JP2016212014A - Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device - Google Patents
Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016212014A JP2016212014A JP2015097420A JP2015097420A JP2016212014A JP 2016212014 A JP2016212014 A JP 2016212014A JP 2015097420 A JP2015097420 A JP 2015097420A JP 2015097420 A JP2015097420 A JP 2015097420A JP 2016212014 A JP2016212014 A JP 2016212014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- probe
- dent
- image
- offset information
- sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、プローブのオフセット情報取得方法およびX−Y基板検査装置に関する。 The present invention relates to a probe offset information acquisition method and an XY substrate inspection apparatus.
プリント配線基板等の検査装置として、可動のプローブを検査対象の基板に接触させて検査行うX−Y基板検査装置が知られている。このX−Y基板検査装置は、フライングプローブと称される検査対象の基板に接触させるプローブを搭載した可動ヘッドをX−Y平面(二次平面)上で進退移動させて目標位置でプローブを検査対象基板に接触させて検査を行う。可動ヘッドには、検査用のプローブがX−Y平面に対して直交するZ軸方向に昇降可能に搭載されており、プローブを検査対象基板の所定の検査ポイントに接触させることで、基板の電気的検査を行うことができる。 As an inspection apparatus for a printed wiring board or the like, an XY board inspection apparatus that performs inspection by bringing a movable probe into contact with a substrate to be inspected is known. This XY substrate inspection device inspects a probe at a target position by moving a movable head mounted with a probe called a flying probe, which is brought into contact with a substrate to be inspected, on an XY plane (secondary plane). An inspection is performed by contacting the target substrate. An inspection probe is mounted on the movable head so as to be movable up and down in the Z-axis direction orthogonal to the XY plane. By contacting the probe with a predetermined inspection point on the inspection target substrate, the electrical Inspection can be performed.
可動ヘッドをX−Y平面上に進退移動させる駆動機構としては、X−Y直交2軸駆動機構が知られており、可動ヘッドをボールネジで移動させるY軸駆動ユニットと、このY軸駆動ユニットをY軸と直交するX軸方向にボールネジで移動させるX軸駆動ユニットを備えたものであり、制御装置からの制御により、所定のX−Y座標位置に可動ヘッドを移動させることができる。
可動ヘッドには、カメラが設けられており、カメラで、プローブが測定対象の位置に正確に到達したかを判定することができる。
As a drive mechanism for moving the movable head back and forth on the XY plane, an XY orthogonal two-axis drive mechanism is known. A Y-axis drive unit for moving the movable head with a ball screw, and this Y-axis drive unit. An X-axis drive unit that moves with a ball screw in the X-axis direction orthogonal to the Y-axis is provided, and the movable head can be moved to a predetermined XY coordinate position by control from the control device.
The movable head is provided with a camera, and the camera can determine whether the probe has accurately reached the position to be measured.
ところで、プローブは、検査によって磨耗等が生ずる消耗品なので、検査で磨耗等が生ずると新たなプローブに交換する必要がある。
プローブを変更すると、プローブの先端が基板に当たる位置は微妙に変化する。プローブの取付機構のあそびや精度、あるいはプローブの取付角度のちがい等の理由で、プローブが接触する基板の位置には、交換前のプローブとはずれが生じる。このずれは、数μm程度のちがいであるが、位置制御精度が1μm程度の基板検査装置では、そのずれは検査結果に影響を与えるほど大きい。
By the way, since the probe is a consumable product that is worn out by inspection, it needs to be replaced with a new probe when wear or the like occurs during inspection.
When the probe is changed, the position where the tip of the probe hits the substrate changes slightly. Due to the play and accuracy of the probe mounting mechanism, or the difference in the probe mounting angle, the position of the substrate that contacts the probe deviates from the probe before replacement. This deviation is about several μm, but in a substrate inspection apparatus with a position control accuracy of about 1 μm, the deviation is large enough to affect the inspection result.
このため、プローブを交換したときには、取り付けたプローブの交換前のプローブとのずれを検出して指示する目標座標値を補正する必要があるので、検査を行う前にプローブのオフセット位置情報を検出し、後の検査工程でプローブのオフセット補償を行って、目的座標(目的位置)の補正を実行している。 For this reason, when the probe is replaced, it is necessary to detect the deviation of the attached probe from the probe prior to replacement and correct the target coordinate value to be instructed. Therefore, the probe offset position information is detected before inspection. In the subsequent inspection process, the offset of the probe is compensated to correct the target coordinates (target position).
このプローブのオフセット情報を取得する方法として、打痕シートを用いる方法がある。この方法を図面を参照して説明する。 As a method for acquiring the offset information of the probe, there is a method using a dent sheet. This method will be described with reference to the drawings.
図1は、フライングプローブを用いるX−Y基板検査装置のX−Y直交2軸駆動機構の概略を説明する図である。X−Y直交2軸駆動機構は、可動ヘッド17をY軸方向に移動させるY軸駆動ユニット14と、このY軸駆動ユニット14をX軸方向に移動させるX軸駆動ユニット10と、制御装置20とを備える。X軸駆動ユニット10は、X軸ボールネジ11を制御装置20の制御によってX軸サーボモータ12よって回転駆動する。同様に、Y軸駆動ユニット14は、Y軸ボールネジ15を制御装置20の制御によって、Y軸サーボモータ16によって回転駆動して可動ヘッド17の移動を制御する。可動ヘッド17には、Z軸方向に昇降可能なプローブ18が搭載されている。また、可動ヘッド17には、カメラ19を備えており、プローブ18が下降する基板のポイントの画像を撮像し、移動指示した目標座標値とのずれを判定することができる。プローブ18、カメラ19も制御装置20によって制御される。
FIG. 1 is a diagram illustrating an outline of an XY orthogonal two-axis drive mechanism of an XY substrate inspection apparatus using a flying probe. The XY orthogonal two-axis drive mechanism includes a Y-
X−Y基板検査装置の基板が搭載されるステージ21の端部には、プローブオフセット情報を取得するためのオフセット取得ボード22が設けられている。このオフセット取得ボード22は、図2に示されるように、複数枚の打痕シート23を所定の位置に貼付することができる。
An
打痕シート23は、約2cm四方の感圧紙を用いたもので、プローブ18が下降すると、その下降した箇所にプローブの先端の痕がつくものを用いている。オフセット情報取得ボードは、たとえばエポキシ基板でできており、複数の打痕シートを貼付できる領域を指示し、オフセット情報取得ボードがステージ21に設けられた位置はメーカによってあらかじめ決められている。
The dent sheet 23 uses a pressure sensitive paper of about 2 cm square. When the
プローブのオフセット情報は、プローブ18で打痕シートを打ち、その痕の画像をカメラ19で撮像して、画像処理により、打痕位置とカメラの光軸(中心軸)とのずれ量(距離)を検出して取得する。打痕位置とカメラの光軸とのずれ量は、指示した目標座標位置と、移動して実際に打たれた打痕位置とのずれであるので、このずれ量に基づいて、交換前のプローブとの差分をオフセット情報として、検査工程でのプローブに指示する目標座標の補償を行うことになる。
The offset information of the probe is obtained by hitting a dent sheet with the
そのオフセット情報取得の動作の説明を図1〜図3を参照して説明する。
プローブのオフセット情報の取得では、プローブ18が交換されると、可動ヘッド17を所定の打痕シート23上へ移動して打痕を指示する。このオフセット情報取得のための打痕シート23への移動指示座標値は、当初あらかじめメーカ側で設定されている。ただし、2回目からのオフセット情報の取得のため座標位置の指示は、ユーザ側で設定できるので、プローブを交換したときオフセット情報取得のための指示座標位置を変更して打痕座標位置を動かすことが可能である。
The operation of acquiring the offset information will be described with reference to FIGS.
In acquiring the probe offset information, when the
最初に、プローブを打痕シート上に移動して、打痕を行うと、その打痕の画像上にカメラ19を移動させ、カメラで打痕画像を撮像し、撮像した打痕画像を処理して移動指示した座標値とのずれを画像処理により取得する。このずれ量は、プローブのオフセット情報になるので、基板検査時には、このオフセット情報を用いて、基板検査のための目標位置座標値を補償する。
First, when the probe is moved onto the dent sheet and the dent is made, the
基板検査を開始してから、途中でプローブ18を交換して、オフセット情報を取得する場合には、ユーザは、オフセット情報取得のための規定の座標位置を変更して、プローブの打痕位置を少し、たとえば1mm変更してその打痕の画像を取得し、オフセット情報を取得することができる。これは、同じ打痕シートを何回かオフセット情報取得のために利用することを意味する。打痕シートをオフセット情報取得のために装置を停止させて張り替えることは、作業効率を悪化させるし、また、まだ使用できる打痕シートの無駄使いになるからである。
When acquiring the offset information by exchanging the
このため、複数回同一の打痕シートに打痕をすることになるので、カメラで打痕画像を撮像していくと、図3に示されるように、同一の打痕シートに複数の打痕がされて残っていくことになる。そして、その複数の打痕の中から、そのオフセットのために、打痕の画像を作業者がカメラを操作して撮像すると、どれが今回の打痕であるかを誤認することが生ずる。打痕シートは、約2cm平方のシートであり、そこに、プローブで打った小さな点が複数打たれ、カメラの視野範囲に、複数の打痕が入ることになるので、人がカメラを操作すれば、どれが交換したプローブで打った打痕かを誤認するおそれがあり、まちがったオフセット情報を取得する。また、基板のまちがった箇所にプローブが接触することになるので、検査の信頼性へ影響を与える。 For this reason, since the same dent sheet is struck multiple times, when a dent image is captured by the camera, a plurality of dents are formed on the same dent sheet as shown in FIG. Will be left behind. Then, when the operator operates the camera to pick up an image of the dent from the plurality of dents because of the offset, it may be erroneously recognized which is the current dent. The dent sheet is a sheet of about 2 cm square, and there are a plurality of small dots struck by the probe, and a plurality of dents are entered in the field of view of the camera. For example, there is a risk of misrecognizing which dent was hit with the exchanged probe, and wrong offset information is acquired. Further, since the probe comes into contact with a wrong place on the substrate, the reliability of the inspection is affected.
本発明は、上記のように、プローブのオフセット情報を取得する場合に生ずる、プローブの打痕位置の誤認を防止することができるプローブのオフセット情報取得方法および基板検査装置を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a probe offset information acquisition method and a substrate inspection apparatus capable of preventing erroneous recognition of a probe dent position, which occurs when acquiring probe offset information as described above. To do.
上述の課題を解決するため、本発明の一側面は、プローブを搭載した可動ヘッドをX−Y平面上に進退移動可能とするX−Y駆動機構と、X−Y駆動機構を制御する制御装置とを備え、制御装置は、X−Y駆動機構を制御して、可動ヘッドを所定のX−Y座標位置に移動させるとともに、X−Y平面に直交するZ方向に昇降可能なプローブを所定の座標位置で検査対象基板に接触させて検査を行わせる手段を備えるX−Y基板検査装置に用いられ、下降するプローブによって打痕が形成される打痕シートを可動ヘッドの動作領域に設け、制御装置は、可動ヘッドに搭載されているカメラで交換後のプローブが打痕シートに形成された打痕画像を撮像して、打痕の画像情報からプローブ位置のオフセット情報を取得するプローブのオフセット情報取得方法において、制御装置は、前回のオフセット情報取得工程で打痕された打痕シートの画像をカメラで撮像する工程と、交換後のプローブで打痕シートに打痕を形成させる工程と、交換後のプローブで打痕された打痕シートの画像をカメラで撮像する工程と、取得されたプローブ交換前後の打痕シートの画像の差分を取って、交換後のプローブで打痕された画像位置を特定しプローブのオフセット位置情報を取得する工程とを実行することを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, one aspect of the present invention provides an XY drive mechanism that enables a movable head mounted with a probe to move forward and backward on an XY plane, and a control device that controls the XY drive mechanism. The control device controls the XY drive mechanism to move the movable head to a predetermined XY coordinate position, and moves a probe that can be raised and lowered in the Z direction perpendicular to the XY plane to a predetermined Used in an XY substrate inspection apparatus provided with a means for inspecting by contacting a substrate to be inspected at a coordinate position, and providing a dent sheet in which a dent is formed by a descending probe in the operation area of the movable head. The apparatus captures a dent image formed on the dent sheet by the replaced probe with a camera mounted on the movable head, and obtains probe offset information from the image information of the dent. In the acquisition method, the control device exchanges a step of capturing an image of a dent sheet that has been dented in the previous offset information acquisition step with a camera, a step of forming a dent on the dent sheet with a probe after replacement, and a replacement. The difference between the acquired image of the dent sheet before and after the probe replacement, and the image position of the dent mark with the probe after replacement. And obtaining the offset position information of the probe.
本発明の他の側面は、プローブを搭載した可動ヘッドをX−Y平面上に進退移動可能とするX−Y駆動機構と、X−Y駆動機構を制御する制御装置とを備え、制御装置は、X−Y駆動機構を制御して、可動ヘッドを所定のX−Y位置に移動させるとともに、プローブに、X−Y平面に直交するZ軸方向に昇降可能なプローブを所定の座標位置で検査対象基板に接触させて検査を行わせる手段を備え、制御装置は、プローブの交換時に、プローブ位置のオフセット情報を取得する手段を備え、下降するプローブによって打痕が形成される打痕シートが可動ヘッドの動作領域に設けられ、制御装置は、交換後の前記プローブが前記打痕シートに形成した打痕画像を可動ヘッドに搭載されているカメラで撮像して、打痕の画像情報からプローブ位置のオフセット情報を取得する手段を備えるX−Y基板検査装置において、プローブ位置のオフセット情報を取得する手段は、前回のオフセット情報取得工程で打痕された打痕シートの画像をカメラで撮像する手段と、交換後のプローブで打痕シートに新たに打痕を形成させる手段と、交換後のプローブで打痕された打痕シートの画像をカメラで撮像する手段と、交換前後の打痕シートの画像の差分を取って、交換後のプローブで打痕された画像を抽出してプローブのオフセット情報を取得する手段とを備えることを特徴とする。 Another aspect of the present invention includes an XY drive mechanism that enables a movable head mounted with a probe to move forward and backward on an XY plane, and a control device that controls the XY drive mechanism. The XY drive mechanism is controlled to move the movable head to a predetermined XY position, and the probe that can be moved up and down in the Z-axis direction orthogonal to the XY plane is inspected at a predetermined coordinate position. The control device is provided with means for inspecting the target substrate in contact with the target substrate, and the control device is provided with means for acquiring the offset information of the probe position when the probe is replaced. The control device is provided in the head operating area, and the controller captures a dent image formed on the dent sheet by the probe after replacement with a camera mounted on the movable head, and determines the probe position from the image information of the dent. In the XY substrate inspection apparatus including means for acquiring offset information, the means for acquiring the offset information of the probe position is a means for capturing an image of the dent sheet that has been scribed in the previous offset information acquisition process with a camera. , Means for forming a new dent on the dent sheet with the replaced probe, means for taking an image of the dent sheet with the camera after the replacement, and images of the dent sheet before and after the replacement And a means for obtaining an offset information of the probe by extracting an image of the dent made by the probe after replacement.
本発明によれば、プローブが打痕した画像を誤りなく撮像してオフセット情報を取得できるので、オフセット情報に誤りが生じない。また、作業者によるちがいが生じないので、オフセット情報が均一化する効果がある。 According to the present invention, since the offset information can be acquired by taking an image of the dent of the probe without error, no error occurs in the offset information. Further, since the operator does not make a difference, there is an effect that the offset information becomes uniform.
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本発明の実施の形態のプローブのオフセット情報取得にかかるX−Y基板検査装置のX−Y直交2軸駆動機構の駆動制御構成を説明する図である。この図1のX−Y基板検査装置のハードウェア構成は、従来のものと変わりはなく、オフセット情報取得のための制御の構成のみが異なる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram illustrating a drive control configuration of an XY orthogonal two-axis drive mechanism of an XY substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention for obtaining offset information of a probe. The hardware configuration of the XY board inspection apparatus in FIG. 1 is not different from the conventional one, and only the control configuration for obtaining offset information is different.
本発明の実施態様で用いるX−Y基板検査装置のXY直交2軸駆動機構は、従来例で説明した駆動機構と変わりはない。X−Y直交2軸駆動機構は、図面上長尺であるX軸方向に駆動するX軸駆動ユニット10と、X軸と直交し図面上短尺のY軸方向に駆動するY軸駆動ユニット14と、制御装置20とを備える。X軸駆動ユニット10は、X軸ボールネジ11と、このX軸ボールネジ11を回転駆動するX軸サーボモータ12を備える。また、Y軸駆動ユニット14は、Y軸ボールネジ15と、このY軸ボールネジを回転駆動するY軸サーボモータ16を備える。Y軸駆動ユニット14は、可動ヘッド17を搭載しており、可動ヘッド17は、プローブ18、カメラ19を備えている。
The XY orthogonal two-axis drive mechanism of the XY substrate inspection apparatus used in the embodiment of the present invention is not different from the drive mechanism described in the conventional example. The XY orthogonal two-axis drive mechanism includes an
X軸サーボモータ12、Y軸サーボモータ16は、いずれも制御装置20からの制御により駆動され、X軸駆動ユニット10は、Y軸駆動ユニット14をX軸方向に移動させ、Y軸駆動ユニット14は、可動ヘッド17をY軸方向に移動させて、制御装置20が指示するX−Y座標位置に可動ヘッド17を移動させる。
図1のX−Y直交2軸駆動機構では、X軸、Y軸とも、リニアガイド機構を備えているが、単に制御機構のみを示すため、図示は省略した。
Both the
The XY orthogonal two-axis drive mechanism of FIG. 1 includes a linear guide mechanism for both the X axis and the Y axis, but is not shown because it only shows the control mechanism.
可動ヘッド17には、X−Y面に直交する方向(Z方向)に移動できるプローブ18が設けられており、基板検査時には、制御装置20の制御により被検査対象の基板の所定位置(検査ポイント)に下降して、基板と接触して基板を検査することができる。また、可動ヘッド17には、カメラ19が取り付けられており、プローブ18のオフセット情報を取得するために、打痕シート23の画像を撮像できる。また、基板の検査時には、プローブ18が到達した位置の画像を取得してプローブ18が被検査対象の基板の指示した位置に移動したかを判定することができる。
The
つぎに、図4、図5を参照して、本発明実施形態のプローブのオフセット情報取得について説明する。図4は、本実施形態の打痕画像の処理を説明する図であり、図5は、本実施形態のプローブのオフセット情報取得動作を説明するフローチャートである。 Next, with reference to FIGS. 4 and 5, the acquisition of the offset information of the probe according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a diagram for explaining processing of a dent image according to this embodiment, and FIG. 5 is a flowchart for explaining an offset information acquisition operation of the probe according to this embodiment.
基板検査を実行していると、プローブの交換の時期がきて、その旨の指示がされ、作業者は、その指示にしたがって、プローブを新しいプローブに交換する(ステップS1)。プローブを交換したことにより、プローブのオフセット情報の取得動作に移行する。 When the substrate inspection is being performed, the probe replacement time comes and an instruction to that effect is given, and the operator replaces the probe with a new probe in accordance with the instruction (step S1). When the probe is exchanged, the operation proceeds to the probe offset information acquisition operation.
プローブのオフセット情報の取得動作に移行すると、まず、前回のオフセット情報取得時に打痕した打痕シート23の打痕位置に可動ヘッド17を移動させる(ステップS2)。そして、前回の打痕の画像をカメラ19で撮像する(ステップS3)。前回の打痕までに複数回のオフセット情報の取得で、複数回の打痕を同一の打痕シートに行っていると、それぞれ座標が違った位置に複数の打痕の跡のある打痕画像が取得されることになる。この画像が図4の真ん中の画像となる。
When the operation proceeds to the probe offset information acquisition operation, first, the
なお、上述の前回の打痕シート画像を撮像する場合は、オフセット情報取得のための指示位置が、前回と同じ打痕シートの領域になる場合である。異なる打痕シートに打痕を指示する場合は、当該指示した打痕シートの画像を撮像する。実際には、オフセット情報取得のための座標指示の入力により、プローブ(可動ヘッド)が打痕シート上に移動し、打痕を行う前に打痕シートの画像を取得するので、前回の打痕の画像とは、交換したプローブの打痕前の打痕シートの画像の意味になる。 In addition, when the above-mentioned last impression sheet image is imaged, it is a case where the instruction | indication position for offset information acquisition becomes the area | region of the same impression sheet as last time. When instructing a dent on a different dent sheet, an image of the instructed dent sheet is taken. Actually, by inputting a coordinate instruction for obtaining offset information, the probe (movable head) moves onto the dent sheet, and an image of the dent sheet is acquired before making the dent. This image means the image of the dent sheet before the dent of the replaced probe.
前回の打痕の画像を撮像すると、プローブを下降して打痕シート23に打痕を行う(ステップS4)。今回の打痕は、前回までの打痕シートの打痕の位置と同じ位置ではなく、ユーザの設定により、前回の打痕位置とは異なる座標位置に打痕を行う。たとえば、前回の設定値より、数mmずれた座標位置を設定して打痕を行う。 When an image of the previous dent is captured, the probe is lowered to make a dent on the dent sheet 23 (step S4). The dent of this time is not the same position as the position of the dent of the dent sheet until the previous time, but the dent is made at a coordinate position different from the previous position of the dent by the user setting. For example, a dent is made by setting a coordinate position shifted by several mm from the previous set value.
そして、プローブにより打痕されると、カメラ19をプローブの位置に合わせて打痕シート23の打痕を撮像する(ステップS5)。カメラをプローブの位置に合わせるのは、作業者が操作してよいし、またアクチュエータで自動的にプローブ位置になるように自動的に操作もできる。カメラとプローブとの位置関係は既知であり、その座標値は、オフセット情報の検出に反映されている。
And if a dent is struck by a probe, the
制御装置20は、今回の撮像した打痕画像と、前回のオフセットまでに残った打痕の画像とを比較し、今回の打痕画像から前回の打痕画像との差分をとる。この結果、図4の右の画像に示すように、前回までの打痕画像は消去され、今回のオフセット情報取得で打痕した画像のみが残るため、この打痕の位置情報をオフセット情報として取得する(ステップS6)。今回のオフセット情報取得工程で取得した打痕の位置情報(目標位置座標とのずれ)と前回のオフセット情報取得工程で取得した打痕の位置情報とから、今回のプローブの交換で生じたずれを補償するためのオフセット量を算出し、交換後のプローブのオフセット補償を行う。
The
なお、前回の打痕画像は、前回のオフセット情報を取得したのと同一の打痕シートに打痕する場合には、新たな打痕を撮像した画像を記憶しておき、プローブを交換した後の打痕画像との差分をとるようにしてもよい。 Note that if the previous dent image is to be recorded on the same dent sheet from which the previous offset information was acquired, an image obtained by imaging a new dent is stored and the probe is replaced. A difference from the dent image may be taken.
このように、打痕シート上に複数の打痕があっても、プローブで新たに形成した打痕のみを観測できるので、とるべき打痕を誤ることはなく、正確なオフセット情報を取得できる。また、作業者によらず、同じ方法でとるべき打痕画像を抽出できるので、作業ならびにオフセット情報そのものも均一化できる。 As described above, even if there are a plurality of dents on the dent sheet, only the dent newly formed by the probe can be observed, so that accurate offset information can be acquired without making an erroneous dent. Further, since the dent image to be taken by the same method can be extracted regardless of the operator, the work and the offset information itself can be made uniform.
なお、上記可動ヘッドの駆動制御は、X−Y直交2軸駆動機構で説明したが、アームを用いて、可動ヘッドをX−Y平面上で進退移動させればよいので、X−Y直交2軸駆動機構に限られるものではなく、たとえばアーム式の可動ヘッドの移動機構でもよい。 The drive control of the movable head has been described with the XY orthogonal two-axis drive mechanism. However, since the movable head may be moved back and forth on the XY plane using an arm, the XY orthogonal 2 For example, an arm-type movable head moving mechanism may be used.
10 X軸駆動ユニット
11 X軸ボールネジ
12 X軸サーボモータ
14 Y軸駆動ユニット
15 Y軸ボールネジ
16 Y軸サーボモータ
17 可動ヘッド
18 プローブ
19 カメラ
20 制御装置
21 ステージ
22 オフセット取得ボード
23 打痕シート
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記制御装置は、前記X−Y駆動機構を制御して、前記可動ヘッドを所定のX−Y座標位置に移動させるとともに、X−Y平面に直交するZ方向に昇降可能な前記プローブを所定の座標位置で検査対象基板に接触させて検査を行わせる手段を備えるX−Y基板検査装置に用いられ、
下降するプローブによって打痕が形成される打痕シートを前記可動ヘッドの動作領域に設け、
前記制御装置は、前記可動ヘッドに搭載されているカメラで交換後の前記プローブが前記打痕シートに形成された打痕画像を撮像して、打痕の画像情報からプローブ位置のオフセット情報を取得する
プローブのオフセット情報取得方法において、
前記制御装置は、
前回のオフセット情報取得工程で打痕された前記打痕シートの画像を前記カメラで撮像する工程と、
交換後のプローブで前記打痕シートに打痕を形成させる工程と、
前記交換後のプローブで打痕された前記打痕シートの画像を前記カメラで撮像する工程と、
取得されたプローブ交換前後の前記打痕シートの画像の差分を取って、交換後のプローブで打痕された画像位置を特定しプローブのオフセット位置情報を取得する工程と
を実行することを特徴とするプローブのオフセット情報取得方法。 An XY drive mechanism that enables a movable head mounted with a probe to move back and forth on an XY plane; and a control device that controls the XY drive mechanism;
The control device controls the XY drive mechanism to move the movable head to a predetermined XY coordinate position and moves the probe that can be moved up and down in the Z direction orthogonal to the XY plane to a predetermined It is used in an XY board inspection apparatus provided with a means for inspecting by contacting a substrate to be inspected at a coordinate position,
A dent sheet in which a dent is formed by a descending probe is provided in the operation area of the movable head,
The controller captures a dent image formed on the dent sheet by the replaced probe with a camera mounted on the movable head, and obtains probe position offset information from the dent image information. In the probe offset information acquisition method,
The controller is
Capturing the image of the dent sheet that has been dented in the previous offset information acquisition process with the camera;
Forming a dent on the dent sheet with the probe after replacement; and
Capturing an image of the dent sheet that has been dented with the probe after the replacement with the camera;
Taking the difference between the images of the dent sheet before and after the acquired probe replacement, identifying the image position dented by the probe after the replacement, and acquiring the offset position information of the probe. To obtain the offset information of the probe.
前記制御装置は、前記X−Y駆動機構を制御して、前記可動ヘッドを所定のX−Y位置に移動させるとともに、前記プローブに、X−Y平面に直交するZ軸方向に昇降可能な前記プローブを所定の座標位置で検査対象基板に接触させて検査を行わせる手段を備え、
前記制御装置は、前記プローブの交換時に、プローブ位置のオフセット情報を取得する手段を備え、
下降する前記プローブによって打痕が形成される打痕シートが前記可動ヘッドの動作領域に設けられ、
前記制御装置は、交換後の前記プローブが前記打痕シートに形成した打痕画像を可動ヘッドに搭載されているカメラで撮像して、打痕の画像情報からプローブ位置のオフセット情報を取得する手段を備える
X−Y基板検査装置において、
前記プローブ位置のオフセット情報を取得する手段は、
前回のオフセット情報取得工程で打痕された打痕シートの画像を前記カメラで撮像する手段と、
交換後のプローブで前記打痕シートに新たに打痕を形成させる手段と、
前記交換後のプローブで打痕された打痕シートの画像を前記カメラで撮像する手段と、
交換前後の打痕シートの画像の差分を取って、交換後のプローブで打痕された画像を抽出して前記プローブのオフセット情報を取得する手段と
を備えることを特徴とするX−Y基板検査装置。 An XY drive mechanism that enables a movable head mounted with a probe to move back and forth on an XY plane; and a control device that controls the XY drive mechanism;
The control device controls the XY drive mechanism to move the movable head to a predetermined XY position, and allows the probe to move up and down in the Z-axis direction orthogonal to the XY plane. A means for inspecting the probe by contacting the substrate to be inspected at a predetermined coordinate position;
The control device comprises means for acquiring offset information of the probe position when the probe is replaced,
A dent sheet on which a dent is formed by the descending probe is provided in the operation area of the movable head,
The control device captures a dent image formed on the dent sheet by the probe after replacement with a camera mounted on a movable head, and obtains probe position offset information from the image information of the dent. In an XY board inspection apparatus comprising:
Means for obtaining the probe position offset information,
Means for taking an image of the dent sheet that was dented in the previous offset information acquisition step with the camera;
Means for forming a new dent on the dent sheet with the probe after replacement;
Means for capturing an image of a dent sheet formed by the probe after the replacement with the camera;
XY substrate inspection, comprising: means for taking a difference between images of the dent sheet before and after replacement, and extracting an image recorded by the probe after replacement to obtain offset information of the probe. apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015097420A JP2016212014A (en) | 2015-05-12 | 2015-05-12 | Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015097420A JP2016212014A (en) | 2015-05-12 | 2015-05-12 | Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016212014A true JP2016212014A (en) | 2016-12-15 |
Family
ID=57550831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015097420A Pending JP2016212014A (en) | 2015-05-12 | 2015-05-12 | Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016212014A (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006278381A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Inspection apparatus and method for acquiring amount of positional deviation |
JP2007103860A (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Method of detecting probe contact trace, and prober |
JP2008164292A (en) * | 2006-12-26 | 2008-07-17 | Tokyo Electron Ltd | Probe inspection apparatus, position displacement correction method, information processing apparatus and method, and program |
US20100194418A1 (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-05 | Seung-Yong Oh | Method of correcting a position of a prober |
JP2014238311A (en) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | 日置電機株式会社 | Inspection device |
-
2015
- 2015-05-12 JP JP2015097420A patent/JP2016212014A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006278381A (en) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Inspection apparatus and method for acquiring amount of positional deviation |
JP2007103860A (en) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Method of detecting probe contact trace, and prober |
JP2008164292A (en) * | 2006-12-26 | 2008-07-17 | Tokyo Electron Ltd | Probe inspection apparatus, position displacement correction method, information processing apparatus and method, and program |
US20100194418A1 (en) * | 2009-02-03 | 2010-08-05 | Seung-Yong Oh | Method of correcting a position of a prober |
JP2014238311A (en) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | 日置電機株式会社 | Inspection device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7005606B2 (en) | Laser machine tool with image sensor for registration of workhead guidance system | |
EP1666185B1 (en) | Laser processing machine and method with image acquisition and processing means | |
JP4912246B2 (en) | Electronic component mounting method and electronic component mounting apparatus | |
TWI415703B (en) | Laser machining apparatus and method for detecting a substrate position | |
KR101344675B1 (en) | substrate processing method | |
CN107727485B (en) | Method and apparatus for hardness testing | |
TW200821156A (en) | Screen printing equipment, and method for image recognition and alignment | |
JP2016205957A (en) | Method for correcting movable head position of x-y substrate inspection device, and x-y substrate inspection device | |
JP5113406B2 (en) | Electronic component mounting equipment | |
KR102457415B1 (en) | Positioning device and positioning method | |
JP2007150267A (en) | Correction method for head position of component mounting device, and dummy nozzle | |
JP5523942B2 (en) | Component mounting method and component mounting apparatus for component mounting apparatus | |
TWI638239B (en) | Displacement detection method, displacement detection apparatus, drawing apparatus and substrate inspection apparatus | |
US20150273634A1 (en) | Method and apparatus for improving selective soldering | |
WO2017081773A1 (en) | Image processing device and image processing method for base plate | |
JP7094282B2 (en) | Anti-board work equipment | |
JP2009010167A (en) | Part transfer equipment | |
JP5152567B2 (en) | TFT array inspection equipment | |
KR101215516B1 (en) | Apparatus and method for marking position recognition | |
JP2016212014A (en) | Offset information acquisition method of probe, and x-y substrate inspection device | |
JP2013140082A (en) | Height measuring device and height measuring method | |
JP2004268220A (en) | Electric discharge machine | |
JP2013045940A (en) | Method for detecting identification information, substrate processing apparatus, substrate processing system and computer program | |
JP2005216974A (en) | Method for controlling move of moving block in electronic component mounting device, and matrix board used therefor | |
JP2016205958A (en) | Method for correcting movable head position of x-y substrate inspection device, and x-y substrate inspection device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190806 |