構成された開口開始機構であってもよい。あるいは、開口制御機構(20)は、ディスク開口時に形成された花弁状部が分離しないようにディスク(10)に作用するエネルギを消散させるように構成された断片化防止機構であってもよい。【選択図】図1

Description

発明の分野
本発明は一般的に、レーザにより形成され、1つ以上のディスク開口制御構造を備える開口線を有する破裂ディスクに関する。ディスク開口制御構造は、断片化防止機構または開口開始機構を有し得る。これらの構造により、ディスクの開口特性がよりうまく制御される。特に、開口開始機構は、最初の破裂が発生する破裂ディスクの部分で制御を増加させ、断片化防止機構は、ディスク開口時に形成される花弁状部の分離の可能性を低減させるために使用することができる。
先行技術の説明
時にはスコア線とも称される開口線は、しばらくの間、所定の超過圧力状態に置かれると開口するディスクの領域を規定するために破裂ディスクで使用されてきた。開口中に、破裂ディスクは、開口線で裂けて1つ以上の花弁状部を形成し、花弁状部は超過圧力状態の影響下で1つ以上のヒンジ領域を軸に回転して、加圧流体を開口ディスクから流すことができる。
スコア線は通常、金属製スコアリングダイを用いて形成される。金属製スコアリングダイを用いてスコア線を形成すると、ダイがディスク金属を圧縮し、加工硬化させて、金属の粒子構造を変化させる。この加工硬化により、金属の脆性が増して、応力領域が生じ得る。この脆性および応力領域は、疲労亀裂および応力腐食の結果として、圧力解放装置の耐久年数を制限する。さらには、ダイ自身がスコアリング工程中に摩耗して、定期的に交換しなければならないことを考えれば、ディスク製造でスコア深さを高度に制御することは困難である。
ダイスコアリングの問題を回避するために、破裂ディスクの開口線を形成する代替の方法が考案されてきた。1つのこのような方法は、電解研磨法で弱め線を形成することを開示する米国特許第7,600,527号に記載されている。この方法では、破裂ディスクにレジスト材料層を設ける。それから、レーザを使用して、所望の弱め線に相当するレジスト材料部分を除去する。次に、ディスクに電解研磨作業を施して、ディスク表面から金属を除去して、所望深さを有する弱め線を形成する。しかしながら、特にディスク材料が相対的に厚く、所望の線深さに達するために長い電解研磨時間を必要とする場合、電解研磨した弱め線の幅を制御することが困難な場合がある。この特徴は、互いに近接する多数の溝を有するより複雑な構造を形成するに際して、この方法の使用性を制限し得る。
直接レーザを使用して、破裂ディスク内に弱め線を加工することも提案されている。これに関する例としては、米国特許出願公開第2010/0140264号および第2010/0224603号が挙げられる。しかしながら、弱め線が、ディスクの1面に形成された比較的長い連続溝からなり、この溝が、特定厚さのディスクで発生させることのできる破裂圧力の範囲を制限し得る限りにおいて、これらの文献は従来の弱め線構造を採用している。
米国特許第7,600,527号公報 米国特許出願公開第2010/0140264号公報 米国特許出願公開第2010/0224603号公報
本発明は、上述のいくつかの欠点を克服して、破裂ディスクのような圧力解放装置の開口特性の制御を高めることを目的とするディスク開口制御機能を備えた開口線を設けることにある。
本発明の一実施形態において、破裂ディスクを備えた超過圧力解放装置を提供する。破裂ディスクは、対向面を有する中央部と、中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する。破裂ディスクに、実施形態によっては特に中央部において、少なくとも一部が超過圧力解放領域を規定するレーザ加工開口線が形成される。レーザ加工開口線は、1つ以上の開口線部と、1つ以上のレーザ加工開口制御機構とを有する。上記1つ以上の開口線部は、一方の面から他方の面に向けてディスクに貫入するチャネルを有する。上記1つ以上の開口制御機構は、少なくとも一部が、一対のレーザ加工側方縁部により規定される。これらのレーザ加工側方縁部は少なくとも1つの開口線部の方向で互いに近づく。
本発明の他の実施形態では、圧力解放装置で開口線を形成する方法を提供する。圧力解放装置は、対向面を有する中央部と、中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有するように提供される。開口線は、レーザビームを複数のレーザパスで中央部に通過させることにより中央部に形成される。各パスは所定のレーザ経路をたどり、レーザアブレーションで中央部から材料を選択的に除去するように各パスを操作できることで溝を形成する。形成された開口線は、1つ以上の開口線部と、1つ以上の開口制御機構とを有する。各経路上にレーザアブレーションにより形成された溝が、他のレーザ経路上にレーザアブレーションにより形成された溝と部分的にまたは完全に重なるように、複数のレーザ経路の各々の少なくとも一部が、他の少なくとも1つのレーザ経路の少なくとも一部と離間している。複数のレーザ経路の間隔および溝の重畳度が実質的に一定に維持されている部分は、上記1つ以上の開口線部に相当する。少なくとも1つのレーザ経路の少なくとも一部は、1つ以上の他のレーザ経路から分岐している。レーザ経路の分岐部分は、上記1つ以上の開口制御機構に相当する。
図面の簡単な説明
図1は、レーザ加工開口制御機構を備えたレーザ加工開口線を有する反転作動破裂ディスクの凸面の等角図である。 図2は、図1の反転作動破裂ディスクの凸面の等角図である。 図3は、図1の反転作動破裂ディスクの凸面の平面図である。 図4は、図1の破裂ディスクのレーザ加工開口制御機構をクローズアップした部分図である。 図5は、図4の破裂ディスクの膨張部の、線5−5での部分断面図である。 図6は、レーザ加工開口制御機構の代替実施形態をクローズアップした部分図である。 図7は、図6の破裂ディスクの膨張部の、線7−7での部分断面図である。 図8は、図1の破裂ディスクの拡大等角図であり、開口線の開口開始機構に係合するように構成されたディスク開口歯を有する破裂ディスク支持リングの一例を示す。 図9は、開口開始機構と、開口線の端部領域に形成された一対の断片化防止機構とを備える、実質的にC形状の開口線を有する破裂ディスクの凹面の等角図である。 図10は、図9の破裂ディスク、特に断片化防止機構をクローズアップした断面図である。 図11は、フランジ部に近接する開口線部の端部領域に断片化防止機構が配置された十字型パターンの開口線を有する他の実施形態の破裂ディスクの等角図である。 図12は、図1に示すものと同様のレーザ加工開口線と共に、反転開始機構を有する、他の実施形態の反転作動破裂ディスクの凹面の部分等角図である。 図13は、図12の破裂ディスク、特に図12の開口開始機構をクローズアップした部分図である。 図14は、図13の破裂ディスクの、線14での断面図である。 図15は、図13の破裂ディスクの、線15での断面図である。 図16は、図13の破裂ディスクの、線16での断面図である。 図17は、図13の破裂ディスクの、線17での断面図である。 図18は、本発明の代替実施形態による破裂ディスクの凸面の平面図である。 図19は、図18の破裂ディスクの開口開始機構をクローズアップした部分図である。 図20は、図18の破裂ディスクの断片化防止機構をクローズアップした断面図である。 図21は、断片化防止機構が開口線部の端部領域に配置された十字型パターンの開口線を有する他の実施形態の破裂ディスクの等角図である。 図22は、ディスクの膨張部の頂点に位置する多角形凹部をクローズアップした部分図である。 図23は、断片化防止機構が開口線部の端部領域に配置された、5枚の花弁状開口線構造を有する他の実施形態の破裂ディスクの等角図である。 図24は、ディスクの膨張部の頂点に位置する多角形凹部をクローズアップした部分図である。 図25は、本発明の他の実施形態に従って製造された開口開始機構をクローズアップした部分図である。 図26は、本発明に従って製造された断片化防止機構の代替実施形態をクローズアップした断面図である。 図27は、本発明に従って製造された断片化防止機構の代替実施形態をクローズアップした断面図である。 図28は、ディスクの中央部の中心に位置する開口開始機構を備えた、十字型パターンの開口線を有する他の実施形態の破裂ディスクの等角図である。 図29は、図28の破裂ディスクの中央部を、1つの開口線部に沿って切断した図である。
以下の詳細な説明では、本発明の様々な実施形態の例を参照する。これらの実施形態は、当業者が本発明を実施することができるよう十分詳細に本発明の態様を説明するためのものである。他の実施形態を使用することができ、本発明の範囲を逸脱することなく変更を加えることができる。従って、以下の詳細な説明を限定的にとらえるべきではない。
本発明は一般に、圧力解放装置に関し、特に少なくとも1種のディスク開口制御機構を備えた、レーザ加工開口線を有する破裂ディスクに関する。ディスク開口制御機構は、ディスク開口開始を助ける、またはディスクを開くと形成される花弁状部の断片化を防止する機能を有し得る。
図面、特に図1を参照すると、反転作動破裂ディスク10は、外側フランジ部14で囲まれた中央膨張部12を有する。しかしながら、ディスク10は、どんなタイプの破裂ディスクであってもよく、突き出た正転作動破裂ディスクであってもよいし、平坦すなわち突き出ていない破裂ディスクであってもよい。ディスク10は、ステンレス鋼、ハステロイ、インコネル、チタンおよびニッケルのような様々な金属を含む材料から構成することができる。レーザ加工法を用いて、膨張部12に開口線16が形成される。当業者は、ディスク材料、ディスク厚さ、及び所望の加工時間等の多数の変数により、適切なレーザ及びレーザの動作パラメータを選択することができる。ある実施形態において、予測不可能なディスクの反転及び開口の特性を引き起こす可能性のある膨張部12内の熱影響部の発生を避けるように、レーザ及びレーザの動作パラメータを選択することが望ましい。従って、レーザ加工開口線16内及びそれに隣接する金属の粒子構造は、膨張部12の残部と実質的に同じである。
図2および図3に示すように、開口線16は実質的にC形状であり、膨張部12の凹面18に形成される。しかしながら、本発明の他の実施形態は、開口線16のために他のパターンを有してもよいと理解される。このような代替のパターンには、十字型パターン(図13参照)、および2012年10月31日出願の米国特許出願第61/720,800号に記載された構造を含む不連続線または破線が含まれる。上記特許出願は、参照により本明細書の一部を構成するものとする。開口線16は、少なくとも一部が、破裂ディスク10の開口時に、ディスクからの加圧流体の流れを可能にする超過圧力解放領域を規定するのに役立つ。開口線16は、離間した端部領域24、25により規定されるヒンジ領域22とは反対側に位置する、レーザ加工開口制御機構20を有する。ディスク10が開くと、膨張部12が開口部16で裂けて形成された花弁状部が、ヒンジ領域22を中心に回転して、超過圧力状態を取り除くことができる。ディスク10は、膨張部12と外側フランジ部14とを相互接続する移行領域27を有する。ある実施形態、特に図面に示す実施形態では、開口線16は、移行領域27の内側に位置する。しかしながら、開口線16全体または一部が、ディスク10の任意の箇所、例えば移行領域27上および/または移行領域27を横切るように、また外側フランジ部14に形成されても本発明の範囲内である。開口線16の正確な位置は、ディスク10の特定用途に応じて変更することができる。
図1〜図5に示す実施形態では、開口制御機構20は、超過圧力状態に置かれると、膨張部12の開口を助けるように構成された開口開始機構を有する。以下でより詳細に説明するように、開口制御機構20は特に、膨張部12が反転するとディスク材料の断裂を開始するように構成された装置、例えばディスクに係合する歯を有する支持リングと併用するのに適しているが、いつもそうである必要はない。図4および図5に明示するように、開口制御機構20は、離間した複数のレーザ溝26〜36を有する。溝26、28、30は、(端部領域25の方向に向かって)互いに近づいて、最終的には結合して開口線部38を形成する。溝26および30はそれぞれ縁部29、31を有し、一部が開口制御機構20を規定する。同様に、溝32および36はそれぞれ縁部33、35を有し、一部が開口制御機構20を規定する。開口線部38は、凹面18から凸面42に向かって延びる単一チャネル40を有する。同様に、溝32、34、36は、(端部領域24の方向に向かって)互いに近づいて、開口線部44になる。開口線部44も、チャネル40と同様の単一チャネル46を有する。
図4に示す実施形態では、開口制御機構20を構成する溝は連続しておらず、各溝はそれぞれの端部48〜58を有する。各端部は、非レーザ加工領域60により他の端部と離間している。例えば、端部48は、端部54と真向かいに位置し、この2つの端部は非レーザ加工領域60により離間している。50と56、52と58の端部対についても同様である。
図6および図7は、僅かに変形した構成を有する開口制御機構20aを示す。溝48および54は、図4の実施形態と実質的に同じように思える。しかしながら、28と34、および30と36という他の溝対はそれぞれ、湾曲部62,64で相互接続されている。湾曲部62、64は、開口線部38、44の曲りとは略反対の、膨張部12の中心方向に延びる曲りを有する。
ある実施形態では、破裂ディスク10は、図8に示す支持リング66と使用するよう構成されている。支持リング66は、中央オリフィス70を有する環状本体68を有する。本体68はさらに、歯72とヒンジ支持体74とを有し、これらは共に一般的に、オリフィス70に向かって内側に突き出ている。歯72は、超過圧力状態に置かれた後に膨張部12が反転すると、開口制御機構20に係合するように構成されている。特に、歯72は、溝26〜36のうちの1つ以上にまたはそれに近接して膨張部12に接触するように構成されている。特定の超過圧力事象に対して膨張部12の反転を予測したり、または正確に制御することは困難なので、従来の単一溝による開口線では、歯72がいつも確実に開口線で膨張部12と最初に接触するということにはならない。開口制御機構20は、歯72がディスクの反転中に最初に膨張部12と係合できる領域を広げることにより上記懸念を軽減する。従って、歯72は、ディスクの断裂を起こしそうな点で膨張部12と確実に接触することができる。一旦開口制御機構20で膨張部の断裂が開始されると、断裂は開口線部38、44に沿って端部領域24、25に向かって進行する。膨張部12の断裂によって形成された花弁状部は、花弁状部の断片化を防止するようにヒンジ支持体74と接触しているヒンジ領域22を中心に回転する。
図9および図10は、本発明に従って製造された破裂ディスクの代替実施形態を示す。この代替実施形態は、図1の破裂ディスクと多くの点で類似している。従って、これらの類似構造体を示すために同じ参照符号を使用する。ここで図9を参照すると、ディスク10は、膨張部12の凹面18に形成された開口線16を含む反転作動破裂ディスクである。開口線16は、開口開始機構として機能する開口制御機構20と、開口制御機構20からそれぞれ端部領域25、24に向けて延びている開口線部38、44とを有する。端部領域24、25はそれぞれ、付加的なディスク開口制御機構76、78を有する。開口制御機構76、78は、ディスク10の開口中に開口線16に作用する断裂力を拡散させることで、ディスク材料がヒンジ部22まで断裂することを防止し、ディスクの花弁状部の断片化を回避するのに役立つ断片化防止機構として機能する。
図10に示すように、開口制御機構76は、開口線部44のチャネル46からヒンジ部22に向かう方向に延びる複数の離間した溝80、82、84を有する。溝80、82、84はまた、チャネル46から一般に異なる方向に延びているが、いつもそうである必要はない。例えば、溝80はチャネル46から開口線16の内側に向かう方向に延び、溝82は開口線部44と実質的に同じ移動経路に沿って延び、溝84はフランジ部14に向かう方向に延びている。溝80および84はそれぞれ、一部が開口制御機構76を規定するのに役立つ縁部81、85をさらに含んでいる。
図11は、ディスク開口制御機構が断片化防止機構として使用される本発明のさらに他の実施形態を示す。破裂ディスク86は、外側フランジ部90に囲まれた中央膨張部88を有する正転作動ディスクとして構成されている。十字型パターン形状を有する開口線94が膨張部88の凹面92に形成されている。しかしながら、開口線94は膨張部88の凸面に形成されてもよいと理解される。開口線94は一般に、4つの開口線部96、98、100、102を有する。開口線部96および100はつながっており、膨張部88の頂点104で交わるものとして示されている。開口線部98および102は頂点106に接近するとして示されているが、互いに交わることもなければ、開口線部96、100とも交わらない。このような構造により、レーザが頂点104上を二重に通過して、ディスク材料が所望する以上に除去されたり、場合によってディスクにピンホールが形成されることが避けられる。各開口線部は、外側フランジ部90に隣接するその端部領域に位置する開口制御機構106を有する。本実施形態では、開口制御機構106は断片化防止機構として使用される。本明細書中に記載した1つ以上の開口制御機構を有する他の開口線構造も本発明の範囲内であり、上述の実施形態は一例にすぎない。例えば、2つ、3つまたは5つ以上の花弁状部を形成する開口線を有する正転開口ディスクまたは反転開口ディスクを、ここに示した改良に加えることができる。
図12および図13は、破裂ディスク10がさらに、例えば2012年7月18日出願の米国特許出願第13/552,165号に開示されているような反転開始機構108および弱め線110を有する本発明の他の実施形態を示す。上記出願は参照によって本明細書の一部を構成するものとする。反転開始機構108は一般に、レーザ加工領域を包囲する膨張部12の残りの部分から凹んだところにあり、その部分に比べて厚さの小さい第1レーザ加工領域112と、第1レーザ加工領域112の縁部内に位置する第2レーザ加工領域114とを有する。レーザ加工領域114は一般に、レーザ加工領域112に比べて厚さが小さく、また、他の方法では単一深さを有する反転開始機構で達成され得るが、それ以外に膨張部12の反転圧力を微細調整制御する手段を提供する。第‘165号の出願に開示されているように、反転開始機構108がいくつかの代替構造を有することは可能である。弱め線110は一般にレーザ加工溝を有し、反転開始機構108内で開始する膨張部12の反転を開口制御機構20および場合によっては支持リング歯72に向けて誘導することを助けることで、膨張部12の開口が確実にヒンジ領域22とは反対の箇所で発生することになる。図13に示すように、弱め線110は溝26〜36に接近するが、交わることはない。
図14〜17は、図13の各切断線に沿って得られた断面図であり、開口線16の深さが開口制御機構20に沿って進むと共にどのように変化するのかを概略的に示す。図14は、溝26および30が溝28から分岐する手前の地点における開口線部38およびチャネル40を示す。ある実施形態では、開口線16は、複数のレーザパスでレーザビームを膨張部12上に通過させることにより形成される。各レーザパスは、膨張部12上で所定のレーザ経路をたどり、アブレーションによりディスク材料が除去される。レーザ経路のある部分は、各アブレーションパスにより形成される溝が少なくとも部分的にまたは全体的に重なり合うように離間している。さらには、レーザ経路の他の部分は、各アブレーションパスにより形成される溝が少なくとも他の1つの溝から分岐するように離間している。連続するレーザビームパスの重畳度が大きくなるにつれて、一般的にその領域での開口線16の深さは増す。チャネル40は一般に、2回以上のレーザパスのレーザ経路が略一定に重なり合ったレーザ加工領域からなる。
図15に示すように、連続するレーザパスのレーザ経路が分岐し始めて、個々の溝26、28および30の発生の前兆となる。この時点で、機構の中央に向かっては、ビーム経路に沿ったレーザアブレーションにより得られる溝のかなりの部分が重複し続けて、溝28に相当するより深い部分が形成されるのに対し、機構の縁部に向かっては、あまり重複がなく、溝26および30に相当するより浅い部分となる。対称的な断面形状は決して、この方法により形成され得る唯一の形状ではない。何故ならば、機構上での任意の場所の深さは、レーザ経路を調整して溝の重複を増減することにより、またレーザ操作を熟知する人物が利用できるよく知られた他のパラメータ、例えばパルスエネルギ、反復率、走査速度およびスポットサイズを調整することにより制御することができるからである。
図16は、溝26、28および30が分岐し続けて、チャネル40から遠ざかりつつあることを示している。溝同士は重複し続けているが、このような重複の度合いは図15に示す度合いよりも低い。結果として、溝28の深さは図15よりも小さくなる。何故ならばディスクのこの領域を焦点にして集まるレーザからのエネルギが小さくなるからである。
図17は、レーザ経路が十分に分岐して、溝26、28および30が別個のものになり、非レーザ加工部116、118により互いに離間していることを示す。例示するように、溝26、28および30はほぼ同じ深さであるが、いつもそうである必要はない。溝26、28および30の深さが異なっていても本発明の範囲内である。しかしながら、一般的に、溝26、28および30の各々の平均深さは、溝の重畳度が小さくなったことを考慮すれば、チャネル40の平均深さよりも小さい。
断片化防止機構として機能する開口制御機構76、78および106についても一般的に同じ概念が当てはまる。これらの開口制御機構の各溝の平均深さは、レーザ経路の分岐によりチャネル40の平均深さよりも小さくなる。
図12および図13に戻るが、ある製造方法では、レーザビームは、開口制御機構20の形成中に断続的に操作されて、非レーザ加工領域60が形成される。例えば、レーザ経路を端部領域24で開始することができる。アブレーション操作は、開口線部44が占める膨張部12の部分ではレーザ経路に沿って継続する。開口制御機構20の領域では、レーザ経路は、溝32が占める膨張部12の部分上に向かわせることができる。端部54に達すると、レーザビームは(例えばシャッタを用いて)遮断されて、ディスク10の面に当たらなくなるが、レーザの機械が端部48を目標として焦点調整をすると、端部48においてディスク10の面に再度レーザを当てることができる。レーザビームはそれから、端部領域25に達するまで、溝26および開口線部38に相当するレーザ経路に沿って連続的に操作される。他の実施形態では、連続する一つのレーザ加工領域(例えば開口線部38、溝26〜30)を加工し、ビームを遮断し、焦点位置を変え、ビームを再度ディスク10に当てて、他の一つの連続するレーザ加工領域(例えば開口線部44、溝32〜36)を加工するようにレーザをプログラミングしてもよい。
図18は、外側フランジ部121で囲まれた膨張部119を有し、その凹面123に形成された代替開口線構造を有する突き出た破裂ディスク120を示す。開口線122は略C形状であり、図示するように、3つの開口制御機構、すなわち開口開始機構124、および2つの断片化防止機構126、128を有する。開口開始機構124は断片化防止機構126とは開口線部130により、断片化防止機構128とは開口線部132により相互接続されている。断片化防止機構126、128はそれぞれ、その間に位置するヒンジ領域138を協働で規定する端部領域134、136を有する。図18に示す様々な開口制御機構は、一緒に使用する必要もなければ、図示する開口線構造の一部として使用する必要もないと理解される。これらの機構は単独で使用してもよいし、任意の数組み合わせて使用してもよいし、代替の開口線構造の一部を構成してもよい。
図19に示すように、開口開始機構124は一般的に、一対のレーザ加工側方縁部140、142により規定され、その間に位置するレーザ加工開口開始領域144を含む。レーザ加工側方縁部140、142は、領域144の中心から開口線部130、132の方向に向かって互いに近づくように構成されている。上述した他の実施形態と同様に、開口線部130、132は、膨張部119の反対側の凸面に向かって凹面123から貫入するチャネル146、148を有する。図示するように、開口開始機構124は開口線部130,132とつながっており、側方縁部140,142は最終的にチャネル146,148の境界を規定する。しかしながら、了解されているように、機構124および開口線部130,132がつながらないで、1つ以上の非レーザ加工領域により離間していても本発明の範囲内である。
開口開始機構124は一般的に、上述した開口制御機構20の形成と同様の方法で形成される。しかしながら、レーザ操作により所定のレーザ経路に沿って形成される各溝の少なくともある部分が、隣接する他の溝の少なくともある部分と重複するように、レーザ経路は構成され、離間されている。従って、非レーザ加工部116、118(例えば図17参照)の形成は回避され、ディスク120の処理中にレーザから発せられるエネルギは、溝の重複度がより大きい実施形態よりも広い領域に供給される。結果として、レーザ加工開口開始領域144の深さが、チャネル146、148のどちらよりも浅くなる。開口線部130,132に近づくにつれて、溝の重複度は徐々に増して、チャネル146、148の全深さに達する。
図20では、断片化防止機構126をさらに詳しく示す。断片化防止機構126は多くの点で開口開始機構124と類似している。特に、機構126は一般的に、開口線部130の方向で互いに近づく一対のレーザ加工側方縁部150、152により規定される。しかしながら、側方縁部150、152が端部領域134に近づくと、側方縁部間の間隔は実質的に一定のままである。機構126はさらに、側方縁部150、152間に位置するレーザ加工断片化防止領域154を有する。開口開始機構124と同様に、断片化防止機構126は、連続するレーザビームパスにより形成される溝同士の重複度を変えることにより形成される。端部領域134に近づくにつれて、隣接する溝の重複度は小さくなり、レーザから発せられるエネルギはより広い領域に供給されて、領域154の深さはチャネル146よりも浅くなる。従って、ディスク120が開いて開口線122に沿って裂けると、断片化防止機構126でディスク材料の厚みのある領域にぶつかって、これが裂けると、好ましくは端部領域134の近くで断裂が終わるまでより大きなエネルギを吸収する。
図21および図23は、開口時に複数の花弁状部を形成する破裂ディスクの別の実施形態を示す。まず、図21を参照すると、破裂ディスク156は、環状フランジ部160で囲まれた膨張部158を有する。開口線162は、ディスク156の凹面164に形成される。開口線162は十字型パターンとして構成され、開口線部166,168,170および172と、各開口線部の外側端部から延びる複数の断片化防止機構174とを有する。断片化防止機構174は、上述した断片化防止機構126と同様に構成される。
図22により明確に示すように、各開口線部は、膨張部158の中央部176に向かって内側に延びている。中央部176は一般的に、膨張部158を直接取り囲んでいる部分と比べて、厚みが小さい。図示するように、中央部176は、多角形状で、具体的には八角形状で、4つの長辺178が4つの短辺180と相互接続している。なお、開口線部166〜172は中央部178とは交わっておらず、これらの機構は狭い非レーザ加工領域で離間している。図11の破裂ディスクの実施形態と同様に、この構造は、レーザをディスクの一領域に対して二重に通過させると生じ得るピンホール形成の懸念を回避させる。しかしなら、ディスクのレーザ処理中に使用されるレーザ経路の構造によっては、開口線部166〜172が相互接続されて、中央部176とつながっていたとしても本発明の範囲内である。
図23は、僅かに異なる開口線構造が用いられていることを除いて、図21の実施形態と同様である本発明の他の実施形態を示す。具体的には、破裂ディスク182は、環状フランジ部186で囲まれた膨張部184を有すると示されている。開口線188は膨張部184の凹面190に形成され、破裂すると、5つの花弁状部が形成されるように構成されている。開口線188は、開口線部192、194、196、198、200と、各開口線部の外側端部からフランジ部186に向かって延びる断片化防止機構202とを有する。断片化防止機構202は、図21の実施形態の断片化防止機構174と同様に構成されている。中央部204は、図21の実施形態の対応部分とは構成が異なる。図24に示すように、中央部204は、5つの長辺206が5つの短辺208と相互接続された十角形を有する。他のすべての点において、ディスク182は図21のディスク156と本質的に同じである。
図25は、本発明の他の可能な開口開始機構210の構成を示す。開口開始機構210は多くの概念的な見地で、図19の開口開始機構124と同様である。しかしながら、機構210は、主に、同機構を形成するレーザ加工手順に起因するある独特な特性を有する。なお、ある実施形態では、機構210が、C形状の開口線の一部を形成し、ディスクのヒンジ領域とは反対側のディスクの中央部に位置することが好ましい。しかしながら、いつもそうである必要はない。ある実施形態では、開口線部212がチャネル214を含むように形成される。先に説明したように、チャネル214は、間隔をつめて配置されたレーザ経路に沿って複数回のパスでレーザをディスク上に通過させることにより形成され、このようにしてチャネル214を形成する。チャネル214は、一対のチャネル縁部216、218により規定される。縁部216、218間の最大幅はここではWで表す。チャネル214はさらに、ここではDで表す最大深さを有する。ある実施形態では、チャネル214の深さは相対的に一定である。しかしながら、チャネル214の深さがその長さに沿って変動するとしても本発明の範囲内である。いずれにせよ、その長さ沿いのある地点で、チャネル214は最大深さを示し、その地点での残りのディスク材料の厚さは最少となる。
それから、複数のレーザ経路に沿って複数のパスでレーザビームをディスク面上に通過させて開口開始機構210を形成することができる。しかしながら、開口開始機構210と一致するレーザ経路は、開口線部212の形成で使用されるレーザ経路よりもさらに離れて配置される。従って、機構210の製造中に形成された溝はそれほど重なっておらず、開口線部212と隣接して配置されているポケット220、222は一般的に、平均してDよりも浅くなる。ポケット220、222の平均深さはここではDと規定する。さらには、溝の数および溝の重畳度に基づけば、ポケット220、222は、Wよりも大きい機構210の最大幅(すなわち、機構の側方縁部224、226間の最大距離)として規定され得る最大幅Wを有し得る。
なお、開口開始機構124の縁部140、142と同様に、縁部224、226は、開口線部212の方向に向かって互いに近づく。しかしながら、図19の実施形態とは対照的に、機構210を形成するレーザ経路は、その全長にわたり開口線部212と略同軸上にある。図19の実施形態では、レーザ経路は開口線部130、132から離れると「羽部を形成する」傾向にある。
さて、図26および27では、本発明の断片化防止機構の代替実施形態を示す。図26では、断片化防止機構228は開口線部230に隣接して示されている。上述した他の実施形態と同様に、開口線部230は、一方の面から他方の面に向けてディスクに貫入するチャネル232を有する。チャネル232は、最大幅Wと最大深さDを有する一対のチャネル縁部234、236で規定される。断片化防止機構228は、ディスクの中央部242の非レーザ加工領域240により開口線部230と離間したレーザ加工ポケット238を有する。但し、ポケットが開口線部とつながっていても本発明の範囲内である。ポケット238は一般に長方形状であり(但し多角形でも非多角形でもよい)、機構の長さを規定する側方縁部244、246および機構の幅Wを規定する側方縁部248、250で規定される。ここで使用する「長さ」という用語は、機構の最大寸法を指し、「幅」という用語は、長さとは略垂直方向における機構の次に大きい(長さ未満であっても長さと同一であってもよい)寸法を指す。上述した断片化防止機構および開口開始機構と同様に、断片化防止機構228は一般的に、溝の重畳度を小さくするようにレーザ経路の間隔を十分離して、チャネル232に対して溝の深さを小さくすることにより形成される。従って、機構228は、Dより小さい平均深さDを有する。ある実施形態では、機構228の最大値WもWより大きい。
図27は、さらに他の断片化防止機構の実施形態を示す。機構252は、機構228と同様の特徴を幾つか有する。しかしながら、機構252は、非レーザ加工領域240により互いに離間し、また開口線部230とも離間した一対のポケット254、256を有する。この実施形態では、または断片化防止機構が複数のポケットを有する他の実施形態では、Wの値は、機構の長さに実質的に垂直な方向に位置するレーザ加工ポケット幅の合計として計算され得る。
図28は、開くと複数の花弁状部を形成するディスクで使用するのに特に適した代替の開口線構造を示す。特にこれらの実施形態では、開口線は、複数の開口線部260、262、264、266を有する。ある実施形態では、また図示するように、開口線部は一般的に、各開口開始機構268、270で相互接続された対の形で配置されている。例えば、開口線部260、264は、第1開口開始機構270で相互接続された第1開口線部対を形成し、開口線部262、266は、第2開口開始機構268で相互接続された第2開口線部対を形成する。ディスク開口時に所望される花弁状部の数によっては、開口線がさらなる開口線部対および開口開始機構を有していても、本発明の範囲内である。開口開始機構268、270は、膨張部272の中心でまたは中心付近で互いに交差して、中央ポケット274を形成する。
開口開始機構268、270は、上述した開口制御機構(開口開始機構および断片化防止機構の両方を含む)のいずれかとして形成または構成することができる。しかしながら、図28に示す実施形態では、開口開始機構268、270は、それぞれの開口線部から遠ざかるにつれて溝の重畳度が徐々に小さくなるという点で図19の開口開始機構124と類似している。従って、機構268、270はそれぞれ、少なくとも一部が一対のレーザ加工側方縁部276、278、280、282により規定される。側方縁部は一般的に、同縁部が相互接続している開口線部の方向で互いに近づく。上述した他の実施形態と同様に、各開口線部は、一方の面から他方の面に向かってディスクに貫入するチャネルを有する。
開口線の製造は、上述した開口線122の製造と同様に行うことができる。中央ポケット274は、開口開始機構268、270という他の部分よりもレーザ経路の重畳度が高い中央部272の領域を示す。従って、機構268、270という他の部分よりも多くのディスク材料が中央ポケット274の所定の箇所から除去されて、ポケット274の深さが増す。得られる構造の形状を図29に示す。
開口線部260、264での最終的な材料の上面は、これらの開口線部を構成するチャネルの床面を示す。開口線部260から機構268に移行すると、溝の重畳が少なくなる結果として、最終的な材料の厚さは徐々に増加する。それから、中央ポケット274に近づくと、材料厚さは減少する。何故ならば、膨張部272のこの部分は、交差するレーザ経路が重なり合っているため、機構268の他の部分に比べて、レーザから更なるアブレーションエネルギを受け取るからである。ポケット274から機構268の反対側の部分に向かって移動すると、材料厚さは増す。最終的に、開口線部264への移行中に、材料厚さは再度減少し、このことは、全チャネル深さに達するまで溝の重畳度が増すことを示している。

Claims (37)

  1. 対向面を有する中央部と、前記中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する破裂ディスクと、
    前記破裂ディスクに形成され、かつ少なくとも一部が、前記破裂ディスクの超過圧力解放領域を規定するレーザ加工開口線とを有する超過圧力解放装置であって、
    前記レーザ加工開口線が、1つ以上の開口線部と、1つ以上のレーザ加工開口制御機構とを有し、前記1つ以上の開口線部は、前記面の一方から前記面の他方に向かってディスクに貫入するチャネルを有し、前記1つ以上の開口制御機構は、少なくとも一部がレーザ加工側方縁部対により規定され、前記レーザ加工側方縁部対は少なくとも一つの前記開口線部の方向において互いに近づくことを特徴とする超過圧力解放装置。
  2. 前記中央部が突き出ており、前記対向面が凸面と凹面とを有する請求項1に記載の超過圧力解放装置。
  3. 前記レーザ加工開口線が、前記中央部の前記凹面に形成される請求項2に記載の超過圧力解放装置。
  4. 前記1つ以上の開口制御機構が、超過圧力状態に置かれると前記破裂ディスクの開口を助けるように構成された開口開始機構を有する請求項1に記載の超過圧力解放装置。
  5. 前記レーザ加工開口線が実質的にC形状であり、離間した一対の端部領域を有し、前記端部領域がその間のヒンジ部を規定する請求項4に記載の超過圧力解放装置。
  6. 前記開口開始機構は、破裂ディスクが超過圧力状態に置かれると、前記破裂ディスクに隣接して配置されたディスク支持リング上に置かれた歯に係合するように構成される請求項5に記載の超過圧力解放装置。
  7. 前記開口開始機構が、前記ヒンジ部とは反対側の前記中央部上に配置される請求項5に記載の超過圧力解放装置。
  8. 前記1つ以上のレーザ加工開口制御機構が、複数の離間したレーザ加工溝を有し、前記溝の少なくとも2つが前記レーザ加工側方縁部対を有する請求項1に記載の超過圧力解放装置。
  9. 前記開口制御機構が開口開始機構を有し、前記開口開始機構を含む前記レーザ加工溝の少なくとも1つが不連続であり、前記中央部の非レーザ加工領域により相互接続された一対の端部を有する請求項8に記載の超過圧力解放装置。
  10. 前記レーザ加工溝の少なくとも1つが、前記中央部の中心方向に延びる曲りを有する湾曲部を有する請求項9に記載の超過圧力解放装置。
  11. 前記破裂ディスクが反転作動破裂ディスクであり、前記中央部が反転開始機構を有する請求項8に記載の超過圧力解放装置。
  12. 前記開口制御機構が開口開始機構を有し、前記中央部がさらに、前記反転開始機構から前記開口開始機構に向かって延びる弱め線を有する請求項11に記載の超過圧力解放装置。
  13. 前記1つ以上の開口制御機構が、前記破裂ディスクの開口時に前記開口線で前記破裂ディスクに作用するエネルギを拡散するように構成された断片化防止機構を有する請求項8に記載の超過圧力解放装置。
  14. 前記離間したレーザ加工溝の少なくとも1つが、前記チャネルから、前記外側フランジ部に向かう方向に延びる請求項13に記載の超過圧力解放装置。
  15. 前記離間したレーザ加工溝の少なくとも1つが、前記チャネルから、前記開口線の内側の方向に延びる請求項13に記載の超過圧力解放装置。
  16. 前記離間した溝がそれぞれ、前記チャネルの平均深さよりも小さい平均深さを有する請求項8に記載の超過圧力解放装置。
  17. 前記レーザ加工開口線が、前記中央部の一方の面上に十字型パターンで配置された複数の開口線部を有する請求項1に記載の超過圧力解放装置。
  18. 前記開口線部の少なくとも1つが、前記外側フランジ部に隣接する前記中央部の領域から前記中央部の中心に向かって延びているが、前記開口線部のうち他のものとは交差しない請求項17に記載の超過圧力解放装置。
  19. 前記複数の開口線部の少なくとも1つが、前記外側フランジ部に隣接して配置された端部領域を有し、前記端部領域が、前記開口制御機構の1つを有し、前記端部領域開口制御機構が断片化防止機構である請求項17に記載の超過圧力解放装置。
  20. 圧力解放装置で開口線を形成する方法であって、
    対向面を有する中央部と、前記中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する超過圧力解放装置を提供し、
    レーザビームを複数のレーザパスで前記圧力解放装置上に通過させることにより前記圧力解除装置に前記開口線を形成することからなり、
    前記パスの各々は所定のレーザ経路をたどり、レーザアブレーションで前記圧力解放装置から材料を選択的に除去するように操作できることで溝を形成し、前記開口線は、1つ以上の開口線部と、1つ以上の開口制御機構とを有し、
    各経路上にレーザアブレーションにより形成された溝が、他のレーザ経路上にレーザアブレーションにより形成された溝と少なくとも一部重なるように、前記複数のレーザ経路の各々の少なくとも一部が、他のレーザ経路の少なくとも一部と離間し、複数のレーザ経路の間隔および溝の重畳度が実質的に一定に維持されている前記部分が前記1つ以上の開口線部に相当し、
    各レーザ経路の少なくとも一部が1つ以上の他のレーザ経路から分岐し、レーザ経路の分岐部分が前記1つ以上の開口制御機構に相当することを特徴とする方法。
  21. 前記中央部が突き出ており、前記対向面が凸面と凹面とを有し、前記開口線が前記中央部の前記凹面に形成される請求項20に記載の方法。
  22. 前記1つ以上の開口制御機構が、複数の離間したレーザ加工溝を有し、前記レーザ加工溝が互いに近づき結合して、前記開口線部の少なくとも1つになり、前記1つ以上の開口線部が、前記面の一方から前記面の他方に向かって圧力解放装置に貫入するチャネルを有する請求項20に記載の方法。
  23. 前記1つ以上の開口制御機構が、超過圧力状態に置かれると前記圧力解放装置の開口を助けるように構成された開口開始機構を有する請求項22に記載の方法。
  24. 前記レーザ加工開口線が実質的にC形状であり、離間した一対の端部領域を有し、前記端部領域がその間のヒンジ部を規定する請求項23に記載の方法。
  25. 前記開口開始機構が、前記ヒンジ部とは反対側の前記中央部上に配置される請求項24に記載の方法。
  26. 前記1つ以上の開口制御機構が、前記圧力解放装置の開口時に前記開口線で前記圧力解放装置に作用するエネルギを拡散するように構成された断片化防止機構を有する請求項22に記載の方法。
  27. 前記離間したレーザ加工溝の少なくとも1つが、前記チャネルから、前記外側フランジ部に向かう方向に延びる請求項26に記載の方法。
  28. 前記離間したレーザ加工溝の少なくとも1つが、前記チャネルから、前記開口線の内側の方向に延びる請求項26に記載の方法。
  29. 前記レーザビームパスの少なくとも1つの間に、前記レーザビームが、前記開口制御機構の少なくとも1つに相当するレーザ経路の部分で不連続に操作されて、前記中央部の非レーザ加工領域により相互接続された一対の端部を含む不連続溝が形成される請求項22に記載の方法。
  30. 前記離間した溝がそれぞれ、前記チャネルの平均深さよりも小さい平均深さを有する請求項22に記載の方法。
  31. 前記レーザ加工開口線が、前記中央部の一方の面上に十字型パターンで配置された複数の開口線部を有する請求項20に記載の方法。
  32. 前記開口線部の少なくとも1つが、前記外側フランジ部に隣接する前記中央部の領域から、前記中央部の中心に向かって延びているが、前記開口線部のうちの少なくとも他の1つのものとは交差しない請求項31に記載の方法。
  33. 前記複数の開口線部の少なくとも1つが、前記外側フランジ部に隣接して配置された端部領域を有し、前記端部領域が、前記開口制御機構の1つを有し、前記端部領域開口制御機構が断片化防止機構である請求項31に記載の方法。
  34. 対向面を有する中央部と、前記中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する破裂ディスクと、
    前記破裂ディスクに形成され、かつ少なくとも一部が、前記破裂ディスクの超過圧力解放領域を規定する略C形状のレーザ加工開口線とを有し、
    前記開口線は、ヒンジ領域を規定する一対の離間した端部領域を有し、前記ディスクが開くと、前記中央部の一部が前記ヒンジ領域を中心にして回転し、
    前記レーザ加工開口線が、1つ以上の開口線部と、1つ以上のレーザ加工開口制御機構とを有し、前記開口制御機構の少なくとも1つが、開口開始機構を有し、前記開口開始機構が前記ヒンジ領域とは反対側の前記破裂ディスク上に配置され、
    前記1つ以上の開口線部が、前記面の一方から前記面の他方に向かってディスクに貫入するチャネルを有し、前記チャネルが最大幅Wおよび最大深さDを有する一対のチャネル縁部により規定され、
    前記開口開始機構が、前記開口線部の1つ以上に隣接して形成された1つ以上のポケットを有し、前記ポケットの少なくとも1つが、Wより大きい最大幅Wと、Dより小さい平均深さDとを有することを特徴とする超過圧力解放装置。
  35. 前記開口線部の1つが、前記ポケットの少なくとも1つと交わる請求項34に記載の超過圧力解放装置。
  36. 対向面を有する中央部と、前記中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する破裂ディスクと、
    前記破裂ディスクに形成され、かつ少なくとも一部が、前記破裂ディスクの超過圧力解放領域を規定するレーザ加工開口線とを有し、
    前記レーザ加工開口線が、1つ以上の開口線部と、1つ以上のレーザ加工開口制御機構とを有し、前記開口制御機構の少なくとも1つが、前記破裂ディスクの開口時に前記開口線で前記破裂ディスクに作用するエネルギを拡散するように構成された断片化防止機構を有し、
    前記1つ以上の開口線部が、前記面の一方から前記面の他方に向かってディスクに貫入するチャネルを有し、前記チャネルが最大幅Wおよび最大深さDを有する一対のチャネル縁部により規定され、
    前記断片化防止機構が、前記開口線部のひとつに隣接して配置された1つ以上のポケットを有し、前記ポケットの少なくとも1つが、Wより大きい最大幅Wと、Dより小さい平均深さDとを有することを特徴とする超過圧力解放装置。
  37. 対向面を有する中央部と、前記中央部を取り囲む関係にある外側フランジ部とを有する破裂ディスクと、
    前記破裂ディスクに形成されたレーザ加工開口線とを有し、
    前記レーザ加工開口線が、第1開口開始機構により相互接続された第1開口線部対と、第2開口開始機構により相互接続された第2開口線部対とを有し、前記第1開口開始機構が、前記中央部の中心でまたは中心付近で前記第2開口開始機構と交わって、中央ポケットを形成し、
    前記開口線部の各々が、前記面の一方から前記面の他方に向かってディスクに貫入するチャネルを有し、
    前記第1開口開始機構および第2開口開始機構の各々が、少なくとも一部レーザ加工側方縁部対により規定され、前記レーザ加工側方縁部対が、前記開口線部の方向で互いに近づくことを特徴とする超過圧力解放装置。
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