JP2016136088A - 距離測定装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】測定精度が高い距離測定装置を提供する。
【解決手段】距離測定装置は、光透過領域の配置が異なる複数のパターン31〜34と、パターンの像を被測定物に投影する投影部と、投影部により被測定物に投影されたパターンの像を撮影する撮影部と、を備え、投影部は、投影するパターンを周期的に変更し、撮影部は、異なるパターンごとにパターンの像と投影部の距離を算出し、算出した複数の距離に基づいて被測定物と投影部の距離を測定する。
【選択図】図3
【解決手段】距離測定装置は、光透過領域の配置が異なる複数のパターン31〜34と、パターンの像を被測定物に投影する投影部と、投影部により被測定物に投影されたパターンの像を撮影する撮影部と、を備え、投影部は、投影するパターンを周期的に変更し、撮影部は、異なるパターンごとにパターンの像と投影部の距離を算出し、算出した複数の距離に基づいて被測定物と投影部の距離を測定する。
【選択図】図3
Description
本発明は、距離測定装置に関するものである。
空間の物体認識技術として、空間符号化法を使用した三次元計測技術が知られている。
空間符号化法は、明暗のパターンを被測定物に投影し、投影されたパターンの像を撮影部によって撮影することによって、被測定物と投影部との距離を測定する方法である。しかし、被測定物に明暗のパターンの縁(エッジ)が投影されない部分については距離を測定することができなかった。
これまでにも、1種類又はそれ以上の異なる波長帯の光を吸収するフィルタを複数のパターンで配列したパターン構造体に、照射光を透過させる三次元形状計測方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、明暗パターンの周期が異なる2種類の投影パターンを用いて対象物体の形状を計測する情報処理装置が提案されている(例えば、特許文献2参照)。さらに、投影パターンの位相をずらした複数のパターンを投影し、複数パターン間の演算により距離を算出する位相シフト法を利用した三次元形状計測システムが提案されている(例えば、特許文献3参照)。
本発明は、距離の測定精度が高い距離測定装置を得ることを目的とする。
本発明にかかる距離測定装置は、光透過領域の配置が異なる複数のパターンと、パターンの像を被測定物に投影する投影部と、投影部により被測定物に投影されたパターンの像を撮影する撮影部と、を備え、投影部は、投影するパターンを周期的に変更し、撮影部は、異なるパターンごとにパターンの像と投影部の距離を算出し、算出した複数の距離に基づいて被測定物と投影部の距離を測定する、ことを特徴とする。
本発明によれば、距離の測定精度が高い距離測定装置を得ることができる。
●距離測定装置(1)●
以下、本発明にかかる距離測定装置について、図面を参照しながら説明する。
以下、本発明にかかる距離測定装置について、図面を参照しながら説明する。
●距離測定装置1の構成
図1に示すように、距離測定装置1は、投影部2、マスク3および撮影部4を備える。
図1に示すように、距離測定装置1は、投影部2、マスク3および撮影部4を備える。
投影部2は、マスク3に向かって光束を照射する光源である。投影部2は、例えば点光源である。マスク3は、投影部2から照射された光束の光路上に配置された、光透過性を有する円板である。マスク3を透過した光束は、被測定物10に照射される。なお、マスク3は、円形に限らず、例えば多角形などでもよい。
図2に、マスク3が備えるパターンの一例を示す。パターン31は、光を透過する光透過領域11と、光を透過しない光非透過領域12が、四角いモザイク状に組み合わされて配置された2次元の領域である、距離算出エリア35を有する。光透過領域11および光透過領域12の最小単位の縦横の長さを、パターンピッチ111とする。また、図2において、パターンピッチ111の2辺に平行なxy軸を定義する。x軸は、図2中の水平方向を、y軸は、垂直方向を指す。
パターン31は、パターンピッチ111幅の2倍の長さの光透過領域をy軸方向に繰り返して構成されている。なお、光透過領域の配置の繰り返し単位は、パターンピッチ111幅の2倍の長さに限られず、パターンピッチ111幅と同一でも3倍の長さ以上であってもよい。投影部2からの光束により、光透過領域11の配置に対応したパターンの像が被測定物10に投影される。
図1に示すように、撮影部4は、例えば2次元で撮影可能なカメラである。撮影部4は、被測定物10に投影されたパターンの像を撮影する。撮影部4は、被測定物10に投影されたパターンの像と投影部2の距離を例えば三角測量法などに基づいて算出する。例えば、被測定物10に投影されたパターンの像のパターンピッチ幅と、既知のパターン31のパターンピッチ111幅を比較し、投影された部分と投影部2の距離を算出することができる。
●パターンマッチング
図2に示すように、マッチング単位13は、例えば光透過領域11と光非透過領域12を組み合わせた、パターンピッチ111の2倍四方の領域である。マッチング単位13は、一度にパターンマッチングを行う領域の例である。撮影部4は、マッチング単位13と撮影された画像との間で、撮影部4の画素ごとにパターンマッチングを行い、マッチング単位13が撮影画像上のどの位置で観察されるかを特定する。マッチング単位13は、例えば図2中のx軸方向にパターンピッチの2倍の幅ずつ走査する。なお、マッチング単位の面積および走査する長さの単位は、パターンピッチの2倍に限られない。
図2に示すように、マッチング単位13は、例えば光透過領域11と光非透過領域12を組み合わせた、パターンピッチ111の2倍四方の領域である。マッチング単位13は、一度にパターンマッチングを行う領域の例である。撮影部4は、マッチング単位13と撮影された画像との間で、撮影部4の画素ごとにパターンマッチングを行い、マッチング単位13が撮影画像上のどの位置で観察されるかを特定する。マッチング単位13は、例えば図2中のx軸方向にパターンピッチの2倍の幅ずつ走査する。なお、マッチング単位の面積および走査する長さの単位は、パターンピッチの2倍に限られない。
パターンマッチングは、テンプレートマッチング手法として一般的に知られている、類似尺度を利用したパターン推定を行う。例えば、SAD(Sum of Absolute Difference)やSSD(Sum of Squared Difference)、NCC(Normalized Correlation Coefficient)などの手法が有効である。
●複数のパターンの構成
図3に示すように、マスク3は、円板の表面にパターン31、パターン32、パターン33およびパターン34を備える。パターン31〜34は、光透過領域の配置がそれぞれ異なる。パターン32〜34は、パターン31と同様にパターンピッチの2倍分の配置を図中下方向に繰り返して構成されている。パターン31〜34は、マスク3の中央に対して対称に、放射状に配置されている。
図3に示すように、マスク3は、円板の表面にパターン31、パターン32、パターン33およびパターン34を備える。パターン31〜34は、光透過領域の配置がそれぞれ異なる。パターン32〜34は、パターン31と同様にパターンピッチの2倍分の配置を図中下方向に繰り返して構成されている。パターン31〜34は、マスク3の中央に対して対称に、放射状に配置されている。
マスク3は、円板の中央を中心に回転可能である。マスク3が回転することにより、投影部2からの光束が照射されるパターンが変更される。例えば、図3のパターン31の位置に光束が照射されているとする。次に、マスク3が図中左回りに90°回転すると、パターン32に光束が照射される。投影部2は、マスク3を回転することにより、光束が照射されるパターンを高速に切り替えることができる。
投影部2からの光束は、マスク3上のパターン31〜34のいずれかに照射される。投影部2からの光束により、光束が透過したパターンの光透過領域11の配置に対応したパターンの像が被測定物10に投影される。
本実施の形態においてパターンは4種類であったが、パターンの種類は4種類未満であっても5種類以上であってもよい。
パターン31〜34は、それぞれ異なるパターン識別記号36〜39を有する。例えば、パターン識別記号36は菱形、パターン識別記号37は三角、パターン識別記号38は星形、パターン識別記号39は丸形の、光を透過しない領域である。パターン識別記号36〜39は、パターン31〜34上の距離算出エリアよりマスク3の回転中心側に配置されている。パターン識別記号の像を観察することによって、パターン31〜34のうちいずれのパターンが被測定物10に投影されているかを容易に特定することができる。
パターン識別記号は、1つのパターンに対して複数個配置してもよい。パターン識別記号を複数配置することにより、1つが隠れてしまった場合にも識別が可能になる。また、パターン識別記号は、同一の記号をパターンの異なる位置に配置することによってパターンを識別できるようにしてもよい。
図4に示すように、被測定物10に投影されるパターンは、周期的に変更される。パターン32の光透過領域14の配置は、パターン31の光透過領域11の配置を投影部2の投影方向に垂直な面上において水平な方向であって、x軸プラス方向にパターンピッチ111幅だけずらした配置である。すなわち、パターン31の光透過領域11のうちx軸方向の絶対値が最も小さい位置(x軸方向1列目)の配列は、パターン32のx軸方向2列目の配列と同じである。また、上記配列は、パターン33の光透過領域15のうちx軸方向3列目の配列と同じである。
ここで、図1に示すように、本実施の形態において投影部2からの出射位置と撮影部4の撮像位置は、水平からの高さがほぼ等しい。したがって、パターン31〜33の光透過領域の配置を水平方向に変化させることにより、被測定物10と投影部2の距離を計算することができる。投影部2からの出射位置と撮影部4の撮像位置は、水平面と垂直な方向に並んで配置されていてもよい。このとき、パターンの光透過領域の配置は、水平面と垂直な方向に変化させる。
パターン32のx軸方向1列目の配列は、パターン31のx軸方向の絶対値が最も大きい位置の配列と同じである。パターン33のx軸方向1列目は、パターン32のx軸方向の絶対値が最も大きい位置の配列と同じである。
この構成により、パターンの周期性が損なわれないため、異なるパターンでも同一のマッチング単位でパターンマッチングを行うことができる。すなわち、パターンマッチングの計算が簡単になる。
なお、本実施の形態において、パターン32の配置はパターン31をx軸プラス方向にパターンピッチ111分だけずらした配置であったが、x軸マイナス方向にずらした配置であってもよい。
図5に示すように、光透過領域を互いにずらす幅112がパターンピッチ111よりも狭いパターン41、パターン42およびパターン43を被測定物10に周期的に照射してもよい。幅112は、例えばパターンピッチ111の3分の1幅である。すなわち、パターン42は、パターン41をパターンピッチ111の3分の1だけx軸プラス方向にずらした配置である。パターン43は、パターン42をパターンピッチ111の3分の1だけx軸プラス方向にずらした配置である。
このような構成により、パターンピッチ111より狭い範囲の距離測定が可能になる。すなわち、より高分解能な距離測定が可能になる。
図6(a)〜(c)に示すように、パターン51、パターン52およびパターン53を被測定物10に周期的に照射してもよい。パターン52は、パターン51をパターンピッチ111幅だけx軸プラス方向およびy軸プラス方向にずらした配置である。パターン53は、パターン52をパターンピッチ111幅だけx軸プラス方向およびy軸プラス方向にずらした配置である。すなわち、パターン52の光透過領域の配置は、パターン51の光透過領域の配置を投影部2の投影方向に垂直な面上においてパターンピッチ111幅だけ水平方向および垂直方向にずらした配置である。
このような構成とすることで、水平方向にパターンをずらすだけではパターンの像の照射位置が変わらず測定しきれない形状の被測定物であっても、測定することが可能になる。
●距離測定の方法
図7は、異なるパターンごとに算出したパターンの像と投影部2の距離に基づいて、被測定物10と撮影部3の各画素の距離の測定値Dを取得する流れを示す概略フローである。撮影部4は、撮像部、パターンマッチング部、有効距離判定部、および距離測定値算出部を有する。まず、撮像部は、パターン31〜34がそれぞれ投影されたときの被測定物10を撮影し、それぞれ画像を取得する。次に、パターンマッチング部は、画像の各画素について、パターン31〜34とパターンマッチングを行い、各画素における投影部2と被測定物10に投影されたパターンの像との距離d1〜d4を算出する。得られる距離d1〜d4の個数は、パターンの種類と同数である。
図7は、異なるパターンごとに算出したパターンの像と投影部2の距離に基づいて、被測定物10と撮影部3の各画素の距離の測定値Dを取得する流れを示す概略フローである。撮影部4は、撮像部、パターンマッチング部、有効距離判定部、および距離測定値算出部を有する。まず、撮像部は、パターン31〜34がそれぞれ投影されたときの被測定物10を撮影し、それぞれ画像を取得する。次に、パターンマッチング部は、画像の各画素について、パターン31〜34とパターンマッチングを行い、各画素における投影部2と被測定物10に投影されたパターンの像との距離d1〜d4を算出する。得られる距離d1〜d4の個数は、パターンの種類と同数である。
有効距離判定部は、距離d1〜d4がそれぞれ測定値Dを求めるために有効な値か判定する。例えば、被測定物10の形状によって距離が算出できなかった場合や、1つの距離が他の距離の値から明らかに外れている場合は、有効距離から除外する。上記の操作により、1つの画素に対して複数の有効距離が求められる。複数の有効距離は、この実施の形態においては最大4個であり、有効距離d1’〜d4’と定義する。以降、有効距離d1’〜d4’が得られたと仮定して説明する。
次に、距離測定値算出部は、複数の有効距離d1’〜d4’から被測定物10と投影部2との距離の測定値Dを得る。測定値Dを得る方法は、複数の有効距離d1’〜d4’のうちパターンマッチングの類似度が最も高い値を、被測定物10と投影部2との距離の測定値Dとする。また、類似度が上位の有効距離の平均値を、被測定物10と投影部2との距離の測定値Dとしてもよい。
このような方法により、有効距離が算出できなかったパターンを排除し、確度の高いパターンだけを抽出して距離の測定値Dを得ることができる。また、距離が測定できない画素を軽減することができる。位相シフト法のように取得した画像間で相関をとる必要がないため、移動中の被測定物の測定や、動画解析への応用も可能である。
以上説明した実施の形態によれば、複数のパターンを用いて、異なるパターンごとにパターンの像と投影部の距離を算出し、算出した複数の距離に基づいて被測定物と投影部の距離を推定することにより、距離の測定精度が高い距離測定装置を得ることができる。
●距離測定装置(2)●
図8は、本発明にかかる距離測定装置の別の実施の形態を示す光学配置図である。本実施の形態は、光を透過する複数のマスクを有し、パターンがそれぞれマスク上に1つずつ配置されていて、投影部が複数の光源を備えている点において、先に説明した実施の形態と異なる。
図8は、本発明にかかる距離測定装置の別の実施の形態を示す光学配置図である。本実施の形態は、光を透過する複数のマスクを有し、パターンがそれぞれマスク上に1つずつ配置されていて、投影部が複数の光源を備えている点において、先に説明した実施の形態と異なる。
距離測定装置101は、第1光源201、第2光源202、第3光源203、第1マスク301、第2マスク302、第3マスク303、第1プリズム304、第2プリズム305および第3プリズム306を備える。
第1マスク301、第2マスク302および第3マスク303は、それぞれ第1光源201、第2光源202および第3光源203から被測定物10までの光路上に配置されている。第1光源201、第2光源202および第3光源203は、第1マスク301、第2マスク302および第3マスク303に光束を照射する点光源である。
第1マスク301、第2マスク302および第3マスク303上には、例えば、図2に示したパターン31〜33がそれぞれ配置されている。すなわち、第1マスク301上にパターン31、第2マスク302上にパターン32、第3マスク303上にパターン33が配置されている。
第1プリズム304および第3プリズム305は、略三角形状である。第3プリズム306は、略台形状である。第1プリズム304と第2プリズム305、第2プリズム305と第3プリズム306は、それぞれ接している。
第1光源201、第2光源202および第3光源203からの光束の波長は、それぞれ異なる。例えば、第1光源201は赤、第2光源202は青、第3光源203は緑の光源である。また、第1プリズム304、第2プリズム305および第3プリズム306の界面又は端面には、波長選択フィルタが配置されている。例えば、第1プリズム304と第2プリズム305の界面3041および第1プリズム304の端面3042には、赤の波長の光束は反射し、赤よりも短波長の光束は透過する波長選択フィルタが配置されている。第2プリズム305の端面3051には、青の波長の光束は反射し、青よりも長い波長の光束は透過する波長選択フィルタが配置されている。
第1光源201からの光束は、第1マスク301を透過して第1プリズム304に入射し、第1プリズム304の端面3042で全反射後、第1プリズム304と第2プリズム305の界面3041で反射して被測定物10へ向かう。第2光源202からの光束は、第2マスク302を透過して第2プリズム305に入射し、第1プリズム304と第2プリズム305の界面3041および第2プリズム305の端面3051で反射して被測定物10へ向かう。第3光源203からの光束は、第3マスク303を透過して第3プリズム306に入射し、第1プリズム304および第2プリズム305を透過して被測定物10へ向かう。
第1プリズム304、第2プリズム305および第3プリズム306により、いずれのマスクを透過した光束も被測定物10に照射されるように配置されている。この実施の形態においては、点灯している光源を切り替えることにより、被測定物10に照射されるパターンを変更することができる。
第1光源201、第2光源202および第3光源203からの光束の波長を変化させることにより、被測定物10に投影されるパターンの種類を変更するように構成してもよい。これらの構成は、先に説明した実施の形態のように回転可動部が不要なため、装置の信頼性を向上できる。
以上説明した実施の形態によれば、異なるパターンごとにパターンの像と投影部の距離を算出し、算出した複数の距離に基づいて被測定物と投影部の距離を推定することにより、距離の測定精度が高い距離測定装置を得ることができる。この距離測定装置は、3次元形状測定などにも利用可能である。
1 距離測定装置
2 投影部
3 マスク
4 撮影部
10 被測定物
11 光透過領域
31 パターン
32 パターン
33 パターン
34 パターン
2 投影部
3 マスク
4 撮影部
10 被測定物
11 光透過領域
31 パターン
32 パターン
33 パターン
34 パターン
Claims (8)
- 光透過領域の配置が異なる複数のパターンと、
前記パターンの像を被測定物に投影する投影部と、
前記投影部により前記被測定物に投影された前記パターンの像を撮影する撮影部と、
を備え、
前記投影部は、投影する前記パターンを周期的に変更し、
前記撮影部は、異なる前記パターンごとに前記パターンの像と前記投影部の距離を算出し、算出した複数の前記距離に基づいて前記被測定物と前記投影部の距離を測定することを特徴とする、距離測定装置。 - 前記パターンは、前記光透過領域が2次元的に配置されている、請求項1記載の距離測定装置。
- 前記複数のパターンは、第1パターンと第2パターンを含み、前記第2パターンの光透過領域の配置は、前記第1パターンの光透過領域の配置を前記投影部の投影方向に垂直な面上において水平方向にずらした配置である、請求項1又は2記載の距離測定装置。
- 前記複数のパターンは、第1パターンと第2パターンを含み、前記第2パターンの光透過領域の配置は、前記第1パターンの光透過領域の配置を前記投影部の投影方向に垂直な面上において水平方向および垂直方向にずらした配置である、請求項1又は2記載の距離測定装置。
- 前記複数のパターンは光を透過するマスク上に配置されていて、前記投影部は前記マスクを回転させることで前記被測定物に投影する前記パターンを変更する、請求項1乃至4のいずれかに記載の距離測定装置。
- 前記複数のパターンは光を透過する複数のマスク上にそれぞれ1つずつ配置されていて、前記投影部は複数の光源を備え、前記複数のマスクはそれぞれ前記光源から前記被測定物までの光路上に配置されていて、前記投影部は点灯している前記光源を切り替えることにより、前記被測定物に投影する前記パターンを変更する、請求項1乃至4のいずれかに記載の距離測定装置。
- 前記複数の光源は、それぞれ異なる波長の光束を前記マスクに照射する、請求項6記載の距離測定装置。
- 前記パターンは、複数のパターンを識別するための記号を有する、請求項1乃至7のいずれかに記載の距離測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015010825A JP2016136088A (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 距離測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015010825A JP2016136088A (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 距離測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016136088A true JP2016136088A (ja) | 2016-07-28 |
Family
ID=56512113
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015010825A Pending JP2016136088A (ja) | 2015-01-23 | 2015-01-23 | 距離測定装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2016136088A (ja) |
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2015
- 2015-01-23 JP JP2015010825A patent/JP2016136088A/ja active Pending
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