JP2016111189A - Method of manufacturing printed wiring board and metal film with metal foil for use therein - Google Patents

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公輔 池田
Kosuke Ikeda
公輔 池田
武馬 足立
Takema Adachi
武馬 足立
俊樹 古谷
Toshiki Furuya
俊樹 古谷
俊輔 酒井
Shunsuke Sakai
俊輔 酒井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent harmful effect of fine powder scattering from a support plate, when sticking a metal film with a carrier metal foil to the support plate used at the time of manufacturing a printed wiring board.SOLUTION: In a metal laminate that is stuck to the surface of a support plate 18a for use in manufacturing of a printed wiring board, a carrier metal foil 18a is stuck to the first surface 10a of a metal film 10 having a second surface 10b to which a protective film 20 is bonded. This metal laminate is stuck to the support plate, and the protective film is peeled before a conductor layer is patterned.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、樹脂絶縁層に一面を露出させて配線層が埋め込まれるプリント配線板の製造方法に関する。さらに詳しくは、配線層が埋め込まれるプリント配線板の信頼性を向上させることができるプリント配線板の製造方法およびそれに用いられる支持板に貼り付けられる金属箔付き金属膜に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board in which one surface is exposed to a resin insulating layer and a wiring layer is embedded. More specifically, the present invention relates to a printed wiring board manufacturing method capable of improving the reliability of a printed wiring board in which a wiring layer is embedded, and a metal film with a metal foil attached to a support plate used therefor.

近年、IC等の電子部品は高機能化、かつ、高集積化され、電極パッドの数が非常に多くなっている。一方、電子機器の軽薄短小化に伴い、IC等の電子部品はより一層小形化することが要求されている。そのため、多層配線板の厚さも薄くする低背化が求められている。また、高密度化に伴い、配線層の幅も細くなり、樹脂絶縁層との密着性も低下する。そのため、配線層を樹脂絶縁層内に埋め込んで低背にすると共に、樹脂絶縁層との接触面積を大きくして密着性の確保をすることが考えられている。また、配線層は樹脂絶縁層の一面のみに形成され、他面側には一面側の配線層と接続する導体ポストのみが露出する構造にすることも考えられている。   In recent years, electronic components such as ICs have become highly functional and highly integrated, and the number of electrode pads has become extremely large. On the other hand, as electronic devices become lighter, thinner, and smaller, electronic components such as ICs are required to be further miniaturized. For this reason, there is a demand for a reduction in height to reduce the thickness of the multilayer wiring board. Further, as the density is increased, the width of the wiring layer is reduced, and the adhesion with the resin insulating layer is also reduced. For this reason, it is considered that the wiring layer is embedded in the resin insulating layer to make it low in height and the contact area with the resin insulating layer is increased to ensure adhesion. It is also considered that the wiring layer is formed only on one surface of the resin insulating layer and only the conductor post connected to the wiring layer on the one surface side is exposed on the other surface side.

一方、特許文献1には、転写法により配線層を樹脂絶縁層内に埋め込むことが開示されている。   On the other hand, Patent Document 1 discloses that a wiring layer is embedded in a resin insulating layer by a transfer method.

特開平10−173316号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-173316

配線層を樹脂絶縁層内に埋め込む方法として、支持板上にキャリア金属箔付き金属膜を貼り付け、その金属膜に配線パターンが形成されてから樹脂絶縁層によりその全体を被覆する方法が考えられる。しかしながら、この支持板にキャリア金属箔付き金属膜が貼り付けられる際に、その支持板から微粉末が飛散し、金属膜の表面に付着する可能性がある。金属膜の表面に絶縁物などの微粉末が付着すると、その表面に配線層を電気めっきにより形成する際に、配線のパターンの一部が欠落したり短絡したりする可能性がある。   As a method of embedding the wiring layer in the resin insulating layer, a method in which a metal film with a carrier metal foil is pasted on a support plate, and after the wiring pattern is formed on the metal film, the whole is covered with the resin insulating layer can be considered. . However, when a metal film with a carrier metal foil is attached to the support plate, fine powder may be scattered from the support plate and adhere to the surface of the metal film. If fine powder such as an insulator adheres to the surface of the metal film, a part of the wiring pattern may be lost or short-circuited when a wiring layer is formed on the surface by electroplating.

本発明の目的は、プリント配線板の製造時に使用される支持板に、キャリア金属箔付き金属膜が貼り付けられる際に、支持板から微粉末が飛散しても、後の配線パターンの形成に不都合が生じないようにするプリント配線板の製造方法を提供することにある。   The object of the present invention is to form a subsequent wiring pattern even when fine powder is scattered from the support plate when a metal film with a carrier metal foil is attached to the support plate used in the production of a printed wiring board. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed wiring board that prevents inconvenience.

本発明の他の目的は、そのような配線パターンの形成に支障が生じないキャリア金属箔付き金属膜を提供することにある。   It is another object of the present invention to provide a metal film with a carrier metal foil that does not hinder the formation of such a wiring pattern.

本発明のプリント配線板の製造方法は、支持板を準備することと、第1面にキャリア金属箔が接着された金属膜の前記第1面と反対面の第2面に保護フィルムが付着されたキャリア金属箔付き金属膜を準備することと、前記支持板に前記キャリア金属箔付き金属膜の前記キャリア金属箔側を貼着することと、前記保護フィルムを剥離することと、前記保護フィルムの剥離により露出した前記金属膜面に導体層のパターンを形成することとを有している。   The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes preparing a support plate and attaching a protective film to a second surface opposite to the first surface of the metal film having a carrier metal foil bonded to the first surface. Preparing a metal film with carrier metal foil, sticking the carrier metal foil side of the metal film with carrier metal foil to the support plate, peeling the protective film, and Forming a pattern of a conductor layer on the surface of the metal film exposed by peeling.

本発明のキャリア金属箔付き金属膜は、プリント配線板を製造するのに用いられる支持板の表面に貼り付けられてキャリアとするものであり、金属膜と、前記金属膜の第1面に貼り付けられるキャリア金属箔と、前記金属膜の前記第1面と反対面の第2面に付着される保護フィルムとを有する。   The metal film with a carrier metal foil of the present invention is a carrier that is affixed to the surface of a support plate used to manufacture a printed wiring board, and is affixed to the first surface of the metal film and the metal film. A carrier metal foil to be applied; and a protective film attached to a second surface opposite to the first surface of the metal film.

本発明のキャリア金属箔付き金属膜が支持板に貼り付けられた断面図。Sectional drawing with which the metal film with carrier metal foil of this invention was affixed on the support plate. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。Cross-sectional explanatory drawing of each process of the manufacturing method of the printed wiring board of one Embodiment of this invention. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 図2Eのプリント配線板にさらに導体ポストと樹脂絶縁層が形成されたプリント配線板の製造方法の各工程の断面説明図。FIG. 2E is a cross-sectional explanatory view of each step of a method for manufacturing a printed wiring board in which a conductor post and a resin insulating layer are further formed on the printed wiring board of FIG. 2E. 支持板に金属箔付き金属膜を貼り付けた際に際に異物が金属膜表面に付着する様子を示す図。The figure which shows a mode that a foreign material adheres to the metal film surface when sticking a metal film with metal foil on a support plate. 図4Aの状態でめっきレジスト膜を形成して電気めっき膜を形成した図。The figure which formed the plating resist film in the state of FIG. 4A, and formed the electroplating film. 図4Bのめっきレジスト膜を除去した図。The figure which removed the plating resist film of FIG. 4B.

本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法およびそれに用いられる支持板に貼り付けられるキャリア金属箔付き金属膜が、図面を参照して説明される。図1に、支持板18aに本実施形態のキャリア金属箔18b付き金属膜10が貼り付けられた状態の断面説明図が示されるように、本実施形態のキャリア金属箔18b付き金属膜10は、プリント配線板を製造するのに用いられる支持板18aの表面に貼り付けられるものであり、金属膜10の第1面10aにキャリア金属箔18bが貼り付けられ、金属膜10の第1面10aと反対面の第2面10bに保護フィルム20が付着されている。   A method for producing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention and a metal film with a carrier metal foil attached to a support plate used therefor will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, a cross-sectional explanatory view of the state in which the metal film 10 with the carrier metal foil 18 b of the present embodiment is attached to the support plate 18 a, the metal film 10 with the carrier metal foil 18 b of the present embodiment is The carrier metal foil 18b is attached to the first surface 10a of the metal film 10, and is attached to the surface of the support plate 18a used to manufacture the printed wiring board. A protective film 20 is attached to the second surface 10b on the opposite side.

そして、本発明の他の実施形態のプリント配線板の製造方法では、そのような金属膜10に接着されたキャリア金属箔18b側が支持板18aに貼り付けられる。そして、保護フィルム20が剥離された後に、保護フィルム20の剥離により露出した金属膜10の露出面に導体層12のパターンが形成されている。その後、導体層12の露出面を被覆する樹脂絶縁層11が形成され、この樹脂絶縁層11の導体層12側と反対側の表面上にさらに導体層のパターンが形成されてもよい。または、この樹脂絶縁層の表面上には配線層のパターンは形成されないで導体層12と接続される導体ポスト15の端部15aのみが露出するようにされてもよい。さらに、これらの導体層12上にさらに樹脂絶縁層と導体層とが積層されて多層のプリント配線板とされてもよい。なお、前述の支持板18aとキャリア金属箔18bはその後剥離されて廃棄される。さらに金属膜10もエッチングにより除去される。以下で詳述する具体例では、樹脂絶縁層11の第1面11a側に導体層12の第1および第2のパターン12a、12bが形成され、樹脂絶縁層11の第1面11aの反対面の第2面11b側には導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する片面導体層のプリント配線板1の製造方法について説明される。   And in the manufacturing method of the printed wiring board of other embodiment of this invention, the carrier metal foil 18b side adhere | attached on such a metal film 10 is affixed on the support plate 18a. And after the protective film 20 peels, the pattern of the conductor layer 12 is formed in the exposed surface of the metal film 10 exposed by peeling of the protective film 20. Thereafter, the resin insulating layer 11 covering the exposed surface of the conductor layer 12 is formed, and a pattern of the conductor layer may be further formed on the surface of the resin insulating layer 11 opposite to the conductor layer 12 side. Alternatively, the wiring layer pattern may not be formed on the surface of the resin insulating layer, and only the end 15a of the conductor post 15 connected to the conductor layer 12 may be exposed. Furthermore, a resin insulating layer and a conductor layer may be further laminated on these conductor layers 12 to form a multilayer printed wiring board. The support plate 18a and the carrier metal foil 18b described above are then peeled off and discarded. Further, the metal film 10 is also removed by etching. In the specific example described in detail below, the first and second patterns 12a and 12b of the conductor layer 12 are formed on the first surface 11a side of the resin insulating layer 11, and the surface opposite to the first surface 11a of the resin insulating layer 11 is formed. A method of manufacturing the printed wiring board 1 having a single-sided conductor layer in which only the end 15a of the conductor post 15 connected to the conductor layer 12 is exposed on the second surface 11b side will be described.

金属膜10は、キャリア18との接着に用いられると共に、導体層12などを形成するベースとするもので、最終的なプリント配線板には、通常は残らない。そのため、数μm程度の厚さがあればよい。しかし、パターニングをしてその一部を導体層12などと共に利用することもできる。その場合には、用途に応じた厚さの金属膜10が用いられる。この金属膜10としては、銅、ニッケルなど用途に応じて種々の材料が用いられ得る。   The metal film 10 is used for adhesion to the carrier 18 and serves as a base for forming the conductor layer 12 and the like, and usually does not remain on the final printed wiring board. Therefore, a thickness of about several μm is sufficient. However, it is also possible to use a part of the pattern together with the conductor layer 12 by patterning. In that case, the metal film 10 having a thickness corresponding to the application is used. Various materials such as copper and nickel can be used for the metal film 10 in accordance with applications.

この金属膜10の第1面10aに貼り付けられるキャリア金属箔18bは、金属膜10をキャリア18に固定しながら、後で金属膜10をキャリア18から分離できるようにするための仲介用の金属箔で、通常は10〜20μm、たとえば18μm程度の銅箔が用いられる。しかし、銅に限定されるものでは無く、ニッケルなど他の金属箔が用いられてもよい。このキャリア金属箔18bと金属膜10の両者間には、熱膨張などの差が余り無いことが望ましいため、キャリア金属箔18bの材料は、金属膜10の材料と合せられるのが好ましい。しかし、これには制約されない。金属膜10とキャリア金属箔18bとの接着は、後で金属膜10とキャリア金属箔18bとが分離されるため、分離しやすい接着剤、たとえば熱可塑性樹脂により全面が接着されてもよい。このような接着剤で接着されるので、後の工程で温度を上昇させて引き剥されることにより、金属膜10とキャリア金属箔18bとは容易に分離される。または、たとえば金属膜10およびキャリア金属箔18bの周囲だけで通常の接着剤により、しっかりと貼り付けられてもよい。周囲が切断除去されることにより、容易に金属膜10とキャリア金属箔18bとが分離されるからである。なお、このキャリア18の金属膜10が設けられる面には、適宜、剥離層が設けられてもよい。   The carrier metal foil 18b attached to the first surface 10a of the metal film 10 is an intermediary metal for fixing the metal film 10 to the carrier 18 so that the metal film 10 can be separated from the carrier 18 later. As the foil, a copper foil of usually 10 to 20 μm, for example, about 18 μm is used. However, it is not limited to copper, and other metal foils such as nickel may be used. Since it is desirable that there is not much difference in thermal expansion between the carrier metal foil 18b and the metal film 10, the material of the carrier metal foil 18b is preferably combined with the material of the metal film 10. However, this is not a limitation. Since the metal film 10 and the carrier metal foil 18b are later separated from each other, the metal film 10 and the carrier metal foil 18b may be adhered to each other by an easily separable adhesive such as a thermoplastic resin. Since the adhesive is bonded with such an adhesive, the metal film 10 and the carrier metal foil 18b are easily separated by being peeled off by raising the temperature in a subsequent process. Alternatively, for example, the metal film 10 and the carrier metal foil 18b may be firmly attached with a normal adhesive only around the periphery. This is because the metal film 10 and the carrier metal foil 18b are easily separated by cutting and removing the periphery. Note that a release layer may be appropriately provided on the surface of the carrier 18 on which the metal film 10 is provided.

保護フィルム20は、たとえば市販されている、熱可塑性ポリエステルであるポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂などの高分子フィルムを使用することができる。このようなPETフィルムは、数μm程度の厚さで、平坦な面に接着剤を用いることなく付着させることができる。このPETフィルムは、PET樹脂の成膜後にxyの2軸方向に延伸(2軸延伸)して分子を配向させることで結晶化させることにより、強度と耐熱性を持たせることができる。そのため、この保護フィルム20を金属膜10に付着させた状態で、キャリア金属箔18b付き金属膜10が支持板18aに熱プレスにより貼着されても、その付着力が無くなって剥れるということは無い。要するに、作業時には金属膜10に付着しており、その後の剥離する際に簡単に剥離できるフィルムであればよい。そうすることで、表面に付着した異物を飛散させることなく保護フィルム20ごと除去できる。   As the protective film 20, for example, a commercially available polymer film such as polyethylene terephthalate (PET) resin, which is a thermoplastic polyester, can be used. Such a PET film has a thickness of about several μm and can be attached to a flat surface without using an adhesive. This PET film can be given strength and heat resistance by being crystallized by stretching (biaxial stretching) in the xy biaxial direction after film formation of the PET resin and orienting the molecules. Therefore, even when the metal film 10 with the carrier metal foil 18b is attached to the support plate 18a by hot pressing in a state where the protective film 20 is attached to the metal film 10, the adhesion force is lost and the metal film 10 is peeled off. No. In short, any film may be used as long as it is attached to the metal film 10 at the time of work and can be easily peeled off when peeled thereafter. By doing so, the protective film 20 can be removed together without scattering the foreign matter adhering to the surface.

支持板18aは、金属板などの導電性基板でも、絶縁性基板でも何でもよい。しかし、キャリア18は最終的には廃棄されるものであるため、安価であることが好ましく、たとえば樹脂絶縁層の材料として用いられているプリプレグが用いられることが多い。この場合でも、ガラス繊維などの芯材入りのプリプレグが用いられると、比較的反りなどが生じにくく便利に用いられる。しかし、このような芯材入りのプリプレグが用いられると、この支持板18aとキャリア金属箔18b付き金属膜10のキャリア金属箔18b側が支持板18aに熱プレスにより圧接して加熱されることにより接着される際に、プリプレグ内のガラス繊維などの異物が飛散して付着しやすい。   The support plate 18a may be a conductive substrate such as a metal plate or an insulating substrate. However, since the carrier 18 is finally discarded, it is preferable that the carrier 18 is inexpensive. For example, a prepreg used as a material for the resin insulating layer is often used. Even in this case, if a prepreg containing a core material such as glass fiber is used, it is conveniently used because it is relatively less likely to warp. However, when such a core-containing prepreg is used, the carrier metal foil 18b side of the support plate 18a and the metal film 10 with the carrier metal foil 18b is pressed against the support plate 18a by heat press and heated. When being done, foreign substances such as glass fibers in the prepreg are likely to scatter and adhere.

その状況が図4A〜4Cに示されている。すなわち、図4Aに示されるように、熱プレスにより支持板18aとキャリア付き金属箔18bとが接着される際に発生する異物80a、80bは、金属膜10の表面に付着する。この異物80a、80bには、大きいものと小さいものとがあるが、その異物80a、80bの付着の種類は定まっていない。その後、図4Bに示されるように、めっきレジストマスク81が形成され、そのパターニングによりめっきレジストマスク81の中に取り込まれる異物80aと、取り込まれない異物80bとが存在する。めっきレジストマスク81の外に出ている異物80bがあると、その位置は本来電気めっき膜が形成される場所になるため、また、これらの異物80a、80bは絶縁物であることが多いため、電気めっき膜が形成されないところが出てくる可能性がある。その結果、図4Cに示されるように、めっきレジストマスク81が除去されると、本来配線パターンが形成されるべき場所にパターンPが形成されない場合が生じ得る。めっきレジストマスク81が形成される際に、レジスト膜がパターニングされるため、そのパターニングの際に異物も除去されれば何ら問題は無いが、異物の一部がレジスト膜に抱え込まれている場合には、めっきレジストマスク81がパターニングされても、異物80bがそのまま残存する可能性がある。また、めっきレジストマスク81の中に取り込まれている異物80aがあると、めっきレジストマスク81と金属膜10との間に隙間が生じることがある。そして、この隙間にめっき液が浸入することがある。その結果、本来配線パターンが形成されるべきではないところにめっき膜が形成され、このめっき膜を介してその周囲の配線パターン同士が短絡してしまうおそれがある。   The situation is shown in FIGS. That is, as shown in FIG. 4A, the foreign substances 80a and 80b generated when the support plate 18a and the metal foil with carrier 18b are bonded by hot pressing adhere to the surface of the metal film 10. There are large and small foreign substances 80a and 80b, but the type of adhesion of the foreign substances 80a and 80b is not fixed. Thereafter, as shown in FIG. 4B, a plating resist mask 81 is formed, and there are foreign matter 80a taken into the plating resist mask 81 by the patterning and foreign matter 80b not taken in. If there is a foreign substance 80b outside the plating resist mask 81, the position is originally a place where an electroplating film is formed, and these foreign substances 80a and 80b are often insulators. There may be a place where an electroplating film is not formed. As a result, as shown in FIG. 4C, when the plating resist mask 81 is removed, a pattern P may not be formed at a place where a wiring pattern should be originally formed. Since the resist film is patterned when the plating resist mask 81 is formed, there is no problem if the foreign matter is removed during the patterning, but when a part of the foreign matter is held in the resist film. Even if the plating resist mask 81 is patterned, the foreign matter 80b may remain as it is. Further, if there is a foreign matter 80 a taken in the plating resist mask 81, a gap may be generated between the plating resist mask 81 and the metal film 10. Then, the plating solution may enter the gap. As a result, a plating film is formed where the wiring pattern should not be originally formed, and the surrounding wiring patterns may be short-circuited via the plating film.

しかしながら、本実施形態では、図1に示されるように、金属膜10の表面に保護フィルム20が付着された状態で、キャリア金属箔18b付き金属膜10が支持板18aに貼り付けられるので、その貼り付けの際に異物が飛散して表面に付着しても、保護フィルム20の表面に付着する。そのため、電気めっきのためにレジストマスクを形成する際に、保護フィルム20を剥離して除去することにより、全く異物の付着しない清浄な金属膜10の表面に電気めっき膜を形成することができ、導体層12のパターンの欠落を生じることなく、導体層が形成され得る。なお、本実施形態によれば、支持板18に芯材入りのプリプレグが用いられない場合でも、何らかの問題で付着し得る異物の付着による問題を解消することができる。   However, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the metal film 10 with the carrier metal foil 18b is attached to the support plate 18a with the protective film 20 attached to the surface of the metal film 10. Even if the foreign matter scatters and adheres to the surface during pasting, it adheres to the surface of the protective film 20. Therefore, when the resist mask is formed for electroplating, the protective film 20 is peeled and removed, whereby an electroplated film can be formed on the surface of the clean metal film 10 to which no foreign matter adheres. The conductor layer can be formed without causing the pattern of the conductor layer 12 to be lost. According to the present embodiment, even when a prepreg containing a core material is not used for the support plate 18, it is possible to solve the problem due to the adhesion of foreign matters that may adhere due to some problem.

次に、このキャリア金属箔18b付き金属膜10を用いて、樹脂絶縁層の一面側に導体層のパターンが形成されるプリント配線板の製造方法が、図2A〜2Eを参照して、説明される。   Next, a method for manufacturing a printed wiring board in which a pattern of a conductor layer is formed on one surface side of a resin insulation layer using the metal film 10 with the carrier metal foil 18b will be described with reference to FIGS. The

まず、図2Aに示されるように、支持板18aが準備される。支持板18aとしては、前述のように種々の材料のものが用いられ得るが、本実施形態では、たとえばガラス繊維などの芯材に樹脂組成物と無機フィラーとの混合物が含浸された、100〜200μm程度の厚さのプリプレグが用いられる。   First, as shown in FIG. 2A, a support plate 18a is prepared. As the support plate 18a, various materials can be used as described above. In the present embodiment, for example, a core material such as glass fiber is impregnated with a mixture of a resin composition and an inorganic filler. A prepreg having a thickness of about 200 μm is used.

一方、図2Bに示されるように、金属膜10の第1面10aにキャリア金属箔が貼り付けられ、金属膜10の第2面10bに保護フィルム20が付着された金属積層体100が準備される。金属膜10は、2〜5μm程度の厚さがあればよいが、導体層上のポストとして使用するような場合には、用途に応じて5〜数十μm程度の厚さにすることもできる。材料としては、前述のように、銅が一般的に用いられるが、ニッケルでもよく、また他の材料でも薄い箔状にできれば構わない。   On the other hand, as shown in FIG. 2B, a metal laminate 100 is prepared in which a carrier metal foil is attached to the first surface 10a of the metal film 10 and a protective film 20 is attached to the second surface 10b of the metal film 10. The The metal film 10 only needs to have a thickness of about 2 to 5 μm, but when used as a post on a conductor layer, the thickness can be about 5 to several tens of μm depending on the application. . As described above, copper is generally used as described above, but nickel may be used as long as other materials can be formed into a thin foil shape.

キャリア金属箔18bは、支持板18aと金属膜10との仲介をするもので、10〜20μm程度、具体的には18μm程度の厚さの金属箔が用いられる。すなわち、金属膜10を支持板18aに固定してプリント配線板の製造を行いながら、最終的には支持板18aから分離される必要があるため、支持板18aとは固着され、金属膜10とは剥離できるようにするために用いられている。従って、キャリア金属箔18bの材料や厚さは余り制約を受けないが、厚さは前述のような厚さのものが用いられ、材料は銅、ニッケルなどが用いられる。金属膜10の材料と合せるのが好ましい。   The carrier metal foil 18b mediates between the support plate 18a and the metal film 10, and a metal foil having a thickness of about 10 to 20 μm, specifically about 18 μm is used. That is, while the printed wiring board is manufactured by fixing the metal film 10 to the support plate 18a, the metal film 10 needs to be finally separated from the support plate 18a. Is used to enable peeling. Accordingly, the material and thickness of the carrier metal foil 18b are not so limited, but the thickness is as described above, and the material is copper, nickel or the like. It is preferable to match the material of the metal film 10.

前述のように、この金属膜10とキャリア金属箔18bとは、後の工程で剥離できるように接着されている。すなわち、たとえば熱可塑性樹脂で接着されることにより、温度を上昇させて剥離すれば分離できる。一方、キャリア金属箔18bと支持板18aとは、たとえば加熱しながら圧接することにより接着されているので、たとえばプリプレグからなる支持板18aが軟質状態になり、キャリア金属箔18bとも密着して接合される。そのため、後で剥離することはできない。すなわち、支持板18aとキャリア金属箔18bとでキャリア18を構成する。この観点からは、支持板18aとキャリア金属箔18bとを先に熱プレスで接着してキャリア18を形成し、その後で金属膜10を貼り付けることもできるが、キャリア金属箔18bと金属膜10との接着は専門業者が行うことが多いため、このように金属積層体100を形成することが一般的である。そのため、金属膜10の表面に保護フィルム20が設けられることが必要となる。   As described above, the metal film 10 and the carrier metal foil 18b are bonded so as to be peeled off in a later process. That is, for example, by bonding with a thermoplastic resin, separation is possible by raising the temperature and peeling off. On the other hand, since the carrier metal foil 18b and the support plate 18a are bonded by, for example, pressing while heating, the support plate 18a made of, for example, a prepreg is in a soft state and is also in close contact with the carrier metal foil 18b. The Therefore, it cannot be peeled later. That is, the carrier 18 is composed of the support plate 18a and the carrier metal foil 18b. From this point of view, the support plate 18a and the carrier metal foil 18b can be first bonded by hot pressing to form the carrier 18, and then the metal film 10 can be attached. However, the carrier metal foil 18b and the metal film 10 can be attached. In many cases, a professional manufacturer performs the adhesion to the metal layer 100, and thus the metal laminate 100 is generally formed in this way. Therefore, it is necessary to provide the protective film 20 on the surface of the metal film 10.

保護フィルム20は、キャリア金属箔18bと支持板18aとの接着時の加温・加圧に耐えられ、かつ、後で容易に剥離できるものであればよい。すなわち、保護フィルム20と金属膜10との保持力は、キャリア金属箔18bと金属膜10との接着力より弱くなるように形成されている。その意味で前述のように、PETフィルムが用いられる。   The protective film 20 may be any film that can withstand the heating and pressurization during the bonding between the carrier metal foil 18b and the support plate 18a and can be easily peeled later. That is, the holding force between the protective film 20 and the metal film 10 is formed to be weaker than the adhesive force between the carrier metal foil 18 b and the metal film 10. In that sense, a PET film is used as described above.

次に、図2Cに示されるように、前述の保護フィルム20が付着された状態のキャリア金属箔18b付き金属膜10からなる金属積層体100のキャリア金属箔18b側が、支持板18aと対面させて加熱プレスにより貼着される。すなわち、支持板18aの一面に金属積層体100のキャリア金属箔18b側を対面させて重ね、圧力をかけ、加熱することにより、たとえばプリプレグからなる支持板18aが軟質状態になって、キャリア金属箔18bと密着して接着される。その後、本硬化させることにより、完全に固着される。この際、金属積層体100の大きさが支持体18aよりも小さいことが多く、金属積層体の大きさが支持体18aより小さいと、支持体18aの面が露出するため、余計微小粉末が飛散しやすい。   Next, as shown in FIG. 2C, the carrier metal foil 18 b side of the metal laminate 100 made of the metal film 10 with the carrier metal foil 18 b with the protective film 20 attached is opposed to the support plate 18 a. It is stuck by a hot press. That is, the carrier metal foil 18b side of the metal laminate 100 is placed on one side of the support plate 18a so as to face each other, and by applying pressure and heating, the support plate 18a made of, for example, a prepreg becomes soft, and the carrier metal foil Adhering closely to 18b. Thereafter, it is completely fixed by being fully cured. At this time, the size of the metal laminate 100 is often smaller than that of the support 18a, and if the size of the metal laminate is smaller than the support 18a, the surface of the support 18a is exposed, so that extra fine powder is scattered. It's easy to do.

なお、図2Cに示される例では、金属積層体100が支持板18aの両面に貼り付けられている。これは、キャリア18は、前述のように、後の工程で除去されて廃棄されるものであるため、できるだけ有効利用するため、両面が利用されている。従って、支持板18aの両面に金属積層体100が貼り付けられ、両面に同じプリント配線板1が作製される。勿論両面で異なるプリント配線板が製造されてもよいし、片面だけで製造されてもよい。本実施形態では、同じものが両面に形成されるため、図面では両面に形成された図が示されているが、一方(図の下側)については、符号も一部省略し、説明も省略されている。   In the example shown in FIG. 2C, the metal laminate 100 is attached to both surfaces of the support plate 18a. As described above, since the carrier 18 is removed and discarded in a later step as described above, both sides are used in order to make effective use as much as possible. Therefore, the metal laminated body 100 is affixed on both surfaces of the support plate 18a, and the same printed wiring board 1 is produced on both surfaces. Of course, different printed wiring boards on both sides may be manufactured, or only one side may be manufactured. In this embodiment, since the same thing is formed on both surfaces, the figure formed on both surfaces is shown in the drawing, but some of the reference numerals (the lower side of the drawing) are also omitted, and the description is also omitted. Has been.

次に、図2Dに示されるように、保護フィルム20が剥離される。この保護フィルム20は、前述のように、金属膜10の表面に付着されているだけであるので、端部から引き剥がせば、簡単に剥離することができる。この状態は、従来のキャリア金属箔付き金属膜が支持板18aに貼り付けられた状態と同じになる。しかし、本実施形態では、保護フィルム20が除去されたばかりの状態であるため、金属積層体100と支持板18aとが接着される際に発生する異物などの微粉が発生しても、保護フィルム20の表面に付着されているだけで、保護フィルム20が剥離される際に、その異物ごと除去されているため、非常に清浄な表面が露出する。   Next, as shown in FIG. 2D, the protective film 20 is peeled off. Since the protective film 20 is only attached to the surface of the metal film 10 as described above, the protective film 20 can be easily peeled off by peeling off from the end. This state is the same as a state where a conventional metal film with a carrier metal foil is attached to the support plate 18a. However, in this embodiment, since the protective film 20 has just been removed, the protective film 20 can be produced even if fine powder such as foreign matter is generated when the metal laminate 100 and the support plate 18a are bonded. When the protective film 20 is peeled off, the entire foreign matter is removed when the protective film 20 is peeled off, so that a very clean surface is exposed.

その後、図2Eに示されるように、電気めっき膜などが形成されることにより、第1および第2のパターン12a、12bを有する導体層12が形成され。この電気めっき膜は、前述のように、図示しないメッキレジスト膜が形成され、パターニングされて第1および第2のパターン12a、12bが形成される部分だけ除去されて金属膜10が露出したところに電気めっき膜が形成されるアディティブ法により形成されてもよいし、全面に電気めっき膜または真空蒸着などにより導電膜が形成された後に、周知の写真食刻技術によりパターニングされて第1および第2のパターン12a、12bが形成されるサブトラクト法により形成されてもよい。いずれの方法により形成されても、金属膜10の表面には異物が付着していない清浄な表面であるため、配線パターンの欠落やショートなどの不良が発生する可能性をなくすることができる。なお、この導体層12は、好ましくは10〜30μmの厚さに形成され得るが、これに限定されない。   Thereafter, as shown in FIG. 2E, by forming an electroplating film or the like, the conductor layer 12 having the first and second patterns 12a and 12b is formed. As described above, the electroplating film is formed with a plating resist film (not shown), patterned and removed only at portions where the first and second patterns 12a and 12b are formed, and the metal film 10 is exposed. It may be formed by an additive method in which an electroplating film is formed, or after a conductive film is formed on the entire surface by an electroplating film or vacuum deposition, the first and second layers are patterned by a well-known photolithography technique. The pattern 12a, 12b may be formed by a subtract method. Regardless of which method is used, the surface of the metal film 10 is a clean surface on which no foreign matter is attached, and therefore the possibility of occurrence of defects such as missing wiring patterns or short circuits can be eliminated. In addition, although this conductor layer 12 can be preferably formed in the thickness of 10-30 micrometers, it is not limited to this.

この後の工程は、プリント配線板の構造に応じて種々の工程が行われるが、一例として、樹脂絶縁層11の第1面11a側に前述の導体層12が形成され、樹脂絶縁層11の第2面11b側には配線導体層は形成されないで、導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する片面導体層のプリント配線板の製造工程について説明がされる。   Subsequent processes are performed in accordance with the structure of the printed wiring board. As an example, the conductor layer 12 is formed on the first surface 11a side of the resin insulating layer 11, and the resin insulating layer 11 A manufacturing process of a printed wiring board having a single-sided conductor layer in which only the end 15a of the conductor post 15 connected to the conductor layer 12 is exposed without forming a wiring conductor layer on the second surface 11b side will be described.

図1Eに示される導体層12の第1パターン12a上に導体ポスト15が形成される。具体的には、まず、図3Aに示されるように、導体層12の金属膜10と反対側の露出面であって、導体ポスト15(図3B参照)が形成される部分を除く部分および導体層12に覆われずに露出している金属膜10上にめっきレジスト膜85が形成される。めっきレジスト膜85は少なくとも50〜150μm程度の厚さに形成される。続いて、めっきレジスト膜85が形成されていない第1パターン12a上に、金属膜10を電気めっきの給電層として、たとえば、電気めっきによる導体ポスト15が形成される。   Conductor posts 15 are formed on the first pattern 12a of the conductor layer 12 shown in FIG. 1E. Specifically, first, as shown in FIG. 3A, the exposed surface of the conductor layer 12 on the side opposite to the metal film 10 except the portion where the conductor post 15 (see FIG. 3B) is formed and the conductor. A plating resist film 85 is formed on the metal film 10 exposed without being covered with the layer 12. The plating resist film 85 is formed to a thickness of at least about 50 to 150 μm. Subsequently, for example, a conductor post 15 by electroplating is formed on the first pattern 12a on which the plating resist film 85 is not formed, using the metal film 10 as a power feeding layer for electroplating.

その後、図3Bに示されるように、めっきレジスト膜85が除去される。その結果、導体層12の第1パターン12a上に電気めっきによる導体ポスト15が形成される。導体ポスト15は、好ましくは導体層12と同じ材料で形成され、好ましくは銅で形成される。また、導体ポスト15は、好ましくは30〜150μmの厚さ(高さ)に形成され得るが、これに限定されない。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the plating resist film 85 is removed. As a result, a conductor post 15 is formed on the first pattern 12a of the conductor layer 12 by electroplating. The conductor post 15 is preferably made of the same material as that of the conductor layer 12, and is preferably made of copper. The conductor post 15 can be preferably formed to a thickness (height) of 30 to 150 μm, but is not limited thereto.

導体ポスト15が形成された後、好ましくは、後述の樹脂絶縁層11との密着性を高めるために、導体ポスト15および、導体層12の配線パターン12a、12bの側面およびその露出面に粗化処理が行われる。粗化処理の方法は、特に限定されないが、たとえば、ソフトエッチング処理や、黒化(酸化)と還元処理などが例示される。粗化される各面は、好ましくは、算術平均粗さで0.1〜1μmの表面粗さに処理される。また、粗化処理が行われる場合は、めっきレジスト膜85の除去と粗化処理との間に、粗化を安定させるために電気めっき銅の結晶を成長させるアニール処理が行われてもよい。   After the conductor post 15 is formed, preferably, the conductor post 15 and the side surfaces of the wiring patterns 12a and 12b of the conductor layer 12 and the exposed surfaces thereof are roughened in order to improve the adhesion to the resin insulating layer 11 described later. Processing is performed. The method of roughening treatment is not particularly limited, and examples thereof include soft etching treatment, blackening (oxidation) and reduction treatment. Each surface to be roughened is preferably processed to a surface roughness of 0.1 to 1 μm in arithmetic mean roughness. Further, when a roughening process is performed, an annealing process for growing an electroplated copper crystal may be performed between the removal of the plating resist film 85 and the roughening process in order to stabilize the roughening.

次に、導体層12および導体ポスト15を被覆する樹脂絶縁層11(図3D参照)が形成される。具体的には、まず、図3Cに示されるように、導体ポスト15上に、シート状またはフィルム状の絶縁材11fが積層され、支持板18a側に向かって加圧されると共に加熱される。加熱により絶縁材11fが軟化し、導体層12の第1パターン12aと第2パターン12bとの間、第2パターン12b同士の間、および導体ポスト15の側面15cに流れ込み、半硬化の状態で固化する。その後、さらに加熱されることにより絶縁材11fが完全に硬化し、図3Dに示されるように、第1パターン12aの側面および導体ポスト15の側面15cおよび導体層12および導体層12が形成されていない金属膜10上に樹脂絶縁層11が埋め込まれて形成される。このように、シート状またはフィルム状の絶縁材を積層して樹脂絶縁層11を形成する方法は、一般的な配線板の製造設備により樹脂絶縁層11が形成され得る点で好ましい。樹脂絶縁層11が形成された後、好ましくは、バフ研磨が行われ、樹脂絶縁層11の形成時に生じたバリが除去される。   Next, a resin insulating layer 11 (see FIG. 3D) that covers the conductor layer 12 and the conductor post 15 is formed. Specifically, first, as shown in FIG. 3C, a sheet-like or film-like insulating material 11f is laminated on the conductor post 15, and is pressurized and heated toward the support plate 18a. The insulating material 11f is softened by heating and flows into the space between the first pattern 12a and the second pattern 12b of the conductor layer 12, between the second patterns 12b, and the side surface 15c of the conductor post 15, and solidifies in a semi-cured state. To do. Thereafter, by further heating, the insulating material 11f is completely cured, and as shown in FIG. 3D, the side surface of the first pattern 12a, the side surface 15c of the conductor post 15, the conductor layer 12, and the conductor layer 12 are formed. A resin insulating layer 11 is buried on the metal film 10 that is not present. Thus, the method of forming the resin insulating layer 11 by laminating sheet-like or film-like insulating materials is preferable in that the resin insulating layer 11 can be formed by a general wiring board manufacturing facility. After the resin insulating layer 11 is formed, buffing is preferably performed to remove burrs generated when the resin insulating layer 11 is formed.

樹脂絶縁層11の形成法は、このようなフィルム状の絶縁材11fを用いないで、モールド用樹脂を流し込むことによって形成されてもよい。この場合、流動体の樹脂を流し込むことにより、前述の間隙部にも流れ込み、温度を上昇させ硬化させることにより樹脂絶縁層11が形成される。   The resin insulating layer 11 may be formed by pouring a molding resin without using such a film-like insulating material 11f. In this case, the resin insulating layer 11 is formed by pouring the fluid resin into the gaps and increasing the temperature to cure.

樹脂絶縁層11は、導体層12側の第1面11aと、その第1面11aの反対側の第2面11bとを有する絶縁層である。樹脂絶縁層11は、たとえばガラス繊維のような図示しない芯材にフィラーを含む樹脂組成物が含浸されたものでもよく、芯材を含まない樹脂組成物だけで形成されたものでもよい。また、1層であってもよく、複数の絶縁層から形成されていてもよい。樹脂絶縁層11が複数の絶縁層から形成されるならば、たとえば熱膨張率、柔軟性、厚さが容易に調整され得る。樹脂としては、エポキシなどが例示される。樹脂に混合されるフィラーとしては、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al23)、酸化チタン(Ti23)などが例示される。樹脂絶縁層11の厚さとしては、25〜100μmが例示される。第1面11aには、導体層12の第1および第2のパターン12a、12bの一面が露出している。 The resin insulating layer 11 is an insulating layer having a first surface 11a on the conductor layer 12 side and a second surface 11b on the opposite side of the first surface 11a. The resin insulation layer 11 may be formed by impregnating a resin composition containing a filler into a core material (not shown) such as glass fiber, or may be formed only by a resin composition not containing a core material. Further, it may be a single layer or may be formed from a plurality of insulating layers. If the resin insulating layer 11 is formed of a plurality of insulating layers, for example, the coefficient of thermal expansion, flexibility, and thickness can be easily adjusted. Examples of the resin include epoxy. Examples of the filler mixed with the resin include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and titanium oxide (Ti 2 O 3 ). Examples of the thickness of the resin insulating layer 11 include 25 to 100 μm. On the first surface 11a, one surface of the first and second patterns 12a, 12b of the conductor layer 12 is exposed.

つぎに、図3Eに示されるように、樹脂絶縁層11の第2面11bが、導体ポスト15の先端部15aとほぼ面一になるまで、バフ研磨、または、化学機械研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)などにより研磨される。   Next, as shown in FIG. 3E, buffing or chemical mechanical polishing (CMP) is performed until the second surface 11b of the resin insulating layer 11 is substantially flush with the tip 15a of the conductor post 15. Polishing) or the like.

その後、図3Fに示されるように、支持板18aおよびキャリア金属箔18bと、金属膜10とが分離される。具体的には、まず、温度を上昇させて、キャリア金属箔18bと金属膜10とを接合している図示しない熱可塑性接着剤が軟化している状態で、支持板18aおよびキャリア金属箔18bに、金属膜10との界面に沿う方向の力が加えられることにより、キャリア金属箔18bと金属膜10とが引き離される。あるいは、前述のように、両者が外周付近の余白部において接着剤または超音波接続により接合されている場合は、接合箇所よりも内周側で、キャリア18および金属膜10が樹脂絶縁層11などと共に切断され、接着剤などによる接合箇所が切除されることによりキャリア金属箔18bと金属膜10とが分離されてもよい。なお、図3Fには、図3Eにおいて支持板18aの下面側に示されているプリント配線板の工程途上品だけが示されている。   Thereafter, as shown in FIG. 3F, the support plate 18a, the carrier metal foil 18b, and the metal film 10 are separated. Specifically, first, the temperature is increased, and the thermoplastic adhesive (not shown) that joins the carrier metal foil 18b and the metal film 10 is softened to the support plate 18a and the carrier metal foil 18b. By applying a force in a direction along the interface with the metal film 10, the carrier metal foil 18b and the metal film 10 are separated. Alternatively, as described above, in the case where both are bonded by an adhesive or ultrasonic connection in a blank portion near the outer periphery, the carrier 18 and the metal film 10 are on the inner peripheral side from the bonding portion, and the resin insulating layer 11 or the like. Then, the carrier metal foil 18b and the metal film 10 may be separated by cutting together and cutting off a joint portion by an adhesive or the like. In FIG. 3F, only the in-process product of the printed wiring board shown on the lower surface side of the support plate 18a in FIG. 3E is shown.

続いて、図3Gに示されるように、金属膜10が、たとえばエッチングなどにより除去される。このエッチングの際に、導体層12および導体ポスト15も金属膜10と同じ材料が用いられることが多いため、金属膜10のみならず、導体層12の配線パターン(第1パターン12a、第2パターン12bおよび導体ポスト15の露出面も一部エッチングされ得る。金属膜10が完全に除去されていないと配線パターン12a、12bをショートさせることになるため、オーバエッチング気味にエッチングされるからである。その結果、配線パターン12a、12bの表面は、樹脂絶縁層11の第1面11aよりも凹んでいる。また、導体ポスト15の先端部15aも樹脂絶縁層11の第2面よりも凹んでいる。導体ポスト15の端部15aの凹み量は、金属膜10がエッチングされる間もエッチングされるため、導体層12の凹み量よりも大きい。しかし、金属膜10自体の厚さが数μm程度と薄いため、導体ポストの凹み量はそれほど大きくない。   Subsequently, as shown in FIG. 3G, the metal film 10 is removed by, for example, etching or the like. In this etching, the conductor layer 12 and the conductor post 15 are often made of the same material as that of the metal film 10, so that not only the metal film 10 but also the wiring pattern (first pattern 12a, second pattern) of the conductor layer 12 is used. The exposed surfaces of 12b and the conductor posts 15 can also be partially etched, because if the metal film 10 is not completely removed, the wiring patterns 12a and 12b are short-circuited, so that etching is performed in an overetching manner. As a result, the surfaces of the wiring patterns 12a and 12b are recessed from the first surface 11a of the resin insulating layer 11. Further, the tip 15a of the conductor post 15 is also recessed from the second surface of the resin insulating layer 11. The amount of recess in the end 15a of the conductor post 15 is also etched while the metal film 10 is etched, so that the amount of recess in the conductor layer 12 is It is large. However, since thin as several μm thickness of the metal film 10 itself, dented conductive posts are not so large.

この導体層12は、このように樹脂絶縁層11の第1面11aに埋め込まれるパターンとなっている。埋め込まれる導体層12は、樹脂絶縁層11の第1面11aとほぼ面一か、前述のように若干凹んで導体層12の一面だけが露出している。そのため、特に高密度化、ファインピッチ化に伴い配線パターン12a、12bの幅が狭く、また、樹脂絶縁層11の薄型化に伴って芯材入りの樹脂が用いられることによる密着性の低下の恐れがある場合でも、このように、導体層12が樹脂絶縁層11内に埋め込まれることにより、導体層12と樹脂絶縁層11との密着性の向上に寄与する。また、プリント配線板1の薄型化にも寄与する。   The conductor layer 12 has a pattern embedded in the first surface 11a of the resin insulating layer 11 in this way. The buried conductor layer 12 is substantially flush with the first surface 11a of the resin insulating layer 11, or is slightly recessed as described above, and only one surface of the conductor layer 12 is exposed. For this reason, the width of the wiring patterns 12a and 12b is particularly narrow as the density and fine pitch are increased, and the adhesiveness may be lowered due to the use of the resin containing the core material as the resin insulating layer 11 is thinned. Even if there is, the conductive layer 12 is embedded in the resin insulating layer 11 in this way, which contributes to improvement in the adhesion between the conductive layer 12 and the resin insulating layer 11. Moreover, it contributes to the thinning of the printed wiring board 1.

金属膜10の除去後に、好ましくは、図示しない表面保護膜が、導体層12の露出面および導体ポスト15の端部15aに形成される。表面保護膜の形成は、Ni/Au、Ni/Pd/Au、またはSnなどの複数または単一の金属膜をめっき法により形成することにより行われてよい。また、液状の保護材料内への浸漬や保護材料の吹付けなどによりOSPが形成されてもよい。表面保護膜は、導体層12の各パターン12a、12bの露出面と導体ポスト15の端部15aとの両方に形成されてもよく、いずれか一方だけに形成されてもよい。また、導体層12と導体ポスト15の端部15aとで、異なる材料の表面保護膜が形成されてもよい。   After the removal of the metal film 10, a surface protection film (not shown) is preferably formed on the exposed surface of the conductor layer 12 and the end portion 15 a of the conductor post 15. The surface protective film may be formed by forming a plurality of or a single metal film such as Ni / Au, Ni / Pd / Au, or Sn by a plating method. Further, the OSP may be formed by immersion in a liquid protective material or spraying of the protective material. The surface protective film may be formed on both the exposed surfaces of the patterns 12a and 12b of the conductor layer 12 and the end 15a of the conductor post 15, or may be formed on only one of them. Further, a surface protective film made of a different material may be formed between the conductor layer 12 and the end portion 15 a of the conductor post 15.

また、表面保護膜の形成に加えて、または表面保護膜が形成されずに、導体ポスト15の端部15a上に、導体ポスト15と外部のマザーボードなどとを接合する接合材からなる接合材層(図示せず)が形成されてもよい。接合材層の材料には好ましくはハンダが用いられ、ペースト状のハンダの塗布やハンダボールを配置して一旦溶融後硬化させたり、めっき法を用いたりして形成され得る。しかしながら、接合材層の材料や形成方法は、特に限定されず、他の材料および方法が用いられ得る。   Further, in addition to the formation of the surface protective film, or without the surface protective film being formed, a bonding material layer made of a bonding material for bonding the conductor post 15 to an external motherboard or the like on the end portion 15a of the conductor post 15. (Not shown) may be formed. Solder is preferably used as the material of the bonding material layer, and may be formed by applying paste-like solder or placing a solder ball and once cured after being melted or by using a plating method. However, the material and forming method of the bonding material layer are not particularly limited, and other materials and methods can be used.

以上の工程を経ることにより、図3Gに示される本実施形態の片面導体層のプリント配線板1が完成する。完成したプリント配線板1には、第2パターン12b上に図示しない半導体素子が接続されてもよい。また、導体ポスト15の端部15aが、プリント配線板1が用いられる電子機器などのマザーボードなどに接続されてもよく、あるいは、図示しない他のプリント配線板に接続されて多層プリント配線板の一部とされてもよい。   By passing through the above process, the printed wiring board 1 of the single side | surface conductor layer of this embodiment shown by FIG. 3G is completed. A semiconductor element (not shown) may be connected to the completed printed wiring board 1 on the second pattern 12b. Further, the end 15a of the conductor post 15 may be connected to a mother board or the like such as an electronic device in which the printed wiring board 1 is used, or connected to another printed wiring board (not shown). It may be a part.

図3Gに示されるプリント配線板1では、1層の樹脂絶縁層11の第1面11a側に導体層12が形成され、第2面11b側には導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する簡単な構造であったが、このプリント配線板1の片面、または両面に、さらに樹脂絶縁層と導体層とを積層し、多層プリント配線板とすることもできる。   In the printed wiring board 1 shown in FIG. 3G, the conductor layer 12 is formed on the first surface 11a side of the single resin insulating layer 11, and the conductor posts 15 connected to the conductor layer 12 are formed on the second surface 11b side. Although the structure is simple in which only the end 15a is exposed, a multilayer printed wiring board can be obtained by further laminating a resin insulating layer and a conductor layer on one or both sides of the printed wiring board 1.

1 プリント配線板
10 金属膜
11 樹脂絶縁層
11a 第1面
11b 第2面
11f 樹脂材料(プリプレグ)
12 第1導体層
12a 第1パターン
12b 第2パターン
15 導体ポスト
15a 端部
18 キャリア
18a 支持板
18b キャリア金属箔
20 保護フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed wiring board 10 Metal film 11 Resin insulating layer 11a 1st surface 11b 2nd surface 11f Resin material (prepreg)
12 1st conductor layer 12a 1st pattern 12b 2nd pattern 15 Conductor post 15a End part 18 Carrier 18a Support plate 18b Carrier metal foil 20 Protective film

Claims (10)

プリント配線板の製造方法であって、
支持板を準備することと、
第1面にキャリア金属箔が接着された金属膜の前記第1面と反対面の第2面に保護フィルムが付着されたキャリア金属箔付き金属膜を準備することと、
前記支持板に前記キャリア金属箔付き金属膜の前記キャリア金属箔側を貼着することと、
前記保護フィルムを剥離することと、
前記保護フィルムの剥離により露出した前記金属膜面に導体層のパターンを形成することとを有している。
A method of manufacturing a printed wiring board,
Preparing a support plate;
Preparing a metal film with a carrier metal foil having a protective film attached to a second surface opposite to the first surface of the metal film having a carrier metal foil bonded to the first surface;
Affixing the carrier metal foil side of the metal film with the carrier metal foil to the support plate;
Peeling the protective film;
Forming a pattern of a conductor layer on the surface of the metal film exposed by peeling off the protective film.
請求項1記載のプリント配線板の製造方法であって、
前記導体層のパターンを形成した後に、前記導体層のパターン上に導体ポストを形成することと、
前記導体層の露出面および前記導体ポストの周囲を被覆する樹脂絶縁層を形成することと、
前記支持板に接着された金属箔と前記金属膜とを分離することと、
前記金属膜を除去することと、
をさらに有している。
It is a manufacturing method of the printed wiring board according to claim 1,
After forming the pattern of the conductor layer, forming a conductor post on the pattern of the conductor layer;
Forming a resin insulating layer covering the exposed surface of the conductor layer and the periphery of the conductor post;
Separating the metal foil and the metal film adhered to the support plate;
Removing the metal film;
It has further.
請求項2記載のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記導体ポストの形成後に、前記導体層の露出面および前記導体ポストの粗化処理を行うことを有している。 3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 2, further comprising performing a roughening process on the exposed surface of the conductor layer and the conductor post after the formation of the conductor post. 請求項2または3記載のプリント配線板の製造方法であって、
前記金属膜および前記導体層上に、所定の箇所に開口部を有するめっきレジスト膜を形成し、該めっきレジスト膜の前記開口部内に電気めっきにより銅めっき層が形成されることにより前記導体ポストを形成する。
It is a manufacturing method of the printed wiring board according to claim 2 or 3,
A plating resist film having an opening at a predetermined position is formed on the metal film and the conductor layer, and a copper plating layer is formed by electroplating in the opening of the plating resist film, thereby forming the conductor post. Form.
請求項4記載のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記めっきレジスト膜の除去と前記粗化処理との間に、アニール処理を行うことを有している。 5. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 4, further comprising performing an annealing process between the removal of the plating resist film and the roughening process. 請求項2〜5のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記樹脂絶縁層の形成から前記支持板と前記金属膜との分離までの間に、前記導体ポストの端面上の前記樹脂絶縁層をバフまたはCMP研磨することを有している。 It is a manufacturing method of the printed wiring board of any one of Claims 2-5, Comprising: Between the formation of the said resin insulation layer, and isolation | separation of the said support plate and the said metal film, The said conductor post | mailbox And buffing or CMP polishing the resin insulating layer on the end surface of the substrate. 請求項2〜6のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記導体ポストの端面および/または前記導体層の露出面に表面保護膜を形成することを有している。 It is a manufacturing method of the printed wiring board of any one of Claims 2-6, Comprising: Furthermore, it has forming a surface protective film in the end surface of the said conductor post, and / or the exposed surface of the said conductor layer. ing. 請求項2〜7のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方法であって、さらに、前記導体ポストの端面にハンダを供給することを有している。 It is a manufacturing method of the printed wiring board of any one of Claims 2-7, Comprising: Furthermore, it has supplying solder to the end surface of the said conductor post. プリント配線板を製造するのに用いられる支持板の表面に貼り付けられるキャリア金属箔付き金属膜であって、
金属膜と、
前記金属膜の第1面に貼り付けられるキャリア金属箔と、
前記金属膜の前記第1面と反対面の第2面に付着される保護フィルム
とを有している。
A metal film with a carrier metal foil attached to the surface of a support plate used to produce a printed wiring board,
A metal film,
A carrier metal foil attached to the first surface of the metal film;
A protective film attached to the second surface opposite to the first surface of the metal film.
請求項9記載のキャリア金属箔付き金属膜であって、
前記キャリア金属箔と前記保護フィルムとの付着力は、前記金属膜と前記キャリア金属箔との接着力より弱い。
A metal film with a carrier metal foil according to claim 9,
The adhesive force between the carrier metal foil and the protective film is weaker than the adhesive force between the metal film and the carrier metal foil.
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