JP2016224323A - Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device - Google Patents

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electro
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lens
optical device
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善丈 立野
Yoshitake Tateno
善丈 立野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device capable of suppressing luminance unevenness of an image even if positional deviations occur when a first substrate formed with pixel electrodes and a second substrate formed with optical elements such as lenses are bonded together, and an electronic apparatus and a manufacturing method of the electro-optical device.SOLUTION: In a first substrate 10 of an electro-optical device, a plurality of pixel electrodes 9a are arranged such that each distance between centers in a first direction X of two pixel electrodes 9a adjacent to each other in the first direction X is a first pitch Pax. In a second substrate 20, a plurality of optical elements 25 are arranged such that each distance between centers in the first direction X of two optical elements 25 adjacent to each other in the first direction X is a second pitch Pbx. The second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. Accordingly, the centers of the optical elements 25 positioned at end portions in the first direction X are positioned closer to outsides in the first direction X than the centers the pixel electrodes 9a facing the optical elements 25.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、レンズ等の光学素子が形成された基板を備えた電気光学装置、電気光学装置
を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。
The present invention relates to an electro-optical device including a substrate on which an optical element such as a lens is formed, an electronic apparatus including the electro-optical device, and a method for manufacturing the electro-optical device.

投射型表示装置のライトバルブ等として用いられる電気光学装置(液晶装置)では、図
17に示すように、複数の画素電極が設けられた第1基板10と、第2基板20との間に
液晶層等の電気光学層が設けられている。第2基板20では、いわゆるマイクロレンズと
称せられるレンズやブラックマトリクス等の光学素子が設けられており、光学素子を経由
して画素電極に到達した光が表示に寄与する(特許文献1、2参照)。一方、レンズを備
えた第2基板20(レンズアレイ基板30)を形成する際、レンズアレイ基板30の中心
より端部においてレンズのピッチを狭めておき、電気光学装置100の組み立て工程にお
いて加えられた熱によってレンズアレイ基板30が膨張したときにレンズを画素電極に適
正に対向させる技術が提案されている(特許文献3参照)。
In an electro-optical device (liquid crystal device) used as a light valve or the like of a projection display device, liquid crystal is provided between a first substrate 10 provided with a plurality of pixel electrodes and a second substrate 20 as shown in FIG. An electro-optic layer such as a layer is provided. The second substrate 20 is provided with an optical element such as a so-called microlens or a black matrix, and light that reaches the pixel electrode via the optical element contributes to display (see Patent Documents 1 and 2). ). On the other hand, when forming the second substrate 20 (lens array substrate 30) having the lens, the pitch of the lens is narrowed at the end from the center of the lens array substrate 30 and added in the assembly process of the electro-optical device 100. A technique has been proposed in which a lens is appropriately opposed to a pixel electrode when the lens array substrate 30 is expanded by heat (see Patent Document 3).

特開2009−63888号公報JP 2009-63888 A 特開2011−22311号公報JP 2011-22311 A 特開2004−61633号公報JP 2004-61633 A

特許文献1、2に記載した電気光学装置100を投射型表示装置に搭載した際、図17
に示すように、光源から出射された光は、偏光変換素子164やコンデンサーレンズ16
5等を経由して電気光学装置100に照射される。その際、電気光学装置100に外側か
ら斜めに入射する光は、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光より強度が高い
。その場合でも、投射光学系118を介してスクリーン111等に投射される光では、外
側から斜めに入射した光と内側から斜めに入射した光とが合成されるので、スクリーン1
11等に投射された画像には輝度むらが発生しにくい。
When the electro-optical device 100 described in Patent Documents 1 and 2 is mounted on a projection display device, FIG.
As shown in FIG. 4, the light emitted from the light source is converted into the polarization conversion element 164 and the condenser lens 16.
The electro-optical device 100 is irradiated via 5 or the like. At this time, the light incident on the electro-optical device 100 obliquely from the outside has higher intensity than the light incident on the electro-optical device 100 obliquely from the inside. Even in that case, in the light projected on the screen 111 or the like via the projection optical system 118, the light incident obliquely from the outside and the light obliquely incident from the inside are combined, so that the screen 1
In the image projected onto 11 etc., uneven brightness is unlikely to occur.

しかしながら、図18に示すように、第1基板10に対して第2基板20(レンズアレ
イ基板30)がずれた状態で貼り合わされると、電気光学装置100の一方端側に向けて
外側から斜めに入射した光が電気光学装置100から出射されにくくなる。その結果、ス
クリーン111等に投射された画像では、電気光学装置100の一方端側に対応する部分
の輝度が低下する。かかる問題は、特許文献3に記載の技術を用いても解消することが困
難である。
However, as shown in FIG. 18, when the second substrate 20 (lens array substrate 30) is bonded to the first substrate 10 in a shifted state, the electrooptic device 100 is inclined obliquely from the outside toward the one end side. It becomes difficult for the light incident on the light to be emitted from the electro-optical device 100. As a result, in the image projected on the screen 111 or the like, the luminance of the portion corresponding to one end side of the electro-optical device 100 is lowered. Such a problem is difficult to solve even by using the technique described in Patent Document 3.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、画素電極が形成された第1基板とレンズ等の
光学素子が形成された第2基板とを貼り合わせた際に位置ずれが発生しても、画像の輝度
むらを抑制することのできる電気光学装置、電気光学装置を備えた電子機器、および電気
光学装置の製造方法を提供することにある。
In view of the above problems, the problem of the present invention is that even when a positional deviation occurs when a first substrate on which a pixel electrode is formed and a second substrate on which an optical element such as a lens is formed are bonded together. Another object of the present invention is to provide an electro-optical device capable of suppressing uneven brightness of an image, an electronic apparatus including the electro-optical device, and a method for manufacturing the electro-optical device.

上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置の一態様は、第1方向に沿って
複数の画素電極が配列された第1基板と、前記複数の画素電極の各々に対応させるように
複数の光学素子が配列された第2基板と、を有し、前記複数の画素電極は、前記第1方向
で隣り合う2つの前記画素電極の前記第1方向における中心間の距離がいずれも第1ピッ
チとなるように配列され、前記複数の光学素子は、前記第1方向で隣り合う2つの前記光
学素子の前記第1方向における中心間の距離がいずれも第2ピッチとなるように配列され
、前記第2ピッチは、前記第1ピッチより長く、前記複数の光学素子のうち、前記第1方
向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の
中心よりも外側に位置することを特徴とする。
In order to solve the above problems, an aspect of the electro-optical device according to the present invention is configured to correspond to each of the plurality of pixel electrodes, and the first substrate on which the plurality of pixel electrodes are arranged along the first direction. A plurality of optical elements arranged on the second substrate, and the plurality of pixel electrodes each have a distance between centers of the two pixel electrodes adjacent in the first direction in the first direction. The plurality of optical elements are arranged so as to have a first pitch, and the plurality of optical elements are arranged so that the distance between the centers in the first direction of two optical elements adjacent in the first direction becomes a second pitch. The second pitch is longer than the first pitch, and among the plurality of optical elements, the center of the optical element located at the end in the first direction is the corresponding pixel of the plurality of pixel electrodes. Located outside the center of the electrode And features.

本発明において、第2基板の複数の光学素子は各々、第1基板の複数の画素電極に対向
しているが、光学素子の第1方向における中心間の距離(第2ピッチ)は、画素電極の第
1方向における中心間の距離(第1ピッチ)より長い。このため、第1方向の端部では、
光学素子の中心が画素電極の中心より第1方向における外側に位置する。従って、光が電
気光学装置に照射された際、第1方向の外側から斜めに入射した光は、光学素子を経由し
て、画素電極の略中央に入射する。それ故、第1方向の外側から斜めに入射する光が、電
気光学装置に内側から斜めに入射する光より強度が高い場合に、第1基板に対して第2基
板が第1方向にずれた状態で貼り合わされたときでも、投射された画像において、輝度が
部分的に低下するという事態の発生を抑制することができる。
In the present invention, each of the plurality of optical elements on the second substrate faces the plurality of pixel electrodes on the first substrate, but the distance between the centers in the first direction of the optical elements (second pitch) is the pixel electrode. Longer than the distance between the centers in the first direction (first pitch). For this reason, at the end in the first direction,
The center of the optical element is located outside the center of the pixel electrode in the first direction. Accordingly, when the electro-optical device is irradiated with light, the light incident obliquely from the outside in the first direction enters the approximate center of the pixel electrode via the optical element. Therefore, when the light incident obliquely from the outside in the first direction has a higher intensity than the light incident obliquely from the inside to the electro-optical device, the second substrate is displaced in the first direction with respect to the first substrate. Even when the images are pasted together, it is possible to suppress the occurrence of a situation in which the luminance is partially reduced in the projected image.

本発明において、前記複数の画素電極は、前記第1方向に対して交差する第2方向に沿
って配列され、前記複数の画素電極は、前記第2方向で隣り合う2つの前記画素電極の前
記第2方向における中心間の距離がいずれも第3ピッチとなるように配列され、前記複数
の光学素子は、前記第2方向で隣り合う2つの前記光学素子の前記第2方向における中心
間の距離がいずれも第4ピッチとなるように配列され、前記第4ピッチは、前記第3ピッ
チより長く、前記複数の光学素子のうち、前記第2方向の端部に位置する光学素子の中心
は、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置ことが好まし
い。かかる構成によれば、第2方向の端部では、光学素子の中心が画素電極の中心より第
2方向における外側に位置する。従って、光が電気光学装置に照射された際、第2方向の
外側から斜めに入射した光は、光学素子を経由して、画素電極の略中央に入射する。それ
故、第2方向の外側から斜めに入射する光が、電気光学装置に内側から斜めに入射する光
より強度が高い場合に、第1基板に対して第2基板が第2方向にずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑
制することができる。
In the present invention, the plurality of pixel electrodes are arranged along a second direction intersecting the first direction, and the plurality of pixel electrodes are the two of the pixel electrodes adjacent in the second direction. The distances between the centers in the second direction are all arranged at a third pitch, and the plurality of optical elements are distances between the centers in the second direction of the two optical elements adjacent in the second direction. Are arranged so as to have a fourth pitch, the fourth pitch is longer than the third pitch, and among the plurality of optical elements, the center of the optical element located at the end in the second direction is Among the plurality of pixel electrodes, it is preferable that the pixel electrode is located outside the center of the corresponding pixel electrode. According to such a configuration, at the end in the second direction, the center of the optical element is located outside the center of the pixel electrode in the second direction. Accordingly, when the electro-optical device is irradiated with light, the light incident obliquely from the outside in the second direction enters the approximate center of the pixel electrode via the optical element. Therefore, when the light incident obliquely from the outside in the second direction is higher in intensity than the light incident obliquely from the inside to the electro-optical device, the second substrate is displaced in the second direction with respect to the first substrate. Even when the images are pasted together, it is possible to suppress the occurrence of a situation in which the luminance is partially reduced in the projected image.

本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光するレンズ
である態様を採用することができる。
In the present invention, it is possible to adopt an aspect in which each of the plurality of optical elements is a lens that collects incident light.

本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光する第1レ
ンズであり、前記第1基板は、前記複数の画素電極の各々に対応させるように配列された
複数の第2レンズを備え、前記複数の第2レンズは、前記第1方向で隣り合う2つの前記
第2レンズの前記第1方向における中心間の距離がいずれも第5ピッチとなるように配列
され、前記第5ピッチは、前記第1ピッチより長く、かつ、前記第2ピッチより短いこと
が好ましい。
In the present invention, each of the plurality of optical elements is a first lens that condenses incident light, and the first substrate is a plurality of pixels arranged to correspond to each of the plurality of pixel electrodes. A second lens, and the plurality of second lenses are arranged such that the distance between the centers of the two second lenses adjacent in the first direction is the fifth pitch. The fifth pitch is preferably longer than the first pitch and shorter than the second pitch.

本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光の一部を遮光する
ブラックマトリクスである態様を採用することができる。
In the present invention, it is possible to adopt a mode in which each of the plurality of optical elements is a black matrix that blocks a part of incident light.

本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光のうち一部の波長
の光を透過するカラーフィルターである態様を採用してもよい。
In the present invention, each of the plurality of optical elements may be a color filter that transmits light having a part of the wavelength of incident light.

本発明において、前記複数の光学素子の各々は、前記第1方向に沿った幅が、前記複数
の画素電極の各々の前記第1方向に沿った幅より大きいことが好ましい。かかる構成によ
れば、第1方向の端部では、第1方向の中央と同様、電気光学装置の正面や内側から入射
した光が光学素子を透過して画素電極に入射しやすい。
In the present invention, each of the plurality of optical elements preferably has a width along the first direction larger than a width along the first direction of each of the plurality of pixel electrodes. According to this configuration, at the end portion in the first direction, similarly to the center in the first direction, light incident from the front or inside of the electro-optical device is easily transmitted through the optical element and incident on the pixel electrode.

本発明において、前記複数の光学素子のうち、前記第1方向の端部に位置する光学素子
の前記第1方向に沿った幅は、前記第1方向の端部よりも中央側に位置する光学素子の前
記第1方向に沿った幅より大きいことが好ましい。かかる構成によれば、第1方向の端部
では、第1方向の中央と同様、電気光学装置の正面や内側から入射した光が光学素子を透
過して画素電極に入射しやすい。
In the present invention, among the plurality of optical elements, an optical element positioned at the end in the first direction has a width along the first direction that is closer to the center than the end in the first direction. The width of the element is preferably larger than the width along the first direction. According to this configuration, at the end portion in the first direction, similarly to the center in the first direction, light incident from the front or inside of the electro-optical device is easily transmitted through the optical element and incident on the pixel electrode.

本発明を適用した電気光学装置は、例えば、投射型表示装置や直視型表示装置等の電子
機器に用いられる。本発明に係る電気光学装置を投射型表示装置に用いる場合、投射型表
示装置には、前記電気光学装置に供給される光を出射する光源部と、前記電気光学装置に
よって変調された光を投射する投射光学系と、が設けられる。
The electro-optical device to which the present invention is applied is used for electronic apparatuses such as a projection display device and a direct view display device. When the electro-optical device according to the present invention is used in a projection display device, the projection display device projects a light source unit that emits light supplied to the electro-optical device and light modulated by the electro-optical device. A projection optical system.

本発明に係る電気光学装置の製造方法の一態様は、第1方向に沿って複数の画素電極が
配列された第1基板を準備する第1基板準備工程と、前記第1方向に沿って複数の光学素
子が配列された第2基板を準備する第2基板準備工程と、前記複数の画素電極と前記複数
の光学素子とがそれぞれ対応するように前記第1基板と前記第2基板と貼り合わせる貼り
合わせ工程と、を有し、前記複数の画素電極を前記第1方向で隣り合う2つの前記画素電
極の前記第1方向における中心間の距離がいずれも第1ピッチとなるように配列しておき
、前記複数の光学素子を前記第1方向で隣り合う2つの前記光学素子の前記第1方向にお
ける中心間の距離がいずれも第2ピッチとなるように配列しておき、前記第2ピッチを、
前記第1ピッチより長くしておき、前記貼り合わせ工程では、前記複数の光学素子のうち
、前記第1方向の端部に位置する光学素子の中心が、前記複数の画素電極のうち、対応す
る画素電極の中心よりも外側に位置するように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わ
せることを特徴とする。
One aspect of the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes a first substrate preparation step of preparing a first substrate on which a plurality of pixel electrodes are arranged along a first direction, and a plurality of the substrate along the first direction. A second substrate preparing step of preparing a second substrate on which the optical elements are arranged, and the first substrate and the second substrate are bonded so that the plurality of pixel electrodes and the plurality of optical elements correspond to each other. A plurality of pixel electrodes arranged such that the distance between the centers of the two pixel electrodes adjacent in the first direction is the first pitch. The plurality of optical elements are arranged such that the distance between the centers in the first direction of two optical elements adjacent in the first direction is the second pitch, and the second pitch is ,
In the bonding step, the center of the optical element located at the end in the first direction corresponds to the pixel electrode among the plurality of pixel electrodes. The first substrate and the second substrate are bonded to each other so as to be located outside the center of the pixel electrode.

本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記第1基板準備工程では、前記複数
の画素電極が配列された領域よりも外側に第1基板側アライメントマークが形成された前
記第1基板を準備し、前記第2基板準備工程では、前記複数の光学素子が配列された領域
よりも外側に第2基板側アライメントマークが形成された前記第2基板を準備し、前記貼
り合わせ工程では、前記第1基板側アライメントマークと前記第2基板側アライメントマ
ークとを位置合わせして前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせることが好ましい。
In the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention, in the first substrate preparation step, the first substrate in which a first substrate side alignment mark is formed outside a region where the plurality of pixel electrodes are arranged is prepared. In the second substrate preparation step, the second substrate on which a second substrate-side alignment mark is formed outside a region where the plurality of optical elements are arranged is prepared. In the bonding step, the second substrate preparation step It is preferable that the first substrate side alignment mark and the second substrate side alignment mark are aligned to bond the first substrate and the second substrate together.

本発明を適用した電気光学装置を用いた投射型表示装置(電子機器)の一態様の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an aspect of a projection display device (electronic apparatus) using an electro-optical device to which the present invention is applied. 図1に示す投射型表示装置における電気光学装置に対する照明光の入射角度特性の一例を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an example of an incident angle characteristic of illumination light with respect to the electro-optical device in the projection display device illustrated in FIG. 1. 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置の平面図である。1 is a plan view of an electro-optical device according to Embodiment 1 of the present invention. 図3に示す電気光学装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the electro-optical device shown in FIG. 3. 図4に示す電気光学装置におけるレンズ等の断面構成を模式的に示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically illustrating a cross-sectional configuration of a lens or the like in the electro-optical device illustrated in FIG. 4. 図4に示す電気光学装置におけるレンズと遮光層との平面的な位置関係の一例を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an example of a planar positional relationship between a lens and a light shielding layer in the electro-optical device illustrated in FIG. 4. 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in the electro-optical device according to the first embodiment of the invention. 本発明の実施の形態1に係る電気光学装置におけるレンズと画素電極との位置関係を模式的に示す断面図である。3 is a cross-sectional view schematically showing a positional relationship between a lens and a pixel electrode in the electro-optical device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 本発明の実施の形態1の変形例1に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in an electro-optical device according to Modification 1 of Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態1の変形例2に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in an electro-optical device according to a second modification of the first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置におけるレンズ等の断面構成を模式的に示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing a cross-sectional configuration of a lens or the like in an electro-optical device according to Embodiment 2 of the invention. 本発明の実施の形態2に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in an electro-optical device according to Embodiment 2 of the present invention. 本発明の実施の形態2の変形例1に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in an electro-optical device according to Modification 1 of Embodiment 2 of the present invention. 本発明の実施の形態2の変形例2に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing a lens layout and the like in an electro-optical device according to a second modification of the second embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態3に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an electro-optical device according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態4に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an electro-optical device according to Embodiment 4 of the present invention. 電気光学装置に入射する光の説明図である。It is explanatory drawing of the light which injects into an electro-optical apparatus. 第1基板と第2基板との位置ずれの影響を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the influence of the position shift of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate.

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図にお
いては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に
縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、電気光学装置100の面内方向で互い
に交差する2方向のうちの一方を第1方向Xとし、他方を第2方向Yとして説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings to be referred to in the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing. In the following description, one of the two directions intersecting each other in the in-plane direction of the electro-optical device 100 will be described as the first direction X, and the other will be described as the second direction Y.

[実施の形態1]
(投射型表示装置の構成)
図1は、本発明を適用した電気光学装置100を用いた投射型表示装置110(電子機
器)の一態様の概略構成図である。なお、以下の説明では、互いに異なる波長域の光が供
給される複数の電気光学装置100が用いられているが、いずれの電気光学装置100に
も、本発明を適用した電気光学装置100が用いられている。
[Embodiment 1]
(Configuration of projection display device)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an aspect of a projection display device 110 (electronic apparatus) using an electro-optical device 100 to which the present invention is applied. In the following description, a plurality of electro-optical devices 100 to which light having different wavelength ranges are supplied are used. However, the electro-optical device 100 to which the present invention is applied is used for any of the electro-optical devices 100. It has been.

図1に示す投射型表示装置110は、透過型の電気光学装置100を用いた液晶プロジ
ェクターであり、スクリーン111等からなる被投射部材に光を照射し、画像を表示する
。投射型表示装置110は、装置光軸Lpに沿って、照明装置160と、照明装置160
から出射された光が供給される複数の電気光学装置100(液晶ライトバルブ115〜1
17)と、複数の電気光学装置100から出射された光を合成して出射するクロスダイク
ロイックプリズム119(光合成光学系)と、クロスダイクロイックプリズム119によ
り合成された光を投射する投射光学系118とを有している。また、投射型表示装置11
0は、ダイクロイックミラー113、114、およびリレー系120を備えている。投射
型表示装置110において、電気光学装置100およびクロスダイクロイックプリズム1
19は、光学ユニット200を構成している。
A projection display device 110 shown in FIG. 1 is a liquid crystal projector using a transmissive electro-optical device 100, and irradiates light to a projection member made up of a screen 111 or the like to display an image. The projection display device 110 includes a lighting device 160 and a lighting device 160 along the device optical axis Lp.
A plurality of electro-optical devices 100 (liquid crystal light valves 115 to 1) supplied with light emitted from
17), a cross dichroic prism 119 (light combining optical system) that combines and outputs the light emitted from the plurality of electro-optical devices 100, and a projection optical system 118 that projects the light combined by the cross dichroic prism 119. Have. In addition, the projection display device 11
0 includes dichroic mirrors 113 and 114 and a relay system 120. In the projection display device 110, the electro-optical device 100 and the cross dichroic prism 1
19 constitutes an optical unit 200.

照明装置160では、装置光軸Lpに沿って、光源部161、フライアイレンズ等のレ
ンズアレイからなる第1インテグレーターレンズ162、フライアイレンズ等のレンズア
レイからなる第2インテグレーターレンズ163、偏光変換素子164、およびコンデン
サーレンズ165が順に配置されている。光源部161は、赤色光R、緑色光Gおよび青
色光Bを含む白色光を出射する光源168と、リフレクター169とを備えている。光源
168は超高圧水銀ランプ等により構成されており、リフレクター169は、放物線状の
断面を有している。第1インテグレーターレンズ162および第2インテグレーターレン
ズ163は、光源部161から出射された光の照度分布を均一化する。偏光変換素子16
4は、光源部161から出射された光を、例えばs偏光のような特定の振動方向を有する
偏光にする。
In the illumination device 160, along the device optical axis Lp, a light source unit 161, a first integrator lens 162 composed of a lens array such as a fly-eye lens, a second integrator lens 163 composed of a lens array such as a fly-eye lens, and a polarization conversion element 164 and a condenser lens 165 are arranged in this order. The light source unit 161 includes a light source 168 that emits white light including red light R, green light G, and blue light B, and a reflector 169. The light source 168 is configured by an ultra-high pressure mercury lamp or the like, and the reflector 169 has a parabolic cross section. The first integrator lens 162 and the second integrator lens 163 make the illuminance distribution of the light emitted from the light source unit 161 uniform. Polarization conversion element 16
4 changes the light emitted from the light source unit 161 into polarized light having a specific vibration direction such as s-polarized light.

ダイクロイックミラー113は、照明装置160から出射された光に含まれる赤色光R
を透過させるとともに、緑色光Gおよび青色光Bを反射する。ダイクロイックミラー11
4は、ダイクロイックミラー113で反射された緑色光Gおよび青色光Bのうち、青色光
Bを透過させるとともに緑色光Gを反射する。このように、ダイクロイックミラー113
、114は、照明装置160から出射された光を赤色光R、緑色光Gおよび青色光Bに分
離する色分離光学系を構成している。
The dichroic mirror 113 is a red light R included in the light emitted from the illumination device 160.
And green light G and blue light B are reflected. Dichroic mirror 11
4 transmits the blue light B and reflects the green light G out of the green light G and the blue light B reflected by the dichroic mirror 113. Thus, the dichroic mirror 113
, 114 constitute a color separation optical system that separates the light emitted from the illumination device 160 into red light R, green light G, and blue light B.

液晶ライトバルブ115は、ダイクロイックミラー113を透過して反射ミラー123
で反射した赤色光Rを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバ
ルブ115は、λ/2位相差板115a、第1偏光板115b、電気光学装置100(赤
色用電気光学装置100R)、および第2偏光板115dを備えている。ここで、液晶ラ
イトバルブ115に入射する赤色光Rは、ダイクロイックミラー113を透過しても光の
偏光は変化しないことから、s偏光のままである。
The liquid crystal light valve 115 is transmitted through the dichroic mirror 113 and reflected by the reflection mirror 123.
This is a transmissive liquid crystal device that modulates the red light R reflected by the light according to the image signal. The liquid crystal light valve 115 includes a λ / 2 retardation plate 115a, a first polarizing plate 115b, an electro-optical device 100 (red electro-optical device 100R), and a second polarizing plate 115d. Here, the red light R incident on the liquid crystal light valve 115 remains as s-polarized light because the polarization of the light does not change even if it passes through the dichroic mirror 113.

λ/2位相差板115aは、液晶ライトバルブ115に入射したs偏光をp偏光に変換
する光学素子である。第1偏光板115bは、s偏光を遮断してp偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置100(赤色用電気光学装置100R)は、p偏光を画像信号に
応じた変調によってs偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)に変換する構成となっ
ている。第2偏光板115dは、p偏光を遮断してs偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ115は、画像信号に応じて赤色光Rを変調し、変調した赤色光
Rをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。λ/2位相差板115aお
よび第1偏光板115bは、偏光を変換させない透光性のガラス板115eに接した状態
で配置されており、λ/2位相差板115aおよび第1偏光板115bが発熱によって歪
むのを回避することができる。
The λ / 2 phase difference plate 115a is an optical element that converts s-polarized light incident on the liquid crystal light valve 115 into p-polarized light. The first polarizing plate 115b is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. The electro-optical device 100 (red electro-optical device 100R) is configured to convert p-polarized light into s-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulation according to an image signal. The second polarizing plate 115d is a polarizing plate that blocks p-polarized light and transmits s-polarized light. Accordingly, the liquid crystal light valve 115 modulates the red light R according to the image signal, and emits the modulated red light R toward the cross dichroic prism 119. The λ / 2 phase difference plate 115a and the first polarizing plate 115b are arranged in contact with a light-transmitting glass plate 115e that does not convert the polarization, and the λ / 2 phase difference plate 115a and the first polarizing plate 115b are arranged. Distortion due to heat generation can be avoided.

液晶ライトバルブ116は、ダイクロイックミラー113で反射した後にダイクロイッ
クミラー114で反射した緑色光Gを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である
。液晶ライトバルブ116は、液晶ライトバルブ115と同様に、第1偏光板116b、
電気光学装置100(緑色用電気光学装置100G)、および第2偏光板116dを備え
ている。液晶ライトバルブ116に入射する緑色光Gは、ダイクロイックミラー113、
114で反射されて入射するs偏光である。第1偏光板116bは、p偏光を遮断してs
偏光を透過させる偏光板である。電気光学装置100(緑色用電気光学装置100G)は
、s偏光を画像信号に応じた変調によってp偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)
に変換する構成となっている。第2偏光板116dは、s偏光を遮断してp偏光を透過さ
せる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ116は、画像信号に応じて緑色光Gを変
調し、変調した緑色光Gをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。
The liquid crystal light valve 116 is a transmissive liquid crystal device that modulates green light G reflected by the dichroic mirror 114 after being reflected by the dichroic mirror 113 in accordance with an image signal. Similarly to the liquid crystal light valve 115, the liquid crystal light valve 116 includes a first polarizing plate 116b,
The electro-optical device 100 (green electro-optical device 100G) and the second polarizing plate 116d are provided. The green light G incident on the liquid crystal light valve 116 is emitted from the dichroic mirror 113,
The s-polarized light is reflected by 114 and incident. The first polarizing plate 116b blocks p-polarized light and s
It is a polarizing plate that transmits polarized light. The electro-optical device 100 (green electro-optical device 100G) converts the s-polarized light into p-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulating the image signal.
It becomes the composition to convert to. The second polarizing plate 116d is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. Therefore, the liquid crystal light valve 116 modulates the green light G according to the image signal, and emits the modulated green light G toward the cross dichroic prism 119.

液晶ライトバルブ117は、ダイクロイックミラー113で反射し、ダイクロイックミ
ラー114を透過した後でリレー系120を経た青色光Bを画像信号に応じて変調する透
過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ117は、液晶ライトバルブ115、116と
同様に、λ/2位相差板117a、第1偏光板117b、電気光学装置100(青色用電
気光学装置100B)、および第2偏光板117dを備えている。液晶ライトバルブ11
7に入射する青色光Bは、ダイクロイックミラー113で反射してダイクロイックミラー
114を透過した後にリレー系120の2つの反射ミラー125a、125bで反射する
ことから、s偏光となっている。
The liquid crystal light valve 117 is a transmissive liquid crystal device that modulates the blue light B reflected by the dichroic mirror 113, transmitted through the dichroic mirror 114, and then passed through the relay system 120 in accordance with an image signal. Similarly to the liquid crystal light valves 115 and 116, the liquid crystal light valve 117 includes a λ / 2 phase difference plate 117a, a first polarizing plate 117b, an electro-optical device 100 (blue electro-optical device 100B), and a second polarizing plate 117d. I have. Liquid crystal light valve 11
7 is reflected by the dichroic mirror 113, passes through the dichroic mirror 114, and then is reflected by the two reflection mirrors 125a and 125b of the relay system 120, so that it is s-polarized light.

λ/2位相差板117aは、液晶ライトバルブ117に入射したs偏光をp偏光に変換
する光学素子である。第1偏光板117bは、s偏光を遮断してp偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置100(青色用電気光学装置100B)は、p偏光を画像信号に
応じた変調によってs偏光(中間調であれば円偏光又は楕円偏光)に変換する構成となっ
ている。第2偏光板117dは、p偏光を遮断してs偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ117は、画像信号に応じて青色光Bを変調し、変調した青色光
Bをクロスダイクロイックプリズム119に向けて出射する。なお、λ/2位相差板11
7a、および第1偏光板117bは、ガラス板117eに接した状態で配置されている。
The λ / 2 phase difference plate 117a is an optical element that converts s-polarized light incident on the liquid crystal light valve 117 into p-polarized light. The first polarizing plate 117b is a polarizing plate that blocks s-polarized light and transmits p-polarized light. The electro-optical device 100 (blue electro-optical device 100B) is configured to convert p-polarized light into s-polarized light (circularly polarized light or elliptically polarized light in the case of halftone) by modulation according to an image signal. The second polarizing plate 117d is a polarizing plate that blocks p-polarized light and transmits s-polarized light. Accordingly, the liquid crystal light valve 117 modulates the blue light B according to the image signal, and emits the modulated blue light B toward the cross dichroic prism 119. The λ / 2 phase difference plate 11
7a and the first polarizing plate 117b are disposed in contact with the glass plate 117e.

リレー系120は、リレーレンズ124a、124bと反射ミラー125a、125b
とを備えている。リレーレンズ124a、124bは、青色光Bの光路が長いことによる
光損失を防止するために設けられている。リレーレンズ124aは、ダイクロイックミラ
ー114と反射ミラー125aとの間に配置されている。リレーレンズ124bは、反射
ミラー125a、125bの間に配置されている。反射ミラー125aは、ダイクロイッ
クミラー114を透過してリレーレンズ124aから出射した青色光Bをリレーレンズ1
24bに向けて反射する。反射ミラー125bは、リレーレンズ124bから出射した青
色光Bを液晶ライトバルブ117に向けて反射する。
The relay system 120 includes relay lenses 124a and 124b and reflection mirrors 125a and 125b.
And. The relay lenses 124a and 124b are provided to prevent light loss due to the long optical path of the blue light B. The relay lens 124a is disposed between the dichroic mirror 114 and the reflection mirror 125a. The relay lens 124b is disposed between the reflection mirrors 125a and 125b. The reflection mirror 125a transmits the blue light B transmitted through the dichroic mirror 114 and emitted from the relay lens 124a to the relay lens 1.
Reflected toward 24b. The reflection mirror 125b reflects the blue light B emitted from the relay lens 124b toward the liquid crystal light valve 117.

クロスダイクロイックプリズム119は、2つのダイクロイック膜119a、119b
をX字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜119aは青色光Bを反
射して緑色光Gを透過する膜であり、ダイクロイック膜119bは赤色光Rを反射して緑
色光Gを透過する膜である。従って、クロスダイクロイックプリズム119は、液晶ライ
トバルブ115〜117のそれぞれで変調された赤色光Rと緑色光Gと青色光Bとを合成
し、投射光学系118に向けて出射する。
The cross dichroic prism 119 includes two dichroic films 119a and 119b.
Is a color synthesizing optical system in which X is orthogonally arranged in an X shape. The dichroic film 119a is a film that reflects blue light B and transmits green light G, and the dichroic film 119b is a film that reflects red light R and transmits green light G. Accordingly, the cross dichroic prism 119 combines the red light R, the green light G, and the blue light B that are modulated by the liquid crystal light valves 115 to 117, and emits the resultant light toward the projection optical system 118.

なお、液晶ライトバルブ115、117からクロスダイクロイックプリズム119に入
射する光はs偏光であり、液晶ライトバルブ116からクロスダイクロイックプリズム1
19に入射する光はp偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム119に入
射する光を異なる種類の偏光としていることにより、クロスダイクロイックプリズム11
9において各液晶ライトバルブ115〜117から入射する光を合成できる。ここで、一
般に、ダイクロイック膜119a、119bはs偏光の反射特性に優れている。このため
、ダイクロイック膜119a、119bで反射される赤色光R、および青色光Bをs偏光
とし、ダイクロイック膜119a、119bを透過する緑色光Gをp偏光としている。投
射光学系118は、投影レンズ(図示略)を有しており、クロスダイクロイックプリズム
119で合成された光をスクリーン111等の被投射部材に投射する。
The light that enters the cross dichroic prism 119 from the liquid crystal light valves 115 and 117 is s-polarized light, and the cross dichroic prism 1 from the liquid crystal light valve 116.
The light incident on 19 is p-polarized light. Thus, by making the light incident on the cross dichroic prism 119 into different types of polarized light, the cross dichroic prism 11
9, the light incident from the liquid crystal light valves 115 to 117 can be synthesized. Here, in general, the dichroic films 119a and 119b are excellent in the reflection characteristics of s-polarized light. For this reason, red light R and blue light B reflected by the dichroic films 119a and 119b are s-polarized light, and green light G transmitted through the dichroic films 119a and 119b is p-polarized light. The projection optical system 118 has a projection lens (not shown), and projects the light combined by the cross dichroic prism 119 onto a projection target member such as the screen 111.

(電気光学装置100への照明光の入射角度特性)
図2は、図1に示す投射型表示装置110における電気光学装置100に対する照明光
の入射角度特性の一例を示す説明図である。なお、図2では、各入射方向において光強度
が高い方向を白い領域を大きく示し、光強度が高い側に「H」を付し、光強度が低いい側
に「L」を付してある。
(Incident angle characteristics of illumination light to the electro-optical device 100)
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an example of an incident angle characteristic of illumination light with respect to the electro-optical device 100 in the projection display device 110 illustrated in FIG. In FIG. 2, the white region is shown in a large direction in which the light intensity is high in each incident direction, “H” is attached to the side where the light intensity is high, and “L” is attached to the side where the light intensity is low. .

図1に示す投射型表示装置110においては、図17を参照して説明したように、電気
光学装置100に照射される光のうち、電気光学装置100に外側から斜めに入射する光
は、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光より強度が高い。例えば、図2に示
すように、電気光学装置100の各位置B1〜B9に対する入射光の入射角度分布には偏
りが存在しており、電気光学装置100に対して外側から斜めに入射する光は、電気光学
装置100に内側から斜めに入射する光より強度が高い。このため、電気光学装置100
の中央の位置B5では、図面に向かって左右対称および上下対称の強度で照明光が入射す
るが、端部に近い位置B1〜B4、B6〜B9では、図面に向かって左右および上下にお
いて、外側から入射する光の強度が内側から入射する光の強度より高い。
In the projection type display device 110 shown in FIG. 1, as described with reference to FIG. 17, among the light irradiated on the electro-optical device 100, the light incident obliquely on the electro-optical device 100 from the outside is electrically The intensity is higher than that of light incident obliquely on the optical device 100 from the inside. For example, as shown in FIG. 2, there is a bias in the incident angle distribution of the incident light with respect to each position B <b> 1 to B <b> 9 of the electro-optical device 100, and light incident obliquely from the outside to the electro-optical device 100 is The intensity is higher than the light incident on the electro-optical device 100 obliquely from the inside. Therefore, the electro-optical device 100
In the center position B5, the illumination light is incident on the left and right symmetrically and vertically symmetrical intensities toward the drawing. The intensity of light incident from the inside is higher than the intensity of light incident from the inside.

本発明では、上記の入射角度分布の偏りが存在する状態で、図18を参照して説明した
第2基板20と第1基板10との位置ずれが発生しても、画像の輝度むらを抑制すること
を目的に、電気光学装置100を以下に説明するように構成してある。
In the present invention, even if the positional deviation between the second substrate 20 and the first substrate 10 described with reference to FIG. 18 occurs in a state where the above-described incident angle distribution is biased, the luminance unevenness of the image is suppressed. For this purpose, the electro-optical device 100 is configured as described below.

(電気光学装置100の全体構成)
図3は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100の平面図である。図4は、図
3に示す電気光学装置100の断面図である。
(Overall configuration of electro-optical device 100)
FIG. 3 is a plan view of the electro-optical device 100 according to Embodiment 1 of the present invention. 4 is a cross-sectional view of the electro-optical device 100 shown in FIG.

図3および図4に示すように、電気光学装置100は、透光性の第1基板10と透光性
の第2基板20とが所定の隙間を介してシール材107によって貼り合わされており、第
1基板10と第2基板20との間でシール材107によって囲まれた領域に液晶層からな
る電気光学層80が配置されている。シール材107は第2基板20の外縁に沿うように
枠状に設けられている。シール材107は、光硬化性を備えた接着剤、あるいは光硬化性
および熱硬化性を備えた接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファ
イバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。かかるシール材107
としては、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル変性樹脂系、エポキシ変性樹脂系
等の光硬化性接着剤(紫外光硬化型接着剤/UV硬化型接着剤)を用いることができる。
As shown in FIGS. 3 and 4, in the electro-optical device 100, the light-transmitting first substrate 10 and the light-transmitting second substrate 20 are bonded to each other with a sealant 107 through a predetermined gap. An electro-optic layer 80 made of a liquid crystal layer is disposed in a region surrounded by the sealing material 107 between the first substrate 10 and the second substrate 20. The sealing material 107 is provided in a frame shape along the outer edge of the second substrate 20. The sealing material 107 is a photo-curing adhesive or a photo-curing and thermo-curing adhesive, such as glass fiber or glass beads for setting the distance between both substrates to a predetermined value. Gap material is blended. Such sealing material 107
As such, a photo-curable adhesive (ultraviolet light curable adhesive / UV curable adhesive) such as acrylic resin, epoxy resin, acrylic modified resin, and epoxy modified resin can be used.

第1基板10および第2基板20はいずれも四角形であり、電気光学装置100の略中
央には、表示領域10aが四角形の領域として設けられている。かかる形状に対応して、
シール材107も略四角形に設けられ、シール材107の内周縁と表示領域10aの外周
縁との間には、矩形枠状の周辺領域10bが設けられている。本形態において、表示領域
10aは、第1方向Xのサイズが第2方向Yのサイズより大きな長方形である。ここで、
第1基板10および第2基板20は、第1方向Xのサイズが等しいが、第1基板10の第
1方向Xのサイズが第2基板20の第1方向Xのサイズより大きい形態や、第1基板10
の第1方向Xのサイズが第2基板20の第1方向Xのサイズより小さい形態を採用しても
よい。
The first substrate 10 and the second substrate 20 are both square, and a display area 10 a is provided as a square area in the approximate center of the electro-optical device 100. In response to such a shape,
The sealing material 107 is also provided in a substantially square shape, and a rectangular frame-shaped peripheral region 10b is provided between the inner peripheral edge of the sealing material 107 and the outer peripheral edge of the display region 10a. In the present embodiment, the display area 10a is a rectangle whose size in the first direction X is larger than the size in the second direction Y. here,
The first substrate 10 and the second substrate 20 have the same size in the first direction X, but the size of the first substrate 10 in the first direction X is larger than the size of the second substrate 20 in the first direction X, 1 substrate 10
The first direction X may be smaller than the size of the second substrate 20 in the first direction X.

第1基板10の第2基板20側の面において、表示領域10aの外側には、第1基板1
0の一辺に沿ってデータ線駆動回路101および複数の端子102が形成されており、こ
の一辺に隣接する他の辺に沿って走査線駆動回路104が形成されている。端子102に
は、フレキシブル配線基板(図示せず)が接続されており、第1基板10には、フレキシ
ブル配線基板を介して各種電位や各種信号が入力される。
On the surface of the first substrate 10 on the second substrate 20 side, the first substrate 1 is located outside the display area 10a.
A data line driving circuit 101 and a plurality of terminals 102 are formed along one side of 0, and a scanning line driving circuit 104 is formed along another side adjacent to the one side. A flexible wiring substrate (not shown) is connected to the terminal 102, and various potentials and various signals are input to the first substrate 10 through the flexible wiring substrate.

また、第1基板10の第2基板20側の面において、表示領域10aには、ITO(I
ndium Tin Oxide)膜等からなる透光性の画素電極9a、および画素電極
9aに電気的に接続する画素トランジスター(図示せず)がマトリクス状に形成されてい
る。従って、表示領域10aは、図8を参照して後述するように、第1方向Xおよび第1
方向Xに対して交差する第2方向Yに沿って複数の画素電極9aが配列された画素電極配
列領域10eからなる。画素電極9aに対して第2基板20側には配向膜16が形成され
ている。また、第1基板10において、周辺領域10bには、画素電極9aと同時形成さ
れたダミー画素電極9bが形成されている。
In addition, on the surface of the first substrate 10 on the second substrate 20 side, the display region 10a has ITO (I
A translucent pixel electrode 9a made of an ndium tin oxide) film and the like, and pixel transistors (not shown) electrically connected to the pixel electrode 9a are formed in a matrix. Accordingly, the display area 10a has the first direction X and the first direction as described later with reference to FIG.
It consists of a pixel electrode array region 10e in which a plurality of pixel electrodes 9a are arrayed along a second direction Y that intersects the direction X. An alignment film 16 is formed on the second substrate 20 side with respect to the pixel electrode 9a. In the first substrate 10, a dummy pixel electrode 9b that is formed simultaneously with the pixel electrode 9a is formed in the peripheral region 10b.

第2基板20の第1基板10と対向する面側には、ITO膜等からなる透光性の共通電
極21が形成されており、共通電極21に対して第1基板10側には配向膜26が形成さ
れている。本形態において、共通電極21は、第2基板20の略全面に形成されている。
A translucent common electrode 21 made of an ITO film or the like is formed on the surface side of the second substrate 20 facing the first substrate 10, and the alignment film is disposed on the first substrate 10 side with respect to the common electrode 21. 26 is formed. In this embodiment, the common electrode 21 is formed on substantially the entire surface of the second substrate 20.

配向膜16、26は、ポリイミド等の樹脂膜、あるいはシリコン酸化膜等の斜方蒸着膜
からなる。本形態において、配向膜16、26は、SiOx(x<2)、SiO、Ti
、MgO、Al、In、Sb、Ta等の斜方蒸着膜からな
る無機配向膜(垂直配向膜)であり、電気光学層80に用いた負の誘電率異方性を備えた
液晶分子を傾斜配向させ、電気光学装置100をVA(Vertical Alignm
ent)モードの液晶装置として動作させる。
The alignment films 16 and 26 are made of a resin film such as polyimide or an oblique deposition film such as a silicon oxide film. In this embodiment, the alignment films 16 and 26 are made of SiOx (x <2), SiO 2 , Ti.
This is an inorganic alignment film (vertical alignment film) made of an obliquely deposited film such as O 2 , MgO, Al 2 O 3 , In 2 O 3 , Sb 2 O 3 , Ta 2 O 5 , and used for the electro-optical layer 80. The liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are tilted to align the electro-optical device 100 with VA (Vertical Alignnm).
ent) mode liquid crystal device.

第1基板10には、シール材107より外側において第2基板20の角部分と重なる領
域に、第1基板10と第2基板20との間で電気的導通をとるための基板間導通用電極1
09が形成されている。基板間導通用電極109には、導電粒子を含んだ基板間導通材1
09aが配置されており、第2基板20の共通電極21は、基板間導通材109aおよび
基板間導通用電極109を介して、第1基板10側に電気的に接続されている。このため
、共通電極21は、第1基板10の側から共通電位が印加されている。
The first substrate 10 has an inter-substrate conduction electrode for providing electrical continuity between the first substrate 10 and the second substrate 20 in a region overlapping the corner portion of the second substrate 20 outside the sealing material 107. 1
09 is formed. The inter-substrate conducting electrode 109 includes an inter-substrate conducting material 1 containing conductive particles.
09a is disposed, and the common electrode 21 of the second substrate 20 is electrically connected to the first substrate 10 side via the inter-substrate conducting material 109a and the inter-substrate conducting electrode 109. For this reason, a common potential is applied to the common electrode 21 from the first substrate 10 side.

本形態の電気光学装置100において、画素電極9aおよび共通電極21が透光性導電
膜により形成されており、電気光学装置100は、透過型液晶装置として構成されている
。かかる電気光学装置100では、第1基板10および第2基板20のうち、一方側の基
板から入射した光が他方側の基板を透過して出射される間に変調されて画像を表示する。
本形態では、矢印Lで示すように、第2基板20から入射した光が第1基板10を透過し
て出射される間に電気光学層80によって画素毎に変調され、画像を表示する。
In the electro-optical device 100 of this embodiment, the pixel electrode 9a and the common electrode 21 are formed of a light-transmitting conductive film, and the electro-optical device 100 is configured as a transmissive liquid crystal device. In the electro-optical device 100, the light incident from one of the first substrate 10 and the second substrate 20 is modulated while being transmitted through the other substrate, and an image is displayed.
In this embodiment, as indicated by an arrow L, light incident from the second substrate 20 is modulated for each pixel by the electro-optic layer 80 while being transmitted through the first substrate 10 and emitted, thereby displaying an image.

(第2基板20の構成)
図5は、図4に示す電気光学装置100におけるレンズ310等の断面構成を模式的に
示す説明図である。図6は、図4に示す電気光学装置100におけるレンズと遮光層10
8bとの平面的な位置関係の一例を示す説明図である。
(Configuration of the second substrate 20)
FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a cross-sectional configuration of the lens 310 and the like in the electro-optical device 100 shown in FIG. 6 shows the lens and the light shielding layer 10 in the electro-optical device 100 shown in FIG.
It is explanatory drawing which shows an example of the planar positional relationship with 8b.

図4に示すように、本形態の電気光学装置100において、第2基板20には、金属ま
たは金属化合物からなる遮光性の遮光層108が形成されている。遮光層108は、例え
ば、表示領域10aの外周縁に沿って延在する額縁状の見切り108aとして形成されて
いる。また、遮光層108は、隣り合う画素電極9aにより挟まれた領域と平面視で重な
る領域に遮光層108bとして形成されている。さらに、遮光層108は、表示領域10
aの外側にアライメントマート108cとして形成されている。
As shown in FIG. 4, in the electro-optical device 100 of this embodiment, the second substrate 20 is formed with a light-shielding light-shielding layer 108 made of a metal or a metal compound. The light shielding layer 108 is formed, for example, as a frame-shaped parting 108a that extends along the outer peripheral edge of the display region 10a. The light shielding layer 108 is formed as a light shielding layer 108b in a region overlapping with a region sandwiched between adjacent pixel electrodes 9a in plan view. Further, the light shielding layer 108 is provided in the display area 10.
An alignment mart 108c is formed outside a.

図5に示すように、第1基板10は、透光性基板19を有しているとともに、透光性基
板19の第2基板20側の面には複数の層間絶縁膜18が積層されている。また、第1基
板10では、透光性基板19と層間絶縁膜18との間や、層間絶縁膜18の間等を利用し
て、隣り合う画素電極9aの間と重なる領域に沿って延在する配線17や、画素トランジ
スター14が形成されており、配線17や画素トランジスター14は光を透過しない。こ
のため、第1基板10では、画素電極9aと平面視で重なる領域のうち、配線17や画素
トランジスター14と平面視で重なる領域や、隣り合う画素電極9aに挟また領域と平面
視で重なる領域は、光を透過しない遮光領域15bになっており、画素電極9aと平面視
で重なる領域のうち、配線17や画素トランジスター14と平面視で重ならない領域は光
を透過する開口領域15aになっている。従って、開口領域15aを透過した光のみが画
像の表示に寄与し、遮光領域15bに向かう光は、画像の表示に寄与しない。本形態では
、配線17や画素トランジスター14を構成する遮光層によって、第1基板側アライメン
トマーク14cが形成されている。
As shown in FIG. 5, the first substrate 10 has a translucent substrate 19, and a plurality of interlayer insulating films 18 are laminated on the surface of the translucent substrate 19 on the second substrate 20 side. Yes. Further, the first substrate 10 extends along a region that overlaps between adjacent pixel electrodes 9a by using the space between the translucent substrate 19 and the interlayer insulating film 18 or between the interlayer insulating films 18. The wiring 17 and the pixel transistor 14 are formed, and the wiring 17 and the pixel transistor 14 do not transmit light. Therefore, in the first substrate 10, among the regions overlapping the pixel electrode 9 a in plan view, the region overlapping the wiring 17 and the pixel transistor 14 in plan view, or the region sandwiched between adjacent pixel electrodes 9 a and overlapping in the plan view. Is a light shielding region 15b that does not transmit light, and of the region that overlaps the pixel electrode 9a in plan view, the region that does not overlap the wiring 17 and the pixel transistor 14 in plan view becomes an opening region 15a that transmits light. Yes. Therefore, only the light transmitted through the opening region 15a contributes to the image display, and the light traveling toward the light shielding region 15b does not contribute to the image display. In the present embodiment, the first substrate side alignment mark 14 c is formed by the light shielding layer constituting the wiring 17 and the pixel transistor 14.

第2基板20には、入射した光を集光する集光素子、入射した光の一部を遮光するブラ
ックマトリクス、および入射した光のうち一部の波長の光を透過するカラーフィルター等
の光学素子25が複数形成されている。かかる複数の光学素子25は、複数の画素電極9
aに対してそれぞれ対向するように配列されている。本形態において、第2基板20は、
レンズアレイ基板30として構成されており、第2基板20(レンズアレイ基板30)に
は、表示領域10a(画素電極配列領域10e)に集光素子30aとしてのレンズ310
(マイクロレンズ)を複数備えたレンズアレイ31が形成されている。複数のレンズ31
0は、複数の画素電極9aに対してそれぞれ対向している。従って、複数のレンズ310
(光学素子25)の配列領域は、画素電極配列領域10eと重なる。複数のレンズ310
は各々、光源からの光を第1基板10の開口領域15aに収束させる光学素子25を構成
しており、電気光学層80に入射する光を平行光化している。それ故、電気光学層80に
入射する光の光軸の傾きが小さいので、電気光学層80での位相ずれを低減でき、透過率
やコントラストの低下を抑制することができる。特に本形態では、電気光学装置100を
VA(Vertical Alignment)モードの液晶装置として構成したため、
電気光学層80に入射する光の光軸の傾斜によって、コントラストの低下等が発生しやす
いが、本形態によれば、コントラストの低下等が発生しにくい。
The second substrate 20 includes an optical element such as a condensing element that collects incident light, a black matrix that blocks part of the incident light, and a color filter that transmits light having a part of the incident light. A plurality of elements 25 are formed. The plurality of optical elements 25 includes a plurality of pixel electrodes 9.
They are arranged so as to face each other. In the present embodiment, the second substrate 20 is
The lens array substrate 30 is configured, and the second substrate 20 (lens array substrate 30) includes a lens 310 as a condensing element 30a in the display region 10a (pixel electrode array region 10e).
A lens array 31 having a plurality of (microlenses) is formed. Multiple lenses 31
0 faces each of the plurality of pixel electrodes 9a. Accordingly, the plurality of lenses 310
The array area of the (optical element 25) overlaps with the pixel electrode array area 10e. Multiple lenses 310
Each constitutes an optical element 25 for converging light from the light source to the opening region 15a of the first substrate 10, and collimates the light incident on the electro-optic layer 80. Therefore, since the inclination of the optical axis of the light incident on the electro-optical layer 80 is small, the phase shift in the electro-optical layer 80 can be reduced, and the decrease in transmittance and contrast can be suppressed. In particular, in this embodiment, since the electro-optical device 100 is configured as a VA (Vertical Alignment) mode liquid crystal device,
The inclination of the optical axis of the light incident on the electro-optic layer 80 is likely to cause a decrease in contrast. However, according to this embodiment, a decrease in contrast is difficult to occur.

ここで、レンズ310は、図6に示すように、隣り合うレンズ310が接するように配
列されており、4つのレンズ310によって囲まれた領域に平面視で重なる領域に、図4
に示す遮光層108bが形成されている。このため、図6のA−A′線での断面では、図
4に示すように遮光層108bが表れるが、図6のB−B′線での断面では、図5に示す
ように遮光層108bが表れない。なお、遮光層108bは、レンズ310の端部に平面
視で重なっている場合があるが、レンズ310の中央に平面視で重ならないように形成さ
れる。
Here, as shown in FIG. 6, the lens 310 is arranged so that adjacent lenses 310 are in contact with each other, and in a region overlapping the region surrounded by the four lenses 310 in a plan view, FIG.
The light shielding layer 108b shown in FIG. Therefore, in the cross section taken along the line AA ′ in FIG. 6, the light shielding layer 108b appears as shown in FIG. 4, but in the cross section taken along the line BB ′ in FIG. 6, the light shielding layer as shown in FIG. 108b does not appear. The light shielding layer 108b may overlap the end of the lens 310 in plan view, but is formed so as not to overlap the center of the lens 310 in plan view.

図5に示すように、レンズアレイ基板30(第2基板20)を構成するにあたって、透
光性基板29の一方の基板面291には、凹曲面からなる複数の凹部292が形成されて
いる。複数の凹部292は、複数の画素電極9aに1対1の関係をもって平面視で重なっ
ている。また、透光性基板29の一方の基板面291には、透光性のレンズ層51(第1
レンズ層)、透光層52(第1透光層)、および透光性の保護層55が順に積層されてい
る。レンズ層51は、透光性基板29の基板面291を覆う面511と、面511とは反
対側に位置する平坦面512とを備えている。また、レンズ層51の面511は、透光性
基板29の凹部292を埋める半球状の凸部513を有している。透光性基板29とレン
ズ層51とは屈折率が相違しており、凹部292および凸部513は、レンズアレイ31
のレンズ310を構成している。本形態において、レンズ層51の屈折率は、透光性基板
29の屈折率より大である。例えば、透光性基板29は石英基板(シリコン酸化膜、Si
)からなり、屈折率が1.48であるのに対して、レンズ層51は、シリコン酸窒化
膜(SiON)からなり、屈折率が1.58〜1.68である。それ故、レンズ310は
、光源からの光を収束させるパワーを有している。
As shown in FIG. 5, when configuring the lens array substrate 30 (second substrate 20), a plurality of concave portions 292 each having a concave curved surface are formed on one substrate surface 291 of the translucent substrate 29. The plurality of recesses 292 overlap with the plurality of pixel electrodes 9a in a one-to-one relationship in plan view. Further, on one substrate surface 291 of the translucent substrate 29, the translucent lens layer 51 (first
A lens layer), a translucent layer 52 (first translucent layer), and a translucent protective layer 55 are sequentially laminated. The lens layer 51 includes a surface 511 that covers the substrate surface 291 of the translucent substrate 29, and a flat surface 512 that is located on the opposite side of the surface 511. Further, the surface 511 of the lens layer 51 has a hemispherical convex portion 513 that fills the concave portion 292 of the translucent substrate 29. The light-transmitting substrate 29 and the lens layer 51 have different refractive indexes, and the concave portion 292 and the convex portion 513 are provided in the lens array 31.
The lens 310 is configured. In this embodiment, the refractive index of the lens layer 51 is larger than the refractive index of the translucent substrate 29. For example, the translucent substrate 29 is a quartz substrate (silicon oxide film, Si
O 2) consists, with respect to the refractive index of 1.48, the lens layer 51 is made of a silicon oxynitride film (SiON), a refractive index of 1.58 to 1.68. Therefore, the lens 310 has the power to converge the light from the light source.

透光層52は、レンズ層51の平坦面512を覆う面521と、面521とは反対側に
位置する面522とを備えている。本形態において、透光層52は、シリコン酸化膜(S
iOx)からなり、屈折率が1.48である。かかる透光層52は、レンズアレイ31か
ら第1基板10までの光路長を調整する光路長調整層である。透光層52の平坦面522
には、シリコン酸化膜(SiO)やシリコン酸窒化膜(SiON)等の保護層55が形
成されており、かかる保護層55に対して透光性基板29とは反対側に共通電極21が形
成されている。また、共通電極21に対して保護層55や透光性基板29とは反対側に配
向膜26が形成されている。
The translucent layer 52 includes a surface 521 that covers the flat surface 512 of the lens layer 51, and a surface 522 that is located on the opposite side of the surface 521. In this embodiment, the translucent layer 52 is formed of a silicon oxide film (S
iO x ) with a refractive index of 1.48. The translucent layer 52 is an optical path length adjustment layer that adjusts the optical path length from the lens array 31 to the first substrate 10. Flat surface 522 of translucent layer 52
A protective layer 55 such as a silicon oxide film (SiO x ) or a silicon oxynitride film (SiON) is formed, and the common electrode 21 is provided on the opposite side of the transparent substrate 29 with respect to the protective layer 55. Is formed. An alignment film 26 is formed on the opposite side of the common electrode 21 from the protective layer 55 and the translucent substrate 29.

(金属膜108の詳細構成)
第2基板20において、遮光層108(見切り108a、遮光層108b、アライメン
トマーク108c)は、例えば、上記の透光膜の層間に形成された金属層56によって構
成されている。具体的には、第2基板20には、表示領域10aの外周縁に沿って延在す
る額縁状の見切り108aとして、レンズ層51の平坦面512と透光層52の面521
との間に金属層56からなる見切り56aが形成されている。また、表示領域10aでは
、遮光層108bとして、金属層56からなる遮光層56bが形成されている。さらに、
表示領域10aの外側には、アライメントマーク56cとして、金属層56からなる第2
基板側アライメントマーク56cが形成されている。
(Detailed configuration of the metal film 108)
In the second substrate 20, the light shielding layer 108 (parting 108 a, light shielding layer 108 b, alignment mark 108 c) is constituted by, for example, a metal layer 56 formed between the layers of the light transmitting film. Specifically, the second substrate 20 has a flat surface 512 of the lens layer 51 and a surface 521 of the light transmitting layer 52 as a frame-shaped parting 108 a extending along the outer peripheral edge of the display region 10 a.
Between the two, a parting 56a made of the metal layer 56 is formed. In the display region 10a, a light shielding layer 56b made of the metal layer 56 is formed as the light shielding layer 108b. further,
On the outside of the display area 10a, a second metal layer 56 is formed as an alignment mark 56c.
A substrate-side alignment mark 56c is formed.

本形態において、遮光層108(金属層56)は各々、Ti(チタン)、Al(アルミ
ニウム)、Cr(クロム)、W(タングステン)、Ta(タンタル)、Mo(モリブデン
)、Pd(パラジウム)等の金属膜や、それらの窒化膜等の金属化合物膜からなる。また
、遮光層108は、上記の金属膜や金属化合物膜の単層膜あるいは複層膜のいずれであっ
てもよい。
In this embodiment, each of the light shielding layers 108 (metal layer 56) is Ti (titanium), Al (aluminum), Cr (chromium), W (tungsten), Ta (tantalum), Mo (molybdenum), Pd (palladium), or the like. And a metal compound film such as a nitride film thereof. Further, the light shielding layer 108 may be either a single layer film or a multilayer film of the above metal film or metal compound film.

(光学素子25等のレイアウト)
図7は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装置100におけるレンズ310のレイ
アウト等を模式的に示す平面図である。図8は、本発明の実施の形態1に係る電気光学装
置100におけるレンズ310と画素電極9aとの位置関係を模式的に示す断面図である
。なお、図7では、複数の画素電極9aの数を減らして、計25個の画素電極9aを示し
てある。また、以下の説明において、レンズ310の中心とは、レンズ面を構成する凸部
の頂部の中心、および凹部の底部の中心を意味する。また、図7では、第1基板10や画
素電極9aを実線で示し、第2基板20や光学素子25(レンズ310)を点線で示して
ある。
(Layout of optical element 25 etc.)
FIG. 7 is a plan view schematically showing the layout and the like of the lens 310 in the electro-optical device 100 according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the positional relationship between the lens 310 and the pixel electrode 9a in the electro-optical device 100 according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 7, the number of the plurality of pixel electrodes 9a is reduced to show a total of 25 pixel electrodes 9a. In the following description, the center of the lens 310 means the center of the top of the convex portion and the center of the bottom of the concave portion that constitute the lens surface. In FIG. 7, the first substrate 10 and the pixel electrode 9a are indicated by solid lines, and the second substrate 20 and the optical element 25 (lens 310) are indicated by dotted lines.

図7に示すように、本形態の電気光学装置100において、複数の画素電極9aは、第
1基板10の第1方向Xにおいて、第1方向Xで隣り合う2つの画素電極9aの第1方向
Xにおける中心間の距離がいずれも第1ピッチPaxとなるように配列されている。また
、複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しい。
As shown in FIG. 7, in the electro-optical device 100 of the present embodiment, the plurality of pixel electrodes 9 a are arranged in the first direction of two pixel electrodes 9 a adjacent in the first direction X in the first direction X of the first substrate 10. They are arranged so that the distance between the centers in X is the first pitch Pax. The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X.

複数のレンズ310(光学素子25)は、第2基板20の第1方向Xにおいて、第1方
向Xで隣り合う2つのレンズ310(光学素子25)の第1方向Xにおける中心間の距離
がいずれも第2ピッチPbxとなるように配列されている。また、複数のレンズ310は
、第1方向Xにおける幅が等しく、画素電極9aの第1方向Xにおける幅は、レンズ31
0(光学素子25)の第1方向Xにおける幅と同等である。
In the first direction X of the second substrate 20, the plurality of lenses 310 (optical element 25) has a distance between the centers in the first direction X of the two lenses 310 (optical elements 25) adjacent in the first direction X. Are also arranged to be the second pitch Pbx. The plurality of lenses 310 have the same width in the first direction X, and the width of the pixel electrode 9a in the first direction X is the lens 31.
It is equivalent to the width in the first direction X of 0 (optical element 25).

ここで、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。また、第1方向Xの中央C
xでは、画素電極9aの第1方向Xにおける中心とレンズ310の第1方向Xにおける中
心とは重なっている。このため、図7および図8に示すように、複数のレンズ310のう
ち、画素電極配列領域10eの第1方向Xの端部である第1端部Ex側に位置するレンズ
310の中心(図7の点線Lbx参照)は、複数の画素電極9aのうち、第1端部Ex側
に位置する画素電極9aの中心(図8の実線Lax参照)より第1方向Xにおける外側(
図8に矢印Sxで示す方向)にずれている。また、第1端部Ex側に位置するレンズ31
0は、第1方向Xの中央Cxと第1端部Exとの間に位置するレンズ310より、画素電
極9aの第1方向Xの中心から第1方向Xの外側へのずれ量が徐々に大きくなっている。
Here, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. Further, the center C in the first direction X
In x, the center of the pixel electrode 9a in the first direction X and the center of the lens 310 in the first direction X overlap. For this reason, as shown in FIGS. 7 and 8, among the plurality of lenses 310, the center of the lens 310 located on the first end portion Ex side that is the end portion in the first direction X of the pixel electrode array region 10e (see FIG. 7 (see the dotted line Lbx) is an outer side in the first direction X from the center (see the solid line Lax in FIG. 8) of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side among the plurality of pixel electrodes 9a (see FIG. 8).
The direction is shifted in the direction indicated by the arrow Sx in FIG. Further, the lens 31 located on the first end Ex side.
0 is the amount of deviation from the center of the pixel electrode 9a in the first direction X to the outside in the first direction X from the lens 310 located between the center Cx in the first direction X and the first end Ex. It is getting bigger.

また、図7に示すように、複数の画素電極9aは、第1基板10の第2方向Yにおいて
、第2方向Yで隣り合う2つの画素電極9aの第2方向Yにおける中心間の距離がいずれ
も第3ピッチPayとなるように配列されている。また、複数の画素電極9aは、第2方
向Yにおける幅が等しい。
In addition, as shown in FIG. 7, the plurality of pixel electrodes 9 a have a distance between the centers in the second direction Y of the two pixel electrodes 9 a adjacent in the second direction Y in the second direction Y of the first substrate 10. All are arranged so as to be the third pitch Pay. The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the second direction Y.

複数のレンズ310(光学素子25)は、第2基板20の第2方向Yにおいて、第2方
向Yで隣り合う2つのレンズ310(光学素子25)の第2方向Yにおける中心間の距離
がいずれも第4ピッチPbyとなるように配列されている。複数のレンズ310は、第2
方向Yにおける幅が等しく、画素電極9aの第2方向Yにおける幅は、レンズ310(光
学素子25)の第2方向Yにおける幅と同等である。
In the second direction Y of the second substrate 20, the plurality of lenses 310 (optical element 25) has any distance between the centers in the second direction Y of the two lenses 310 (optical elements 25) adjacent in the second direction Y. Are also arranged to be the fourth pitch Pby. The plurality of lenses 310 is the second
The width in the direction Y is equal, and the width in the second direction Y of the pixel electrode 9a is equal to the width in the second direction Y of the lens 310 (optical element 25).

ここで、第4ピッチPbyは、第3ピッチPayより長い。また、第2方向Yの中央C
yでは、画素電極9aの第2方向Yにおける中心とレンズ310の第2方向Yにおける中
心とは重なっている。このため、図7および図8に示すように、複数のレンズ310のう
ち、画素電極配列領域10eの第2方向Yの端部である第2端部Ey側に位置するレンズ
310の中心(図8の点線Lby参照)は、複数の画素電極9aのうち、第2端部Ey側
に位置する画素電極9aの中心(図7の実線Lay参照)より第2方向Yにおける外側(
図8に矢印Syで示す方向)にずれている。また、第2端部Ey側に位置するレンズ31
0は、第2方向Yの中央Cyと第2端部Eyとの間に位置するレンズ310より、画素電
極9aの第2方向Yの中心から第2方向Yの外側へのずれ量が徐々に大きくなっている。
Here, the fourth pitch Pby is longer than the third pitch Pay. Also, the center C in the second direction Y
In y, the center of the pixel electrode 9a in the second direction Y and the center of the lens 310 in the second direction Y overlap. For this reason, as shown in FIGS. 7 and 8, among the plurality of lenses 310, the center of the lens 310 located on the second end Ey side which is the end in the second direction Y of the pixel electrode array region 10e (see FIG. 8 (see the dotted line Lby) is an outer side in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the second end Ey side (see the solid line Lay in FIG. 7) among the plurality of pixel electrodes 9a (see FIG. 7).
The direction is shifted in the direction indicated by the arrow Sy in FIG. Further, the lens 31 located on the second end Ey side.
0 is the amount of shift from the center of the pixel electrode 9a in the second direction Y to the outside in the second direction Y from the lens 310 located between the center Cy in the second direction Y and the second end Ey. It is getting bigger.

(電気光学装置100の製造方法)
本形態の電気光学装置100の製造工程では、まず、第1基板準備工程において、第1
方向Xおよび第2方向Yに沿って配列された複数の画素電極9aが設けられた第1基板1
0を準備する。ここで、図7に示すように、複数の画素電極9aを第1方向Xにおける中
心間の距離がいずれも第1ピッチPaxとなるように配列し、第2方向Yにおける中心間
の距離がいずれも第3ピッチPayとなるように配列しておく。
(Method of manufacturing electro-optical device 100)
In the manufacturing process of the electro-optical device 100 of this embodiment, first, in the first substrate preparation process, the first
First substrate 1 provided with a plurality of pixel electrodes 9a arranged along direction X and second direction Y
Prepare 0. Here, as shown in FIG. 7, the plurality of pixel electrodes 9a are arranged such that the distance between the centers in the first direction X is the first pitch Pax, and the distance between the centers in the second direction Y is any. Are arranged so as to be the third pitch Pay.

また、第2基板準備工程では、レンズ310(集光素子30a)の形成領域からなる複
数の光学素子25が第1方向Xおよび第2方向Yに沿って配列された第2基板20を準備
する。ここで、複数のレンズ310を第1方向Xにおける中心間の距離がいずれも第2ピ
ッチPbxとなるように配列し、第2方向Yにおける中心間の距離がいずれも第4ピッチ
Pbyとなるように配列しておく。また、第2ピッチPbxを、第1ピッチPaxより長
くしておき、第4ピッチPbyを、第3ピッチPayより長くしておく。
In the second substrate preparation step, the second substrate 20 is prepared in which a plurality of optical elements 25 including the formation region of the lens 310 (the light collecting element 30a) are arranged along the first direction X and the second direction Y. . Here, the plurality of lenses 310 are arranged such that the distance between the centers in the first direction X is the second pitch Pbx, and the distance between the centers in the second direction Y is the fourth pitch Pby. Arranged in Further, the second pitch Pbx is set longer than the first pitch Pax, and the fourth pitch Pby is set longer than the third pitch Pay.

次に、貼り合わせ工程において、複数の画素電極9aと複数のレンズ310とがそれぞ
れ対向するように第1基板10と第2基板20と貼り合わせる。その際、画素電極配列領
域10eの第1端部Ex側に位置するレンズ310の中心が、画素電極配列領域10eの
第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中心より第1方向Xにおける外側に位置するよ
うに第1基板10と第2基板20とを貼り合わせる。また、画素電極配列領域10eの第
2端部Ey側に位置するレンズ310の中心が、画素電極配列領域10eの第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置するように第1基板
10と第2基板20とを貼り合わせる。
Next, in the bonding step, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded so that the plurality of pixel electrodes 9a and the plurality of lenses 310 face each other. At this time, the center of the lens 310 located on the first end Ex side of the pixel electrode array region 10e is closer to the first direction X than the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side of the pixel electrode array region 10e. The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together so as to be located outside. Further, the center of the lens 310 located on the second end Ey side of the pixel electrode array region 10e is the second end portion Ey of the pixel electrode array region 10e.
The first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together so as to be positioned on the outer side in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a positioned on the side.

ここで、第1基板準備工程では、画素電極配列領域10eの外側に第1基板側アライメ
ントマーク14cが形成された第1基板10を準備し、第2基板準備工程では、複数のレ
ンズ310が配列された領域の外側に第2基板側アライメントマーク56cが形成された
第2基板20を準備する。そして、貼り合わせ工程では、第1基板側アライメントマーク
14cと第2基板側アライメントマーク56cとを位置合わせして第1基板10と第2基
板20とを貼り合わせる。
Here, in the first substrate preparation step, the first substrate 10 having the first substrate side alignment mark 14c formed outside the pixel electrode arrangement region 10e is prepared, and in the second substrate preparation step, a plurality of lenses 310 are arranged. A second substrate 20 having a second substrate-side alignment mark 56c formed outside the formed region is prepared. In the bonding step, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together by aligning the first substrate side alignment mark 14c and the second substrate side alignment mark 56c.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の電気光学装置100では、第2基板20の複数のレンズ
310(光学素子25)は各々、第1基板10の複数の画素電極9aに対向しているが、
レンズ310の第1方向Xにおける中心間の距離(第2ピッチPbx)は、画素電極9a
の第1方向Xにおける中心間の距離(第1ピッチPax)より長い。このため、画素電極
配列領域10eの第1方向Xの端部(第1端部Ex)側では、レンズ310の中心が画素
電極9aの中心より第1方向Xにおける外側に位置する。従って、第1方向Xの外側から
斜めに入射した光は、レンズ310を透過して、画素電極9aの略中央に入射する。それ
故、第1基板10に対して第2基板20が第1方向Xにずれた状態で貼り合わされたとき
でも、第1方向Xの外側から斜めに入射した光は、レンズ310を透過して、画素電極9
aに入射する。それ故、図1に示す投射型表装置110において、第1方向Xの外側から
斜めに入射する光の強度が、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光の強度より
高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑
制することができる。
(Main effects of this form)
As described above, in the electro-optical device 100 of this embodiment, the plurality of lenses 310 (optical elements 25) of the second substrate 20 are opposed to the plurality of pixel electrodes 9a of the first substrate 10, respectively.
The distance between the centers of the lenses 310 in the first direction X (second pitch Pbx) is the pixel electrode 9a.
Longer than the distance between the centers in the first direction X (first pitch Pax). For this reason, on the end portion (first end portion Ex) side in the first direction X of the pixel electrode array region 10e, the center of the lens 310 is positioned outside the center of the pixel electrode 9a in the first direction X. Therefore, the light incident obliquely from the outside in the first direction X passes through the lens 310 and enters the approximate center of the pixel electrode 9a. Therefore, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the light incident obliquely from the outside of the first direction X is transmitted through the lens 310. , Pixel electrode 9
Incident on a. Therefore, in the projection type surface device 110 shown in FIG. 1, even when the intensity of light incident obliquely from the outside in the first direction X is higher than the intensity of light incident obliquely from the inside to the electro-optical device 100, the projection is performed. It is possible to suppress the occurrence of a situation where the luminance is partially reduced in the obtained image.

また、レンズ310の第2方向Yにおける中心間の距離(第4ピッチPby)は、画素
電極9aの第2方向Yにおける中心間の距離(第3ピッチPay)より長い。このため、
画素電極配列領域10eの第2方向Yの端部(第2端部Ey)側では、レンズ310の中
心が画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。従って、第2方向Yの
外側から斜めに入射した光は、レンズ310を透過して、画素電極9aの略中央に入射す
る。それ故、第1基板10に対して第2基板20が第2方向Yにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第2方向Yの外側から斜めに入射した光は、レンズ310を透過して、画
素電極9aに入射する。それ故、図1に示す投射型表装置110において、第2方向Yの
外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光の
強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の
発生を抑制することができる。
The distance between the centers in the second direction Y of the lens 310 (fourth pitch Pby) is longer than the distance between the centers in the second direction Y of the pixel electrodes 9a (third pitch Pay). For this reason,
On the end portion (second end portion Ey) side in the second direction Y of the pixel electrode array region 10e, the center of the lens 310 is located outside the center of the pixel electrode 9a in the second direction Y. Accordingly, the light incident obliquely from the outside in the second direction Y passes through the lens 310 and enters the approximate center of the pixel electrode 9a. Therefore, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the second direction Y, the light incident obliquely from the outside in the second direction Y is transmitted through the lens 310. , Is incident on the pixel electrode 9a. Therefore, in the projection type surface device 110 shown in FIG. 1, even when the intensity of light obliquely incident from the outside in the second direction Y is higher than the intensity of light obliquely incident on the electro-optical device 100 from the inside, the projection is performed. It is possible to suppress the occurrence of a situation where the luminance is partially reduced in the obtained image.

[実施の形態1の変形例1]
図9は、本発明の実施の形態1の変形例1に係る電気光学装置100におけるレンズ3
10のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施
の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略す
る。
[Variation 1 of Embodiment 1]
FIG. 9 shows the lens 3 in the electro-optical device 100 according to the first modification of the first embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a plan view schematically showing a layout 10 and the like. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図9に示すように、本形態の電気光学装置100でも、実施の形態1と同様、複数の画
素電極9aはいずれも、第1ピッチPaxとなるように配列され、複数のレンズ310(
光学素子25)はいずれも、第2ピッチPbxとなるように配列されている。また、複数
の画素電極9aはいずれも、第3ピッチPayとなるように配列され、複数のレンズ31
0(光学素子25)はいずれも、第4ピッチPbyとなるように配列されている。また、
複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しく、第2方向Yにおける幅が等しい
As shown in FIG. 9, in the electro-optical device 100 of the present embodiment as well, as in the first embodiment, the plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the first pitch Pax, and the plurality of lenses 310 (
The optical elements 25) are all arranged so as to have the second pitch Pbx. The plurality of pixel electrodes 9a are all arranged so as to have the third pitch Pay, and the plurality of lenses 31 are arranged.
All 0s (optical elements 25) are arranged to have the fourth pitch Pby. Also,
The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y.

本形態において、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。このため、第1端
部Ex側に位置するレンズ310の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中
心より第1方向Xにおける外側に位置する。また、第4ピッチPbyは、第3ピッチPa
yより長い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ310の中心は、第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。従って、図1
に示す投射型表装置110において、第1方向Xの外側や第2方向Yの外側から斜めに入
射する光の強度が、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光の強度より高い場合
でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑制するこ
とができる等、実施の形態1と同様な効果を奏する。
In the present embodiment, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. For this reason, the center of the lens 310 located on the first end Ex side is located outside the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side in the first direction X. The fourth pitch Pby is equal to the third pitch Pa.
longer than y. Therefore, the center of the lens 310 located on the second end Ey side is the second end Ey.
It is located outside in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the side. Therefore, FIG.
In the projection type surface device 110 shown in FIG. 4, even when the intensity of light incident obliquely from the outside of the first direction X or the outside of the second direction Y is higher than the intensity of light incident obliquely from the inside to the electro-optical device 100. In the projected image, the same effects as in the first embodiment can be achieved, such as the occurrence of a situation where the brightness is partially reduced.

ここで、レンズ310(光学素子25)の第1方向Xにおける幅は、画素電極9aの第
1方向Xにおける幅より大きい。このため、第1基板10に対して第2基板20が第1方
向Xにずれた状態で貼り合わされたときでも、第1方向Xの中央Cx側および第1端部E
xでは、レンズ310が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第1方向Xの
内側および外側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射し
やすい。また、レンズ310(光学素子25)の第2方向Yにおける幅は、画素電極9a
の第2方向Yにおける幅より大きい。このため、第1基板10に対して第2基板20が第
2向Yにずれた状態で貼り合わされたときでも、第2方向Yの中央Cy側および第2端部
Eyでは、レンズ310が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第2方向Y
の内側および外側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射
しやすい。それ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
Here, the width of the lens 310 (optical element 25) in the first direction X is larger than the width of the pixel electrode 9a in the first direction X. For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the center Cx side in the first direction X and the first end E
In x, the lens 310 overlaps the pixel electrode 9a in a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the first direction X passes through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. The width of the lens 310 (optical element 25) in the second direction Y is determined by the pixel electrode 9a.
Greater than the width in the second direction Y. For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state of being shifted in the second direction Y, the lens 310 is a pixel at the center Cy side and the second end Ey in the second direction Y. It overlaps the electrode 9a over a wide range. Therefore, the second direction Y
The light incident obliquely from the inside and the outside of the light passes through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. Therefore, there are effects such as high brightness in the entire projected image.

[実施の形態1の変形例2]
図10は、本発明の実施の形態2の変形例2に係る電気光学装置100におけるレンズ
310のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
[Modification 2 of Embodiment 1]
FIG. 10 is a plan view schematically showing the layout and the like of the lens 310 in the electro-optical device 100 according to the second modification of the second embodiment of the present invention. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図10に示すように、本形態の電気光学装置100でも、実施の形態1と同様、複数の
画素電極9aはいずれも、第1ピッチPaxとなるように配列され、複数のレンズ310
(光学素子25)はいずれも、第2ピッチPbxとなるように配列されている。また、複
数の画素電極9aはいずれも、第3ピッチPayとなるように配列され、複数のレンズ3
10(光学素子25)はいずれも、第4ピッチPbyとなるように配列されている。また
、複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しく、第2方向Yにおける幅が等し
い。
As shown in FIG. 10, in the electro-optical device 100 of the present embodiment as well, as in the first embodiment, the plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the first pitch Pax, and the plurality of lenses 310
(Optical elements 25) are all arranged to have the second pitch Pbx. Further, the plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the third pitch Pay, and the plurality of lenses 3
10 (optical elements 25) are all arranged to have the fourth pitch Pby. The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y.

本形態において、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。このため、第1端
部Ex側に位置するレンズ310の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中
心より第1方向Xにおける外側に位置する。また、第4ピッチPbyは、第3ピッチPa
yより長い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ310の中心は、第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。従って、図1
に示す投射型表装置110において、第1方向Xの外側や第2方向Yの外側から斜めに入
射する光の強度が、電気光学装置100に内側から斜めに入射する光の強度より高い場合
でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑制するこ
とができる等、実施の形態1と同様な効果を奏する。
In the present embodiment, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. For this reason, the center of the lens 310 located on the first end Ex side is located outside the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side in the first direction X. The fourth pitch Pby is equal to the third pitch Pa.
longer than y. Therefore, the center of the lens 310 located on the second end Ey side is the second end Ey.
It is located outside in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the side. Therefore, FIG.
In the projection type surface device 110 shown in FIG. 4, even when the intensity of light incident obliquely from the outside of the first direction X or the outside of the second direction Y is higher than the intensity of light incident obliquely from the inside to the electro-optical device 100. In the projected image, the same effects as in the first embodiment can be achieved, such as the occurrence of a situation where the brightness is partially reduced.

ここで、第1方向Xの中央Cxでは、レンズ310(光学素子25)の第1方向Xにお
ける幅が画素電極9aの第1方向Xにおける幅と略等しいが、第1端部Ex側に位置する
レンズ310の第1方向Xにおける幅は、第1方向Xの中央Cx側に位置するレンズ31
0の第1方向Xにおける幅より大きい。また、第1方向Xの中央Cxと第1端部Exとの
間では、第1方向Xの中央Cxからから第1端部Exに向けて、レンズ310の第1方向
Xにおける幅が徐々に大きくなっている。例えば、レンズ310の第1方向Xにおける幅
は、1つレンズ310を単位として、あるいは複数のレンズ310を単位として徐々に大
きくなっている。
Here, at the center Cx in the first direction X, the width of the lens 310 (the optical element 25) in the first direction X is substantially equal to the width of the pixel electrode 9a in the first direction X, but is positioned on the first end Ex side. The width of the lens 310 in the first direction X is the lens 31 located on the center Cx side in the first direction X.
It is larger than the width in the first direction X of 0. Further, between the center Cx in the first direction X and the first end Ex, the width in the first direction X of the lens 310 gradually increases from the center Cx in the first direction X toward the first end Ex. It is getting bigger. For example, the width of the lens 310 in the first direction X is gradually increased with one lens 310 as a unit or a plurality of lenses 310 as a unit.

このため、第1基板10に対して第2基板20が第1方向Xにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第1方向Xの中央Cx側および第1端部Exでは、レンズ310が画素電
極9aに広い範囲で重なっている。従って、第1方向Xの内側および外側から斜めに入射
した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい。それ故、投射された画
像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the lens 310 is a pixel at the center Cx side and the first end Ex in the first direction X. It overlaps the electrode 9a over a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the first direction X passes through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. Therefore, there are effects such as high brightness in the entire projected image.

また、第2方向Yの中央Cyでは、レンズ310(光学素子25)の第2方向Yにおけ
る幅が画素電極9aの第2方向Yにおける幅と略等しいが、第2端部Ey側に位置するレ
ンズ310の第2方向Yにおける幅は、第2方向Yの中央Cy側に位置するレンズ310
の第2方向Yにおける幅より大きい。また、第2方向Yの中央Cyと第2端部Eyとの間
では、第2方向Yの中央Cyから第2端部Eyに向けて、レンズ310の第2方向Yにお
ける幅が徐々に大きくなっている。例えば、レンズ310の第2方向Yにおける幅は、1
つレンズ310を単位として、あるいは複数のレンズ310を単位として徐々に大きくな
っている。
In the center Cy in the second direction Y, the width of the lens 310 (optical element 25) in the second direction Y is substantially equal to the width of the pixel electrode 9a in the second direction Y, but is positioned on the second end Ey side. The width of the lens 310 in the second direction Y is the lens 310 located on the center Cy side in the second direction Y.
Greater than the width in the second direction Y. Further, between the center Cy in the second direction Y and the second end Ey, the width of the lens 310 in the second direction Y gradually increases from the center Cy in the second direction Y toward the second end Ey. It has become. For example, the width of the lens 310 in the second direction Y is 1
The size is gradually increased in units of one lens 310 or in units of a plurality of lenses 310.

このため、第1基板10に対して第2基板20が第2方向Yにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第2方向Yの中央Cy側および第2端部Eyでは、レンズ310が画素電
極9aに広い範囲で重なっている。従って、第2方向Yの内側および外側から斜めに入射
した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい。それ故、投射された画
像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
Therefore, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the second direction Y, the lens 310 is not connected to the pixel at the center Cy side and the second end Ey in the second direction Y. It overlaps the electrode 9a over a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the second direction Y is transmitted through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. Therefore, there are effects such as high brightness in the entire projected image.

[実施の形態2]
図11は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100におけるレンズ310等の
断面構成を模式的に示す説明図である。図12は、図11に示す電気光学装置100にお
けるレンズ310のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な
構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの
説明を省略する。また、図12では、第1基板10や画素電極9aを実線で示し、第2基
板20、光学素子25(レンズ310)、レンズ320を点線や一点鎖線等の破線で示し
てある。
[Embodiment 2]
FIG. 11 is an explanatory diagram schematically showing a cross-sectional configuration of the lens 310 and the like in the electro-optical device 100 according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 12 is a plan view schematically showing the layout and the like of the lens 310 in the electro-optical device 100 shown in FIG. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. In FIG. 12, the first substrate 10 and the pixel electrode 9a are indicated by solid lines, and the second substrate 20, the optical element 25 (lens 310), and the lens 320 are indicated by broken lines such as dotted lines and alternate long and short dash lines.

図11において、本形態の電気光学装置100でも、実施の形態1と同様、集光素子3
0aとしてのレンズ310(第1レンズ)の形成領域によって光学素子25が構成されて
いる。本形態において、第2基板20は、複数の光学素子25の各々に、レンズ310に
対して第1基板10で対向する複数のレンズ320(第2レンズ)を備えたレンズアレイ
32を有している。より具体的には、透光層52と保護層55との間には、透光性のレン
ズ層53(第2レンズ層)、および透光層54(第2透光層)が順に積層されている。レ
ンズ層53は、透光層52の面522を覆う面531と、面531とは反対側の面532
とを有しており、面532には、凹部292と平面視で重なる位置に、透光性基板29と
は反対側に向けて突出した凸部、または透光性基板29に向けて凹んだ凹部が形成されて
いる。本形態において、レンズ層53の面532には、凹部292と平面視で重なる位置
に、透光性基板29とは反対側に向けて半球状に突出した凸部533が形成されている。
このため、透光層54は、レンズ層53の面532を覆う面541に、レンズ層53の凸
部533が内側に位置する凹曲面からなる凹部543が形成されている。透光層54は、
面541とは反対側に平坦面542を備えている。
In FIG. 11, also in the electro-optical device 100 of the present embodiment, the light collecting element 3 is the same as in the first embodiment.
The optical element 25 is configured by the formation region of the lens 310 (first lens) as 0a. In the present embodiment, the second substrate 20 has a lens array 32 including a plurality of lenses 320 (second lenses) facing the lens 310 with the first substrate 10 in each of the plurality of optical elements 25. Yes. More specifically, a translucent lens layer 53 (second lens layer) and a translucent layer 54 (second translucent layer) are sequentially laminated between the translucent layer 52 and the protective layer 55. ing. The lens layer 53 includes a surface 531 that covers the surface 522 of the translucent layer 52, and a surface 532 that is opposite to the surface 531.
In the surface 532, a convex portion protruding toward the opposite side of the translucent substrate 29 or a concave portion toward the translucent substrate 29 at a position overlapping the concave portion 292 in plan view. A recess is formed. In this embodiment, a convex portion 533 is formed on the surface 532 of the lens layer 53 at a position overlapping the concave portion 292 in a plan view and protrudes in a hemispherical shape toward the opposite side of the translucent substrate 29.
Therefore, the translucent layer 54 has a concave surface 543 formed of a concave curved surface in which the convex portion 533 of the lens layer 53 is located on the surface 541 covering the surface 532 of the lens layer 53. The translucent layer 54 is
A flat surface 542 is provided on the side opposite to the surface 541.

ここで、レンズ層53と透光層54とは屈折率が相違しており、凹部543および凸部
533は、レンズ320を構成している。本形態において、レンズ層53の屈折率は、透
光層54の屈折率より大である。例えば、レンズ層53は、シリコン酸窒化膜(SiON
)からなり、屈折率が1.58〜1.68であるのに対して、透光層54は、シリコン酸
化膜(SiO)からなり、屈折率が1.48である。それ故、レンズ320は、光源か
らの光を収束させるパワーを有している。本形態において、透光層54は、レンズアレイ
32から第1基板10までの光路長を調節する光路長調整層である。
Here, the refractive index is different between the lens layer 53 and the translucent layer 54, and the concave portion 543 and the convex portion 533 constitute a lens 320. In this embodiment, the refractive index of the lens layer 53 is larger than the refractive index of the light transmitting layer 54. For example, the lens layer 53 includes a silicon oxynitride film (SiON
) And the refractive index is 1.58 to 1.68, whereas the translucent layer 54 is made of a silicon oxide film (SiO x ) and has a refractive index of 1.48. Therefore, the lens 320 has a power for converging light from the light source. In this embodiment, the light transmissive layer 54 is an optical path length adjustment layer that adjusts the optical path length from the lens array 32 to the first substrate 10.

透光層54の平坦面542には、シリコン酸化膜(SiO)やシリコン酸窒化膜(S
iON)等の保護層55が形成されており、かかる保護層55に対して透光層54や透光
性基板29とは反対側に共通電極21が形成されている。また、共通電極21に対して保
護層55や透光性基板29とは反対側に配向膜26が形成されている。
On the flat surface 542 of the translucent layer 54, a silicon oxide film (SiO x ) or a silicon oxynitride film (S
iON) is formed, and the common electrode 21 is formed on the side opposite to the light transmitting layer 54 and the light transmitting substrate 29 with respect to the protective layer 55. An alignment film 26 is formed on the opposite side of the common electrode 21 from the protective layer 55 and the translucent substrate 29.

図12に示すように、本形態の電気光学装置100においても、実施の形態1と同様、
複数の画素電極9aはいずれも、第1ピッチPaxとなるように配列され、複数のレンズ
310(光学素子25)はいずれも、第2ピッチPbxとなるように配列されている。ま
た、複数の画素電極9aはいずれも、第3ピッチPayとなるように配列され、複数のレ
ンズ310(光学素子25)はいずれも、第4ピッチPbyとなるように配列されている
。また、複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しく、第2方向Yにおける幅
が等しい。また、複数のレンズ310(光学素子25)は、第1方向Xにおける幅が等し
く、第2方向Yにおける幅が等しい。
As shown in FIG. 12, in the electro-optical device 100 of the present embodiment, as in the first embodiment,
The plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the first pitch Pax, and the plurality of lenses 310 (optical elements 25) are all arranged to have the second pitch Pbx. The plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the third pitch Pay, and the plurality of lenses 310 (optical elements 25) are all arranged to have the fourth pitch Pby. The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y. The plurality of lenses 310 (optical element 25) have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y.

本形態において、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。このため、第1端
部Ex側に位置するレンズ310の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中
心より第1方向Xにおける外側に位置する。また、第4ピッチPbyは、第3ピッチPa
yより長い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ310の中心は、第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。
In the present embodiment, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. For this reason, the center of the lens 310 located on the first end Ex side is located outside the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side in the first direction X. The fourth pitch Pby is equal to the third pitch Pa.
longer than y. Therefore, the center of the lens 310 located on the second end Ey side is the second end Ey.
It is located outside in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the side.

また、複数のレンズ320は、第1方向Xで隣り合う2つのレンズ320の第1方向X
における中心間の距離がいずれも第5ピッチPcxとなるように配列され、第2方向Yで
隣り合う2つのレンズ320の第2方向Yにおける中心間の距離がいずれも第6ピッチP
cyとなるように配列されている。また、複数のレンズ320は、第1方向Xにおける幅
が等しく、第2方向Yにおける幅が等しい。
In addition, the plurality of lenses 320 includes a first direction X of two lenses 320 adjacent in the first direction X.
The distances between the centers in the second direction Y of the two lenses 320 adjacent to each other in the second direction Y are all the sixth pitch Pc.
They are arranged to be cy. The plurality of lenses 320 have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y.

ここで、第5ピッチPcxは、第1ピッチPaxより長く、第2ピッチPbxより短い
。このため、第1端部Ex側に位置するレンズ320の中心は、第1端部Ex側に位置す
る画素電極9aの中心より第1方向Xにおける外側に位置し、第1端部Ex側に位置する
レンズ310の中心より第1方向Xにおける内側に位置する。また、第6ピッチPcyは
、第3ピッチPayより長く、第4ピッチPbyより短い。このため、第2端部Ey側に
位置するレンズ320の中心は、第2端部Ey側に位置する画素電極9aの中心より第2
方向Yにおける外側に位置し、第1端部Ex側に位置するレンズ310の中心より第2方
向Yにおける内側に位置する。
Here, the fifth pitch Pcx is longer than the first pitch Pax and shorter than the second pitch Pbx. For this reason, the center of the lens 320 located on the first end Ex side is located on the outer side in the first direction X from the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side, and on the first end Ex side. It is located inside the first direction X from the center of the lens 310 that is positioned. The sixth pitch Pcy is longer than the third pitch Pay and shorter than the fourth pitch Pby. Therefore, the center of the lens 320 located on the second end Ey side is second from the center of the pixel electrode 9a located on the second end Ey side.
It is located outside in the direction Y and is located inside in the second direction Y from the center of the lens 310 located on the first end Ex side.

このように構成した場合も、第1基板10に対して第2基板20が第1方向Xにずれた
状態で貼り合わされたときでも、第1方向Xの外側から斜めに入射した光は、レンズ31
0、320を透過して、画素電極9aに入射する。それ故、図1に示す投射型表装置11
0において、第1方向Xの外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置100に内
側から斜めに入射する光の強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分
的に低下するという事態の発生を抑制することができる。
Even in such a configuration, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the light incident obliquely from the outside of the first direction X is a lens. 31
0 and 320 are transmitted and enter the pixel electrode 9a. Therefore, the projection type surface device 11 shown in FIG.
In 0, even when the intensity of light obliquely incident from the outside in the first direction X is higher than the intensity of light incident obliquely from the inside to the electro-optical device 100, the luminance is partially reduced in the projected image. Occurrence of the situation of doing can be suppressed.

また、第1基板10に対して第2基板20が第2方向Yにずれた状態で貼り合わされた
ときでも、第2方向Yの外側から斜めに入射した光は、レンズ310、320を透過して
、画素電極9aに入射する。それ故、図1に示す投射型表装置110において、第2方向
Yの外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置100に内側から斜めに入射する
光の強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事
態の発生を抑制することができる。
Even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the second direction Y, the light incident obliquely from the outside in the second direction Y passes through the lenses 310 and 320. And enters the pixel electrode 9a. Therefore, in the projection type surface device 110 shown in FIG. 1, even when the intensity of light obliquely incident from the outside in the second direction Y is higher than the intensity of light obliquely incident on the electro-optical device 100 from the inside, the projection is performed. It is possible to suppress the occurrence of a situation where the luminance is partially reduced in the obtained image.

[実施の形態2の変形例1]
図13は、本発明の実施の形態2の変形例1に係る電気光学装置100におけるレンズ
310のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
[Modification 1 of Embodiment 2]
FIG. 13 is a plan view schematically showing the layout and the like of the lens 310 in the electro-optical device 100 according to the first modification of the second embodiment of the present invention. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図13に示すように、本形態の電気光学装置100でも、実施の形態1、2と同様、複
数の画素電極9aはいずれも、第1ピッチPaxとなるように配列され、複数のレンズ3
10(光学素子25)はいずれも、第2ピッチPbxとなるように配列されている。また
、複数の画素電極9aはいずれも、第3ピッチPayとなるように配列され、複数のレン
ズ310(光学素子25)はいずれも、第4ピッチPbyとなるように配列されている。
また、複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しく、第2方向Yにおける幅が
等しい。また、実施の形態2と同様、複数のレンズ320はいずれも、第1方向Xにおい
て第5ピッチPcxとなるように配列され、第2方向Yにおいて第6ピッチPcyとなる
ように配列されている。
As shown in FIG. 13, in the electro-optical device 100 of the present embodiment as well, in the same way as in the first and second embodiments, the plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the first pitch Pax, and the plurality of lenses 3
10 (optical elements 25) are all arranged to have the second pitch Pbx. The plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the third pitch Pay, and the plurality of lenses 310 (optical elements 25) are all arranged to have the fourth pitch Pby.
The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y. Similarly to the second embodiment, the plurality of lenses 320 are all arranged so as to have the fifth pitch Pcx in the first direction X and arranged so as to have the sixth pitch Pcy in the second direction Y. .

本形態において、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。このため、第1端
部Ex側に位置するレンズ310の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中
心より第1方向Xにおける外側に位置する。また、第4ピッチPbyは、第3ピッチPa
yより長い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ310の中心は、第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。また、第5ピ
ッチPcxは、第1ピッチPaxより長く、第2ピッチPbxより短い。このため、第1
端部Ex側に位置するレンズ320の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの
中心より第1方向Xにおける外側に位置し、第1端部Ex側に位置するレンズ310の中
心より第1方向Xにおける内側に位置する。また、第6ピッチPcyは、第3ピッチPa
yより長く、第4ピッチPbyより短い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ3
20の中心は、第2端部Ey側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外
側に位置し、第1端部Ex側に位置するレンズ310の中心より第2方向Yにおける内側
に位置する。
In the present embodiment, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. For this reason, the center of the lens 310 located on the first end Ex side is located outside the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side in the first direction X. The fourth pitch Pby is equal to the third pitch Pa.
longer than y. Therefore, the center of the lens 310 located on the second end Ey side is the second end Ey.
It is located outside in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the side. The fifth pitch Pcx is longer than the first pitch Pax and shorter than the second pitch Pbx. For this reason, the first
The center of the lens 320 positioned on the end portion Ex side is positioned outside the center of the pixel electrode 9a positioned on the first end portion Ex side in the first direction X, and the lens 310 positioned on the first end portion Ex side. It is located inside the first direction X from the center. The sixth pitch Pcy is equal to the third pitch Pa.
It is longer than y and shorter than the fourth pitch Pby. For this reason, the lens 3 located on the second end Ey side.
The center of 20 is located on the outer side in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the second end Ey side, and is located on the inner side in the second direction Y from the center of the lens 310 located on the first end Ex side. Located in.

ここで、レンズ310(光学素子25)の第1方向Xにおける幅が画素電極9aの第1
方向Xにおける幅より大きい。また、レンズ320の第1方向Xにおける幅が画素電極9
aの第1方向Xにおける幅より大きく、レンズ310の第1方向Xにおける幅より小さい
。このため、第1基板10に対して第2基板20が第1方向Xにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第1方向Xの中央Cx側および第1端部Exでは、レンズ310およびレ
ンズ320が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第1方向Xの内側および
外側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい。
Here, the width of the lens 310 (optical element 25) in the first direction X is the first of the pixel electrode 9a.
Greater than width in direction X The width of the lens 320 in the first direction X is the pixel electrode 9.
a is larger than the width in the first direction X, and smaller than the width of the lens 310 in the first direction X. Therefore, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the lens 310 and the lens are located at the center Cx side and the first end Ex in the first direction X. 320 overlaps the pixel electrode 9a over a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the first direction X passes through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a.

また、レンズ310(光学素子25)の第2方向Yにおける幅が画素電極9aの第2方
向Yにおける幅より大きい。また、レンズ320の第2方向Yにおける幅が画素電極9a
の第2方向Yにおける幅より大きく、レンズ310の第2方向Yにおける幅より小さい。
このため、第1基板10に対して第2基板20が第2方向Yにずれた状態で貼り合わされ
たときでも、第2方向Yの中央Cy側および第2端部Eyでは、レンズ310およびレン
ズ320が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第2方向Yの内側および外
側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい。
The width of the lens 310 (optical element 25) in the second direction Y is larger than the width of the pixel electrode 9a in the second direction Y. The width of the lens 320 in the second direction Y is the pixel electrode 9a.
Is larger than the width in the second direction Y, and smaller than the width of the lens 310 in the second direction Y.
For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the second direction Y, the lens 310 and the lens are arranged at the center Cy side and the second end Ey in the second direction Y. 320 overlaps the pixel electrode 9a over a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the second direction Y is transmitted through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a.

[実施の形態2の変形例2]
図14は、本発明の実施の形態2の変形例2に係る電気光学装置100におけるレンズ
310のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態1と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
[Modification 2 of Embodiment 2]
FIG. 14 is a plan view schematically showing the layout and the like of the lens 310 in the electro-optical device 100 according to the second modification of the second embodiment of the present invention. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図14に示すように、本形態の電気光学装置100でも、実施の形態1、2と同様、複
数の画素電極9aはいずれも、第1ピッチPaxとなるように配列され、複数のレンズ3
10(光学素子25)はいずれも、第2ピッチPbxとなるように配列されている。また
、複数の画素電極9aはいずれも、第3ピッチPayとなるように配列され、複数のレン
ズ310(光学素子25)はいずれも、第4ピッチPbyとなるように配列されている。
また、複数の画素電極9aは、第1方向Xにおける幅が等しく、第2方向Yにおける幅が
等しい。また、実施の形態2と同様、複数のレンズ320はいずれも、第1方向Xにおい
て第5ピッチPcxとなるように配列され、第2方向Yにおいて第6ピッチPcyとなる
ように配列されている。
As shown in FIG. 14, also in the electro-optical device 100 of the present embodiment, as in the first and second embodiments, the plurality of pixel electrodes 9 a are all arranged to have the first pitch Pax, and the plurality of lenses 3.
10 (optical elements 25) are all arranged to have the second pitch Pbx. The plurality of pixel electrodes 9a are all arranged to have the third pitch Pay, and the plurality of lenses 310 (optical elements 25) are all arranged to have the fourth pitch Pby.
The plurality of pixel electrodes 9a have the same width in the first direction X and the same width in the second direction Y. Similarly to the second embodiment, the plurality of lenses 320 are all arranged so as to have the fifth pitch Pcx in the first direction X and arranged so as to have the sixth pitch Pcy in the second direction Y. .

本形態において、第2ピッチPbxは、第1ピッチPaxより長い。このため、第1端
部Ex側に位置するレンズ310の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの中
心より第1方向Xにおける外側に位置する。また、第4ピッチPbyは、第3ピッチPa
yより長い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ310の中心は、第2端部Ey
側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外側に位置する。また、第5ピ
ッチPcxは、第1ピッチPaxより長く、第2ピッチPbxより短い。このため、第1
端部Ex側に位置するレンズ320の中心は、第1端部Ex側に位置する画素電極9aの
中心より第1方向Xにおける外側に位置し、第1端部Ex側に位置するレンズ310の中
心より第1方向Xにおける内側に位置する。また、第6ピッチPcyは、第3ピッチPa
yより長く、第4ピッチPbyより短い。このため、第2端部Ey側に位置するレンズ3
20の中心は、第2端部Ey側に位置する画素電極9aの中心より第2方向Yにおける外
側に位置し、第1端部Ex側に位置するレンズ310の中心より第2方向Yにおける内側
に位置する。
In the present embodiment, the second pitch Pbx is longer than the first pitch Pax. For this reason, the center of the lens 310 located on the first end Ex side is located outside the center of the pixel electrode 9a located on the first end Ex side in the first direction X. The fourth pitch Pby is equal to the third pitch Pa.
longer than y. Therefore, the center of the lens 310 located on the second end Ey side is the second end Ey.
It is located outside in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the side. The fifth pitch Pcx is longer than the first pitch Pax and shorter than the second pitch Pbx. For this reason, the first
The center of the lens 320 positioned on the end portion Ex side is positioned outside the center of the pixel electrode 9a positioned on the first end portion Ex side in the first direction X, and the lens 310 positioned on the first end portion Ex side. It is located inside the first direction X from the center. The sixth pitch Pcy is equal to the third pitch Pa.
It is longer than y and shorter than the fourth pitch Pby. For this reason, the lens 3 located on the second end Ey side.
The center of 20 is located on the outer side in the second direction Y from the center of the pixel electrode 9a located on the second end Ey side, and is located on the inner side in the second direction Y from the center of the lens 310 located on the first end Ex side. Located in.

ここで、第1方向Xの中央Cxでは、レンズ310(光学素子25)の第1方向Xにお
ける幅が画素電極9aの第1方向Xにおける幅と略等しいが、第1端部Ex側に位置する
レンズ310の第1方向Xにおける幅は、第1方向Xの中央Cx側に位置するレンズ31
0の第1方向Xにおける幅より大きい。また、第1方向Xの中央Cxと第1端部Exとの
間では、第1方向Xの中央Cxからから第1端部Exに向けて、レンズ310の第1方向
Xにおける幅が徐々に大きくなっている。また、第1方向Xの中央Cxでは、レンズ32
0の第1方向Xにおける幅が画素電極9aの第1方向Xにおける幅と略等しいが、第1端
部Ex側に位置するレンズ320の第1方向Xにおける幅は、第1方向Xの中央Cx側に
位置するレンズ320の第1方向Xにおける幅より大きい。また、第1方向Xの中央Cx
と第1端部Exとの間では、第1方向Xの中央Cxからから第1端部Exに向けて、レン
ズ320の第1方向Xにおける幅が徐々に大きくなっている。但し、第1方向Xの中央C
xより第1端部Exの側では、レンズ320の第1方向Xにおける幅がレンズ310の第
1方向Xにおける幅より小さい。
Here, at the center Cx in the first direction X, the width of the lens 310 (the optical element 25) in the first direction X is substantially equal to the width of the pixel electrode 9a in the first direction X, but is positioned on the first end Ex side. The width of the lens 310 in the first direction X is the lens 31 located on the center Cx side in the first direction X.
It is larger than the width in the first direction X of 0. Further, between the center Cx in the first direction X and the first end Ex, the width in the first direction X of the lens 310 gradually increases from the center Cx in the first direction X toward the first end Ex. It is getting bigger. At the center Cx in the first direction X, the lens 32
Although the width in the first direction X of 0 is substantially equal to the width in the first direction X of the pixel electrode 9a, the width in the first direction X of the lens 320 located on the first end Ex side is the center of the first direction X. It is larger than the width in the first direction X of the lens 320 located on the Cx side. Also, the center Cx in the first direction X
And the first end portion Ex, the width of the lens 320 in the first direction X gradually increases from the center Cx in the first direction X toward the first end portion Ex. However, the center C in the first direction X
On the first end Ex side of x, the width of the lens 320 in the first direction X is smaller than the width of the lens 310 in the first direction X.

このため、第1基板10に対して第2基板20が第1方向Xにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第1方向Xの中央Cx側および第1端部Exでは、レンズ310および第
2レンズ320が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第1方向Xの内側お
よび外側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい
。それ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the first direction X, the lens 310 and the first end X are located at the center Cx side and the first end Ex in the first direction X. The two lenses 320 overlap the pixel electrode 9a in a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the first direction X passes through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. Therefore, there are effects such as high brightness in the entire projected image.

また、第2方向Yの中央Cyでは、レンズ310(光学素子25)の第2方向Yにおけ
る幅が画素電極9aの第2方向Yにおける幅と略等しいが、第2端部Ey側に位置するレ
ンズ310の第2方向Yにおける幅は、第2方向Yの中央Cy側に位置するレンズ310
の第2方向Yにおける幅より大きい。また、第2方向Yの中央Cyと第2端部Eyとの間
では、第2方向Yの中央Cyから第2端部Eyに向けて、レンズ310の第2方向Yにお
ける幅が徐々に大きくなっている。また、第2方向Yの中央Cyでは、レンズ320の第
2方向Yにおける幅が画素電極9aの第2方向Yにおける幅と略等しいが、第2端部Ey
側に位置するレンズ320の第2方向Yにおける幅は、第2方向Yの中央Cy側に位置す
るレンズ320の第2方向Yにおける幅より大きい。また、第2方向Yの中央Cyと第2
端部Eyとの間では、第2方向Yの中央Cyからから第2端部Eyに向けて、レンズ32
0の第2方向Yにおける幅が徐々に大きくなっている。但し、第2方向Yの中央Cyより
第2端部Eyの側では、レンズ320の第2方向Yにおける幅がレンズ310の第2方向
Yにおける幅より小さい。
In the center Cy in the second direction Y, the width of the lens 310 (optical element 25) in the second direction Y is substantially equal to the width of the pixel electrode 9a in the second direction Y, but is positioned on the second end Ey side. The width of the lens 310 in the second direction Y is the lens 310 located on the center Cy side in the second direction Y.
Greater than the width in the second direction Y. Further, between the center Cy in the second direction Y and the second end Ey, the width of the lens 310 in the second direction Y gradually increases from the center Cy in the second direction Y toward the second end Ey. It has become. Further, at the center Cy in the second direction Y, the width of the lens 320 in the second direction Y is substantially equal to the width of the pixel electrode 9a in the second direction Y, but the second end Ey.
The width in the second direction Y of the lens 320 located on the side is larger than the width in the second direction Y of the lens 320 located on the center Cy side in the second direction Y. Also, the center Cy in the second direction Y and the second
Between the end Ey, the lens 32 extends from the center Cy in the second direction Y toward the second end Ey.
The width of 0 in the second direction Y gradually increases. However, on the side of the second end Ey from the center Cy in the second direction Y, the width of the lens 320 in the second direction Y is smaller than the width of the lens 310 in the second direction Y.

このため、第1基板10に対して第2基板20が第2方向Yにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第2方向Yの中央Cy側および第2端部Eyでは、レンズ310およびレ
ンズ320が画素電極9aに広い範囲で重なっている。従って、第2方向Yの内側および
外側から斜めに入射した光がレンズ310を透過して、画素電極9aに入射しやすい。そ
れ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
For this reason, even when the second substrate 20 is bonded to the first substrate 10 in a state shifted in the second direction Y, the lens 310 and the lens are arranged at the center Cy side and the second end Ey in the second direction Y. 320 overlaps the pixel electrode 9a over a wide range. Therefore, the light incident obliquely from the inside and the outside in the second direction Y is transmitted through the lens 310 and easily enters the pixel electrode 9a. Therefore, there are effects such as high brightness in the entire projected image.

[実施の形態3]
図15は、本発明の実施の形態2に係る電気光学装置100の断面図である。実施の形
態1、2では、集光素子30aとしてのレンズ310の形成領域によって第2基板20の
光学素子25が規定されていた。これに対して、本形態においては、図15に示すように
、第2基板20にレンズ310が形成されておらず、第2基板20において、画素電極9
aと対向する光学素子25は、ブラックマトリクスとして形成された遮光層108eから
なる。かかるブラックマトリクス(遮光層108e)は、入射した光の一部を遮光し、ブ
ラックマトリクス(遮光層108e)で囲まれた領域に入射した光を透過させる。
[Embodiment 3]
FIG. 15 is a cross-sectional view of the electro-optical device 100 according to Embodiment 2 of the present invention. In the first and second embodiments, the optical element 25 of the second substrate 20 is defined by the formation region of the lens 310 as the light condensing element 30a. On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 15, the lens 310 is not formed on the second substrate 20, and the pixel electrode 9 is not formed on the second substrate 20.
The optical element 25 facing a is composed of a light shielding layer 108e formed as a black matrix. The black matrix (light shielding layer 108e) shields a part of the incident light and transmits the incident light to a region surrounded by the black matrix (light shielding layer 108e).

かかる構成の場合も、光学素子25(遮光層108eで囲まれた領域)を実施の形態1
、2で説明したようにレイアウトすれば、第1基板10と第2基板20との位置ずれに起
因する輝度むらの発生を抑制することができる。
Also in such a configuration, the optical element 25 (a region surrounded by the light shielding layer 108e) is provided in the first embodiment.
If the layout is performed as described in 2, it is possible to suppress the occurrence of luminance unevenness due to the positional deviation between the first substrate 10 and the second substrate 20.

[実施の形態4]
図16は、本発明の実施の形態4に係る電気光学装置100の断面図である。実施の形
態1、2では、集光素子30aとしてのレンズ310の形成領域によって第2基板20の
光学素子25が規定されていた。これに対して、本形態においては、図16に示すように
、第2基板20にレンズ310が形成されておらず、第2基板20において、画素電極9
aと対向する光学素子25は、赤色(R)、緑色(G)、および青色(B)に対応するカ
ラーフィルター24(R)、24(G)、24(B)が形成された領域からなる。かかる
カラーフィルター24(R)、24(G)、24(B)は、入射した光のうち一部の波長
の光を透過する。なお、図16に示す態様では、第2基板20において、画素電極9aと
対向する光学素子25は、ブラックマトリクスとして形成された遮光層108eが形成さ
れている。
[Embodiment 4]
FIG. 16 is a cross-sectional view of the electro-optical device 100 according to Embodiment 4 of the present invention. In the first and second embodiments, the optical element 25 of the second substrate 20 is defined by the formation region of the lens 310 as the light condensing element 30a. On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 16, the lens 310 is not formed on the second substrate 20, and the pixel electrode 9 is not formed on the second substrate 20.
The optical element 25 facing a includes a region in which color filters 24 (R), 24 (G), and 24 (B) corresponding to red (R), green (G), and blue (B) are formed. . The color filters 24 (R), 24 (G), and 24 (B) transmit light of a part of the incident light. In the embodiment shown in FIG. 16, in the second substrate 20, the optical element 25 facing the pixel electrode 9a is formed with a light shielding layer 108e formed as a black matrix.

かかる構成の場合も、光学素子25(カラーフィルター24(R)、24(G)、24
(B)の形成領域)を実施の形態1、2で説明したようにレイアウトすれば、第1基板1
0と第2基板20との位置ずれに起因する輝度むらの発生を抑制することができる。
Even in such a configuration, the optical element 25 (color filters 24 (R), 24 (G), 24
If the (B) formation region) is laid out as described in the first and second embodiments, the first substrate 1
Occurrence of luminance unevenness due to the positional deviation between 0 and the second substrate 20 can be suppressed.

[実施の形態5]
実施の形態1、2では、集光素子30aとしてのレンズ310の形成領域によって第2
基板20の光学素子25が規定されていたが、集光素子30aとしてプリズムを第2基板
20に形成した場合、かかるプリズムが形成された領域を光学素子25として、実施の形
態1、2で説明したようにレイアウトしてもよい。
[Embodiment 5]
In the first and second embodiments, the second region is formed by the formation region of the lens 310 as the light condensing element 30a.
Although the optical element 25 of the substrate 20 is defined, when a prism is formed on the second substrate 20 as the light condensing element 30a, the region where the prism is formed is described as the optical element 25 in the first and second embodiments. You may lay out as you did.

[他の電気光学装置への適用例]
上記実施の形態では、電気光学装置として液晶装置を例に挙げて説明したが、本発明は
これに限定されず、電気泳動表示パネルを用いた電気光学装置等に本発明を適用してもよ
い。
[Application example to other electro-optical devices]
In the above embodiment, the liquid crystal device has been described as an example of the electro-optical device. However, the present invention is not limited to this, and the present invention may be applied to an electro-optical device using an electrophoretic display panel. .

[他の投射型表示装置]
上記投射型表示装置においては、透過型の電気光学装置100を用いたが、反射型の電
気光学装置100を用いて投射型表示装置を構成してもよい。また、投射型表示装置にお
いては、光源部として、各色の光を出射するLED光源等を用い、かかるLED光源から
出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成してもよい。
[Other projection display devices]
In the projection type display device, the transmission type electro-optical device 100 is used. However, the reflection type electro-optical device 100 may be used to form the projection type display device. In the projection display device, an LED light source that emits light of each color may be used as the light source unit, and the color light emitted from the LED light source may be supplied to another liquid crystal device. .

[他の電子機器]
本発明を適用した電気光学装置100については、上記の電子機器の他にも、携帯電話
機、情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants
)、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話、POS端末、
タッチパネルを備えた機器等の電子機器において直視型表示装置として用いてもよい。
[Other electronic devices]
The electro-optical device 100 to which the present invention is applied includes, in addition to the above-described electronic apparatus, a mobile phone, a personal digital assistant (PDA: Personal Digital Assistants).
), Digital camera, LCD TV, car navigation device, video phone, POS terminal,
You may use as a direct view type | mold display apparatus in electronic devices, such as an apparatus provided with the touch panel.

9a 画素電極、10 第1基板、10a 表示領域、10e 画素電極配列領域、14
画素トランジスター、14c 第1基板側アライメントマーク、15a 開口領域、1
5b 遮光領域、20 第2基板、21 共通電極、25 光学素子、29 透光性基板
、30 レンズアレイ基板、30a 集光素子、31 レンズアレイ(第1レンズアレイ
)、32 レンズアレイ(第2レンズアレイ)、56c 第2基板側アライメントマーク
、80 電気光学層、100 電気光学装置、110 投射型表示装置、111 スクリ
ーン、118 投射光学系、161 光源部、310 レンズ(第1レンズ)、320
レンズ(第2レンズ)、Cx 第1方向の中心、Cy 第2方向の中心、Ex 第1端部
、Ey 第2端部、Pax 第1ピッチ、Pay 第3ピッチ、Pbx 第2ピッチ、P
by 第4ピッチ、Pcx 第5ピッチ、Pcy 第6ピッチ、X 第1方向、Y 第2
方向
9a pixel electrode, 10 first substrate, 10a display area, 10e pixel electrode arrangement area, 14
Pixel transistor, 14c First substrate side alignment mark, 15a Open region, 1
5b Light-shielding area, 20 Second substrate, 21 Common electrode, 25 Optical element, 29 Translucent substrate, 30 Lens array substrate, 30a Condensing element, 31 Lens array (first lens array), 32 Lens array (second lens) Array), 56c second substrate side alignment mark, 80 electro-optic layer, 100 electro-optic device, 110 projection display device, 111 screen, 118 projection optical system, 161 light source unit, 310 lens (first lens), 320
Lens (second lens), Cx first direction center, Cy second direction center, Ex first end, Ey second end, Pax first pitch, Pay third pitch, Pbx second pitch, P
by 4th pitch, Pcx 5th pitch, Pcy 6th pitch, X 1st direction, Y 2nd
direction

Claims (12)

第1方向に沿って複数の画素電極が配列された第1基板と、
前記複数の画素電極の各々に対応させるように複数の光学素子が配列された第2基板と

を有し、
前記複数の画素電極は、前記第1方向で隣り合う2つの前記画素電極の前記第1方向に
おける中心間の距離がいずれも第1ピッチとなるように配列され、
前記複数の光学素子は、前記第1方向で隣り合う2つの前記光学素子の前記第1方向に
おける中心間の距離がいずれも第2ピッチとなるように配列され、
前記第2ピッチは、前記第1ピッチより長く、
前記複数の光学素子のうち、前記第1方向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複
数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置することを特徴とする電
気光学装置。
A first substrate on which a plurality of pixel electrodes are arranged along a first direction;
A second substrate on which a plurality of optical elements are arranged to correspond to each of the plurality of pixel electrodes;
Have
The plurality of pixel electrodes are arranged so that the distance between the centers of the two pixel electrodes adjacent in the first direction in the first direction is a first pitch,
The plurality of optical elements are arranged so that the distance between the centers of the two optical elements adjacent in the first direction in the first direction is a second pitch,
The second pitch is longer than the first pitch,
Among the plurality of optical elements, the center of the optical element located at the end in the first direction is located outside the center of the corresponding pixel electrode among the plurality of pixel electrodes. Optical device.
請求項1に記載の電気光学装置において、
前記複数の画素電極は、前記第1方向に対して交差する第2方向に沿って配列され、
前記複数の画素電極は、前記第2方向で隣り合う2つの前記画素電極の前記第2方向に
おける中心間の距離がいずれも第3ピッチとなるように配列され、
前記複数の光学素子は、前記第2方向で隣り合う2つの前記光学素子の前記第2方向に
おける中心間の距離がいずれも第4ピッチとなるように配列され、
前記第4ピッチは、前記第3ピッチより長く、
前記複数の光学素子のうち、前記第2方向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複
数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置することを特徴とする電
気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1.
The plurality of pixel electrodes are arranged along a second direction intersecting the first direction,
The plurality of pixel electrodes are arranged such that the distance between the centers in the second direction of two pixel electrodes adjacent in the second direction is a third pitch,
The plurality of optical elements are arranged so that the distance between the centers in the second direction of the two optical elements adjacent in the second direction is a fourth pitch,
The fourth pitch is longer than the third pitch,
Among the plurality of optical elements, the center of the optical element located at the end in the second direction is located outside the center of the corresponding pixel electrode among the plurality of pixel electrodes. Optical device.
請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光するレンズであることを特徴
とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
Each of the plurality of optical elements is a lens that collects incident light, respectively.
請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光する第1レンズであり、
前記第1基板は、前記複数の画素電極の各々に対応させるように配列された複数の第2
レンズを備え、
前記複数の第2レンズは、前記第1方向で隣り合う2つの前記第2レンズの前記第1方
向における中心間の距離がいずれも第5ピッチとなるように配列され、
前記第5ピッチは、前記第1ピッチより長く、かつ、前記第2ピッチより短いことを特
徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
Each of the plurality of optical elements is a first lens that condenses incident light.
The first substrate includes a plurality of second electrodes arranged to correspond to each of the plurality of pixel electrodes.
With a lens,
The plurality of second lenses are arranged such that the distance between the centers of the two second lenses adjacent in the first direction in the first direction is a fifth pitch.
The electro-optical device, wherein the fifth pitch is longer than the first pitch and shorter than the second pitch.
請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光の一部を遮光するブラックマトリク
スであることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
Each of the plurality of optical elements is a black matrix that blocks a part of incident light.
請求項1または2に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光のうち一部の波長の光を透過するカ
ラーフィルターであることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
Each of the plurality of optical elements is a color filter that transmits light having a part of wavelengths among incident light.
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、前記第1方向に沿った幅が、前記複数の画素電極の各々
の前記第1方向に沿った幅より大きいことを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 6,
Each of the plurality of optical elements has a width along the first direction larger than a width along the first direction of each of the plurality of pixel electrodes.
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子のうち、前記第1方向の端部に位置する光学素子の前記第1方向に
沿った幅は、前記第1方向の端部よりも中央側に位置する光学素子の前記第1方向に沿っ
た幅より大きいことを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 6,
Of the plurality of optical elements, the width along the first direction of the optical element located at the end in the first direction is the first width of the optical element located closer to the center than the end in the first direction. An electro-optical device having a width greater than one direction.
請求項1乃至8の何れか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子
機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
請求項9に記載の電子機器において、
前記電気光学装置に供給される光を出射する光源部と、
前記電気光学装置によって変調された光を投射する投射光学系と、
を有することを特徴とする電子機器。
The electronic device according to claim 9,
A light source unit that emits light supplied to the electro-optical device;
A projection optical system that projects light modulated by the electro-optical device;
An electronic device comprising:
第1方向に沿って複数の画素電極が配列された第1基板を準備する第1基板準備工程と

前記第1方向に沿って複数の光学素子が配列された第2基板を準備する第2基板準備工
程と、
前記複数の画素電極と前記複数の光学素子とがそれぞれ対応するように前記第1基板と
前記第2基板と貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を有し、
前記複数の画素電極を前記第1方向で隣り合う2つの前記画素電極の前記第1方向にお
ける中心間の距離がいずれも第1ピッチとなるように配列しておき、
前記複数の光学素子を前記第1方向で隣り合う2つの前記光学素子の前記第1方向にお
ける中心間の距離がいずれも第2ピッチとなるように配列しておき、
前記第2ピッチを、前記第1ピッチより長くしておき、
前記貼り合わせ工程では、前記複数の光学素子のうち、前記第1方向の端部に位置する
光学素子の中心が、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位
置するように前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせることを特徴とする電気光学装
置の製造方法。
A first substrate preparation step of preparing a first substrate on which a plurality of pixel electrodes are arranged along a first direction;
A second substrate preparation step of preparing a second substrate on which a plurality of optical elements are arranged along the first direction;
A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate so that the plurality of pixel electrodes and the plurality of optical elements respectively correspond;
Have
The plurality of pixel electrodes are arranged so that the distance between the centers of the two pixel electrodes adjacent in the first direction in the first direction is a first pitch,
The plurality of optical elements are arranged such that the distance between the centers of the two optical elements adjacent in the first direction in the first direction is a second pitch.
The second pitch is set longer than the first pitch,
In the bonding step, among the plurality of optical elements, the center of the optical element located at the end in the first direction is located outside the center of the corresponding pixel electrode among the plurality of pixel electrodes. In this way, the electro-optical device manufacturing method is characterized in that the first substrate and the second substrate are bonded together.
請求項11に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第1基板準備工程では、前記複数の画素電極が配列された領域よりも外側に第1基
板側アライメントマークが形成された前記第1基板を準備し、
前記第2基板準備工程では、前記複数の光学素子が配列された領域よりも外側に第2基
板側アライメントマークが形成された前記第2基板を準備し、
前記貼り合わせ工程では、前記第1基板側アライメントマークと前記第2基板側アライ
メントマークとを位置合わせして前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせることを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 11.
In the first substrate preparation step, the first substrate on which a first substrate side alignment mark is formed outside a region where the plurality of pixel electrodes are arranged is prepared,
In the second substrate preparation step, the second substrate on which a second substrate side alignment mark is formed outside a region where the plurality of optical elements are arranged is prepared,
In the bonding step, the first substrate side alignment mark and the second substrate side alignment mark are aligned to bond the first substrate and the second substrate together. Method.
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