JP2016215361A - Polishing device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polishing device which uniformly polishes a surface of a processed object such as a wire rope and enables easy attachment/detachment to/from the processed object.SOLUTION: A polishing device 100 includes: an annular polishing member 110 for polishing a processed object (wire rope) Rw; a housing 10 which rotatably holds the polishing member 110; and a driving part 20 which applies a rotational driving force to the polishing member 110 so that the processed object Rw inserted into the polishing member 110 is polished by rotation of the polishing member 110. The polishing member 110 and the housing 10 are formed so as to be splittable.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、磨き装置に関し、特に、ワイヤロープや架空送電線などの被処理物を磨くための内周面を有する内巻きブラシ、針布などの磨き部材を用いて磨く装置に関する。   The present invention relates to a polishing apparatus, and more particularly to an apparatus for polishing using a polishing member such as an inner winding brush or a needle cloth having an inner peripheral surface for polishing an object to be processed such as a wire rope or an overhead power transmission line.

従来から、ワイヤロープは、例えば高速道路などのガードレールやつり橋などの用途で使用されている。ガードレールやつり橋で用いられるワイヤロープは、一旦設置されると、その後は設置された状態のまま長期間にわたって雨水や大気中のごみ、塩分、化学物質などにさらされることとなる。   Conventionally, wire ropes are used in applications such as guard rails and suspension bridges on highways, for example. Once installed, the wire ropes used in guardrails and suspension bridges are exposed to rainwater, atmospheric debris, salt, chemical substances, etc. for a long time after being installed.

このため、ガードレールやつり橋などで用いられているワイヤロープの腐食は避けられず、腐食により鉄酸化物(サビ)がワイヤロープの表面に生ずると、ワイヤロープの外観が悪化し、さらに、サビのついた部分をそのままにしておくと、サビの付いた部分から腐食が進みやすく耐久性の劣化につながることがある。   For this reason, corrosion of wire ropes used in guardrails and suspension bridges is unavoidable. If iron oxide (rust) is generated on the surface of the wire rope due to corrosion, the appearance of the wire rope deteriorates, and further If the attached part is left as it is, corrosion tends to proceed from the rusted part and may lead to deterioration of durability.

また、架空送電線なども、ガードレールやつり橋などで用いられるワイヤロープと同様に、雨水や大気中のごみ、塩分、化学物質などにさらされるため、ワイヤロープと同様に腐食による外観の悪化や耐久性の劣化の問題がある。   Overhead power transmission lines are exposed to rainwater, atmospheric debris, salt, chemicals, etc., just like wire ropes used in guardrails and suspension bridges. There is a problem of deterioration of sex.

そこで、ワイヤロープや架空送電線などの被処理物のメンテナンスでは、被処理物の表面の汚れやサビを除去する装置が用いられている。   Therefore, in the maintenance of objects to be processed such as wire ropes and overhead power transmission lines, an apparatus for removing dirt and rust on the surface of the objects to be processed is used.

例えば、特許文献1や特許文献2には、電線の表面を回転ブラシで研磨することにより、電線に付着した異物を除去する装置が開示されている。   For example, Patent Literature 1 and Patent Literature 2 disclose an apparatus that removes foreign matter attached to an electric wire by polishing the surface of the electric wire with a rotating brush.

ところが、特許文献1に開示の装置では、電線の両側に配置された一対の回転ブラシにより電線が研磨されるようになっているので、回転ブラシに対向する電線の面とそれ以外の面とで磨きにむらができてしまい、電線の周囲を均一に磨くのが難しい。また、特許文献2に開示の装置では、電線の下側に配置された回転ブラシで電線が研磨されるようになっているので、基本的に電線の上側を研磨することはできない。   However, in the apparatus disclosed in Patent Document 1, since the electric wire is polished by a pair of rotating brushes arranged on both sides of the electric wire, the surface of the electric wire facing the rotating brush and the other surfaces are used. Polishing is uneven and it is difficult to polish the periphery of the wire uniformly. Moreover, in the apparatus disclosed in Patent Document 2, since the electric wire is polished with the rotating brush arranged on the lower side of the electric wire, the upper side of the electric wire cannot be basically polished.

また、特許文献3には、綱状のスチールケーブルの軸を中心として回転する円筒状の回転ブラシアセンブリを備え、円筒状の回転ブラシアセンブリ内にスチールケーブルを配置してスチールケーブルの表面を均一に研磨できるようにした保守装置が開示されている。この保守装置の回転ブラシアセンブリには、複数の円筒状ブラシが回転可能に回転ブラシアセンブリの回転軸の周りに一定の間隔で取り付けられている。   Further, Patent Document 3 includes a cylindrical rotating brush assembly that rotates about the axis of a rope-shaped steel cable, and the steel cable is arranged in the cylindrical rotating brush assembly so that the surface of the steel cable is uniform. A maintenance device that can be polished is disclosed. A plurality of cylindrical brushes are rotatably attached to the rotating brush assembly of the maintenance device around the rotation axis of the rotating brush assembly at regular intervals.

この保守装置では、スチールケーブルの側面から保守装置を取り付けることができるように、回転ブラシアセンブリおよび回転ブラシアセンブリを回転可能に保持するハウジングは2分割可能な構造となっている。従って、この保守装置では、綱状のスチールケーブルの周囲を均一に磨くことができ、しかも保守装置をスチールケーブルに取り付ける場合、スチールケーブルを回転ブラシアセンブリおよびハウジング内に配置するのにスチールケーブルをその端から回転ブラシアセンブリおよびハウジングに挿入する必要がない。   In this maintenance device, the rotary brush assembly and the housing that rotatably holds the rotary brush assembly are configured to be split into two so that the maintenance device can be attached from the side of the steel cable. Therefore, this maintenance device can evenly polish the area around the steel steel cable, and when the maintenance device is attached to the steel cable, the steel cable is placed in the rotating brush assembly and the housing to place the steel cable. There is no need to insert into the rotating brush assembly and housing from the end.

特開平6−165336号公報JP-A-6-165336 特開2003−87919号公報JP 2003-87919 A 特開2009−524519号公報JP 2009-524519 A

しかしながら、特許文献3に開示の保守装置では、回転ブラシアセンブリには複数の円筒状ブラシが回転可能に取り付けられており、回転ブラシアセンブリがスチールケーブルに対して移動したとき、円筒状ブラシが万遍なくスチールケーブルに接するように円筒状ブラシは自転しかつ公転するようになっており、回転ブラシアセンブリの構造は複雑なものとなっている。   However, in the maintenance device disclosed in Patent Document 3, a plurality of cylindrical brushes are rotatably attached to the rotating brush assembly, and when the rotating brush assembly moves relative to the steel cable, the cylindrical brush is universal. Since the cylindrical brush rotates and revolves so as to be in contact with the steel cable, the structure of the rotating brush assembly is complicated.

また、特許文献3に開示の保守装置では、保守装置をスチールケーブルに取り付ける場合、2分割された回転ブラシアセンブリの一対の分割片をスチールケーブルを囲むように配置して結合した後、2分割されたハウジングの一対の分割片を、スチールケーブルに取り付けられた回転ブラシアセンブリを囲むように配置して結合する必要がある。さらに、保守装置をスチールケーブルから取り外す場合には、保守装置のハウジングを分割してスチールケーブルから取り外した後に、2分割可能な回転ブラシアセンブリの分割位置を探し出して回転ブラシアセンブリを分割してスチールケーブルから取り外す必要がある。従って、特許文献3に開示の保守装置では、特に保守装置をスチールケーブルから取り外す作業が面倒であるという問題がある。   Further, in the maintenance device disclosed in Patent Document 3, when the maintenance device is attached to the steel cable, the pair of divided pieces of the rotary brush assembly divided into two parts are arranged so as to surround the steel cable and then divided into two parts. It is necessary to arrange and couple a pair of divided pieces of the housing so as to surround the rotating brush assembly attached to the steel cable. Further, when the maintenance device is removed from the steel cable, the housing of the maintenance device is divided and removed from the steel cable, and then the rotary brush assembly is divided to find the dividing position of the rotary brush assembly and the steel cable is divided. It is necessary to remove from. Therefore, the maintenance device disclosed in Patent Document 3 has a problem that it is particularly troublesome to remove the maintenance device from the steel cable.

また、ワイヤロープや架空送電線は、人手により作業するのに危険な場所に設置される場合もある。しかし、特許文献1に開示の研磨装置および特許文献3に開示の保守装置は手動で移動させるものであり、スチールケーブルや電線を磨く作業自体に人手が必要となり、上記のような危険な場所に設置されたワイヤロープや架空送電線を磨くのには適さない。他方、特許文献2に開示の電線を磨く装置は自走式としたものであるが、電線を磨くための電動回転ブラシの他に電動ガイドローラという自走のための駆動部を別途必要とする。   Moreover, a wire rope and an overhead power transmission line may be installed in a place where it is dangerous to work manually. However, the polishing device disclosed in Patent Literature 1 and the maintenance device disclosed in Patent Literature 3 are manually moved, and the work itself for polishing steel cables and electric wires requires manpower. Not suitable for polishing installed wire ropes and overhead power lines. On the other hand, the device for polishing an electric wire disclosed in Patent Document 2 is a self-propelled type. However, in addition to the electric rotating brush for polishing the electric wire, an electric guide roller driving unit for self-propelling is separately required. .

本発明は、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物への着脱に手間がかからず、被処理物を磨くための部材の構造も簡単である磨き装置を得ることを目的とする。   The present invention can uniformly polish the surface of an object to be processed such as a wire rope, and does not require effort to attach to and detach from the object to be processed, and the structure of a member for polishing the object to be processed is simple. The purpose is to obtain a polishing device.

本発明は、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物に対する移動に伴って被処理物の表面を磨くことができ、被処理物を磨く動作を行うための構成が不要であり、被処理物を磨くための部材の構造も簡単にできる磨き装置を得ることを目的とする。   The present invention can uniformly polish the surface of an object to be processed such as a wire rope, and can polish the surface of the object to be processed as it moves relative to the object to be processed. It is an object of the present invention to provide a polishing apparatus that does not require a structure for the polishing and that can also simplify the structure of a member for polishing a workpiece.

本発明にかかる磨き装置は、被処理物を磨く磨き装置であって、該被処理物を磨くための内周面を有する環状の磨き部材と、該磨き部材を回転可能に保持するハウジングと、該磨き部材に挿入された該被処理物が該磨き部材の回転により該磨き部材の内周面で磨かれるように該磨き部材に回転駆動力を印加する駆動部とを備え、該磨き部材および該ハウジングが開くように該磨き部材および該ハウジングがそれぞれ分割可能に構成されたものであり、そのことにより上記目的が達成される。   A polishing apparatus according to the present invention is a polishing apparatus for polishing an object to be processed, an annular polishing member having an inner peripheral surface for polishing the object to be processed, a housing for rotatably holding the polishing member, A drive unit that applies a rotational driving force to the polishing member so that the workpiece inserted into the polishing member is polished on the inner peripheral surface of the polishing member by rotation of the polishing member; The polishing member and the housing are configured to be separable so that the housing is opened, whereby the above object is achieved.

本発明の1つの実施形態では、前記駆動部が前記磨き部材への回転駆動力の印加を停止した後、前記ハウジングの分割面に対する該磨き部材の分割面の傾斜角が所定の角度範囲の角度となるように該磨き部材の回転を停止させる停止機構をさらに備えていてもよい。   In one embodiment of the present invention, after the driving unit stops applying the rotational driving force to the polishing member, the inclination angle of the dividing surface of the polishing member with respect to the dividing surface of the housing is an angle in a predetermined angle range. A stop mechanism that stops the rotation of the polishing member may be further provided.

本発明の1つの実施形態では、前記停止機構は、前記磨き部材の分割面が前記ハウジングの分割面と一致するように該磨き部材の回転を停止させるように構成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the stop mechanism may be configured to stop the rotation of the polishing member such that the dividing surface of the polishing member coincides with the dividing surface of the housing.

本発明の1つの実施形態では、前記停止機構は、前記磨き部材の複数の分割片の各々を前記ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定する固定手段を有し、該固定手段により該磨き部材の複数の分割片の各々が該ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定されることにより該磨き部材の回転が停止するよう構成されてもよい。   In one embodiment of the present invention, the stop mechanism has fixing means for fixing each of the plurality of divided pieces of the polishing member to one of the plurality of divided pieces of the housing, and the polishing means uses the fixing means. Each of the plurality of divided pieces of the member may be fixed to any one of the plurality of divided pieces of the housing so that the rotation of the polishing member is stopped.

本発明の1つの実施形態では、前記固定手段は、前記ハウジング内の前記磨き部材が配置されているスペースに出没可能に該ハウジングに取り付けられた複数の係合ピンと、該磨き部材の複数の分割片の各々に該係合ピンと係合可能となるように形成された係合孔と、該係合ピンを該スペースに出現させることにより、該磨き部材の複数の分割片の各々が該ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定されるように該係合ピンを該係合孔に係合させ、該係合ピンを該スペースから退避させることにより該係合ピンと該係合孔との係合を解除する係合および係合解除手段とを有していてもよい。   In one embodiment of the present invention, the fixing means includes a plurality of engagement pins attached to the housing so as to be able to appear and retract in a space in the housing where the polishing member is disposed, and a plurality of divisions of the polishing member. An engagement hole formed to be engageable with the engagement pin in each of the pieces, and the engagement pin appearing in the space, so that each of the plurality of divided pieces of the polishing member is provided in the housing. The engagement pin is engaged with the engagement hole so as to be fixed to any one of the plurality of divided pieces, and the engagement pin is retracted from the space, thereby engaging the engagement pin with the engagement hole. You may have the engagement which cancels | releases, and a disengagement means.

本発明の1つの実施形態では、前記係合孔は、前記磨き部材の回転軸と垂直な側面に形成されており、該側面には、前記係合ピンを該係合孔に導く傾斜溝が、該磨き部材の回転方向に沿って該係合孔に近づくにつれて深くなるように形成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the engagement hole is formed on a side surface perpendicular to the rotation axis of the polishing member, and an inclined groove that guides the engagement pin to the engagement hole is formed on the side surface. Further, the polishing member may be formed so as to become deeper as it approaches the engagement hole along the rotation direction of the polishing member.

本発明の1つの実施形態では、前記ハウジングは、該ハウジングを二分する一対の分割片により構成され、前記磨き装置は、該ハウジングの一対の分割片の一方および他方を回転可能に接続するヒンジ部材を備え、該ハウジングの一対の分割片の一方および他方の相対的な回転により、該ハウジングが開いた状態と該ハウジングが閉じた状態とが切り替えられるように構成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the housing is constituted by a pair of divided pieces that bisect the housing, and the polishing device is a hinge member that rotatably connects one and the other of the pair of divided pieces of the housing. And may be configured to be switched between a state in which the housing is opened and a state in which the housing is closed by relative rotation of one and the other of the pair of divided pieces of the housing.

本発明の1つの実施形態では、前記磨き部材は、内巻きブラシおよび針布の少なくとも一方を有し、該内巻きブラシのブラシ先端および該針布の針先の少なくとも一方が該磨き部材の前記内周面を形成していてもよい。   In one embodiment of the present invention, the polishing member has at least one of an inner winding brush and a needle cloth, and at least one of the brush tip of the inner winding brush and the needle tip of the needle cloth is the above-mentioned of the polishing member. An inner peripheral surface may be formed.

本発明にかかる磨き装置は、被処理物を磨く磨き装置であって、該被処理物に移動可能に取り付けられ、該被処理物との摩擦抵抗を調整可能な第1の部分および第2の部分と、該第1の部分と該第2の部分とを相対的に移動させる移動手段と、該第1の部分および該第2の部分での摩擦抵抗の調整および該移動手段による相対移動を制御する制御部とを備え、該第1の部分は、該被処理物との相対移動により該被処理物を磨くように構成されており、該制御部は、該第2の部分を該被処理物に対して移動させず、該第1の部分を該被処理物に対して移動させることにより、該第1の部分が該被処理物を磨く磨きモードと、該第1の部分を該被処理物に対して移動させず、該第2の部分を該被処理物に対して移動させることにより、該第2の部分が移動する移動モードとを該摩擦抵抗の調整および該移動手段の制御により切り換えるよう構成されており、そのことにより上記目的が達成される。   A polishing apparatus according to the present invention is a polishing apparatus for polishing an object to be processed, which is movably attached to the object to be processed and has a first part and a second part capable of adjusting a frictional resistance with the object to be processed. A moving means for relatively moving the part, the first part and the second part, adjustment of frictional resistance in the first part and the second part, and relative movement by the moving means A control unit for controlling, the first part is configured to polish the workpiece by relative movement with the workpiece, and the control unit is configured to polish the second part to the workpiece. A polishing mode in which the first portion polishes the workpiece, and the first portion is moved to the workpiece by moving the first portion relative to the workpiece without moving the workpiece. The second part is moved by moving the second part with respect to the object to be processed without moving the object with respect to the object to be processed. There a moving mode for moving is configured to switch the control of the adjustment and the moving means of the frictional resistance, the object is achieved.

本発明にかかる磨き装置は、被処理物を磨く磨き装置であって、該被処理物を磨くための内周面を有し、該内周面に囲まれたスペースに該被処理物が導入されるように分割可能に構成された磨き部と、該被処理物が該磨き部の内周面により磨かれるように該磨き部を該被処理物に対して移動させる移動手段とを備えたものであり、そのことにより上記目的が達成される。   The polishing apparatus according to the present invention is a polishing apparatus for polishing an object to be processed, and has an inner peripheral surface for polishing the object to be processed, and the object to be processed is introduced into a space surrounded by the inner peripheral surface. And a polishing means configured to be separable, and a moving means for moving the polishing portion relative to the object to be processed so that the object to be processed is polished by the inner peripheral surface of the polishing part. Therefore, the above object can be achieved.

本発明の1つの実施形態では、前記移動手段は、前記磨き部が前記被処理物に対して移動するように該磨き部を引っ張る引張り手段であってもよい。   In one embodiment of the present invention, the moving unit may be a pulling unit that pulls the polishing unit so that the polishing unit moves relative to the workpiece.

本発明の1つの実施形態では、前記引張り手段は、前記磨き部に接続されたワイヤと、該ワイヤを巻き取る巻取部と、該巻取部が該ワイヤを引っ張る方向を、該磨き部を移動させる方向とは異なる方向に変換する方向変換部とを備えていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the pulling means includes a wire connected to the polishing portion, a winding portion for winding the wire, and a direction in which the winding portion pulls the wire. You may provide the direction conversion part which converts into the direction different from the direction to move.

本発明の1つの実施形態では、前記磨き装置は、前記被処理物に移動可能に取り付けられ、該被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成された基部と、前記磨き部および該基部を制御する制御部とをさらに備え、該磨き部は、該被処理物に移動可能に取り付けられ、該被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成されており、前記移動手段は、該基部と該磨き部とを相対的に移動させるように構成されており、該制御部は、該基部および該磨き部での摩擦抵抗の調整および該移動手段による相対移動を制御するよう構成されており、該制御部は、該基部を該被処理物に対して移動させず、該磨き部を該被処理物に対して移動させることにより、該磨き部が該被処理物を磨く磨きモードと、該磨き部を該被処理物に対して移動させず、該基部を該被処理物に対して移動させることにより、該基部が移動する移動モードとを該摩擦抵抗の調整および該移動手段の制御により切り換えるよう構成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the polishing apparatus is movably attached to the object to be processed and is configured to adjust a frictional resistance with the object to be processed, and the polishing part and the base. A control unit for controlling, the polishing unit is movably attached to the object to be processed, and is configured to be capable of adjusting a frictional resistance with the object to be processed. The polishing section is configured to move relative to the polishing section, and the control section is configured to control adjustment of friction resistance at the base section and the polishing section and control relative movement by the moving means, The control unit does not move the base with respect to the object to be processed, and moves the polishing part with respect to the object to be processed, so that the polishing unit polishes the object to be processed, and the polishing mode. The polishing part is not moved with respect to the object to be treated, and the base part is not treated. By moving relative to the object, and a movement mode which base portion is moved may be configured to switch the control of the adjustment and the moving means of the frictional resistance.

本発明の1つの実施形態では、前記制御部は、前記磨きモードでは、該基部と該磨き部との相対移動により該被処理物に対して該磨き部が相対的に移動するよう、該基部と該被処理物との摩擦抵抗を該磨き部と該被処理物との摩擦抵抗より大きく設定し、前記移動モードでは、該基部と該磨き部との相対移動により該被処理物に対して該基部が相対的に移動するよう、該基部と該被処理物との摩擦抵抗を該磨き部と該被処理物との摩擦抵抗より小さく設定してもよい。   In one embodiment of the present invention, in the polishing mode, the control unit is configured so that the polishing unit moves relative to the workpiece by relative movement between the base and the polishing unit. And the friction resistance between the polished part and the object to be processed are set larger than the frictional resistance between the polished part and the object to be processed. The frictional resistance between the base and the object to be processed may be set smaller than the frictional resistance between the polished part and the object to be processed so that the base moves relatively.

本発明の1つの実施形態では、前記基部は、前記被処理物を挟持するための一対の基部ブロックと、該一対の基部ブロックが該被処理物を挟持することにより、該基部と前記磨き部との相対移動の際に該基部が該被処理物に対して移動しない不動状態となり、該一対の基部ブロックが該被処理物を開放することにより該基部と該磨き部との相対移動の際に該基部が該被処理物に対して移動可能な可動状態となるように該一対の基部ブロックを駆動する基部駆動部とを有し、該磨き部は、一対の磨き部ブロックと、該一対の磨き部ブロック内に収容された磨き部材と、該一対の磨き部ブロックに収容された該磨き部材が該被処理物に圧接するように該一対の磨き部ブロックを駆動する磨き部駆動部とを有し、該基部の不動状態では、該基部と該磨き部との相対移動の際に該磨き部が該被処理物に対して移動し、該基部の可動状態では、該基部と該磨き部との相対移動の際に該磨き部が該被処理物に対して移動しないように構成されていてもよい。   In one embodiment of the present invention, the base includes a pair of base blocks for sandwiching the object to be processed, and the pair of base blocks sandwiching the object to be processed so that the base and the polishing part are sandwiched. When the relative movement between the base portion and the polished portion is performed, the base portion does not move relative to the workpiece, and the pair of base blocks release the workpiece. A base drive unit that drives the pair of base blocks so that the base is movable with respect to the workpiece, and the polishing unit includes a pair of polishing unit blocks and the pair of polishing blocks. A polishing member housed in the polishing unit block, and a polishing unit driving unit that drives the pair of polishing unit blocks so that the polishing member housed in the pair of polishing unit blocks is pressed against the workpiece. And in the stationary state of the base, the base and the The polishing portion moves relative to the object to be processed in relative movement with the polishing portion, and in a movable state of the base portion, the polishing portion moves in the relative movement between the base portion and the polishing portion. You may be comprised so that it may not move with respect to a thing.

本発明の1つの実施形態では、前記磨き部は、内巻きブラシおよび針布の少なくとも一方を有し、該内巻きブラシのブラシ先端および該針布の針先の少なくとも一方が該磨き部の該内周面を形成していてもよい。   In one embodiment of the present invention, the polishing portion has at least one of an inner winding brush and a needle cloth, and at least one of the brush tip of the inner winding brush and the needle tip of the needle cloth is the one of the polishing portion. An inner peripheral surface may be formed.

本発明によれば、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物への着脱に手間がかからず、被処理物を磨くための部材の構造も簡単である磨き装置を実現することができる。   According to the present invention, the surface of an object to be processed such as a wire rope can be uniformly polished, and it does not take time to attach and detach the object to be processed, and the structure of a member for polishing the object to be processed is simple. Can be realized.

本発明によれば、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物に対する移動に伴って被処理物の表面を磨くことができ、被処理物を磨く動作を行うための構成が不要であり、被処理物を磨くための部材の構造も簡単にできる磨き装置を実現することができる。   According to the present invention, the surface of an object to be processed such as a wire rope can be uniformly polished, and the surface of the object to be processed can be polished as it moves relative to the object to be processed. Therefore, it is possible to realize a polishing apparatus that does not require a configuration for carrying out the above process and that can simplify the structure of a member for polishing a workpiece.

図1は、本発明の実施形態1による磨き装置100を説明するための斜視図であり、被処理物に装着した磨き装置の外観を示している。FIG. 1 is a perspective view for explaining a polishing apparatus 100 according to Embodiment 1 of the present invention, and shows an appearance of a polishing apparatus mounted on an object to be processed. 図2は、本発明の実施形態1による磨き装置の磨き部100aの内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の開閉する磨き部が閉じた状態を一部の部材を取り外して示している。FIG. 2 is a perspective view for explaining the internal structure of the polishing unit 100a of the polishing apparatus according to the first embodiment of the present invention, and shows a state in which the polishing unit that opens and closes the polishing apparatus is closed with some members removed. ing. 図3は、本発明の実施形態1による磨き装置の磨き部100aの内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の磨き部が開いた状態を示している。FIG. 3 is a perspective view for explaining the internal structure of the polishing unit 100a of the polishing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, and shows a state in which the polishing unit of the polishing apparatus is opened. 図4は、図3の分解斜視図であり、磨き部100aが開いた状態で磨き装置100の構成部品を分解して示している。FIG. 4 is an exploded perspective view of FIG. 3, and shows the components of the polishing apparatus 100 in an exploded state with the polishing unit 100a opened. 図5は、図1に示す磨き装置の下半ハウジング10aの構造およびその内部の主要部材の構造を拡大して示す斜視図である。FIG. 5 is an enlarged perspective view showing the structure of the lower half housing 10a of the polishing apparatus shown in FIG. 1 and the structure of main members therein. 図6は、図3に示す磨き装置の半内巻回転ブラシ110aを拡大して示す斜視図である。6 is an enlarged perspective view showing the semi-inner winding rotary brush 110a of the polishing apparatus shown in FIG. 図7は、実施形態1の磨き装置100を説明するための平面図であり、図7(a)は、図3のA3方向から磨き装置を見た構造を示し、図7(b)は、図3のB3方向から磨き装置を見た構造を示し、図7(c)は、図3のC3方向から磨き装置を見た構造を示している。FIG. 7 is a plan view for explaining the polishing apparatus 100 according to the first embodiment. FIG. 7A shows a structure when the polishing apparatus is viewed from the direction A3 in FIG. 3, and FIG. The structure which looked at the polishing apparatus from B3 direction of FIG. 3 is shown, FIG.7 (c) has shown the structure which looked at the polishing apparatus from C3 direction of FIG. 図8は、実施形態1の磨き装置100を説明するための平面図であり、図8(d)は、図3のD3方向から磨き装置を見た構造を示し、図8(e)は、図3のE3方向から磨き装置を見た構造を示し、図8(f)は、図3のF3方向から磨き装置を見た構造を示している。FIG. 8 is a plan view for explaining the polishing apparatus 100 according to the first embodiment. FIG. 8 (d) shows a structure of the polishing apparatus viewed from the direction D3 in FIG. 3, and FIG. FIG. 8F shows the structure of the polishing apparatus viewed from the direction E3 in FIG. 3, and FIG. 8F shows the structure of the polishing apparatus viewed from the direction F3 in FIG. 図9は、本発明の実施形態1による磨き装置100の使用方法を説明するための図であり、図9(a)および図9(b)はそれぞれ、図1のA1方向およびB1方向から磨き装置100を見た構造を示し、図9(c)および図9(d)はそれぞれ、図9(a)および図9(b)に示す磨き部100aを開いた状態を示している。FIG. 9 is a diagram for explaining a method of using the polishing apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention, and FIGS. 9A and 9B are polished from the A1 direction and the B1 direction of FIG. 1, respectively. 9 (c) and 9 (d) show a state in which the polishing unit 100a shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b) is opened, respectively. 図10は、本発明の実施形態1による磨き装置100の使用方法を説明するための図であり、図10(a)および図10(b)はそれぞれ、図3のA3方向およびC3方向から磨き装置100を見た構造を示し、図10(c)および図10(d)はそれぞれ、図10(a)および図10(b)に示す磨き部100aを閉じた状態を示している。FIG. 10 is a diagram for explaining a method of using the polishing apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 10 (a) and 10 (b) are polished from the A3 direction and the C3 direction of FIG. 3, respectively. FIGS. 10 (c) and 10 (d) show a state in which the polishing unit 100a shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b) is closed, respectively. 図11は、図5に示す下半ハウジング10aの下側停止機構30aの動作を説明するための図であり、図11(a)は、下側停止機構30aが内巻回転ブラシ110をハウジングに対して固定した状態を示し、図11(b)は、下側停止機構30aが内巻回転ブラシ110のハウジングに対する固定を解除した状態を示している。FIG. 11 is a view for explaining the operation of the lower stop mechanism 30a of the lower half housing 10a shown in FIG. 5, and FIG. 11 (a) shows that the lower stop mechanism 30a uses the inner winding rotary brush 110 as a housing. FIG. 11B shows a state in which the lower stop mechanism 30a has released the fixing of the inner winding rotary brush 110 to the housing. 図12は、本発明の実施形態2による磨き装置1000を説明するための斜視図であり、被処理物Rwに装着した磨き装置の外観を示している。FIG. 12 is a perspective view for explaining the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention, and shows the appearance of the polishing apparatus attached to the workpiece Rw. 図13は、図12に示す磨き装置の基部1100および磨き部1200の内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の基部および磨き部が開いた状態を示している。FIG. 13 is a perspective view for explaining the internal structure of the base 1100 and the polishing unit 1200 of the polishing apparatus shown in FIG. 12, and shows a state where the base and the polishing part of the polishing apparatus are opened. 図14は、図13の分解斜視図であり、基部1100および磨き部1200が開いた状態で磨き装置の一部の構成部品を分解して示している。FIG. 14 is an exploded perspective view of FIG. 13, in which some components of the polishing apparatus are disassembled with the base portion 1100 and the polishing portion 1200 open. 図15は、実施形態2の磨き装置1000を説明するための平面図であり、図15(a)は、図13のA13方向から磨き装置を見た構造を示し、図15(b)は、図13のB13方向から磨き装置を見た構造を示し、図15(c)は、図13のC13方向から磨き装置を見た構造を示している。FIG. 15 is a plan view for explaining the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment. FIG. 15A shows a structure of the polishing apparatus viewed from the A13 direction in FIG. 13, and FIG. The structure which looked at the polishing apparatus from the B13 direction of FIG. 13 is shown, and FIG.15 (c) has shown the structure which looked at the polishing apparatus from the C13 direction of FIG. 図16は、実施形態2の磨き装置1000を説明するための平面図であり、図16(d)は、図13のD13方向から磨き装置を見た構造を示し、図16(e)は、図13のE13方向から磨き装置を見た構造を示し、図16(f)は、図13のF13方向から磨き装置を見た構造を示している。FIG. 16 is a plan view for explaining the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment. FIG. 16 (d) shows a structure of the polishing apparatus viewed from the direction D13 in FIG. 13, and FIG. The structure which looked at the polishing apparatus from E13 direction of FIG. 13 is shown, FIG.16 (f) has shown the structure which looked at the polishing apparatus from F13 direction of FIG. 図17は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の使用方法を説明するための図であり、図17(a)は、磨き装置を被処理物Rwに装着する前の基部1100および磨き部1200を閉じた状態を示し、図17(b)は、磨き装置を被処理物に装着する前の基部および磨き部を開いた状態を示している。FIG. 17 is a view for explaining a method of using the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 17A shows the base 1100 and the polishing section before the polishing apparatus is mounted on the workpiece Rw. FIG. 17B shows a state in which the base and the polishing unit are opened before the polishing apparatus is mounted on the workpiece. 図18は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の使用方法を説明するための図であり、図18(a)は、磨き装置を被処理物Rwに装着した後の基部1100および磨き部1200を開いた状態を示し、図18(b)は、磨き装置を被処理物に装着した後の基部および磨き部を閉じた状態を示している。FIG. 18 is a view for explaining a method of using the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 18 (a) shows the base 1100 and the polishing section after the polishing apparatus is mounted on the workpiece Rw. FIG. 18B shows a state in which the base portion and the polishing portion after the polishing apparatus is mounted on the object to be processed are closed. 図19は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の動作を説明するための図であり、図19(a)から図19(d)は、磨き装置がワイヤロープRwを磨くときの基部1100および磨き部1200の動きを順に示している。FIG. 19 is a view for explaining the operation of the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention, and FIGS. 19A to 19D show the base 1100 when the polishing apparatus polishes the wire rope Rw. The movement of the polishing unit 1200 is shown in order. 図20は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の動作を説明するための図であり、図20(a)から図20(c)は、磨き装置が自走するときの基部1100および磨き部1200の動きを順に示している。FIG. 20 is a diagram for explaining the operation of the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention. FIGS. 20 (a) to 20 (c) show the base 1100 and the polishing when the polishing apparatus is self-propelled. The movement of the part 1200 is shown in order. 図21は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の使用方法の応用例を説明するための図であり、応用例で用いる磨き装置の被処理物が装着される正面側を示している。FIG. 21 is a diagram for explaining an application example of the method of using the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention, and shows a front side on which an object to be processed of the polishing apparatus used in the application example is mounted. 図22は、本発明の実施形態2による磨き装置1000の使用方法の応用例を説明するための図であり、応用例で用いる磨き装置の被処理物が装着される正面側とは反対側の背面側を示している。FIG. 22 is a diagram for explaining an application example of the method of using the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention. The polishing apparatus used in the application example is on the side opposite to the front side on which the workpiece is mounted. The back side is shown. 図23は、本発明の実施形態3による磨き装置3000を説明するための斜視図であり、この磨き装置3000を構成する磨き部3100およびウインチ車両3200の構成を模式的に示している。FIG. 23 is a perspective view for explaining a polishing apparatus 3000 according to Embodiment 3 of the present invention, and schematically shows a configuration of a polishing unit 3100 and a winch vehicle 3200 constituting the polishing apparatus 3000. 図24は、図23に示す磨き装置の磨き部3100の具体的な構造を説明するための図であり、図24(a)は開いた状態の磨き部3100を示し、図24(b)は磨き部上部3100bの内周面を示し、図24(c)は磨き部下部3100aの内周面を示し、図24(d)、図24(e)はそれぞれ、磨き部3100に用いられる針布LNc、SNcを示す。FIG. 24 is a diagram for explaining a specific structure of the polishing unit 3100 of the polishing apparatus shown in FIG. 23. FIG. 24 (a) shows the polishing unit 3100 in an open state, and FIG. FIG. 24C shows the inner peripheral surface of the polished portion upper portion 3100b, FIG. 24C shows the inner peripheral surface of the polished portion lower portion 3100a, and FIGS. 24D and 24E show the needle cloth used for the polished portion 3100, respectively. LNc and SNc are shown. 図25は、図24(a)に示す磨き部3100を説明するための平面図であり、図25(a)は、図24(a)のA33方向から磨き部3100を見た構造を示し、図25(b)は、図24(a)のB33方向から磨き部3100を見た構造を示し、図25(c)は、図24(a)のC33方向から磨き部3100を見た構造を示す。FIG. 25 is a plan view for explaining the polishing unit 3100 shown in FIG. 24 (a). FIG. 25 (a) shows the structure of the polishing unit 3100 viewed from the A33 direction of FIG. FIG. 25B shows a structure in which the polished portion 3100 is viewed from the direction B33 in FIG. 24A, and FIG. 25C shows a structure in which the polished portion 3100 is viewed from the direction C33 in FIG. Show. 図26は、図24(a)に示す磨き部3100を説明するための平面図であり、図26(d)は、図24(a)のD33方向から磨き部3100を見た構造を示し、図26(e)は、図24(a)のE33方向から磨き部3100を見た構造を示し、図26(f)は、図24(a)のF33方向から磨き部3100を見た構造を示している。FIG. 26 is a plan view for explaining the polishing unit 3100 shown in FIG. 24 (a). FIG. 26 (d) shows the structure of the polishing unit 3100 seen from the direction D33 in FIG. FIG. 26 (e) shows a structure of the polished portion 3100 viewed from the E33 direction of FIG. 24 (a), and FIG. 26 (f) shows a structure of the polished portion 3100 viewed from the F33 direction of FIG. 24 (a). Show. 図27は、図23に示すウインチ車両3200のウインチ部3200bを具体的に示す斜視図であり、図27(a)は、ウインチ部3200bを図23と実質同じ方向から見た構造を示し、図27(b)は、ウインチ部3200bを図23に示すウインチ車両の裏側から見た構造を示し、図27(c)は、ウインチ部3200bを図23に示すウインチ車両の斜め下方から見た構造を示す。FIG. 27 is a perspective view specifically showing the winch portion 3200b of the winch vehicle 3200 shown in FIG. 23, and FIG. 27 (a) shows the structure of the winch portion 3200b viewed from substantially the same direction as FIG. 27 (b) shows a structure in which the winch portion 3200b is viewed from the back side of the winch vehicle shown in FIG. 23, and FIG. 27 (c) shows a structure in which the winch portion 3200b is viewed from obliquely below the winch vehicle shown in FIG. Show. 図28は、図27(a)に示すウインチ部3200bを説明するための平面図であり、図28(a)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをA44方向から見た構造を示し、図28(b)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをB44方向から見た構造を示し、図28(c)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをC44方向から見た構造を示す。FIG. 28 is a plan view for explaining the winch portion 3200b shown in FIG. 27A. FIG. 28A shows a structure of the winch portion 3200b shown in FIG. 27A viewed from the A44 direction. 28 (b) shows the structure of the winch portion 3200b shown in FIG. 27 (a) seen from the B44 direction, and FIG. 28 (c) shows the winch portion 3200b shown in FIG. 27 (a) seen from the C44 direction. The structure is shown. 図29は、図23に示す実施形態3による磨き装置3000の使用方法を説明するための図であり、磨き部3100を被処理物(ガードレールのワイヤロープ)に装着し、ウインチ車両をガードレールのポストEGpに固定した状態を示している。FIG. 29 is a view for explaining a method of using the polishing apparatus 3000 according to the third embodiment shown in FIG. 23, in which the polishing unit 3100 is attached to an object to be processed (guardrail wire rope), and the winch vehicle is attached to the guardrail post. The state fixed to EGp is shown. 図30は、図23に示す実施形態3による磨き装置3000の使用方法を説明するための図であり、被処理物を磨く作業状態を示している。FIG. 30 is a view for explaining a method of using the polishing apparatus 3000 according to the third embodiment shown in FIG. 23, and shows a working state of polishing an object to be processed.

本願の1つの発明の磨き装置は、被処理物を環状の磨き部材の内部に挿入して環状の磨き部材の内周面により磨く磨き装置である。磨き装置は、被処理物を磨くための内周面を有する磨き部材と、磨き部材を回転可能に保持するハウジングと、磨き部材に挿入された被処理物が磨き部材の回転により磨き部材の内周面で磨かれるように磨き部材に回転駆動力を印加する駆動部とを備えている。磨き部材およびハウジングが開くように磨き部材およびハウジングがそれぞれ分割可能に構成されている。   A polishing apparatus according to one aspect of the present invention is a polishing apparatus in which an object to be processed is inserted into an annular polishing member and polished by an inner peripheral surface of the annular polishing member. The polishing apparatus includes a polishing member having an inner peripheral surface for polishing an object to be processed, a housing that rotatably holds the polishing member, and an object to be processed inserted into the polishing member by rotating the polishing member. And a driving unit that applies a rotational driving force to the polishing member so as to be polished on the peripheral surface. The polishing member and the housing are each configured to be split so that the polishing member and the housing are opened.

ここで、被処理物は、環状の磨き部材に挿入された状態で磨き部材の内周面で磨かれるものであればどのようなものでもよいが、例えば、被処理物にはワイヤロープや架空送電線などの細長い部材が挙げられる。   Here, the object to be processed may be any object as long as it is polished on the inner peripheral surface of the polishing member while being inserted into the annular polishing member. An elongate member such as a power transmission line can be mentioned.

磨き部材およびハウジングはそれぞれ開くように分割可能に構成されておればよく、分割は必ずしも2分割に限らず、3分割以上であってもよい。磨き部材およびハウジングが分割可能な構造を有することにより、被処理物である細長い部材に磨き装置を装着する際に、細長い部材をその端から環状の磨き部材に挿入する必要がなくなる。   The polishing member and the housing need only be configured to be split so as to open, and the division is not necessarily limited to two, but may be three or more. Since the polishing member and the housing have a structure that can be divided, it is not necessary to insert the elongated member from the end into the annular polishing member when the polishing device is attached to the elongated member that is the object to be processed.

例えば、高速道路などのガードレールとして用いられているワイヤロープに磨き装置を装着する場合、ワイヤロープをその端から磨き装置のハウジングおよび磨き部材に挿入することは、実際不可能である。このような場合でも、磨き装置のハウジングおよび磨き部材がそれぞれ開くように分割可能であることにより、磨き装置をワイヤロープの側面からワイヤロープに装着することができる。   For example, when a polishing device is attached to a wire rope used as a guard rail on an expressway or the like, it is practically impossible to insert the wire rope from its end into the housing and the polishing member of the polishing device. Even in such a case, since the housing and the polishing member of the polishing apparatus can be divided so as to open, the polishing apparatus can be attached to the wire rope from the side surface of the wire rope.

また、磨き部材に回転駆動力を印加する駆動部は、磨き部材に回転力を印加するものであればどのようなものでもよい。例えば、駆動部は、モータを含み、モータの回転力を磨き部材に伝達するように構成したものであり、あるいは、タービンを含み、圧縮エアーをタービンの回転力に変換して磨き部材に伝達するようにしたものである。ただし、磨き部材に回転力を印加する機構はこれらに限定されるものではない。   Further, the drive unit that applies the rotational driving force to the polishing member may be any device that applies the rotational force to the polishing member. For example, the drive unit includes a motor and is configured to transmit the rotational force of the motor to the polishing member, or includes a turbine and converts the compressed air into the rotational force of the turbine and transmits the rotational force to the polishing member. It is what I did. However, the mechanism for applying the rotational force to the polishing member is not limited to these.

また、本発明の磨き装置は、駆動部が磨き部材への回転駆動力の印加を停止した後、惰性で回転する磨き部材を停止させる停止機構を備えていることが好ましい。この停止機構は、ハウジングの分割面に対する磨き部材の分割面の傾斜角が所定の角度範囲内の角度となるように磨き部材の回転を停止させるものであればどのようなものでもよい。   Moreover, it is preferable that the polishing apparatus of this invention is provided with the stop mechanism which stops the polishing member rotated by inertia after the drive part stops the application of the rotational drive force to a polishing member. This stop mechanism may be any mechanism that stops the rotation of the polishing member so that the inclination angle of the dividing surface of the polishing member with respect to the dividing surface of the housing becomes an angle within a predetermined angle range.

本願のもう1つの発明の磨き装置は、被処理物を磨くための内周面を有し、内周面に囲まれたスペースに被処理物が導入されるように分割可能に構成された磨き部と、被処理物が磨き部の内周面により磨かれるように磨き部を被処理物に対して移動させる移動手段とを備えている。   A polishing apparatus according to another invention of the present application has an inner peripheral surface for polishing an object to be processed, and is configured to be separable so that the object to be processed is introduced into a space surrounded by the inner peripheral surface. And a moving means for moving the polishing part relative to the object to be processed so that the object to be processed is polished by the inner peripheral surface of the polishing part.

ここで、磨き装置は、被処理物に移動可能に取り付けられ、被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成された基部と、磨き部および基部を制御する制御部とを備え、さらに、磨き部は、被処理物に移動可能に取り付けられ、被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成されたものでもよい。   Here, the polishing apparatus includes a base that is movably attached to the object to be processed and is configured to be capable of adjusting a frictional resistance with the object to be processed, and a controller that controls the polishing part and the base. The part may be configured to be movably attached to the object to be processed and to be capable of adjusting the frictional resistance with the object to be processed.

この場合、移動手段は、基部と磨き部とを相対的に移動させるように構成されたものであればよく、制御部は、基部および磨き部での摩擦抵抗の調整および移動手段による相対移動を制御するよう構成されたものであって、制御部は、基部を被処理物に対して移動させず、磨き部を被処理物に対して移動させることにより、磨き部が被処理物を磨く磨きモードと、磨き部を被処理物に対して移動させず、基部を被処理物に対して移動させることにより、基部が移動する移動モードとを摩擦抵抗の調整および移動手段の制御により切り換えるよう構成されたものであればよい。   In this case, the moving means only needs to be configured to relatively move the base portion and the polishing portion, and the control portion adjusts the frictional resistance at the base portion and the polishing portion and performs relative movement by the moving means. The control unit is configured to control the polishing unit so that the polishing unit polishes the workpiece by moving the polishing unit relative to the workpiece without moving the base relative to the workpiece. The mode and the movement mode in which the base moves are switched by adjusting the frictional resistance and controlling the moving means by moving the base relative to the workpiece without moving the polishing portion relative to the workpiece. If it was done.

例えば、制御部は、磨きモードでは、基部と磨き部との相対移動により被処理物に対して磨き部が相対的に移動するよう、基部と被処理物との摩擦抵抗を磨き部と被処理物との摩擦抵抗より大きく設定し、移動モードでは、基部と磨き部との相対移動により被処理物に対して基部が相対的に移動するよう、基部と被処理物との摩擦抵抗を磨き部と被処理物との摩擦抵抗より小さく設定するものとすることができる。   For example, in the polishing mode, the control unit reduces the frictional resistance between the base and the object to be processed so that the polishing part moves relative to the object to be processed by the relative movement between the base and the polishing part. The friction resistance between the base and the workpiece is set so that the base moves relative to the workpiece by relative movement between the base and the polishing portion in the movement mode. It can be set smaller than the frictional resistance between the workpiece and the workpiece.

移動手段は、基部と磨き部とを相対的に移動させるものであればどのようなものでもよく、例えば、リニアモータ、油圧シリンダ、空気圧シリンダなどの種々のアクチュエータを用いることができる。   Any moving means may be used as long as it moves the base and the polishing part relatively. For example, various actuators such as a linear motor, a hydraulic cylinder, and a pneumatic cylinder can be used.

また、本願のもう1つの発明の磨き装置において、移動手段は、磨き部が被処理物に対して移動するように磨き部を引っ張る引張り手段であってもよい。ここで、引張り手段は、磨き部に接続されたワイヤと、ワイヤを巻き取る巻取部と、巻取部がワイヤを引っ張る方向を、磨き部を移動させる方向とは異なる方向に変換する方向変換部とを備えていてもよい。   In the polishing apparatus according to another invention of the present application, the moving unit may be a pulling unit that pulls the polishing unit so that the polishing unit moves relative to the workpiece. Here, the pulling means includes a wire connected to the polishing unit, a winding unit that winds the wire, and a direction conversion that converts the direction in which the winding unit pulls the wire into a direction different from the direction in which the polishing unit is moved. May be provided.

さらに、磨き部は、内巻ブラシおよび針布の少なくとも一方を有し、内巻ブラシのブラシ先端および針布の針先の少なくとも一方が磨き部の内周面を形成するように構成してもよい。   Further, the polishing portion may include at least one of an inner winding brush and a needle cloth, and at least one of the brush tip of the inner winding brush and the needle tip of the needle cloth may form an inner peripheral surface of the polishing portion. Good.

上述したように本願の1つの発明にかかる磨き装置の磨き部材、ハウジング、駆動部、および停止機構の具体的な構成は特定のものに限定されないが、以下では、この発明の磨き装置が、磨き部材およびハウジングが2分割可能であり、駆動部にモータが用いられ、停止機構が係合ピンを用いて磨き部材の回転を停止させるものである場合を例に挙げて実施形態1を説明する。   As described above, the specific configuration of the polishing member, the housing, the drive unit, and the stop mechanism of the polishing device according to one invention of the present application is not limited to a specific one. The first embodiment will be described by taking as an example a case where the member and the housing can be divided into two, a motor is used for the drive unit, and the stop mechanism uses the engagement pin to stop the rotation of the polishing member.

また、上述したように本願のもう1つの発明にかかる磨き装置の分割可能な構成の磨き部および磨き部を被処理物に対して移動させる移動手段の具体的な構成は特定のものに限定されないが、以下では、この発明の磨き装置が磨き部に加えて分割可能な基部を備え、移動手段が磨き部と基部とを相対に移動させるように構成されたものである場合を例に挙げて実施形態2を説明する。なお、実施形態2では、さらに、基部および磨き部がそれぞれ被処理物を挟持可能な上下一対のブロックを有し、磨き部の一対のブロック内に磨き部材が収容され、移動手段に空気圧シリンダが用いられた場合を例に挙げる。   In addition, as described above, the specific configuration of the polishing unit and the moving means for moving the polishing unit with respect to the object to be processed of the polishing apparatus according to another invention of the present application is not limited to a specific one. However, in the following, the case where the polishing apparatus of the present invention includes a base portion that can be divided in addition to the polishing portion, and the moving means is configured to move the polishing portion and the base portion relative to each other as an example. A second embodiment will be described. In the second embodiment, the base portion and the polishing portion each have a pair of upper and lower blocks capable of sandwiching the workpiece, a polishing member is accommodated in the pair of blocks of the polishing portion, and a pneumatic cylinder is provided as the moving means. Take the case of being used as an example.

さらに、本願のもう1つの発明に係る磨き装置が、引張り手段として、磨き部に固定されたワイヤを引っ張ることにより磨き部を移動させるウインチ車両を有する場合を例に挙げて実施形態3を説明する。   Furthermore, Embodiment 3 will be described by taking as an example a case where a polishing apparatus according to another invention of the present application has a winch vehicle that moves a polishing portion by pulling a wire fixed to the polishing portion as a pulling means. .

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1による磨き装置100を説明するための斜視図であり、被処理物に装着した磨き装置の外観を示している。図2は、図1に示す磨き装置の磨き部100aの内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の開閉する磨き部が閉じた状態を示している。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a perspective view for explaining a polishing apparatus 100 according to Embodiment 1 of the present invention, and shows an appearance of a polishing apparatus mounted on an object to be processed. FIG. 2 is a perspective view for explaining the internal structure of the polishing unit 100a of the polishing apparatus shown in FIG. 1, and shows a state where the polishing unit opened and closed by the polishing apparatus is closed.

実施形態1の磨き装置100は、被処理物Rwを磨く装置である。ここで、被処理物Rwは、例えば、高速道路などでガードレールとして用いられるワイヤロープあるいは架空送電線である。なお、被処理物Rwはワイヤロープや架空送電線に限定されるものではないが、以下説明の都合上、被処理物はワイヤロープRwとする。磨き装置100は、ワイヤロープRwが貫通する磨き部100aと、磨き部100aに含まれる回転可能な磨き部材110に回転駆動力を印加する駆動部20と、磨き部材110の回転を停止させる停止機構30とを有する。駆動部20には電源コードCpが接続されている。なお、磨き部材の回転を停止させる停止機構30は必ずしも必要ではなく、磨き装置は停止機構を備えていないものでもよい。   The polishing apparatus 100 according to the first embodiment is an apparatus that polishes the workpiece Rw. Here, the workpiece Rw is, for example, a wire rope or an overhead power transmission line used as a guard rail on an expressway or the like. In addition, although the to-be-processed object Rw is not limited to a wire rope or an overhead power transmission line, the to-be-processed object is set to the wire rope Rw for convenience of explanation below. The polishing apparatus 100 includes a polishing unit 100a through which the wire rope Rw passes, a driving unit 20 that applies a rotational driving force to the rotatable polishing member 110 included in the polishing unit 100a, and a stop mechanism that stops the rotation of the polishing member 110. 30. A power cord Cp is connected to the drive unit 20. Note that the stop mechanism 30 for stopping the rotation of the polishing member is not necessarily required, and the polishing apparatus may not include the stop mechanism.

〔磨き部100a〕
磨き部100aは、下半ハウジング10aと上半ハウジング10bとを含む2分割可能なハウジング10を有している。ハウジング10内にはワイヤロープRwを磨くための2分割可能な環状の磨き部材110が回転可能に収容されている。
[Polishing part 100a]
The polishing portion 100a has a housing 10 that can be divided into two parts, including a lower half housing 10a and an upper half housing 10b. An annular polishing member 110 that can be divided into two parts for polishing the wire rope Rw is rotatably accommodated in the housing 10.

ここで、下半ハウジング10aは下半ハウジング本体11aと下半ハウジング側板12aとを有し、下半ハウジング側板12aはネジなど(図示せず)により下半ハウジング本体11aに固定されている。上半ハウジング10bは上半ハウジング本体11bと上半ハウジング側板12bとを有し、上半ハウジング側板12bは上半ハウジング本体11bにネジなど(図示せず)により固定されている。   Here, the lower half housing 10a has a lower half housing main body 11a and a lower half housing side plate 12a, and the lower half housing side plate 12a is fixed to the lower half housing main body 11a by screws or the like (not shown). The upper half housing 10b has an upper half housing main body 11b and an upper half housing side plate 12b, and the upper half housing side plate 12b is fixed to the upper half housing main body 11b by screws or the like (not shown).

ここで、環状の磨き部材110はワイヤロープRwを磨くための内周面を有するものであり、磨き部材110には2分割可能な内巻回転ブラシが用いられている。内巻回転ブラシ110は、複数のブラシの毛(例えば細い鋼鉄鉄線)が外周側から中心に向かうように配置されており、複数のブラシの毛の先端がワイヤロープRwを磨くための内周面を形成している。内巻回転ブラシ110は、ブラシ下側保持カバー15aを介して下半ハウジング本体11aに回転可能に保持され、ブラシ上側保持カバー15bを介して上半ハウジング本体11bに回転可能に保持されている。2分割可能な内巻回転ブラシ110は分割片として一対の半内巻回転ブラシ110aおよび110bを有する。半内巻回転ブラシ110a、110bはそれぞれ、半円状ギヤ付ケース111と、半円状ギヤ付ケース111にセットビスなどにより固定された半円状内巻ブラシ112とを含む。なお、下半ハウジング本体11aには、駆動部20の駆動軸20aに取り付けられた駆動ギヤ21を配置するためのギヤ配置スペース11a1が設けられている。このため、下半ハウジング本体11aに装着されるブラシ下側保持カバー15aは、このギヤ配置スペース11a1の両側に分割して一対のカバー分割片15a1、15a2として配置されている。   Here, the annular polishing member 110 has an inner peripheral surface for polishing the wire rope Rw, and the polishing member 110 is an internally wound rotary brush that can be divided into two. The inner rotary brush 110 is arranged such that a plurality of brush bristles (for example, thin steel iron wires) are directed from the outer peripheral side toward the center, and an inner peripheral surface for the tips of the plurality of brush bristles to polish the wire rope Rw. Is forming. The inner rotary brush 110 is rotatably held by the lower half housing body 11a via the brush lower holding cover 15a, and is rotatably held by the upper half housing body 11b via the brush upper holding cover 15b. The inner winding rotary brush 110 that can be divided into two has a pair of semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b as divided pieces. Each of the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b includes a case 111 with a semicircular gear and a semicircular inner brush 112 fixed to the case 111 with a semicircular gear by a set screw or the like. The lower half housing main body 11a is provided with a gear arrangement space 11a1 for arranging the drive gear 21 attached to the drive shaft 20a of the drive unit 20. For this reason, the brush lower holding cover 15a attached to the lower half housing body 11a is divided into both sides of the gear arrangement space 11a1 and arranged as a pair of cover divided pieces 15a1 and 15a2.

下半ハウジング本体11aおよび上半ハウジング本体11bにはそれぞれ、ワイヤロープRwに対する本体側下ガイド片13aおよび本体側上ガイド片13bが取り付けられており、これらのガイド片13aおよび13bによりワイヤロープRwをガイドする本体側ガイド13がハウジングの本体側に形成されている。下半ハウジング側板12aおよび上半ハウジング側板12bはそれぞれ、ワイヤロープRwに対する側板側下ガイド片14aおよび側板側上ガイド片14bが取り付けられており、これらのガイド片14aおよび14bによりワイヤロープRwをガイドする側板側ガイド14がハウジングの側板側に形成されている。   A main body side lower guide piece 13a and a main body side upper guide piece 13b for the wire rope Rw are attached to the lower half housing main body 11a and the upper half housing main body 11b, respectively, and the wire rope Rw is connected by these guide pieces 13a and 13b. A main body side guide 13 for guiding is formed on the main body side of the housing. Each of the lower half housing side plate 12a and the upper half housing side plate 12b has a side plate side lower guide piece 14a and a side plate side upper guide piece 14b attached to the wire rope Rw, and the guide pieces 14a and 14b guide the wire rope Rw. A side plate side guide 14 is formed on the side plate side of the housing.

下半ハウジング本体11aと上半ハウジング本体11bとはヒンジ機構61により開閉可能に接続されている。ヒンジ機構61は、下半ハウジング本体11aの一端に形成されたヒンジ下フランジ61aと、上半ハウジング本体11bの一端に形成されたヒンジ上フランジ61bと、ヒンジ下フランジ61aとヒンジ上フランジ61bとを回転可能に軸支するヒンジピン61cとを有する。ヒンジピン61cはヒンジ下フランジ61aに形成されたピン挿入孔61a1に挿入されて固定されている。   The lower half housing body 11a and the upper half housing body 11b are connected to each other by a hinge mechanism 61 so as to be opened and closed. The hinge mechanism 61 includes a hinge lower flange 61a formed at one end of the lower half housing body 11a, a hinge upper flange 61b formed at one end of the upper half housing body 11b, a hinge lower flange 61a, and a hinge upper flange 61b. And a hinge pin 61c rotatably supported. The hinge pin 61c is inserted and fixed in a pin insertion hole 61a1 formed in the hinge lower flange 61a.

磨き部100aは、下半ハウジング10aと上半ハウジング10bとを重ね合わせた磨き部100aの閉じた状態で磨き部100aをロックするロック機構50を有する。ロック機構50は、下半ハウジング本体11aの他端に形成されたロック下フランジ51aと、上半ハウジング本体11bの他端に形成されたロック上フランジ51bとを有する。ロック下フランジ51aにはピン挿入孔52a1が形成されており、ロックロッド55の一端がピン挿入孔52a1に挿入されたロッド支持ピン52aにより回動可能に取り付けられている。ロックロッド55の他端にはレバー連結ピン52bによりロックレバー54が取り付けられている。ロックレバー54の根本部には、ロックレバー54の操作により押え板53を介してロック上フランジ51bをロック下フランジ51aに押さえつける押え板押圧部54aが形成されている。   The polishing portion 100a has a lock mechanism 50 that locks the polishing portion 100a in a closed state of the polishing portion 100a in which the lower half housing 10a and the upper half housing 10b are overlapped. The lock mechanism 50 includes a lock lower flange 51a formed at the other end of the lower half housing body 11a and a lock upper flange 51b formed at the other end of the upper half housing body 11b. A pin insertion hole 52a1 is formed in the lock lower flange 51a, and one end of the lock rod 55 is rotatably attached by a rod support pin 52a inserted in the pin insertion hole 52a1. A lock lever 54 is attached to the other end of the lock rod 55 by a lever connecting pin 52b. At the base portion of the lock lever 54, a presser plate pressing portion 54a that presses the lock upper flange 51b against the lock lower flange 51a through the presser plate 53 by operating the lock lever 54 is formed.

〔停止機構30〕
以下、図1に示す磨き装置100の停止機構30および内巻回転ブラシ110の構造をより具体的に説明する。
[Stop mechanism 30]
Hereinafter, the structure of the stopping mechanism 30 and the inner winding rotary brush 110 of the polishing apparatus 100 shown in FIG. 1 will be described more specifically.

図3は、図1に示す磨き装置の磨き部100aの内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の磨き部が開いた状態を示している。図4は、図3の分解斜視図であり、磨き部100aが開いた状態で磨き装置の構成部品を分解して示している。図5は、図1に示す磨き装置の下半ハウジング10aおよびその内部の構造を具体的に示す斜視図である。図6は、図3に示す磨き装置の半内巻回転ブラシ110aを拡大して示す斜視図である。   FIG. 3 is a perspective view for explaining the internal structure of the polishing section 100a of the polishing apparatus shown in FIG. 1, and shows a state in which the polishing section of the polishing apparatus is opened. FIG. 4 is an exploded perspective view of FIG. 3, in which the components of the polishing apparatus are disassembled with the polishing portion 100a open. FIG. 5 is a perspective view specifically showing the lower half housing 10a of the polishing apparatus shown in FIG. 1 and the internal structure thereof. 6 is an enlarged perspective view showing the semi-inner winding rotary brush 110a of the polishing apparatus shown in FIG.

停止機構30は、図1に示すように、下半ハウジング側板12aに取り付けられた下側停止機構30aと、上半ハウジング側板12bに取り付けられた上側停止機構30bとを含む。   As shown in FIG. 1, the stop mechanism 30 includes a lower stop mechanism 30a attached to the lower half housing side plate 12a and an upper stop mechanism 30b attached to the upper half housing side plate 12b.

例えば、下側停止機構30aは、半内巻回転ブラシ110aおよび110bを下半ハウジング10aに固定するための固定手段を有する。上側停止機構30bは、半内巻回転ブラシ110aおよび110bを上半ハウジング10bに固定するための固定手段を有する。   For example, the lower stop mechanism 30a has fixing means for fixing the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b to the lower half housing 10a. The upper stop mechanism 30b has a fixing means for fixing the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b to the upper half housing 10b.

ここで、上側停止機構30bの固定手段は、図4に示すように、ハウジング内の内巻回転ブラシ110が配置されているスペース(ブラシ配置スペース)11a2に出没可能に上半ハウジング側板12bに取り付けられた係合ピン31と、半内巻回転ブラシ110a、110bの側面に係合ピン31と係合可能となるように形成された係合孔Hと、係合ピン31をスペース11a2に出現させることにより、半内巻回転ブラシ110aあるいは110bが上半ハウジング10bに固定されるように係合ピン31を係合孔Hに係合させ、係合ピン31をスペース11a2から退避させることにより係合ピン31と係合孔Hとの係合を解除する係合および係合解除手段を有する。ここで、係合および係合解除手段は、係合ピン31をスペース11a2に出現させる電磁石33と、係合ピン31をスペース11a2から退避させるバネ部材32とを有する。上半ハウジング側板12bには係合ピン31を挿通させるためのピン挿通孔12b1が形成されている。なお係合ピン31、バネ部材32、電磁石33はカバー部材34により被覆されている。   Here, as shown in FIG. 4, the fixing means of the upper stop mechanism 30b is attached to the upper half housing side plate 12b so as to be able to appear and retract in a space (brush arrangement space) 11a2 in which the inner winding brush 110 is arranged in the housing. The engagement pin 31 formed, the engagement hole H formed so as to be engageable with the engagement pin 31 on the side surface of the semi-inner winding rotary brush 110a, 110b, and the engagement pin 31 appear in the space 11a2. Thus, the engagement pin 31 is engaged with the engagement hole H so that the semi-inner winding rotary brush 110a or 110b is fixed to the upper half housing 10b, and the engagement pin 31 is retreated from the space 11a2. It has an engagement / disengagement means for releasing the engagement between the pin 31 and the engagement hole H. Here, the engagement and disengagement means includes an electromagnet 33 that causes the engagement pin 31 to appear in the space 11a2, and a spring member 32 that retracts the engagement pin 31 from the space 11a2. A pin insertion hole 12b1 through which the engagement pin 31 is inserted is formed in the upper half housing side plate 12b. The engaging pin 31, the spring member 32, and the electromagnet 33 are covered with a cover member 34.

また、下側停止機構30aの固定手段も図5に示すように上側停止機構30bの固定手段と同様の構成を有する。なお、下側停止機構30aの係合ピン31が半円状ギヤ付ケース111に向けて進む際に、ブラシ下側保持カバー15aのカバー分割片15a2と干渉しないようにカバー分割片15a2には円弧状切欠きCtaが形成されている。同様に上側停止機構30bの係合ピン31が半円状ギヤ付ケース111に向けて進む際にブラシ上側保持カバー15bと干渉しないようにブラシ上側保持カバー15bには円弧状切欠きCtbが形成されている。   Also, the fixing means for the lower stop mechanism 30a has the same configuration as the fixing means for the upper stop mechanism 30b as shown in FIG. In addition, when the engaging pin 31 of the lower stop mechanism 30a advances toward the semicircular geared case 111, the cover split piece 15a2 has a circular shape so as not to interfere with the cover split piece 15a2 of the brush lower holding cover 15a. An arc-shaped notch Cta is formed. Similarly, an arc-shaped notch Ctb is formed in the brush upper holding cover 15b so that the engagement pin 31 of the upper stop mechanism 30b does not interfere with the brush upper holding cover 15b when the engagement pin 31 advances toward the semicircular geared case 111. ing.

〔内巻回転ブラシ110〕
さらに、内巻回転ブラシ110を構成する一対の分割片の一方である半内巻回転ブラシ110aは、図6に示すように、半円状ギヤ付ケース111と、2つの半円状内巻ブラシ112と、1つのブラシ間スペーサ113とを有する。ここで、半円状ギヤ付ケース111の回転中心に垂直な側面には、下側停止機構30aあるいは上側停止機構30bの係合ピン31と係合する係合穴Hが形成されている。また、半円状ギヤ付ケース111の側面には、係合ピン31を係合孔Hに導く傾斜溝Gが、半内巻回転ブラシ110aの回転方向に沿って係合孔Hに近づくにつれて深くなるように形成されている。
[Inner volume rotating brush 110]
Furthermore, as shown in FIG. 6, a semi-inner winding brush 110a, which is one of a pair of divided pieces constituting the inner winding rotary brush 110, includes a semi-circular geared case 111 and two semi-circular inner winding brushes. 112 and one inter-brush spacer 113. Here, an engagement hole H that engages with the engagement pin 31 of the lower stop mechanism 30a or the upper stop mechanism 30b is formed on the side surface perpendicular to the rotation center of the semicircular geared case 111. In addition, an inclined groove G that guides the engagement pin 31 to the engagement hole H is formed deeper in the side surface of the semicircular geared case 111 as the engagement hole H approaches the rotation direction of the semi-inner winding rotary brush 110a. It is formed to become.

半円状ギヤ付ケース111の内側にはブラシ収容スペース111aが形成されており、ブラシ収容スペース111a内には2つの半円状内巻ブラシ112および1つのブラシ間スペーサ113が、2つの半円状内巻ブラシ112が1つのブラシ間スペーサ113により一定間隔隔てられて組み込まれている。半円状内巻ブラシ112はセットビスにより半円状ギヤ付ケース111に固定されている。   A brush accommodating space 111a is formed inside the semicircular geared case 111, and two semicircular inner winding brushes 112 and one inter-brush spacer 113 are arranged in the brush accommodating space 111a. The inner wound brush 112 is incorporated at a predetermined interval by one inter-brush spacer 113. The semicircular inner winding brush 112 is fixed to the semicircular geared case 111 with a set screw.

また半円状内巻ブラシ112は、半円状ブラシホルダ112aにワイヤ(ブラシの毛を形成する複数の線状鋼材)Wbの一端が半円状ブラシホルダ112aの中心を向くようにワイヤWbの他端を固着してなる構造を有している。   Further, the semicircular inner brush 112 is formed on the semicircular brush holder 112a so that one end of the wire (a plurality of linear steel materials forming brush hairs) Wb faces the center of the semicircular brush holder 112a. The other end is fixed.

なお、図7(a)、図7(b)、図7(c)は、図3のA3方向、B3方向、C3方向から磨き装置を見た構造を示す平面図、図8(d)、図8(e)、図8(f)は、図3のD3方向、E3方向、F3方向から磨き装置を見た構造を示す平面図である。   7 (a), 7 (b), and 7 (c) are plan views showing the structure when the polishing apparatus is viewed from the A3 direction, the B3 direction, and the C3 direction of FIG. 3, FIG. 8 (d), FIGS. 8E and 8F are plan views showing the structure of the polishing apparatus viewed from the D3 direction, the E3 direction, and the F3 direction in FIG.

〔磨き装置100の使用方法およびその動作〕
次に、実施形態1の磨き装置100の使用方法およびその動作を説明する。
[Usage method and operation of polishing apparatus 100]
Next, the usage method and operation | movement of the polishing apparatus 100 of Embodiment 1 are demonstrated.

図9および図10は、本発明の実施形態1による磨き装置の使用方法を説明するための図であり、図9(a)および図9(b)はそれぞれ、図1のA1方向およびB1方向から磨き装置100を見た構造を示し、図9(c)および図9(d)はそれぞれ、図9(a)および図9(b)に示す磨き部100aを開いた状態を示している。図10(a)および図10(b)はそれぞれ、図3のA3方向およびC3方向から磨き装置100を見た構造を示し、図10(c)および図10(d)はそれぞれ、図10(a)および図10(b)に示す磨き部100aを閉じた状態を示している。   FIGS. 9 and 10 are diagrams for explaining a method of using the polishing apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 9A and 9B are directions A1 and B1 in FIG. 1, respectively. FIG. 9 (c) and FIG. 9 (d) show a state where the polishing unit 100a shown in FIG. 9 (a) and FIG. 9 (b) is opened, respectively. FIGS. 10 (a) and 10 (b) show structures when the polishing apparatus 100 is viewed from the A3 direction and the C3 direction of FIG. 3, respectively. FIGS. 10 (c) and 10 (d) The state which closed the polishing part 100a shown to a) and FIG.10 (b) is shown.

まず、実施形態1の磨き装置100を準備し(図9(a)、図9(b))、ロックレバー54の操作により、磨き部100aの上半ハウジング10bとその下半ハウジング10aとのロック状態を解除し、上半ハウジング10bを下半ハウジング10aに対して矢印X1に示す向きに回動させることにより磨き部100aを開ける(図9(c)、図9(d))。   First, the polishing apparatus 100 of the first embodiment is prepared (FIGS. 9A and 9B), and the lock lever 54 is operated to lock the upper half housing 10b of the polishing portion 100a and the lower half housing 10a. The state is released, and the polished portion 100a is opened by rotating the upper half housing 10b with respect to the lower half housing 10a in the direction indicated by the arrow X1 (FIGS. 9C and 9D).

磨き装置100の駆動部20が停止している状態では、半内巻回転ブラシ110a、110bは下半ハウジング10aおよび上半ハウジング10bのいずれかに収容されて固定されているので、上半ハウジング10bを回動させたとき、上半ハウジング10bに収容されている半内巻回転ブラシと下半ハウジング10aに収容されている半内巻回転ブラシとが分離される。   In a state where the driving unit 20 of the polishing apparatus 100 is stopped, the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b are housed and fixed in either the lower half housing 10a or the upper half housing 10b, and thus the upper half housing 10b. Is rotated, the semi-inner winding rotary brush accommodated in the upper half housing 10b and the semi-inner winding rotary brush accommodated in the lower half housing 10a are separated.

次に、磨き部100aを開いた状態で、被処理物であるワイヤロープRwを、矢印Zで示すように、下半ハウジング10aの本体側下ガイド片13aおよび側板側下ガイド片14a上に載置し、磨き部100aの上半ハウジング10bをその下半ハウジング10aに対して矢印X2で示す方向に回動させることにより磨き部100aを閉じる(図10(a)、図10(b))。   Next, with the polished portion 100a opened, the wire rope Rw as the object to be processed is placed on the main body side lower guide piece 13a and the side plate side lower guide piece 14a of the lower half housing 10a as indicated by an arrow Z. The polishing portion 100a is closed by rotating the upper half housing 10b of the polishing portion 100a in the direction indicated by the arrow X2 with respect to the lower half housing 10a (FIGS. 10A and 10B).

その後、ロックレバー54の操作により、磨き部100aの上半ハウジング10bのロック上フランジ51bを磨き部100aの下半ハウジング10aのロック下フランジ51aに対して押さえ付けて上半ハウジング10bを下半ハウジング10aに対して固定する(図10(c)、図10(d))。   Thereafter, by operating the lock lever 54, the upper locking housing 51b of the upper half housing 10b of the polishing portion 100a is pressed against the lower locking flange 51a of the lower half housing 10a of the polishing portion 100a, and the upper half housing 10b is pressed to the lower half housing. It fixes with respect to 10a (FIG.10 (c), FIG.10 (d)).

このように磨き部100aを閉じた状態で、駆動部20の電源スイッチ(図示せず)を入れると、下側停止機構30aおよび上側停止機構30bの電磁石33が作動する。これにより係合ピン31がバネ部材32の付勢力に対抗してブラシ配置スペース11a2から退避し、係合ピン31が半内巻回転ブラシ110a、110bの半円状ギヤ付ケース111のピン係合穴Hから抜け出る。これにより内巻回転ブラシ110はハウジング10に対して回転可能な状態となる。また、駆動部20の電源スイッチが入ったことにより、駆動部20のモータが回転し、その回転により駆動ギヤ21が回転し、駆動ギヤ21にかみ合う一対の半円状ギヤ付ケース111が一対の半円状内巻ブラシ112とともに回転する。つまり、内巻回転ブラシ110が回転する。   When the power switch (not shown) of the drive unit 20 is turned on with the polishing unit 100a closed as described above, the electromagnets 33 of the lower stop mechanism 30a and the upper stop mechanism 30b are operated. As a result, the engagement pin 31 is retracted from the brush arrangement space 11a2 against the urging force of the spring member 32, and the engagement pin 31 is pin-engaged with the semi-circular geared case 111 of the semi-inner winding rotary brushes 110a, 110b. Get out of hole H. As a result, the inner winding rotary brush 110 becomes rotatable with respect to the housing 10. Further, when the power switch of the drive unit 20 is turned on, the motor of the drive unit 20 rotates, and the rotation causes the drive gear 21 to rotate, and the pair of semicircular geared cases 111 meshing with the drive gear 21 form a pair. It rotates with the semicircular inner brush 112. That is, the inner winding brush 110 rotates.

このように内巻回転ブラシ110が回転している状態で、磨き装置100をワイヤロープRwに沿って移動させることにより、ワイヤロープRwの表面の磨き装置100が通過した箇所が順次磨かれることとなる。   By moving the polishing device 100 along the wire rope Rw in a state where the inner winding rotary brush 110 is rotating in this manner, the portions of the surface of the wire rope Rw that the polishing device 100 has passed are polished sequentially. Become.

例えば、ガードレールとして用いられているワイヤロープRwを磨く場合は、ワイヤロープRwの所定の2つの支柱間の部分を磨き終わると、一旦磨き装置100を停止させてワイヤロープRwから外し、磨き装置100をワイヤロープRwの隣の支柱間部分に装着して再度ワイヤロープRwを磨く作業を行う。   For example, when polishing a wire rope Rw used as a guardrail, after polishing a portion between two predetermined struts of the wire rope Rw, the polishing apparatus 100 is once stopped and removed from the wire rope Rw. Is attached to the portion between the struts adjacent to the wire rope Rw, and the wire rope Rw is polished again.

図11は、図5に示す下半ハウジング10aの下側停止機構30aの動作を説明するための図であり、図11(a)は、下側停止機構30aが内巻回転ブラシ110をハウジングに対して固定した状態を示し、図11(b)は、下側停止機構30aが内巻回転ブラシ110のハウジングに対する固定を解除した状態を示している。   FIG. 11 is a view for explaining the operation of the lower stop mechanism 30a of the lower half housing 10a shown in FIG. 5, and FIG. 11 (a) shows that the lower stop mechanism 30a uses the inner winding rotary brush 110 as a housing. FIG. 11B shows a state in which the lower stop mechanism 30a has released the fixing of the inner winding rotary brush 110 to the housing.

この磨き装置100では、駆動部20の電源をオフすると、上側停止機構30bおよび下側停止機構30aでは電磁石33がオフするので、係合ピン31がバネ部材32の付勢力により半円状ギヤ付ケース111の側面に当接した状態となり、半円状ギヤ付ケース111の回転に伴って係合ピン31が傾斜溝Gにガイドされて係合孔Hに係合する。係合ピン31が係合孔Hに係合すると、半内巻回転ブラシ110a、110bがそれぞれ上半ハウジング10bおよび下半ハウジング10aのいずれかに固定されることとなる。   In the polishing apparatus 100, when the power source of the drive unit 20 is turned off, the electromagnet 33 is turned off in the upper stop mechanism 30 b and the lower stop mechanism 30 a, so that the engagement pin 31 is attached with a semicircular gear by the biasing force of the spring member 32. The state comes into contact with the side surface of the case 111, and the engagement pin 31 is guided by the inclined groove G and engaged with the engagement hole H as the case 111 with the semicircular gear rotates. When the engagement pin 31 engages with the engagement hole H, the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b are fixed to either the upper half housing 10b or the lower half housing 10a, respectively.

このため、予め、下半ハウジング側板12aおよび上半ハウジング側板12bに対する係合ピン31の配置位置と、半円状ギヤ付ケース111の側面でのピン係合孔Gの位置とを、係合ピン31がピン係合孔Hと係合したときに内巻回転ブラシ110の分割面が磨き装置100のハウジングの分割面と一致するように設定しておくことで、内巻回転ブラシ110が停止した状態で、内巻回転ブラシ110の分割面と磨き装置100のハウジングの分割面とを一致させることができる。さらに、内巻回転ブラシ110の分割面と磨き装置100のハウジングの分割面とが一致した状態では、磨き部100aの上半ハウジング10bを下半ハウジング10aに対して回転させて磨き部100aを開いたときに、内巻回転ブラシ110の分割片である半内巻回転ブラシ110a、110bはそれぞれ、ハウジング10の分割片である下半ハウジング10aおよび上半ハウジング10bとともに分離されることとなる。   For this reason, the arrangement position of the engagement pin 31 with respect to the lower half housing side plate 12a and the upper half housing side plate 12b and the position of the pin engagement hole G on the side surface of the case 111 with the semicircular gear are determined in advance. By setting the dividing surface of the inner winding rotary brush 110 to coincide with the dividing surface of the housing of the polishing device 100 when 31 is engaged with the pin engaging hole H, the inner winding rotating brush 110 is stopped. In this state, the split surface of the inner winding rotary brush 110 and the split surface of the housing of the polishing apparatus 100 can be matched. Further, in a state where the split surface of the inner winding rotary brush 110 and the split surface of the housing of the polishing apparatus 100 coincide with each other, the polishing portion 100a is opened by rotating the upper half housing 10b of the polishing portion 100a with respect to the lower half housing 10a. In this case, the semi-inner winding rotary brushes 110a and 110b that are divided pieces of the inner winding rotary brush 110 are separated together with the lower half housing 10a and the upper half housing 10b that are divided pieces of the housing 10, respectively.

このような構成の本実施形態1の磨き装置100では以下の効果が得られる。   With the polishing apparatus 100 of the first embodiment having such a configuration, the following effects can be obtained.

この磨き装置100では、磨き部材として、ワイヤロープRwを磨くための内周面を有する環状の磨き部材である内巻回転ブラシ110を用いているので、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができる。   In this polishing apparatus 100, since the inner winding rotary brush 110 which is an annular polishing member having an inner peripheral surface for polishing the wire rope Rw is used as the polishing member, the surface of the object to be processed such as the wire rope is made uniform. Can be polished.

しかも、内巻回転ブラシ110および内巻回転ブラシ110を回転可能に保持するハウジング10を、内巻回転ブラシ110およびハウジング10が開くように分割可能に構成したので、ワイヤロープRwを内巻回転ブラシ110およびハウジング10内に配置するのにワイヤロープRwをその端から内巻回転ブラシ110およびハウジング10に挿入する必要がない。またこの内巻回転ブラシ110では、このブラシの内周面がワイヤロープRwを磨く面となっており、内巻回転ブラシ110は筒状の簡単な構造となっている。   In addition, since the inner winding rotary brush 110 and the housing 10 that holds the inner winding rotary brush 110 are configured to be rotatable so that the inner winding rotary brush 110 and the housing 10 can be opened, the wire rope Rw is used as the inner winding rotary brush. It is not necessary to insert the wire rope Rw into the inner winding rotary brush 110 and the housing 10 from the end of the wire rope Rw to be disposed in the housing 110 and the housing 10. Moreover, in this inner winding rotary brush 110, the inner peripheral surface of this brush is a surface that polishes the wire rope Rw, and the inner winding rotary brush 110 has a simple cylindrical structure.

これに対し、特許文献3に開示の保守装置では、回転ブラシアセンブリの回転中心の周りに自転かつ公転する回転円筒ブラシが複数配置され、被処理物が個々の回転円筒ブラシの外周面で磨かれるようになっており、特許文献3に開示の保守装置の回転ブラシアセンブリの構成は、本実施形態の内巻回転ブラシ110に比べて複雑な構造となっている。   On the other hand, in the maintenance device disclosed in Patent Document 3, a plurality of rotating cylindrical brushes that rotate and revolve around the rotation center of the rotating brush assembly are disposed, and the workpiece is polished on the outer peripheral surface of each rotating cylindrical brush. Thus, the configuration of the rotating brush assembly of the maintenance device disclosed in Patent Document 3 has a complicated structure as compared with the inner winding rotating brush 110 of the present embodiment.

さらに、この磨き装置100では、停止機構30は、駆動部20が内巻回転ブラシ110への回転駆動力の印加を停止した後、内巻回転ブラシ110の分割面がハウジング10の分割面と一致するように内巻回転ブラシ110の回転を停止させるように構成されているので、ワイヤロープRwから磨き装置100を取り外す場合、ハウジング10を開けるだけで内巻回転ブラシ110もワイヤロープRwから外れることとなり、取り外し作業が簡単である。   Further, in this polishing apparatus 100, the stop mechanism 30 is configured such that the dividing surface of the inner winding rotary brush 110 coincides with the dividing surface of the housing 10 after the driving unit 20 stops applying the rotational driving force to the inner winding rotating brush 110. Therefore, when the polishing apparatus 100 is removed from the wire rope Rw, the inner rotary brush 110 is also detached from the wire rope Rw simply by opening the housing 10. The removal work is easy.

しかも、駆動部20への電源供給の停止と同時に停止機構30での電磁石33への通電が停止されるので、内巻回転ブラシ110の各分割片(半内巻回転ブラシ110a、110b)はハウジング10の分割片(下半ハウジング10a、上半ハウジング10b)のいずれかに係合ピン31により固定される。このため、ハウジング10を開いたときに上半ハウジング10bに収容されている半内巻回転ブラシ110aあるいは110bが上半ハウジング10bから落下することもない。   In addition, since the energization of the electromagnet 33 in the stop mechanism 30 is stopped simultaneously with the stop of the power supply to the drive unit 20, each divided piece (half-inner winding rotary brush 110a, 110b) of the inner winding rotary brush 110 is a housing. It is fixed to any one of ten divided pieces (lower half housing 10a, upper half housing 10b) by an engaging pin 31. For this reason, when the housing 10 is opened, the semi-inner winding rotary brush 110a or 110b accommodated in the upper half housing 10b does not fall from the upper half housing 10b.

さらに、半内巻回転ブラシ110a、110bの半円状ギヤ付ケース111内には、一対の半円状内巻ブラシ112をブラシ間スペーサ113で所定間隔離して配置しているので、半円状内巻ブラシ112が使用している間に、使い古した歯磨きの歯ブラシのように幅が広がっても、隣接する半円状内巻ブラシ112の毛が絡まるのを回避できる。   Further, since the pair of semicircular inner winding brushes 112 are arranged at predetermined intervals by the inter-brush spacer 113 in the semicircular geared cases 111 of the semiinner winding rotating brushes 110a and 110b, they are semicircular. While the inner brush 112 is in use, even if the width increases like a worn toothpaste toothbrush, it is possible to prevent the adjacent semicircular inner brush 112 from getting tangled.

なお、上記実施形態1では、半円状ギヤ付ケース111の側面には、下側停止機構30aおよび上側停止機構30bの係合ピン31と係合するピン係合孔Gとして丸孔が形成されているが、半円状ギヤ付ケース111の側面に形成されるピン係合孔Gは長孔であってもよい。例えば、ピン係合孔Gは内巻回転ブラシ110の回転方向に沿って延びる長孔であってもよい。この場合、内巻回転ブラシ110は、モータによる回転の停止状態で、ハウジング10に対して長孔の長さの範囲内で回転移動可能となる。   In the first embodiment, a round hole is formed in the side surface of the semicircular geared case 111 as the pin engagement hole G that engages with the engagement pin 31 of the lower stop mechanism 30a and the upper stop mechanism 30b. However, the pin engagement hole G formed on the side surface of the semicircular geared case 111 may be a long hole. For example, the pin engagement hole G may be a long hole extending along the rotation direction of the inner winding rotary brush 110. In this case, the inner winding brush 110 can be rotated and moved with respect to the housing 10 within the range of the length of the long hole in a stopped state by the motor.

また、上記実施形態1では、停止機構は、磨き部材の分割面がハウジングの分割面と一致するように磨き部材の回転を停止させるように構成したものであるが、停止機構はこのような構成に限定されるものではない。例えば、停止機構は、磨き部材の分割面がハウジングの分割面に対して所定の角度範囲内の角度をなすように磨き部材の回転を停止させるものでもよい。具体的には、磨き部材の回転が停止したときのハウジングの分割面に対する磨き部材の分割面の傾斜角は、ハウジングの分割片を分離してハウジングを開ける動作に伴って、ハウジングの分割片に収容されている磨き部材の分割片が分離されるのに支障を来さない角度であればよく、例えば、0度〜25度の範囲の角度である。   In the first embodiment, the stop mechanism is configured to stop the rotation of the polishing member so that the dividing surface of the polishing member coincides with the dividing surface of the housing. However, the stop mechanism has such a configuration. It is not limited to. For example, the stop mechanism may stop the polishing member so that the dividing surface of the polishing member forms an angle within a predetermined angle range with respect to the dividing surface of the housing. Specifically, the inclination angle of the dividing surface of the polishing member with respect to the dividing surface of the housing when the rotation of the polishing member stops is determined by separating the dividing piece of the housing and opening the housing. Any angle that does not hinder the separation of the divided pieces of the polishing member accommodated may be used. For example, the angle is in the range of 0 to 25 degrees.

さらに、上記実施形態1では特に説明していないが、ハウジング10に収容されている内巻回転ブラシ110の交換を行う場合を考慮すると、停止機構30の係合ピンが内巻回転ブラシ110に係合している状態を手動操作などで解除するための構成を備えていることが望ましい。   Further, although not specifically described in the first embodiment, the engagement pin of the stop mechanism 30 is engaged with the inner winding rotary brush 110 in consideration of the replacement of the inner winding brush 110 accommodated in the housing 10. It is desirable to have a configuration for releasing the combined state by manual operation or the like.

(実施形態2)
図12は、本発明の実施形態2による磨き装置1000を説明するための斜視図であり、ワイヤロープに装着した磨き装置の外観を示している。図13は、図12に示す磨き装置の基部1100および磨き部1200の内部構造を説明するための斜視図であり、磨き装置の基部および磨き部が開いた状態を示している。
(Embodiment 2)
FIG. 12 is a perspective view for explaining the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment of the present invention, and shows the appearance of the polishing apparatus attached to the wire rope. FIG. 13 is a perspective view for explaining the internal structure of the base 1100 and the polishing unit 1200 of the polishing apparatus shown in FIG. 12, and shows a state where the base and the polishing part of the polishing apparatus are opened.

実施形態2の磨き装置1000は、実施形態1の磨き装置100と同様に、高速道路などでガードレールとして用いられるワイヤロープや架空送電線などの被処理物を磨く磨き装置である。以下説明の都合上、被処理物はワイヤロープRwとする。   The polishing apparatus 1000 according to the second embodiment is a polishing apparatus that polishes an object to be processed such as a wire rope or an overhead power transmission line used as a guard rail on a highway or the like, similarly to the polishing apparatus 100 according to the first embodiment. For convenience of explanation, the object to be processed is a wire rope Rw.

この磨き装置1000は、ワイヤロープRwに取り付けられる基部1100および磨き部1200と、基部1100および磨き部1200を相対移動させる移動手段1300と、移動手段1300、基部1100および磨き部1200の状態を制御する制御部1400とを有する。   The polishing apparatus 1000 controls the state of the base 1100 and the polishing unit 1200 attached to the wire rope Rw, the moving unit 1300 that relatively moves the base 1100 and the polishing unit 1200, and the state of the moving unit 1300, the base 1100, and the polishing unit 1200. And a control unit 1400.

以下、磨き装置1000の構成を詳しく説明する。   Hereinafter, the configuration of the polishing apparatus 1000 will be described in detail.

図14は、図13の分解斜視図であり、基部1100および磨き部1200が開いた状態で磨き装置の構成部品を分解して示す。図15および図16は、実施形態2の磨き装置1000を説明するための平面図であり、図15(a)、図15(b)、図15(c)はそれぞれ、図13のA13方向、B13方向、C13方向から磨き装置を見た構造を示し、図16(d)、図16(e)、図16(f)はそれぞれ、図13のD13方向、E13方向、F13方向から磨き装置を見た構造を示している。   FIG. 14 is an exploded perspective view of FIG. 13, showing components of the polishing apparatus in an exploded state with the base portion 1100 and the polishing portion 1200 open. FIGS. 15 and 16 are plan views for explaining the polishing apparatus 1000 of the second embodiment. FIGS. 15A, 15B, and 15C are respectively A13 direction in FIG. FIG. 16 (d), FIG. 16 (e), and FIG. 16 (f) show the polishing device viewed from the D13 direction, the E13 direction, and the F13 direction of FIG. 13, respectively. Shown structure.

〔基部1100〕
基部1100は、ワイヤロープRwを挟持するための一対の基部ブロック1100a、1100bと、一対の基部ブロック1100a、1100bを駆動する基部駆動部(基部開閉機構)1130とを有する。ここで、一対の基部ブロック1100aおよび1100bは、開閉ヒンジピン103により回動可能に接続されている。基部ブロック1100aおよび1100bのワイヤロープRwに接する部分には、ワイヤロープRwをこれらのブロックにより挟持したときにワイヤロープRwが滑らないようにロープ固定パッド104a、104bが取り付けられている。また、基部開閉機構1130は、一対の基部ブロック1100a、1100bがワイヤロープRwを挟持することにより基部1100が不動状態となり、一対の基部ブロック1100a、1100bがワイヤロープRwを開放することにより基部1100が可動状態となるよう一対の基部ブロック1100a、1100bを駆動するものである。基部開閉機構1130は、一対の基部ブロック1100a、1100bを相対的に回動させることにより基部1100を開閉する開閉シリンダ131を有する。開閉シリンダ131の本体は、下側の基部ブロック(基部下ブロック)1100aの後端部に固定された取付ブラケット132にシリンダ取付ピン133により回動可能に取り付けられている。開閉シリンダ131のシリンダロッド134は、上側の基部ブロック(基部上ブロック)1100bの後端部に形成された対向する一対のピン取付フランジ102にロッド取付ピン135により回動可能に取り付けられている。
[Base 1100]
The base 1100 includes a pair of base blocks 1100a and 1100b for sandwiching the wire rope Rw, and a base drive unit (base opening / closing mechanism) 1130 for driving the pair of base blocks 1100a and 1100b. Here, the pair of base blocks 1100a and 1100b are pivotally connected by an open / close hinge pin 103. Rope fixing pads 104a and 104b are attached to portions of the base blocks 1100a and 1100b that are in contact with the wire rope Rw so that the wire rope Rw does not slip when the wire rope Rw is sandwiched between these blocks. Further, the base opening / closing mechanism 1130 has the base 1100 immovable when the pair of base blocks 1100a and 1100b sandwich the wire rope Rw, and the base 1100 opens when the pair of base blocks 1100a and 1100b opens the wire rope Rw. The pair of base blocks 1100a and 1100b are driven so as to be movable. The base opening / closing mechanism 1130 includes an opening / closing cylinder 131 that opens and closes the base 1100 by relatively rotating a pair of base blocks 1100a and 1100b. The main body of the open / close cylinder 131 is rotatably attached to a mounting bracket 132 fixed to a rear end portion of a lower base block (base lower block) 1100a by a cylinder mounting pin 133. The cylinder rod 134 of the open / close cylinder 131 is rotatably attached to a pair of opposed pin mounting flanges 102 formed at the rear end portion of the upper base block (base upper block) 1100b by a rod mounting pin 135.

〔磨き部1200〕
磨き部1200は、ワイヤロープRwを磨くための上下一対の磨き部ブロック1200a、1200bと、上下一対の磨き部ブロック1200a、1200bを駆動する磨き部駆動部(磨き部開閉機構)1230とを有する。ここで、一対の磨き部ブロック1200aおよび1200bは、開閉ヒンジピン203により回動可能に接続されている。磨き部ブロック1200aおよび1200bのワイヤロープRwに対向する部分には、ブラシ配置スペース1201が形成され、磨き部ブロック1200aおよび1200bのブラシ配置スペース1201にはブラシ組立体240が収容され、ブラシ組立体240が固定部材250によりブラシ配置スペース1201内に固定されている。ブラシ組立体240は、ブラシ収容ケース211と、ブラシ収容ケース211内に配置された半円状内巻ブラシ212およびブラシ間スペーサ213とを有する。ここで、半円状内巻ブラシ212は、磨き部ブロック1200を閉じたとき、下側の磨き部ブロック(磨き部下ブロック)1200aの半円状内巻ブラシ212と上側の磨き部ブロック(磨き部上ブロック)1200bの半円状内巻ブラシ212とが、ワイヤロープRwを磨くための内周面を有する内巻ブラシを形成するものであればよく、例えば、半円状内巻ブラシ212は、中心角が180度の扇型形状を有するものであればよい。ただし、半円状内巻ブラシ212の構造によっては、半円状内巻ブラシ212の中心角が180度より大きいことが望ましい場合もあり、この実施形態2では、半円状内巻ブラシ212として、中心角が180度より大きい扇型形状を有するものを用いている。
[Polishing part 1200]
The polishing unit 1200 includes a pair of upper and lower polishing unit blocks 1200a and 1200b for polishing the wire rope Rw, and a polishing unit driving unit (a polishing unit opening / closing mechanism) 1230 for driving the pair of upper and lower polishing unit blocks 1200a and 1200b. Here, the pair of polisher blocks 1200a and 1200b are rotatably connected by an opening / closing hinge pin 203. A brush arrangement space 1201 is formed in a portion of the polishing block 1200a and 1200b facing the wire rope Rw. The brush arrangement 240 is accommodated in the brush arrangement space 1201 of the polishing block 1200a and 1200b. Is fixed in the brush arrangement space 1201 by the fixing member 250. The brush assembly 240 includes a brush housing case 211, a semicircular inner winding brush 212 and an inter-brush spacer 213 arranged in the brush housing case 211. Here, when the brush block 1200 is closed, the semicircular inner brush 212 has a semicircular inner brush 212 and an upper brush block (polishing portion) of the lower polishing block (polishing block lower) 1200a. The upper block) 1200b semicircular inner winding brush 212 only needs to form an inner winding brush having an inner peripheral surface for polishing the wire rope Rw. For example, the semicircular inner winding brush 212 includes: What is necessary is just to have a fan-shaped shape with a central angle of 180 degrees. However, depending on the structure of the semicircular inner winding brush 212, it may be desirable that the center angle of the semicircular inner winding brush 212 is greater than 180 degrees. A fan having a sector shape with a central angle larger than 180 degrees is used.

以下、簡単に説明する。   A brief description is given below.

図14に示すように、ブラシの毛Wbを半円状ブラシホルダ212aの溝内に挟み込んでカシメにより固着した構造の半円状内巻ブラシ212では、半円状内巻ブラシ212の両端ではワイヤロープRwの磨きが不十分となる場合がある。このような構造の半円状内巻ブラシ212では、磨き部ブロック1200を閉じた状態で、ワイヤロープRwの軸方向から見たときに、磨き部下ブロック1200aの半円状内巻ブラシ212の端部と磨き部上ブロック1200bの半円状内巻ブラシ212の端部とが重なるようにすることにより、ワイヤロープRwの磨きが不十分となる部分が生じないようにすることができる。   As shown in FIG. 14, in the semicircular inner brush 212 having a structure in which the bristles Wb are sandwiched in the grooves of the semicircular brush holder 212 a and fixed by caulking, the wires are formed at both ends of the semicircular inner brush 212. The rope Rw may not be sufficiently polished. In the semicircular inner winding brush 212 having such a structure, the end of the semicircular inner winding brush 212 of the polishing unit lower block 1200a when viewed from the axial direction of the wire rope Rw with the polishing unit block 1200 closed. By making the portion and the end portion of the semicircular inner winding brush 212 of the polished portion upper block 1200b overlap, it is possible to prevent a portion where the polishing of the wire rope Rw is insufficient from occurring.

具体的には、中心角が180度より大きい扇型形状の半円状内巻ブラシ212を用いる場合は、磨き部を閉じたときに、磨き部下ブロック1200aと磨き部上ブロック1200bとの間で半円状内巻ブラシ212の端部が干渉しないように、磨き部下ブロック1200aの半円状内巻ブラシ212と磨き部上ブロック1200bの半円状内巻ブラシ212とは交互に配置され(図13、図15(a)参照)、しかも、ブラシ間スペーサ213は、中心角が180度より大きい半円状内巻ブラシ212の端部の配置スペースが形成されるように、中心角が180度より小さい円弧形状とされている(図14参照)。   Specifically, in the case of using a fan-shaped semicircular inner brush 212 having a central angle larger than 180 degrees, when the polishing portion is closed, between the polishing portion lower block 1200a and the polishing portion upper block 1200b. The semicircular inner winding brush 212 of the polishing unit lower block 1200a and the semicircular inner winding brush 212 of the polishing unit upper block 1200b are alternately arranged so that the ends of the semicircular inner winding brush 212 do not interfere with each other (see FIG. 13 and FIG. 15A), and the inter-brush spacer 213 has a central angle of 180 degrees so that a space for arranging the end of the semicircular inner brush 212 having a central angle larger than 180 degrees is formed. It has a smaller arc shape (see FIG. 14).

言い換えると、半円状内巻ブラシ212の中心角が180度+α度である場合、ブラシ間スペーサ213の中心角は180度−β度(β≧α)である。   In other words, when the central angle of the semicircular inner brush 212 is 180 degrees + α degrees, the central angle of the inter-brush spacer 213 is 180 degrees−β degrees (β ≧ α).

角度αは、例えば10度〜30度の範囲が好ましいが、この範囲に限定されるものではない。   The angle α is preferably in the range of 10 degrees to 30 degrees, for example, but is not limited to this range.

ただし、角度αを大きくすることで、磨き部下ブロック1200aの半円状内巻ブラシ212の端部と磨き部上ブロック1200bの半円状内巻ブラシ212の端部との重なりが大きくなるが、その分、ブラシ間スペーサ213が小さくなって、ブラシ間スペーサ213により支えられている半円状内巻ブラシ212の歪みや変形が生じやすくなる。   However, by increasing the angle α, the overlap between the end of the semicircular inner brush 212 of the polished lower block 1200a and the end of the semicircular inner brush 212 of the polished upper block 1200b increases. Accordingly, the inter-brush spacer 213 is reduced, and the semicircular inner winding brush 212 supported by the inter-brush spacer 213 is likely to be distorted or deformed.

一方、角度αを小さくすると、磨き部下ブロック1200aの半円状内巻ブラシ212の端部と磨き部上ブロック1200bの半円状内巻ブラシ212の端部との重なりが小さくなり、ワイヤロープRwの磨きが不十分となる部分を排除できなくなる恐れがでてくる。   On the other hand, when the angle α is reduced, the overlap between the end of the semicircular inner winding brush 212 of the polishing unit lower block 1200a and the end of the semicircular inner winding brush 212 of the polishing unit upper block 1200b is reduced, and the wire rope Rw There is a risk that it will not be possible to eliminate the part where the polishing of the material becomes insufficient.

従って、これらを考慮すると、角度αはそれぞれの用途に合った適切な範囲に設定するのが望ましい。   Therefore, considering these, it is desirable to set the angle α in an appropriate range suitable for each application.

また、角度βは、一般的には角度αと等しい角度であることが望ましいが、これに限定されず、組立誤差などを考慮して、磨き部を閉じたときに上下のブロック1200aおよび1200bの半円状内巻ブラシ212の端部とブラシ間スペーサ213の端部とが干渉しない程度に角度αより所定角度(0度〜5度程度)だけ大きな角度としてもよい。   In general, the angle β is preferably equal to the angle α. However, the angle β is not limited to this, and the upper and lower blocks 1200a and 1200b of the upper and lower blocks 1200a and 1200b are closed when the polished portion is closed in consideration of an assembly error. The angle may be larger than the angle α by a predetermined angle (about 0 to 5 degrees) so that the end of the semicircular inner brush 212 and the end of the inter-brush spacer 213 do not interfere with each other.

磨き部開閉機構1230は、一対の磨き部ブロック1200a、1200bがワイヤロープRwを挟持することにより、半円状内巻ブラシ212がワイヤロープRwに接触した状態となり、一対の磨き部ブロック1200a、1200bがワイヤロープRwを開放することにより、半円状内巻ブラシ212がワイヤロープRwから離れるように一対の磨き部ブロック1200a、1200bを駆動するものである。磨き部開閉機構1230は、一対の磨き部ブロック1200a、1200bを相対的に回動させることにより磨き部1200を開閉する開閉シリンダ231を有する。開閉シリンダ231の本体は、下側の磨き部ブロック(磨き部下ブロック)1200aの後端部に固定された取付ブラケット232にシリンダ取付ピン233により回動可能に取り付けられている。開閉シリンダ231のシリンダロッド234は、上側の磨き部ブロック(磨き部上ブロック)1200bの後端部に形成された対向する一対のピン取付ブラケット202にロッド取付ピン235により回動可能に取り付けられている。   In the polishing unit opening / closing mechanism 1230, the pair of polishing unit blocks 1200a and 1200b sandwich the wire rope Rw, so that the semicircular inner brush 212 is in contact with the wire rope Rw, and the pair of polishing unit blocks 1200a and 1200b. Opens the wire rope Rw to drive the pair of polishing block 1200a, 1200b so that the semicircular inner brush 212 is separated from the wire rope Rw. The polishing unit opening / closing mechanism 1230 includes an opening / closing cylinder 231 that opens and closes the polishing unit 1200 by relatively rotating the pair of polishing unit blocks 1200a and 1200b. The main body of the open / close cylinder 231 is rotatably attached to a mounting bracket 232 fixed to a rear end portion of a lower polishing portion block (polishing portion lower block) 1200a by a cylinder mounting pin 233. The cylinder rod 234 of the open / close cylinder 231 is rotatably attached to a pair of opposed pin mounting brackets 202 formed on the rear end portion of the upper polishing portion block (polishing portion upper block) 1200b by a rod mounting pin 235. Yes.

また、磨き部下ブロック1200aには、ブラシ配置スペース1201の両側に位置するようにブロックと一体に駆動エアシリンダ1301および1302が内蔵されており、駆動エアシリンダ1301および1302に装着されている駆動ロッド301aおよび302aの一端が基部下ブロック1100aに固定プレート303a、304aにより固定されている。また、磨き部下ブロック1200aの裏面には、駆動エアシリンダ1301および1302に制御部1400から空気を供給したり排出したりするためのパイプを接続するパイプ接続孔1111および1112が形成されている。磨き部上ブロック1200bには、ブラシ配置スペース1201の両側に磨き部上ブロック1200bに対して摺動可能となるように摺動ロッド301bおよび302bが取り付けられており、摺動ロッド301bおよび302bの一端が基部上ブロック1100bに固定プレート303bおよび304bにより固定されている。   Further, in the polished lower block 1200a, driving air cylinders 1301 and 1302 are incorporated integrally with the block so as to be located on both sides of the brush arrangement space 1201, and the driving rod 301a attached to the driving air cylinders 1301 and 1302 is incorporated. And one end of 302a is fixed to the lower base block 1100a by fixing plates 303a and 304a. Further, pipe connection holes 1111 and 1112 for connecting pipes for supplying and discharging air from the control unit 1400 to the drive air cylinders 1301 and 1302 are formed on the back surface of the polishing unit lower block 1200a. Sliding rods 301b and 302b are attached to the polishing unit upper block 1200b on both sides of the brush arrangement space 1201 so as to be slidable with respect to the polishing unit upper block 1200b, and one ends of the sliding rods 301b and 302b are attached. Is fixed to the upper base block 1100b by fixing plates 303b and 304b.

また、この磨き装置1000では、基部1100の開閉エアシリンダ131、磨き部1200の開閉エアシリンダ231、磨き部1200の駆動エアシリンダ1301、1302には、コンプレッサ1500からの圧縮空気が制御部1400を介して供給されるようになっている。ここで、コンプレッサ1500、駆動エアシリンダ1301、1302、駆動ロッド301a、302aおよび摺動ロッド301b、302bは、基部1100および磨き部1200を相対的に移動させる移動手段1300を形成している。   In this polishing apparatus 1000, compressed air from the compressor 1500 is passed through the control unit 1400 to the open / close air cylinder 131 of the base 1100, the open / close air cylinder 231 of the polish unit 1200, and the drive air cylinders 1301 and 1302 of the polish unit 1200. Are being supplied. Here, the compressor 1500, the drive air cylinders 1301 and 1302, the drive rods 301 a and 302 a, and the slide rods 301 b and 302 b form a moving unit 1300 that relatively moves the base 1100 and the polishing unit 1200.

また、制御部1400は、予めプログラムされた磨き処理の手順に従って、移動手段1300を制御するとともに基部1100の可動状態および不動状態を切り換えるものである。制御部1400は、基部1100と磨き部1200との相対移動によりワイヤロープRwに対して磨き部1200が相対的に移動してワイヤロープRwが磨き部1200により磨かれ、基部1100と磨き部1200との相対移動によりワイヤロープRwに対して基部1100が相対的に移動して磨き装置1000が自走するようプログラムされている。   Further, the control unit 1400 controls the moving unit 1300 and switches the movable state and the non-movable state of the base unit 1100 according to a pre-programmed polishing procedure. The control unit 1400 moves the polishing unit 1200 relative to the wire rope Rw by the relative movement of the base 1100 and the polishing unit 1200 so that the wire rope Rw is polished by the polishing unit 1200, and the base 1100 and the polishing unit 1200 Is programmed so that the base 1100 moves relative to the wire rope Rw and the polishing apparatus 1000 is self-propelled.

〔磨き装置1000の使用方法およびその動作〕
次に実施形態2の磨き装置1000の使用方法およびその動作を説明する。
[Usage method and operation of polishing apparatus 1000]
Next, the usage method and operation of the polishing apparatus 1000 of Embodiment 2 will be described.

図17および図18は、本発明の実施形態2による磨き装置の使用方法を説明するための図であり、図17(a)は、磨き装置を被処理物に装着する前の基部および磨き部を閉じた状態を示し、図17(b)は、磨き装置を被処理物に装着する前の基部および磨き部を開いた状態を示している。図18(a)は、磨き装置を被処理物に装着した後の基部および磨き部を開いた状態を示し、図18(b)は、磨き装置を被処理物に装着した後の基部および磨き部を閉じた状態を示している。   FIGS. 17 and 18 are views for explaining a method of using the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention. FIG. 17A shows a base and a polishing part before the polishing apparatus is mounted on a workpiece. FIG. 17 (b) shows a state in which the base portion and the polishing portion before the polishing apparatus is attached to the object to be processed are opened. FIG. 18A shows a state in which the base and the polishing unit after the polishing apparatus is attached to the object to be processed are opened, and FIG. 18B shows the base and polishing after the polishing apparatus is attached to the object to be processed. The state which closed the part is shown.

まず、実施形態2の磨き装置1000を準備し(図17(a))、操作部1600で基部1100および磨き部1200が開くように操作すると、圧力制御部1400がコンプレッサ1500からの圧縮空気を基部1100および磨き部1200の開閉シリンダ131、231に送り込むことにより、基部1100の基部上ブロック1100bおよび基部下ブロック1100aが相対的に回転して基部1100が開き、磨き部1200の磨き部下ブロック1200aおよび磨き部上ブロック1200bが相対的に回転して磨き部1200が開く(図17(b))。   First, the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment is prepared (FIG. 17A), and when the operation unit 1600 is operated so that the base 1100 and the polishing unit 1200 are opened, the pressure control unit 1400 uses the compressed air from the compressor 1500 as the base. 1100 and the opening / closing cylinders 131 and 231 of the polishing unit 1200 are rotated to relatively rotate the base upper block 1100b and the base lower block 1100a of the base 1100 to open the base 1100, and the polishing lower block 1200a and the polishing of the polishing unit 1200 The upper block 1200b is rotated relatively to open the polishing unit 1200 (FIG. 17B).

この状態で、磨き装置1000をワイヤロープRwに対して矢印Y1の方向に移動させて、図18(a)に示すようにワイヤロープRwが磨き装置1000の基部下ブロック1100aのロープ固定パッド104a、および磨き部下ブロック1200aのブラシ組立体240上に位置するように磨き装置1000をワイヤロープRwに対して配置する。   In this state, the polishing apparatus 1000 is moved in the direction of the arrow Y1 with respect to the wire rope Rw, and the wire rope Rw becomes the rope fixing pad 104a of the lower base block 1100a of the polishing apparatus 1000, as shown in FIG. And the polishing apparatus 1000 is arrange | positioned with respect to the wire rope Rw so that it may be located on the brush assembly 240 of the polish part lower block 1200a.

この状態で、操作部1600で基部1100および磨き部1200が閉じるように操作すると、圧力制御部1400がコンプレッサ1500からの圧縮空気を基部1100および磨き部1200の開閉シリンダ131、231に送り込むことにより、基部1100の基部上ブロック1100bおよび基部下ブロック1100aが相対的に回転して基部1100が閉じるとともに、磨き部1200の磨き部下ブロック1200aおよび磨き部上ブロック1200bが相対的に回転して磨き部1200が閉じる(図18(b))。   In this state, when the operation unit 1600 is operated so that the base 1100 and the polishing unit 1200 are closed, the pressure control unit 1400 sends compressed air from the compressor 1500 to the open / close cylinders 131 and 231 of the base 1100 and the polishing unit 1200. The base upper block 1100b and the base lower block 1100a of the base part 1100 rotate relatively to close the base part 1100, and the polishing part lower block 1200a and the polishing part upper block 1200b of the polishing part 1200 rotate relatively to rotate the polishing part 1200. Close (FIG. 18B).

その後、磨き装置1000は自動でワイヤロープRwを磨く動作を実行する。   Thereafter, the polishing apparatus 1000 automatically performs an operation of polishing the wire rope Rw.

図19は、本発明の実施形態2による磨き装置の動作を説明するための図であり、図19(a)から図19(d)は、磨き装置により被処理物が磨かれる動作を順に示している。   FIG. 19 is a diagram for explaining the operation of the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIGS. 19A to 19D sequentially show the operation of polishing an object to be processed by the polishing apparatus. ing.

まず、基部下ブロック1100aおよび基部上ブロック1100bがワイヤロープRwを強く挟持することにより、基部1100と磨き部1200とが相対移動したときに基部1100がワイヤロープRwに固定され、磨き部1200がワイヤロープRwに対して相対移動する状態となる。   First, the base lower block 1100a and the base upper block 1100b strongly hold the wire rope Rw, so that the base 1100 is fixed to the wire rope Rw when the base 1100 and the polished portion 1200 are relatively moved, and the polished portion 1200 is The state moves relative to the rope Rw.

この状態では、図19(a)〜図19(d)に示すように、基部1100と磨き部1200とが相対的に近づいたり遠ざかったりしたとき、ワイヤロープRwに対する基部1100の位置B0は変化しないので、磨き部1200が、ワイヤロープRwに対する位置P0とワイヤロープRwに対する位置P1との間で往復移動することとなり、ワイヤロープRwの区間D0の部分が磨き部1200により磨かれることとなる。なお、図中、Lnは基部1100と磨き部1200とが最も近づいたときの両者の距離、Lfは基部1100と磨き部1200とが最も遠ざかったときの両者の距離である。ワイヤロープRwの磨かれた区間D0の部分の長さは、Lf−Lnとなる。   In this state, as shown in FIGS. 19A to 19D, when the base portion 1100 and the polishing portion 1200 are relatively close to each other or away from each other, the position B0 of the base portion 1100 with respect to the wire rope Rw does not change. Therefore, the polishing unit 1200 moves back and forth between the position P0 with respect to the wire rope Rw and the position P1 with respect to the wire rope Rw, and the portion of the section D0 of the wire rope Rw is polished by the polishing unit 1200. In the figure, Ln is the distance between the base 1100 and the polished part 1200 when they are closest to each other, and Lf is the distance between the base 1100 and the polished part 1200 when they are farthest away. The length of the section D0 where the wire rope Rw is polished is Lf−Ln.

このようにして、磨き装置1000は、ワイヤロープRwの区間D0の間を、被処理物の状態に応じて予め設定された所定の数回(例えば3回から5回)往復することによりこの部分を磨き上げる。   In this way, the polishing apparatus 1000 reciprocates a predetermined number of times (for example, 3 to 5 times) set in advance according to the state of the object to be processed between the sections D0 of the wire rope Rw. Polish up.

図20は、本発明の実施形態2による磨き装置の動作を説明するための図であり、図20(a)から図20(c)は、磨き装置が自走する動作を示している。   FIG. 20 is a view for explaining the operation of the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIGS. 20 (a) to 20 (c) show the operation in which the polishing apparatus is self-propelled.

図20(a)に示すように、基部1100と磨き部1200とが相対的に最も遠ざかった状態で、基部1100の開閉シリンダ131にかける空気圧を0にすると、基部1100とワイヤロープRwとの間には摩擦抵抗がほとんどなくなるが、磨き部1200の開閉シリンダ231にかける空気圧は、磨き部下ブロック1200aの半円状内巻ブラシ212と磨き部上ブロック1200bの半円状内巻ブラシ212とによりワイヤロープRwが強く挟まれている状態を維持する圧力に維持されている。このため、この状態では磨き部1200とワイヤロープRwとの間の摩擦抵抗が基部1100とワイヤロープRwとの間の摩擦抵抗より大きく、基部1100と磨き部1200とが相対的に近づくと、図20(b)に示すように、基部1100が磨き部1200に引き寄せられるように移動することとなる。   As shown in FIG. 20 (a), when the air pressure applied to the open / close cylinder 131 of the base 1100 is 0 with the base 1100 and the polished portion 1200 relatively farthest from each other, the gap between the base 1100 and the wire rope Rw However, the air pressure applied to the opening / closing cylinder 231 of the polishing unit 1200 is changed by the semicircular inner brush 212 of the lower polishing block 1200a and the semicircular inner brush 212 of the upper polishing block 1200b. The pressure is maintained to maintain the state where the rope Rw is strongly sandwiched. For this reason, in this state, when the friction resistance between the polishing portion 1200 and the wire rope Rw is larger than the friction resistance between the base portion 1100 and the wire rope Rw, the base portion 1100 and the polishing portion 1200 are relatively close to each other. As shown in 20 (b), the base 1100 moves so as to be attracted to the polishing unit 1200.

その後、基部1100と磨き部1200とが相対的に最も近づいた時点で、基部1100の開閉シリンダ131にかける空気圧を、基部1100とワイヤロープRwとの間の摩擦抵抗が磨き部1200とワイヤロープRwとの間の摩擦抵抗より大きくなるように高める。この状態で、基部1100と磨き部1200とが相対的に遠ざかるように移動すると、基部1100はワイヤロープRwに対して固定されたままで、磨き部1200がワイヤロープRwに対して相対的に移動することとなる(図20(c))。これにより、基部1100が当所の位置B0から位置B1まで移動し、基部1100が位置B1に固定された状態で、磨き部1200が位置P1と位置P2との間で往復移動することで、ワイヤロープRwの位置P1と位置P2との間の部分が磨かれることとなる。   Thereafter, when the base portion 1100 and the polishing portion 1200 are relatively closest, the friction resistance between the base portion 1100 and the wire rope Rw is applied to the air pressure applied to the opening / closing cylinder 131 of the base portion 1100. Increase to be greater than the frictional resistance between. In this state, when the base portion 1100 and the polishing portion 1200 are moved away from each other, the base portion 1100 remains fixed with respect to the wire rope Rw, and the polishing portion 1200 moves relative to the wire rope Rw. (FIG. 20 (c)). As a result, the base part 1100 moves from the position B0 to the position B1, and the polishing part 1200 reciprocates between the position P1 and the position P2 while the base part 1100 is fixed to the position B1, so that the wire rope The portion between the position P1 and the position P2 of Rw will be polished.

このように実施形態2の磨き装置1000では、ワイヤロープRwに取り付けられる基部1100および磨き部1200と、基部1100と磨き部1200とを相対的に移動させる移動手段1300とを備え、磨き部1200をワイヤロープRwに対して移動させてワイヤロープRwを磨く動作と、基部1100をワイヤロープRwに対して移動させて磨き装置1000を自走させる動作とを、基部1100がワイヤロープRwを挟持する力の大きさにより切り換えるようにしたので、ワイヤロープRwの表面を磨く動作およびワイヤロープRwに沿って移動する動作を1つの駆動部により行うことができる。また、ワイヤロープRwを磨く半円状内巻ブラシ212は磨き部1200の一対の磨き部下ブロック1200aおよび磨き部上ブロック1200bに固定されているので、半円状内巻ブラシ212を可動させる構造は不要であり、磨き部1200の構造は簡単なものとできる。   As described above, the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment includes the base 1100 and the polishing unit 1200 attached to the wire rope Rw, and the moving unit 1300 that relatively moves the base 1100 and the polishing unit 1200. The operation of moving the wire rope Rw with respect to the wire rope Rw and the operation of moving the base portion 1100 with respect to the wire rope Rw to cause the polishing apparatus 1000 to self-run, the force with which the base portion 1100 holds the wire rope Rw. Therefore, the operation of polishing the surface of the wire rope Rw and the operation of moving along the wire rope Rw can be performed by one drive unit. Further, since the semicircular inner winding brush 212 for polishing the wire rope Rw is fixed to the pair of polishing unit lower blocks 1200a and the polishing unit upper block 1200b of the polishing unit 1200, the structure for moving the semicircular inner winding brush 212 is as follows. This is unnecessary, and the structure of the polishing unit 1200 can be simple.

なお、上記実施形態2では、基部はワイヤロープRwを磨く機能を持たない場合について説明したが、基部もワイヤロープRwを磨く機能を有していてもよい。この場合、ワイヤロープRwに対する基部の移動により磨き装置1000が自走する際にも、ワイヤロープRwが基部により磨かれることとなる。言い換えると、この場合は、磨き装置1000は2つの磨き部を有することとなる。一方の磨き部をワイヤロープRwに対して固定して他方の磨き部をワイヤロープRwに対して移動可能とする動作モードは、一方の磨き部とワイヤロープRwとの摩擦抵抗を他方の磨き部とワイヤロープRwとの摩擦抵抗よりも大きくすることにより実現することができる。具体的には、一方の磨き部の開閉シリンダに供給する空気圧を一定に保持したまま、他方の磨き部の開閉シリンダにかける空気圧を0にすればよい。   In the second embodiment, the case where the base does not have the function of polishing the wire rope Rw has been described, but the base may also have the function of polishing the wire rope Rw. In this case, the wire rope Rw is polished by the base even when the polishing apparatus 1000 is self-propelled by the movement of the base with respect to the wire rope Rw. In other words, in this case, the polishing apparatus 1000 has two polishing portions. In the operation mode in which one polishing portion is fixed to the wire rope Rw and the other polishing portion is movable with respect to the wire rope Rw, the friction resistance between the one polishing portion and the wire rope Rw is set to the other polishing portion. It can implement | achieve by making it larger than the frictional resistance of wire rope Rw. Specifically, the air pressure applied to the opening / closing cylinder of the other polishing portion may be reduced to 0 while the air pressure supplied to the opening / closing cylinder of one polishing portion is kept constant.

また、上記実施形態2では、ブラシ組立体240は磨き部1200に対して固定である場合について説明したが、ブラシ組立体240は、実施形態1と同様に、磨き部1200の上下のブロックに対して回転可能としてもよい。また、この場合、ブラシ組立体240はモータで回転させてもよいし、磨き部1200のワイヤロープRwに対する相対移動の際にワイヤロープRwから受ける力の作用で回転するようにしてもよい。   Further, in the second embodiment, the case where the brush assembly 240 is fixed to the polishing unit 1200 has been described. However, the brush assembly 240 is similar to the first embodiment with respect to the upper and lower blocks of the polishing unit 1200. And may be rotatable. In this case, the brush assembly 240 may be rotated by a motor, or may be rotated by the action of a force received from the wire rope Rw when the polishing unit 1200 is moved relative to the wire rope Rw.

また、上記実施形態2では、磨き装置は、磨き部下ブロック1200aに、基部1100と磨き部1200とを相対移動させるための2つの駆動エアシリンダ1301および1302を内蔵したものであるが、磨き装置は、磨き部下ブロック1200aだけでなく磨き部上ブロック1200bにも上記駆動エアシリンダを内蔵したものでもよい。この場合、磨き部上ブロック1200bの上面などに、磨き部下ブロック1200aと同様に、駆動エアシリンダに制御部1400から空気を供給したり排出したりするためのパイプを接続するパイプ接続孔を設ける必要がある。   Further, in the second embodiment, the polishing apparatus includes two driving air cylinders 1301 and 1302 for relatively moving the base 1100 and the polishing part 1200 in the polishing part lower block 1200a. The driving air cylinder may be incorporated not only in the polishing unit lower block 1200a but also in the polishing unit upper block 1200b. In this case, it is necessary to provide a pipe connection hole for connecting a pipe for supplying and discharging air from the control unit 1400 to the drive air cylinder, similarly to the polishing unit lower block 1200a, on the upper surface of the polishing unit upper block 1200b. There is.

このように磨き部1200に設けられる駆動エアシリンダの数は限定されるものではなく、駆動エアシリンダは、磨き部下ブロック1200aおよび磨き部上ブロック1200bの少なくとも一方に少なくとも1つ備わっていればよい。   Thus, the number of driving air cylinders provided in the polishing unit 1200 is not limited, and it is sufficient that at least one driving air cylinder is provided in at least one of the polishing unit lower block 1200a and the polishing unit upper block 1200b.

また、上記実施形態2では、1つのワイヤロープRwを1つの磨き装置1000で磨く場合を説明したが、例えば、高速道路の中央分離帯などに用いられるガードレールでは複数本のワイヤロープが高さ方向に平行して設置されている場合がある。このような複数のワイヤロープを磨き装置1000で磨く場合、磨き装置1000を高さ方向に複数段連結して複数のワイヤロープをまとめて磨くと作業効率がよくなる。   In the second embodiment, the case where one wire rope Rw is polished by one polishing device 1000 has been described. For example, a plurality of wire ropes are arranged in the height direction on a guardrail used in a central separation zone of an expressway. It may be installed in parallel with. When such a plurality of wire ropes are polished by the polishing apparatus 1000, work efficiency is improved by polishing the plurality of wire ropes by connecting a plurality of stages of the polishing apparatus 1000 in the height direction.

このような使い方は、例えば、実施形態2の磨き装置1000を上下に複数段連結するためのフランジを設けることで可能となる。   Such usage can be achieved, for example, by providing a flange for connecting the polishing apparatus 1000 of the second embodiment vertically in a plurality of stages.

(実施形態2の変形例)
以下、実施形態2の変形例として、このような使い方が可能な磨き装置とその使い方について簡単に説明する。
(Modification of Embodiment 2)
Hereinafter, as a modification of the second embodiment, a polishing apparatus that can be used in such a manner and the usage thereof will be briefly described.

図21および図22は、本発明の実施形態2の変形例による磨き装置を説明するための図であり、図21は、複数の磨き装置を連結した磨き装置の組立体を磨き装置の正面側から見た構造を示し、図22は、複数の磨き装置を連結した磨き装置の組立体を磨き装置の背面側から見た構造を示す。   21 and 22 are diagrams for explaining a polishing apparatus according to a modification of the second embodiment of the present invention, and FIG. 21 is a front view of a polishing apparatus assembly in which a plurality of polishing apparatuses are connected. FIG. 22 shows a structure of a polishing device assembly in which a plurality of polishing devices are connected as viewed from the back side of the polishing device.

ここでは、磨き装置1001〜1005は、実施形態2の磨き装置1000を、磨き装置1000を高さ方向に連結可能なフランジ1010を有する構造としたものであり、その他の構成は実施形態2の磨き装置1000と同一である。   Here, the polishing apparatuses 1001 to 1005 have a structure in which the polishing apparatus 1000 of the second embodiment has a flange 1010 capable of connecting the polishing apparatus 1000 in the height direction, and other configurations are the polishing apparatuses of the second embodiment. It is the same as the apparatus 1000.

ここでは、磨き装置の組立体2000では、上述した磨き装置1001〜1005がそれぞれのフランジ1010の両端に形成した連結孔(図示せず)に左右一対の連結部材Bcを挿入することにより連結されており、連結部材Bcの下端には下部プレートPbcが取り付けられ、連結部材Bcの上端には上部プレートPtcが取り付けられている。   Here, in the polishing device assembly 2000, the polishing devices 1001 to 1005 described above are coupled by inserting a pair of left and right coupling members Bc into coupling holes (not shown) formed at both ends of each flange 1010. The lower plate Pbc is attached to the lower end of the connecting member Bc, and the upper plate Ptc is attached to the upper end of the connecting member Bc.

このような磨き装置の組立体では、図21および図22に示すように複数のワイヤロープRw1〜ワイヤロープRw5を一度にまとめて磨くことができ、作業効率が極めて高いものとなる。   In such a polishing apparatus assembly, a plurality of wire ropes Rw1 to Rw5 can be polished at a time as shown in FIGS. 21 and 22, and the working efficiency is extremely high.

また、磨き装置の組立体2000では、上下に位置するワイヤロープの間隔が多少変化する場合を考慮して、上下に配置されている磨き装置のフランジの間にはバネ部材などを介在させて上下に位置するワイヤロープの間隔の変化を吸収するようにしてもよい。   In the polishing device assembly 2000, a spring member is interposed between the upper and lower polishing device flanges in consideration of the case where the distance between the upper and lower wire ropes changes slightly. You may make it absorb the change of the space | interval of the wire rope located in this.

なお、上記実施形態2では、移動手段が磨き部と基部とを相対的に移動させるものであり、磨き部と基部とを相対的に移動させるときに、磨き部と被処理物との摩擦抵抗および基部と被処理物との摩擦抵抗を調整することにより、磨き部を被処理物に対して移動させて被処理物を磨くようにしたものを示したが、磨き部に接続されたワイヤを引っ張るウインチで引っ張ることにより磨き部を被処理物に対して移動させて被処理物を磨くようにしてもよく、以下、移動手段にウインチを用いる場合を実施形態3として説明する。   In the second embodiment, the moving means relatively moves the polishing portion and the base portion, and when the polishing portion and the base portion are relatively moved, the frictional resistance between the polishing portion and the workpiece. In addition, the adjustment of the frictional resistance between the base and the object to be processed showed that the polished part was moved relative to the object to be processed to polish the object to be processed. The polished portion may be moved with respect to the object to be processed by pulling with the pulling winch, and the case where the winch is used as the moving means will be described below as a third embodiment.

(実施形態3)
図23は、本発明の実施形態3による磨き装置3000を説明するための斜視図であり、この磨き装置3000を構成する磨き部3100およびウインチ車両3200の構成を模式的に示している。
(Embodiment 3)
FIG. 23 is a perspective view for explaining a polishing apparatus 3000 according to Embodiment 3 of the present invention, and schematically shows a configuration of a polishing unit 3100 and a winch vehicle 3200 constituting the polishing apparatus 3000.

実施形態3の磨き装置3000は、実施形態1の磨き装置100あるいは実施形態2の磨き装置1000と同様に、高速道路などでガードレールとして用いられるワイヤロープや架空送電線などの被処理物を磨く磨き装置である。説明では、被処理物は、ガードレールに用いられるワイヤロープRwであり、磨き装置3000は、その構成の一例として、道路の端に沿って設置されたガードレールを構成する5本のワイヤロープRwを磨く構成を有するものとする。   The polishing apparatus 3000 according to the third embodiment, like the polishing apparatus 100 according to the first embodiment or the polishing apparatus 1000 according to the second embodiment, polishes a workpiece such as a wire rope or an overhead power transmission line that is used as a guard rail on an expressway or the like. Device. In the description, the object to be processed is the wire rope Rw used for the guard rail, and the polishing apparatus 3000 polishes the five wire ropes Rw constituting the guard rail installed along the end of the road as an example of the configuration. It shall have a configuration.

この磨き装置3000は、磨き部3100と移動手段3200とを有する。この磨き装置3000では、図23に示すように、被処理物である5本のワイヤロープRwを同時に磨くことができるように5つの磨き部3100が設けられている。   The polishing apparatus 3000 includes a polishing unit 3100 and moving means 3200. In this polishing apparatus 3000, as shown in FIG. 23, five polishing sections 3100 are provided so that five wire ropes Rw that are objects to be processed can be polished simultaneously.

磨き部3100は、ワイヤロープRwを磨くための内周面を有し、内周面に囲まれたスペースにワイヤロープRwが導入されるように分割可能に構成されている。移動手段3200は、ワイヤロープRwが磨き部3100の内周面により磨かれるように磨き部3100をワイヤロープRwに対して移動させるものである。   The polishing unit 3100 has an inner peripheral surface for polishing the wire rope Rw, and is configured to be separable so that the wire rope Rw is introduced into a space surrounded by the inner peripheral surface. The moving means 3200 moves the polishing unit 3100 relative to the wire rope Rw so that the wire rope Rw is polished by the inner peripheral surface of the polishing unit 3100.

以下、まず磨き部3100について詳しく説明する。   Hereinafter, the polishing unit 3100 will be described in detail first.

〔磨き部3100〕
図24は、図23に示す磨き装置の磨き部3100の具体的な構造を説明するための斜視図であり、図24(a)は開いた状態の磨き部3100を示し、図24(b)は磨き部上部3100bの内周面を示し、図24(c)は磨き部下部3100aの内周面を示し、図24(d)、図24(e)はそれぞれ、磨き部3100に用いられる毛足の長い針布LNc、毛足に短い針布Sncの構造の一例を示す。
[Polishing part 3100]
FIG. 24 is a perspective view for explaining a specific structure of the polishing unit 3100 of the polishing apparatus shown in FIG. 23. FIG. 24 (a) shows the polishing unit 3100 in an open state, and FIG. 24 shows the inner peripheral surface of the polished upper portion 3100b, FIG. 24C shows the inner peripheral surface of the polished lower portion 3100a, and FIGS. 24D and 24E show hairs used for the polished portion 3100, respectively. An example of the structure of a long-legged cloth LNc and a bristle-short garment Snc is shown.

磨き部3100は、図14に示す実施形態2の磨き装置1000の磨き部1200と同様に、磨き部上部(磨き部ブロック)3100bと磨き部下部(磨き部ブロック)3100aに分割されており、上下一対の磨き部ブロック3100a、3100bを駆動する磨き部駆動部(磨き部開閉機構)3130が設けられている。   The polishing unit 3100 is divided into a polishing unit upper part (a polishing unit block) 3100b and a polishing unit lower part (a polishing unit block) 3100a in the same manner as the polishing unit 1200 of the polishing apparatus 1000 of the second embodiment shown in FIG. A polishing unit driving unit (a polishing unit opening / closing mechanism) 3130 for driving the pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b is provided.

一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bは、開閉ヒンジピン3103により回動可能に接続されている。磨き部ブロック3100aおよび3100bのワイヤロープRwに対向する部分には、図14に示す磨き部ブロック1200aのブラシ配置スペース1201と同様な針布装着スペース3101a、3101bが形成され、磨き部ブロック3100aおよび3100bの針布装着スペース3101a、3101bには、針布が取り付けた針布ホルダ3111が収容され、針布ホルダ3111が磨き部ブロック3100aおよび3100bに固定されている。   The pair of polisher blocks 3100a and 3100b are rotatably connected by an opening / closing hinge pin 3103. The portions facing the wire rope Rw of the polishing block 3100a and 3100b are formed with a cloth mounting space 3101a and 3101b similar to the brush arrangement space 1201 of the polishing block 1200a shown in FIG. 14, and the polishing block 3100a and 3100b. In the garment mounting spaces 3101a and 3101b, a garment holder 3111 to which a garment is attached is accommodated, and the garment holder 3111 is fixed to the polishing block 3100a and 3100b.

ここで、針布ホルダ3111は、内径の大きい部分と内径が小さい部分とを有する円筒体をその中心軸を含む平面で2分割して得られる断面半円状の樋型部材であり、内径の大きい大径部3111aと内径の小さい小径部3111bとを有する。針布ホルダ3111の大径部3111aの内周面には、図24(d)に示す毛足の長い針布LNcが針先が内側を向くように貼り付けられ、針布ホルダ3111の小径部3111bには、図24(e)に示す毛足の短い針布SNcが針先が内側を向くように貼り付けられている。なお、毛足の長い針布LNcも毛足の短い針布SNcも、基布Cbに金属製の針Ndを植え付けたものである。針布ホルダ3111は、大径部3111aが小径部3111bに対して磨き部3100の移動方向の前方側に位置するように磨き部3100の上下の磨き部ブロック3100aおよび3100bに取り付けられている。これにより、磨き部3100によりワイヤロープRwが磨かれるとき、ワイヤロープRwの外周面が、まず針布の毛足が長くて柔らかい部分で磨かれて大きなサビなどの付着物が磨き落とされ、その後、針布の毛足が短くて硬い部分で磨かれて、細かなサビなどの付着物が磨き落とされることとなる。この結果、ワイヤロープRwの外周面を針布で磨くときに、抵抗があまり大きくならないようにしつつ、剥がれにくいサビなどを効果的に落とすことができる。大きな付着物を針布の毛足が短くて硬い部分で落とそうとすると、磨くときの抵抗が大きくなってしまうからである。   Here, the cloth holder 3111 is a saddle-shaped member having a semicircular cross section obtained by dividing a cylindrical body having a large inner diameter portion and a smaller inner diameter portion into two planes including the central axis. A large-diameter portion 3111a and a small-diameter portion 3111b having a small inner diameter are included. On the inner peripheral surface of the large-diameter portion 3111a of the needle cloth holder 3111, a long-legged needle cloth LNc shown in FIG. 24 (d) is attached so that the needle tip faces inward. On 3111b, a short cloth fabric SNc shown in FIG. 24 (e) is attached so that the needle tip faces inward. Note that both the long-legged needle cloth LNc and the short-bristle needle cloth SNc are obtained by implanting a metal needle Nd on the base cloth Cb. The needle cloth holder 3111 is attached to the upper and lower polished portion blocks 3100a and 3100b of the polished portion 3100 so that the large diameter portion 3111a is located on the front side in the moving direction of the polished portion 3100 with respect to the small diameter portion 3111b. As a result, when the wire rope Rw is polished by the polishing unit 3100, the outer peripheral surface of the wire rope Rw is first polished with a soft portion where the bristle of the cloth is long, and then the rust and other deposits are polished off. The fleece of the needle cloth is polished on a short and hard part, and fine rust and other deposits are polished off. As a result, when the outer peripheral surface of the wire rope Rw is polished with a cloth, it is possible to effectively remove rust and the like that are difficult to peel off while preventing the resistance from becoming too large. This is because, if a large deposit is to be dropped on a hard portion where the bristle of the needle cloth is short, the resistance when polishing is increased.

図25および図26は、図24(a)に示す磨き部3100を説明するための平面図である。図25(a)、図25(b)、図25(c)はそれぞれ、図24(a)のA33方向、B33方向、C33方向から磨き部3100を見た構造を示し、図26(d)、図26(e)、図26(f)はそれぞれ、図24(a)のD33方向、E33方向、F33方向から磨き部3100を見た構造を示している。   25 and 26 are plan views for explaining the polishing unit 3100 shown in FIG. 25 (a), 25 (b), and 25 (c) show structures in which the polished portion 3100 is viewed from the A33 direction, B33 direction, and C33 direction of FIG. 24 (a), respectively. 26 (e) and 26 (f) show structures in which the polished portion 3100 is seen from the D33 direction, the E33 direction, and the F33 direction of FIG. 24 (a), respectively.

磨き部開閉機構3130は、一対の磨き部ブロック3100a、3100bがワイヤロープRwを挟み込むことにより、これらの磨き部ブロック3100aおよび3100bの針布SNcおよびLNcの針先がワイヤロープRwの外周面に接触した状態となり、一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bがワイヤロープRwを開放することにより、針布SNcおよびLNcの針先がワイヤロープRwから離れるように一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bを駆動するものである。   In the polishing unit opening / closing mechanism 3130, the pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b sandwich the wire rope Rw, so that the needle points of the cloths SNc and LNc of the polishing unit blocks 3100a and 3100b contact the outer peripheral surface of the wire rope Rw. The pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b opens the wire rope Rw, thereby driving the pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b so that the needle tips of the cloths SNc and LNc are separated from the wire rope Rw. It is.

具体的には、磨き部開閉機構3130は、一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bを相対的に回動させることにより磨き部3100を開閉する開閉シリンダ3131を有する。開閉シリンダ3131の本体は、下側の磨き部ブロック(磨き部下ブロック)3100aの後端部に固定された取付ブラケット3132および3132aにシリンダ取付ピン3133により回動可能に取り付けられている。開閉シリンダ3131のシリンダロッド3134は、上側の磨き部ブロック(磨き部上ブロック)3200bの後端部に形成された対向する一対のピン取付ブラケット3102および3102aにロッド取付ピン3135により回動可能に取り付けられている。   Specifically, the polishing unit opening / closing mechanism 3130 includes an opening / closing cylinder 3131 that opens and closes the polishing unit 3100 by relatively rotating a pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b. The main body of the open / close cylinder 3131 is rotatably attached to mounting brackets 3132 and 3132a fixed to a rear end portion of a lower polishing portion block (polishing portion lower block) 3100a by a cylinder mounting pin 3133. The cylinder rod 3134 of the open / close cylinder 3131 is rotatably attached to a pair of opposed pin mounting brackets 3102 and 3102a formed at the rear end portion of the upper polishing block (upper polishing block) 3200b by a rod mounting pin 3135. It has been.

次に、移動手段3200について説明する。   Next, the moving unit 3200 will be described.

この実施形態3では、磨き部3100をワイヤロープRwに対して移動させる移動手段3200には、例えばウインチ車両が用いられており、以下、ウインチ車両3200という。
〔ウインチ車両3200〕
ウインチ車両3200は、磨き部3100を引っ張るウインチ部3200bと、ウインチ部3200bを搬送するための台車部3200aとを有する。
In the third embodiment, for example, a winch vehicle is used as the moving unit 3200 that moves the polishing unit 3100 with respect to the wire rope Rw, and is hereinafter referred to as a winch vehicle 3200.
[Winch vehicle 3200]
The winch vehicle 3200 has a winch part 3200b that pulls the polishing part 3100 and a carriage part 3200a for conveying the winch part 3200b.

なお、台車部3200aは、ウインチ部3200bを搭載するための台車本体Tbと、台車本体Tbを走らせるための走行部Rnとを有する。ここで、台車本体Tbは、車体筐体Thと車体筐体Th上に固定されたベース板Tpとを有する。走行部Rnは、車体筐体Thに回転可能に支持された前後の車輪Wf、Wrと、これらの車輪Wf、Wrに巻き付けられた環状ベルト体Rbと、環状ベルト体Rbをガイドするガイド車輪Wgとを有し、前後の車輪Wf、Wrの少なくとも一方が駆動輪となっている。環状ベルト体Rbは、無限軌道であり、例えばゴムクローラが用いられる。例えば、ここでは、後の車輪Wrが駆動輪、前の車輪Wfが従動輪となっている。   In addition, the trolley | bogie part 3200a has the trolley | bogie main body Tb for mounting the winch part 3200b, and the driving | running | working part Rn for making the trolley | bogie main body Tb run. Here, the cart body Tb includes a vehicle body casing Th and a base plate Tp fixed on the vehicle body casing Th. The traveling unit Rn includes front and rear wheels Wf and Wr rotatably supported by the vehicle body casing Th, an annular belt body Rb wound around these wheels Wf and Wr, and a guide wheel Wg for guiding the annular belt body Rb. And at least one of the front and rear wheels Wf, Wr is a drive wheel. The annular belt body Rb has an endless track, and for example, a rubber crawler is used. For example, here, the rear wheel Wr is a driving wheel, and the front wheel Wf is a driven wheel.

ウインチ部3200bは、5つの磨き部3100を引っ張るための5本の引張りワイヤPwと、5本の引張りワイヤPwを巻き取る巻取部3210と、磨き部3100と巻取部3210との間に配置され、5本の引張りワイヤPwが引っ張られる方向を変換する方向変換部3220と、巻取部3210および方向変換部3220を支持する支持構造3201と、巻取部3210を駆動する駆動モータ3206とを有する。   The winch portion 3200b is arranged between five pulling wires Pw for pulling the five polishing portions 3100, a winding portion 3210 for winding the five pulling wires Pw, and between the polishing portion 3100 and the winding portion 3210. A direction changing unit 3220 that changes the direction in which the five pulling wires Pw are pulled, a winding unit 3210 and a support structure 3201 that supports the direction changing unit 3220, and a drive motor 3206 that drives the winding unit 3210. Have.

支持構造3201は、台車本体Tbのベース板Tpに固定された支持柱3201aと、支持柱3201aの上端部に固定された支持アーム3201bとを有している。巻取部3210は、支持アーム3201bの一端とベース板Tpとの間に回転可能に支持された巻取軸3211と、巻取軸3211に固定された5つの巻取プーリ3212とを有する。方向変換部3220は、支持アーム3201bの他端とベース板Tpとの間に回転可能に支持された従動軸3221と、従動軸3221に固定された5つの従動プーリ3222とを有する。5本の引張りワイヤPwの各々の一端は、対応する磨き部3100のワイヤ結束部材Fwに結束され、引張りワイヤPwの他端は巻取部3210の対応する巻取プーリ3212に巻き付けられている。   The support structure 3201 has a support column 3201a fixed to the base plate Tp of the carriage main body Tb, and a support arm 3201b fixed to the upper end portion of the support column 3201a. The winding unit 3210 includes a winding shaft 3211 that is rotatably supported between one end of the support arm 3201b and the base plate Tp, and five winding pulleys 3212 fixed to the winding shaft 3211. The direction changing unit 3220 includes a driven shaft 3221 rotatably supported between the other end of the support arm 3201b and the base plate Tp, and five driven pulleys 3222 fixed to the driven shaft 3221. One end of each of the five pull wires Pw is bound to the wire binding member Fw of the corresponding polished portion 3100, and the other end of the pull wire Pw is wound around the corresponding take-up pulley 3212 of the take-up portion 3210.

ここで、巻取軸3211および従動軸3221にはそれぞれ、5つの磨き部3100の各々に対応するように巻取プーリ3212および従動プーリ3222が5つ取付けられているが、巻取プーリ3212および従動プーリ3222の個数は磨き部3100の個数に対応したものに限定されない。例えば、5つの磨き部3100を1つの引張りワイヤPwで引っ張る場合は、巻取軸3211に取り付ける巻取プーリ3212の個数、および従動軸3221に取り付ける従動プーリ3222の個数は1つであり、5つの磨き部3100を2つの引張りワイヤPwで引っ張る場合は、巻取軸3211に取り付ける巻取プーリ3212の個数、および従動軸3221に取り付ける従動プーリ3222の個数は2つである。   Here, five take-up pulleys 3212 and five driven pulleys 3222 are attached to the take-up shaft 3211 and the driven shaft 3221 so as to correspond to the five polished portions 3100, respectively. The number of pulleys 3222 is not limited to the number corresponding to the number of polishing parts 3100. For example, when the five polished portions 3100 are pulled by one pull wire Pw, the number of winding pulleys 3212 attached to the winding shaft 3211 and the number of driven pulleys 3222 attached to the driven shaft 3221 are one, When the polishing unit 3100 is pulled with two pull wires Pw, the number of winding pulleys 3212 attached to the winding shaft 3211 and the number of driven pulleys 3222 attached to the driven shaft 3221 are two.

ウインチ部3200bは、ウインチ部3200bをガイドポストGpに固定する固定機構と、引張りワイヤPwを引っ張ることにより生ずる反作用に対抗する突張機構3240とを有する。   The winch portion 3200b includes a fixing mechanism that fixes the winch portion 3200b to the guide post Gp, and a tension mechanism 3240 that counteracts a reaction caused by pulling the pull wire Pw.

以下、ウインチ部3200bの構造をさらに詳しく説明する。   Hereinafter, the structure of the winch portion 3200b will be described in more detail.

図27は、図23に示すウインチ車両3200のウインチ部3200bを具体的に示す斜視図であり、図27(a)は、ウインチ部3200bを図23と実質同じ方向から見た構造を示し、図27(b)は、ウインチ部3200bを図23に示すウインチ車両の裏側から見た構造を示し、図27(c)は、ウインチ部3200bを図23に示すウインチ車両の斜め下方から見た構造を示す。図28は、図27(a)に示すウインチ部3200aを説明するための平面図であり、図28(a)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをA44方向から見た構造を示し、図28(b)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをB44方向から見た構造を示し、図28(c)は、図27(a)に示すウインチ部3200bをC44方向から見た構造を示す。   FIG. 27 is a perspective view specifically showing the winch portion 3200b of the winch vehicle 3200 shown in FIG. 23, and FIG. 27 (a) shows the structure of the winch portion 3200b viewed from substantially the same direction as FIG. 27 (b) shows a structure in which the winch portion 3200b is viewed from the back side of the winch vehicle shown in FIG. 23, and FIG. 27 (c) shows a structure in which the winch portion 3200b is viewed from obliquely below the winch vehicle shown in FIG. Show. FIG. 28 is a plan view for explaining the winch portion 3200a shown in FIG. 27 (a), and FIG. 28 (a) shows a structure of the winch portion 3200b shown in FIG. 27 (a) viewed from the A44 direction. 28 (b) shows the structure of the winch portion 3200b shown in FIG. 27 (a) seen from the B44 direction, and FIG. 28 (c) shows the winch portion 3200b shown in FIG. 27 (a) seen from the C44 direction. The structure is shown.

ウインチ部3200bでは、駆動モータ3206の回転軸3206bに固定された駆動プーリ3206aと、巻取軸3211に固定された従動プーリ3208とが、駆動プーリ3206aの駆動力が従動プーリ3208に伝達されるようにVベルトなどの回転伝達ベルト3207により連結されている。   In the winch portion 3200b, the driving pulley 3206a fixed to the rotating shaft 3206b of the driving motor 3206 and the driven pulley 3208 fixed to the take-up shaft 3211 transmit the driving force of the driving pulley 3206a to the driven pulley 3208. And a rotation transmission belt 3207 such as a V belt.

ウインチ部3200bの固定機構3230は、台車本体Tbのベース板Tpの裏面側に固定された固定支柱3235と、固定支柱3235に取り付けられた固定板3231と、固定支柱3235に取り付けられ、ガイドポストGpを受けるポスト受け部3234と、固定板3231に支持ピン3233aにより回動可能に支持されたクランプアーム3233と、クランプアーム3233とポスト受け部3234とによりガイドポストGpが挟持されるようにクランプアーム3233を駆動するエアシリンダ3232とを有する。   The fixing mechanism 3230 of the winch portion 3200b includes a fixed column 3235 fixed to the back surface side of the base plate Tp of the carriage main body Tb, a fixed plate 3231 attached to the fixed column 3235, and a fixed column 3235. The guide post Gp Receiving post 3234, clamp arm 3233 rotatably supported by fixing plate 3231 with support pin 3233a, and clamp arm 3233 so that guide post Gp is sandwiched between clamp arm 3233 and post receiving portion 3234. And an air cylinder 3232 for driving the motor.

ウインチ部3200bの突張機構3240は、台車本体Tbのベース板Tpに固定された突張支柱3241と、突張支柱3241の上端部に固定された当接板3242とを有し、クランプアーム3233とポスト受け部3234とがガイドポストGpを挟持することによりウインチ部3200bがガイドポストGpに固定されたとき、当接板3242の先端がガイドポストGpに当接するように構成されている。このため、ウインチ部3200bが磨き部3100を引っ張るときに、引張りワイヤPwを引っ張ることにより生ずる反作用に対抗することができる。   The tension mechanism 3240 of the winch portion 3200b includes a tension column 3241 fixed to the base plate Tp of the cart body Tb, and a contact plate 3242 fixed to the upper end portion of the projection column 3241, and a clamp arm 3233. When the winch portion 3200b is fixed to the guide post Gp by sandwiching the guide post Gp with the post receiving portion 3234, the tip of the contact plate 3242 is configured to contact the guide post Gp. For this reason, when winch part 3200b pulls polish part 3100, it can counter the reaction which arises by pulling pull wire Pw.

さらに、巻取部3210を支持する支持機構3201の支持柱3201aと、突張機構3240の突張支柱3241とは、これらを連結する補強部材3205により補強されている。ただし、支持機構3201の支持柱3201aおよび突張機構3240の突張支柱3241の強度によっては、この補強部材3205はなくてもよい。   Further, the support column 3201a of the support mechanism 3201 that supports the winding unit 3210 and the projecting column 3241 of the projecting mechanism 3240 are reinforced by a reinforcing member 3205 that connects them. However, depending on the strength of the support column 3201a of the support mechanism 3201 and the extension column 3241 of the extension mechanism 3240, the reinforcing member 3205 may be omitted.

このウインチ車両3200は、バッテリを搭載しており、台車部3200aの車輪Wrを駆動する走行モータ(図示せず)および巻取部3210を駆動する駆動モータ3206にはバッテリからの電力が供給されるように構成されている。ただし、ウインチ車両3200はバッテリ駆動に限定されるものではない。ウインチ車両3200は、例えば、エンジン駆動の車両でもよい。   The winch vehicle 3200 is equipped with a battery, and power from the battery is supplied to a travel motor (not shown) that drives the wheels Wr of the carriage unit 3200a and a drive motor 3206 that drives the winding unit 3210. It is configured as follows. However, winch vehicle 3200 is not limited to battery driving. The winch vehicle 3200 may be an engine-driven vehicle, for example.

さらに、この実施形態3の磨き装置3000においても、実施形態2の磨き装置1000と同様に、コンプレッサからの圧縮空気が制御部を介して各磨き部3100の開閉シリンダ3131および固定機構3201のエアシリンダ3232に供給されるようになっている。コンプレッサは、ウインチ車両3200に搭載されていても、ウインチ車両3200とは別に設けられていてもよい。また、ウインチ車両3200には、バッテリ電力を各モータへ印加したり、コンプレッサの圧縮空気を各シリンダへ供給したりするための操作部(図示せず)が設けられている。ただし、ウインチ車両3200を操作するための操作部はウインチ車両3200と別に設けられていてもよく、例えば、操作部からの操作信号が無線通信によりウインチ車両3200に送信されるようにしてもよい。   Further, in the polishing apparatus 3000 of the third embodiment, similarly to the polishing apparatus 1000 of the second embodiment, the compressed air from the compressor receives an open / close cylinder 3131 of each polishing section 3100 and an air cylinder of the fixing mechanism 3201 via the control section. 3232 is supplied. The compressor may be mounted on the winch vehicle 3200 or provided separately from the winch vehicle 3200. In addition, the winch vehicle 3200 is provided with an operation unit (not shown) for applying battery power to each motor and supplying compressed air of the compressor to each cylinder. However, the operation unit for operating the winch vehicle 3200 may be provided separately from the winch vehicle 3200. For example, an operation signal from the operation unit may be transmitted to the winch vehicle 3200 by wireless communication.

〔磨き装置3000の使用方法およびその動作〕
次に実施形態3の磨き装置3000の使用方法およびその動作を説明する。
[Usage method and operation of polishing apparatus 3000]
Next, the usage method and operation of the polishing apparatus 3000 of Embodiment 3 will be described.

図29および図30は、本発明の実施形態3による磨き装置3000の使用方法および動作を説明するための図であり、図29は、磨き部3100を被処理物(ガードレールのワイヤロープ)に装着し、ウインチ車両をガードレールのポストEGpに固定した状態を示し、図30は、被処理物を磨く作業状態を示している。   FIG. 29 and FIG. 30 are diagrams for explaining how to use and operate the polishing apparatus 3000 according to the third embodiment of the present invention. FIG. 29 shows that the polishing unit 3100 is attached to an object to be processed (a wire rope of a guardrail). And the state which fixed the winch vehicle to the post EGp of a guardrail is shown, and FIG. 30 has shown the operation | work state which polishes a to-be-processed object.

例えば、図29に示すように、作業者がウインチ車両3200を操作部の操作により自走させて磨き終わり位置のガイドポスト(作業終了ポスト)EGpに隣接するように配置し、さらに作業終了ポストEGpがクランプアーム3233とポスト受け部3234との間に位置するようにウインチ車両3200を位置決めする。その後、図27(b)に示すように、操作部の操作により、固定機構3230のエアシリンダ3232を駆動すると、クランプアーム3233とポスト受け部3234とにより作業終了ポストEGpの下端部が挟持される。これにより、ウインチ車両3200が作業終了ポストEGpに固定される。このとき、ウインチ車両3200の突張機構3240の当接板3242の先端が作業終了ポストEGpの上端部に当接し、ワイヤロープRwをウインチ車両3200が引っ張るときの反作用によりウインチ車両3200が作業終了ポストEGp側に倒れるのが規制される。   For example, as shown in FIG. 29, the operator causes the winch vehicle 3200 to self-propell by operation of the operation unit and is disposed adjacent to the polishing post end guide post (work end post) EGp, and further, the work end post EGp. The winch vehicle 3200 is positioned so that is located between the clamp arm 3233 and the post receiving portion 3234. Thereafter, as shown in FIG. 27B, when the air cylinder 3232 of the fixing mechanism 3230 is driven by the operation of the operation unit, the lower end portion of the work end post EGp is clamped by the clamp arm 3233 and the post receiving unit 3234. . Thereby, the winch vehicle 3200 is fixed to the work end post EGp. At this time, the tip of the abutment plate 3242 of the projection mechanism 3240 of the winch vehicle 3200 comes into contact with the upper end portion of the work end post EGp, and the winch vehicle 3200 is operated by the reaction when the winch vehicle 3200 pulls the wire rope Rw. It is regulated to fall to the EGp side.

一方、磨き始め位置のガイドポスト(作業開始ポスト)SGpのできるだけ近くに位置するように、ガードレールの5つのワイヤロープRwのそれぞれに磨き部3100を取り付ける。   On the other hand, the polishing portion 3100 is attached to each of the five wire ropes Rw of the guardrail so as to be positioned as close as possible to the guide post (work start post) SGp at the polishing start position.

この場合、磨き部3100をワイヤロープRwに取り付ける前に、予め、操作部の操作により、コンプレッサ(図示せず)からの圧縮空気を各磨き部3100の磨き部開閉機構3130に供給して磨き部3100の一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bをこれらが開いた状態に保持しておく。そして、各ワイヤロープRwに磨き部3100をその一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bの間にワイヤロープRwが位置するように被せ、その状態で、操作部の操作により磨き部開閉機構3130を駆動して一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bを閉じる(図29)。これにより、磨き装置3000では、上下の磨き部ブロック3100aおよび3100bの針布の先端がワイヤロープRwの外周面に密着した状態となる。   In this case, before attaching the polishing unit 3100 to the wire rope Rw, the compressed air from the compressor (not shown) is supplied in advance to the polishing unit opening / closing mechanism 3130 of each polishing unit 3100 by operating the operation unit. A pair of polished unit blocks 3100a and 3100b of 3100 are held in an open state. Then, the polishing portion 3100 is placed on each wire rope Rw so that the wire rope Rw is positioned between the pair of polishing portion blocks 3100a and 3100b, and in this state, the polishing portion opening / closing mechanism 3130 is driven by operating the operation portion. Then, the pair of polished portion blocks 3100a and 3100b are closed (FIG. 29). Thereby, in the polisher 3000, the tips of the upper and lower polisher blocks 3100a and 3100b are in contact with the outer peripheral surface of the wire rope Rw.

この状態で、駆動モータ3206を動作させると、駆動モータ3206の回転力が、その回転軸3206に固定された駆動プーリ3206a、回転伝達ベルト3207、従動プーリ3208、巻取軸3211に伝達され、巻取プーリ3212が回転する。これにより、磨き部3100のワイヤフックFwに結束されている引張りワイヤPwが巻取プーリ3212によって巻き取られることとなって磨き部3100が作業終了ポストEGp側に引っ張られる。これにより磨き部3100はその内側に装着されている針布の先端をワイヤロープRwの外周面を擦り付けながら移動することとなり、ワイヤロープRwの表面が磨き部3100によって磨かれる。   When the drive motor 3206 is operated in this state, the rotational force of the drive motor 3206 is transmitted to the drive pulley 3206a, the rotation transmission belt 3207, the driven pulley 3208, and the take-up shaft 3211 fixed to the rotation shaft 3206. The take pulley 3212 rotates. As a result, the pull wire Pw bound to the wire hook Fw of the polishing unit 3100 is taken up by the take-up pulley 3212 and the polishing unit 3100 is pulled toward the work end post EGp. As a result, the polishing unit 3100 moves while rubbing the outer peripheral surface of the wire rope Rw on the tip of the cloth cloth mounted on the inner side, and the surface of the wire rope Rw is polished by the polishing unit 3100.

このように磨き部3100が引張りワイヤPwにより引っ張られると、ウインチ車両3200はその反作用として引張りワイヤPwから作業開始ポストSGp側に引っ張られるが、ウインチ車両3200は、固定機構3230により作業終了ポストEGpに固定されているので、引張りワイヤPwからの反作用によって作業開始ポストSGp側に移動することはない。しかも、巻取プーリ3212が引張りワイヤPwを引っ張る方向は、方向変換部3220の従動プーリ3222によって、引張りワイヤPwが磨き部3100を引っ張る方向とは直交する方向に変換されているので、引張りワイヤPwが磨き部3100を引っ張るときの反作用は、ワイヤロープRwの延びる方向とは直交する方向に分散される。このため、ウインチ車両3200が作業開始ポストSGp側に引っ張られるのが抑制される。   When the polished portion 3100 is pulled by the pull wire Pw in this way, the winch vehicle 3200 is pulled from the pull wire Pw to the work start post SGp side as a reaction thereof, but the winch vehicle 3200 is moved to the work end post EGp by the fixing mechanism 3230. Since it is fixed, it does not move to the work start post SGp side due to the reaction from the pull wire Pw. In addition, the direction in which the take-up pulley 3212 pulls the pulling wire Pw is changed by the driven pulley 3222 of the direction changing portion 3220 to a direction orthogonal to the direction in which the pulling portion 3100 pulls the polishing wire 3100. The reaction when pulling the polished portion 3100 is dispersed in a direction perpendicular to the direction in which the wire rope Rw extends. For this reason, it is suppressed that the winch vehicle 3200 is pulled to the work start post SGp side.

また、巻取プーリ3212がワイヤロープRwを引っ張る方向を、ワイヤロープRwが磨き部3100を引っ張る方向と直交する方向としたことから、ウインチ車両3200は引張りワイヤPwからの反作用によってガードレールであるワイヤロープRwに近づく方向に引っ張られる。しかしながら、突張機構3240の当接片3242が作業終了ポストEGpの上端部に当接しているので、ウインチ車両3200が引張りワイヤPwによってワイヤロープRw側に引っ張られても、作業終了ポストEGpに対する突張機構3240の突っ張りにより、ウインチ車両3200が作業終了ポストEGp側に引き寄せられたり倒れ込んだりするのを阻止できる。   Further, since the direction in which the winding pulley 3212 pulls the wire rope Rw is set to a direction orthogonal to the direction in which the wire rope Rw pulls the polishing portion 3100, the winch vehicle 3200 is a wire rope that is a guard rail due to a reaction from the pulling wire Pw. Pulled in a direction approaching Rw. However, since the abutting piece 3242 of the tension mechanism 3240 is in contact with the upper end portion of the work end post EGp, even if the winch vehicle 3200 is pulled to the wire rope Rw side by the pull wire Pw, the protrusion against the work end post EGp. By the tension of the tension mechanism 3240, it is possible to prevent the winch vehicle 3200 from being pulled toward the work end post EGp or to fall down.

このようにしてウインチ車両3200のウインチ部3200bが引張りワイヤPwを巻き取ることにより、5つのワイヤロープRwのそれぞれに装着された磨き部3100は、ワイヤロープRwに沿って作業開始ポストSGpの近傍から作業終了ポストEGpの近傍まで移動する。   In this way, the winch portion 3200b of the winch vehicle 3200 winds the pull wire Pw, so that the polishing portion 3100 attached to each of the five wire ropes Rw is located near the work start post SGp along the wire rope Rw. Move to the vicinity of the work end post EGp.

ところで、磨き部3100は一対の磨き部ブロック3100aおよび3100bによりワイヤロープRwを包み込むように挟持しているため、磨き部3100は、ワイヤロープRwの、作業終了ポストEGpにU字ボルトなどで固定されている部分を通り過ぎることはできない。このため、磨き部3100が作業終了ポストEGpの近傍まで移動してくると、駆動モータ3206を停止して磨き部3100をワイヤロープRwから一旦取り外し、ワイヤロープRwの、隣のポスト間部分Paに装着する。   By the way, since the polishing unit 3100 is sandwiched between the pair of polishing unit blocks 3100a and 3100b so as to wrap the wire rope Rw, the polishing unit 3100 is fixed to the work end post EGp of the wire rope Rw by a U-shaped bolt or the like. You can't pass through the part. For this reason, when the polishing unit 3100 moves to the vicinity of the work end post EGp, the drive motor 3206 is stopped, the polishing unit 3100 is once removed from the wire rope Rw, and the wire rope Rw is moved to the adjacent post portion Pa. Installing.

このように実施形態3の磨き装置3000では、ワイヤロープRwに取り付けられ、ワイヤロープRwを磨く内周面を有する磨き部3100と、ワイヤロープRwが磨き部3100の内周面により磨かれるように、磨き部3100を引張りワイヤPwにより引っ張ることにより磨き部3100をワイヤロープRwに対して移動させるウインチ車両3200とを備えているので、磨き部3100を一方向に移動させることで素早くワイヤロープRwを磨くことができる。   As described above, in the polishing apparatus 3000 according to the third embodiment, the polishing unit 3100 is attached to the wire rope Rw and has an inner peripheral surface for polishing the wire rope Rw, and the wire rope Rw is polished by the inner peripheral surface of the polishing unit 3100. The winch vehicle 3200 that moves the polishing unit 3100 with respect to the wire rope Rw by pulling the polishing unit 3100 with the pulling wire Pw is provided, so that the wire rope Rw can be quickly moved by moving the polishing unit 3100 in one direction. Can be polished.

このように、磨き部3100をワイヤロープRwに対して一方向に移動させてワイヤロープRwを磨く場合、実施形態2の磨き装置1000のように磨き部1200をワイヤロープRwに対して往復移動させながら磨く場合に比べて磨き部3100がワイヤロープRwの表面を移動する回数が少なくなるが、実施形態3の磨き装置3000による磨き上がりの状態は、実施形態2の磨き装置1000によるものと比べて、人が目視したときに遜色がない程度の仕上がり状態とすることができた。   In this way, when the polishing unit 3100 is moved in one direction with respect to the wire rope Rw to polish the wire rope Rw, the polishing unit 1200 is reciprocated with respect to the wire rope Rw as in the polishing apparatus 1000 of the second embodiment. However, the number of times that the polishing unit 3100 moves on the surface of the wire rope Rw is smaller than in the case of polishing, but the polished state by the polishing apparatus 3000 of the third embodiment is compared with that by the polishing apparatus 1000 of the second embodiment. It was possible to obtain a finished state that was not inferior when visually observed by a person.

また、磨き部3100は、内周面に囲まれたスペースにワイヤロープRwが導入されるように分割可能に構成されているので、ガードレールに用いられているワイヤロープRwに対してワイヤロープRwの横から挟み込むことにより磨き部3100をその内周面がワイヤロープRwの外周面に密着するように装着できる。   In addition, the polishing unit 3100 is configured to be separable so that the wire rope Rw is introduced into the space surrounded by the inner peripheral surface, so that the wire rope Rw of the wire rope Rw used for the guard rail is By sandwiching from the side, the polished portion 3100 can be mounted such that its inner peripheral surface is in close contact with the outer peripheral surface of the wire rope Rw.

また、ウインチ車両3200では、引張りワイヤPwが磨き部3100を引っ張る方向と直交する方向に巻取プーリ3212が引張りワイヤPwを引っ張るようにしているので、ウインチ車両3200は引張りワイヤPwからの反作用によってガードレールに近づく方向にも引っ張られるが、突張機構3240の当接片3242が作業終了ポストEGpの上端部に当接しているので、ウインチ車両3200が作業終了ポストEGp側に引き寄せられたり倒れ込んだりすることはない。   In the winch vehicle 3200, the take-up pulley 3212 pulls the pull wire Pw in a direction orthogonal to the direction in which the pull wire Pw pulls the polished portion 3100. Therefore, the winch vehicle 3200 has a guard rail due to a reaction from the pull wire Pw. However, since the abutment piece 3242 of the projection mechanism 3240 is in contact with the upper end portion of the work end post EGp, the winch vehicle 3200 is pulled toward the work end post EGp or falls down. There is no.

また、磨き部3100には、毛足が長くて柔らかい針布LNcが、毛足が短くて硬い針布SNcより移動方向の前方側に配置されているので、ワイヤロープRwの外周面を針布で磨くときに、抵抗があまり大きくならないようにして細かなサビまで効果的に落とすことができる。   Further, in the polishing portion 3100, a soft garment LNc with long bristles is arranged on the front side in the moving direction with respect to the short bristles and hard garments SNc. When polishing with, you can effectively drop fine rust without increasing resistance.

なお、上記実施形態3では、被処理物がガードレールに用いられる5本のワイヤロープRwであり、それぞれのワイヤロープRwに装着した5つの磨き部3100を引っ張って5本のワイヤロープRwを磨く場合を示したが、被処理物であるワイヤロープRwは5本に限定されず、例えば1本のワイヤロープRwであってもよい。   In Embodiment 3 described above, the object to be processed is five wire ropes Rw used for the guard rail, and the five wire ropes Rw are polished by pulling the five polishing portions 3100 attached to the respective wire ropes Rw. However, the number of wire ropes Rw to be processed is not limited to five, and may be one wire rope Rw, for example.

また、上記実施形態3では、磨き部3100を移動させる移動手段は、走行部を有するウインチ車両に搭載されているウインチ部である場合を示したが、磨き部3100を移動させる移動手段は、図23に示すウインチ車両3200のウインチ部3200bのみを備えた、走行部を有していないものでもよい。この場合、磨き部3100を移動させるウインチ部は、トラックや手押しの台車などの車両に乗せてガードポストGpの位置まで運搬され、ガードポストGpの位置で車両から降ろされ、固定機構3230によりガイドポストGpに対して固定されることとなる。さらには、磨き部3100を引っ張る手段はウインチ部(ウインチ)には限定されるものではなく、ワイヤロープRwなどの被処理物に取り付けた磨き部3100が被処理物を磨くように磨き部3100を引っ張ることによって磨き部3100を被処理物に対して移動させることができるものであればどのようなものでもよい。   In the third embodiment, the moving means for moving the polishing section 3100 is a winch section mounted on a winch vehicle having a traveling section. However, the moving means for moving the polishing section 3100 is shown in FIG. The thing which has only the winch part 3200b of the winch vehicle 3200 shown in FIG. In this case, the winch part for moving the polishing part 3100 is carried on a vehicle such as a truck or a hand truck, is transported to the position of the guard post Gp, is lowered from the vehicle at the position of the guard post Gp, and is guided by the fixing mechanism 3230. It will be fixed with respect to Gp. Further, the means for pulling the polishing part 3100 is not limited to the winch part (winch), and the polishing part 3100 attached to the object to be processed such as the wire rope Rw is used to polish the object to be processed. Any device can be used as long as the polishing unit 3100 can be moved relative to the workpiece by pulling.

また、上記実施形態3では、磨き装置3000として、巻取部が引張りワイヤPwを引っ張る方向を、磨き部3100の移動方向と直交する方向に変換するものを示したが、磨き装置3000は、巻取部が引張りワイヤPwを引っ張る方向を、方向変換部により磨き部3100の移動方向に直交する方向以外の方向に傾けるものでもよく、さらには、磨き装置3000は、巻取部が、磨き部3100の移動方向と一致した方向に引張りワイヤPwを引っ張るものでもよい。   In the third embodiment, as the polishing device 3000, the winding unit 3000 converts the direction in which the winding unit pulls the pulling wire Pw into a direction orthogonal to the moving direction of the polishing unit 3100. The direction in which the take-up portion pulls the pulling wire Pw may be inclined by a direction changing portion in a direction other than the direction perpendicular to the moving direction of the polishing portion 3100. Further, the polishing device 3000 has a winding portion that is a polishing portion 3100. The pulling wire Pw may be pulled in a direction coinciding with the moving direction.

また、上記実施形態3では、磨き装置3000として、針布を用いた磨き部3100を有するものを示したが、実施形態3の磨き装置3000は、針布に代えて、実施形態2の磨き部と同様に内巻ブラシを用いた磨き部を有するものでもよく、さらに針布の一部(例えば、毛足の長い針布および毛足の短い針布のうちの一方)を内巻ブラシに置き換えた磨き部を有するものでもよい。   Moreover, in the said Embodiment 3, what has the polishing part 3100 using a needle cloth was shown as the polishing apparatus 3000, However, The polishing apparatus 3000 of Embodiment 3 replaces with a needle cloth, and the polishing part of Embodiment 2 is shown. It may have a polished part using an inner winding brush as well as a part of the needle cloth (for example, one of the long and short bristle cloths) replaced with the inner brush. It may have a polished part.

さらに、実施形態1では、磨き装置100として、内巻ブラシを用いた磨き部100aを有するものを示し、実施形態2では、磨き装置1000として、内巻ブラシを用いた磨き部1200を有するものを示したが、実施形態1および実施形態2の磨き装置は、内巻ブラシに代えて針布を用いた磨き部を有するものでもよく、さらに、磨き装置の用途によっては内巻ブラシと針布とを併用した磨き部を有するものでもよい。被処理物を磨く磨き部材は、上述した内巻ブラシ、針布、およびこれらを組み合わせたものに限定されず、被処理物と磨き部材との相対移動により被処理物を磨くことができるものであればどのようなものでもよい。   Furthermore, in Embodiment 1, what has the polishing part 100a which used the inner winding brush as the polishing apparatus 100 is shown, and in Embodiment 2, what has the polishing part 1200 which uses the inner winding brush as the polishing apparatus 1000 is shown. Although shown, the polishing apparatus according to the first and second embodiments may have a polishing portion using a needle cloth instead of the inner winding brush. Further, depending on the application of the polishing apparatus, the inner winding brush and the needle cloth It may have a polished part that is used in combination. The polishing member for polishing the object to be processed is not limited to the above-described inner brush, needle cloth, and a combination thereof, and the object to be processed can be polished by relative movement between the object to be processed and the polishing member. Anything is acceptable.

また、実施形態2の磨き装置1000および実施形態3の磨き装置3000では、磨き部として、磨き部に取り付けられている内巻ブラシおよび針布が回転しない構造のものを示したが、これらの実施形態の磨き装置は、磨き部として、磨き部に取り付けられている内巻ブラシあるいは針布が回転するように構成されたものでもよい。その場合、必要に応じて、内巻ブラシあるいは針布への回転駆動力の印加を停止した後、分割可能に構成された内巻ブラシあるいは針布の分割面が、分割可能に構成された磨き部の分割面に対して所定の角度範囲の角度となるように内巻ブラシあるいは針布の回転を停止させるようにしてもよい。   Further, in the polishing apparatus 1000 of the second embodiment and the polishing apparatus 3000 of the third embodiment, as the polishing section, the inner winding brush and the needle cloth attached to the polishing section have a structure that does not rotate. The polishing apparatus of the form may be configured so that an inner brush or a needle cloth attached to the polishing section rotates as the polishing section. In that case, if necessary, after the application of the rotational driving force to the inner winding brush or the cloth is stopped, the inner winding brush or the cloth dividing surface configured to be separable is polished to be separable. You may make it stop rotation of an inner-wound brush or a cloth so that it may become an angle of a predetermined angle range with respect to the division surface of a part.

また、上記実施形態3では、針布ホルダ3111は大径部3111aと小径部3111bとを有し、内径が2段に変化したものを示しているが、針布ホルダ3111は、その内径が上述したように2段に変化したものに限定されるものではない。例えば、針布ホルダ3111は、内径が3段以上に変化したものでもよい。さらに、針布ホルダ3111は、その内径が段階的に変化するものに限定されず、その内径が連続的に変化したものでもよいし、あるいは内径が変化しないものでもよい。   In the third embodiment, the cloth holder 3111 has a large-diameter portion 3111a and a small-diameter portion 3111b, and the inner diameter is changed in two steps. The needle cloth holder 3111 has the inner diameter described above. It is not limited to what changed into two steps as it was. For example, the cloth holder 3111 may have an inner diameter that is changed to three or more stages. Further, the needle cloth holder 3111 is not limited to one whose inner diameter changes stepwise, and may be one whose inner diameter changes continuously, or one whose inner diameter does not change.

また、このように針布ホルダの内径を段階的あるいは連続的に変化させることにより、針布の毛足の長さを、針布ホルダの軸方向に段階的あるいは連続的に変化させる構成は、内巻きブラシが取り付けられた磨き部を有する実施形態1あるいは実施形態2の磨き装置にも適用できる。例えば、実施形態1の磨き装置100は、磨き部を、ブラシ収容スペース111aの内径が回転内巻きブラシの回転軸方向に沿って段階的あるいは連続的に変化するように構成し、回転内巻きブラシの毛足の長さを段階的あるいは連続的に変化させたものでもよい。さらに、実施形態2の磨き装置1000は、磨き部を、ブラシ収容ケース211の内径が磨き装置の移動方向に沿って段階的あるいは連続的に変化するように構成し、半円状内巻きブラシの毛足の長さを段階的あるいは連続的に変化させたものでもよい。   Further, by changing the inner diameter of the needle cloth holder stepwise or continuously, the length of the bristle of the needle cloth is changed stepwise or continuously in the axial direction of the needle cloth holder. The present invention can also be applied to the polishing apparatus according to the first or second embodiment having a polishing portion to which an inner winding brush is attached. For example, in the polishing apparatus 100 of the first embodiment, the polishing unit is configured such that the inner diameter of the brush housing space 111a changes stepwise or continuously along the rotation axis direction of the rotating inner winding brush, and the rotating inner winding brush The length of the hair feet may be changed stepwise or continuously. Further, in the polishing apparatus 1000 of the second embodiment, the polishing portion is configured such that the inner diameter of the brush housing case 211 changes stepwise or continuously along the moving direction of the polishing apparatus. The length of the bristle foot may be changed stepwise or continuously.

以上のように、本発明の好ましい実施形態を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。   As mentioned above, although this invention has been illustrated using preferable embodiment of this invention, this invention should not be limited and limited to this embodiment. It is understood that the scope of the present invention should be construed only by the claims. It is understood that those skilled in the art can implement an equivalent range based on the description of the present invention and the common general technical knowledge from the description of specific preferred embodiments of the present invention. Patents, patent applications, and documents cited herein should be incorporated by reference in their entirety, as if the contents themselves were specifically described herein. Understood.

本発明は、磨き装置の分野において、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物への着脱に手間がかからず、被処理物を磨くための部材の構造も簡単である磨き装置を実現することができるものとして有用である。   In the field of polishing apparatus, the present invention can uniformly polish the surface of an object to be processed such as a wire rope, and is a member for polishing an object to be processed without taking time to attach to and detach from the object to be processed. It is useful as a device that can realize a polishing apparatus that has a simple structure.

本発明は、ワイヤロープなどの被処理物の表面を均一に研磨することができ、しかも被処理物に対する移動に伴って被処理物の表面を磨くことができ、被処理物を磨く動作を行うための構成が不要であり、被処理物を磨くための部材の構造も簡単にできる磨き装置を実現することができるものとして有用である。   The present invention can uniformly polish the surface of an object to be processed such as a wire rope, and can polish the surface of the object to be processed as it moves relative to the object to be processed. Therefore, the present invention is useful as a device capable of realizing a polishing apparatus that does not require a structure for the polishing, and that can simplify the structure of a member for polishing a workpiece.

10 ハウジング
10a 下半ハウジング
10b 上半ハウジング
20 駆動部
30 停止機構
30a 下側停止機構
30b 上側停止機構
60 ヒンジ機構
61a ヒンジ下フランジ
61b ヒンジ上フランジ
61c ハウジングヒンジピン
100、1000、3000 磨き装置
100a、1200、3100 磨き部
110 内巻回転ブラシ
110a、110b 半内巻回転ブラシ
1100 基部
1100a 基部上ブロック(基部ブロック)
1100b 基部下ブロック(基部ブロック)
1130 基部開閉機構
1200a 磨き部上ブロック(磨き部ブロック)
1200b 磨き部下ブロック(磨き部ブロック)
1230 磨き部開閉機構
1300 移動手段
3200 移動手段(ウインチ車両)
3200a ウインチ部
3210 巻取部
3220 方向変換部
Wb ブラシの毛
G ピン案内溝
Gp ガイドポスト
H ピン係合穴
LNp、SNp 針布
Pw 引張りワイヤ
Rw ワイヤロープ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Housing 10a Lower half housing 10b Upper half housing 20 Drive part 30 Stop mechanism 30a Lower stop mechanism 30b Upper stop mechanism 60 Hinge mechanism 61a Hinge lower flange 61b Hinge upper flange 61c Housing hinge pin 100, 1000, 3000 Polishing apparatus 100a, 1200, 3100 Polishing part 110 Inner winding rotary brush 110a, 110b Half inner winding rotary brush 1100 Base 1100a Base upper block (base block)
1100b Base lower block (base block)
1130 Base opening / closing mechanism 1200a Polishing part upper block (Polishing part block)
1200b Polishing sub-block (Polishing block)
1230 Polishing part opening / closing mechanism 1300 Moving means 3200 Moving means (winch vehicle)
3200a Winch part 3210 Winding part 3220 Direction changing part Wb Brush hair G Pin guide groove Gp Guide post H Pin engagement hole LNp, SNp Needle cloth Pw Pull wire Rw Wire rope

Claims (15)

被処理物を磨く磨き装置であって、
該被処理物を磨くための内周面を有する環状の磨き部材と、
該磨き部材を回転可能に保持するハウジングと、
該磨き部材に挿入された該被処理物が該磨き部材の回転により該磨き部材の内周面で磨かれるように該磨き部材に回転駆動力を印加する駆動部と
を備え、
該磨き部材および該ハウジングが開くように該磨き部材および該ハウジングがそれぞれ分割可能に構成された磨き装置。
A polishing apparatus for polishing a workpiece,
An annular polishing member having an inner peripheral surface for polishing the workpiece;
A housing for rotatably holding the polishing member;
A drive unit that applies a rotational driving force to the polishing member so that the workpiece inserted into the polishing member is polished on the inner peripheral surface of the polishing member by rotation of the polishing member;
A polishing apparatus in which the polishing member and the housing are configured to be separable so that the polishing member and the housing are opened.
前記駆動部が前記磨き部材への回転駆動力の印加を停止した後、前記ハウジングの分割面に対する該磨き部材の分割面の傾斜角が所定の角度範囲の角度となるように該磨き部材の回転を停止させる停止機構をさらに備えた請求項1に記載の磨き装置。   After the drive unit stops applying the rotational driving force to the polishing member, the polishing member is rotated so that the inclination angle of the dividing surface of the polishing member with respect to the dividing surface of the housing becomes an angle within a predetermined angle range. The polishing apparatus according to claim 1, further comprising a stop mechanism that stops the operation. 前記停止機構は、前記磨き部材の分割面が前記ハウジングの分割面と一致するように該磨き部材の回転を停止させるように構成されている請求項2に記載の磨き装置。   The polishing apparatus according to claim 2, wherein the stop mechanism is configured to stop the rotation of the polishing member such that the dividing surface of the polishing member coincides with the dividing surface of the housing. 前記停止機構は、
前記磨き部材の複数の分割片の各々を前記ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定する固定手段を有し、該固定手段により該磨き部材の複数の分割片の各々が該ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定されることにより該磨き部材の回転が停止するよう構成されている請求項2または請求項3に記載の磨き装置。
The stop mechanism is
Fixing means for fixing each of the plurality of divided pieces of the polishing member to any one of the plurality of divided pieces of the housing, and each of the plurality of divided pieces of the polishing member is fixed to the plurality of pieces of the housing by the fixing means. The polishing apparatus according to claim 2 or 3, wherein the polishing apparatus is configured to stop the rotation of the polishing member by being fixed to one of the divided pieces.
前記固定手段は、
前記ハウジング内の前記磨き部材が配置されているスペースに出没可能に該ハウジングに取り付けられた複数の係合ピンと、
該磨き部材の複数の分割片の各々に該係合ピンと係合可能となるように形成された係合孔と、
該係合ピンを該スペースに出現させることにより、該磨き部材の複数の分割片の各々が該ハウジングの複数の分割片のいずれかに固定されるように該係合ピンを該係合孔に係合させ、該係合ピンを該スペースから退避させることにより該係合ピンと該係合孔との係合を解除する係合および係合解除手段と
を有する、請求項4に記載の磨き装置。
The fixing means includes
A plurality of engaging pins attached to the housing so as to be capable of appearing and retracting in a space in the housing where the polishing member is disposed;
An engagement hole formed in each of the plurality of divided pieces of the polishing member so as to be engageable with the engagement pin;
By causing the engagement pin to appear in the space, the engagement pin is inserted into the engagement hole so that each of the plurality of divided pieces of the polishing member is fixed to one of the plurality of divided pieces of the housing. The polishing apparatus according to claim 4, further comprising engagement and disengagement means for releasing engagement between the engagement pin and the engagement hole by engaging and retracting the engagement pin from the space. .
前記係合孔は、前記磨き部材の回転軸と垂直な側面に形成されており、
該側面には、前記係合ピンを該係合孔に導く傾斜溝が、該磨き部材の回転方向に沿って該係合孔に近づくにつれて深くなるように形成されている、請求項5に記載の磨き装置。
The engagement hole is formed on a side surface perpendicular to the rotation axis of the polishing member,
The inclined groove that guides the engagement pin to the engagement hole is formed on the side surface so as to become deeper as it approaches the engagement hole along the rotation direction of the polishing member. Polishing equipment.
前記ハウジングは、該ハウジングを二分する一対の分割片により構成され、
前記磨き装置は、
該ハウジングの一対の分割片の一方および他方を回転可能に接続するヒンジ部材を備え、
該ハウジングの一対の分割片の一方および他方の相対的な回転により、該ハウジングが開いた状態と該ハウジングが閉じた状態とが切り替えられるように構成されている、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の磨き装置。
The housing is constituted by a pair of divided pieces that bisect the housing,
The polishing apparatus is
A hinge member rotatably connecting one and the other of the pair of split pieces of the housing;
7. The structure according to claim 1, wherein the housing is configured to be switched between an open state and a closed state by the relative rotation of one and the other of the pair of split pieces of the housing. The polishing apparatus as described in any one of Claims.
前記磨き部材は、内巻きブラシおよび針布の少なくとも一方を有し、該内巻きブラシのブラシ先端および該針布の針先の少なくとも一方が該磨き部材の前記内周面を形成している、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の磨き装置。   The polishing member has at least one of an inner winding brush and a needle cloth, and at least one of a brush tip of the inner winding brush and a needle tip of the needle cloth forms the inner peripheral surface of the polishing member. The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 7. 被処理物を磨く磨き装置であって、
該被処理物を磨くための内周面を有し、該内周面に囲まれたスペースに該被処理物が導入されるように分割可能に構成された磨き部と、
該被処理物が該磨き部の内周面により磨かれるように該磨き部を該被処理物に対して移動させる移動手段と
を備えた、磨き装置。
A polishing apparatus for polishing a workpiece,
A polishing portion having an inner peripheral surface for polishing the object to be processed, and configured to be divided so that the object to be processed is introduced into a space surrounded by the inner peripheral surface;
A polishing apparatus comprising: moving means for moving the polishing portion relative to the processing object so that the processing object is polished by the inner peripheral surface of the polishing portion.
前記移動手段は、前記磨き部が前記被処理物に対して移動するように該磨き部を引っ張る引張り手段である、請求項9に記載の磨き装置。   The polishing apparatus according to claim 9, wherein the moving unit is a pulling unit that pulls the polishing unit so that the polishing unit moves relative to the workpiece. 前記引張り手段は、
前記磨き部に接続されたワイヤと、
該ワイヤを巻き取る巻取部と、
該巻取部が該ワイヤを引っ張る方向を、該磨き部を移動させる方向とは異なる方向に変換する方向変換部と
を備えた、請求項10に記載の磨き装置。
The tension means is
A wire connected to the polishing section;
A winding unit for winding the wire;
The polishing apparatus according to claim 10, further comprising: a direction changing unit that converts a direction in which the winding unit pulls the wire into a direction different from a direction in which the polishing unit is moved.
前記磨き装置は、
前記被処理物に移動可能に取り付けられ、該被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成された基部と、
前記磨き部および該基部を制御する制御部と
をさらに備え、
該磨き部は、該被処理物に移動可能に取り付けられ、該被処理物との摩擦抵抗を調整可能に構成されており、
前記移動手段は、該基部と該磨き部とを相対的に移動させるように構成されており、
該制御部は、該基部および該磨き部での摩擦抵抗の調整および該移動手段による相対移動を制御するよう構成されており、
該制御部は、該基部を該被処理物に対して移動させず、該磨き部を該被処理物に対して移動させることにより、該磨き部が該被処理物を磨く磨きモードと、該磨き部を該被処理物に対して移動させず、該基部を該被処理物に対して移動させることにより、該基部が移動する移動モードとを該摩擦抵抗の調整および該移動手段の制御により切り換えるよう構成されている、請求項9に記載の磨き装置。
The polishing apparatus is
A base that is movably attached to the object to be processed and configured to be capable of adjusting a frictional resistance with the object;
And further comprising a control part for controlling the polishing part and the base part,
The polishing portion is movably attached to the object to be processed, and is configured to be capable of adjusting the frictional resistance with the object to be processed.
The moving means is configured to relatively move the base portion and the polishing portion,
The control unit is configured to control adjustment of frictional resistance at the base and the polishing unit and control relative movement by the moving unit,
The control unit does not move the base with respect to the object to be processed, and moves the polishing part with respect to the object to be processed, so that the polishing unit polishes the object to be processed, and the polishing mode. By moving the base relative to the workpiece without moving the polishing portion relative to the workpiece, the movement mode in which the base moves is adjusted by adjusting the frictional resistance and controlling the moving means. The polishing apparatus according to claim 9, wherein the polishing apparatus is configured to switch.
前記制御部は、
前記磨きモードでは、該基部と該磨き部との相対移動により該被処理物に対して該磨き部が相対的に移動するよう、該基部と該被処理物との摩擦抵抗を該磨き部と該被処理物との摩擦抵抗より大きく設定し、
前記移動モードでは、該基部と該磨き部との相対移動により該被処理物に対して該基部が相対的に移動するよう、該基部と該被処理物との摩擦抵抗を該磨き部と該被処理物との摩擦抵抗より小さく設定する、請求項12に記載の磨き装置。
The controller is
In the polishing mode, the frictional resistance between the base and the object to be processed is set so that the polishing part moves relative to the object to be processed by the relative movement between the base and the polishing part. Set larger than the frictional resistance with the workpiece,
In the movement mode, the frictional resistance between the base and the object to be processed is set so that the base moves relative to the object by the relative movement between the base and the polishing part. The polishing apparatus according to claim 12, wherein the polishing apparatus is set to be smaller than a frictional resistance with a workpiece.
前記基部は、前記被処理物を挟持するための一対の基部ブロックと、該一対の基部ブロックが該被処理物を挟持することにより、該基部と前記磨き部との相対移動の際に該基部が該被処理物に対して移動しない不動状態となり、該一対の基部ブロックが該被処理物を開放することにより該基部と該磨き部との相対移動の際に該基部が該被処理物に対して移動可能な可動状態となるように該一対の基部ブロックを駆動する基部駆動部とを有し、
該磨き部は、一対の磨き部ブロックと、該一対の磨き部ブロック内に収容された磨き部材と、該一対の磨き部ブロックに収容された該磨き部材が該被処理物に圧接するように該一対の磨き部ブロックを駆動する磨き部駆動部とを有し、該基部の不動状態では、該基部と該磨き部との相対移動の際に該磨き部が該被処理物に対して移動し、該基部の可動状態では、該基部と該磨き部との相対移動の際に該磨き部が該被処理物に対して移動しないように構成されている、請求項13に記載の磨き装置。
The base includes a pair of base blocks for sandwiching the object to be processed, and the pair of base blocks sandwiching the object to be processed so that the base and the polished part are moved relative to each other. Is moved in a non-moving state with respect to the object to be processed, and the pair of base blocks release the object to be processed, so that the base part moves to the object to be processed when the base part and the polished part move relative to each other. A base drive unit that drives the pair of base blocks so as to be movable with respect to the base block;
The polishing section includes a pair of polishing section blocks, a polishing member housed in the pair of polishing section blocks, and the polishing member housed in the pair of polishing section blocks so as to press-contact the workpiece. A polishing unit driving unit that drives the pair of polishing unit blocks, and when the base is stationary, the polishing unit moves relative to the workpiece when the base and the polishing unit move relative to each other. The polishing apparatus according to claim 13, wherein the polishing unit is configured so that the polishing unit does not move relative to the workpiece when the base and the polishing unit are moved relative to each other when the base is movable. .
前記磨き部は、内巻きブラシおよび針布の少なくとも一方を有し、該内巻きブラシのブラシ先端および該針布の針先の少なくとも一方が該磨き部の該内周面を形成している、請求項9から請求項14のいずれか一項に記載の磨き装置。
The polishing portion has at least one of an inner winding brush and a needle cloth, and at least one of a brush tip of the inner winding brush and a needle tip of the needle cloth forms the inner peripheral surface of the polishing portion. The polishing apparatus according to any one of claims 9 to 14.
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