JP2016115832A - バンプ形成用材料、バンプ形成方法及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 200重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:テトラメトキシメチルグリコールウリル(C−1) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:プロピレングリコールプロピルエーテル(F−1) 1400重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 200重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:テトラメトキシメチルグリコールウリル(C−1) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:イソプロピルアルコール(F−2) 600重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 25重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:テトラメトキシメチルグリコールウリル(C−1) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:プロピレングリコールプロピルエーテル(F−1) 1400重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 25重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:ヘキサメトキシメチルメラミン(C−2) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:イソプロピルアルコール(F−2) 600重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 400重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:テトラメトキシメチルグリコールウリル(C−1) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:プロピレングリコールプロピルエーテル(F−1) 1400重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのインジウム(A−1) 400重量部
基材樹脂:30%アセタール化ポリビニルアルコール(B−1) 100重量部
架橋剤:テトラメトキシメチルグリコールウリル(C−1) 20重量部
光酸発生剤:ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン(D−1) 10重量部
還元剤:ポリアクリル酸(E−1) 5重量部
溶剤:イソプロピルアルコール(F−2) 600重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのスズ−ビスマス合金(A−2) 200重量部
基材樹脂:ポリ(メタクリル酸メチル−メタクリル酸)共重合体(50/50)(B
−2) 100重量部
架橋剤:ヘキサメトキシメチルメラミン(C−2) 20重量部
光酸発生剤:ジフェニルヨードニウムノナフルオロブタンスルフォネート(D−2)
10重量部
還元剤:シュウ酸(E−2) 5重量部
溶剤:イソプロピルアルコール(F−1) 1400重量部
金属微粒子:平均粒径が20nmのスズ−ビスマス合金(A−2) 200重量部
基材樹脂:ポリ(メタクリル酸メチル−メタクリル酸)共重合体(50/50)(B
−2) 100重量部
架橋剤:ヘキサメトキシメチルメラミン(C−2) 20重量部
光酸発生剤:ジフェニルヨードニウムノナフルオロブタンスルフォネート(D−2)
10重量部
還元剤:シュウ酸(E−2) 5重量部
溶剤:イソプロピルアルコール(F−2) 600重量部
(付記1)金属微粒子、基材樹脂、光酸発生剤、架橋剤及び溶剤を少なくとも含んでいることを特徴とするバンプ形成用材料。
(付記2)前記金属微粒子が、金、白金、銅、銀、インジウム、コバルト、ニッケル、ビスマス、スズ、ロジウム、パラジウム、イリジウム、タングステン、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛から選ばれた金属のうち、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする付記1に記載のバンプ形成用材料。
(付記3)前記基材樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアセテート、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリエチレンオキシド、フェノール性水酸基含有樹脂、カルボキシル基含有樹脂、エポキシ樹脂から選ばれた樹脂のうち、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする付記1または付記2に記載のバンプ形成用材料。
(付記4)前記基材樹脂に対し、前記金属微粒子が25重量%〜400重量%含まれていることを特徴とする付記3に記載のバンプ形成用材料。
(付記5)前記光酸発生剤が、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ハロゲン化合物、スルホン酸エステル化合物、イミド化合物、カルボニル化合物、ジスルホン化合物、α,α−ビスアリルスルホニルジアゾメタン、或いは、ジアゾニウム塩のうちの、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする付記1乃至付記4のいずれか1に記載のバンプ形成用材料。
(付記6)前記架橋剤が、ユリア誘導体、メラミン誘導体、ウリル誘導体から選ばれた架橋剤のうち、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする付記1乃至付記5のいずれか1に記載のバンプ形成用材料。
(付記7)前記溶剤が水、アルコール系、鎖状エステル系、環状エステル系、ケトン系、鎖状エーテル系、環状エーテル系の各溶剤のうち、少なくともいずれか含んでいることを特徴とする付記1乃至付記6のいずれか1に記載のバンプ形成用材料。
(付記8)ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物系、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシエチレン誘導体系、ソルビタン脂肪酸エステル系、グリセリン脂肪酸エステル系、第1級アルコールエトキシレート系、フェノールエトキシレート系、アセチレンジオール系の界面活性剤群の中から選ばれた非イオン性界面活性剤をさらに含むことを特徴とする付記1乃至付記7のいずれか1に記載のバンプ形成用材料。
(付記9)少なくともカルボン酸を含んでなる還元剤をさらに添加することを特徴とする付記1乃至付記8のいずれか1に記載のバンプ形成用材料。
(付記10)前記の還元剤がアクリル酸誘導体、酢酸、シュウ酸、蟻酸のうちの、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする付記9に記載のバンプ形成用材料。
(付記11)
基板上に付記1乃至付記10のいずれか1に記載のバンプ形成用材料を用いてバンプ形成用材料被膜を形成し、前記バンプ形成用材料被膜に電離放射線を選択的に照射し、前記バンプ形成用材料被膜を現像処理し、前記バンプ形成用材料被膜の前記電離放射線の被照射箇所を残存し、前記バンプ形成用材料被膜を焼成することを特徴とするバンプ形成方法。
(付記12)前記電離放射線が、電子線であることを特徴とする付記11に記載のバンプ形成方法。
(付記13)付記11または付記12のバンプ形成方法で形成したバンプを備えたことを特徴とする半導体装置。
12 電極
13 バンプ形成用材料被膜
14 電離放射線
15 パンプ形成用パターン
16 バンプ
21 半導体基板
22 パッド
23 バンプ形成用材料被膜
24 電子線
25 バンプ形成用パターン
26 バンプ
30 半導体集積回路チップ
31 被覆絶縁膜
32 パッド
33 レジスト
34 開口部
35 金属膜
36 パンプ形成用金属膜
37 フラックス
38 バンプ
Claims (6)
- 金属微粒子、基材樹脂、光酸発生剤、架橋剤及び溶剤を少なくとも含んでいることを特徴とするバンプ形成用材料。
- 前記金属微粒子が、金、白金、銅、銀、インジウム、コバルト、ニッケル、ビスマス、スズ、ロジウム、パラジウム、イリジウム、タングステン、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛から選ばれた金属のうち、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする請求項1に記載のバンプ形成用材料。
- 前記基材樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアセテート、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリエチレンオキシド、フェノール性水酸基含有樹脂、カルボキシル基含有樹脂、エポキシ樹脂から選ばれた樹脂のうち、少なくともいずれかを含んでいることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のバンプ形成用材料。
- 前記基材樹脂に対し、前記金属微粒子が25重量%〜400重量%含まれていることを特徴とする請求項3に記載のバンプ形成用材料。
- 基板上に請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のバンプ形成用材料を用いてバンプ形成用材料被膜を形成し、
前記バンプ形成用材料被膜に電離放射線を選択的に照射し、
前記バンプ形成用材料被膜を現像処理し、
前記バンプ形成用材料被膜の前記電離放射線の被照射箇所を残存し、
前記バンプ形成用材料被膜を焼成する
ことを特徴とするバンプ形成方法。 - 請求項5に記載のバンプ形成方法で形成したバンプを含むことを特徴とする半導体装置。
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