JP2016145290A - Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and manufacturing method therefor - Google Patents

Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and manufacturing method therefor Download PDF

Info

Publication number
JP2016145290A
JP2016145290A JP2015022707A JP2015022707A JP2016145290A JP 2016145290 A JP2016145290 A JP 2016145290A JP 2015022707 A JP2015022707 A JP 2015022707A JP 2015022707 A JP2015022707 A JP 2015022707A JP 2016145290 A JP2016145290 A JP 2016145290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
residue unit
acid
residue
butyl
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015022707A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6500472B2 (en
Inventor
藤井 靖芳
Yasuyoshi Fujii
靖芳 藤井
孝太 坂口
Kota Sakaguchi
孝太 坂口
翔平 弓野
Shohei Yumino
翔平 弓野
薫 陶山
Kaori Suyama
薫 陶山
下里 伸治
Shinji Shimozato
伸治 下里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2015022707A priority Critical patent/JP6500472B2/en
Priority to PCT/JP2015/082750 priority patent/WO2016084747A1/en
Priority to TW104138897A priority patent/TW201623348A/en
Publication of JP2016145290A publication Critical patent/JP2016145290A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6500472B2 publication Critical patent/JP6500472B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer with high molecular weight having excellent toughness even when making a film and an efficient manufacturing method.SOLUTION: There is provided an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer containing an alkoxycinnamic acid ester unit and polyfunctional acrylate unit having a urethane bond and optionally a fumaric diester unit or an N-substituted maleimide unit as other monomers. There is provided a manufacturing method of the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer by conducting a radical polymerization reaction of 100 mol% of total monomer containing the alkoxycinnamic acid ester of 50 to 99.99 mol%, the polyfunctional acrylate unit having the urethane bond of 0.01 to 1 mol% and other monomers of 0 to 49.99 mol% in a presence of a radical polymerization initiator of 0.001 to 5 mol%. There is provided the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer having weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of 120000 to 1000000.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びその製造方法に関するものであり、さらに詳細には、靱性に優れるフィルム等への適用も可能な高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びそれを効率的に製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a novel alkoxycinnamate-acrylate copolymer and a method for producing the same, and more specifically, a novel alkoxycinnamate having a high molecular weight that can be applied to a film having excellent toughness. The present invention relates to an ester-acrylate copolymer and a method for efficiently producing the same.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。
多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。
A liquid crystal display is widely used as a most important display device in a multimedia society, such as a mobile phone, a computer monitor, a notebook computer, and a television. Many optical films are used for improving the display characteristics of the liquid crystal display. In particular, the retardation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence.
Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Since polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, it has a problem of stability of phase difference such as phase difference being changed by a slight stress, and a practical problem of low heat resistance, and is not used at present. .

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film and becomes an unprecedented retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertical alignment liquid crystal display (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc., useful as a retardation film for compensating viewing angle characteristics and a viewing angle compensation film for a deflection plate There is a strong market demand for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。   A method for producing a film has been proposed in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method (for example, Patent Documents 1 to 3) in which a heat-shrinkable film is bonded to one side or both sides of a polymer film, the laminate is subjected to a heat stretching treatment, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film. Reference). In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (for example, see Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Also, the control of the uniformity of the phase difference and the like is extremely difficult as compared with the conventional control by stretching.

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。   When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large and the phase difference is changed by a slight stress, so that there is a problem in the stability of the phase difference. Furthermore, there is a problem that the wavelength dependence of the phase difference is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。   Moreover, the fumaric-acid diester type resin and the film which consists of it are proposed (for example, refer patent documents 6-10).

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。   Further, a diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative copolymer comprising a diisopropyl fumarate residue unit and a cinnamic acid residue unit or a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A retardation film using the diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 11).

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。   Further, a fumaric acid diester residue unit, a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a polyfunctional monomer residue unit having two or more radical polymerizable functional groups An acid diester-cinnamic acid ester copolymer and a retardation film using the fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer have been proposed (see, for example, Patent Document 12).

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開平6−88909号公報JP-A-6-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008−112141号公報JP 2008-112141 A 特開2012−032784号公報JP 2012-032784 A WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 特開2008−129465号公報JP 2008-129465 A 特開2006−193616号公報JP 2006-193616 A WO2014/013982号公報WO2014 / 013982 WO2014/084178号公報WO2014 / 084178

特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。   Although the fumaric acid diester-based resin proposed in Patent Documents 6 to 10 and a film made thereof have a high out-of-plane retardation, at present, a film having a higher out-of-plane retardation is also present in a thin film. It has been demanded.

特許文献11で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献6〜10で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、より生産性に優れ、より高収率で得られる重合体が求められている。また、特許文献11で提案された位相差フィルムは、薄膜において高い面外位相差を有するものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。   Although the diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative-based copolymer proposed in Patent Document 11 exhibits a higher out-of-plane retardation than the resins proposed in Patent Documents 6 to 10, it is more excellent in productivity and more There is a need for polymers obtained in high yield. Moreover, although the retardation film proposed in Patent Document 11 has a high out-of-plane retardation in a thin film, a film having a higher out-of-plane retardation in a thin film is also required.

特許文献12で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体は生産性に優れ高収率で得られるものの、フィルムとした際に特許文献11より高い面外位相差を有するものではなく、生産性に優れ、かつ、より高い面外位相差を有する重合体が求められている。また、フィルムが薄膜フィルムの場合でも、フィルムとしての特性を維持しつつ高い面外位相差を発現する重合体が求められている。   The fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer proposed in Patent Document 12 is excellent in productivity and can be obtained in a high yield. However, when it is used as a film, it has an out-of-plane retardation higher than that of Patent Document 11. There is a need for a polymer that is excellent in productivity and has a higher out-of-plane retardation. Further, even when the film is a thin film, there is a demand for a polymer that exhibits a high out-of-plane retardation while maintaining the properties as a film.

本発明の目的は、フィルムとした際も薄膜で高位相差を発現し、かつ優れた靱性を有する高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びそれを効率よく製造する方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel high-molecular-weight alkoxycinnamate-acrylate copolymer that exhibits a high retardation in a thin film even when used as a film and has excellent toughness, and a method for efficiently producing the same. There is to do.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体ならびにそれの製造方法に関するものである。   That is, the present invention includes an alkoxycinnamic acid ester-acrylate characterized by comprising an alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1) and a polyfunctional acrylate residue unit having a urethane bond. The present invention relates to a copolymer and a method for producing the same.

Figure 2016145290
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
以下、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体について詳細に説明する。
Figure 2016145290
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
Hereinafter, the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention will be described in detail.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含むアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体である。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、特定のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させることを特徴とするものである。また、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、該アルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、重合体となる際の単量体の重合転嫁率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。   The alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention comprises an alkoxycinnamate containing an alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1) and a polyfunctional acrylate residue unit having a urethane bond. It is an acid ester-acrylate copolymer. And the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention comprises a specific alkoxycinnamate residue unit, so that a high out-of-plane retardation is expressed even in a thin film. To do. In addition, the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention contains the alkoxycinnamate residue unit, so that the polymerization pass rate of the monomer when it becomes a polymer is high, and the production It is characterized by excellent properties.

Figure 2016145290
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
本発明の一般式(1)におけるRは炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、nは1〜5の整数である。また、本発明の一般式(1)におけるRは、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
Figure 2016145290
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
R 1 in the general formula (1) of the present invention represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a hexyl group, and a dodecyl group. N is an integer of 1-5. Also, R 2 in the general formula (1) of the present invention is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms Examples of the linear alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the group include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group. Is mentioned. Among these, since the alkoxycinnamate-acrylate copolymer exhibits a high out-of-plane retardation, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, A tert-butyl group and a cyclohexyl group are preferred.

具体的な一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位、プロポキシケイ皮酸エステル残基単位、ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位、ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位がさらに好ましい。   Specific examples of the alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1) include a methoxycinnamate residue unit, an ethoxycinnamate residue unit, and a propoxycinnamate residue unit. Hexoxycinnamate residue units, dodeoxycinnamate residue units, and the like. Among these, since a high phase difference is expressed, a methoxycinnamate residue unit and an ethoxycinnamate residue unit are preferable, and a 4-methoxycinnamate residue unit is more preferable.

本発明において、メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   In the present invention, as the methoxycinnamate ester residue unit, for example, 2-methoxycinnamate methyl residue unit, 2-methoxycinnamate ethyl residue unit, 2-methoxycinnamate n-propyl residue Unit: 2-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid tert-butyl residue Units: 2-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3-methoxycinnamate methyl residue unit, 3-methoxycinnamate ethyl residue unit, 3-methoxycinnamate n-propyl residue unit, 3- Isopropyl methoxycinnamate residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid tert- Chyl residue unit, 3-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 4-methoxycinnamate methyl residue unit, 4-methoxycinnamate ethyl residue unit, 4-methoxycinnamate n-propyl residue unit 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit 4-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue Base unit, isopropyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, , 3-Dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid ethyl residue Group unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4- Dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-dimethoxycinnamate residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,5- Dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-dimethoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue Group unit, cyclohexyl residue unit of 2,6-dimethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, ethyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamic acid, 3,4-dimeth Cinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, cyclohexyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, methyl residue unit of 3,5-dimethoxycinnamate, 3,5-dimethoxysilicate Ethyl cinnamate residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate n-propyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate isopropyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamate n-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, -Methyl trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,4-trimethoxycinnamate residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4 -Isopropyl trimethoxycinnamate residue unit, n-butyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamic acid, 2,3 , 4-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3 , 5-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3 , 5-Trimethoxycinnamate n-butyl residue Unit, sec-butyl residue unit of 2,3,5-trimethoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3,5-trimethoxycinnamic acid, cyclohexyl 2,3,5-trimethoxycinnamic acid Residue unit, methyl 2,3,6-trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,6-trimethoxycinnamate residue unit, n-propyl 2,3,6-trimethoxycinnamate Residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid sec -Butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamate Acid methyl residue unit, 2,4,5-tri Toxic ethyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxy cinnamate n-propyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy N-butyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5 5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6- N-propyl residue unit of trimethoxycinnamate, isopropyl residue unit of 2,4,6-trimethoxycinnamate, n-butyl residue unit of 2,4,6-trimethoxycinnamate, 2,4,6 6-trimethoxycinnamate sec-butyl residue Unit, tert-butyl residue unit of 2,4,6-trimethoxycinnamate, cyclohexyl residue unit of 2,4,6-trimethoxycinnamate, methyl residue of 3,4,5-trimethoxycinnamate Unit, ethyl 3,4,5-trimethoxycinnamate residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue Unit: 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid tert -Butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxymethyl cinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxy Ethyl cinnamate residue units, 2,3,4, 5-tetramethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate n-butyl residue Unit: 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5- Cyclohexyl residue unit of tetramethoxycinnamate, methyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate, ethyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate, 2,3,4 4,6-tetramethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate n-butyl Residue unit, 2,3,4,6-tetrameth Cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 3,5,6-tetramethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-propyl Residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,5,6- Tetramethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, Methyl pentamethoxycinnamate residue Unit, ethyl pentamethoxycinnamate residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentamethoxycinnamate isopropyl residue unit, pentamethoxycinnamate n-butyl residue unit, pentamethoxycinnamate Examples include acid sec-butyl residue units, pentamethoxycinnamate tert-butyl residue units, pentamethoxycinnamate cyclohexyl residue units, and the like.

エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of the ethoxycinnamic acid ester residue units include 2-ethoxycinnamic acid methyl residue units, 2-ethoxycinnamic acid ethyl residue units, 2-ethoxycinnamic acid n-propyl residue units, and 2-ethoxycinnamic acid isopropyl units. Residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 3-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, -Ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid isopropyl residue unit 4-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 3 -Methyl diethoxycinnamate residue unit, 2,3-diethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3 -N-butyl residue unit of diethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3-diethoxycinnamic acid, 2,3-diethoxy Tert-butyl cinnamate residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4- Diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic leather Acid n-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 6-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 6-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit Units: 3,4-diethoxycinnamic acid methyl residue units, 3,4-diethoxycinnamic acid ethyl residue units, 3,4-diethoxycinnamic acid n- Lopyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-diethoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,5-diethoxysilicate Cinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3 , 5-Diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4-triethoxy Methyl cinnamate residue unit, 2,3,4-triethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-triethoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4 Tert-butyl triethoxycinnamate residue unit, cyclohexyl residue unit of 2,3,4-triethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, 2,3,5- Ethyl triethoxycinnamate residue units, 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue units, 2,3,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue units, 2,3,5- N-butyl triethoxycinnamate units, 2, 3, 5 -Sec-butyl residue unit of triethoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, 2,3 , 6-Triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3 , 6-Triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 3,6-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 , 4,5-Triethoxycinnamic acid Chill residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-tri Ethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6-triethoxysilicate N-propyl cinnamate residue unit, isopropyl residue unit of 2,4,6-triethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4,6-triethoxycinnamic acid unit, 2,4,6-tri Ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, 4, -Tert-butyl triethoxycinnamate residue unit, cyclohexyl residue unit of 2,4,6-triethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid residue, 3,4,5 -Ethyl triethoxycinnamate residue units, 3,4,5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue units, 3,4,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue units, 3,4,5 -Triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3 , 4,5-Triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit 2,3,4,5-tetraethoxy N-propyl cinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3,4,5-tetraethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic leather Acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,4,6- Tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid se -Butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5 6-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic leather Acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentaethoxycinnamic Methyl acid residue unit, pentae Ethyl xycinnamate residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid sec-butyl Examples thereof include a residue unit, a tert-butyl pentaethoxycinnamate residue unit, and a cyclohexyl residue unit of pentaethoxycinnamic acid.

プロポキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of the propoxycinnamic acid ester residue unit include a 2-propoxycinnamic acid methyl residue unit, a 2-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, a 2-propoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2- Propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2- Propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid Isopropyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-propoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n- Propyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid tert- Butyl residue unit, 4-propoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3-dipropoxy N-propyl cinnamate residue units, isopropyl residue units of 2,3-dipropoxycinnamic acid, n-butyl residue units of 2,3-dipropoxycinnamic acid, 2,3 Dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic leather Acid methyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2, 4-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid n - Lopyr residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit 2,5-dipropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 2,6-di Propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid n- Butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit , , 4-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate n-propyl residue unit, 3,4-dipropoxycin Isopropyl cinnamate residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid tert- Butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,5 -N-propyl residue unit of dipropoxycinnamate, isopropyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, 3,5-dipropoxysilicate Cinnaic acid sec- Chill residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate methyl residue unit 2,3,4-tripropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate isopropyl residue unit 2,3,4-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamic acid tert- Butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid ethyl residue Base unit, 2, 3,5-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit Unit, 2,3,6-tripropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamate n-propyl residue Unit, isopropyl residue unit of 2,3,6-tripropoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,6-tripropoxycinnamic acid, sec-butyl 2,3,6-tripropoxycinnamic acid Residue units, 2, , 6-tripropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamate methyl residue unit, 2,4 , 5-Tripropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4 , 5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit 2,4,5-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2 , 4,6 N-propyl residue unit of tripropoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4,6-tripropoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4,6-tripropoxycinnamic acid, 2,4,4 6-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3, 4,5-tripropoxycinnamate methyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamate n-propyl residue unit, 3, 4,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Tert-butyl tripropoxycinnamate residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5 4,5-tetrapropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid isopropyl residue Unit: 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5- Tetrapropoxycinnamate tert-butyl residue units, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate cyclohexyl residue units, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate methyl residue units, 2, 3,4,6 Ethyl tetrapropoxycinnamate residue units, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate n-propyl residue units, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate isopropyl residue units, 2, 3,4,6-tetrapropoxycinnamate n-butyl residue units, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate sec-butyl residue units, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnax Acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5 6-tetrapropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 3, 5 6-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid tert-butyl Residue unit, cyclohexyl residue unit of 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamate, methyl residue unit of pentapropoxycinnamate, ethyl residue unit of pentapropoxycinnamate, n-propyl pentapropoxycinnamate Residual unit, isopropyl pentapropoxycinnamate residue unit, n-butyl pentapropoxycinnamate residue unit, sec-butyl pentapropoxycinnamate residue unit, tert-butyl pentapropoxycinnamate residue unit, Examples include a cyclohexyl residue unit of pentapropoxycinnamic acid.

ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of hexoxycinnamic acid ester residue units include 2-hexoxycinnamic acid methyl residue units, 2-hexoxycinnamic acid ethyl residue units, 2-hexoxycinnamic acid n-propyl residue units, and 2-hexoxycinnamic acid isopropyl units. Residue unit, 2-hexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 3-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-hexoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-propyl residue unit , 4-hexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-hexoxysilicate Cyclohexyl residue unit, methyl 2,3-dihexoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3-dihexoxycinnamate residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dihexoxysilicate unit Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3-dihexoxycinnamate n-butyl residue unit, 2, 3 Dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dihexycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 4-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-dihexoxycinnamate residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid n-group Lopyr residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate sec-butyl residue unit, 2,5-dihexoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamate methyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-dihexoxysilicate N-propyl cinnamate residue unit, isopropyl 2,6-dihexoxycinnamate residue unit, n-butyl residue unit of 2,6-dihexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,6-dihexoxycinnamic acid, 2 , 6-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, , 4-Dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3 , 4-Dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue Base unit, methyl 3,5-dihexoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-dihexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,5-dihexoxycinnamic acid residue, isopropyl 3,5-dihexoxycinnamate residue Base unit, n-butyl residue unit of 3,5-dihexoxycinnamic acid, sec- 3,5-dihexoxycinnamic acid sec- Til residue unit, 3,5-dihexoxycinnamate tert-butyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamate methyl residue unit, 2, 3,4-trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit 2,3,4-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic leather Acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5-trihex Soxycinnamate ethyl residue unit, 2, 3,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue Base unit, 2,3,5-trihexycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-trihexycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxy Cyclohexyl cinnamate residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-trihex N-propyl residue unit of oxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,3,6-trihexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,6-trihexycinnamic acid, 2,3 , 6-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, , 6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue Base unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-trihexoxy Tert-butyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6- Ethyl trihexoxycinnamate residue units, 2, 4, 6 N-propyl residue unit of trihexoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4,6-trihexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4,6-trihexycinnamic acid 2 , 4,6-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl Residue units, methyl units of 3,4,5-trihexoxycinnamic acid residues, ethyl units of 3,4,5-trihexoxycinnamic acid residues, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamate isopropyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamate n-butyl residue unit, 3,4,5-tri Hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Tert-butyl trihexoxycinnamate residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 , 3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahex Methyl oxycinnamate residue unit, 2,3,4,6 Tetrahexoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamate isopropyl residue unit 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,6 -Tert-butyl tetrahexoxycinnamate residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, methyl 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamate residue Unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6- Tetrahexoxycinnamate isopropyl residue units, 2, 3, 5 6-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, pentahexoxycinnamate methyl residue unit, pentahexoxycinnamate ethyl residue unit, pentahex Soxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentahexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, pentahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, pentahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, pentahex Examples thereof include tert-butyl residue unit of oxycinnamic acid and cyclohexyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid.

ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。
これらの中でも、高い位相差を発現することから、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位がさらに好ましい。
Examples of dodeoxycinnamic acid ester residue units include 2-dodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid isopropyl residue Residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate methyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate ethyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate n-propyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate isopropyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate n-butyl Residue unit, 3-dodecoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-dodecoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-dodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid n-propyl residue unit , 4-dodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-dodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-dodoxycin Cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-didodoxysilicic acid unit Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3 Didodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 4-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-didodoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-didodeoxycinnamate residue, 2,5-didodeoxycinnamic acid n-group Lopyr residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-didodeoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-didodoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-didodoxysilicate Cinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 6-didodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, , 4-Didodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3 , 4-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue Base unit, methyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,5-didodeoxycinnamic acid residue, isopropyl 3,5-didodeoxycinnamate residue Base unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid sec- Chill residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 , 3,4-tridodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid unit Isopropyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4 -Tert-butyl tridodoxycinnamate residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit 2,3,5-tridodoxy ethylcinnamate residue units, 2, 3,5-tridodeoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid n -Butyl residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3, 5-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic leather Acid n-butyl residue unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, , 6-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-tridodeoxycinnamic acid methyl residue Basic unit, 2,4,5-tridodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-tridode Isopropyl cinnamate residue units, 2,4,5-tridodecoxycinnamic acid n-butyl residue units, 2,4,5-tridodoxycinnamic acid sec-butyl residue units, 2 , 4,5-Tridodeoxycinnamic acid tert-Butyl residue unit, 2,4,5-Tridodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-Tridodoxycinnamic acid Methyl residue unit, 2,4,6-tridodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6 Tridodeoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-tridodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-tridodoxycinnamic acid n-butyl residue Unit, 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-trido Deoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4,5-tridodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4, 5-Tridodeoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-Tridodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-Tridodoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 3,4,5-tridodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Tert-Butyl tridodoxycinnamate residue unit, 3,4,5-tridodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, methyl 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid residue Unit, ethyl unit of 2,3,4,5-tetradodeoxycinnamic acid residue, 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4, 5-tetradodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodeoxycinnamic leather Acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxymethylcinnamate residue unit, 2,3,4,6 Tetradodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid isopropyl Residue unit, 2,3,4,6-tetradodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, 3,4,6-tetradodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetradone Deoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid n-propyl residue Unit, 2,3,5,6-tetradodoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2,3,5 6-tetradodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodeoxy Tert-butyl cinnamic acid residue unit, 2,3,5,6-tetradodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentadodeoxycinnamic acid methyl residue unit, pentadodoxycinnamic acid ethyl Residue unit, pentadodeoxycinnamate n-propyl residue unit, pentadodeoxycinnamate isopropyl residue unit, pentadodeoxycinnamate n-butyl residue unit, pentadodeoxycinnamate Examples include acid sec-butyl residue units, pentadodeoxycinnamic acid tert-butyl residue units, pentadodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue units, and the like.
Among these, since a high phase difference is expressed, 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid ethyl unit residue, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4- Isopropyl methoxycinnamate residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4- A methoxycinnamate cyclohexyl residue unit is preferred, and an ethyl 4-methoxycinnamate residue unit is more preferred.

また、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位としては、ウレタン結合を有する部位と2個以上のアクリレート単位を有する部位を含む多官能性アクリレートの残基単位であれば如何なるものでもよい。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含んでなることにより、より高分子量化が達成できると共に、重合体となる際の単量体の重合転化率も高く、生産性の効率にも優れるものとなるものである。また、得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をフィルムとした際には靭性に優れるフィルムとなるものである。ここで、ウレタン結合を有さない多官能性アクリレートの残基単位である場合、得られる重合体は高分子量化が達成し難い、得られるフィルムが靭性に劣る等の課題が発生する場合がある。   Further, the residue unit of the polyfunctional acrylate having a urethane bond may be any residue unit of a polyfunctional acrylate including a portion having a urethane bond and a portion having two or more acrylate units. When the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention comprises a residue unit of a polyfunctional acrylate having a urethane bond, it is possible to achieve higher molecular weight and to become a polymer. The monomer has a high polymerization conversion rate and is excellent in productivity efficiency. Moreover, when the obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer is used as a film, the film is excellent in toughness. Here, when it is a residue unit of a polyfunctional acrylate that does not have a urethane bond, it may be difficult to obtain a high molecular weight polymer, and the resulting film may have problems such as poor toughness. .

本発明のウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、分子量の制御が容易であるため、二官能性アクリレートであることが好ましい。また、本発明のウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、特に靱性の高い樹脂が得られるため、ポリエステル骨格および/またはポリエーテル骨格を含むウレタン結合を有する多官能性アクリレートであることが好ましい。   The polyfunctional acrylate having a urethane bond of the present invention is preferably a bifunctional acrylate because the molecular weight can be easily controlled. In addition, the polyfunctional acrylate having a urethane bond of the present invention is preferably a polyfunctional acrylate having a urethane bond including a polyester skeleton and / or a polyether skeleton, because a resin having particularly high toughness can be obtained.

該残基単位を誘導するウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、例えば、イソシアネート基を有するアクリレート類とポリアルコール類とのウレタン化反応により製造する方法、ヒドロキシル基を有するアクリレート類とポリイソシアネート類とのウレタン化反応により製造する方法等により入手することが可能である。イソシアネート基を有するアクリレート類としては、例えば、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、3−アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、4−アクリロイルオキシブチルイソシアネート、5−アクリロイルオキシペンチルイソシアネート、6−アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、3−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、4−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート等が挙げられ、ポリアルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、グリセリン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。また、ヒドロキシル基を有するアクリレート類としては、ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられ、ポリイソシアネート類としては、ヘキサメチレンジイソシアナート、ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアナート、ビス(イソシアナトメチル)ノルボルナン、ヘキサメチレンジイソシアナートトリマー等が挙げられる。そして、該ウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ヒドロキシエチルアクリレートとビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタンとの反応生成物、ヒドロキシエチルアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、2−ヒドロキシプロピルアクリレートとビス(イソシアナトメチル)ノルボルナンとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタンとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートトリマーとの反応生成物等であることができ、これらが1種または2種以上含まれているものであってもよい。   The polyfunctional acrylate having a urethane bond for inducing the residue unit is, for example, a method of producing by urethanation reaction of an acrylate having an isocyanate group and a polyalcohol, an acrylate having a hydroxyl group, and a polyisocyanate. It can be obtained by a method of producing by urethanization reaction. Examples of acrylates having an isocyanate group include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 3-acryloyloxypropyl isocyanate, 4-acryloyloxybutyl isocyanate, 5-acryloyloxypentyl isocyanate, 6-acryloyloxyhexyl isocyanate, and 3-acryloyloxy. Examples of the polyalcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, glycerin, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol. Examples of acrylates having a hydroxyl group include hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate. Examples of polyisocyanates include hexamethylene diisocyanate. Nert, bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, isophorone diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) norbornane, hexamethylene diisocyanate trimer, and the like. The polyfunctional acrylate having a urethane bond includes, for example, a reaction product of hydroxyethyl acrylate and hexamethylene diisocyanate, a reaction product of hydroxyethyl acrylate and bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, hydroxy Reaction product of ethyl acrylate and isophorone diisocyanate, reaction product of 2-hydroxypropyl acrylate and bis (isocyanatomethyl) norbornane, reaction product of polyethylene glycol acrylate and hexamethylene diisocyanate, polyethylene glycol acrylate Product of bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane with polyethylene glycol acrylate and isophorone diisocyanate, pentaerythritol Reaction product of reacrylate and hexamethylene diisocyanate, reaction product of pentaerythritol triacrylate and isophorone diisocyanate, reaction product of dipentaerythritol pentaacrylate and hexamethylene diisocyanate trimer, etc. These may be one or two or more of them.

また、該ウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、市販品として、例えば、(商品名)U−2PPA(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−6HA(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−32P(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−NDP(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−108A(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−511(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−340P(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−6200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−108(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−512(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−7000(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−7200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)M−1200(東亞合成(株)製)、(商品名)M−1600(東亞合成(株)製)、(商品名)M−1960(東亞合成(株)製)等が入手可能である。   Moreover, the polyfunctional acrylate which has this urethane bond is a commercial item, for example, (trade name) U-2PPA (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) U-6HA (Shin-Nakamura chemical industry ( Co., Ltd.), (trade name) UA-32P (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA-NDP (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) U-108A (new) (Product name) UA-511 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), (product name) UA-4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), (product name) UA -340P (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (product name) UA-6200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), (product name) U-108 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), ( Product name: UA-512 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (product name) UA-7000 (Shin-Nakamura Chemical Industry) (Trade name) UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) M-1200 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), (brand name) M-1600 (Toagosei) Co., Ltd.), (trade name) M-1960 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like are available.

該アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn−ブチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ビス(2−エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。   The alkoxycinnamate-acrylate copolymer may contain other monomer residue units as long as the scope of the present invention is not exceeded. Examples of other monomer residue units include: Styrene residue units such as styrene residue units and α-methylstyrene residue units; (meth) acrylic acid residue units; (meth) methyl acrylate residue units, (meth) ethyl acrylate residue units, (Meth) acrylic acid ester residue units such as butyl (meth) acrylate residue units; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residue units; methacrylonitrile Residue unit; vinyl ether residue unit such as methyl vinyl ether residue unit, ethyl vinyl ether residue unit, butyl vinyl ether residue unit; N-methylmaleimide residue N-substituted maleimide residue units such as N-cyclohexylmaleimide residue units and N-phenylmaleimide residue units; olefin residue units such as ethylene residue units and propylene residue units; di-n-fumarate Examples thereof include one or more selected from fumaric acid diester residue units such as a butyl residue unit, a diisopropyl fumarate residue unit, and a bis (2-ethylhexyl) fumarate residue unit.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の組成は、溶媒等の溶解性に優れ、フィルムとした際の強度等に優れる高分子量体のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体となることから、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位0.01〜1%、及びその他の単量体残基単位0〜49.99モル%が好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位60〜90モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位0.01〜0.5モル%、及びその他の単量体残基単位0〜39.99モル%がさらに好ましい。   The composition of the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention is a high molecular weight alkoxycinnamate-acrylate copolymer having excellent solubility in solvents and the like, and excellent strength and the like when used as a film. Therefore, 50 to 99.99 mol% of alkoxycinnamate ester residue units, 0.01 to 1% of residue units of polyfunctional acrylate having a urethane bond, and other monomer residue units of 0 to 49 99 mol% is preferred, alkoxycinnamate residue units 60-90 mol%, polyfunctional acrylate residue units 0.01-0.5 mol% having a urethane bond, and other monomer residues The base unit of 0 to 39.99 mol% is more preferable.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が120,000〜1,000,000であることが好ましく、140,000〜700,000であることがさらに好ましく、150,000〜500,000であることが特に好ましい。   Since the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention is excellent in mechanical properties and strength when formed into a film, it is determined from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The weight average molecular weight obtained in terms of standard polystyrene is preferably 120,000 to 1,000,000, more preferably 140,000 to 700,000, and more preferably 150,000 to 500,000. Particularly preferred.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の製造方法としては、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、アルコキシケイ皮酸エステル及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートのラジカル重合等を行うことにより製造することができる。ここで、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしては、上記したウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を誘導する化合物等を挙げることができる。   The alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention may be produced by any method as long as the alkoxycinnamate-acrylate copolymer is obtained. For example, the alkoxycinnamate ester may be used. And it can manufacture by performing radical polymerization etc. of the polyfunctional acrylate which has a urethane bond. Here, examples of the polyfunctional acrylate having a urethane bond include a compound that derives a residue unit of the polyfunctional acrylate having a urethane bond.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。   For the radical polymerization, any known polymerization method, for example, bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method or emulsion polymerization method can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2′-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis And azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile).

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール−アクリレート溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Methanol, ethanol, propanol, butanol, etc. Alcohol-acrylate solvent; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; dimethylformamide; isopropyl acetate; water and the like.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, since the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator and the control of the reaction is easy, it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. It is preferable.

さらに、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を製造する際には、より高分子量のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をより効率よく製造することが可能となることから、アルコキシケイ皮酸エステル50〜99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレート0.01〜1モル%、その他の単量体0〜49.99モル%の割合で含む合計単量体を100モル%として、ラジカル重合開始剤0.001〜5モル%の存在下、ラジカル重合反応を行うことが好ましい。   Furthermore, when producing the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention, it becomes possible to more efficiently produce a higher molecular weight alkoxycinnamate-acrylate copolymer, 100 mol of total monomers including alkoxycinnamate 50 to 99 mol%, polyfunctional acrylate having urethane bond 0.01 to 1 mol%, and other monomers 0 to 49.99 mol% %, The radical polymerization reaction is preferably performed in the presence of 0.001 to 5 mol% of a radical polymerization initiator.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。   When an optical film using the alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention is obtained, a thin film having a high out-of-plane retardation even in a thin film and excellent in optical properties can be used as a retardation film. preferable.

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。   In the retardation film of the present invention, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction perpendicular thereto is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz. A retardation film characterized in that the relationship is nx ≦ ny <nz. By satisfying nx ≦ ny <nz, the viewing angle of STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, transflective LCD, etc. The retardation film is excellent in compensation performance. In general, since the control of the three-dimensional refractive index of the film is performed by stretching the film and the like, the manufacturing process and quality control are complicated. However, the retardation film of the present invention is unstretched and has a refractive index in the film thickness direction. Has been found to exhibit a unique behavior of high.

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−100〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましく、−180〜−500nmであることが特に好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で5.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、6nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。
In addition, since the retardation film of the present invention becomes a retardation film having more excellent optical properties, an out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is −100 to − It is preferably 2000 nm, more preferably −100 to −500 nm, and particularly preferably −180 to −500 nm.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the absolute value of the relationship between the film thickness and the out-of-plane retardation is preferably 5.5 nm / film thickness (μm) or more, and 6 nm / The film thickness (μm) or more is more preferable, and 8 nm / film thickness (μm) or more is particularly preferable.

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   When the retardation film of the present invention is used in a liquid crystal display device, the image quality characteristics are good, and therefore, the light transmittance is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. . The haze (cloudiness) of the retardation film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the phase difference film of this invention, For example, methods, such as a solution cast method and a melt cast method, are mentioned.

溶液キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。   In the solution casting method, a solution in which an alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. Is the method. In this case, as a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, or the like is used. Particularly, industrially, a method in which a dope is continuously extruded from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is the most common. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, More preferably, it is -10000 cPs.

この際のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは5〜100μm、特に好ましくは10〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the alkoxycinnamate-acrylate copolymer is preferably 1 to 200 μm, more preferably 5 to 100 μm, particularly preferably 10 to 50 μm after drying because the film can be easily handled. is there.

また、溶融キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。   The melt casting method is a molding method in which an alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer is melted in an extruder and extruded from a slit of a T die into a film shape, and then cooled and cooled with a roll or air.

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。   The retardation film of the present invention can be used by being peeled off from a glass substrate as a base material or another optical film, and can also be used as a laminate with a glass substrate as a base material or another optical film.

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film of the present invention can be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, and can be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. is there. Furthermore, the retardation films of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   In the retardation film of the present invention, an antioxidant is preferably blended in order to increase the thermal stability of the retardation film itself or during film formation. Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is preferable to use together a hindered antioxidant and phosphorus antioxidant, and in that case, for example with respect to 100 weight part of hindered antioxidant More preferably, the phosphorus-based antioxidant is used in a mixture of 100 to 500 parts by weight. Moreover, as addition amount of antioxidant, since it is excellent in an antioxidant effect | action with respect to 100 weight part of alkoxycinnamate ester-acrylate copolymers which comprise the retardation film of this invention, 0.01 to 10 weight Part is preferable, and 0.5 to 1 part by weight is more preferable.

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。   Furthermore, as an ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, or benzoate may be blended as necessary.

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。   The retardation film of the present invention is blended with other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc. within the scope of the invention. May be.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、溶媒に対する溶解性に優れ、溶液キャスト等の方法により、フィルムとすることが可能であり、該フィルムはフィルム強度等に優れるものとなる。   The alkoxycinnamate-acrylate copolymer of the present invention is excellent in solubility in a solvent and can be formed into a film by a method such as solution casting, and the film has excellent film strength and the like.

本発明は、分子量が高いことから、フィルム等とした際の特性に優れる新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及び該アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を効率よく製造する方法を提供するものである。   Since the present invention has a high molecular weight, a novel alkoxycinnamate-acrylate copolymer having excellent properties when used as a film or the like and a method for efficiently producing the alkoxycinnamate-acrylate copolymer are disclosed. It is to provide.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of alkoxycinnamate-acrylate copolymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-GX270), it was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis.

<重量平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of weight average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, trade name C0-8011 (equipped with column GMH HR- H)), tetrahydrofuran was measured as a solvent at 40 ° C., and the standard polystyrene equivalent value was obtained. Asked.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
An Abbe refractometer (manufactured by Atago) was used and measured according to JIS K 7142 (1981 version).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。

実施例1(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル/アクリレート共重合体)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.26モル)、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル15.2g(0.065モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.21g(1.6×10−4モル(0.050モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.38g(0.0022モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体17gを得た(収率:26%)。
<Measurement of retardation and three-dimensional refractive index of film>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

Example 1 (Synthesis 1 of alkoxycinnamate-acrylate copolymer (ethyl 4-methoxycinnamate / 4-methoxyhexamate 2-ethylhexyl / acrylate copolymer) 1)
Ethanol 4-methoxycinnamate 50g (0.26mol), 2-methoxyhexyl 4-methoxycinnamate 15.2g (0.065mol), 75mL glass ampoule, urethane as polyfunctional acrylate having urethane bond Acrylate compound (trade name) UA-4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.21 g (1.6 × 10 −4 mol (0.050 mol%)) and tert-butylperoxy which is a polymerization initiator 0.38 g (0.0022 mol) of pivalate was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 17 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 26%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は153,000であった。   The obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer had a weight average molecular weight of 153,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位/アクリレート残基単位=83.96/15.99/0.05(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 4-methoxycinnamate ethyl residue units / 4-methoxycinnamate 2-ethylhexyl residue units / acrylate residue units = 83.96 / 15.99. /0.05 (mol%).

アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターにより10cm×10cmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を用いた透明フィルムを得た。得られたフィルムの位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−251nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムを曲げて端部同士を接触させる屈曲試験を実施したところ、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体層にクラックの発生等は見られず、靭性に優れるものであった。   An alkoxycinnamate-acrylate copolymer is dissolved in methyl isobutyl ketone to form a 15% by weight resin solution, cast on a 10 cm × 10 cm polyethylene terephthalate film by a coater, and dried at 130 ° C. for 10 minutes. A transparent film using an alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer having a thickness of 30 μm was obtained. When the retardation of the obtained film was measured, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −251 nm, and the absolute value of the film thickness and the out-of-plane retardation was 8.4 nm / film thickness (μm). . Furthermore, when this film was bent and subjected to a bending test in which the ends were brought into contact with each other, no cracks were found in the alkoxycinnamate-acrylate copolymer layer, and the film was excellent in toughness.

実施例2(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/フマル酸ジイソプロピル/アクリレート共重合体)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、フマル酸ジイソプロピル20.8g(0.10モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.54g(4.2×10−4モル(0.120モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.40g(0.0023モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体25gを得た(収率:34%)。
Example 2 (Synthesis 2 of alkoxycinnamate-acrylate copolymer (ethyl 4-methoxycinnamate / diisopropyl fumarate / acrylate copolymer) 2)
A glass ampoule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.24 mol) of ethyl 4-methoxycinnamate, 20.8 g (0.10 mol) of diisopropyl fumarate, a urethane acrylate compound (trade name) as a polyfunctional acrylate having a urethane bond UA-4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.54 g (4.2 × 10 −4 mol (0.120 mol%)) and 0.40 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator ( 0.0023 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 25 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 34%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は184,000であった。   The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer was 184,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位/アクリレート残基単位=54.81/45.07/0.12(モル%)であることを確認した。 In addition, as a result of 1 H-NMR measurement, the copolymer composition was as follows: ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / diisopropyl fumarate residue unit / acrylate residue unit = 54.81 / 45.07 / 0.12 (mol) %).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−258nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。   The obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and the phase difference was measured. As a result, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −258 nm, and the film thickness and surface The absolute value of the outer phase difference was 8.6 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the obtained transparent film was excellent in toughness with no occurrence of cracks.

実施例3(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート重合体(4−メトキシケイ皮酸イソプロピル/フマル酸ジエチル/アクリレート共重合体)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸イソプロピル50g(0.21モル)、フマル酸ジエチル4.1g(0.024モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)U−6HA(新中村化学工業(株)製)0.52g(4.3×10−4モル(0.182モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.28g(0.0016モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体17gを得た(収率:31%)。
Example 3 (Synthesis 3 of alkoxycinnamate-acrylate polymer (isopropyl 4-methoxycinnamate / diethyl fumarate / acrylate copolymer) 3)
A glass ampoule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.21 mol) of isopropyl 4-methoxycinnamate, 4.1 g (0.024 mol) of diethyl fumarate, a urethane acrylate compound (trade name) as a polyfunctional acrylate having a urethane bond 0.5-6 g (4.3 × 10 −4 mol (0.182 mol%)) of U-6HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 0.28 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator ( 0.0016 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 17 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 31%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は195,000であった。   The resulting alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer had a weight average molecular weight of 195,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位/アクリレート残基単位=89.86/9.96/0.18(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 4-methoxycinnamate isopropyl residue unit / diethyl fumarate residue unit / acrylate residue unit = 89.86 / 9.96 / 0.18 (mol) %).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−261nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。   The obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer was made into a film by the same method as in Example 1 and measured for retardation. As a result, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −261 nm, and the film thickness and surface The absolute value of the outer phase difference was 8.7 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the obtained transparent film was excellent in toughness with no occurrence of cracks.

実施例4(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル共重合体/N−フェニルマレイミド/アクリレート共重合体)の合成4)
容量75mLのガラスアンプルに3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル50g(0.23モル)、N−フェニルマレイミド4.4g(0.025モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−7200(新中村化学工業(株)製)0.22g(1.8×10−4モル(0.070モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体16gを得た(収率:30%)。
Example 4 (Synthesis 4 of alkoxycinnamate-acrylate copolymer (ethyl 3,4-dimethoxycinnamate copolymer / N-phenylmaleimide / acrylate copolymer) 4)
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.23 mol) of ethyl 3,4-dimethoxycinnamate, 4.4 g (0.025 mol) of N-phenylmaleimide, a urethane acrylate compound (polyfunctional acrylate having a urethane bond) Trade name: UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.22 g (1.8 × 10 −4 mol (0.070 mol%)) and tert-butyl peroxypivalate 0 which is a polymerization initiator .29 g (0.0017 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 24 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 16 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 30%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は195,000であった。   The resulting alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer had a weight average molecular weight of 195,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位/アクリレート残基単位=81.95/17.98/0.07(モル%)であることを確認した。 In addition, the copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 3,4-dimethoxycinnamic acid ethyl residue unit / N-phenylmaleimide residue unit / acrylate residue unit = 81.95 / 17.98 / 0. It was confirmed to be 07 (mol%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−254nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。   The obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and the phase difference was measured. As a result, the out-of-plane retardation Rth was negatively large at −254 nm, The absolute value of the outer phase difference was 8.5 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the obtained transparent film was excellent in toughness with no occurrence of cracks.

実施例5(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−エトキシケイ皮酸エチル/アクリル酸エチル/アクリレート共重合体)の合成5)
容量75mLのガラスアンプルに4−エトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、アクリル酸エチル1.3g(0.013モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.40g(3.1×10−4モル(0.120モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.30g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、36時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体12gを得た(収率:24%)。
Example 5 (Synthesis 5 of alkoxycinnamate-acrylate copolymer (ethyl 4-ethoxycinnamate / ethyl acrylate / acrylate copolymer) 5)
A glass ampoule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.24 mol) of ethyl 4-ethoxycinnamate, 1.3 g (0.013 mol) of ethyl acrylate, and a urethane acrylate compound (trade name) UA as a polyfunctional acrylate having a urethane bond -4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.40 g (3.1 × 10 −4 mol (0.120 mol%)) and tert-butyl peroxypivalate 0.30 g (0 .0017 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 36 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 12 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 24%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は194,000であった。   The resulting alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer had a weight average molecular weight of 194,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位/アクリレート残基単位=88.93/10.95/0.12(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit / ethyl acrylate residue unit / acrylate residue unit = 88.93 / 10.95 / 0.12 (mol%) ) Confirmed.

得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−257nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。   The obtained alkoxycinnamic ester-acrylate copolymer was made into a film by the same method as in Example 1 and measured for retardation. As a result, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −257 nm, The absolute value of the outer phase difference was 8.6 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the obtained transparent film was excellent in toughness with no occurrence of cracks.

比較例1
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例1と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体9gを得た(収率:14%)。
Comparative Example 1
9 g of 4-methoxycinnamic acid-4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used. (Rate: 14%).

得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル共重合体の重量平均分子量は53000と低いものであった。H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル残基単位=84/16(モル%)であった。 The resulting ethyl 4-methoxycinnamate-4-methoxyhexyl 2-methoxyhexyl copolymer had a low weight average molecular weight of 53,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was 4-methoxycinnamate ethyl residue unit / 4-methoxycinnamate 2-ethylhexyl residue unit = 84/16 (mol%). .

得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。   The obtained alkoxycinnamic ester copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and when this film was subjected to a bending test, the alkoxycinnamic ester copolymer layer was quickly applied with bending stress. Cracks occurred.

比較例2
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例2と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体14gを得た(収率:20%)。
Comparative Example 2
14 g of 4-methoxycinnamate ethyl diisopropyl fumarate copolymer was obtained in the same manner as in Example 2 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used (yield: 20%).

得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体の重量平均分子量は63000と低いものであった。H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位=54/46(モル%)であった。 The weight-average molecular weight of the obtained 4-methoxycinnamate ethyl isopropyl fumarate copolymer was as low as 63,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / diisopropyl fumarate residue unit = 54/46 (mol%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。   The obtained alkoxycinnamic ester copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and when this film was subjected to a bending test, the alkoxycinnamic ester copolymer layer was quickly applied with bending stress. Cracks occurred.

比較例3
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例3と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体9gを得た(収率:16%)。
Comparative Example 3
9 g of 4-methoxycinnamate isopropyl-fumarate copolymer was obtained in the same manner as in Example 3 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used (yield: 16%).

得られた4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体の重量平均分子量は60000と低いものであった。H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=90/10(モル%)であった。 The obtained 4-methoxycinnamate-diethyl fumarate copolymer had a low weight average molecular weight of 60,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was 4-methoxycinnamate isopropyl residue unit / diethyl fumarate residue unit = 90/10 (mol%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。   The obtained alkoxycinnamic ester copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and when this film was subjected to a bending test, the alkoxycinnamic ester copolymer layer was quickly applied with bending stress. Cracks occurred.

比較例4
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例4と同様の方法により、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体9gを得た(収率:17%)。
Comparative Example 4
9 g of ethyl 3,4-dimethoxycinnamate-N-phenylmaleimide copolymer was obtained in the same manner as in Example 4 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used (yield: 17 %).

得られた3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体の重量平均分子量は94000と低いものであった。また、H−NMR測定により得られた共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位=82/18(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained 3,4-dimethoxycinnamic acid ethyl-N-phenylmaleimide copolymer was as low as 94,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 3,4-dimethoxycinnamate residue unit / N-phenylmaleimide residue unit = 82/18 (mol%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。   The obtained alkoxycinnamic ester copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and when this film was subjected to a bending test, the alkoxycinnamic ester copolymer layer was quickly applied with bending stress. Cracks occurred.

比較例5
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例5と同様の方法により、4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体5gを得た(収率:10%)。
Comparative Example 5
Except not using the polyfunctional acrylate having a urethane bond, 5 g of 4-ethoxycinnamic acid ethyl acrylate copolymer was obtained in the same manner as in Example 5 (yield: 10%).

得られた4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体の重量平均分子量は78000と低いものであった。また、H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位=89/11(モル%)であった。 The obtained ethyl 4-ethoxycinnamate-ethyl acrylate copolymer had a low weight average molecular weight of 78000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit / ethyl acrylate residue unit = 89/11 (mol%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。   The obtained alkoxycinnamic ester copolymer was made into a film by the same method as in Example 1, and when this film was subjected to a bending test, the alkoxycinnamic ester copolymer layer was quickly applied with bending stress. Cracks occurred.

Claims (12)

少なくとも一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。
Figure 2016145290
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
An alkoxycinnamate-acrylate copolymer comprising at least an alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1) and a polyfunctional acrylate residue unit having a urethane bond.
Figure 2016145290
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位0.01〜1モル%およびその他の単量体残基単位0〜49.99モル%を含むことを特徴とする請求項1に記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 50 to 99.99 mol% of alkoxycinnamate ester residue units, 0.01 to 1 mol% of residue units of polyfunctional acrylate having a urethane bond, and 0 to 49.99 mol of other monomer residue units The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to claim 1, comprising: 標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が120,000〜1,000,000であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to claim 1 or 2, wherein the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene is 120,000 to 1,000,000. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位がメトキシケイ皮酸エステル残基単位およびエトキシケイ皮酸エステル残基単位より選択される1以上の残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The alkoxycinnamate residue unit is one or more residue units selected from a methoxycinnamate residue unit and an ethoxycinnamate residue unit. The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of the above. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of claims 1 to 4, wherein the alkoxycinnamate residue unit is a 4-methoxycinnamate residue unit. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位および4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位からなる群より選択されるいずれかであることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The alkoxycinnamate residue unit is 4-methoxycinnamate methyl residue unit, 4-methoxycinnamate ethyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methoxycinnamate Isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit and 4-methoxycinnamic leather unit The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of claims 1 to 5, which is any one selected from the group consisting of acid cyclohexyl residue units. ウレタン結合を有する多官能性アクリレートが二官能性アクリレートであることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The polyfunctional acrylate having a urethane bond is a bifunctional acrylate, and the alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of claims 1 to 6. ウレタン結合を有する多官能性アクリレートがポリエステル骨格および/またはポリエーテル骨格を含むことを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体。 The alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of claims 1 to 7, wherein the polyfunctional acrylate having a urethane bond includes a polyester skeleton and / or a polyether skeleton. アルコキシケイ皮酸エステル50〜99.99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレート0.01〜1モル%、その他の単量体0〜49.99モル%の割合で含む合計単量体を100モル%として、ラジカル重合開始剤0.001〜5モル%の存在下、ラジカル重合反応を行うことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の製造方法。 Total monomer containing alkoxycinnamate 50 to 99.99 mol%, polyfunctional acrylate having urethane bond 0.01 to 1 mol%, other monomers 0 to 49.99 mol% A method for producing an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer, wherein a radical polymerization reaction is carried out in the presence of 0.001 to 5 mol% of a radical polymerization initiator as 100 mol%. 請求項1〜請求項8のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を用いたことを特徴とするフィルム。 A film using the alkoxycinnamate-acrylate copolymer according to any one of claims 1 to 8. 請求項10に記載のフィルムを用いたことを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film using the film according to claim 10. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項11に記載の位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx ≦ ny <nz. The retardation film according to claim 11, wherein the retardation film is present.
JP2015022707A 2014-11-26 2015-02-06 Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same Active JP6500472B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015022707A JP6500472B2 (en) 2015-02-06 2015-02-06 Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same
PCT/JP2015/082750 WO2016084747A1 (en) 2014-11-26 2015-11-20 Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using same
TW104138897A TW201623348A (en) 2014-11-26 2015-11-24 Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015022707A JP6500472B2 (en) 2015-02-06 2015-02-06 Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016145290A true JP2016145290A (en) 2016-08-12
JP6500472B2 JP6500472B2 (en) 2019-04-17

Family

ID=56685308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015022707A Active JP6500472B2 (en) 2014-11-26 2015-02-06 Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6500472B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10273417A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd Beautifully whitening agent and beautifully whitening
JP2013129690A (en) * 2011-12-20 2013-07-04 Sumitomo Chemical Co Ltd Composition and optical film
WO2014084178A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 東ソー株式会社 (fumaric acid diester)-(cinnamic acid ester) copolymer, method for producing same, and film produced using same
JP2014205814A (en) * 2013-04-16 2014-10-30 東ソー株式会社 Fumaric acid diisopropyl-cinnamic acid ester-bismaleimide copolymer resin and production method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10273417A (en) * 1997-03-28 1998-10-13 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd Beautifully whitening agent and beautifully whitening
JP2013129690A (en) * 2011-12-20 2013-07-04 Sumitomo Chemical Co Ltd Composition and optical film
WO2014084178A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 東ソー株式会社 (fumaric acid diester)-(cinnamic acid ester) copolymer, method for producing same, and film produced using same
JP2014205814A (en) * 2013-04-16 2014-10-30 東ソー株式会社 Fumaric acid diisopropyl-cinnamic acid ester-bismaleimide copolymer resin and production method thereof

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
KARTHIKEYAN, S.; RAMAMURTHY, V.: "Templating Photodimerization of trans-Cinnamic Acid Esters with a Water-Soluble Pd Nanocage", JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. 72(2), JPN6016005374, 2007, US, pages 452-458 *

Also Published As

Publication number Publication date
JP6500472B2 (en) 2019-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5830949B2 (en) Fumaric acid diester resin for retardation film and retardation film comprising the same
WO2014013982A1 (en) (diisopropyl fumarate)-(cinnamic acid derivative) copolymer, and phase difference film produced using same
JP5740971B2 (en) Fumaric acid diester resin and retardation film using the same
JP5343360B2 (en) Optical compensation film
JP6372319B2 (en) trans-stilbene-N-substituted maleimide-cinnamic ester copolymer and retardation film using the same
JP5831174B2 (en) Fumaric acid diester resin for retardation film and retardation film comprising the same
WO2016084747A1 (en) Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using same
JP6500472B2 (en) Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same
JP5625898B2 (en) Fumaric acid diester resin and retardation film using the same
JP6500473B2 (en) Fumaric acid diester-alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same
JP2017179141A (en) Resin composition and optical compensation film using the same
JP5982828B2 (en) Laminated film for optical compensation
JP6515503B2 (en) Fumaric acid diester-alkoxycinnamic acid ester copolymer and retardation film using the same
JP6603998B2 (en) Fumaric acid diester-alkoxycinnamic acid ester copolymer and method for producing the same
JP6015838B2 (en) Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using the same
JP6557985B2 (en) Alkoxycinnamic ester copolymer and process for producing the same
JP2018095848A (en) Copolymer and retardation film using the same
JP5983300B2 (en) Diisopropyl fumarate-cinnamic acid copolymer and retardation film using the same
JP5920085B2 (en) Diisopropyl fumarate-cinnamate copolymer and retardation film using the same
JP6693109B2 (en) Fumarate-alkoxycinnamic acid copolymer and retardation film using the same
JP5998878B2 (en) Diisopropyl fumarate-cinnamate-acrylate copolymer and method for producing the same
JP5958516B2 (en) Fumaric acid diester resin and retardation film using the same
JP7233158B2 (en) N-(substituted phenyl) maleimide-based copolymer and retardation film using the same
TW201623348A (en) Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using same
JP2014109002A (en) Fumaric acid diester based resin and phase difference film with use thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180116

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190304

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6500472

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151