JP2016222761A - Resin composition, reflector, lead frame with reflector, semiconductor light emitting device, isocyanurate compound for crosslinking agent, and glycoluril compound for crosslinking agent - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂組成物、リフレクター、リフレクター付きリードフレーム、半導体発光装置、架橋剤用イソシアヌレート化合物、及び架橋剤用グリコールウリル化合物に関する。 The present invention relates to a resin composition, a reflector, a lead frame with a reflector, a semiconductor light emitting device, an isocyanurate compound for a crosslinking agent, and a glycoluril compound for a crosslinking agent.
半導体発光装置の一つであるLED素子は、小型で長寿命であり、省電力性に優れることから、表示灯等の光源として広く利用されている。そして近年では、より輝度の高いLED素子が比較的安価に製造されるようになったことから、蛍光ランプ及び白熱電球に替わる光源としての利用が検討されている。このような光源に適用する場合、大きな照度を得るために、表面実装型LEDパッケージを形成する方式、即ち、アルミニウム等の金属製の基板(LED実装用基板)上に複数のLED素子を配置し、各LED素子の周りに光を所定方向に反射させる反射体(以下、リフレクターという)を配設する方式が多用されている。 An LED element, which is one of semiconductor light emitting devices, is widely used as a light source for an indicator lamp or the like because it is small and has a long lifetime and is excellent in power saving. In recent years, LED elements with higher brightness have been manufactured at a relatively low cost, and therefore, use as a light source to replace fluorescent lamps and incandescent bulbs has been studied. When applying to such a light source, in order to obtain a large illuminance, a method of forming a surface-mounted LED package, that is, a plurality of LED elements are arranged on a metal substrate (LED mounting substrate) such as aluminum. A method of arranging a reflector (hereinafter referred to as a reflector) that reflects light in a predetermined direction around each LED element is frequently used.
LED素子は発光時に発熱を伴うため、このような方式のLED照明装置では、LED素子の発光時の温度上昇により、リフレクターの劣化が早まることがあった。リフレクターの劣化は、反射率の低下を招き、LED素子の短寿命化に繋がる。このため、リフレクターには、LED素子の発熱に対する耐熱性が求められている。また、リフレクターに生ずる反りや寸法変化もまた、リフレクターの反射率の低下を引き起こすため、リフレクターには、寸法安定性も要求されている。 Since the LED element generates heat during light emission, in such a type of LED lighting apparatus, the deterioration of the reflector may be accelerated due to a temperature rise during light emission of the LED element. The deterioration of the reflector leads to a decrease in reflectance, leading to a shortened life of the LED element. For this reason, the reflector is required to have heat resistance against the heat generated by the LED element. Moreover, since the curvature and dimensional change which arise in a reflector also cause the reflectance of a reflector to fall, dimensional stability is also requested | required of a reflector.
こうした要求に対し、特許文献1には、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化触媒、無機充填剤、白色顔料、添加剤及び離型剤を含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、樹脂組成物をトランスファー成形して成形金型から離型することで得られる成形品の離型面における表面自由エネルギーを特定し、樹脂組成物の硬化後の光波長400nmにおける光拡散反射率を特定した光反射用樹脂組成物、及びその組成物を用いて製造した光半導体素子搭載用基板等が提案されている。この技術によれば、光半導体素子搭載用基板に必要とされる光学特性及び耐熱着色性等の各種特性に優れるとともに、トランスファー成形法等による成形加工性に優れる熱硬化性光反射用樹脂組成物を提供できるとされている。 In response to these requirements, Patent Document 1 discloses a thermosetting light reflecting resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, a curing catalyst, an inorganic filler, a white pigment, an additive, and a release agent, The light which specified the surface free energy in the mold release surface of the molded product obtained by transfer molding the product and releasing it from the molding die, and the light diffuse reflectance at the light wavelength of 400 nm after curing of the resin composition A reflective resin composition, and an optical semiconductor element mounting substrate manufactured using the composition have been proposed. According to this technology, the thermosetting light reflecting resin composition is excellent in various properties such as optical properties and heat-resistant coloring properties required for a substrate for mounting an optical semiconductor element, and excellent in molding processability by a transfer molding method or the like. It is said that can be provided.
また、特許文献2には、炭素−水素結合を有するフッ素樹脂と、所定量の酸化チタンとを含有する樹脂組成物からなる成形体に、電子線を特定量照射してなる白色樹脂成形体及びLED用リフレクターが提案されている。この技術によれば、150℃以上の高温の環境や光に長時間曝露されても変色しにくい高い耐熱劣化性と耐光劣化性を有し、さらに加工しやすく生産性に優れる等、リフレクター部を構成する材料として好適な特性を有する白色樹脂成形体及びLED用リフレクターを提供することができるとされている。 Patent Document 2 discloses a white resin molded product obtained by irradiating a specific amount of an electron beam onto a molded product comprising a resin composition containing a fluororesin having a carbon-hydrogen bond and a predetermined amount of titanium oxide. LED reflectors have been proposed. According to this technology, the reflector part has a high heat deterioration resistance and light deterioration resistance that are not easily discolored even when exposed to light at a high temperature of 150 ° C. or higher for a long time, and is easy to process and excellent in productivity. It is said that it is possible to provide a white resin molded article and an LED reflector having characteristics suitable as a constituent material.
また、特許文献3には、熱可塑性樹脂と充填材と溶融粘度低下剤とを含み、その溶融粘度低下剤は、所定量含有する多官能アルキル化合物又は所定量含有するダイマー酸ベース熱可塑性樹脂である樹脂組成物及びそれからなる成形体が提案されている。この技術によれば、加工時の溶融流動性に優れた樹脂組成物及びそれからなる成形体を提供することができるとされている。 Patent Document 3 includes a thermoplastic resin, a filler, and a melt viscosity reducing agent, and the melt viscosity reducing agent is a polyfunctional alkyl compound containing a predetermined amount or a dimer acid-based thermoplastic resin containing a predetermined amount. A certain resin composition and a molded body comprising the same have been proposed. According to this technique, it is said that a resin composition excellent in melt fluidity during processing and a molded body comprising the same can be provided.
特に、最近は、LED素子の発光強度をより高めるために、LED素子により大きな電流が印加されて使用される。そのため、LED素子が発熱しやすく、リフレクターには、更に高いレベルの耐熱性及び寸法安定性が要求されている。
そこで、耐熱性の観点から、熱重量減少温度が特定の値よりも高い架橋剤を用いることが提案されている(特許文献4参照)。特許文献4では、169℃以上の架橋剤を用いれば高い耐熱性を付与できて、かつ成形性よく製造できることが開示されている。
通常、耐熱性を高めるためには、架橋剤の添加量を増量することがよいとされている。しかし、耐熱性向上に効果のある熱重量減少温度の高い化合物は、分子量が高いため、増量すると、相溶性がさらに低下する。また、熱重量減少温度の高い化合物は、芳香環構造を含むことが多い。
特許文献4に開示された架橋剤は、芳香環構造を含むことから、熱重量減少温度は高いものの、透明性に優れるポリオレフィン樹脂との相溶性が低下する。
このように、ポリオレフィン樹脂を用いた場合には、樹脂組成物内での架橋剤の分布が不均一となり、得られる樹脂組成物及び該樹脂組成物からなる成形体の特性のばらつきが大きくなる。このため、高い透明性が要求される用途には適用することが難しいという課題があった。このため、熱重量減少温度が高く、相溶性の良好な架橋剤を選択することは困難性が高かった。
In particular, recently, in order to further increase the light emission intensity of the LED element, a large current is applied to the LED element. For this reason, the LED element easily generates heat, and the reflector is required to have higher levels of heat resistance and dimensional stability.
Therefore, from the viewpoint of heat resistance, it has been proposed to use a crosslinking agent having a thermogravimetric reduction temperature higher than a specific value (see Patent Document 4). Patent Document 4 discloses that if a crosslinking agent having a temperature of 169 ° C. or higher can be used, high heat resistance can be imparted and it can be produced with good moldability.
Usually, in order to improve heat resistance, it is considered good to increase the addition amount of a crosslinking agent. However, a compound having a high thermogravimetric decrease temperature that is effective in improving heat resistance has a high molecular weight. Therefore, when the amount is increased, the compatibility further decreases. In addition, a compound having a high thermogravimetry temperature often contains an aromatic ring structure.
Since the crosslinking agent disclosed in Patent Document 4 contains an aromatic ring structure, the thermogravimetric reduction temperature is high, but the compatibility with a polyolefin resin excellent in transparency is lowered.
As described above, when the polyolefin resin is used, the distribution of the cross-linking agent in the resin composition becomes non-uniform, and the characteristics of the resulting resin composition and the molded body made of the resin composition vary greatly. For this reason, there existed a subject that it was difficult to apply to the use for which high transparency is requested | required. For this reason, it was difficult to select a crosslinking agent having a high thermogravimetric reduction temperature and good compatibility.
上記課題に鑑み、本発明は、耐熱性及び成形性に優れ、かつ安定した耐熱性及び成形性を発揮するリフレクターを形成可能な樹脂組成物、該樹脂組成物から成形されるリフレクター、リフレクター付きリードフレーム、半導体発光装置の提供を目的とする。また、該リフレクターを形成可能な樹脂組成物に用いることができ、耐熱性に優れ、且つ、ポリオレフィン樹脂との相溶性が良好な架橋剤用イソシアヌレート化合物、及び架橋剤用グリコールウリル化合物を提供することを目的とする。 In view of the above problems, the present invention provides a resin composition that is excellent in heat resistance and moldability and that can form a reflector that exhibits stable heat resistance and moldability, a reflector molded from the resin composition, and a lead with reflector An object is to provide a frame and a semiconductor light emitting device. The present invention also provides an isocyanurate compound for a crosslinking agent and a glycoluril compound for a crosslinking agent that can be used in a resin composition capable of forming the reflector, have excellent heat resistance, and have good compatibility with a polyolefin resin. For the purpose.
本発明者等は、ポリオレフィン樹脂と特定の構造を有するイソシアヌレート化合物、又はポリオレフィン樹脂と特定の構造を有するグリコールウリル化合物を架橋剤として用いることにより、前記課題を解決した。すなわち、本発明は、
[1]ポリオレフィン樹脂と、架橋剤と、補強性充填材とを含有し、該架橋剤が化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物である樹脂組成物。
The present inventors solved the above problems by using a polyolefin resin and an isocyanurate compound having a specific structure, or a polyolefin resin and a glycoluril compound having a specific structure as a crosslinking agent. That is, the present invention
[1] A resin composition comprising a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler, wherein the crosslinking agent is an isocyanurate compound represented by the chemical formula (1).
式中、Rは、炭素数1〜16のアルキレン基、又は炭素数1〜16のアルキレン基であって、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミノ結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カルバメート結合、チオカルバメート結合及びカーボネート結合のいずれかを単独、複数又はこれらを組み合せて含むものから選ばれる。
In the formula, R is an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms, and includes an ester bond, an ether bond, a thioether bond, an amino bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, and a carbamate. One selected from a bond, a thiocarbamate bond, and a carbonate bond, or a combination thereof.
[2]ポリオレフィン樹脂と、架橋剤と、補強性充填材とを含有し、該架橋剤が化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物である樹脂組成物。 [2] A resin composition comprising a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler, wherein the crosslinking agent is a glycoluril compound represented by the chemical formula (2).
式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又はアリル基を表す。
In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an allyl group.
[3]さらに、白色顔料又は黒色顔料を含む[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4]電離放射線により硬化される[1]〜[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[5]リフレクター用である[1]〜[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6][5]に記載の樹脂組成物を硬化した硬化物からなるリフレクター。
[7][6]に記載のリフレクターを有するリフレクター付きリードフレーム。
[8][6]に記載のリフレクター又は請求項7に記載のリフレクター付きリードフレームを有する半導体発光装置。
[9]化学式(1)で示される架橋剤用イソシアヌレート化合物。
[3] The resin composition according to [1] or [2], further including a white pigment or a black pigment.
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3], which is cured by ionizing radiation.
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4], which is for a reflector.
[6] A reflector comprising a cured product obtained by curing the resin composition according to [5].
[7] A lead frame with a reflector having the reflector according to [6].
[8] A semiconductor light emitting device having the reflector according to [6] or the lead frame with reflector according to claim 7.
[9] An isocyanurate compound for a crosslinking agent represented by the chemical formula (1).
式中、Rは、炭素数1〜16のアルキレン基、又は炭素数1〜16のアルキレン基であって、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミノ結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カルバメート結合、チオカルバメート結合及びカーボネート結合のいずれかを単独、複数又はこれらを組み合せて含むものから選ばれる。
In the formula, R is an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms, and includes an ester bond, an ether bond, a thioether bond, an amino bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, and a carbamate. One selected from a bond, a thiocarbamate bond, and a carbonate bond, or a combination thereof.
[10]化学式(2)で示される架橋剤用グリコールウリル化合物。 [10] A glycoluril compound for a crosslinking agent represented by the chemical formula (2).
式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又はアリル基を表す。
In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an allyl group.
[11]リフレクター用である[9]に記載の架橋剤用イソシアヌレート化合物。
[12]リフレクター用である[10]に記載の架橋剤用グリコールウリル化合物。
[11] The isocyanurate compound for a crosslinking agent according to [9], which is for a reflector.
[12] The glycoluril compound for a crosslinking agent according to [10], which is for a reflector.
本発明によれば、耐熱性及び成形性に優れ、かつ安定した耐熱性及び成形性を発揮するリフレクターを形成可能な樹脂組成物、該樹脂組成物から成形されるリフレクター、リフレクター付きリードフレーム、半導体発光装置を提供できる。また、該リフレクターを形成可能な樹脂組成物に用いることができ、耐熱性に優れ、且つ、ポリオレフィン樹脂との相溶性が良好な架橋剤用イソシアヌレート化合物、及び架橋剤用グリコールウリル化合物を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resin composition which can form the reflector which is excellent in heat resistance and moldability, and exhibits stable heat resistance and moldability, the reflector shape | molded from this resin composition, a lead frame with a reflector, a semiconductor A light emitting device can be provided. Further, it can be used in a resin composition capable of forming the reflector, and can provide an isocyanurate compound for a crosslinking agent and a glycoluril compound for a crosslinking agent that have excellent heat resistance and good compatibility with a polyolefin resin. .
[樹脂組成物]
以下、本発明の実施形態に係る樹脂組成物について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされる規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせは、より好ましいといえる。
第1実施形態に係る樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂と、架橋剤と、補強性充填材とを含有し、該架橋剤が化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物である。
[Resin composition]
Hereinafter, the resin composition according to the embodiment of the present invention will be described in detail. In the present specification, it is possible to arbitrarily adopt a prescription that is preferable, and it can be said that a combination of preferable ones is more preferable.
The resin composition according to the first embodiment contains a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler, and the crosslinking agent is an isocyanurate compound represented by the chemical formula (1).
式中、Rは、炭素数1〜16のアルキレン基、又は炭素数1〜16のアルキレン基であって、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミノ結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カルバメート結合、チオカルバメート結合及びカーボネート結合のいずれかを単独、複数又はこれらを組み合せて含むものから選ばれる。
In the formula, R is an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms, and includes an ester bond, an ether bond, a thioether bond, an amino bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, and a carbamate. One selected from a bond, a thiocarbamate bond, and a carbonate bond, or a combination thereof.
第2実施形態に係る樹脂組成物は、ポリオレフィン樹脂と、架橋剤と、補強性充填材とを含有し、該架橋剤が化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物である。 The resin composition according to the second embodiment contains a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler, and the crosslinking agent is a glycoluril compound represented by the chemical formula (2).
式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又はアリル基を表す。なお、ここで、低級アルキル基とは、炭素数1〜4のアルキル基をいう。
In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an allyl group. Here, the lower alkyl group refers to an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
<ポリオレフィン樹脂>
次に、第1実施形態及び第2実施形態に係る樹脂組成物に適用可能なポリオレフィン樹脂について説明する。ポリオレフィン樹脂とは、主鎖が炭素−炭素結合からなる構成単位の重合体であり、炭素結合には環状の構造を含む場合もある。単独重合体でもよく、他のモノマーと共重合してなる共重合体でもよい。炭素−炭素結合は加水分解反応を起こさないので、耐水性に優れる。
オレフィン樹脂としては、例えば、ノルボルネン誘導体を開環メタセシス重合させた樹脂あるいはその水素添加、エチレン、プロピレン等のオレフィンのそれぞれ単独重合体、あるいはエチレン−プロピレンのブロック共重合体、ランダム共重合体、あるいはエチレン及び/又はプロピレンと、ブテン、ペンテン、ヘキセン等の他のオレフィンとの共重合体、更には、エチレン及び/又はプロピレンと、酢酸ビニル等の他の単量体との共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンが好ましく、融点が230〜240℃と高く、成形温度が280℃程度でも分解せず、耐薬品性及び電気絶縁性に優れているという特性を有することからポリメチルペンテンがより好ましい。
<Polyolefin resin>
Next, the polyolefin resin applicable to the resin composition according to the first embodiment and the second embodiment will be described. The polyolefin resin is a polymer of a structural unit whose main chain is composed of a carbon-carbon bond, and the carbon bond may include a cyclic structure. A homopolymer may be sufficient and the copolymer formed by copolymerizing with another monomer may be sufficient. Since the carbon-carbon bond does not cause a hydrolysis reaction, it has excellent water resistance.
Examples of the olefin resin include, for example, a resin obtained by ring-opening metathesis polymerization of a norbornene derivative or hydrogenation thereof, an olefin homopolymer such as ethylene or propylene, an ethylene-propylene block copolymer, a random copolymer, or Copolymers of ethylene and / or propylene with other olefins such as butene, pentene, hexene, and further copolymers of ethylene and / or propylene with other monomers such as vinyl acetate. It is done. Among them, polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene are preferable, the melting point is as high as 230 to 240 ° C., and they do not decompose even at a molding temperature of about 280 ° C., and have excellent chemical resistance and electrical insulation properties. Polymethylpentene is more preferred.
ポリエチレンとは、エチレンの単独重合体であってもよいし、エチレンと、エチレンと共重合可能な他のコモノマー(例えば、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン等のα−オレフィン、酢酸ビニル、ビニルアルコール等)との共重合体であってもよい。ポリエチレン樹脂としては、例えば、高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)、超低密度ポリエチレン(VLDPE)、超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)、架橋ポリエチレン(PEX)等が挙げられる。これらのポリエチレンは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The polyethylene may be a homopolymer of ethylene, or ethylene and another comonomer copolymerizable with ethylene (for example, α-olefin such as propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, Copolymers with vinyl acetate, vinyl alcohol, etc.) may also be used. Examples of the polyethylene resin include high density polyethylene (HDPE), medium density polyethylene (MDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), very low density polyethylene (VLDPE), and ultra high molecular weight polyethylene ( UHMWPE), cross-linked polyethylene (PEX) and the like. These polyethylenes may be used alone or in combination of two or more.
ポリプロピレンとは、プロピレンの単独重合体であってもよいし、プロピレンと、プロピレンと共重合可能な他のコモノマー(例えば、エチレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン等のα−オレフィン、酢酸ビニル、ビニルアルコール等)との共重合体であってもよい。これらのポリプロピレンは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Polypropylene may be a homopolymer of propylene, or other comonomer copolymerizable with propylene (for example, α-olefin such as ethylene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, Copolymers with vinyl acetate, vinyl alcohol, etc.) may also be used. These polypropylenes may be used alone or in combination of two or more.
ポリメチルペンテン樹脂としては4−メチルペンテン−1の単独重合体が好ましいが、4−メチルペンテン−1と他のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−オクタデセン、1−エイコセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン等の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体で、4−メチル−1−ペンテンを主体とした共重合体でもよい。該共重合体である場合は、耐熱性の観点から、炭素数10〜18のアルケンが共重合されたものが好ましく、炭素数16以上のアルケンが共重合されたものがより好ましい。 The polymethylpentene resin is preferably a homopolymer of 4-methylpentene-1, but 4-methylpentene-1 and other α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-octadecene, 1-eicocene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, etc. And a copolymer mainly composed of 4-methyl-1-pentene. In the case of the copolymer, from the viewpoint of heat resistance, those obtained by copolymerizing alkenes having 10 to 18 carbon atoms are preferred, and those obtained by copolymerizing alkenes having 16 or more carbon atoms are more preferred.
ポリオレフィン樹脂の屈折率は、1.40〜1.60とすることが好ましい。これにより、特に、顔料として白色顔料を用いて樹脂組成物を成形して得られた成形体をリフレクターとした場合、光線反射率を向上させることができる。また、ポリオレフィン樹脂の重量平均分子量が220,000〜800,000であることが好ましい。重量平均分子量が220,000以上であると、樹脂組成物を成形して得られた成形体にクラックが発生しにくくなるので好ましい。例えば、半導体発光装置中にクラックが発生していると、水分が浸入し半導体発光素子が故障するため極端に製品寿命が短くなる。また、重量平均分子量が800,000以下であると、樹脂組成物を成形することが困難とならないので好ましい。ポリオレフィン樹脂の重量平均分子量の下限値は、好ましくは230,000以上、より好ましくは240,000以上である。また、重量平均分子量の上限値は、好ましくは700,000以下、より好ましくは650,000以下である。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が好ましいが、再現性良く重量平均分子量が測定できる手法であれば、これに限定されない。例えば、適切な溶媒で抽出した材料を例示した方法で重量平均分子量を測定することができる。 The refractive index of the polyolefin resin is preferably 1.40 to 1.60. Thereby, especially when the molded object obtained by shape | molding a resin composition using a white pigment as a pigment is made into a reflector, light reflectivity can be improved. Moreover, it is preferable that the weight average molecular weights of polyolefin resin are 220,000-800,000. A weight average molecular weight of 220,000 or more is preferable because cracks are less likely to occur in a molded product obtained by molding a resin composition. For example, if a crack is generated in a semiconductor light emitting device, moisture enters and the semiconductor light emitting element breaks down, resulting in an extremely short product life. Moreover, since it becomes difficult to shape | mold a resin composition as a weight average molecular weight is 800,000 or less, it is preferable. The lower limit of the weight average molecular weight of the polyolefin resin is preferably 230,000 or more, more preferably 240,000 or more. Moreover, the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 700,000 or less, more preferably 650,000 or less. The weight average molecular weight is preferably a polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC), but is not limited to this as long as the method can measure the weight average molecular weight with good reproducibility. For example, the weight average molecular weight can be measured by a method exemplified for a material extracted with an appropriate solvent.
GPCによる重量平均分子量測定条件の例としては、以下の条件を例示することができる。
溶離液:o−ジクロロベンゼン
温度:140〜160℃
流速:1.0mL/min
試料濃度:1.0g/L
注入量:300μL
The following conditions can be illustrated as an example of the weight average molecular weight measurement conditions by GPC.
Eluent: o-dichlorobenzene Temperature: 140-160 ° C
Flow rate: 1.0 mL / min
Sample concentration: 1.0 g / L
Injection volume: 300 μL
<イソシアヌレート化合物>
次に、第1実施形態における架橋剤について説明する。第1実施形態において使用される架橋剤は、上記化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物である。
化学式(1)中のRの炭素数は、ポリオレフィン樹脂との混合性、高温下における良好な貯蔵弾性率、及び良好な寸法安定性を得る観点から、炭素数2〜8であることが好ましい。化学式(1)のRは、さらに、炭素数1〜4の有機基を置換基として有していてもよい。
化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物のうち、Rがアルキレン基のものとしては、
エチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
トリメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
テトラメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
ペンタメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
ヘキサメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
ヘプタメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
オクタメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
ノナメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、
デカメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、及び
ドデカメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)を用いることができる。
また、化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物のうち、Rがエーテル結合を有するものとしては、オキシジエチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)、及び1,2−ビス(3,5−ジアリルイソシアヌルエトキシ)エタンが挙げられる。
<Isocyanurate compound>
Next, the crosslinking agent in 1st Embodiment is demonstrated. The cross-linking agent used in the first embodiment is an isocyanurate compound represented by the above chemical formula (1).
The carbon number of R in the chemical formula (1) is preferably 2 to 8 carbon atoms from the viewpoint of obtaining the mixing property with the polyolefin resin, good storage elastic modulus at high temperature, and good dimensional stability. R in the chemical formula (1) may further have an organic group having 1 to 4 carbon atoms as a substituent.
Among the isocyanurate compounds represented by the chemical formula (1), R is an alkylene group,
Ethylene bis (diallyl isocyanurate),
Trimethylene bis (diallyl isocyanurate),
Tetramethylene bis (diallyl isocyanurate),
Pentamethylene bis (diallyl isocyanurate),
Hexamethylene bis (diallyl isocyanurate),
Heptamethylenebis (diallyl isocyanurate),
Octamethylene bis (diallyl isocyanurate),
Nonamethylene bis (diallyl isocyanurate),
Decamethylene bis (diallyl isocyanurate) and dodecamethylene bis (diallyl isocyanurate) can be used.
Among the isocyanurate compounds represented by the chemical formula (1), those in which R has an ether bond include oxydiethylene bis (diallyl isocyanurate) and 1,2-bis (3,5-diallyl isocyanurethoxy) ethane. Is mentioned.
さらに、化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物としては、下記化学式で示されるものを用いることができる。 Furthermore, as the isocyanurate compound represented by the chemical formula (1), those represented by the following chemical formula can be used.
すなわち、(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−酢酸 2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3、5]トリアジナン−1−イル)−エチルエステル、
(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピオン酸 2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3、5]トリアジナン−1−イル)−エチルエステル、
(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピオン酸 3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3、5]トリアジナン−1−イル)−プロピルエステル、
ジメチレンビス(ジアリルイソシアヌル)スルフィド、
ジエチレンビス(ジアリルイソシアヌル)スルフィド、
1,2−ビス(3,5−ジアリルイソシアヌルエチルチオ)エタン、
2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−N−[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−アセトアミド、
3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−N−[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−プロピオンアミド、
3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−N−[3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピル]−プロピオンアミド、
[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−カルバミン酸 2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチルエステル、
[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−カルバミン酸 3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピルエステル、
[3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピル]−カルバミン酸 2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチルエステル、
1,3−ビス−[2−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−エチル]−尿素、
1−[2−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−エチル]−3−[3−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−プロピル]−尿素、
1,3−ビス−[3−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−プロピル]−尿素、
[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−チオカルバミン酸 O−[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]エステル、
[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]−チオカルバミン酸 O−[3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピル]エステル、
[3−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−プロピル]−チオカルバミン酸 O−[2−(3,5−ジアリル−2,4,6−トリオキソ−[1,3,5]トリアジナン−1−イル)−エチル]エステル、
炭酸 ビス[2−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−エチル]エステル、
炭酸 ビス[3−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−プロピル]エステル、及び炭酸 ビス[4−(3,5−ジアリルイソシアヌル)−ブチル]エステルを用いることができる。
上述したイソシアヌレート化合物は、単独又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
That is, (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -acetic acid 2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [ 1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl ester,
(3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propionic acid 2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1 , 3,5] triazinan-1-yl) -ethyl ester,
(3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propionic acid 3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1 , 3,5] triazinan-1-yl) -propyl ester,
Dimethylene bis (diallyl isocyanur) sulfide,
Diethylenebis (diallyl isocyanuric) sulfide,
1,2-bis (3,5-diallyl isocyanurethylthio) ethane,
2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -N- [2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo -[1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -acetamide,
3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -N- [2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo -[1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -propionamide,
3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -N- [3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo -[1,3,5] triazinan-1-yl) -propyl] -propionamide,
[2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -carbamic acid 2- (3,5-diallyl-2,4, 6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl ester,
[2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -carbamic acid 3- (3,5-diallyl-2,4, 6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propyl ester,
[3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propyl] -carbamic acid 2- (3,5-diallyl-2,4, 6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl ester,
1,3-bis- [2- (3,5-diallyl isocyanur) -ethyl] -urea,
1- [2- (3,5-diallyl isocyanur) -ethyl] -3- [3- (3,5-diallyl isocyanur) -propyl] -urea,
1,3-bis- [3- (3,5-diallyl isocyanur) -propyl] -urea,
[2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -thiocarbamic acid O- [2- (3,5-diallyl- 2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] ester,
[2- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] -thiocarbamic acid O- [3- (3,5-diallyl- 2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propyl] ester,
[3- (3,5-diallyl-2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -propyl] -thiocarbamic acid O- [2- (3,5-diallyl- 2,4,6-trioxo- [1,3,5] triazinan-1-yl) -ethyl] ester,
Carbonic acid bis [2- (3,5-diallyl isocyanur) -ethyl] ester,
Carbonic acid bis [3- (3,5-diallyl isocyanur) -propyl] ester and carbonic acid bis [4- (3,5-diallyl isocyanuric) -butyl] ester can be used.
The above-mentioned isocyanurate compounds may be used alone or in combination of two or more.
イソシアヌレート化合物の純度は、90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましい。当該イソシアヌレート化合物の純度は、製造時の副生成物の含有量に大きく支配されるが、この副生成物の主成分は、イソシアヌル環中のイミド結合開裂による開環で生成したアミン化合物である。このアミン化合物は、当該イソシアヌレート化合物の架橋機能を阻害するとともに硬化物の着色原因となることが知られている。
当該イソシアヌレート化合物は、種々の合成方法により製造できるが、塩基として水酸化ナトリウムのような強塩基を使用する合成反応中においては、一般に、イソシアヌル環が開環しやすく、収率が低下するという問題がある。なお、このアミン化合物は、当該イソシアヌレート化合物と極性が似ているために、このようなアミン化合物を当該イソシアヌレート化合物から容易に分離(除去)できないという難点もある。
また、イソシアヌル環の開環により副生成物としてアミン化合物が生成し、このアミン化合物が当該イソシアヌレート化合物の不純物として含有(混入)した場合には、樹脂の架橋剤として使用すると、樹脂の硬化特性が低下するとともに硬化物の着色原因となる。
The purity of the isocyanurate compound is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more. The purity of the isocyanurate compound is largely governed by the content of by-products at the time of production. The main component of this by-product is an amine compound formed by ring opening by imide bond cleavage in the isocyanuric ring. . This amine compound is known to inhibit the crosslinking function of the isocyanurate compound and cause coloration of the cured product.
The isocyanurate compound can be produced by various synthetic methods, but generally, during a synthesis reaction using a strong base such as sodium hydroxide as a base, the isocyanuric ring is easy to open, resulting in a decrease in yield. There's a problem. In addition, since this amine compound is similar in polarity to the isocyanurate compound, such an amine compound cannot be easily separated (removed) from the isocyanurate compound.
In addition, when an isocyanuric ring is opened, an amine compound is generated as a by-product, and when this amine compound is contained (mixed) as an impurity of the isocyanurate compound, the curing characteristics of the resin are obtained when used as a resin crosslinking agent. Decreases and causes coloration of the cured product.
このような事情から、当該イソシアヌレート化合物は、副生成物としてアミン化合物の生成が抑えられた合成方法で製造されることが好ましい。
より具体的には、当該イソシアヌレート化合物の製造においては、1,3−ジアリルイソシアヌレートとジハロゲン化合物を反応させる際に、塩基として弱塩基である炭酸塩を使用する。
即ち、当該イソシアヌレート化合物は、炭酸塩を使用して、1,3−ジアリルイソシアヌレートとジハロゲン化合物を反応させて製造されるものであることが好ましい。
塩基として弱塩基の炭酸塩を使用するので、製造時におけるイソシアヌル環の開環が抑えられ、反応物である当該イソシアヌレート化合物の精製も容易である。そして、その純度が高められるので、当該イソシアヌレート化合物を樹脂に添加した場合には、当該イソシアヌレート化合物が本来有する架橋機能を発揮させることができる。
Under such circumstances, the isocyanurate compound is preferably produced by a synthesis method in which the production of an amine compound is suppressed as a by-product.
More specifically, in the production of the isocyanurate compound, a carbonate that is a weak base is used as a base when 1,3-diallyl isocyanurate is reacted with a dihalogen compound.
That is, the isocyanurate compound is preferably produced by reacting 1,3-diallyl isocyanurate with a dihalogen compound using a carbonate.
Since a weak base carbonate is used as the base, the opening of the isocyanuric ring during production is suppressed, and purification of the isocyanurate compound as a reaction product is easy. And since the purity is raised, when the said isocyanurate compound is added to resin, the crosslinking function which the said isocyanurate compound originally has can be exhibited.
化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物は、樹脂組成物の他の構成として含まれるポリオレフィン樹脂との相溶性に優れる。また、当該樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に、高温下における良好な貯蔵弾性率を付与することができる。さらに、寸法安定性にも優れるため、半導体発光装置に搭載されるリフレクターを形成するための架橋剤として好適である。すなわち、化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物は、架橋剤用イソシアヌレート化合物ということができる。 The isocyanurate compound represented by the chemical formula (1) is excellent in compatibility with the polyolefin resin contained as another component of the resin composition. Moreover, the favorable storage elastic modulus under high temperature can be provided to the hardened | cured material obtained by hardening the said resin composition. Furthermore, since it is excellent also in dimensional stability, it is suitable as a crosslinking agent for forming the reflector mounted in a semiconductor light-emitting device. That is, the isocyanurate compound represented by the chemical formula (1) can be said to be an isocyanurate compound for a crosslinking agent.
<グリコールウリル化合物>
次に、第2実施形態における架橋剤について説明する。第2実施形態において使用される架橋剤は、上記化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物である。
化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物としては、1−アリルグリコールウリル、1,3−ジアリルグリコールウリル、1,4−ジアリルグリコールウリル、1,6−ジアリルグリコールウリル、1,3,4−トリアリルグリコールウリル、1,3,4,6−テトラアリルグリコールウリル、1−アリル−3a−メチルグリコールウリル、1,3−ジアリル−3a−メチルグリコールウリル、1,4−ジアリル−3a−メチルグリコールウリル、1,6−ジアリル−3a−メチルグリコールウリル、1,3,4−トリアリル−3a−メチルグリコールウリル、1,3,4,6−テトラアリル−3a−メチルグリコールウリル、1−アリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1,3−ジアリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1,4−ジアリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1,6−ジアリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1,3,4−トリアリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1,3,4,6−テトラアリル−3a,6a−ジメチルグリコールウリル、1−アリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、1,3−ジアリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、1,4−ジアリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、1,6−ジアリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、1,3,4−トリアリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル、1,3,4,6−テトラアリル−3a,6a−ジフェニルグリコールウリル等が挙げられる。上述したグリコールウリル化合物は、単独又は2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物は、ポリオレフィン樹脂との混合性、高温下における良好な貯蔵弾性率、及び良好な寸法安定性を得る観点から、上述したなかでは、1,3,4,6−テトラアリルグリコールウリルが、特に好ましい。
化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物は、当該樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に、高温下における良好な貯蔵弾性率を付与することができる。さらに、良好な寸法安定性を示すため、半導体発光装置に搭載されるリフレクターを形成するための架橋剤として好適である。すなわち、化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物は、架橋剤用グリコールウリル化合物ということができる。
<Glycoluril compound>
Next, the crosslinking agent in 2nd Embodiment is demonstrated. The crosslinking agent used in the second embodiment is a glycoluril compound represented by the above chemical formula (2).
Examples of the glycoluril compound represented by the chemical formula (2) include 1-allylglycoluril, 1,3-diallylglycoluril, 1,4-diallylglycoluril, 1,6-diallylglycoluril, 1,3,4-tril. Allyl glycoluril, 1,3,4,6-tetraallylglycoluril, 1-allyl-3a-methylglycoluril, 1,3-diallyl-3a-methylglycoluril, 1,4-diallyl-3a-methylglycoluril 1,6-diallyl-3a-methylglycoluril, 1,3,4-triallyl-3a-methylglycoluril, 1,3,4,6-tetraallyl-3a-methylglycoluril, 1-allyl-3a, 6a -Dimethyl glycoluril, 1,3-diallyl-3a, 6a-dimethylglycol Uril, 1,4-diallyl-3a, 6a-dimethylglycoluril, 1,6-diallyl-3a, 6a-dimethylglycoluril, 1,3,4-triallyl-3a, 6a-dimethylglycoluril, 1,3, 4,6-tetraallyl-3a, 6a-dimethylglycoluril, 1-allyl-3a, 6a-diphenylglycoluril, 1,3-diallyl-3a, 6a-diphenylglycoluril, 1,4-diallyl-3a, 6a- Diphenylglycoluril, 1,6-diallyl-3a, 6a-diphenylglycoluril, 1,3,4-triallyl-3a, 6a-diphenylglycoluril, 1,3,4,6-tetraallyl-3a, 6a-diphenylglycol And uril. The glycoluril compounds described above may be used alone or in combination of two or more.
The glycoluril compound represented by the chemical formula (2) includes 1,3,4,4, from the viewpoint of obtaining a mixing property with a polyolefin resin, a good storage elastic modulus at a high temperature, and a good dimensional stability. 6-tetraallylglycoluril is particularly preferred.
The glycoluril compound represented by the chemical formula (2) can impart a good storage elastic modulus at a high temperature to a cured product obtained by curing the resin composition. Furthermore, in order to show favorable dimensional stability, it is suitable as a crosslinking agent for forming the reflector mounted in a semiconductor light-emitting device. That is, the glycoluril compound represented by the chemical formula (2) can be referred to as a glycoluril compound for a crosslinking agent.
<補強性充填材>
第1実施形態及び第2実施形態のいずれにおいても、樹脂組成物は、補強性充填材を含むことを要する。補強性充填材を含むことにより、該樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の強度を向上させることができる。
補強性充填材は、樹脂組成物やその硬化物に含まれている。また、樹脂組成物と白色材料とともにリフレクターに含まれている。すなわち、補強性充填材は、リフレクターを形成するための反射体形成用組成物に含まれ、その反射体形成用組成物で形成したリフレクターに、樹脂組成物の硬化物及び白色材料とともに含まれている。補強性充填材としては、ガラス繊維を好ましく挙げることができるが、それ以外の材質からなる繊維であってもよい。例えば、ウォラストナイト、針状酸化チタン、針状チタン酸カリウム、タルク、炭素繊維、ボロン繊維、アラミド繊維、ポリエチレン繊維、繊維状のザイロン等の繊維であってもよい。これらの補強性充填材は、単独又は2種以上混合して使用することができる。
<Reinforcing filler>
In both the first embodiment and the second embodiment, the resin composition needs to contain a reinforcing filler. By including the reinforcing filler, the strength of the cured product obtained by curing the resin composition can be improved.
The reinforcing filler is contained in the resin composition and its cured product. Moreover, it is contained in the reflector with the resin composition and the white material. That is, the reinforcing filler is included in the reflector forming composition for forming the reflector, and is included in the reflector formed of the reflector forming composition together with the cured product of the resin composition and the white material. Yes. As the reinforcing filler, glass fibers can be preferably mentioned, but fibers made of other materials may be used. For example, fibers such as wollastonite, acicular titanium oxide, acicular potassium titanate, talc, carbon fiber, boron fiber, aramid fiber, polyethylene fiber, and fibrous xylon may be used. These reinforcing fillers can be used alone or in combination of two or more.
補強性充填材は、その平均長さ(繊維長)が40μm以上100μm以下の範囲内であることが好ましい。この範囲内の繊維長さにすることにより、補強性充填材が硬化物中に多く充填され、得られたリフレクターの強度を高めることができる。また、従来のような長いガラス繊維がリフレクター表面から飛び出して光の反射性を阻害することも少ない。
また、上記範囲内であれば、樹脂組成物の流動性を妨げることが無く、リフレクター形成時の射出成形性が可能である。
さらに、比較的長さの長いガラス繊維は、樹脂組成物の調製時の機械的混合手段で折れてメカノラジカルを発生させ、そのメカノラジカルが電子線硬化性材料を劣化させ易いが、そのため上記範囲の繊維状材料は、そのようなメカノラジカルの発生が起こりにくく、本実施形態に係る樹脂組成物やその硬化物の劣化を抑制できる。
The reinforcing filler preferably has an average length (fiber length) in the range of 40 μm to 100 μm. By setting the fiber length within this range, a large amount of reinforcing filler is filled in the cured product, and the strength of the obtained reflector can be increased. In addition, long glass fibers as in the prior art rarely jump out of the reflector surface and inhibit light reflectivity.
Moreover, if it is in the said range, the injection moldability at the time of reflector formation is possible, without preventing the fluidity | liquidity of a resin composition.
Furthermore, a relatively long glass fiber is broken by a mechanical mixing means at the time of preparing the resin composition to generate a mechano radical, and the mechano radical tends to deteriorate the electron beam curable material. This fibrous material is less likely to generate such mechano radicals and can suppress deterioration of the resin composition and its cured product according to this embodiment.
補強性充填材の断面形態は特に限定されず、円形断面であってもよいし、異形断面であってもよい。断面の平均直径は、5μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましい。なお、補強性充填材の平均長さや直径は、当該樹脂組成物から得られた成形体の表面又は断面を光学顕微鏡やX線CT等で測定することができる。 The cross-sectional form of the reinforcing filler is not particularly limited, and may be a circular cross section or an irregular cross section. The average diameter of the cross section is preferably in the range of 5 μm to 50 μm. The average length and diameter of the reinforcing filler can be measured with an optical microscope, X-ray CT or the like on the surface or cross section of the molded body obtained from the resin composition.
補強性充填材を加えることにより、熱膨張係数(CTE)を小さくすることができる。一般に、銅(CTE=18ppm/℃)からできているリードフレームと熱膨張係数(CTE)の差を小さくできるため、インサート成型により、リフレクターとリードフレームを一体化させた際に反りを抑制できる。また、そのようにして、リフレクターの線膨張係数をリードフレームに近づけることにより、熱サイクル試験等の温度が急激に変化する環境下での寸法変化の差が小さくなり、結果的にリフレクターとリードフレームとの密着性が向上する。本発明の樹脂組成物および、その硬化物の線膨張係数は5〜40ppm/℃が好ましく、10〜30ppm/℃がより好ましい。 By adding a reinforcing filler, the coefficient of thermal expansion (CTE) can be reduced. In general, since the difference between the coefficient of thermal expansion (CTE) and a lead frame made of copper (CTE = 18 ppm / ° C.) can be reduced, warping can be suppressed when the reflector and the lead frame are integrated by insert molding. In addition, by making the linear expansion coefficient of the reflector close to that of the lead frame in this way, the difference in dimensional change in an environment where the temperature changes rapidly, such as in a heat cycle test, is reduced. As a result, the reflector and the lead frame Adhesion with is improved. The linear expansion coefficient of the resin composition of the present invention and its cured product is preferably 5 to 40 ppm / ° C, more preferably 10 to 30 ppm / ° C.
本実施形態において、樹脂組成物に使用可能な補強性充填材は、繊維状フィラーであることが好ましい。繊維状フィラーの径方向の断面積は、1μm2以上100μm2以下であることが好ましい。
繊維状フィラーの径方向の断面積が1μm2以上であれば、加工時に繊維長方向で破損しにくく、また折れにくく、十分な補強効果が得られ、成形体の耐熱性を高めることができる。
繊維状フィラーの径方向の断面積が100μm2以下であれば、良好な流動性が得られ、リフレクターと基板の界面付近まで均一に充填することができ、界面付近の十分な強度が得られ、半導体発光装置等に用いた場合にリフレクターと基板との密着性を高めることができる。
上記観点から、繊維状フィラーの径方向の断面積の下限値は、好ましくは、30μm2であり、より好ましくは、35μm2である。また、繊維状フィラーの径方向の断面積の上限値は、好ましくは、85μm2であり、より好ましくは、50μm2である。
繊維状フィラーとしては、アスベスト繊維、炭素繊維、グラファイト繊維、金属繊維、スラグ繊維、石膏繊維、シリカ繊維、シリカ−アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化珪素繊維、ホウ素繊維、ガラス繊維等が挙げられる。
これらのなかでも、リフレクターの光反射面を形成し、光線反射率を向上させる観点から、繊維状フィラーが二酸化ケイ素を60質量%以上含むガラス繊維を用いることが好ましい。繊維状フィラーにおける二酸化ケイ素の割合は、65質量%以上であることがより好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。
In the present embodiment, the reinforcing filler that can be used in the resin composition is preferably a fibrous filler. The radial cross-sectional area of the fibrous filler is preferably 1 μm 2 or more and 100 μm 2 or less.
If the cross-sectional area in the radial direction of the fibrous filler is 1 μm 2 or more, it is difficult to break in the fiber length direction during processing, it is difficult to break, a sufficient reinforcing effect can be obtained, and the heat resistance of the molded body can be increased.
If the cross-sectional area in the radial direction of the fibrous filler is 100 μm 2 or less, good fluidity is obtained, it can be uniformly filled to the vicinity of the interface between the reflector and the substrate, and sufficient strength near the interface is obtained, When used in a semiconductor light emitting device or the like, the adhesion between the reflector and the substrate can be enhanced.
From the above viewpoint, the lower limit value of the cross-sectional area in the radial direction of the fibrous filler is preferably 30 μm 2 , and more preferably 35 μm 2 . The upper limit of the cross-sectional area in the radial direction of the fibrous filler is preferably a 85 .mu.m 2, more preferably 50 [mu] m 2.
As the fibrous filler, asbestos fiber, carbon fiber, graphite fiber, metal fiber, slag fiber, gypsum fiber, silica fiber, silica-alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, boron fiber, glass fiber, etc. Can be mentioned.
Among these, from the viewpoint of forming the light reflecting surface of the reflector and improving the light reflectivity, it is preferable to use glass fibers in which the fibrous filler contains 60% by mass or more of silicon dioxide. The ratio of silicon dioxide in the fibrous filler is more preferably 65% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more.
繊維状フィラーの断面形状は、一般的な、略円形状であってもよいし、扁平形状等の異形断面であってもよい。さらに断面形状、断面積が一定の繊維でなくともよい。この場合の断面績は長さ方向に異なる断面積を平均して得られた断面積として規定される。
一例として、繊維状フィラーがガラス繊維の場合には、断面のサイズとしては、上述の断面積の規定を満足し、かつ断面の短径D1が0.5μm以上25μm以下、長径D2が0.5μm以上300μm以下、D1に対するD2の比D2/D1が1.0以上30以下であることが好ましい。また、ガラス繊維の平均繊維長は、0.75μm以上300μm以下であることが好ましい。このようなガラス繊維は、ミルドファイバーとも呼ばれ、長繊維を粉砕して得ることができる。
The cross-sectional shape of the fibrous filler may be a general, substantially circular shape, or an irregular cross-section such as a flat shape. Furthermore, the fibers need not have constant cross-sectional shape and cross-sectional area. The cross-sectional performance in this case is defined as a cross-sectional area obtained by averaging different cross-sectional areas in the length direction.
As an example, when the fibrous filler is glass fiber, the size of the cross section satisfies the above-mentioned definition of the cross sectional area, the short axis D1 of the cross section is 0.5 μm or more and 25 μm or less, and the long diameter D2 is 0.5 μm. It is preferable that the ratio D2 / D1 of D2 to D1 is 1.0 to 30 and 300 μm or less. Moreover, it is preferable that the average fiber length of glass fiber is 0.75 micrometer or more and 300 micrometers or less. Such glass fibers are also called milled fibers, and can be obtained by pulverizing long fibers.
板状又は粒子状の補強性充填材としては、シリカ粒子、層状珪酸塩、有機オニウムイオンで交換された層状珪酸塩、ガラスフレーク、非膨潤性雲母、グラファイト、金属箔、セラミックビーズ、クレイ、マイカ、セリサイト、ゼオライト、ベントナイト、ドロマイト、カオリン、粉末珪酸、長石粉、シラスバルーン、石膏、ノバキュライト、ドーソナイト及び白土フラーレンなどのカーボンナノ粒子等を用いることが好ましい。 Plate-like or particulate reinforcing fillers include silica particles, layered silicates, layered silicates exchanged with organic onium ions, glass flakes, non-swelling mica, graphite, metal foil, ceramic beads, clay, mica It is preferable to use carbon nanoparticles such as sericite, zeolite, bentonite, dolomite, kaolin, powdered silicic acid, feldspar powder, shirasu balloon, gypsum, novaculite, dosonite, and white clay fullerene.
<顔料>
第1実施形態及び第2実施形態のいずれにおいても、樹脂組成物は、白色顔料又は黒色顔料を含んでいてもよい。白色顔料又は黒色顔料を含むことにより、樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の光線反射率を高める或いは低下させることができる。
白色顔料としては、酸化チタン、アルミナ、タルク、水酸化アルミニウム、マイカ、炭酸カルシウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、硫酸バリウム、チタン酸カリウム等を単独もしくは混合して用いることが可能である。
白色顔料は、本実施形態に係る樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に白色系の色調を付与することができ、特にその色調を高度の白色とする場合には、硬化物の光線反射率を向上させることができる。
本実施形態に係る樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物の光線反射率を向上させたものは、リフレクターとして用いることができる。特に硬化物をリフレクターとして用いる場合、良好な光線反射率が要求されるため、白色顔料としては、入手が容易で、光線反射率にも優れる酸化チタンを用いることが好ましい。
白色顔料の平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50として求めることができる。白色顔料の平均粒径は、樹脂組成物の成形性を考慮し、かつ高い反射率を得る観点から、一次粒度分布において0.05〜100μmであることが好ましく、0.1〜10μmであることがより好ましく、0.2〜1μmであることがさらに好ましい。
また、黒色顔料とは、少なくとも可視光線領域(400〜700nm)において、光線反射率が1%未満を示す粉末であり、本実施形態に係る樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に黒色系の色調を付与することができ、硬化物の光線反射率を低下させることができる。
このような光線反射率を低下させた硬化物も特定用途のLEDのリフレクターとして用いられている。黒色顔料としては、カーボンブラック又はグラファイトが好ましく用いられる。
<Pigment>
In both the first embodiment and the second embodiment, the resin composition may contain a white pigment or a black pigment. By including a white pigment or a black pigment, the light reflectance of the cured product obtained by curing the resin composition can be increased or decreased.
As the white pigment, titanium oxide, alumina, talc, aluminum hydroxide, mica, calcium carbonate, zinc sulfide, zinc oxide, barium sulfate, potassium titanate and the like can be used alone or in combination.
The white pigment can give a white color tone to the cured product obtained by curing the resin composition according to the present embodiment, and particularly when the color tone is highly white, the light reflection of the cured product. The rate can be improved.
What improved the light reflectivity of the hardened | cured material obtained by hardening the resin composition which concerns on this embodiment can be used as a reflector. In particular, when a cured product is used as a reflector, a good light reflectance is required. Therefore, as a white pigment, it is preferable to use titanium oxide that is easily available and excellent in light reflectance.
The average particle diameter of the white pigment can be obtained as a mass average value D50 in particle size distribution measurement by a laser light diffraction method. The average particle size of the white pigment is preferably 0.05 to 100 μm, and preferably 0.1 to 10 μm in the primary particle size distribution from the viewpoint of obtaining the moldability of the resin composition and obtaining high reflectance. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.2-1 micrometer.
Further, the black pigment is a powder having a light reflectance of less than 1% at least in the visible light region (400 to 700 nm), and a black product is obtained by curing the resin composition according to this embodiment. Color tone can be imparted, and the light reflectance of the cured product can be reduced.
Such a cured product having a reduced light reflectivity is also used as a reflector for LEDs for specific applications. As the black pigment, carbon black or graphite is preferably used.
<流動性向上剤>
本実施形態に係る樹脂組成物が、上述した顔料及び補強性充填材を含む場合には、流動性向上剤を含むことが好ましい。これにより、樹脂組成物の成形性を向上させることができる。
流動性向上剤としては、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、極性ワックス、流動パラフィン、シランカップリング剤として使用されているシラン化合物、及び金属せっけん等が挙げられる。上記流動性向上剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本実施形態においては、樹脂に対する無機物質の分散性、相溶性が高く、リフレクターとした際の反射率、機械的特性、寸法安定性を向上させることができる観点から、シランカップリング剤として使用されているシラン化合物を用いることが好ましい。
これらのシラン化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン等のジシラザン;環状シラザン;トリメチルシラン、トリメチルクロルシラン、ジメチルジクロルシラン、メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン、トリメトキシシラン、ベンジルジメチルクロルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ヘキサデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、及びビニルトリアセトキシシラン等のアルキルシラン化合物;γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びN−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等のアミノシラン化合物;等を挙げることができる。
<Fluidity improver>
When the resin composition according to the present embodiment includes the above-described pigment and reinforcing filler, it is preferable to include a fluidity improver. Thereby, the moldability of a resin composition can be improved.
Examples of the fluidity improver include polyethylene wax, polypropylene wax, polar wax, liquid paraffin, silane compounds used as silane coupling agents, and metal soap. As for the said fluid improvement agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
In this embodiment, it is used as a silane coupling agent from the viewpoint that the dispersibility and compatibility of the inorganic substance with respect to the resin are high, and the reflectance, mechanical characteristics, and dimensional stability when used as a reflector can be improved. It is preferable to use a silane compound.
Examples of these silane compounds include disilazane such as hexamethyldisilazane; cyclic silazane; trimethylsilane, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, allyldimethylchlorosilane, trimethoxysilane, benzyldimethylchlorosilane, Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylmethoxysilane, hydroxypropyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-hexadecyl Trimethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyl Alkylsilane compounds such as limethoxysilane and vinyltriacetoxysilane; γ-aminopropyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane And aminosilane compounds such as hexyltrimethoxysilane; and the like.
<その他の添加剤>
第1実施形態及び第2実施形態のいずれの樹脂組成物も、本発明の効果を損なわない限り、上述した化合物以外の種々の添加剤を含有させることができる。
例えば、樹脂組成物の性質を改善する目的で、種々のシリコーンパウダー、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、脂肪酸エステル、グリセリン酸エステル、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の内部離型剤や、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系、イソシアヌレート系、シュウ酸アニリド系、ベンゾエート系、ヒンダートアミン系、ベンゾトリアゾール系、フェノール系等の酸化防止剤や、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系等の光安定剤といった添加剤を配合することができる。
<Other additives>
Any resin composition of the first embodiment and the second embodiment can contain various additives other than the above-described compounds as long as the effects of the present invention are not impaired.
For example, for the purpose of improving the properties of the resin composition, various silicone powders, thermoplastic elastomers, organic synthetic rubbers, fatty acid esters, glycerate esters, zinc stearate, calcium stearate and other internal mold release agents, benzophenone series, Additives such as antioxidants such as salicylic acid, cyanoacrylate, isocyanurate, oxalic anilide, benzoate, hindered amine, benzotriazole, and phenol, and light stabilizers such as hindered amine and benzoate Can be blended.
<各成分の配合割合>
(架橋剤)
第1実施形態に係る樹脂組成物における架橋剤(化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物)の配合量と、第2実施形態に係る樹脂組成物における架橋剤(化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物)の配合量は、いずれも、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、0.1〜50質量部とすることが好ましく、10〜40質量部とすることが好ましい。
化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物の配合量及び化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物の配合量を上記範囲内とすることにより、樹脂組成物の成形性と、該樹脂組成物を硬化させた硬化物の耐熱性とを両立させることができる。
(補強性充填材)
第1実施形態に係る樹脂組成物及び第2実施形態に係る樹脂組成物のいずれも、補強性充填材の配合量は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、60〜200質量部とすることが好ましく、80〜150質量部とすることがより好ましい。補強性充填材の配合量を上記範囲内とすることにより、樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物に十分な強度を付与することができる。また、上記範囲内とすることにより、当該樹脂組成物を用いて、射出成形により成形体を得ることができる。
(顔料)
第1実施形態に係る樹脂組成物及び第2実施形態に係る樹脂組成物のいずれも、白色顔料又は黒色顔料の配合量は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、10〜1000質量部とすることが好ましく、50〜800質量部とすることがより好ましく、100〜600質量部とすることがさらに好ましい。顔料の配合量を上記範囲内とすることにより、樹脂組成物から得られる硬化物において、顔料の効果を十分に発揮させることができ、かつ樹脂組成物を成形する際に成形性を確保することができる。
(流動性向上剤)
第1実施形態に係る樹脂組成物及び第2実施形態に係る樹脂組成物のいずれも、流動性向上剤を用いる場合には、その配合量は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、0.1〜50質量部とすることが好ましい。
<Combination ratio of each component>
(Crosslinking agent)
The amount of the crosslinking agent (isocyanurate compound represented by chemical formula (1)) in the resin composition according to the first embodiment and the crosslinking agent (glycol represented by chemical formula (2) in the resin composition according to the second embodiment. The blending amount of (uril compound) is preferably 0.1 to 50 parts by mass, and preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin.
By setting the blending amount of the isocyanurate compound represented by the chemical formula (1) and the blending amount of the glycoluril compound represented by the chemical formula (2) within the above ranges, the moldability of the resin composition and the resin composition are cured. It is possible to achieve both the heat resistance of the cured product.
(Reinforcing filler)
In both the resin composition according to the first embodiment and the resin composition according to the second embodiment, the compounding amount of the reinforcing filler may be 60 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin. Preferably, it is more preferable to set it as 80-150 mass parts. By making the compounding quantity of a reinforcing filler into the said range, sufficient intensity | strength can be provided to the hardened | cured material obtained by hardening a resin composition. Moreover, by setting it as the said range, a molded object can be obtained by injection molding using the said resin composition.
(Pigment)
In both the resin composition according to the first embodiment and the resin composition according to the second embodiment, the blending amount of the white pigment or the black pigment is 10 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin. Is preferable, it is more preferable to set it as 50-800 mass parts, and it is more preferable to set it as 100-600 mass parts. By making the blending amount of the pigment within the above range, in the cured product obtained from the resin composition, the effect of the pigment can be sufficiently exhibited, and the moldability is ensured when the resin composition is molded. Can do.
(Fluidity improver)
When both the resin composition according to the first embodiment and the resin composition according to the second embodiment use a fluidity improver, the blending amount is 0.1 with respect to 100 parts by mass of the polyolefin resin. It is preferable to set it as -50 mass parts.
[リフレクター用樹脂組成物]
上述した樹脂組成物は、半導体発光装置のリフレクターを形成するためのリフレクター用樹脂組成物として好適である。
[Resin composition for reflector]
The resin composition described above is suitable as a reflector resin composition for forming a reflector of a semiconductor light emitting device.
[リフレクター]
上述した本実施形態に係る樹脂組成物から、半導体発光装置のリフレクターを形成することができる。リフレクターは、主として、半導体発光装置のLED素子からの光をレンズ(出光部)の方へ反射させる作用を有する。リフレクターの詳細については、後述する半導体発光装置とともに説明する。リフレクターは、半導体発光装置に組み込まれていてもよいし、他の材料からなる半導体発光装置(LED実装用基板)と組み合わせて用いられてもよい。
本実施形態に係るリフレクターを製造するには、まず、上述の樹脂組成物を溶融混練することにより、ペレット等の造粒物を形成する。溶融混練方法としては、溶融混練押出機、2本ロールあるいは3本ロール、ホモジナイザー、プラネタリーミキサー等の撹拌機、ポリラボシステムやラボプラストミル等の溶融混練機等の公知の溶融混練方法を用いることができる。
さらに、該樹脂組成物を、各種成形方法を用いて所定形状の成形体とする。成形方法としては、トランスファー成形、圧縮成形、射出成形等の成形方法を用いることができる。
例えば、射出成形方法を用いる場合、シリンダー温度200〜400℃、金型温度20〜150℃で射出成形して成形体を得ることができる。
このようにして得られた成形体を、硬化処理することにより樹脂組成物の硬化物を得ることができる。硬化処理する方法としては、電離放射線を照射する方法を用いることができる。電離放射線としては、電子線、紫外線を用いることができる。比較的短時間で硬化物を得ることができる観点から、電子線を用いることが好ましい。
電離放射線として、電子線を用いる場合、電子線の加速電圧については、用いる樹脂組成物の大きさや成形体の厚みに応じて適宜選定し得る。例えば、厚みが1mm程度の成形体の場合は通常加速電圧250〜3000kV程度で、使用した架橋処理剤を架橋し、硬化させることができる。なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、基材として電子線により劣化する基材を使用する場合には、電子線の透過深さと成形体の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、成形体への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による成形体の劣化を最小限にとどめることができる。また、電子線を照射する際の吸収線量は樹脂組成物の組成により適宜設定されるが、成形体中の架橋密度が飽和する量が好ましく、照射線量は50〜600kGyであることが好ましく、特に100〜250kGyであることが好ましい。
さらに、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。
上述のようにして該樹脂組成物を電離放射線により硬化してなる硬化物からリフレクターを形成することができる。
[Reflector]
A reflector of a semiconductor light emitting device can be formed from the resin composition according to this embodiment described above. The reflector mainly has an action of reflecting light from the LED element of the semiconductor light emitting device toward the lens (light emitting portion). Details of the reflector will be described together with a semiconductor light emitting device described later. The reflector may be incorporated in the semiconductor light emitting device, or may be used in combination with a semiconductor light emitting device (LED mounting substrate) made of another material.
In order to manufacture the reflector according to the present embodiment, first, a granulated product such as a pellet is formed by melt-kneading the above resin composition. As the melt-kneading method, a known melt-kneading method such as a melt-kneading extruder, a two-roll or three-roll, a stirrer such as a homogenizer or a planetary mixer, or a melt-kneader such as a polylab system or a lab plast mill is used. be able to.
Furthermore, the resin composition is formed into a predetermined shape using various molding methods. As a molding method, a molding method such as transfer molding, compression molding or injection molding can be used.
For example, when an injection molding method is used, a molded body can be obtained by injection molding at a cylinder temperature of 200 to 400 ° C. and a mold temperature of 20 to 150 ° C.
A cured product of the resin composition can be obtained by curing the molded body thus obtained. As a curing method, a method of irradiating with ionizing radiation can be used. As the ionizing radiation, an electron beam or an ultraviolet ray can be used. From the viewpoint of obtaining a cured product in a relatively short time, it is preferable to use an electron beam.
When an electron beam is used as the ionizing radiation, the acceleration voltage of the electron beam can be appropriately selected according to the size of the resin composition to be used and the thickness of the molded body. For example, in the case of a molded body having a thickness of about 1 mm, the used crosslinking agent can be crosslinked and cured at an acceleration voltage of about 250 to 3000 kV. In addition, in electron beam irradiation, the transmission capability increases as the acceleration voltage increases. Therefore, when using a base material that deteriorates due to the electron beam as the base material, the transmission depth of the electron beam and the thickness of the molded body are substantially equal. By selecting the accelerating voltage so as to be equal to each other, it is possible to suppress irradiation of an excessive electron beam to the molded body, and to minimize degradation of the molded body due to excess electron beams. Further, the absorbed dose when irradiating with an electron beam is appropriately set depending on the composition of the resin composition, but an amount at which the crosslinking density in the molded body is saturated is preferable, and the irradiated dose is preferably 50 to 600 kGy, particularly It is preferable that it is 100-250 kGy.
Further, the electron beam source is not particularly limited. For example, various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. Can be used.
The reflector can be formed from a cured product obtained by curing the resin composition with ionizing radiation as described above.
[リフレクター付きリードフレーム]
本発明の実施形態に係るリフレクター付きリードフレームの、リードフレームとは、リフレクターを載置するための基板を示す。本発明の実施形態に係るリフレクター付きリードフレームは、上述の樹脂組成物の硬化物からなるリフレクターを用いて形成することができる。
リードフレームは、半導体発光装置の分野で用いられるものあればいかなるものであっても使用可能である。リードフレームの材料としては、例えば、アルミナや、窒化アルミニウム、ムライト、ガラスなどの焼結体から構成されるセラミック等を挙げることができる。これ以外にも、ポリイミド樹脂等のフレキシブル性を有する樹脂材料等を挙げることができる。特に金属よりなるリードフレームとしては、アルミニウム、銅及び銅の合金が用いられることが多く、反射率の向上のため銀などの反射率が高い貴金属によりメッキされることも多い。特に金属で形成されたリフレクター用基板は、リードフレームと呼称されることも多い。リードフレームに形成された端子部等は、ハーフエッチングにより形成されていてもよい。具体的には、上記のリードフレームに、上述した樹脂組成物を射出成形することにより、所望のリフレクター形状に成形し、硬化させることで、本発明のリフレクター付きリードフレームが製造される。
本実施形態に係るリフレクター付きリードフレームの厚さ(リフレクターの厚み)は、0.02〜3.0mmであることが好ましく、0.05〜1.0mmであることがより好ましく、0.05〜0.8mmであることがさらに好ましい。
本実施形態に係るリフレクター付きリードフレームは、これにLED素子を載せてさらに公知の封止剤により封止を行い、ダイボンディングを行なって所望の形状にすることで、半導体発光装置とすることができる。
なお、本実施形態に係るリフレクター付きリードフレームは、リフレクターとして作用するが、半導体発光装置を支える枠としても機能している。特に、補強性充填材を含むリフレクターを半導体発光装置の周囲を取り囲むように形成することで、半導体発光装置の強度を高めることができる。
[Lead frame with reflector]
In the lead frame with reflector according to the embodiment of the present invention, the lead frame refers to a substrate on which the reflector is placed. The lead frame with a reflector according to the embodiment of the present invention can be formed using a reflector made of a cured product of the resin composition described above.
Any lead frame can be used as long as it is used in the field of semiconductor light emitting devices. Examples of the material of the lead frame include ceramics made of a sintered body such as alumina, aluminum nitride, mullite, and glass. In addition, a resin material having flexibility such as polyimide resin can be used. In particular, a lead frame made of metal is often made of aluminum, copper, or an alloy of copper, and is often plated with a noble metal having a high reflectance such as silver in order to improve the reflectance. In particular, a reflector substrate made of metal is often called a lead frame. Terminal portions and the like formed on the lead frame may be formed by half etching. Specifically, the lead frame with a reflector of the present invention is manufactured by molding the resin composition described above on the above-described lead frame into a desired reflector shape and curing it.
The thickness of the lead frame with reflector according to the present embodiment (reflector thickness) is preferably 0.02 to 3.0 mm, more preferably 0.05 to 1.0 mm, and 0.05 to More preferably, it is 0.8 mm.
The lead frame with a reflector according to the present embodiment can be made into a semiconductor light emitting device by mounting an LED element on the reflector, further sealing with a known sealant, and die bonding to obtain a desired shape. it can.
In addition, although the lead frame with a reflector which concerns on this embodiment acts as a reflector, it is functioning also as a frame which supports a semiconductor light-emitting device. In particular, the strength of the semiconductor light emitting device can be increased by forming the reflector including the reinforcing filler so as to surround the periphery of the semiconductor light emitting device.
[半導体発光装置]
本実施形態に係る半導体発光装置について、図面を用いて説明する。図1に示すように、本実施形態に係る半導体発光装置は、光半導体素子10と、この光半導体素子10の周りに設けられ、光半導体素子10からの光を所定方向に反射させる光反射面を有するリフレクター12とを基板14上に有してなる。光半導体素子10は、LED素子又はLEDパッケージであることが好ましい。半導体発光装置において、リフレクター12は、光反射面の少なくとも一部(図1の場合は全部)が、上述した樹脂組成物からなる成形体で構成されている。
光半導体素子10は、放射光(一般に、白色光LEDにおいてはUV又は青色光)を放出する、例えば、AlGaAs、AlGaInP、GaP又はGaNからなる活性層を、n型及びp型のクラッド層により挟んだダブルヘテロ構造を有する半導体チップ(発光体)であり、例えば、一辺の長さが0.5mm程度の六面体の形状をしている。そして、ワイヤーボンディング実装の形態の場合には、リード線16を介して不図示の電極(接続端子)に接続されている。
リフレクター12の形状は、レンズ18の端部(接合部)の形状に準じており、通常、角形、円形、楕円形等の筒状又は輪状である。図1の概略断面図においては、リフレクター12は、筒状体(輪状体)であり、リフレクター12のすべての端面が基板14の表面に接触、固定されている。
なお、リフレクター12の内面は、光半導体素子10からの光の指向性を高めるために、テーパー状に上方に広げられていてもよい(図1参照)。図1に示す半導体発光装置の場合には、リフレクター12の上方側端面における厚みは、基板との固定側端面における厚みよりも薄くなるが、リフレクター12が補強性充填材を含むことにより、リフレクター12の上方側端面の強度を高めることができる。
また、リフレクター12は、レンズ18側の端部を、当該レンズ18の形状に応じた形に加工された場合には、レンズホルダーとしても機能させることができる。
[Semiconductor light-emitting device]
The semiconductor light emitting device according to this embodiment will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the semiconductor light emitting device according to this embodiment includes an optical semiconductor element 10 and a light reflecting surface that is provided around the optical semiconductor element 10 and reflects light from the optical semiconductor element 10 in a predetermined direction. And a reflector 12 having the above structure on the substrate 14. The optical semiconductor element 10 is preferably an LED element or an LED package. In the semiconductor light emitting device, the reflector 12 is formed of a molded body made of the resin composition described above, at least a part of the light reflecting surface (in the case of FIG. 1, all).
The optical semiconductor element 10 emits radiated light (generally UV or blue light in a white light LED), for example, an active layer made of AlGaAs, AlGaInP, GaP or GaN sandwiched between n-type and p-type cladding layers. It is a semiconductor chip (light emitter) having a double heterostructure, and has a hexahedral shape with a side length of about 0.5 mm, for example. In the case of wire bonding mounting, it is connected to an electrode (connection terminal) (not shown) via a lead wire 16.
The shape of the reflector 12 conforms to the shape of the end portion (joint portion) of the lens 18 and is usually a cylindrical shape such as a square shape, a circular shape, or an oval shape, or an annular shape. In the schematic cross-sectional view of FIG. 1, the reflector 12 is a cylindrical body (annular body), and all the end faces of the reflector 12 are in contact with and fixed to the surface of the substrate 14.
In addition, in order to improve the directivity of the light from the optical semiconductor element 10, the inner surface of the reflector 12 may be expanded upward in a tapered shape (see FIG. 1). In the case of the semiconductor light emitting device shown in FIG. 1, the thickness at the upper end surface of the reflector 12 is smaller than the thickness at the end surface on the fixed side with respect to the substrate. It is possible to increase the strength of the upper side end surface of.
The reflector 12 can also function as a lens holder when the end portion on the lens 18 side is processed into a shape corresponding to the shape of the lens 18.
図2に示すように、リフレクター12が光反射面側だけを、上述した樹脂組成物からなる光反射層12bとして形成されていてもよい。この場合、光反射層12bの厚さは、熱抵抗を低くする等の観点から、500μm以下とすることが好ましく、300μm以下とすることがより好ましい。光反射層12bが形成される部材12aは、公知の耐熱性樹脂で構成することができる。
既述のようにリフレクター12上にはレンズ18が設けられている。レンズ18は、樹脂製であり、目的、用途等により様々な構造が採用され、着色されることもある。
As shown in FIG. 2, the reflector 12 may be formed only on the light reflecting surface side as a light reflecting layer 12b made of the resin composition described above. In this case, the thickness of the light reflection layer 12b is preferably 500 μm or less, and more preferably 300 μm or less, from the viewpoint of reducing the thermal resistance. The member 12a on which the light reflecting layer 12b is formed can be made of a known heat resistant resin.
As described above, the lens 18 is provided on the reflector 12. The lens 18 is made of a resin, and various structures may be adopted and colored depending on the purpose and application.
基板14とリフレクター12とレンズ18とで形成される空間部は、透明封止部であってよいし、必要により空隙部であってもよい。この空間部は、通常、透光性及び絶縁性を与える材料等が充填された透明封止部であり、ワイヤーボンディング実装において、リード線16に直接接触することにより加わる力、及び、間接的に加わる振動、衝撃等により、光半導体素子10との接続部、及び/又は、電極との接続部からリード線16が外れたり、切断したり、短絡したりすることによって生じる電気的な不具合を防止することができる。また、同時に、湿気、塵埃等から光半導体素子10を保護し、長期間に渡って信頼性を維持することができる。 The space formed by the substrate 14, the reflector 12, and the lens 18 may be a transparent sealing portion, or may be a gap if necessary. This space portion is usually a transparent sealing portion filled with a light-transmitting and insulating material, and the force applied by directly contacting the lead wire 16 in wire bonding mounting and indirectly. Prevents electrical defects caused by the lead wire 16 being disconnected, cut, or short-circuited from the connection portion with the optical semiconductor element 10 and / or the connection portion with the electrode due to applied vibration, impact, etc. can do. At the same time, the optical semiconductor element 10 can be protected from moisture, dust, etc., and the reliability can be maintained over a long period of time.
この透光性及び絶縁性を与える材料(透明封止剤組成物)としては、通常、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。これらのうち、耐熱性、耐候性、低収縮性及び耐変色性の観点から、シリコーン樹脂が好ましい。 Examples of the material (transparent encapsulant composition) that imparts light-transmitting properties and insulating properties usually include silicone resins, epoxy silicone resins, epoxy resins, acrylic resins, polyimide resins, polycarbonate resins, and the like. Of these, silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance, weather resistance, low shrinkage, and discoloration resistance.
以下に、図1に示す半導体発光装置の製造方法の一例について説明する。
まず、後述する樹脂組成物を、所定形状のキャビティ空間を備える金型を用いたトランスファー成形、圧縮成形、射出成形等により、所定形状のリフレクター12を成形する。その後、別途準備した光半導体素子10及び電極を、接着剤又は接合部材により基板14に固定し、リード線16によりLED素子と電極を接続する。次いで、基板14及びリフレクター12により形成された凹部に、シリコーン樹脂等を含む透明封止剤組成物を注入し、加熱、乾燥等により硬化させて透明封止部とする。その後、透明封止部上にレンズ18を配設して、図1に示す半導体発光装置が得られる。
なお、透明封止剤組成物が未硬化の状態でレンズ18を載置してから、組成物を硬化させてもよい。
Below, an example of the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device shown in FIG. 1 is demonstrated.
First, the reflector 12 having a predetermined shape is molded from a resin composition described later by transfer molding, compression molding, injection molding, or the like using a mold having a cavity space having a predetermined shape. Thereafter, the separately prepared optical semiconductor element 10 and the electrode are fixed to the substrate 14 with an adhesive or a bonding member, and the LED element and the electrode are connected with the lead wire 16. Next, a transparent sealant composition containing a silicone resin or the like is poured into the recess formed by the substrate 14 and the reflector 12, and cured by heating, drying, or the like to obtain a transparent sealing portion. Thereafter, the lens 18 is disposed on the transparent sealing portion to obtain the semiconductor light emitting device shown in FIG.
In addition, after mounting the lens 18 in a state where the transparent sealant composition is uncured, the composition may be cured.
本発明を、実施例を用いて詳細に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
[架橋剤の製造例]
<製造例1>
1,3−ジアリルイソシアヌレート4.18g(20.0ミリモル)と1,4−ジクロロブタン1.27g(10.0ミリモル)とヨウ化カリウム166mg(1.0ミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド10mLと共に常温下で攪拌しながら、これに炭酸カリウム4.15g(30.0ミリモル)を加えて、110℃で6時間攪拌した。
その後、得られた反応混合物を濾過して固体を除去し、得られた濾液を減圧下で濃縮した。得られた濃縮物にトルエン30mLと水10mLを加え、常温下で1時間撹拌した後、水層を除去した。かくして得られた有機層を減圧下に濃縮した後、ヘキサン30mLを加え、析出した結晶を濾別し、乾燥して、テトラメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)4.63gを得た。収率は98%であった。
得られた反応生成物の結晶のNMRスペクトルを測定し、標本のNMRスペクトルと比較して、下記化学式で示されるテトラメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)であることを確認した。また、HPLC分析を行ったところ純度97%であることを確認した。以下、テトラメチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)を架橋剤1と記す場合がある。
The present invention will be described in detail using examples. The present invention is not limited to these examples.
[Production example of crosslinking agent]
<Production Example 1>
4.18 g (20.0 mmol) of 1,3-diallyl isocyanurate, 1.27 g (10.0 mmol) of 1,4-dichlorobutane and 166 mg (1.0 mmol) of potassium iodide were mixed with N, N-dimethylformamide. While stirring at room temperature with 10 mL, 4.15 g (30.0 mmol) of potassium carbonate was added thereto and stirred at 110 ° C. for 6 hours.
The resulting reaction mixture was then filtered to remove solids and the resulting filtrate was concentrated under reduced pressure. To the obtained concentrate, 30 mL of toluene and 10 mL of water were added and stirred at room temperature for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. After concentrating the organic layer thus obtained under reduced pressure, 30 mL of hexane was added, and the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 4.63 g of tetramethylenebis (diallyl isocyanurate). The yield was 98%.
The NMR spectrum of the crystal of the obtained reaction product was measured, and compared with the NMR spectrum of the sample, it was confirmed that it was tetramethylene bis (diallyl isocyanurate) represented by the following chemical formula. Further, HPLC analysis confirmed that the purity was 97%. Hereinafter, tetramethylene bis (diallyl isocyanurate) may be referred to as a crosslinking agent 1.
<製造例2>
1,3−ジアリルイソシアヌレート4.18g(20.0ミリモル)と1,2−ビス(2−クロロエトキシ)エタン1.87g(10.0ミリモル)とヨウ化カリウム166mg(1.0ミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド10mLと共に常温下で攪拌しながら、これに炭酸カリウム4.15g(30.0ミリモル)を加えて、110℃で6時間攪拌した。
その後、得られた反応混合物を濾過して固体を除去し、得られた濾液を減圧下で濃縮した。得られた濃縮物にトルエン30mLと水10mLを加え、常温下で1時間撹拌した後、水層を除去した。得られた有機層を減圧下に濃縮して、1,2−ビス(3,5−ジアリルイソシアヌルエトキシ)エタン4.80gを得た。収率は90%であった。
得られた反応生成物の結晶のNMRスペクトルを測定し、標本のNMRスペクトルと比較して、下記化学式で示される1,2−ビス(3,5−ジアリルイソシアヌルエトキシ)エタンであることを確認した。また、HPLC分析を行ったところ純度97%であることを確認した。以下、1,2−ビス(3,5−ジアリルイソシアヌルエトキシ)エタンを架橋剤2と記す場合がある。
<Production Example 2>
1.18 g (20.0 mmol) of 1,3-diallyl isocyanurate, 1.87 g (10.0 mmol) of 1,2-bis (2-chloroethoxy) ethane and 166 mg (1.0 mmol) of potassium iodide were added. While stirring at room temperature with 10 mL of N, N-dimethylformamide, 4.15 g (30.0 mmol) of potassium carbonate was added thereto, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 6 hours.
The resulting reaction mixture was then filtered to remove solids and the resulting filtrate was concentrated under reduced pressure. To the obtained concentrate, 30 mL of toluene and 10 mL of water were added and stirred at room temperature for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 4.80 g of 1,2-bis (3,5-diallyl isocyanurethoxy) ethane. The yield was 90%.
The NMR spectrum of the crystal of the obtained reaction product was measured, and compared with the NMR spectrum of the sample, it was confirmed that it was 1,2-bis (3,5-diallyl isocyanurethoxy) ethane represented by the following chemical formula. . Further, HPLC analysis confirmed that the purity was 97%. Hereinafter, 1,2-bis (3,5-diallyl isocyanurethoxy) ethane may be referred to as the crosslinking agent 2.
<製造例3>
1,3−ジアリルイソシアヌレート4.18g(20.0ミリモル)とビス(2−クロロエチル)エーテル1.43g(10.0ミリモル)とヨウ化カリウム166mg(1.0ミリモル)をN,N−ジメチルホルムアミド10mLと共に常温下で攪拌しながら、これに炭酸カリウム4.15g(30.0ミリモル)を加えて、110℃で6時間攪拌した。
その後、得られた反応混合物を濾過して固体を除去し、得られた濾液を減圧下で濃縮した。得られた濃縮物にトルエン30mLと水10mLを加え、常温下で1時間撹拌した後、水層を除去した。得られた有機層を減圧下に濃縮して、オキシジエチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)4.78gを得た。収率は98%であった。
得られた反応生成物の結晶のNMRスペクトルを測定し、標本のNMRスペクトルと比較して、下記化学式で示されるオキシジエチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)であることを確認した。また、HPLC分析を行ったところ純度95%であることを確認した。以下、オキシジエチレンビス(ジアリルイソシアヌレート)を架橋剤3と記す場合がある。
<Production Example 3>
4.18 g (20.0 mmol) of 1,3-diallyl isocyanurate, 1.43 g (10.0 mmol) of bis (2-chloroethyl) ether and 166 mg (1.0 mmol) of potassium iodide were mixed with N, N-dimethyl. While stirring at room temperature with 10 mL of formamide, 4.15 g (30.0 mmol) of potassium carbonate was added thereto, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 6 hours.
The resulting reaction mixture was then filtered to remove solids and the resulting filtrate was concentrated under reduced pressure. To the obtained concentrate, 30 mL of toluene and 10 mL of water were added and stirred at room temperature for 1 hour, and then the aqueous layer was removed. The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 4.78 g of oxydiethylenebis (diallyl isocyanurate). The yield was 98%.
The NMR spectrum of the crystal of the obtained reaction product was measured, and compared with the NMR spectrum of the sample, it was confirmed that it was oxydiethylenebis (diallyl isocyanurate) represented by the following chemical formula. Further, HPLC analysis confirmed that the purity was 95%. Hereinafter, oxydiethylenebis (diallyl isocyanurate) may be referred to as the crosslinking agent 3.
<製造例4>
特開平11−171887号公報に記載の方法に従って合成した。すなわち、グリコールウリル14.2g(100mmol)、水酸化ナトリウム16.0g(400mmol)及びジメチルスルホキシド140mLを混合し、40℃で1時間加熱撹拌した後、同じ温度で塩化アリル34.4g(400mmol)を20分かけて滴下した。滴下終了後、更に、40℃で2時間加熱撹拌して、反応を完結させた。
得られた反応混合物を減圧乾固した。得られた乾固物を酢酸エチル400mL及び水400mLで分液抽出した。酢酸エチル層を水100mL、次いで、飽和食塩水100mLで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に酢酸エチルを留去して、1,3,4,6−テトラアリルグリコールウリル27.4gを無色の油状物として得た。収率90%であった。
得られた反応生成物の液体のNMRスペクトルを測定し、標本のNMRスペクトルと比較して、下記化学式で示される1,3,4,6−テトラアリルグリコールウリルであることを確認した。また、HPLC分析を行ったところ純度95%であることを確認した。以下、1,2,4,6−テトラアリルグリコールウリルを架橋剤4と記す場合がある。
<Production Example 4>
The compound was synthesized according to the method described in JP-A-11-171887. That is, 14.2 g (100 mmol) of glycoluril, 16.0 g (400 mmol) of sodium hydroxide and 140 mL of dimethyl sulfoxide were mixed, heated and stirred at 40 ° C. for 1 hour, and then 34.4 g (400 mmol) of allyl chloride was added at the same temperature. It was added dropwise over 20 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was further heated and stirred at 40 ° C. for 2 hours to complete the reaction.
The resulting reaction mixture was evaporated to dryness. The obtained dried product was subjected to liquid separation extraction with 400 mL of ethyl acetate and 400 mL of water. The ethyl acetate layer was washed with 100 mL of water and then with 100 mL of saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. Ethyl acetate was distilled off under reduced pressure, and 1,3,4,6-tetraallylglycoluril 27. 4 g were obtained as a colorless oil. The yield was 90%.
The liquid NMR spectrum of the obtained reaction product was measured, and compared with the NMR spectrum of the sample, it was confirmed that it was 1,3,4,6-tetraallylglycoluril represented by the following chemical formula. Further, HPLC analysis confirmed that the purity was 95%. Hereinafter, 1,2,4,6-tetraallylglycoluril may be referred to as a crosslinking agent 4 in some cases.
<比較架橋剤1>
比較架橋剤として、下記化学式で示されるジアリルイソフタレート(ダイソー株式会社製、ダイソーダップ100モノマー)を用いた。
<Comparison cross-linking agent 1>
As a comparative crosslinking agent, diallyl isophthalate represented by the following chemical formula (Daiso Corporation, Daiso Dup 100 monomer) was used.
<比較架橋剤2>
比較架橋剤として、下記化学式で示されるトリアリルイソシアヌレート(日本化成株式会社製、TAIC)を用いた。
<Comparison crosslinking agent 2>
As a comparative crosslinking agent, triallyl isocyanurate represented by the following chemical formula (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd., TAIC) was used.
[2%重量減少温度の評価]
架橋剤1〜4及び比較架橋剤1および2の2%重量減少温度を、TG−DTA(型名:TG8120、Rigaku株式会社製)で測定した。測定は、JIS K7120に準拠し、室温〜750℃まで昇温させて、全体の重量から2%減少したときの温度とした。
[Evaluation of 2% weight loss temperature]
The 2% weight reduction temperatures of the crosslinking agents 1 to 4 and the comparative crosslinking agents 1 and 2 were measured with TG-DTA (type name: TG8120, manufactured by Rigaku Corporation). In accordance with JIS K7120, the temperature was raised from room temperature to 750 ° C., and the temperature was 2% lower than the total weight.
これらの結果から、本発明にかかる架橋材1〜4は、2%重量減少温度が212℃以上と高く、熱安定性が良好であることが確認された。 From these results, it was confirmed that the crosslinking materials 1 to 4 according to the present invention had a high 2% weight loss temperature of 212 ° C. or higher and good thermal stability.
[ポリオレフィン混合性の評価]
ポリメチルペンテン樹脂(三井化学株式会社製、TPX RT18)100質量部に対して、架橋剤1を8質量部添加して混練し樹脂組成物1を得た。同様にして、架橋剤2〜4のそれぞれを用いて、樹脂組成物2〜4を得た。また同様にして、比較架橋剤1及び2から比較樹脂組成物1及び2を得た。さらに、得られた樹脂組成物1〜4および比較樹脂組成物1及び2を、油圧プレス機を用いて、260℃、30MPaでプレスし、混合性評価用の樹脂組成物のプレス板1〜4および比較プレス板1及び2を得た。当該供試体樹脂組成物からなるプレス板の外観を、下記の指標に基づいて評価した。
透明:A
白濁(半透明):B
ブリードアウトまたは部分的に不透明部が認められた:C
透明であるものは相溶性が高く、均一に混合されていると推測される。また、白濁しているものは相溶性が低く、ブリードアウトまたは部分的に不透明部があるものは、相溶性が非常に悪いものと推測される。
[Evaluation of polyolefin mixing properties]
To 100 parts by mass of polymethylpentene resin (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX RT18), 8 parts by mass of the crosslinking agent 1 was added and kneaded to obtain a resin composition 1. Similarly, resin compositions 2 to 4 were obtained using each of the crosslinking agents 2 to 4. Similarly, comparative resin compositions 1 and 2 were obtained from comparative crosslinking agents 1 and 2. Further, the obtained resin compositions 1 to 4 and comparative resin compositions 1 and 2 were pressed at 260 ° C. and 30 MPa using a hydraulic press machine, and press plates 1 to 4 of the resin composition for mixing evaluation. And comparative press plates 1 and 2 were obtained. The appearance of the press plate made of the specimen resin composition was evaluated based on the following indices.
Transparent: A
Cloudiness (translucent): B
Bleed-out or partially opaque part was observed: C
Those that are transparent have high compatibility and are presumed to be uniformly mixed. Moreover, it is estimated that the thing which is cloudy has low compatibility, and the thing which has bleed out or a partially opaque part has very bad compatibility.
これらの結果から、本発明にかかる架橋材1〜4は、ポリメチルペンテンとの相溶性が良好であることが確認された。 From these results, it was confirmed that the crosslinking materials 1 to 4 according to the present invention have good compatibility with polymethylpentene.
[樹脂組成物の調整]
上述の製造例により得られた架橋剤1、ポリオレフィン樹脂及び各種材料を第3表に示すような配合で混練し、樹脂組成物5を得た。同様にして、架橋剤2〜4及び比較架橋剤1及び2のそれぞれを用いて、第3表に示す配合で混練し、樹脂組成物6〜8及び比較樹脂組成物3及び4を得た。
[Adjustment of resin composition]
The cross-linking agent 1, polyolefin resin and various materials obtained by the above production examples were kneaded with the formulation shown in Table 3 to obtain a resin composition 5. Similarly, using each of the crosslinking agents 2 to 4 and the comparative crosslinking agents 1 and 2, the compositions shown in Table 3 were kneaded to obtain resin compositions 6 to 8 and comparative resin compositions 3 and 4.
第3表において、
*1 ポリメチルペンテン樹脂 TPX RT18(三井化学株式会社製)
*2 酸化チタン PF−691(石原産業株式会社製 ルチル型構造 平均粒径0.21μm)
*3 無機フィラー ガラス繊維:PF70E−001(日東紡株式会社製、繊維長70μm、平均断面積95.0μm2、断面形状は丸形)
*4 分散剤 KBM−3063 (信越化学株式会社製)
*5 酸化防止剤 IRGANOX 1010 (BASFジャパン株式会社製)
*6 酸化防止剤 アデカスタブPEP36 [ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、株式会社ADEKA製]
*7 ステアリン酸亜鉛 SZ−2000(堺化学株式会社製)
In Table 3,
* 1 Polymethylpentene resin TPX RT18 (Mitsui Chemicals)
* 2 Titanium oxide PF-691 (Ishihara Sangyo Co., Ltd. Rutile structure average particle size 0.21 μm)
* 3 Inorganic filler Glass fiber: PF70E-001 (manufactured by Nittobo Co., Ltd., fiber length 70 μm, average cross-sectional area 95.0 μm 2 , cross-sectional shape is round)
* 4 Dispersant KBM-3063 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
* 5 Antioxidant IRGANOX 1010 (BASF Japan Ltd.)
* 6 Antioxidant ADK STAB PEP36 [Bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, manufactured by ADEKA Corporation]
* 7 Zinc stearate SZ-2000 (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
[光反射率の評価]
上述の樹脂組成物5を用いて、以下の方法で成形体1を得た。同様にして樹脂組成物6〜8のそれぞれを用いて成形体2〜4を得た。また、同様にして比較樹脂組成物3及び4のそれぞれを用いて比較成形体1及び2を得た。
光反射率測定用の供試体は、下記の成形条件で作製した。すなわち、250℃、30秒、20MPaの条件で、750mm×750mm×厚さ0.2mmにプレス成形した。これらの成形体に加速電圧を250kVで340kGyの吸収線量にて電子線を照射し、試験用の硬化物を得た。得られた試験用の硬化物について、分光光度計(島津製作所株式会社製、UV−2550)により、波長230〜780nmの範囲の反射率を測定した。波長450nmの光反射率(%)を評価した。結果を第4表に示す。
[Evaluation of light reflectance]
Using the resin composition 5 described above, a molded body 1 was obtained by the following method. Similarly, moldings 2 to 4 were obtained using the resin compositions 6 to 8, respectively. Similarly, comparative molded bodies 1 and 2 were obtained using the comparative resin compositions 3 and 4, respectively.
A specimen for light reflectance measurement was produced under the following molding conditions. That is, press molding was performed at 750 mm × 750 mm × thickness 0.2 mm under the conditions of 250 ° C., 30 seconds, and 20 MPa. These molded bodies were irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 250 kV and an absorbed dose of 340 kGy to obtain a cured product for testing. About the obtained hardened | cured material for a test, the reflectance of the wavelength range 230-780 nm was measured with the spectrophotometer (Shimadzu Corporation make, UV-2550). The light reflectance (%) at a wavelength of 450 nm was evaluated. The results are shown in Table 4.
[貯蔵弾性率の評価]
上述の樹脂組成物5〜8及び比較樹脂組成物3〜4のそれぞれを、射出成形機(ソディック株式会社 TR55EH、プリプラ式)を用いて、銀めっきフレーム(厚さ250μm)上に厚さ700μm、外形寸法35mm×35mm、開口部2.9mm×2.9mmとなるように成形して成形体5〜8及び比較成形体3及び4を得た。
射出成型機の条件は、シリンダー温度:260℃、金型温度:70℃、射出速度:200mm/秒、保圧力:100MPa、保圧時間:1秒、冷却時間:15秒とした。
これらの成形体に、加速電圧を800kVで340Gyの吸収線量にて電子線を照射し、硬化物を得た。得られた硬化物の貯蔵弾性率を、RSAG2(TA INSTRUMENTS製)により、測定温度25〜400℃、昇温速度5℃/min、Strain 0.1%の条件にて測定した。270℃での貯蔵弾性率を、下記第5表に示す。
[Evaluation of storage modulus]
Each of the above-mentioned resin compositions 5-8 and comparative resin compositions 3-4 is 700 μm thick on a silver plating frame (thickness 250 μm) using an injection molding machine (Sodick Corporation TR55EH, pre-plastic type), Molded to have an outer dimension of 35 mm × 35 mm and an opening of 2.9 mm × 2.9 mm, and molded bodies 5 to 8 and comparative molded bodies 3 and 4 were obtained.
The conditions of the injection molding machine were as follows: cylinder temperature: 260 ° C., mold temperature: 70 ° C., injection speed: 200 mm / second, holding pressure: 100 MPa, holding pressure time: 1 second, cooling time: 15 seconds.
These molded bodies were irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 800 kV and an absorbed dose of 340 Gy to obtain a cured product. The storage elastic modulus of the obtained cured product was measured by RSAG2 (manufactured by TA INSTRUMENTS) under the conditions of a measurement temperature of 25 to 400 ° C., a heating rate of 5 ° C./min, and a strain of 0.1%. The storage elastic modulus at 270 ° C. is shown in Table 5 below.
第1表及び第2表の結果から明らかなとおり、架橋剤1〜4は、ポリオレフィン樹脂との混合性が良好であった。これは、構造中に、アルキル鎖およびアルキルエーテル鎖を有するため、ポリオレフィン樹脂のオレフィン鎖との相溶性が高いためと考えられる。また、架橋剤1〜4は、2%重量減少温度が高いことから、耐熱性に優れる。
また、第4表及び第5表から、比較架橋剤1及び2を用いた成形体は、270℃貯蔵弾性率が要求性能を満たすものの、ポリオレフィン樹脂との混合性が悪かった。比較架橋剤1は2%重量減少温度も低いことから、比較架橋剤1及び2を用いた成形体は、耐熱性が不足することが分かった。
以上から、架橋剤1〜4を用いることで、耐熱性、成形性だけでなく、均一性を兼ね備えた樹脂組成物、並びにリフレクター、リフレクター付きリードフレーム、半導体発光装置を得ることができる。
As is clear from the results in Tables 1 and 2, the crosslinking agents 1 to 4 had good mixing properties with the polyolefin resin. This is presumably because the structure has an alkyl chain and an alkyl ether chain, so the compatibility with the olefin chain of the polyolefin resin is high. Moreover, since the crosslinking agents 1 to 4 have a high 2% weight loss temperature, they are excellent in heat resistance.
Also, from Tables 4 and 5, the molded products using the comparative crosslinking agents 1 and 2 had poor compatibility with the polyolefin resin, although the storage elastic modulus at 270 ° C. satisfied the required performance. Since the comparative crosslinking agent 1 has a low 2% weight loss temperature, it was found that the molded body using the comparative crosslinking agents 1 and 2 lacks heat resistance.
From the above, by using the crosslinking agents 1 to 4, it is possible to obtain a resin composition having not only heat resistance and moldability but also uniformity, a reflector, a lead frame with a reflector, and a semiconductor light emitting device.
10…光半導体素子、 12…リフレクター、 12a…部材、 12b…光反射層、 14…基板、 16…リード線、 18…レンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical semiconductor element, 12 ... Reflector, 12a ... Member, 12b ... Light reflection layer, 14 ... Board | substrate, 16 ... Lead wire, 18 ... Lens
Claims (12)
該架橋剤が化学式(1)で示されるイソシアヌレート化合物である樹脂組成物。
(式中、Rは、炭素数1〜16のアルキレン基、又は炭素数1〜16のアルキレン基であって、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミノ結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カルバメート結合、チオカルバメート結合及びカーボネート結合のいずれかを単独、複数又はこれらを組み合せて含むものから選ばれる。) Containing a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler,
A resin composition in which the crosslinking agent is an isocyanurate compound represented by the chemical formula (1).
(In the formula, R is an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms, and includes an ester bond, an ether bond, a thioether bond, an amino bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, It is selected from any one of carbamate bond, thiocarbamate bond, and carbonate bond, or a combination thereof.
該架橋剤が化学式(2)で示されるグリコールウリル化合物である樹脂組成物。
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又はアリル基を表す。) Containing a polyolefin resin, a crosslinking agent, and a reinforcing filler,
A resin composition in which the crosslinking agent is a glycoluril compound represented by the chemical formula (2).
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an allyl group.)
(式中、Rは、炭素数1〜16のアルキレン基、又は炭素数1〜16のアルキレン基であって、エステル結合、エーテル結合、チオエーテル結合、アミノ結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カルバメート結合、チオカルバメート結合及びカーボネート結合のいずれかを単独、複数又はこれらを組み合せて含むものから選ばれる。) An isocyanurate compound for a crosslinking agent represented by the chemical formula (1).
(In the formula, R is an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 16 carbon atoms, and includes an ester bond, an ether bond, a thioether bond, an amino bond, an amide bond, a urethane bond, a urea bond, It is selected from any one of carbamate bond, thiocarbamate bond, and carbonate bond, or a combination thereof.
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子又はアリル基を表す。) A glycoluril compound for a crosslinking agent represented by the chemical formula (2).
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group or a phenyl group, and R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or an allyl group.)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019004470A1 (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 出光興産株式会社 | Curable material and method for molding said thermally curable material |
JP2021024791A (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 四国化成工業株式会社 | Allyl isocyanurate compound and method for synthesizing the same |
US11249396B2 (en) | 2019-03-06 | 2022-02-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Resist underlayer composition, and method of forming patterns using the composition |
JPWO2023008422A1 (en) * | 2021-07-26 | 2023-02-02 | ||
US12130552B2 (en) | 2019-03-29 | 2024-10-29 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Composition for resist underlayer, and pattern forming method using same |
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019004470A1 (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 出光興産株式会社 | Curable material and method for molding said thermally curable material |
JP2019011447A (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-24 | 出光興産株式会社 | Thermosetting material and molding method of the thermosetting material |
CN110785439A (en) * | 2017-06-30 | 2020-02-11 | 出光兴产株式会社 | Curable material and method for molding the same |
KR20200024162A (en) * | 2017-06-30 | 2020-03-06 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | Thermosetting material and molding method of the thermosetting material |
KR102588770B1 (en) | 2017-06-30 | 2023-10-12 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | Thermosetting material and method of forming the thermosetting material |
US11926683B2 (en) | 2017-06-30 | 2024-03-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Curable material and method for molding said thermally curable material |
US11249396B2 (en) | 2019-03-06 | 2022-02-15 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Resist underlayer composition, and method of forming patterns using the composition |
US12130552B2 (en) | 2019-03-29 | 2024-10-29 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Composition for resist underlayer, and pattern forming method using same |
JP2021024791A (en) * | 2019-08-02 | 2021-02-22 | 四国化成工業株式会社 | Allyl isocyanurate compound and method for synthesizing the same |
JPWO2023008422A1 (en) * | 2021-07-26 | 2023-02-02 | ||
JP7305104B2 (en) | 2021-07-26 | 2023-07-10 | 太陽ホールディングス株式会社 | LED mounting board and LED mounting board |
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