JP2016180798A - Mask blanks, photomask, and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はマスクブランクス、フォトマスク、その製造方法に関し、特に、ガラス同士の貼合・剥離を利用したリサイクル・リユース可能な貼り合わせフォトマスク、フォトマスクブランクス及びその再生に用いて好適な技術に関する。 The present invention relates to a mask blank, a photomask, and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a recyclable / reusable bonded photomask using photobonding / peeling between glass, a photomask blank, and a technique suitable for use in the regeneration thereof.
フォトマスクに用いられるガラス基板には低欠陥や厳しい平坦度が要求されるために精密な研磨必要が必要とされる。そのため、無研磨のガラスと比較して非常に高価である。特にFPD用途などに用いられる大型マスクは顕著であり、ガラス基板だけで数千万円以上の価格となる場合がある。 Since a glass substrate used for a photomask is required to have low defects and severe flatness, precise polishing is required. Therefore, it is very expensive compared with unpolished glass. In particular, large masks used for FPD applications are prominent, and the price of tens of millions of yen or more may be required for glass substrates alone.
現在、フォトマスクとしては、精密に研磨されたガラス基板の表面上に遮光膜として例えばクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデンシリサイド（ＭｏＳｉ）が直接成膜された構造が知られている。 Currently, a photomask having a structure in which, for example, chromium (Cr), tungsten (W), or molybdenum silicide (MoSi) is directly formed as a light-shielding film on a precisely polished glass substrate is known.
これらのフォトマスクのリサイクルは、まず、ペリクルが取り付けられている場合はペリクルと接着剤で固定された枠を取り外す工程、続いて、ガラス表面に設けられた遮光膜パターンを、エッチング等を用いて剥離して素ガラスの状態に戻す工程、このエッチングによりガラス表面に残った微小な凹凸（ゴーストパターン）およびマスクの使用中またはリサイクル作業の過程で発生したキズ等の表面欠陥を取り除いて、製品レベルの表面欠陥の少ない状態に戻すための研磨工程によっておこなう。
この研磨工程における精密な研磨もまた非常に高価である。
These photomasks are recycled by first removing the frame fixed with the pellicle and adhesive when the pellicle is attached, and then etching the light-shielding film pattern provided on the glass surface. The process of peeling and returning it to the state of bare glass, and removing fine irregularities (ghost pattern) remaining on the glass surface by this etching and surface defects such as scratches generated during use of the mask or in the process of recycling This is performed by a polishing process for returning to a state with few surface defects.
Precision polishing in this polishing process is also very expensive.
特許文献１にはフォトマスク用ガラス基板再生方法が記載され、特許文献２には、再生フォトマスク用基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクスの製造方法、再生フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法が記載され、特許文献３には、マスク基板、フォトマスク、露光方法、デバイス製造方法、マスク基板の製造方法、フォトマスクの製造方法、及び製造システムが記載されている。
上記のように、研磨を繰り返すとガラス基板の厚さが薄くなり過ぎてしまい、スペックから外れてしまうために、ガラス基板が再利用できなくなってしまうという問題があった。さらに、研磨を繰り返すとガラス基板の厚さが薄くなるので、リサイクルできる回数にも限りがある。特許文献４には、マスク基板の製造方法が記載されている。
As described above, when the polishing is repeated, the thickness of the glass substrate becomes excessively thin and deviates from the specification, so that there is a problem that the glass substrate cannot be reused. Furthermore, since the thickness of the glass substrate decreases when the polishing is repeated, the number of times that the glass substrate can be recycled is limited.
しかし、特許文献４記載の技術であると、貼り合わせたガラス基板を剥離する際に、接合部の周辺に形成された面取り部にくさび状の剥離器具を作用させることによりかつ容易にもとの二つの部材に分離しているが、このような手法であると、剥離が上手くできない場合があるという問題があった。さらに、この特許文献記載のサイズよりも大きなマスクに対しては剥離工程そのものの難易度が上がっているためこれを改善したいという要求があった。
However, in the technique described in
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
１． 高価なガラス基板に対する再研磨を必要とせずに安価で、かつ、リサイクル回数の制限もなしにリサイクル可能とすること。
２． 貼り合わせたガラス基板からなるフォトマスクあるいはフォトマスク用ブランクスにおいて、ガラスの剥離を容易に可能とすること。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and intends to achieve the following object.
1. Recycling is possible without requiring re-polishing of expensive glass substrates and without limiting the number of recycling.
2. In a photomask or a photomask blank made of a bonded glass substrate, the glass can be easily peeled off.
本発明のマスクブランクスは、平板状の第１のガラスと、マスクパターンが形成可能とされる第２のガラスとが剥離可能として直接接合され、
前記第１のガラスと第２のガラスとの貼り合わせ面に流体を注入して剥離するための注入部が設けられたことにより上記課題を解決した。
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、マスクパターンのない周縁部に設けられることができる。
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、矩形輪郭とされた前記第１のガラスにおけるいずれか一辺の中央位置に配置されることが好ましい。
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、第２のガラスに設けられることがある。
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、第１のガラスに設けられることもできる。
本発明のマスクブランクスは、前記注入部において、前記貼り合わせ面に位置する一方の開口よりも注入口となる他方の開口が、より縁部に近接するように設けられることが望ましい。
本発明のフォトマスクは、上記のいずれかに記載のマスクブランクスにマスクパターンが形成されたことができる。
本発明のマスクブランクスの製造方法は、上記のいずれかに記載されたマスクブランクスの製造方法であって、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを準備する準備工程と、
前記注入部を形成する注入部加工工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとの表面処理をする表面処理工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
貼り合わせたガラスを洗浄処理する洗浄工程と、
遮光層を前記第２のガラスの表面に形成する遮光層形成工程と、
を有することができる。
本発明のマスクブランクスの製造方法は、貼り合わされた前記第１のガラスと前記第２のガラスとをそれぞれ保持する分離前工程と、
前記注入部から前記貼り合わせ面に流体を注入して、貼り合わされた前記第１のガラスと前記第２のガラスとを剥離する分離工程と、
を有することができる。
本発明のフォトマスクの製造方法は、上記のフォトマスクの製造方法であって、
先の製造方法によって製造されたマスクブランクスに対して、
フォトレジストを形成するレジスト形成工程と、
マスクパターンを形成するパターン形成工程と、
を有することが好ましい。
本発明のフォトマスクの製造方法は、上記のフォトマスクの製造方法において、
上述した前記分離工程が、フォトマスクとしてのマスクパターンを利用した露光工程後におこなわれることができる。
In the mask blanks of the present invention, the flat plate-like first glass and the second glass capable of forming a mask pattern are directly bonded as peelable,
The said subject was solved by providing the injection | pouring part for inject | pouring and peeling a fluid to the bonding surface of said 1st glass and 2nd glass.
In the mask blank of the present invention, the implantation part may be provided in a peripheral part without a mask pattern.
In the mask blank of the present invention, it is preferable that the injection portion is disposed at a central position on any one side of the first glass having a rectangular outline.
In the mask blank of the present invention, the injection part may be provided in the second glass.
In the mask blank of the present invention, the injection portion may be provided in the first glass.
In the mask blank of the present invention, it is desirable that the other opening serving as the injection port is closer to the edge portion than the one opening located on the bonding surface in the injection portion.
In the photomask of the present invention, a mask pattern can be formed on any of the mask blanks described above.
The mask blank manufacturing method of the present invention is a mask blank manufacturing method described in any of the above,
A preparation step of preparing the first glass and the second glass;
An injection portion processing step for forming the injection portion;
A surface treatment step of performing surface treatment of the first glass and the second glass;
A laminating step of laminating the first glass and the second glass;
A cleaning process for cleaning the bonded glass;
A light shielding layer forming step of forming a light shielding layer on the surface of the second glass;
Can have.
The manufacturing method of the mask blanks of the present invention includes a pre-separation step for holding the first glass and the second glass that are bonded together,
A separation step of injecting a fluid from the injection portion to the bonding surface and peeling the bonded first glass and the second glass;
Can have.
The photomask manufacturing method of the present invention is the above-described photomask manufacturing method,
For mask blanks manufactured by the previous manufacturing method,
A resist forming step of forming a photoresist;
A pattern forming step of forming a mask pattern;
It is preferable to have.
The photomask manufacturing method of the present invention is the above photomask manufacturing method,
The separation process described above can be performed after an exposure process using a mask pattern as a photomask.
本発明のマスクブランクスは、平板状の第１のガラスと、マスクパターンが形成可能とされる第２のガラスとが剥離可能として直接接合され、
前記第１のガラスと第２のガラスとの貼り合わせ面に流体を注入して剥離するための注入部が設けられたことにより、注入部から流体を注入して第１のガラスと第２のガラスとを剥離して容易に分離することが可能となる。これにより、分離に際して貼り合わせ面に傷を生じたりすることを防止してマスクブランクスを再生することが可能となる。
注入部としては、薄板ガラス（第２のガラス）に貫通孔を設けること、あるいは、構造上主となる構造材とされる厚板ガラス（第１のガラス）に貫通孔を設けることが可能である。さらに、注入部となる貫通孔としては、Ｌ字やＴ字など種々の形状を採用することができ、第１のガラスと第２のガラスとの端面に溝を設けて、流体であるクリーンエアー（気体）または純水（液体）を容易に注入可能とする構造とすることができる。注入部の形状や個数はマスクの大きさや厚さ等の条件により任意に選択可能である。
In the mask blanks of the present invention, the flat plate-like first glass and the second glass capable of forming a mask pattern are directly bonded as peelable,
By providing an injection part for injecting and peeling a fluid on the bonding surface of the first glass and the second glass, the fluid is injected from the injection part and the first glass and the second glass are supplied. It becomes possible to separate easily from the glass. As a result, it is possible to reproduce the mask blanks while preventing the bonded surface from being damaged during separation.
As an injection | pouring part, it is possible to provide a through-hole in thin plate glass (2nd glass), or to provide a through-hole in the thick plate glass (1st glass) used as the structural material which becomes main structurally. . Furthermore, as the through-hole serving as the injection portion, various shapes such as L-shape and T-shape can be adopted, and grooves are provided on the end surfaces of the first glass and the second glass, and clean air that is fluid A structure that allows easy injection of (gas) or pure water (liquid) can be provided. The shape and number of implantation portions can be arbitrarily selected according to conditions such as the size and thickness of the mask.
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、マスクパターンのない周縁部に設けられることにより、マスクパターンに影響を与えることなく、剥離容易性を呈することが可能となる。 In the mask blank of the present invention, the injection portion is provided at the peripheral portion without the mask pattern, so that it is possible to exhibit ease of peeling without affecting the mask pattern.
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、矩形輪郭とされた前記第１のガラスにおけるいずれか一辺の中央位置に配置されることにより、注入部から注入した流体が効率よく注入部周りの貼り合わせ面に広がって、第１のガラスと第２のガラスとが離間している面積を容易に拡大することができるとともに、洗浄液に浸漬してマスクブランクスを洗浄する際には、注入部による洗浄液の影響を低減することができる。 In the mask blank of the present invention, the fluid injected from the injection part is efficiently attached around the injection part by arranging the injection part at a central position on any one side of the first glass having a rectangular outline. The area where the first glass and the second glass are spread apart on the mating surfaces can be easily enlarged, and when the mask blanks are cleaned by immersing in the cleaning liquid, the cleaning liquid by the injection unit Can be reduced.
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、第２のガラスに設けられることにより、再生する第１のガラスに加工を施すことなくマスクブランクスの再生に際して貼り合わせたガラスの分離を容易におこなうことができる。 In the mask blank of the present invention, when the injection portion is provided in the second glass, the glass that has been laminated is easily separated without reprocessing the first glass to be regenerated. Can do.
本発明のマスクブランクスは、前記注入部が、第１のガラスに設けられることにより、マスクパターンに影響を及ぼすことなく注入部を形成することが容易になるとともに、マスクブランクスをその法線方向の軸を回転中心としたスピン洗浄をおこなう際に、注入部内の洗浄液を容易に除去することが可能となる。 In the mask blank of the present invention, since the injection portion is provided in the first glass, it becomes easy to form the injection portion without affecting the mask pattern, and the mask blank is arranged in the normal direction. When performing spin cleaning around the axis of rotation, the cleaning liquid in the injection part can be easily removed.
本発明のマスクブランクスは、前記注入部において、前記貼り合わせ面に位置する一方の開口よりも注入口となる他方の開口が、より縁部に近接するように設けられることにより、マスクブランクスをその法線方向の軸を回転中心としたスピン洗浄をおこなう際に、注入部内の洗浄液を容易に除去することが可能となる。 In the mask blank of the present invention, in the injection portion, the other opening serving as the injection port is provided closer to the edge than the one opening located on the bonding surface, so that the mask blank is When performing spin cleaning with the axis in the normal direction as the center of rotation, the cleaning liquid in the injection portion can be easily removed.
本発明のフォトマスクは、上記のいずれかに記載のマスクブランクスにマスクパターンが形成されたことにより、これらのマスクブランクスから製造されたフォトマスクにおいて上記の作用効果をそれぞれ呈することができる。 The photomask of the present invention can exhibit the above-described effects in the photomask manufactured from these mask blanks by forming a mask pattern on any of the above-described mask blanks.
本発明のマスクブランクスの製造方法は、上記のいずれかに記載されたマスクブランクスの製造方法であって、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを準備する準備工程と、
前記注入部を形成する注入部加工工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとの表面処理をする表面処理工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
貼り合わせたガラスを洗浄処理する洗浄工程と、
遮光層を前記第２のガラスの表面に形成する遮光層形成工程と、
を有することにより、マスクブランクスの製造、および、再生を容易におこなうことが可能となる。
The mask blank manufacturing method of the present invention is a mask blank manufacturing method described in any of the above,
A preparation step of preparing the first glass and the second glass;
An injection portion processing step for forming the injection portion;
A surface treatment step of performing surface treatment of the first glass and the second glass;
A laminating step of laminating the first glass and the second glass;
A cleaning process for cleaning the bonded glass;
A light shielding layer forming step of forming a light shielding layer on the surface of the second glass;
It becomes possible to easily manufacture and regenerate the mask blanks.
本発明のマスクブランクスの製造方法は、貼り合わされた前記第１のガラスと前記第２のガラスとをそれぞれ保持する分離前工程と、
前記注入部から前記貼り合わせ面に流体を注入して、貼り合わされた前記第１のガラスと前記第２のガラスとを剥離する分離工程と、
を有することにより、分離した第１のガラスを再生するために前記準備工程に送ることができる。
The manufacturing method of the mask blanks of the present invention includes a pre-separation step for holding the first glass and the second glass that are bonded together,
A separation step of injecting a fluid from the injection portion to the bonding surface and peeling the bonded first glass and the second glass;
In order to regenerate the separated first glass, it can be sent to the preparation step.
本発明のフォトマスクの製造方法は、上記のフォトマスクの製造方法であって、
先の製造方法によって製造されたマスクブランクスに対して、
フォトレジストを形成するレジスト形成工程と、
マスクパターンを形成するパターン形成工程と、
を有することによりフォトマスクの再生をおこなうことが容易になる。
The photomask manufacturing method of the present invention is the above-described photomask manufacturing method,
For mask blanks manufactured by the previous manufacturing method,
A resist forming step of forming a photoresist;
A pattern forming step of forming a mask pattern;
It becomes easy to reproduce the photomask.
本発明のフォトマスクの製造方法は、上記のフォトマスクの製造方法において、
上述した前記分離工程が、フォトマスクとしてのマスクパターンを利用した露光工程後におこなわれることにより、高価なガラス基板に対する再研磨を必要とせずに安価で、かつ、リサイクル回数の制限もなしにリサイクル可能とし、貼り合わせたガラス基板からなるフォトマスクにおいて、ガラスの剥離を容易に可能とすることができる。
The photomask manufacturing method of the present invention is the above photomask manufacturing method,
The separation process described above is performed after an exposure process using a mask pattern as a photomask, so that it is inexpensive without re-polishing an expensive glass substrate and can be recycled without any restriction on the number of recycling. In a photomask formed of a bonded glass substrate, the glass can be easily peeled off.
本発明によれば、高価なガラス基板に対する再研磨を必要とせずに安価で、かつ、リサイクル回数の制限もなしにリサイクル可能とし、貼り合わせたガラス基板からなるフォトマスクあるいはフォトマスク用ブランクス（マスクブランクス）において、ガラスの剥離を容易に可能とすることができることができるという効果を奏することが可能となる。 According to the present invention, a photomask or a mask for a photomask (a mask) made of a bonded glass substrate can be recycled without requiring re-polishing of an expensive glass substrate and without being limited in the number of times of recycling. In the blanks), it is possible to achieve an effect that the glass can be easily peeled off.
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスク、その製造方法の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態におけるマスクブランクスを示す平面図（ａ）、断面図（ｂ）であり、図２は、本実施形態におけるマスクブランクスの注入部を示す断面図であり、図３は、本実施形態におけるマスクブランクスにおける分離工程を示す断面図であり、図４は、本実施形態におけるマスクブランクスにおける注入状態を示す平面図であり、図５は、本実施形態におけるマスクブランクスにおける注入状態を説明するための平面図であり、図６は、本実施形態における洗浄工程におけるマスクブランクスを示す平面図であり、図７は、本実施形態におけるマスクブランクスにおける浸漬型の洗浄状態を示す正面図であり、図において、符号１０は、マスクブランクスである。
Hereinafter, a mask blank according to the present invention, a photomask, and a first embodiment of a manufacturing method thereof will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view (a) and a sectional view (b) showing a mask blank in the present embodiment, FIG. 2 is a sectional view showing an injection portion of the mask blank in the present embodiment, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a separation process in the mask blank in this embodiment, FIG. 4 is a plan view showing an implantation state in the mask blank in this embodiment, and FIG. 5 shows an implantation state in the mask blank in this embodiment. FIG. 6 is a plan view illustrating a mask blank in a cleaning process according to the present embodiment, and FIG. 7 is a front view illustrating an immersion type cleaning state in the mask blank according to the present embodiment. In the figure,
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図１に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離するための注入部１４が設けられている。第１のガラス１１と第２のガラス１２との二つの部材の貼り合わせは剥離可能な方法、たとえばオプティカルコンタクト（直接接合）により行われている。
As shown in FIG. 1, the mask blank 10 according to the present embodiment is capable of peeling the flat plate-like
第１のガラス１１は第２のガラス１２よりも厚く設定され、マスクブランクス１０あるいはフォトマスクとして再生される。
第２のガラス１２はフォトマスク１０としての使用が終了した後、廃棄されることになる。第２のガラス１２には、マスクパターンＭ、または、このマスクパターンＭを形成するための遮光層Ｍ０が形成される。
The
The
本実施形態において、注入部１４は第２のガラス１２に貫通して設けられる。注入部１４が、図１（ａ）に示すように、マスクパターンＭのない周縁部１５に配置するとともに、矩形輪郭とされた第２のガラス１２におけるいずれか一辺の中央位置に配置されている。
In the present embodiment, the
注入部１４は、図１（ｂ）に概略示すように、平板状とされる第２のガラス１２の法線方向に貫通する単純形状とされることもできるが、図２、図６に示すように、貼り合わせ面１３に位置する一方の開口１４ａよりも注入口となる他方の開口１４ｂが、第２のガラス１２の平面視した輪郭外縁側に近接している状態が好ましい。つまり、注入部１４は、第２のガラス１２を貫通する貫通孔が、貼り合わせ面１３側開口１４ａからマスクパターンＭを設ける表面側開口１４ｂに向かって第２のガラス１２の平面視した輪郭外縁側方向に傾斜するように設けられること、または、流体を注入する注入ノズルＮに当接する側の開口１４ｂから貼り合わせ面１３側開口１４ａに向かって注入部１４が第２のガラス１２の中心側に向けて傾斜していることが好ましい。
As shown schematically in FIG. 1B, the
また、注入部１４は、図２に示すように、注入部１４から流体を注入する際に、この注入ノズルＮを当接する注入部１４の開口１４ｂが、ノズルＮの先端Ｎ１形状に対応して密閉可能なように拡径されかつノズルＮの先端Ｎ１形状に対応した凹形状とされている。
Further, as shown in FIG. 2, when the fluid is injected from the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図３に示すように、注入部１４に当接したノズルＮにより、注入部１４から貼り合わせ面１３に流体を注入することで、容易に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離して分離することができる。
As shown in FIG. 3, the mask blank 10 according to the present embodiment can easily inject the first glass by injecting a fluid from the
注入部１４が、図４に示すように、矩形輪郭とされた第２のガラス１２におけるいずれか一辺の中央位置に配置されていることにより、注入工程において注入された流体が、注入部を中心として略円形に拡大して拡がってゆき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分が増大してゆく。
As shown in FIG. 4, the
また、図５に示すように、注入部１４が、矩形輪郭とされた第２のガラス１２におけるいずれか一の角付近となる位置に配置されていることにより、図４に示す例に比べて、流体の注入量に対する第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分の増大比は少ないものとなるが、例えば、図６に示すように、第２のガラス１２の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程にマスクブランクス１０を供した場合には、この注入部１４内の洗浄液に起因する影響が小さくなるため好ましい。
Moreover, as shown in FIG. 5, the injection | pouring
さらに、本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図６に示すように、第２のガラス１２の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程において、マスクブランクス１０を矢印ｓｐ方向に回転させた場合に、注入部１４内の洗浄液が回転によって容易に排出可能なように、貼り合わせ面１３側開口１４ａからマスクパターンＭを設ける表面側開口１４ｂに向かって回転方向に合わせて注入部１４を傾斜させることができる。この場合、図６に示すように、回転速度等、洗浄条件に対応して、傾斜方向をθの範囲とすることが可能である。ここで、角度θは回転ｓｐ方向に対して、後方に向かうように設定することができる。
Further, as shown in FIG. 6, the mask blank 10 according to the present embodiment rotates the mask blank 10 in the direction of the arrow sp in the cleaning process by spin rotation with the normal direction of the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図７に示すように、浸漬型の洗浄状態においては、矩形輪郭とされた第２のガラス１２における注入部１４が配置されている辺を下側位置として洗浄液に浸漬することが好ましい。また、浸漬型の洗浄状態においては、図５に示すように、矩形輪郭とされた第２のガラス１２における注入部１４が配置されている角付近を下側位置として洗浄液に浸漬することが好ましい。
As shown in FIG. 7, the mask blank 10 according to the present embodiment has, as the lower side position, the side where the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図８（ｃ）に示すように、第２のガラス１２の表面にマスクパターンＭを形成することでフォトマスク１０となる。
The mask blank 10 according to the present embodiment becomes a
以下、本実施形態に係るマスクブランクス、フォトマスクの製造方法を図面に基づいて説明する。
図８は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法を示す工程図であり、図９は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法を示すフローチャートである。
Hereinafter, a method for manufacturing a mask blank and a photomask according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 8 is a process diagram illustrating a method for manufacturing a mask blank and a photomask according to the present embodiment, and FIG. 9 is a flowchart illustrating a method for manufacturing the mask blank and the photomask according to the present embodiment.
本実施形態に係るマスクブランクス、フォトマスクの製造方法は、図９に示すように、第１のガラス１１を再生してマスクブランクス（フォトマスク）１０を製造するものであり、第１準備工程Ｓ１１と、第２準備工程Ｓ２１と、注入部加工・外形加工工程Ｓ０２と、第１洗浄処理工程Ｓ１３と、第２洗浄処理工程Ｓ２３と、貼り合わせ工程Ｓ０４と、洗浄工程Ｓ０５と、遮光層形成工程Ｓ０６と、レジスト形成工程Ｓ０６ａと、パターン形成工程Ｓ０６ｂと、露光工程Ｓ０７と、分離前工程Ｓ０８と、分離工程Ｓ０９と、再生処理工程Ｓ１０と、廃棄工程Ｓ２０と、を有する。
As shown in FIG. 9, the mask blanks and photomask manufacturing method according to the present embodiment is a method for manufacturing the mask blanks (photomask) 10 by regenerating the
本実施形態に係るマスクブランクス、フォトマスクの製造方法は、図９に示す第１準備工程Ｓ１１として、第１のガラス１１を新規のものあるいは、再生されたものを準備する。第１のガラス１１としては、一般的にフォトマスク用に用いられる石英または青板、硼珪酸ガラスなどのガラス基板が用いられる。
In the mask blanks and photomask manufacturing methods according to the present embodiment, a new or regenerated
同時に、図９に示す第２準備工程Ｓ２１として、第２のガラス１２を準備する。このとき、第２のガラス１２として、主にＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用途に用いられる無アルカリガラスに代表される、フュージョン法またはダウンフロー法を用いて製造された薄板ガラス（例えばコーニング社のフュージョン法を用いて製造されているＥａｇｌｅ ＸＧなど）を使用することができる。
At the same time, the
オプティカルコンタクト（直接接合）を行うためには十分小さな表面粗さ（Ｒａ＞０．５ｎｍ）が要求されるが、これらの製法を用いて製造されたガラスは研磨を行わなくとも充分に平滑な表面を有している。そのため、高額な研磨費用を節約することが可能となる。さらに、高精細フォトマスク用途でさらに低欠陥が要求された場合に、第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合後に第２のガラス１２の表面に対して研磨を行うことが可能であるが、これらの製法を用いて製造されたガラスはすでに良好な表面を有しているために研磨量を少なくすることができるため、研磨にかかるコストを削減することが可能となる。
A sufficiently small surface roughness (Ra> 0.5 nm) is required for optical contact (direct bonding), but glass produced using these production methods has a sufficiently smooth surface without polishing. have. Therefore, it is possible to save expensive polishing costs. Furthermore, when a further low defect is required for a high-definition photomask application, the surface of the
次いで、図９に示す注入部加工・外形加工工程Ｓ０２として、図２に示すように、第２のガラス１２に貫通孔となる注入部１４を形成する。本実施形態では、第２のガラス１２のみに貫通する注入部１４とされるが、第１のガラス１１のみ、あるいは、第１のガラス１１と第２のガラス１２とに形成することもできる。
Next, as shown in FIG. 2, an
注入部加工・外形加工工程Ｓ０２においては、第２のガラス（薄板ガラス）１２にはパターンエリアＭに掛からない周縁部１５に注入部１４としてφ１ｍｍ程度の貫通孔をドリル加工により形成した。注入部１４としての貫通孔の加工方法はマイクロブラスト、エッチング等の他の方法でもよい。この加工に際して、あらかじめ薄板ガラス１２の両面に樹脂製の保護フィルムを貼り付けた状態で切断・端面処理等の外形加工及び貫通孔加工をおこなうことで、第２のガラス１２に対してキズ等の表面欠陥が生じることを防止できるため望ましい。
In the injection portion processing / outer shape processing step S02, a through hole having a diameter of about 1 mm was formed in the second glass (thin glass) 12 as an
注入部加工・外形加工工程Ｓ０２において第１のガラス１１には外形加工及び注入部加工を行った後に、研磨工程Ｓ０２ａとして、フォトマスクブランクスとして求められる低欠陥表面とするために精密研磨を行うことができる。
In the injection portion processing / outline processing step S02, the
次いで、図９に示す第１洗浄処理工程Ｓ１３と第２洗浄処理工程Ｓ２３として、第１のガラス１１と第２のガラス１２とのそれぞれにおいて、保護フィルムの剥離、ガラス用洗浄剤による洗浄、清浄度を上げるための洗浄、リンス液による洗浄、オゾン水や水素水などの機能水または硫酸過水、アンモニア過水による洗浄、および、スピン乾燥、後述するＩＰＡベーパー乾燥の乾燥等によりパーティクルのない清浄な表面とする。
Next, as the first cleaning processing step S13 and the second cleaning processing step S23 shown in FIG. 9, the protective film is peeled off, cleaned with a glass cleaning agent, and cleaned in each of the
次いで、図９に示す貼り合わせ工程Ｓ０４として、所定の注入部１４形成加工および表面処理の終了した第１のガラス１１と第２のガラス１２とを貼り合わせる。このとき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との位置を合わせて接触させる際に、矩形となっている四辺のうち所定の一辺から接触させ、徐々に全体を接触させることで界面（貼り合わせ面）１３に気泡が残留しないように接合する。
Next, as the bonding step S04 shown in FIG. 9, the
貼り合わせ工程Ｓ０４においては、第１のガラス１１の一面（表面）に第２のガラス１２を貼り合わせたが、第１のガラス１１の他の面（裏面）にも第２のガラス１２と同等な薄板ガラスを貼り付けることができる。これにより、熱膨張係数の違いによるソリを低減し、かつ、精密な研磨をおこなった第１のガラス（厚板ガラス）１１の両面を保護することが可能になる。さらに、貼り付けを行う際の温度をフォトマスクとして使用される温度と同じ条件とすることにより、さらなるソリ発生の低減を実現可能とすることができるために好ましい。
In the bonding step S04, the
貼り合わせ工程Ｓ０４においては、高精細用途でさらに低欠陥が要求される場合は貼り合わされた状態における研磨をおこなうこともできる。この場合第２のガラス１２または裏面の薄板ガラス表面はすでに良好な表面状態を有しているために研磨量を少なくすることができる。
In the bonding step S04, when a further low defect is required for high-definition applications, polishing in the bonded state can be performed. In this case, the amount of polishing can be reduced because the
次いで、図９に示す洗浄工程Ｓ０５として、図６に示したスピン洗浄または図７に示した洗浄槽への浸漬法、等など、所定の方法により貼り合わせされた第１のガラス１１と第２のガラス１２とを洗浄する。なお、図６に示したスピン洗浄においては、図の紙面法線方向から洗浄液を滴下または噴射するとともに、矢印ｓｐ方向にガラス基板を回転させる洗浄方法である。さらに、ＩＰＡベーパー乾燥（Iso-Propyl Alcohol 蒸気乾燥）などをおこなうこともできる。
Next, as the cleaning step S05 shown in FIG. 9, the
次いで、図９に示す遮光層形成工程Ｓ０６として、洗浄処理の終了した第２のガラス１２の表面に、図８（ａ）に示すように、遮光層Ｍ０を形成する。
遮光層Ｍ０は、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデンシリサイド（ＭｏＳｉ）またはそれらの積層膜などが成膜される。
Next, as a light shielding layer forming step S06 shown in FIG. 9, as shown in FIG. 8A, a light shielding layer M0 is formed on the surface of the
The light shielding layer M0 is formed of chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum silicide (MoSi), or a laminated film thereof.
次いで、図９に示すレジスト形成工程Ｓ０６ａとして、第２のガラス１２側の上面に、図８（ｂ）に示すように、遮光層Ｍ０上にフォトレジストＣ０を塗布・プリベークしてマスクブランクス１０とする。
Next, as a resist forming step S06a shown in FIG. 9, a photoresist C0 is applied and prebaked on the light shielding layer M0 on the upper surface on the
次いで、図９に示すパターン形成工程Ｓ０６ｂとして、第２のガラス１２側の遮光層Ｍ０に対して、フォトレジストＣ０を用いて露光・除去するフォトリソ工程により、図８（ｃ）に示すように、遮光層Ｍ０にマスクパターンＭを形成してフォトマスク１０とする。具体的には、マスクパターンを描画し、フォトレジストＣ０を露光・現像し、遮光膜Ｍ０をエッチングし、フォトレジストＣ０の剥離し、マスクブランクス１０を洗浄して、フォトマスクパターンを形成することでフォトマスクとして完成する。ここで、必要ならば、ペリクルやの貼り付けや接着剤による枠の取り付けなどをおこなう。
Next, as a pattern forming step S06b shown in FIG. 9, a photolithographic step of exposing and removing the light shielding layer M0 on the
次いで、図９に示す露光工程Ｓ０７として、マスクパターンＭを用いて露光・パターニングをおこないフォトマスク１０としての利用をする。
Next, as an exposure step S07 shown in FIG. 9, exposure and patterning are performed using the mask pattern M, and the
次いで、図９に示す分離前工程Ｓ０８として、フォトマスク１０のリサイクルを開始する。
分離前工程Ｓ０８は、フォトマスク１０としての利用が終了したものまたは、マスクパターンの欠陥等何らかの理由によりフォトマスクとして利用されないものに適用される。具体的には、フォトマスクとして使用済みとなった後に、フォトマスクとして廃棄（デザイン変更やパターンのカケなどにより利用しなくなったマスクを廃棄）すると判断されたものとされる。
Next, as a pre-separation step S08 shown in FIG. 9, recycling of the
The pre-separation step S08 is applied to those that have been used as the
分離前工程Ｓ０８においては、まず、パーティクル等が原因によるキズの発生を防止するためにフォトマスク１０に対して、ガラス用洗剤による洗浄、純水によるリンス、ＩＰＡベーパー乾燥による洗浄をおこなった。
分離前工程Ｓ０８における洗浄後、図８（ｄ）に示すように、薄板ガラス（第２のガラス）１２の表面に破損防止用として樹脂フィルムＳを貼り付けた。樹脂フィルムＳは、注入部１４を閉塞しないように、注入部１４近傍領域のみ切断除去されていることができる。
In the pre-separation step S08, first, the
After the cleaning in the pre-separation step S08, as shown in FIG. 8D, the resin film S was attached to the surface of the thin glass (second glass) 12 for preventing damage. The resin film S can be cut and removed only in the vicinity of the
さらに、この分離前工程Ｓ０８として、貼り合わされた第１のガラス１１と第２のガラス１２とをクリーンルーム内または、クリーンブース下のパーティクルの少ない環境に保持する。
Further, as the pre-separation step S08, the bonded
図１０は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
具体的には、分離前工程Ｓ０８として、図１０に示すように、第１のガラス１１が下側に、かつ、第２のガラス１２が上側になるように平坦面に載置し、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ１方向に第２のガラス１２を剥離可能としておく。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the mask blank and photomask manufacturing method according to the present embodiment.
Specifically, as shown in FIG. 10, as the pre-separation step S08, the
図１１は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
分離前工程Ｓ０８として、図１１に示すように、第２のガラス１２が下側に、かつ、第１のガラス１１が上側になるように主面が水平面都平行になるように位置させるとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第１のガラス１１を保持し、矢印ｓ２方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合に柔らかい保持部材Ｈ２により捕獲可能としておく。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the method for manufacturing mask blanks and photomasks in the present embodiment.
As the pre-separation step S08, as shown in FIG. 11, the
図１２は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
ＦＰＤなど大型のマスクの場合には、分離前工程Ｓ０８として、図１２に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第２のガラス１２がわずかに下側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ３，Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により下側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ３方向に第２のガラス１２を回動させて剥離可能としておく。この場合、注入部１４は上側に位置する水平方向に延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておく。また、矢印ｓ３方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合にも図示しない保持部材により捕獲可能としておく。この場合、保持具Ｈ１によって第２のガラス１２を保持せずに、第２のガラス１２の自重により剥離させることもできる。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the mask blank and photomask manufacturing method according to this embodiment.
In the case of a large mask such as an FPD, as the pre-separation step S08, as shown in FIG. 12, the
図１３は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
さらに、ＰＤなど大型のマスクの場合には、分離前工程Ｓ０８として、図１３に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第１のガラス１１がわずかに上側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ４方向に第２のガラス１２を回動させて剥離可能としておく。この場合、注入部１４は左右のいずれかに位置する略鉛直方向に傾斜して延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておく。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the mask blank and photomask manufacturing method according to this embodiment.
Further, in the case of a large mask such as PD, as shown in FIG. 13, as the pre-separation process S <b> 08, the
このように、図９に示す分離前工程Ｓ０８として、フォトマスク１０の保持工程が完了したら、図８（ｅ）に示すように、注入部１４に、流体を注入するためのノズルＮを当接させ、ノズルＮに接続された流体供給手段Ｎ０からノズルＮに流体を供給可能としておく。
As described above, when the
次いで、図９に示す分離工程Ｓ０９として、図８（ｅ）に示すように、注入口１４に当接したノズルＮに、所定の圧力に（０．５ＭＰａ）に加圧した流体として、パーティクルを除去した窒素ガスまたはクリーンエアー、純水等の液体を供給することができる。
なお、分離工程Ｓ０９として行う剥離プロセスはパーティクルの少ない純水などの液体中でおこなうことができ、その場合には注入口１４に供給する流体として、気体ではなく純水等の液体を用いることになる。
Next, as a separation step S09 shown in FIG. 9, as shown in FIG. 8E, particles are applied as a fluid pressurized to a predetermined pressure (0.5 MPa) to the nozzle N in contact with the
Note that the separation process performed as the separation step S09 can be performed in a liquid such as pure water with few particles, and in that case, a liquid such as pure water is used instead of a gas as a fluid supplied to the
分離工程Ｓ０９として、図８（ｆ）に示すように、注入部１４を介してノズルＮから供給された流体を貼り合わせ面１３に注入すると、流体が注入部１４から貼り合わせ面１３に沿って拡がり、流体注入部分における第１のガラス１１と第２のガラス１２とを離間させる。同時に、この貼り合わせ面１３の流体注入部分において、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除するとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２とが離間した領域を徐々に拡大して、最終的に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離する。
As the separation step S09, as shown in FIG. 8F, when the fluid supplied from the nozzle N through the
このとき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との離間領域拡大に際して、同時に、図における矢印ｓ１〜ｓ４までの方向に保持具Ｈ１等を用いて第２のガラス１２を離間方向に移動するように力をかけて、剥離を補助する。
At this time, when the separation region between the
具体的には、分離工程Ｓ０９として、図１０に示すように、保持具Ｈ１の先端で吸着・保持した上側の第２のガラス１２を、矢印ｓ１方向に引張して、流体の注入した注入部１４近傍の貼り合わせ面１３が離間した領域を拡大するように移動させる。これにより、第２のガラス１２が上方に移動するとともに、平坦面に載置された下側の移動しない（厚板ガラス）第１のガラス１１から離間して、第２のガラス１２が剥離される。
Specifically, as the separation step S09, as shown in FIG. 10, the upper
または、分離工程Ｓ０９として、図１１に示すように、下側に位置する第２のガラス１２が、重力により下方向である矢印ｓ２方向に引張されているので、貼り合わせ面１３に流体が注入部１４から注入されると、自重により矢印ｓ２方向に第２のガラス１２が落下して、保持具Ｈ１により上側に保持された第１のガラス１１から分離する。落下した第２のガラス１２は、柔らかい保持部材Ｈ２により捕獲される。
Alternatively, as the separation step S09, as shown in FIG. 11, the
または、ＦＰＤなど大型のマスクの場合には、分離工程Ｓ０９として、図１２に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第２のガラス１２がわずかに下側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ３，Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により下側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ３方向に第２のガラス１２を引張して、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除するとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２とが離間した領域を徐々に拡大可能としておく。
Alternatively, in the case of a large mask such as an FPD, as the separation step S09, as shown in FIG. 12, the second glass is placed in a state where the
この場合、注入部１４が上側で水平方向に延在する辺の中央に位置していることにより、まず、上端部分が剥離して、重力により矢印ｓ３方向への回動を補助することができる。
また、矢印ｓ３方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合にも図示しない保持部材により捕獲する。この場合、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除された領域がある程度拡がったら、保持具Ｈ１によって第２のガラス１２を保持して矢印ｓ３方向に引張せずに、第２のガラス１２の自重のみにより剥離させることもできる。
In this case, since the
Further, even when the
または、ＦＰＤなど大型のマスクの場合には、分離工程Ｓ０９として、図１３に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第１のガラス１１がわずかに上側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ４方向に第２のガラス１２を回動させて、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除された領域を拡大する。この場合、注入部１４は左右のいずれかに位置する略鉛直方向に傾斜して延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておくことで、左右方向に剥離領域が拡大してゆき、第２のガラス１２全体に流体が流入して、第２のガラス１２が第１のガラス１１から接続解除されてから、第２のガラス１２を第１のガラス１１から移動・分離することが好ましい。
Alternatively, in the case of a large mask such as an FPD, as the separation step S09, as shown in FIG. 13, the first glass is placed in a state where the
次いで、図９に示す再生処理工程Ｓ１０として、図８（ｇ）に示すように、第２のガラス１２から移動・分離した第１のガラス１１を再生するための選別処理をおこない、再生可能なものは第１洗浄処理工程Ｓ１３へと送られる。
Next, as a regeneration processing step S10 shown in FIG. 9, as shown in FIG. 8 (g), a sorting process for regenerating the
次いで、図９に示す廃棄工程Ｓ２０として、図８（ｇ）に示すように、第１のガラス１１から移動・分離した第２のガラス１２を廃棄するための処理をおこなう。
Next, as a discarding step S20 shown in FIG. 9, a process for discarding the
本実施形態によれば、このように、分離した第１のガラス１１は再生してリサイクルすることができる。このとき、第１のガラス１１には遮蔽層Ｍ０またはマスクパターンＭが直接形成されていないため、リサイクル時に、これらの膜を除去する必要がないので、高精細用の研磨をおこなう必要がない。これにより、研磨にかかる作業時間・コストを削減することができる。
According to the present embodiment, the separated
上述したように、剥離分離後に第１のガラス１１を第１洗浄処理工程Ｓ１３に送って再生することができるため、再研磨をおこなうことなく表面欠陥の少ないフォトマスク用ガラス基板（第１のガラス）１１を再生可能とすることができる。これにより、基板再生コストを低減可能として、マスクブランクスあるいはフォトマスクの製造および再生を容易におこなうことが可能となる。
As described above, since the
マスクブランクスあるいはフォトマスクを再生する際に、高精細用の再研磨を重ねる必要がないため、研磨によりガラス基板（第１のガラス）１１の厚みが減少することがない。これにより、第１のガラス１１における再生可能回数に対する制限を無くすことができる。従って、マスクブランクスあるいはフォトマスクにおける基板再生コストを低減できる。
When the mask blank or the photomask is regenerated, it is not necessary to repeat the high-definition re-polishing, so that the thickness of the glass substrate (first glass) 11 is not reduced by the polishing. Thereby, the restriction | limiting with respect to the frequency | count of reproduction | regeneration in the
仮にマスクとしての使用中またはリサイクル作業中に第１のガラス１１に再研磨による修正が必要とされるようなダメージを受け、第１のガラス１１に対する再研磨を繰り返し行って第１のガラス１１の厚みが規格値を超える程薄くなった場合には、貼り合わせる第２のガラス１２として上記の厚みよりもさらに厚いものを使用することで規格値に合わせたマスクブランクスあるいはフォトマスクの厚みを維持することも可能である。
If the
第１のガラス１１に貼り合わせる第２のガラス１２として、フュージョン法またはダウンフロー法により製造された薄板ガラスとして採用することにより、研磨を必要とせずにオプティカルコンタクトによる接合が可能となり、高価な研磨コストを低減あるいはなくしてしまうことができる。
By adopting as the
青板（ソーダライムガラス）を用いたフォトマスクではガラスのアルカリ成分が原因となるマウスニップと呼ばれるCrパターンが欠ける不具合が発生する場合があるが、本実施形態においては、表面に貼り合わせる薄板ガラス（第２のガラス）１２をアルカリ成分を含まない、例えば無アルカリガラスとすることによって、このマウスニップの発生を防止することが可能となる。 A photomask using a blue plate (soda lime glass) may have a defect in which a Cr pattern called a mouse nip due to the alkali component of the glass is missing, but in this embodiment, a thin plate to be bonded to the surface By making the (second glass) 12 free of alkali components, for example, non-alkali glass, it is possible to prevent the mouth nip from occurring.
注入部１４の設置位置は、フォトマスク１０におけるマスクパターンＭにかからない周縁部１５でかつ、辺の中央付近が望ましい。コーナー部（角部）に近いと、注入した流体がコーナー周辺の２辺より外部に漏れてしまい、基板中央まで流体が入り込んで行きづらくなり、作業時間が増大し作業効率が低下する可能性がある。
なお、周縁部１５の幅寸法は、小型フォトマスク１０では５ｍｍ以下、大型フォトマスク１０では２０ｍｍ以下として設定される。
As for the installation position of the
The width of the
図７に示すように、フォトマスク（マスクブランクス）１０を縦にして水槽に漬け込む方式であるディップ式洗浄によってフォトマスク１０を洗浄する場合、注入部１４を下端になる辺にのみ設けることにより、洗浄液の垂れ染みが作られてしまい、フォトマスク（マスクブランクス）１０の歩留まりが低下してしまうことを防止できる。
As shown in FIG. 7, when the
図６に示すように、スピン洗浄・スピン乾燥の場合は、一般的に水平にガラス基板（第２のガラス）１２が置かれるので、ガラス基板１２の４辺に注入部１４を設けることもできる。厚板ガラス（第１のガラス）１１に注入口を設ける場合には、スピンによる回転方向を考慮して、注入部１４を回転に対して径方向外向き方向から回転逆向き方向に傾斜した貫通孔とすることが望ましい。これにより、注入部１４内の洗浄液がスピン洗浄・スピン乾燥として回転した場合に排出され易いようにすることができる。
As shown in FIG. 6, in the case of spin cleaning / spin drying, a glass substrate (second glass) 12 is generally placed horizontally, so that
図６に示すように、スピン洗浄・スピン乾燥の場合は、ガラス基板（第２のガラス）１２の回転により洗浄液が注入部１４より排出され易くなるように、図２に示すように、注入部１４の貼り合わせ面１３に位置する一方の開口１４ａよりも注入口となる他方の開口１４ｂが、より輪郭縁部に近接するように設けられる。
As shown in FIG. 6, in the case of spin cleaning / spin drying, as shown in FIG. 2, the injection portion is arranged so that the cleaning liquid is easily discharged from the
注入部１４において、流体を注入するノズルＮとの接点部分となる開口１４ｂの内側形状は、図２に示すように、順テーパーとすることで、ノズルＮと開口１４ｂとの密着度を向上して、注入時の流体の漏れやノズルＮと第２のガラス１２との接触による欠け発生を防止することができる。
In the
図１４、図１５は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクにおけるベベリング面を示す断面図である。
厚板ガラス（第１のガラス）１１および薄板ガラス（第２のガラス）１２においては、マスク用基板としてその端面にべべリング（C面）１６を形成することがある。ここで、図１５に示すように、厚板ガラス（第１のガラス）１１および薄板ガラス（第２のガラス）１２のそれぞれにベベリング面１６ａを設けて、貼り合わせた薄板ガラス１２と厚板ガラス１１の端面における境界部分に段差がある場合には、洗浄工程において、この段差となるベベリング１６ａの部分において充分な洗浄がしづらくパーティクルの発生原因となるため好ましくない。したがって、本実施形態においては、図１４に示すように、薄板ガラス１２と厚板ガラス１１とを合わせた断面がその境界部分で面一となるように一体化された形状とする。このベベリング面の加工工程としては貼り合わせ工程Ｓ０４後で遮光層形成工程Ｓ０５前にこの端面加工を入れる製造方法とすることができる。
14 and 15 are cross-sectional views showing the beveling surfaces of the mask blank and the photomask in the present embodiment.
In the thick glass (first glass) 11 and the thin glass (second glass) 12, a beveling (C surface) 16 may be formed on the end surface as a mask substrate. Here, as shown in FIG. 15, each of the thick glass (first glass) 11 and the thin glass (second glass) 12 is provided with a
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第２実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, 2nd Embodiment of the mask blanks and photomask which concern on this invention is described based on drawing.
本実施形態において上述した第１実施形態と異なるのは注入部２４が第１のガラス１１に設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図１６は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す平面図（ａ）、断面図（ｂ）である。
The present embodiment is different from the first embodiment described above in that the
FIG. 16 is a plan view (a) and a sectional view (b) showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図１６に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離するための注入部２４が第１のガラス１１を厚さ方向に貫通する貫通孔として設けられている。
As shown in FIG. 16, the mask blank 10 in the present embodiment is configured such that the flat plate-like
本実施形態において、注入部２４は第１のガラス１１に貫通して設けられる。注入部２４が、図１６（ａ）に示すように、マスクパターンＭのない周縁部１５に配置するとともに、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置に配置されている。
In the present embodiment, the
注入部２４は、図１６（ｂ）に概略示すように、平板状とされる第１のガラス１１の法線方向に貫通する単純形状とされることもできるが、図２、図６に示した第１実施形態に対応して、貼り合わせ面１３に位置する一方の開口よりも注入口となる他方の開口が、第１のガラス１１の平面視した輪郭外縁側に近接するように傾斜していることが好ましい。
As schematically shown in FIG. 16B, the
また、注入部１４は、図２に示した第１実施形態に対応して、注入部２４から流体を注入する際に、この注入ノズルＮを当接する注入部２４の開口が、ノズルＮの先端Ｎ１形状に対応して密閉可能なように拡径されかつノズルＮの先端Ｎ１形状に対応した凹形状とされることができる。
Further, the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、注入部２４に当接したノズルＮにより、注入部２４から貼り合わせ面１３に流体を注入することで、容易に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離して分離することができる。
The mask blank 10 according to the present embodiment easily injects a fluid from the
注入部２４が、図４に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置に配置されていることにより、注入工程において注入された流体が、注入部を中心として略円形に拡大して拡がってゆき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分が増大してゆく。
Corresponding to the first embodiment shown in FIG. 4, the
また、図５に示した第１実施形態に対応して、注入部２４が、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一の角付近となる位置に配置されていることにより、図４に示す例に比べて、流体の注入量に対する第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分の増大比は少ないものとなるが、例えば、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程にマスクブランクス１０を供した場合には、この注入部２４内の洗浄液に起因する影響が小さくなるため好ましい。
Further, in correspondence with the first embodiment shown in FIG. 5, the
さらに、本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程において、マスクブランクス１０を矢印ｓｐ方向に回転させた場合に、注入部２４内の洗浄液が回転によって容易に排出可能なように、貼り合わせ面１３側開口からマスクパターンＭを設ける表面側開口に向かって回転方向に合わせて注入部２４を傾斜させることができる。この場合、図６に示した第１実施形態に対応して、回転速度等、洗浄条件に対応して、傾斜方向をθの範囲とすることが可能である。ここで、角度θは回転ｓｐ方向に対して、後方に向かうように設定することができる。
Further, the mask blank 10 according to the present embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 6 in the cleaning process by spin rotation with the normal direction and the rotation axis of the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図７に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１における注入部２４が配置されている辺を下側位置として洗浄液に浸漬することが好ましい。
The mask blank 10 according to the present embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 7, and the cleaning liquid with the side where the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図８（ｃ）に示した第１実施形態に対応して、第２のガラス１２の表面にマスクパターンＭを形成することでフォトマスク１０となる。
本実施形態に係るマスクブランクス１０またはフォトマスク１０では、厚板ガラス（第1のガラス）１１を厚さ方向に貫通するように注入部２４が設けられている。
The
In the mask blank 10 or the
第２の薄板ガラス１２へ注入部２４を設ける場合には、描画される予定のパターンデザインに合わせて注入部２４の位置を変更できるので、位置設定の自由度を高くすることができる。
一方、第１の厚板ガラス１１に注入部２４を加工する場合には、第１の厚板ガラス１１がリサイクルされる部分であるため、一度注入口２４を設ける位置を設定して注入口２４を設けたら、次のリサイクルの時、注入口２４を設ける位置を変更する自由度はない。
When the
On the other hand, when the
また、注入部２４を加工した第１のガラス１１を再生して複数回使用することができるため、再生時には、注入部２４加工の工程を省略することができ、作業工程の省略および処理時間の短縮を図ることができる。
Further, since the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第３実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a third embodiment of a mask blank and a photomask according to the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施形態において上述した第１および第２実施形態と異なるのは注入部３４が第１のガラス１１に屈曲して設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図１７は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す平面図（ａ）、断面図（ｂ）である。
In this embodiment, the difference from the first and second embodiments described above is that the
FIG. 17 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) showing a mask blank and a photomask in this embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図１７に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離するための注入部３４が、貼り合わせ面１３側から第１のガラス１１の端面１１ａまで屈曲して第１のガラス１１をＬ字状に貫通する貫通孔として設けられている。
As shown in FIG. 17, the mask blank 10 according to the present embodiment is configured such that the flat plate-like
本実施形態において、注入部３４は第１のガラス１１にＬ字状に貫通して設けられる。注入部３４は、図１７（ａ）に示すように、貼り合わせ面１３側の開口３４ｂがマスクパターンＭのない周縁部１５に配置されるとともに、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置に配置されて、貼り合わせ面１３位置から厚さ方向中央位置付近まで設けられるとともに、図１７（ｂ）に示すように、開口３４ｂと反対側の注入部３４の厚さ方向中央位置に連通して、横開口３４ｃが第１のガラス１１の中心から外縁に向かう径方向として貼り合わせ面１３の面に方向と平行な向きに延在して端面１１ａまで連通するように設けられ、この横開口３４ｃは、矩形輪郭とされた第１のガラス１１における開口３４ａの設けられた一辺に対応した端面１１ａに配置されている。
In this embodiment, the injection | pouring
注入部３４は、図１７（ｂ）に概略示すように、平板状とされる第１のガラス１１において、貼り合わせ面１３側から端面１１ａ側へ屈曲したＬ字状の貫通形状とされることもできるが、Ｌ字状ではなく、図２５（ａ）に示すように、開口３４ｂから横開口３４ｃまでの最短距離を結ぶ傾斜貫通孔３４ｄとすることや、図２５（ｂ）に示すように、開口３４ｂから横開口３４ｃまでを結ぶ円弧状の貫通孔３４ｅとすることもできる。この注入部３４は、図２、図６に示した第１実施形態に対応して、貼り合わせ面１３に位置する一方の開口３４ｂよりも注入口となる他方の横開口３４ｃが、第１のガラス１１の平面視した輪郭外縁側に近接するように傾斜している。
As schematically shown in FIG. 17B, the
また、注入部３４は、図２に示した第１実施形態に対応して、注入部３４から流体を注入する際に、この注入ノズルＮを当接する注入部３４の開口３４ａが、図１８に示すように、ノズルＮの先端Ｎ１形状に対応して密閉可能なように拡径されかつノズルＮの先端Ｎ１形状に対応した凹形状とされることができる。
Further, the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、端面１１ａの注入部３４開口３４ａに当接したノズルＮにより、注入部３４から貼り合わせ面１３に流体を注入することで、容易に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離して分離することができる。
The
注入部３４が、図４に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置の端面１１ａに配置されていることにより、注入工程において注入された流体が、注入部を中心として略円形に拡大して拡がってゆき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分が増大してゆく。
In the injecting step, the injecting
また、図５に示した第１実施形態に対応して、注入部３４が、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一の角付近となる位置に配置されていることにより、図４に示す例に比べて、流体の注入量に対する第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分の増大比は少ないものとなるが、例えば、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程にマスクブランクス１０を供した場合には、この注入部３４内の洗浄液に起因する影響が小さくなるため好ましい。
Further, in correspondence with the first embodiment shown in FIG. 5, the
さらに、本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程において、マスクブランクス１０を矢印ｓｐ方向に回転させた場合に、注入部３４内の洗浄液が回転によって容易に排出可能なように、貼り合わせ面１３側開口から端面１１ａ側開口３４ａに向かって回転方向に合わせて注入部３４を傾斜させることができる。この場合、図６に示した第１実施形態に対応して、回転速度等、洗浄条件に対応して、傾斜方向をθの範囲とすることが可能である。ここで、角度θは回転ｓｐ方向に対して、後方に向かうように設定することができる。
Further, the mask blank 10 according to the present embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 6 in the cleaning process by spin rotation with the normal direction and the rotation axis of the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図７に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１における注入部３４が配置されている辺の端面１１ａを下側位置として洗浄液に浸漬することで、端面１１ａに位置する開口３４ａが下向きに開口した状態で洗浄液に浸漬するため、洗浄液による影響をより一層低減することが可能となる。
The mask blank 10 according to this embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 7, and the lower end face 11 a of the side where the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図８（ｃ）に示した第１実施形態に対応して、第２のガラス１２の表面にマスクパターンＭを形成することでフォトマスク１０となる。
The
洗浄及び乾燥時には、注入部３４をマスクパターンＭが設けられる表面に設けるよりも、厚板ガラス１１の端面１１ａに設けることで、ガラス基板１０表面に液滴が生じないようにすることができる。
厚板ガラス１１側に注入部２４，３４を設ける場合は、マスクパターンＭのデザインや洗浄方式に合わせて注入部の位置を変更することができないが、薄板ガラス１２に注入部１４を設ける場合は、マスクパターンＭのデザインや洗浄方式等、注入部３４を設けた後での要求に合わせて変更することが可能となる。
At the time of cleaning and drying, it is possible to prevent droplets from being generated on the surface of the
When the
本実施形態に係るマスクブランクスまたはフォトマスクの製造方法では、図９に示した第１実施形態に対応して、分離前工程Ｓ０８においては、まず、パーティクル等が原因によるキズの発生を防止するためにフォトマスク１０に対して、ガラス用洗剤による洗浄、純水によるリンス、ＩＰＡベーパー乾燥による洗浄をおこなった。
In the mask blank or photomask manufacturing method according to the present embodiment, in order to prevent scratches due to particles or the like in the pre-separation step S08, corresponding to the first embodiment shown in FIG. Further, the
分離前工程Ｓ０８における洗浄後、図８（ｄ）に示した第１実施形態に対応して、薄板ガラス（第２のガラス）１２の表面に破損防止用として樹脂フィルムＳを貼り付けた。樹脂フィルムＳは、注入部１４を閉塞しないように、注入部１４近傍領域のみ切断除去されていることができる。分離前工程Ｓ０８として、貼り合わされた第１のガラス１１と第２のガラス１２とをクリーンルーム内または、クリーンブース下のパーティクルの少ない環境に保持する。
After the cleaning in the pre-separation step S08, the resin film S was attached to the surface of the thin glass (second glass) 12 to prevent breakage, corresponding to the first embodiment shown in FIG. The resin film S can be cut and removed only in the vicinity of the
図１９は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
具体的には、分離前工程Ｓ０８として、図１９に示すように、第１のガラス１１が下側に、かつ、第２のガラス１２が上側になるように平坦面に載置し、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ５方向に第２のガラス１２を剥離可能としておく。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the method for manufacturing mask blanks and photomasks in this embodiment.
Specifically, as the pre-separation step S08, as shown in FIG. 19, the
図２０は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
または、分離前工程Ｓ０８として、図２０に示すように、第２のガラス１２が下側に、かつ、第１のガラス１１が上側になるように主面が水平面都平行になるように位置させるとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第１のガラス１１を保持し、分離工程Ｓ０９で、矢印ｓ６方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合に、下側位置に設けた柔らかい保持部材Ｈ２により捕獲可能としておく。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the method for manufacturing mask blanks and photomasks in the present embodiment.
Alternatively, as the pre-separation step S08, as shown in FIG. 20, the
図２１は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
ＦＰＤなど大型のマスクに適用する場合には、分離前工程Ｓ０８として、図２１に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第２のガラス１２がわずかに下側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ３，Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により下側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ７方向に第２のガラス１２を回動して剥離可能としておく。この場合、注入部３４は上側に位置する水平方向に延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておく。また、矢印ｓ７方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合にも図示しない保持部材により捕獲可能としておく。この場合、保持具Ｈ１によって第２のガラス１２を保持せずに、第２のガラス１２の自重により剥離させることもできる。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the method for manufacturing mask blanks and photomasks in the present embodiment.
When applied to a large-sized mask such as an FPD, as the pre-separation step S08, as shown in FIG. 21, the
図２２は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法での分離前工程Ｓ０８における保持状態を示す断面図である。
ＦＰＤなどの大型マスクを再生する場合には、分離前工程Ｓ０８として、図２２に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第１のガラス１１がわずかに上側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ８方向に第２のガラス１２を回動して剥離可能としておく。この場合、注入部３４は左右のいずれかに位置する略鉛直方向に傾斜して延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておく。
FIG. 22 is a cross-sectional view showing a holding state in the pre-separation step S08 in the mask blank and photomask manufacturing method according to this embodiment.
When regenerating a large mask such as an FPD, as the pre-separation step S08, as shown in FIG. 22, the
このように、図９に示した第１実施形態の分離前工程Ｓ０８と同様にして、フォトマスク１０の保持工程が完了したら、図１９〜図２２に示すように、注入部３４に、流体を注入するためのノズルＮを当接させ、図８（ｅ）に示したノズルＮに接続された流体供給手段Ｎ０からノズルＮに流体を供給可能としておく。
As described above, when the holding process of the
次いで、図９に示した第１実施形態の分離工程Ｓ０９と同様にして、図１９〜図２２に示すように、注入口部４に当接したノズルＮに、所定の圧力に（０．５ＭＰａ）に加圧した流体として、パーティクルを除去した窒素ガスまたはクリーンエアー、純水等の液体を供給する。なお、剥離プロセスはパーティクルの少ない純水などの液体中でおこなうことができ、その場合には、ノズルＮに供給する流体として気体ではなく純水等の液体を用いることになる。この場合、水の浮力を利用できるので、大型のマスク１０であってもハンドリングしやすくなる。
Next, similarly to the separation step S09 of the first embodiment shown in FIG. 9, as shown in FIGS. 19 to 22, the nozzle N in contact with the
分離工程Ｓ０９として、図１９〜図２２に示すように、注入部３４を介してノズルＮから供給された流体を貼り合わせ面１３に注入すると、流体が注入部３４から貼り合わせ面１３に沿って拡がり、流体注入部分における第１のガラス１１と第２のガラス１２とを離間させる。同時に、この貼り合わせ面１３の流体注入部分において、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除するとともに、図２１（ａ），図２２（ａ）に破線の矢印で示すように、第１のガラス１１と第２のガラス１２とが離間した領域を徐々に拡大してゆき、最終的に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離する。
As separation process S09, as shown in FIGS. 19-22, when the fluid supplied from the nozzle N via the injection | pouring
このとき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との離間領域拡大に際して、同時に、図における矢印ｓ５〜ｓ８までの方向に保持具Ｈ１等を用いて第２のガラス１２を離間方向に移動するように力をかけて、剥離を補助する。
At this time, when the separation region between the
具体的には、分離工程Ｓ０９として、図１９に示すように、保持具Ｈ１の先端で吸着・保持した上側の第２のガラス１２を矢印ｓ５方向に引き上げて、図２１（ａ），図２２（ａ）に示す破線の矢印と同様に、流体を注入した注入部３４近傍の貼り合わせ面１３が離間している領域を拡大するように上向きの引張力を作用させる。これにより、第２のガラス１２が、上方に移動するとともに、作業台等の図示しない平坦面に載置された下側の厚板ガラス（第１のガラス）１１から離間して、第２のガラス１２が剥離される。
Specifically, as the separation step S09, as shown in FIG. 19, the upper
または、分離工程Ｓ０９として、図２０に示すように、下側に位置する第２のガラス１２が、下方向である矢印ｓ６方向に重力が作用しているので、注入部３４から流体が貼り合わせ面１３に注入されると、自重により矢印ｓ６方向に第２のガラス１２が落下して、保持具Ｈ１により上側に保持された第１のガラス１１から分離する。落下した第２のガラス１２は、柔らかい保持部材Ｈ２などにより捕獲される。
Alternatively, as the separation step S09, as shown in FIG. 20, the
または、ＦＰＤなど大型のマスクの場合には、分離工程Ｓ０９として、図２１に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第２のガラス１２がわずかに下側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ３，Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により下側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ７方向に第２のガラス１２を引張して、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除するとともに、図２１（ａ）に破線の矢印で示すように、第１のガラス１１と第２のガラス１２とが離間した領域を注入部３４を中心として周辺に徐々に拡大していき、持具Ｈ１の先端で吸着・保持した上側の第２のガラス１２を矢印ｓ７方向に引き上げて、第２のガラス１２の下端部に位置する端辺を回動中心として、第２のガラス１２の上端部に位置する端辺を矢印ｓ７方向に移動するように、第２のガラス１２を回動させる。
Alternatively, in the case of a large mask such as an FPD, as the separation step S09, as shown in FIG. 21, the second glass is placed with the
この場合、注入部３４が上側で水平方向に延在する辺の中央に位置していることにより、まず、上端部分が剥離して、下端辺を中心とした矢印ｓ７方向への第２のガラス１２の回動を、重力および保持具Ｈ１の引張力により補助することができる。
また、矢印ｓ７方向に第２のガラス１２が剥離して落下した場合にも、保持部材Ｈ２と同等の図示しない保持部材により捕獲する。この場合、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除された領域がある程度拡がったら、保持具Ｈ１による第２のガラス１２の保持を解除して、矢印ｓ７方向に引張することなく、第２のガラス１２の自重のみにより剥離させることもできる。
In this case, since the
Even when the
さらに、ＦＰＤなど大型のマスクの場合には、分離工程Ｓ０９として、図２２に示すように、フォトマスク１０をその主面が概略鉛直方向と平行になるように立てた状態で、第１のガラス１１がわずかに上側に向くように傾斜させて、その四隅を保持具Ｈ４によって保持するとともに、先端で吸着可能な保持具Ｈ１により上側の第２のガラス１２を保持し、矢印ｓ４方向に第２のガラス１２を回動させて、貼り合わされて直接接合された第１のガラス１１と第２のガラス１２との接合を解除された領域を拡大する。この場合、注入部１４は左右のいずれかに位置する略鉛直方向に傾斜して延在する辺の中央となるようにフォトマスク１０を立設しておくことで、左右方向に剥離領域が拡大してゆき、第２のガラス１２全体に流体が流入して、第２のガラス１２が第１のガラス１１から接続解除されてから、第２のガラス１２を第１のガラス１１から移動・分離することが好ましい。
Further, in the case of a large mask such as FPD, as the separation step S09, as shown in FIG. 22, the first glass is placed with the
次いで、図９に示した第１実施形態に対応して、再生処理工程Ｓ１０、廃棄工程Ｓ２０として、処理をおこなう。 Next, corresponding to the first embodiment shown in FIG. 9, processing is performed as a regeneration processing step S10 and a disposal step S20.
本実施形態に係るマスクブランクス１０またはフォトマスク１０では、厚板ガラス（第1のガラス）１１の端面１１ａに設けられた横開口３４ｃから、厚板ガラス１１の主面と平行な方向に貫通し、貼り合わせ面１３に設けられた開口３４ｂまで連続するように注入部３４が設けられているので、平面視した際の注入部３４の形成位置を、マスクパターンＭの設置範囲に縛られることなく、より配置の自由度を高めることができる。また、端面１１ａに設けられた開口３４ａから流体を注入することができるので、厚板ガラス１１の破損等の発生を低減することが可能となる。
In the
さらに、注入部３４を加工した第１のガラス１１を再生して複数回使用することができるため、再生時には、注入部３４加工の工程を省略することができ、作業工程の省略および処理時間の短縮を図ることができる。
Furthermore, since the
本実施形態によれば、このように、分離した第１のガラス１１は再生してリサイクルすることができる。このとき、第１のガラス１１には遮蔽層Ｍ０またはマスクパターンＭが直接形成されていないため、リサイクル時に、これらの膜を除去する必要がないので、高精細用の研磨をおこなう必要がない。これにより、研磨にかかる作業時間・コストを削減することができる。
According to the present embodiment, the separated
図２３、図２４は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクにおけるベベリング面を説明するための断面図である。
厚板ガラス（第１のガラス）１１および薄板ガラス（第２のガラス）１２においては、マスク用基板としてその端面にべべリング（C面）１６を形成してもよい。
FIG. 23 and FIG. 24 are cross-sectional views for explaining the beveling surfaces of the mask blank and the photomask in the present embodiment.
In the thick plate glass (first glass) 11 and the thin plate glass (second glass) 12, a beveling (C surface) 16 may be formed on the end face as a mask substrate.
ここで、図２４に示すように、厚板ガラス（第１のガラス）１１および薄板ガラス（第２のガラス）１２のそれぞれにベベリング面１６ａを設けて、貼り合わせた薄板ガラス１２と厚板ガラス１１の端面における境界部分に段差がある場合には、洗浄工程において、この段差となるベベリング１６ａの部分において充分な洗浄がしづらくパーティクルの発生原因となるため好ましくない。特に、端面１１ａが面一になっていないと、洗浄液および汚染物が凹部に溜まる等の悪影響があるため好ましくない。
Here, as shown in FIG. 24, each of the thick glass (first glass) 11 and the thin glass (second glass) 12 is provided with a
したがって、本実施形態においては、図２３に示すように、薄板ガラス１２と厚板ガラス１１とを合わせた断面がその境界部分で面一となるように一体化された形状とする。このベベリング面１６の加工工程としては貼り合わせ工程Ｓ０４後で遮光層形成工程Ｓ０５前にこの端面加工を入れる製造方法とすることができる。
Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 23, it is set as the shape integrated so that the cross section which combined the
なお、マスクブランクス、フォトマスク１０の主面を水平にするとともに、薄板ガラス１２を上にして剥離した場合、流体の注入を停止すると、薄板ガラス１２の自重により再度貼り付いてしまう。また、剥離時にパーティクルが薄板ガラス１２と厚板ガラス１１との間に入るとキズ発生の原因となるため好ましくない。これらを防止するために以下の方法を採用することができる。
When the main surfaces of the mask blank and the
薄板ガラス１２を下側位置として、厚板ガラス１１を吸着可能な保持具Ｈ１等で保持した状態で流体を注入する。これにより、薄板ガラス１２は自重により下側に下がり、剥離が全体に進むと同時に薄板ガラス１２が落下する。
The fluid is injected in a state where the
または、薄板ガラス１２を上側位置として、薄板ガラス１２を吸着可能な保持具Ｈ１等で保持して上に引っ張る。
Alternatively, the
さらに、ガラス基板サイズが大きくなった場合は水平位置での保持が難しくなるため、基板を立てて流体の注入を上または左右の辺より行うことが望ましい。
このとき、９０度よりも大きく傾けた場合は、薄板ガラス１２の自重により再貼り付きを防止可能であるが、ガラス基板重量等により保持が難しい。また、９０度以下の傾きとした場合は、薄板ガラス１２を外側に引っ張ることで再貼り付きを防止することができる。
Furthermore, since it becomes difficult to hold the glass substrate in a horizontal position when the glass substrate size is increased, it is desirable to inject the fluid from above or from the left and right sides while standing the substrate.
At this time, when it is inclined more than 90 degrees, it is possible to prevent reattachment due to its own weight, but it is difficult to hold due to the weight of the glass substrate. Moreover, when it is set as 90 degrees or less, re-sticking can be prevented by pulling the
大気中よりも水槽などに貯留した水中（液体中）にガラス基板１１，１２を沈めて剥離処理をおこなうほうが好ましい。その理由として、大気中で剥離処理をおこなった場合には、パーティクルが剥離中の基板間に挟まった場合に、薄板ガラス１２にキズが発生し易いのに対し、水中で剥離処理をおこなった場合には、パーティクルが剥離中の基板間に挟まった場合でも、潤滑その他の効果により、比較的キズが発生しにくいになりづらいためである。
It is preferable that the
さらに、水中で剥離処理をおこなった場合には、水の抵抗により、剥離したガラス基板１１，１２の動きをゆっくりとすることができ、これにより、急激な落下などによる衝突に起因したダメージ発生を軽減することが可能である。
Furthermore, when peeling treatment is performed in water, the movement of the peeled
なお、大気中での処理をおこなう装置のほうが提供は容易である。 An apparatus that performs processing in the atmosphere is easier to provide.
また、パーティクル等に対する潤滑の効果に加え、流体としての水は、気体よりも密度が高いので圧縮されず厚板ガラス１１と薄板ガラス１２との界面を広げる力が強いため、注入部１４，２４，３４から注入する流体は気体よりも液体が好ましい。
Further, in addition to the effect of lubrication on particles and the like, water as a fluid is higher in density than gas, and therefore is not compressed and has a strong force to spread the interface between the
さらに、流体として水等の液体を採用する場合、純水よりも、表面活性剤を含む洗剤等を用いたほうが、潤滑の効果を高めることができるため、より好ましい。 Furthermore, when a liquid such as water is employed as the fluid, it is more preferable to use a detergent containing a surfactant than pure water because the effect of lubrication can be enhanced.
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第４実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, 4th Embodiment of the mask blanks and photomask which concern on this invention is described based on drawing.
本実施形態において上述した第１から第３のいずれかの実施形態と異なるのは注入部４４が第１のガラス１１および第２のガラスに設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図２６は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す平面図（ａ）、断面図（ｂ）である。
This embodiment differs from any of the first to third embodiments described above in that the
FIG. 26 is a plan view (a) and a sectional view (b) showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２６（ａ），図２６（ｂ）に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離するための注入部４４が、第１のガラス１１の端面１１ａから貼り合わせ面１３と平行かつこの貼り合わせ面１３をまたいで、第１のガラス１１と第２のガラス１２との両方に設けられた溝として設けられている。
As shown in FIGS. 26 (a) and 26 (b), the mask blank 10 in this embodiment is a
本実施形態において、注入部４４は端面１１ａがわから見た輪郭は略円形とされており、周縁部１５の幅寸法以下の長さとして、端面１１ａから平面視した第１のガラス１１中心方向に形成された一端の開口した孔部とされている。注入部４４は、図２６（ａ）に示すように、貼り合わせ面１３において、マスクパターンＭのない周縁部１５に配置されるとともに、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置に配置されて、貼り合わせ面１３位置から厚さ方向の第１のガラス１１と第２のガラス１２との両方に穿たれるように設けられるとともに、図２６（ｂ）に示すように、開口４４ａが端面１１ａに配置されている。
In the present embodiment, the
注入部４４は、図２６（ｂ）に概略示すように、図１７〜図２５に示した第３実施形態と同様に、端面１１ａの開口４４ａにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。
As schematically shown in FIG. 26 (b), the
本実施形態では、上記の実施形態における作用効果と同等の効果を奏するとともに、注入部４４が貼り合わせ面１３位置から厚さ方向の第１のガラス１１と第２のガラス１２との両方に穿たれるように設けられることにより、分離工程Ｓ０９をより効率的におこなうことができるためフォトマスクの再生をおこなうことが容易になる。
In the present embodiment, the same effect as the above-described embodiment is obtained, and the
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２６（ｃ）に示すように、注入部４４が、貼り合わせ面１３よりも第１のガラス１１側のみに設けられた溝４４ｇとして設けられることができる。
Further, in the mask blank 10 according to the present embodiment, as shown in FIG. 26C, the
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２６（ｄ）に示すように、注入部４４が、貼り合わせ面１３よりも第２のガラス１２側のみに設けられた溝４４ｈとして設けられることができる。
Further, in the mask blank 10 according to the present embodiment, as shown in FIG. 26D, the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第５実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, 5th Embodiment of the mask blanks and photomask which concern on this invention is described based on drawing.
本実施形態において上述した第１から第４のいずれかの実施形態と異なるのは、第１のガラス１１の裏面に第２の裏ガラス５２が貼り着けられるとともに、注入部５４が第２のガラス５２側の貼り合わせ面５３にも貫通するようにした点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図２７は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す平面図（ａ）、断面図（ｂ）である。
The present embodiment is different from any of the first to fourth embodiments described above in that the
FIG. 27 is a plan view (a) and a sectional view (b) showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２７に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２と第２の裏ガラス５２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離するとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離するための注入部５４が、貼り合わせ面１３と貼り合わせ面５３との間を結ぶように第１のガラス１１の厚さ方向に貫通する貫通孔と、この貫通孔の中央から端面１１ａまで連通する貫通孔からなるＴ字状として設けられている。
As shown in FIG. 27, the
本実施形態において、注入部５４は第１のガラス１１にＴ字状として３方向に貫通するように設けられる。
注入部５４は、図２７（ａ）に示すように、貼り合わせ面１３側の開口５４ｂがマスクパターンＭのない周縁部１５に配置されるとともに、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置に配置されている。また注入部５４は、貼り合わせ面５３側の開口５４ｄが、平面視して開口５４ｂと重なる位置に配される。
In this embodiment, the injection | pouring
As shown in FIG. 27A, the
また注入部５４は、図２７（ｂ）に示すように、開口５４ｄと開口５４ｂとを連通して第１のガラス１１の厚さ方向全長に亘る貫通孔と、この貫通孔の開口５４ｄと開口５４ｂとの厚さ方向中央位置から第1のガラス１１の主面と平行な方向で、第１のガラス１１の中心から外縁に向かう径方向として貼り合わせ面１３の面に方向と平行な向きに延在して端面１１ａの横開口５４ｃまで連通するように設けられ、この横開口５４ｃは、矩形輪郭とされた第１のガラス１１における開口５４ａの設けられた一辺に対応した端面１１ａに配置されている。
In addition, as shown in FIG. 27 (b), the
また、注入部５４は、図２に示した第１実施形態に対応して、注入部５４から流体を注入する際に、この注入ノズルＮを当接する注入部５４の開口５４ａが、図２７（ｂ）に示すように、ノズルＮの先端Ｎ１形状に対応して密閉可能なように拡径されかつノズルＮの先端Ｎ１形状に対応した凹形状とされることができる。
In addition, the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、端面１１ａに設けられた注入部５４の開口５４ａに当接させたノズルＮにより流体を注入することで、横開口５４ｃから分岐した注入部５４内部で２方向に分岐した貫通孔に沿って流体が分かれて、開口５４ｄと開口５４ｂとに到達する。これにより、端面１１ａの注入部５４から貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３に流体を注入することで、容易に第１のガラス１１と第２のガラス１２とを剥離するとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２とを剥離して分離することができる。
The mask blank 10 according to the present embodiment has two directions inside the
注入部５４が、図４に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一辺の中央位置の端面１１ａに配置されていることにより、注入工程において注入された流体が、貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３において注入部５４を中心として略円形に拡大して拡がってゆき、第１のガラス１１と第２のガラス１２との剥離した部分が増大してゆくとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との剥離した部分が増大してゆく。
In the injecting step, the injecting
また、図５に示した第１実施形態に対応して、注入部５４が、矩形輪郭とされた第１のガラス１１におけるいずれか一の角付近となる位置に配置されていることにより、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程にマスクブランクス１０を供した場合には、この注入部５４内の洗浄液に起因する影響が小さくなるため好ましい。
Further, in correspondence with the first embodiment shown in FIG. 5, the
さらに、本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図２，図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程において、マスクブランクス１０を矢印ｓｐ方向に回転させた場合に、注入部５４内の洗浄液が回転によって容易に排出可能なように、貼り合わせ面１３側の開口５４ｂから横開口３４ｃに向かって回転方向に合わせて注入部３４を傾斜させるとともに、貼り合わせ面５３側の開口５４ｄから横開口３４ｃに向かって回転方向に合わせて注入部３４を傾斜させることができる。
Furthermore, the mask blank 10 according to the present embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIGS. 2 and 6, in the cleaning process by spin rotation with the normal direction of the
さらに、本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図６に示した第１実施形態に対応して、第１のガラス１１の法線方向と回転軸線とするスピン回転による洗浄工程において、
回転速度等、洗浄条件に対応して、横開口５４ｃを内部から開口５４ａに向かって、回転方向に合わせて傾斜させて、その傾斜方向をθの範囲とすることが可能である。ここで、角度θは回転ｓｐ方向に対して、後方に向かうように設定することができる。
Furthermore, the mask blank 10 according to the present embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 6, in the cleaning process by spin rotation with the normal direction and the rotation axis of the
Corresponding to the cleaning conditions such as the rotation speed, it is possible to incline the
本実施形態に係るマスクブランクス１０は、図７に示した第１実施形態に対応して、矩形輪郭とされた第１のガラス１１における注入部３４が配置されている辺の端面１１ａを下側位置として洗浄液に浸漬することで、端面１１ａに位置する開口３４ａが下向きに開口した状態で洗浄液に浸漬するため、洗浄液による影響をより一層低減することが可能となる。
The mask blank 10 according to this embodiment corresponds to the first embodiment shown in FIG. 7, and the lower end face 11 a of the side where the
注入部５４は、図２７に概略示すように、図１７〜図２５に示した第３実施形態と同様に、端面１１ａの開口５４ａにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。
As shown schematically in FIG. 27, the
本実施形態に係るマスクブランクス１０、フォトマスク１０は、図２７に示すように、第２のガラス１２および第２の裏ガラス５２を１工程の注入処理によって同時に剥離して、
第１のガラス１１を容易に再生することが可能となる。なお、剥離工程においては、図２１（ｂ），図２２（ｂ）に示した第３実施形態に対応して、ガラス１１，１２，５２を立位として保持具Ｈ３，Ｈ４による保持、ノズルＮによる注入、保持具Ｈ１による剥離をおこなうことが好ましい。
As shown in FIG. 27, the
It becomes possible to reproduce | regenerate the
洗浄及び乾燥時には、注入部５４をマスクパターンＭが設けられる表面に設けるよりも、厚板ガラス１１の端面１１ａに設けることで、ガラス基板１０表面に液滴が生じないようにすることができる。
At the time of cleaning and drying, it is possible to prevent droplets from being generated on the surface of the
本実施形態において、注入部５４における横開口５４ｃは、端面１１ａ側から見た輪郭は略円形とされており、周縁部１５の幅寸法以下の長さとして、端面１１ａから平面視した第１のガラス１１中心方向に形成された一端の開口した孔部とされている。
In the present embodiment, the
本実施形態では、上記の実施形態における作用効果と同等の効果を奏するとともに、注入部５４が端面１１ａから厚さ方向の貼り合わせ面１３位置と貼り合わせ面５３位置とにまで連通することで、分離工程Ｓ０９をより効率的におこなうことができるためフォトマスクの再生をおこなうことが容易になる。
In this embodiment, while having an effect equivalent to the operational effect in the above-described embodiment, the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第６実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, 6th Embodiment of the mask blanks and photomask which concern on this invention is described based on drawing.
本実施形態において上述した第５実施形態と異なるのは、注入部６４が貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３用に、それぞれ別々に設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図２８は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す断面図である。
In this embodiment, the fifth embodiment is different from the fifth embodiment described above in that the injection portion 64 is provided separately for the
FIG. 28 is a cross-sectional view showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２８に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２と第２の裏ガラス５２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部６４Ａが、端面１１ａに連通するように設けられるとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離するための注入部６４Ｂが、端面１１ａまで連通するように設けられる。
As shown in FIG. 28, the mask blank 10 in this embodiment includes a flat plate-like
注入部６４Ａ，６４Ｂはいずれも、図２８に概略示すように、図１７〜図２５に示した第３実施形態と同様に、端面１１ａの開口６４Ａａ，６４ＢａにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。注入部６４Ａ，６４Ｂはそれぞれ、分離されているので、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する工程と、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する工程とを、別々におこなうことができる。
As shown schematically in FIG. 28, each of the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第７実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, a seventh embodiment of a mask blank and a photomask according to the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施形態において上述した第６実施形態と異なるのは、注入部６４が貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３用に、それぞれ別々に設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図２９は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す断面図である。
This embodiment is different from the above-described sixth embodiment in that the injection portion 64 is provided separately for the
FIG. 29 is a cross-sectional view showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図２９に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２と第２の裏ガラス５２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部６４Ａが、端面１１ａに連通するように設けられるとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離するための注入部６４Ｂが、端面１１ａまで連通するように設けられる。
As shown in FIG. 29, the mask blank 10 in this embodiment includes a flat plate-like
注入部６４Ａ，６４Ｂはいずれも、図２９に概略示すように、図２５（ａ）に示した第３実施形態と同様に、端面１１ａの開口６４Ａａ，６４ＢａにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。注入部６４Ａは、開口６４Ａａから開口６４Ａｂに連通する傾斜孔とされ、注入部６４Ｂは、開口６４Ｂａから開口６４Ｂｂに連通する傾斜孔とされている。注入部６４Ａ，６４Ｂはそれぞれ、分離されているので、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する工程と、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する工程とを、別々におこなうことができる。
In the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第８実施形態を、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, 8th Embodiment of the mask blanks and photomask which concern on this invention is described based on drawing.
本実施形態において上述した第６実施形態と異なるのは、注入部７４Ａ，７４Ｂが貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３用に、それぞれ別々に設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図３０は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す断面図である。
This embodiment is different from the above-described sixth embodiment in that the
FIG. 30 is a cross-sectional view showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３０に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２と第２の裏ガラス５２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部７４Ａが、第２のガラス１２表面に連通するように設けられるとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離するための注入部７４Ｂが、第２の裏ガラス５２表面まで連通するように設けられる。
As shown in FIG. 30, the mask blank 10 in the present embodiment includes a flat plate-like
注入部７４Ａ，７４Ｂはいずれも、図３０に概略示すように、図１（ｂ）に示した第１実施形態と同様に、第２のガラス１２，５２表面の開口７４ＢｂにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。注入部７４Ａは、開口７４Ａａから開口７４Ａｂに連通する貫通孔とされ、注入部７４Ｂは、開口７４Ｂａから開口７４Ｂｂに連通する貫通孔とされている。注入部７４Ａ，７４Ｂはそれぞれ、分離されているので、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する工程と、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する工程とを、別々におこなうことができる。
As shown schematically in FIG. 30, both of the
以下、本発明に係るマスクブランクス、フォトマスクの第９実施形態を、図面に基づいて説明する。 A ninth embodiment of mask blanks and photomasks according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
本実施形態において上述した第７実施形態と異なるのは、注入部８４Ａ，８４Ｂが貼り合わせ面１３および貼り合わせ面５３用に、それぞれ別々に設けられた点であり、これ以外の対応する構成要素に関しては、同一の符号を付してその説明を省略する。
図３１は、本実施形態におけるマスクブランクス、フォトマスクを示す断面図である。
The present embodiment is different from the seventh embodiment described above in that the
FIG. 31 is a cross-sectional view showing a mask blank and a photomask in the present embodiment.
本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３１（ａ）に示すように、平板状の第１のガラス１１と、マスクパターンＭが形成可能な遮光層Ｍ０の形成される第２のガラス１２と第２の裏ガラス５２とが剥離可能として直接接合されてマスクブランクス用のガラス基板とされるとともに、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部８４Ａが、第２のガラス１２表面に連通するように設けられるとともに、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離するための注入部８４Ｂが、第２の裏ガラス５２表面まで連通するように設けられる。
As shown in FIG. 31A, the mask blank 10 in the present embodiment includes a
注入部８４Ａ，８４Ｂはいずれも、図３１に概略示すように、図２６（ｂ）に示した第４実施形態と同様に、第２のガラス１２，５２表面の開口８４ＢｂにノズルＮを当接して流体を注入するものとされる。注入部７８Ａは、開口８４Ａａから開口８４Ａｂに連通する貫通孔とされ、注入部８４Ｂは、開口８４Ｂａから開口８４Ｂｂに連通する貫通孔とされている。注入部８４Ａ，８４Ｂはそれぞれ、分離されているので、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する工程と、第１のガラス１１と第２の裏ガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する工程とを、別々におこなうことができる。なお、注入部８４Ａ，８４Ｂはいずれも、第１のガラス１１にのみ溝を設けたものとすることもできる。
As shown schematically in FIG. 31, each of the
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３１（ｂ）に示すように、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部８４Ａが、貼り合わせ面１３よりも第１のガラス１１側のみに設けられた溝８４Ａｇとして設けられることができる。
In addition, as shown in FIG. 31 (b), the mask blank 10 in the present embodiment has an injection portion 84 </ b> A that injects a fluid into the
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３１（ｃ）に示すように、第１のガラス１１と第２のガラス１２との貼り合わせ面１３に流体を注入して剥離する注入部８４Ａが、貼り合わせ面１３よりも第２のガラス１２側のみに設けられた溝８４Ａｈとして設けられることができる。
Moreover, as shown in FIG.31 (c), the mask blank 10 in this embodiment has the injection | pouring
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３１（ｄ）に示すように、第１のガラス１１と第２のガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する注入部８４Ａが、貼り合わせ面５３よりも第１のガラス１１側のみに設けられた溝８４Ｂｇとして設けられることができる。
In addition, as shown in FIG. 31 (d), the mask blank 10 according to the present embodiment has an injection portion 84 </ b> A that injects a fluid into the
また、本実施形態におけるマスクブランクス１０は、図３１（ｅ）に示すように、第１のガラス１１と第２のガラス５２との貼り合わせ面５３に流体を注入して剥離する注入部８４Ａが、貼り合わせ面５３よりも第２のガラス１２側のみに設けられた溝８４Ｂｈとして設けられることができる。
In addition, as shown in FIG. 31 (e), the mask blank 10 in the present embodiment has an injection portion 84 </ b> A that injects a fluid into the
さらに、これら溝８４Ａｇ、溝８４Ａｈ、溝８４Ｂｇ、溝８４Ｂｈを適宜組み合わせて設けることもできる。 Further, these grooves 84Ag, grooves 84Ah, grooves 84Bg, and grooves 84Bh can be provided in appropriate combinations.
１０…マスクブランクス、フォトマスク
１１…第１のガラス
１２，５２…第２のガラス
１３，５３…貼り合わせ面
１４、２４，３４，４４，５４，６４Ａ，６４Ｂ，８４Ａ，８４Ｂ，７４Ａ，７４Ｂ…
１５…周縁部
１１a…端面
Ｃ０…フォトレジスト
Ｓ…樹脂フィルム
Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４…保持具
Ｎ…ノズル
Ｍ…マスクパターン
Ｍ０…遮光層
DESCRIPTION OF
15 ...
Claims (11)
前記第１のガラスと第２のガラスとの貼り合わせ面に流体を注入して剥離するための注入部が設けられたことを特徴とするマスクブランクス。 The flat first glass and the second glass capable of forming a mask pattern are directly bonded as peelable,
A mask blank, wherein an injection portion for injecting and peeling a fluid on a bonding surface of the first glass and the second glass is provided.
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを準備する準備工程と、
前記注入部を形成する注入部加工工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとの表面処理をする表面処理工程と、
前記第１のガラスと前記第２のガラスとを貼り合わせる貼り合わせ工程と、
貼り合わせたガラスを洗浄処理する洗浄工程と、
遮光層を前記第２のガラスの表面に形成する遮光層形成工程と、
を有することを特徴とするマスクブランクスの製造方法。 It is a manufacturing method of the mask blanks according to any one of claims 1 to 6,
A preparation step of preparing the first glass and the second glass;
An injection portion processing step for forming the injection portion;
A surface treatment step of performing surface treatment of the first glass and the second glass;
A laminating step of laminating the first glass and the second glass;
A cleaning process for cleaning the bonded glass;
A light shielding layer forming step of forming a light shielding layer on the surface of the second glass;
A method for manufacturing a mask blank, comprising:
前記注入部から前記貼り合わせ面に流体を注入して、貼り合わされた前記第１のガラスと前記第２のガラスとを剥離する分離工程と、
を有することを特徴とする請求項８記載のマスクブランクスの製造方法。 A pre-separation step for holding each of the first glass and the second glass bonded together;
A separation step of injecting a fluid from the injection portion to the bonding surface and peeling the bonded first glass and the second glass;
The method for producing a mask blank according to claim 8, comprising:
請求項８または９記載の製造方法によって製造されたマスクブランクスに対して、
フォトレジストを形成するレジスト形成工程と、
マスクパターンを形成するパターン形成工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。 It is a manufacturing method of the photomask according to claim 7,
For mask blanks manufactured by the manufacturing method according to claim 8 or 9,
A resist forming step of forming a photoresist;
A pattern forming step of forming a mask pattern;
A method for producing a photomask, comprising:
請求項８に記載された前記分離工程が、フォトマスクとしてのマスクパターンを利用した露光工程後におこなわれることを特徴とするフォトマスクの製造方法。 In the manufacturing method of the photomask described in Claim 10,
The method for manufacturing a photomask, wherein the separation step according to claim 8 is performed after an exposure step using a mask pattern as a photomask.
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