JP2016213282A - Peeling method of protective tape - Google Patents

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Toru Takazawa
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a peeling method of a protective tape capable of peeling a protective tape from a tabular workpiece easily and inexpensively, by using a hot melt adhesive.SOLUTION: A peeling method of a protective tape for peeling a protective tape, stuck to the first surface of a tabular workpiece, from the tabular workpiece includes: a holding step of suction holding the first surface of the tabular workpiece and the second surface opposite thereto; an adhesive coating step of coating near the edge of the protective tape with heated hot melt adhesive following to the holding step; and a peeling step of pulling the hot melt adhesive hardening and adhering to the protective tape, following to the adhesive coating step, and then peeling the protective tape from the tabular workpiece.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、半導体ウェーハ等の板状被加工物の第1の面(表面)に貼着された保護テープを剥離する保護テープの剥離方法に関する。   The present invention relates to a protective tape peeling method for peeling a protective tape attached to a first surface (front surface) of a plate-like workpiece such as a semiconductor wafer.

半導体デバイス製造プロセスでは、シリコン等からなる半導体ウェーハの表面に複数のデバイスを形成後、半導体ウェーハの裏面側を研削して所定の厚みに薄化し、その後半導体ウェーハを個々のデバイスチップに分割する工程が一般的である。   In the semiconductor device manufacturing process, after forming a plurality of devices on the surface of a semiconductor wafer made of silicon or the like, the back side of the semiconductor wafer is ground and thinned to a predetermined thickness, and then the semiconductor wafer is divided into individual device chips. Is common.

半導体ウェーハ(以下、単にウェーハと称することがある)の裏面研削時にはデバイス面を保護するために、ウェーハのデバイス面側に保護テープを貼着し、保護テープを介して研削装置のチャックテーブルでウェーハを吸引保持し、ウェーハの裏面研削を実施する。   In order to protect the device surface during backside grinding of a semiconductor wafer (hereinafter sometimes referred to simply as a wafer), a protective tape is attached to the device surface side of the wafer, and the wafer is placed on the chuck table of the grinding device via the protective tape. Is sucked and held, and the back surface of the wafer is ground.

ウェーハをデバイスチップに分割する工程は、切削装置によるブレードダイシングや、レーザー加工装置によるレーザーダイシング等により実施されるが、ダイシングを実施する前に外周部が環状フレームに貼着されたダイシングテープに研削されたウェーハの裏面側を貼着してフレームユニットを構成する。   The process of dividing the wafer into device chips is performed by blade dicing with a cutting device, laser dicing with a laser processing device, etc., but before dicing, the outer periphery is ground to a dicing tape attached to an annular frame. A frame unit is configured by pasting the back side of the wafer.

従って、ウェーハの研削工程から分割工程に移る際には、ウェーハの裏面に外周部が環状フレームに装着されたダイシングテープを貼着し、ウェーハの表面に貼着されている保護テープを剥離する必要がある。   Therefore, when moving from the wafer grinding process to the dividing process, it is necessary to attach a dicing tape with an outer peripheral part attached to the annular frame on the backside of the wafer and peel off the protective tape attached to the wafer surface. There is.

保護テープをウェーハから剥離する従来の方法としては、保護テープに剥離テープを熱圧着し、剥離テープを引っ張って保護テープをウェーハから剥離する方法が、特開2011−086772号公報に開示されている。   As a conventional method for peeling off the protective tape from the wafer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-086772 discloses a method in which the peeling tape is thermocompression bonded to the protective tape and the peeling tape is pulled to peel off the protective tape from the wafer. .

ウェーハの裏面に貼着された保護テープを剥離する他の方法として、第1の半導体ウェーハから剥離した第1の保護テープを用意し、第2の半導体ウェーハに貼着された第2の保護テープに該第1の保護テープを重ね合わせ、第1の保護テープと第2の保護テープが重なった箇所を超音波溶着して、第1の保護テープを引っ張ることで第2の半導体ウェーハから第2の保護テープを剥離する保護テープの剥離方法が特許第4823383号公報に記載されている。   As another method for peeling off the protective tape attached to the back surface of the wafer, a first protective tape peeled from the first semiconductor wafer is prepared, and the second protective tape attached to the second semiconductor wafer is prepared. The first protective tape is overlapped with the first protective tape, the portion where the first protective tape and the second protective tape overlap each other is ultrasonically welded, and the first protective tape is pulled to pull the second protective wafer from the second semiconductor wafer. Japanese Patent No. 4823383 discloses a method for removing a protective tape for removing the protective tape.

特開2011−086772号公報JP 2011-086772 A 特許第4823383号公報Japanese Patent No. 4823383

しかし、特許文献1に開示された保護テープの剥離方法では、剥離テープが使い捨てであるため、剥離テープのコストがかかってしまうという課題がある。   However, in the peeling method of the protective tape disclosed by patent document 1, since the peeling tape is disposable, there exists a subject that the cost of a peeling tape will start.

また、特許文献2に開示された保護テープの剥離方法では、保護テープの糊(粘着剤)の影響を受けて第1の保護テープと第2の保護テープが十分に溶着されないという問題がある他、溶着に必要な圧力で薄く研削されたウェーハを割ってしまう、ウェーハになるべく高温を掛けたくない等の問題が残っている。   Moreover, in the peeling method of the protective tape disclosed in Patent Document 2, there is a problem that the first protective tape and the second protective tape are not sufficiently welded due to the influence of the adhesive (adhesive) of the protective tape. However, there are still problems such as breaking a thinly ground wafer with a pressure required for welding, and avoiding applying a high temperature as much as possible.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ホットメルト接着剤を利用することで安価に且つ容易に保護テープを板状被加工物から剥離可能な保護テープの剥離方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above points, and the object of the present invention is to provide a protection capable of easily and easily peeling a protective tape from a plate-like workpiece by using a hot melt adhesive. It is to provide a tape peeling method.

本発明によると、板状被加工物の第1の面に貼着された保護テープを板状被加工物から剥離する保護テープの剥離方法であって、板状被加工物の該第1の面と反対側の第2の面側を保持テーブルの保持面で吸引保持する保持ステップと、該保持ステップを実施した後、加熱したホットメルト接着剤を該保護テープの周縁近傍に塗布する接着剤塗付ステップと、該接着剤塗付ステップを実施した後、硬化して該保護テープに接着した該ホットメルト接着剤を引っ張り、該保護テープを板状被加工物から剥離する剥離ステップと、を備えたことを特徴とする保護テープの剥離方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a protective tape peeling method for peeling a protective tape attached to a first surface of a plate-like workpiece from the plate-like workpiece, the first of the plate-like workpiece. A holding step of sucking and holding the second surface side opposite to the surface with the holding surface of the holding table, and an adhesive for applying a heated hot melt adhesive to the vicinity of the periphery of the protective tape after performing the holding step After performing the application step and the adhesive application step, pulling the hot melt adhesive that has been cured and adhered to the protective tape, and separating the protective tape from the plate-like workpiece, Provided is a method for peeling off a protective tape characterized by comprising the above.

好ましくは、保護テープの剥離方法は、該接着剤塗付ステップを実施した後で該剥離ステップを実施する前に、該ホットメルト接着剤に剥離手段を接着する剥離手段接着ステップを更に備え、該剥離ステップでは、該剥離手段を引っ張って該保護テープを板状被加工物から剥離する。   Preferably, the method for peeling off the protective tape further comprises a peeling means bonding step for bonding a peeling means to the hot melt adhesive after performing the adhesive application step and before performing the peeling step, In the peeling step, the peeling means is pulled to peel the protective tape from the plate-like workpiece.

好ましくは、該剥離手段は、該保持テーブルの該保持面と平行な回転軸を有する回転ローラを含む。   Preferably, the peeling means includes a rotating roller having a rotating shaft parallel to the holding surface of the holding table.

好ましくは、保護テープの剥離方法は、該保持ステップを実施する前に、板状被加工物の該第2の面に粘着テープを貼着する粘着テープ貼着ステップを更に備え、該保持ステップでは、該粘着テープを介して板状被加工物を該保持テーブルで保持する。   Preferably, the protective tape peeling method further includes an adhesive tape attaching step of attaching an adhesive tape to the second surface of the plate-shaped workpiece before the holding step is performed. The plate-like workpiece is held by the holding table via the adhesive tape.

本発明の保護テープの剥離方法によると、保護テープに塗布して硬化させたホットメルト接着剤を引っ張ることで剥離起点を形成することができ、板状被加工物を傷つけることなく保護テープを容易に且つ確実に板状物被加工物から剥離することができる。   According to the method for peeling a protective tape of the present invention, a peeling start point can be formed by pulling a hot melt adhesive applied and cured on the protective tape, and the protective tape can be easily formed without damaging the plate-like workpiece. And reliably peel from the workpiece.

剥離テープに比較して非常に安いコストで入手できるホットメルト接着剤を利用することで、低コストで保護テープを剥離することができる。また、ホットメルト接着剤に剥離手段を接着させれば、剥離手段を引っ張ることで保護テープを板状被加工物から容易に剥離することができる。   The protective tape can be peeled at a low cost by using a hot melt adhesive that is available at a very low cost compared to the peeling tape. Further, if the peeling means is bonded to the hot melt adhesive, the protective tape can be easily peeled from the plate-like workpiece by pulling the peeling means.

保持ステップを示す斜視図である。It is a perspective view which shows a holding | maintenance step. 図2(A)は接着剤塗付ステップを示す斜視図、図2(B)は接着剤塗付ステップを示す断面図である。FIG. 2A is a perspective view showing an adhesive application step, and FIG. 2B is a cross-sectional view showing the adhesive application step. 剥離ステップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a peeling step. 接着剤塗付ステップの第2実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of an adhesive agent coating step. 剥離ステップ実施後の斜視図である。It is a perspective view after peeling step implementation. 保持ステップの第2実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows 2nd Embodiment of a holding | maintenance step.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、第1実施形態の保持ステップを示す斜視図が示されている。板状被加工物の一種である半導体ウェーハ(以下、単にウェーハと略称することがある)11の第1の面(表面)には、ウェーハ11の表面に形成された複数のデバイスを保護するために保護テープ12が貼着されている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view showing a holding step of the first embodiment is shown. In order to protect a plurality of devices formed on the surface of the wafer 11, the first surface (front surface) of a semiconductor wafer 11 (hereinafter sometimes simply referred to as a wafer) 11, which is a kind of plate-like workpiece, is used. A protective tape 12 is attached to the surface.

保護テープ12としては、ポリエチレン塩化ビニル、ポリオレフィン等の基材の表面にアクリル系粘着層(糊層)を配設したものが一般的に用いられる。ここで、保護テープ12は紫外線の照射により粘着力が低減する紫外線硬化型テープであるのが好ましい。   As the protective tape 12, one in which an acrylic adhesive layer (glue layer) is provided on the surface of a base material such as polyethylene vinyl chloride or polyolefin is generally used. Here, the protective tape 12 is preferably an ultraviolet curable tape whose adhesive strength is reduced by irradiation of ultraviolet rays.

本実施形態の説明では、板状被加工物として半導体ウェーハ11を採用した例について説明したが、板状被加工物は半導体ウェーハ11に限られるものではなく、光デバイスウェーハ等の他のウェーハ、樹脂基板、セラミックス基板等の他の板状被加工物を含むものである。   In the description of the present embodiment, the example in which the semiconductor wafer 11 is employed as the plate-like workpiece has been described. However, the plate-like workpiece is not limited to the semiconductor wafer 11, and other wafers such as an optical device wafer, Other plate-like workpieces such as resin substrates and ceramic substrates are included.

図1及び図2に示すように、保持テーブル14上には粘着テープとしてのダイシングテープ16が吸引保持されており、本実施形態の保護テープの剥離方法では、ダイシングテープ16を介して表面に保護テープ12が貼着されたウェーハ11の裏面(第2の面)側を保持テーブル14の保持面で吸引保持する保持ステップを実施する。   As shown in FIGS. 1 and 2, a dicing tape 16 as an adhesive tape is sucked and held on the holding table 14. In the protective tape peeling method of this embodiment, the surface is protected via the dicing tape 16. A holding step is performed in which the back surface (second surface) side of the wafer 11 to which the tape 12 is adhered is sucked and held by the holding surface of the holding table 14.

保護テープ12をウェーハ11の表面に貼着した後、例えば研削装置のチャックテーブルで保護テープ12側を吸引保持してウェーハ11の裏面を露出させ、ウェーハ11の裏面を研削してウェーハ11を所定の厚みに薄化する裏面研削ステップを実施する。   After the protective tape 12 is attached to the front surface of the wafer 11, for example, the protective tape 12 side is sucked and held by a chuck table of a grinding device to expose the back surface of the wafer 11, and the back surface of the wafer 11 is ground to pre-determine the wafer 11 A back grinding step is performed to reduce the thickness of the back surface.

この裏面研削ステップを実施すると、保護テープ12は研削圧力によりウェーハ11の表面に押し付けられる。よって、保持テーブル14上に保持されたウェーハ11の表面に貼着された保護テープ12に紫外線を照射してその貼着力を低減しておくことが好ましい。   When this back grinding step is performed, the protective tape 12 is pressed against the surface of the wafer 11 by grinding pressure. Therefore, it is preferable to reduce the sticking force by irradiating the protective tape 12 stuck on the surface of the wafer 11 held on the holding table 14 with ultraviolet rays.

保持ステップを実施した後、図2に示すように、加熱したホットメルト接着剤20をグルーガン18により保護テープ12の周縁近傍に塗布する接着剤塗付ステップを実施する。ここで、ホットメルト接着剤20とは、熱(例えば80−100℃)を掛けて溶かして接着させる接着剤であり、加熱する前は固体である。材質としては、エチレン酢酸ビニル(EVA)やポリオレフィンのような熱可塑性樹脂が用いられる。加熱して塗付した後素早く硬化して接着力を発揮する。   After performing the holding step, as shown in FIG. 2, an adhesive application step of applying the heated hot melt adhesive 20 to the vicinity of the periphery of the protective tape 12 by the glue gun 18 is performed. Here, the hot melt adhesive 20 is an adhesive that is melted and bonded by applying heat (for example, 80 to 100 ° C.), and is solid before heating. As a material, a thermoplastic resin such as ethylene vinyl acetate (EVA) or polyolefin is used. After applying by heating, it cures quickly and exerts adhesive strength.

ホットメルト接着剤は、スティック(棒)状、ペレット(粒)状、シート状として提供される。スティック状のものを使用するためのツールをグルーガン18といい、グルーガン18内には常温では固体であるホットメルト接着剤を熱するためのヒーターが内蔵されている。   The hot melt adhesive is provided as a stick (bar) shape, a pellet (grain) shape, or a sheet shape. A tool for using a stick-like tool is called a glue gun 18, and a heater for heating a hot melt adhesive that is solid at room temperature is built in the glue gun 18.

本実施形態の接着剤塗付ステップでは、保護テープ12の外周縁ぎりぎりの箇所に塗布することが重要であり、塗布する箇所が内側過ぎると剥離起点が形成できず、硬化したホットメルト接着剤20を引っ張ると保護テープ12から剥がれてしまう恐れがある。好ましくは、グルーガン18で塗付するホットメルト接着剤20は、1回に付き0.02〜0.2g程度塗布する。   In the adhesive application step of the present embodiment, it is important to apply to the edge of the protective tape 12 at the edge of the outer periphery. If the applied area is too inside, a peeling start point cannot be formed, and the cured hot melt adhesive 20 If it is pulled, the protective tape 12 may be peeled off. Preferably, the hot melt adhesive 20 applied with the glue gun 18 is applied in an amount of about 0.02 to 0.2 g per time.

ウェーハ11の外周縁近傍に塗付されたホットメルト接着剤20は素早く硬化して保護テープ12に接着する。従って、接着剤塗付ステップを実施した後、硬化して保護テープ12に接着したホットメルト接着剤20を引っ張り、保護テープ12をウェーハ11から剥離する剥離ステップを実施する。   The hot melt adhesive 20 applied in the vicinity of the outer peripheral edge of the wafer 11 quickly cures and adheres to the protective tape 12. Therefore, after performing the adhesive application step, the hot melt adhesive 20 that has been cured and adhered to the protective tape 12 is pulled, and the peeling step of peeling the protective tape 12 from the wafer 11 is performed.

図2(A)において、剥離手段22は、保持テーブル14の保持面と平行な回転軸を有する回転ローラ24と、回転ローラ24の両端に配置された一対の把持部26とから構成される。   In FIG. 2A, the peeling unit 22 includes a rotating roller 24 having a rotating shaft parallel to the holding surface of the holding table 14 and a pair of gripping portions 26 disposed at both ends of the rotating roller 24.

各把持部26は、対向する一対の把持部材26a,26bから構成されており、把持部材26a,26bは互いに近づく方向及び離れる方向に移動可能である。ここで、ローラ24は回転可能且つ水平方向に往復動可能に配設されている。   Each gripping portion 26 is composed of a pair of gripping members 26a and 26b facing each other, and the gripping members 26a and 26b are movable in directions toward and away from each other. Here, the roller 24 is disposed so as to be rotatable and reciprocally movable in the horizontal direction.

好ましくは、剥離ステップは、図3に示す各ステップ(A)〜(D)から構成される。まず、図3(A)に示すように、ローラ24を矢印R1方向に回転して保護テープ12の外周縁近傍に塗付されているホットメルト接着剤20に接触させ、ホットメルト接着剤20を保護テープ12及びローラ24の両方に接着させる。   Preferably, the peeling step includes steps (A) to (D) shown in FIG. First, as shown in FIG. 3A, the roller 24 is rotated in the direction of the arrow R1 to contact the hot melt adhesive 20 applied in the vicinity of the outer peripheral edge of the protective tape 12, and the hot melt adhesive 20 is Adhere to both the protective tape 12 and the roller 24.

次いで、図3(B)に示すように、ローラ24を矢印R2方向に回転して保護テープ12の外周部をウェーハ11の外周部から剥離して保護テープ12の剥離起点を形成する。ここで、硬化して保護テープ12に接着されたホットメルト接着剤20の接着力、及びホットメルト接着剤20とローラ24の接着力は、保護テープ12のウェーハ11への接着力よりも大きいため、ホットメルト接着剤に接着されたローラ24を矢印R2方向に回転することにより、容易に保護テープ12の剥離起点を形成することができる。即ち、ホットメルト接着剤20は保護テープ12と相性が良い性質を有しているため、保護テープ12に強固に接着される。   Next, as shown in FIG. 3B, the roller 24 is rotated in the direction of the arrow R <b> 2 to peel the outer peripheral portion of the protective tape 12 from the outer peripheral portion of the wafer 11 to form the peeling start point of the protective tape 12. Here, the adhesive force of the hot melt adhesive 20 cured and adhered to the protective tape 12 and the adhesive force of the hot melt adhesive 20 and the roller 24 are larger than the adhesive force of the protective tape 12 to the wafer 11. The peeling start point of the protective tape 12 can be easily formed by rotating the roller 24 bonded to the hot melt adhesive in the direction of the arrow R2. That is, since the hot melt adhesive 20 has a property compatible with the protective tape 12, it is firmly bonded to the protective tape 12.

保護テープ12の剥離起点を形成後、図3(C)に示すように、把持部26を構成する一対の把持部材26a,26bで保護テープ12の剥離された部分を把持する。把持部26で保護テープ12を把持したならば、ローラ24を引っ張ってローラ24をホットメルト接着剤20から引き離す。   After forming the peeling start point of the protective tape 12, as shown in FIG. 3C, the peeled portion of the protective tape 12 is gripped by a pair of gripping members 26a and 26b constituting the gripping portion 26. When the protective tape 12 is gripped by the gripping portion 26, the roller 24 is pulled to separate the roller 24 from the hot melt adhesive 20.

次いで、図3(D)に示すように、把持部材26a,26bで保護テープ12の端部を把持した状態で矢印方向に保護テープ12を引っ張ると、保護テープ12をウェーハ11から容易に剥離することができる。   Next, as shown in FIG. 3D, when the protective tape 12 is pulled in the direction of the arrow while the end portions of the protective tape 12 are held by the holding members 26a and 26b, the protective tape 12 is easily peeled from the wafer 11. be able to.

ここで、ホットメルト接着剤20は流動性があるため、大きな圧力を必要とせずに、ローラ24を固化したホットメルト接着剤20に軽く接触させるだけで、ローラ24はホットメルト接着剤20に容易に接着される。   Here, since the hot melt adhesive 20 has fluidity, the roller 24 can be easily brought into contact with the hot melt adhesive 20 only by lightly contacting the roller 24 with the solidified hot melt adhesive 20 without requiring a large pressure. Glued to.

図4を参照すると、本発明第2実施形態の剥離ステップを示す断面図が示されている。本実施形態の剥離ステップでは、グルーガン18によるホットメルト接着剤20の保護テープ12の外周縁近傍への塗付時に、ローラ24を保護テープ12の外周縁よりも外側に配設しておき、保護テープ12の外周縁ぎりぎりに塗付された流動性のあるホットメルト接着剤20が保護テープ12の外周縁から下方に垂れるのをローラ24で防止する。   Referring to FIG. 4, there is shown a cross-sectional view showing the peeling step of the second embodiment of the present invention. In the peeling step of the present embodiment, when the hot melt adhesive 20 is applied to the vicinity of the outer peripheral edge of the protective tape 12 by the glue gun 18, the roller 24 is disposed outside the outer peripheral edge of the protective tape 12 to protect it. The roller 24 prevents the fluid hot-melt adhesive 20 applied to the outer periphery of the tape 12 from dripping downward from the outer periphery of the protective tape 12.

ホットメルト接着剤20の塗付位置は保護テープ12の外周縁ぎりぎり辺りが好ましいため、ローラ24でホットメルト接着剤20が保護テープ12に外周縁から下方に垂れるのを防止する効果は大きいものである。   Since the application position of the hot melt adhesive 20 is preferably near the outer peripheral edge of the protective tape 12, the effect of preventing the hot melt adhesive 20 from dripping down from the outer peripheral edge to the protective tape 12 by the roller 24 is great. is there.

ホットメルト接着剤20の保護テープ12の外周縁近傍への塗付が終了すると、図4(B)に示すように、ローラ24を矢印R2方向に回転させながら左方向に移動し、ローラ24を硬化したホットメルト接着剤20に接着させる。   When the application of the hot-melt adhesive 20 to the vicinity of the outer peripheral edge of the protective tape 12 is completed, as shown in FIG. Adhere to the cured hot melt adhesive 20.

図5を参照すると、剥離ステップ実施後の状態の斜視図が示されている。ウェーハ11の表面には格子状に形成された複数の分割予定ライン13によって区画された各領域にIC、LSI等のデバイス15が形成されている。そして、ウェーハ11の裏面は保持テーブル14に吸引保持されたダイシングテープ16に接着されている。   Referring to FIG. 5, a perspective view of the state after performing the peeling step is shown. On the surface of the wafer 11, devices 15 such as ICs and LSIs are formed in each region partitioned by a plurality of division lines 13 formed in a lattice pattern. The back surface of the wafer 11 is bonded to a dicing tape 16 sucked and held on the holding table 14.

図6を参照すると、保持ステップの第2実施形態の斜視図が示されている。本実施形態では、ダイシングテープ16の外周部は環状フレーム28に貼着されており、表面に保護テープ12が貼着されたウェーハ11はダイシングテープ16を介して環状フレーム28により支持されている。そして、表面に保護テープ12が貼着されたウェーハ11はダイシングテープ16を介して保持テーブル14Aで吸引保持される。   Referring to FIG. 6, a perspective view of a second embodiment of the holding step is shown. In the present embodiment, the outer peripheral portion of the dicing tape 16 is attached to the annular frame 28, and the wafer 11 having the protective tape 12 attached to the surface thereof is supported by the annular frame 28 via the dicing tape 16. The wafer 11 having the protective tape 12 attached to the surface is sucked and held by the holding table 14 </ b> A via the dicing tape 16.

図6に示す保持ステップを実施した後、保護テープ12をウェーハ11から剥離する剥離ステップは、図3又は図4に示した剥離ステップと実質上同様に実施される。   After the holding step shown in FIG. 6 is performed, the peeling step for peeling the protective tape 12 from the wafer 11 is performed in substantially the same manner as the peeling step shown in FIG. 3 or FIG.

上述した実施形態の保護テープの剥離方法では、保護テープ12に塗付したホットメルト接着剤20をローラ24で引っ張ることで剥離起点を形成し、剥離起点形成後、把持部26で保護テープ12の剥離部分を把持して保護テープ12をウェーハ11から剥離するので、ウェーハ11を傷つけることなく保護テープ12を剥離することができる。   In the protective tape peeling method of the above-described embodiment, the hot melt adhesive 20 applied to the protective tape 12 is pulled by the roller 24 to form a peeling start point, and after the peeling start point is formed, the grip portion 26 Since the protective tape 12 is peeled from the wafer 11 by gripping the peeled portion, the protective tape 12 can be peeled without damaging the wafer 11.

従来技術で使用していた剥離テープに比較して非常に安いコストで入手できるホットメルト接着剤20を利用することで、低コストでの保護テープ12の剥離が可能となる。ホットメルト接着剤20は保護テープ12の材質との相性がよいため、保護テープ12に強固に接着され、硬化したホットメルト接着剤20を引っ張ることで保護テープ12をウェーハ11から容易に剥離することができる。   By using the hot melt adhesive 20 that can be obtained at a very low cost compared to the peeling tape used in the prior art, the protective tape 12 can be peeled at a low cost. Since the hot-melt adhesive 20 is compatible with the material of the protective tape 12, the hot-melt adhesive 20 is firmly bonded to the protective tape 12, and the protective tape 12 can be easily peeled from the wafer 11 by pulling the cured hot-melt adhesive 20. Can do.

11 半導体ウェーハ
12 保護テープ
14 保持テーブル
16 ダイシングテープ
18 グルーガン
20 ホットメルト接着剤
22 剥離手段
24 ローラ
26 把持部
26a,26b 把持部材
28 環状フレーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Semiconductor wafer 12 Protective tape 14 Holding table 16 Dicing tape 18 Glue gun 20 Hot melt adhesive 22 Peeling means 24 Roller 26 Grip part 26a, 26b Grip member 28 Annular frame

Claims (4)

板状被加工物の第1の面に貼着された保護テープを板状被加工物から剥離する保護テープの剥離方法であって、
板状被加工物の該第1の面と反対側の第2の面側を保持テーブルの保持面で吸引保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、加熱したホットメルト接着剤を該保護テープの周縁近傍に塗布する接着剤塗付ステップと、
該接着剤塗付ステップを実施した後、硬化して該保護テープに接着した該ホットメルト接着剤を引っ張り、該保護テープを板状被加工物から剥離する剥離ステップと、
を備えたことを特徴とする保護テープの剥離方法。
A protective tape peeling method for peeling off a protective tape attached to a first surface of a plate-like workpiece from the plate-like workpiece,
A holding step of sucking and holding the second surface side of the plate-like workpiece opposite to the first surface with the holding surface of the holding table;
After performing the holding step, an adhesive application step of applying a heated hot melt adhesive to the vicinity of the periphery of the protective tape;
After performing the adhesive coating step, pulling the hot melt adhesive that has been cured and adhered to the protective tape, and peeling the protective tape from the plate-like workpiece;
A method for peeling off a protective tape, comprising:
該接着剤塗付ステップを実施した後で該剥離ステップを実施する前に、該ホットメルト接着剤に剥離手段を接着する剥離手段接着ステップを更に備え、
該剥離ステップでは、該剥離手段を引っ張って該保護テープを板状被加工物から剥離することを特徴とする請求項1記載の保護テープの剥離方法。
Before performing the peeling step after performing the adhesive application step, further comprising a peeling means bonding step for bonding a peeling means to the hot melt adhesive;
2. The method of peeling a protective tape according to claim 1, wherein, in the peeling step, the peeling tape is pulled to peel the protective tape from the plate-like workpiece.
該剥離手段は、該保持テーブルの該保持面と平行な回転軸を有する回転ローラを含むことを特徴とする請求項1又は2記載の保護テープの剥離方法。   3. The method for peeling off a protective tape according to claim 1, wherein the peeling means includes a rotating roller having a rotating shaft parallel to the holding surface of the holding table. 該保持ステップを実施する前に、板状被加工物の該第2の面に粘着テープを貼着する粘着テープ貼着ステップを更に備え、
該保持ステップでは、該粘着テープを介して板状被加工物を該保持テーブルで保持することを特徴とする請求項1、2又は3記載の保護テープの剥離方法。
Before carrying out the holding step, further comprising an adhesive tape attaching step for attaching an adhesive tape to the second surface of the plate-like workpiece,
The method for peeling off a protective tape according to claim 1, 2 or 3, wherein in the holding step, the plate-like workpiece is held by the holding table via the adhesive tape.
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