JP2016111189A - Method of manufacturing printed wiring board and metal film with metal foil for use therein - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂絶縁層に一面を露出させて配線層が埋め込まれるプリント配線板の製造方法に関する。さらに詳しくは、配線層が埋め込まれるプリント配線板の信頼性を向上させることができるプリント配線板の製造方法およびそれに用いられる支持板に貼り付けられる金属箔付き金属膜に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board in which one surface is exposed to a resin insulating layer and a wiring layer is embedded. More specifically, the present invention relates to a printed wiring board manufacturing method capable of improving the reliability of a printed wiring board in which a wiring layer is embedded, and a metal film with a metal foil attached to a support plate used therefor.
近年、IC等の電子部品は高機能化、かつ、高集積化され、電極パッドの数が非常に多くなっている。一方、電子機器の軽薄短小化に伴い、IC等の電子部品はより一層小形化することが要求されている。そのため、多層配線板の厚さも薄くする低背化が求められている。また、高密度化に伴い、配線層の幅も細くなり、樹脂絶縁層との密着性も低下する。そのため、配線層を樹脂絶縁層内に埋め込んで低背にすると共に、樹脂絶縁層との接触面積を大きくして密着性の確保をすることが考えられている。また、配線層は樹脂絶縁層の一面のみに形成され、他面側には一面側の配線層と接続する導体ポストのみが露出する構造にすることも考えられている。 In recent years, electronic components such as ICs have become highly functional and highly integrated, and the number of electrode pads has become extremely large. On the other hand, as electronic devices become lighter, thinner, and smaller, electronic components such as ICs are required to be further miniaturized. For this reason, there is a demand for a reduction in height to reduce the thickness of the multilayer wiring board. Further, as the density is increased, the width of the wiring layer is reduced, and the adhesion with the resin insulating layer is also reduced. For this reason, it is considered that the wiring layer is embedded in the resin insulating layer to make it low in height and the contact area with the resin insulating layer is increased to ensure adhesion. It is also considered that the wiring layer is formed only on one surface of the resin insulating layer and only the conductor post connected to the wiring layer on the one surface side is exposed on the other surface side.
一方、特許文献1には、転写法により配線層を樹脂絶縁層内に埋め込むことが開示されている。
On the other hand,
配線層を樹脂絶縁層内に埋め込む方法として、支持板上にキャリア金属箔付き金属膜を貼り付け、その金属膜に配線パターンが形成されてから樹脂絶縁層によりその全体を被覆する方法が考えられる。しかしながら、この支持板にキャリア金属箔付き金属膜が貼り付けられる際に、その支持板から微粉末が飛散し、金属膜の表面に付着する可能性がある。金属膜の表面に絶縁物などの微粉末が付着すると、その表面に配線層を電気めっきにより形成する際に、配線のパターンの一部が欠落したり短絡したりする可能性がある。 As a method of embedding the wiring layer in the resin insulating layer, a method in which a metal film with a carrier metal foil is pasted on a support plate, and after the wiring pattern is formed on the metal film, the whole is covered with the resin insulating layer can be considered. . However, when a metal film with a carrier metal foil is attached to the support plate, fine powder may be scattered from the support plate and adhere to the surface of the metal film. If fine powder such as an insulator adheres to the surface of the metal film, a part of the wiring pattern may be lost or short-circuited when a wiring layer is formed on the surface by electroplating.
本発明の目的は、プリント配線板の製造時に使用される支持板に、キャリア金属箔付き金属膜が貼り付けられる際に、支持板から微粉末が飛散しても、後の配線パターンの形成に不都合が生じないようにするプリント配線板の製造方法を提供することにある。 The object of the present invention is to form a subsequent wiring pattern even when fine powder is scattered from the support plate when a metal film with a carrier metal foil is attached to the support plate used in the production of a printed wiring board. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed wiring board that prevents inconvenience.
本発明の他の目的は、そのような配線パターンの形成に支障が生じないキャリア金属箔付き金属膜を提供することにある。 It is another object of the present invention to provide a metal film with a carrier metal foil that does not hinder the formation of such a wiring pattern.
本発明のプリント配線板の製造方法は、支持板を準備することと、第1面にキャリア金属箔が接着された金属膜の前記第1面と反対面の第2面に保護フィルムが付着されたキャリア金属箔付き金属膜を準備することと、前記支持板に前記キャリア金属箔付き金属膜の前記キャリア金属箔側を貼着することと、前記保護フィルムを剥離することと、前記保護フィルムの剥離により露出した前記金属膜面に導体層のパターンを形成することとを有している。 The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes preparing a support plate and attaching a protective film to a second surface opposite to the first surface of the metal film having a carrier metal foil bonded to the first surface. Preparing a metal film with carrier metal foil, sticking the carrier metal foil side of the metal film with carrier metal foil to the support plate, peeling the protective film, and Forming a pattern of a conductor layer on the surface of the metal film exposed by peeling.
本発明のキャリア金属箔付き金属膜は、プリント配線板を製造するのに用いられる支持板の表面に貼り付けられてキャリアとするものであり、金属膜と、前記金属膜の第1面に貼り付けられるキャリア金属箔と、前記金属膜の前記第1面と反対面の第2面に付着される保護フィルムとを有する。 The metal film with a carrier metal foil of the present invention is a carrier that is affixed to the surface of a support plate used to manufacture a printed wiring board, and is affixed to the first surface of the metal film and the metal film. A carrier metal foil to be applied; and a protective film attached to a second surface opposite to the first surface of the metal film.
本発明の一実施形態のプリント配線板の製造方法およびそれに用いられる支持板に貼り付けられるキャリア金属箔付き金属膜が、図面を参照して説明される。図1に、支持板18aに本実施形態のキャリア金属箔18b付き金属膜10が貼り付けられた状態の断面説明図が示されるように、本実施形態のキャリア金属箔18b付き金属膜10は、プリント配線板を製造するのに用いられる支持板18aの表面に貼り付けられるものであり、金属膜10の第1面10aにキャリア金属箔18bが貼り付けられ、金属膜10の第1面10aと反対面の第2面10bに保護フィルム20が付着されている。
A method for producing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention and a metal film with a carrier metal foil attached to a support plate used therefor will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, a cross-sectional explanatory view of the state in which the
そして、本発明の他の実施形態のプリント配線板の製造方法では、そのような金属膜10に接着されたキャリア金属箔18b側が支持板18aに貼り付けられる。そして、保護フィルム20が剥離された後に、保護フィルム20の剥離により露出した金属膜10の露出面に導体層12のパターンが形成されている。その後、導体層12の露出面を被覆する樹脂絶縁層11が形成され、この樹脂絶縁層11の導体層12側と反対側の表面上にさらに導体層のパターンが形成されてもよい。または、この樹脂絶縁層の表面上には配線層のパターンは形成されないで導体層12と接続される導体ポスト15の端部15aのみが露出するようにされてもよい。さらに、これらの導体層12上にさらに樹脂絶縁層と導体層とが積層されて多層のプリント配線板とされてもよい。なお、前述の支持板18aとキャリア金属箔18bはその後剥離されて廃棄される。さらに金属膜10もエッチングにより除去される。以下で詳述する具体例では、樹脂絶縁層11の第1面11a側に導体層12の第1および第2のパターン12a、12bが形成され、樹脂絶縁層11の第1面11aの反対面の第2面11b側には導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する片面導体層のプリント配線板1の製造方法について説明される。
And in the manufacturing method of the printed wiring board of other embodiment of this invention, the
金属膜10は、キャリア18との接着に用いられると共に、導体層12などを形成するベースとするもので、最終的なプリント配線板には、通常は残らない。そのため、数μm程度の厚さがあればよい。しかし、パターニングをしてその一部を導体層12などと共に利用することもできる。その場合には、用途に応じた厚さの金属膜10が用いられる。この金属膜10としては、銅、ニッケルなど用途に応じて種々の材料が用いられ得る。
The
この金属膜10の第1面10aに貼り付けられるキャリア金属箔18bは、金属膜10をキャリア18に固定しながら、後で金属膜10をキャリア18から分離できるようにするための仲介用の金属箔で、通常は10〜20μm、たとえば18μm程度の銅箔が用いられる。しかし、銅に限定されるものでは無く、ニッケルなど他の金属箔が用いられてもよい。このキャリア金属箔18bと金属膜10の両者間には、熱膨張などの差が余り無いことが望ましいため、キャリア金属箔18bの材料は、金属膜10の材料と合せられるのが好ましい。しかし、これには制約されない。金属膜10とキャリア金属箔18bとの接着は、後で金属膜10とキャリア金属箔18bとが分離されるため、分離しやすい接着剤、たとえば熱可塑性樹脂により全面が接着されてもよい。このような接着剤で接着されるので、後の工程で温度を上昇させて引き剥されることにより、金属膜10とキャリア金属箔18bとは容易に分離される。または、たとえば金属膜10およびキャリア金属箔18bの周囲だけで通常の接着剤により、しっかりと貼り付けられてもよい。周囲が切断除去されることにより、容易に金属膜10とキャリア金属箔18bとが分離されるからである。なお、このキャリア18の金属膜10が設けられる面には、適宜、剥離層が設けられてもよい。
The
保護フィルム20は、たとえば市販されている、熱可塑性ポリエステルであるポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂などの高分子フィルムを使用することができる。このようなPETフィルムは、数μm程度の厚さで、平坦な面に接着剤を用いることなく付着させることができる。このPETフィルムは、PET樹脂の成膜後にxyの2軸方向に延伸(2軸延伸)して分子を配向させることで結晶化させることにより、強度と耐熱性を持たせることができる。そのため、この保護フィルム20を金属膜10に付着させた状態で、キャリア金属箔18b付き金属膜10が支持板18aに熱プレスにより貼着されても、その付着力が無くなって剥れるということは無い。要するに、作業時には金属膜10に付着しており、その後の剥離する際に簡単に剥離できるフィルムであればよい。そうすることで、表面に付着した異物を飛散させることなく保護フィルム20ごと除去できる。
As the
支持板18aは、金属板などの導電性基板でも、絶縁性基板でも何でもよい。しかし、キャリア18は最終的には廃棄されるものであるため、安価であることが好ましく、たとえば樹脂絶縁層の材料として用いられているプリプレグが用いられることが多い。この場合でも、ガラス繊維などの芯材入りのプリプレグが用いられると、比較的反りなどが生じにくく便利に用いられる。しかし、このような芯材入りのプリプレグが用いられると、この支持板18aとキャリア金属箔18b付き金属膜10のキャリア金属箔18b側が支持板18aに熱プレスにより圧接して加熱されることにより接着される際に、プリプレグ内のガラス繊維などの異物が飛散して付着しやすい。
The
その状況が図4A〜4Cに示されている。すなわち、図4Aに示されるように、熱プレスにより支持板18aとキャリア付き金属箔18bとが接着される際に発生する異物80a、80bは、金属膜10の表面に付着する。この異物80a、80bには、大きいものと小さいものとがあるが、その異物80a、80bの付着の種類は定まっていない。その後、図4Bに示されるように、めっきレジストマスク81が形成され、そのパターニングによりめっきレジストマスク81の中に取り込まれる異物80aと、取り込まれない異物80bとが存在する。めっきレジストマスク81の外に出ている異物80bがあると、その位置は本来電気めっき膜が形成される場所になるため、また、これらの異物80a、80bは絶縁物であることが多いため、電気めっき膜が形成されないところが出てくる可能性がある。その結果、図4Cに示されるように、めっきレジストマスク81が除去されると、本来配線パターンが形成されるべき場所にパターンPが形成されない場合が生じ得る。めっきレジストマスク81が形成される際に、レジスト膜がパターニングされるため、そのパターニングの際に異物も除去されれば何ら問題は無いが、異物の一部がレジスト膜に抱え込まれている場合には、めっきレジストマスク81がパターニングされても、異物80bがそのまま残存する可能性がある。また、めっきレジストマスク81の中に取り込まれている異物80aがあると、めっきレジストマスク81と金属膜10との間に隙間が生じることがある。そして、この隙間にめっき液が浸入することがある。その結果、本来配線パターンが形成されるべきではないところにめっき膜が形成され、このめっき膜を介してその周囲の配線パターン同士が短絡してしまうおそれがある。
The situation is shown in FIGS. That is, as shown in FIG. 4A, the
しかしながら、本実施形態では、図1に示されるように、金属膜10の表面に保護フィルム20が付着された状態で、キャリア金属箔18b付き金属膜10が支持板18aに貼り付けられるので、その貼り付けの際に異物が飛散して表面に付着しても、保護フィルム20の表面に付着する。そのため、電気めっきのためにレジストマスクを形成する際に、保護フィルム20を剥離して除去することにより、全く異物の付着しない清浄な金属膜10の表面に電気めっき膜を形成することができ、導体層12のパターンの欠落を生じることなく、導体層が形成され得る。なお、本実施形態によれば、支持板18に芯材入りのプリプレグが用いられない場合でも、何らかの問題で付着し得る異物の付着による問題を解消することができる。
However, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the
次に、このキャリア金属箔18b付き金属膜10を用いて、樹脂絶縁層の一面側に導体層のパターンが形成されるプリント配線板の製造方法が、図2A〜2Eを参照して、説明される。
Next, a method for manufacturing a printed wiring board in which a pattern of a conductor layer is formed on one surface side of a resin insulation layer using the
まず、図2Aに示されるように、支持板18aが準備される。支持板18aとしては、前述のように種々の材料のものが用いられ得るが、本実施形態では、たとえばガラス繊維などの芯材に樹脂組成物と無機フィラーとの混合物が含浸された、100〜200μm程度の厚さのプリプレグが用いられる。
First, as shown in FIG. 2A, a
一方、図2Bに示されるように、金属膜10の第1面10aにキャリア金属箔が貼り付けられ、金属膜10の第2面10bに保護フィルム20が付着された金属積層体100が準備される。金属膜10は、2〜5μm程度の厚さがあればよいが、導体層上のポストとして使用するような場合には、用途に応じて5〜数十μm程度の厚さにすることもできる。材料としては、前述のように、銅が一般的に用いられるが、ニッケルでもよく、また他の材料でも薄い箔状にできれば構わない。
On the other hand, as shown in FIG. 2B, a
キャリア金属箔18bは、支持板18aと金属膜10との仲介をするもので、10〜20μm程度、具体的には18μm程度の厚さの金属箔が用いられる。すなわち、金属膜10を支持板18aに固定してプリント配線板の製造を行いながら、最終的には支持板18aから分離される必要があるため、支持板18aとは固着され、金属膜10とは剥離できるようにするために用いられている。従って、キャリア金属箔18bの材料や厚さは余り制約を受けないが、厚さは前述のような厚さのものが用いられ、材料は銅、ニッケルなどが用いられる。金属膜10の材料と合せるのが好ましい。
The
前述のように、この金属膜10とキャリア金属箔18bとは、後の工程で剥離できるように接着されている。すなわち、たとえば熱可塑性樹脂で接着されることにより、温度を上昇させて剥離すれば分離できる。一方、キャリア金属箔18bと支持板18aとは、たとえば加熱しながら圧接することにより接着されているので、たとえばプリプレグからなる支持板18aが軟質状態になり、キャリア金属箔18bとも密着して接合される。そのため、後で剥離することはできない。すなわち、支持板18aとキャリア金属箔18bとでキャリア18を構成する。この観点からは、支持板18aとキャリア金属箔18bとを先に熱プレスで接着してキャリア18を形成し、その後で金属膜10を貼り付けることもできるが、キャリア金属箔18bと金属膜10との接着は専門業者が行うことが多いため、このように金属積層体100を形成することが一般的である。そのため、金属膜10の表面に保護フィルム20が設けられることが必要となる。
As described above, the
保護フィルム20は、キャリア金属箔18bと支持板18aとの接着時の加温・加圧に耐えられ、かつ、後で容易に剥離できるものであればよい。すなわち、保護フィルム20と金属膜10との保持力は、キャリア金属箔18bと金属膜10との接着力より弱くなるように形成されている。その意味で前述のように、PETフィルムが用いられる。
The
次に、図2Cに示されるように、前述の保護フィルム20が付着された状態のキャリア金属箔18b付き金属膜10からなる金属積層体100のキャリア金属箔18b側が、支持板18aと対面させて加熱プレスにより貼着される。すなわち、支持板18aの一面に金属積層体100のキャリア金属箔18b側を対面させて重ね、圧力をかけ、加熱することにより、たとえばプリプレグからなる支持板18aが軟質状態になって、キャリア金属箔18bと密着して接着される。その後、本硬化させることにより、完全に固着される。この際、金属積層体100の大きさが支持体18aよりも小さいことが多く、金属積層体の大きさが支持体18aより小さいと、支持体18aの面が露出するため、余計微小粉末が飛散しやすい。
Next, as shown in FIG. 2C, the
なお、図2Cに示される例では、金属積層体100が支持板18aの両面に貼り付けられている。これは、キャリア18は、前述のように、後の工程で除去されて廃棄されるものであるため、できるだけ有効利用するため、両面が利用されている。従って、支持板18aの両面に金属積層体100が貼り付けられ、両面に同じプリント配線板1が作製される。勿論両面で異なるプリント配線板が製造されてもよいし、片面だけで製造されてもよい。本実施形態では、同じものが両面に形成されるため、図面では両面に形成された図が示されているが、一方(図の下側)については、符号も一部省略し、説明も省略されている。
In the example shown in FIG. 2C, the
次に、図2Dに示されるように、保護フィルム20が剥離される。この保護フィルム20は、前述のように、金属膜10の表面に付着されているだけであるので、端部から引き剥がせば、簡単に剥離することができる。この状態は、従来のキャリア金属箔付き金属膜が支持板18aに貼り付けられた状態と同じになる。しかし、本実施形態では、保護フィルム20が除去されたばかりの状態であるため、金属積層体100と支持板18aとが接着される際に発生する異物などの微粉が発生しても、保護フィルム20の表面に付着されているだけで、保護フィルム20が剥離される際に、その異物ごと除去されているため、非常に清浄な表面が露出する。
Next, as shown in FIG. 2D, the
その後、図2Eに示されるように、電気めっき膜などが形成されることにより、第1および第2のパターン12a、12bを有する導体層12が形成され。この電気めっき膜は、前述のように、図示しないメッキレジスト膜が形成され、パターニングされて第1および第2のパターン12a、12bが形成される部分だけ除去されて金属膜10が露出したところに電気めっき膜が形成されるアディティブ法により形成されてもよいし、全面に電気めっき膜または真空蒸着などにより導電膜が形成された後に、周知の写真食刻技術によりパターニングされて第1および第2のパターン12a、12bが形成されるサブトラクト法により形成されてもよい。いずれの方法により形成されても、金属膜10の表面には異物が付着していない清浄な表面であるため、配線パターンの欠落やショートなどの不良が発生する可能性をなくすることができる。なお、この導体層12は、好ましくは10〜30μmの厚さに形成され得るが、これに限定されない。
Thereafter, as shown in FIG. 2E, by forming an electroplating film or the like, the
この後の工程は、プリント配線板の構造に応じて種々の工程が行われるが、一例として、樹脂絶縁層11の第1面11a側に前述の導体層12が形成され、樹脂絶縁層11の第2面11b側には配線導体層は形成されないで、導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する片面導体層のプリント配線板の製造工程について説明がされる。
Subsequent processes are performed in accordance with the structure of the printed wiring board. As an example, the
図1Eに示される導体層12の第1パターン12a上に導体ポスト15が形成される。具体的には、まず、図3Aに示されるように、導体層12の金属膜10と反対側の露出面であって、導体ポスト15(図3B参照)が形成される部分を除く部分および導体層12に覆われずに露出している金属膜10上にめっきレジスト膜85が形成される。めっきレジスト膜85は少なくとも50〜150μm程度の厚さに形成される。続いて、めっきレジスト膜85が形成されていない第1パターン12a上に、金属膜10を電気めっきの給電層として、たとえば、電気めっきによる導体ポスト15が形成される。
Conductor posts 15 are formed on the
その後、図3Bに示されるように、めっきレジスト膜85が除去される。その結果、導体層12の第1パターン12a上に電気めっきによる導体ポスト15が形成される。導体ポスト15は、好ましくは導体層12と同じ材料で形成され、好ましくは銅で形成される。また、導体ポスト15は、好ましくは30〜150μmの厚さ(高さ)に形成され得るが、これに限定されない。
Thereafter, as shown in FIG. 3B, the plating resist
導体ポスト15が形成された後、好ましくは、後述の樹脂絶縁層11との密着性を高めるために、導体ポスト15および、導体層12の配線パターン12a、12bの側面およびその露出面に粗化処理が行われる。粗化処理の方法は、特に限定されないが、たとえば、ソフトエッチング処理や、黒化(酸化)と還元処理などが例示される。粗化される各面は、好ましくは、算術平均粗さで0.1〜1μmの表面粗さに処理される。また、粗化処理が行われる場合は、めっきレジスト膜85の除去と粗化処理との間に、粗化を安定させるために電気めっき銅の結晶を成長させるアニール処理が行われてもよい。
After the
次に、導体層12および導体ポスト15を被覆する樹脂絶縁層11(図3D参照)が形成される。具体的には、まず、図3Cに示されるように、導体ポスト15上に、シート状またはフィルム状の絶縁材11fが積層され、支持板18a側に向かって加圧されると共に加熱される。加熱により絶縁材11fが軟化し、導体層12の第1パターン12aと第2パターン12bとの間、第2パターン12b同士の間、および導体ポスト15の側面15cに流れ込み、半硬化の状態で固化する。その後、さらに加熱されることにより絶縁材11fが完全に硬化し、図3Dに示されるように、第1パターン12aの側面および導体ポスト15の側面15cおよび導体層12および導体層12が形成されていない金属膜10上に樹脂絶縁層11が埋め込まれて形成される。このように、シート状またはフィルム状の絶縁材を積層して樹脂絶縁層11を形成する方法は、一般的な配線板の製造設備により樹脂絶縁層11が形成され得る点で好ましい。樹脂絶縁層11が形成された後、好ましくは、バフ研磨が行われ、樹脂絶縁層11の形成時に生じたバリが除去される。
Next, a resin insulating layer 11 (see FIG. 3D) that covers the
樹脂絶縁層11の形成法は、このようなフィルム状の絶縁材11fを用いないで、モールド用樹脂を流し込むことによって形成されてもよい。この場合、流動体の樹脂を流し込むことにより、前述の間隙部にも流れ込み、温度を上昇させ硬化させることにより樹脂絶縁層11が形成される。
The
樹脂絶縁層11は、導体層12側の第1面11aと、その第1面11aの反対側の第2面11bとを有する絶縁層である。樹脂絶縁層11は、たとえばガラス繊維のような図示しない芯材にフィラーを含む樹脂組成物が含浸されたものでもよく、芯材を含まない樹脂組成物だけで形成されたものでもよい。また、1層であってもよく、複数の絶縁層から形成されていてもよい。樹脂絶縁層11が複数の絶縁層から形成されるならば、たとえば熱膨張率、柔軟性、厚さが容易に調整され得る。樹脂としては、エポキシなどが例示される。樹脂に混合されるフィラーとしては、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al2O3)、酸化チタン(Ti2O3)などが例示される。樹脂絶縁層11の厚さとしては、25〜100μmが例示される。第1面11aには、導体層12の第1および第2のパターン12a、12bの一面が露出している。
The
つぎに、図3Eに示されるように、樹脂絶縁層11の第2面11bが、導体ポスト15の先端部15aとほぼ面一になるまで、バフ研磨、または、化学機械研磨(CMP:Chemical Mechanical Polishing)などにより研磨される。
Next, as shown in FIG. 3E, buffing or chemical mechanical polishing (CMP) is performed until the
その後、図3Fに示されるように、支持板18aおよびキャリア金属箔18bと、金属膜10とが分離される。具体的には、まず、温度を上昇させて、キャリア金属箔18bと金属膜10とを接合している図示しない熱可塑性接着剤が軟化している状態で、支持板18aおよびキャリア金属箔18bに、金属膜10との界面に沿う方向の力が加えられることにより、キャリア金属箔18bと金属膜10とが引き離される。あるいは、前述のように、両者が外周付近の余白部において接着剤または超音波接続により接合されている場合は、接合箇所よりも内周側で、キャリア18および金属膜10が樹脂絶縁層11などと共に切断され、接着剤などによる接合箇所が切除されることによりキャリア金属箔18bと金属膜10とが分離されてもよい。なお、図3Fには、図3Eにおいて支持板18aの下面側に示されているプリント配線板の工程途上品だけが示されている。
Thereafter, as shown in FIG. 3F, the
続いて、図3Gに示されるように、金属膜10が、たとえばエッチングなどにより除去される。このエッチングの際に、導体層12および導体ポスト15も金属膜10と同じ材料が用いられることが多いため、金属膜10のみならず、導体層12の配線パターン(第1パターン12a、第2パターン12bおよび導体ポスト15の露出面も一部エッチングされ得る。金属膜10が完全に除去されていないと配線パターン12a、12bをショートさせることになるため、オーバエッチング気味にエッチングされるからである。その結果、配線パターン12a、12bの表面は、樹脂絶縁層11の第1面11aよりも凹んでいる。また、導体ポスト15の先端部15aも樹脂絶縁層11の第2面よりも凹んでいる。導体ポスト15の端部15aの凹み量は、金属膜10がエッチングされる間もエッチングされるため、導体層12の凹み量よりも大きい。しかし、金属膜10自体の厚さが数μm程度と薄いため、導体ポストの凹み量はそれほど大きくない。
Subsequently, as shown in FIG. 3G, the
この導体層12は、このように樹脂絶縁層11の第1面11aに埋め込まれるパターンとなっている。埋め込まれる導体層12は、樹脂絶縁層11の第1面11aとほぼ面一か、前述のように若干凹んで導体層12の一面だけが露出している。そのため、特に高密度化、ファインピッチ化に伴い配線パターン12a、12bの幅が狭く、また、樹脂絶縁層11の薄型化に伴って芯材入りの樹脂が用いられることによる密着性の低下の恐れがある場合でも、このように、導体層12が樹脂絶縁層11内に埋め込まれることにより、導体層12と樹脂絶縁層11との密着性の向上に寄与する。また、プリント配線板1の薄型化にも寄与する。
The
金属膜10の除去後に、好ましくは、図示しない表面保護膜が、導体層12の露出面および導体ポスト15の端部15aに形成される。表面保護膜の形成は、Ni/Au、Ni/Pd/Au、またはSnなどの複数または単一の金属膜をめっき法により形成することにより行われてよい。また、液状の保護材料内への浸漬や保護材料の吹付けなどによりOSPが形成されてもよい。表面保護膜は、導体層12の各パターン12a、12bの露出面と導体ポスト15の端部15aとの両方に形成されてもよく、いずれか一方だけに形成されてもよい。また、導体層12と導体ポスト15の端部15aとで、異なる材料の表面保護膜が形成されてもよい。
After the removal of the
また、表面保護膜の形成に加えて、または表面保護膜が形成されずに、導体ポスト15の端部15a上に、導体ポスト15と外部のマザーボードなどとを接合する接合材からなる接合材層(図示せず)が形成されてもよい。接合材層の材料には好ましくはハンダが用いられ、ペースト状のハンダの塗布やハンダボールを配置して一旦溶融後硬化させたり、めっき法を用いたりして形成され得る。しかしながら、接合材層の材料や形成方法は、特に限定されず、他の材料および方法が用いられ得る。
Further, in addition to the formation of the surface protective film, or without the surface protective film being formed, a bonding material layer made of a bonding material for bonding the
以上の工程を経ることにより、図3Gに示される本実施形態の片面導体層のプリント配線板1が完成する。完成したプリント配線板1には、第2パターン12b上に図示しない半導体素子が接続されてもよい。また、導体ポスト15の端部15aが、プリント配線板1が用いられる電子機器などのマザーボードなどに接続されてもよく、あるいは、図示しない他のプリント配線板に接続されて多層プリント配線板の一部とされてもよい。
By passing through the above process, the printed
図3Gに示されるプリント配線板1では、1層の樹脂絶縁層11の第1面11a側に導体層12が形成され、第2面11b側には導体層12と接続された導体ポスト15の端部15aのみが露出する簡単な構造であったが、このプリント配線板1の片面、または両面に、さらに樹脂絶縁層と導体層とを積層し、多層プリント配線板とすることもできる。
In the printed
1 プリント配線板
10 金属膜
11 樹脂絶縁層
11a 第1面
11b 第2面
11f 樹脂材料(プリプレグ)
12 第1導体層
12a 第1パターン
12b 第2パターン
15 導体ポスト
15a 端部
18 キャリア
18a 支持板
18b キャリア金属箔
20 保護フィルム
DESCRIPTION OF
12
Claims (10)
支持板を準備することと、
第1面にキャリア金属箔が接着された金属膜の前記第1面と反対面の第2面に保護フィルムが付着されたキャリア金属箔付き金属膜を準備することと、
前記支持板に前記キャリア金属箔付き金属膜の前記キャリア金属箔側を貼着することと、
前記保護フィルムを剥離することと、
前記保護フィルムの剥離により露出した前記金属膜面に導体層のパターンを形成することとを有している。 A method of manufacturing a printed wiring board,
Preparing a support plate;
Preparing a metal film with a carrier metal foil having a protective film attached to a second surface opposite to the first surface of the metal film having a carrier metal foil bonded to the first surface;
Affixing the carrier metal foil side of the metal film with the carrier metal foil to the support plate;
Peeling the protective film;
Forming a pattern of a conductor layer on the surface of the metal film exposed by peeling off the protective film.
前記導体層のパターンを形成した後に、前記導体層のパターン上に導体ポストを形成することと、
前記導体層の露出面および前記導体ポストの周囲を被覆する樹脂絶縁層を形成することと、
前記支持板に接着された金属箔と前記金属膜とを分離することと、
前記金属膜を除去することと、
をさらに有している。 It is a manufacturing method of the printed wiring board according to claim 1,
After forming the pattern of the conductor layer, forming a conductor post on the pattern of the conductor layer;
Forming a resin insulating layer covering the exposed surface of the conductor layer and the periphery of the conductor post;
Separating the metal foil and the metal film adhered to the support plate;
Removing the metal film;
It has further.
前記金属膜および前記導体層上に、所定の箇所に開口部を有するめっきレジスト膜を形成し、該めっきレジスト膜の前記開口部内に電気めっきにより銅めっき層が形成されることにより前記導体ポストを形成する。 It is a manufacturing method of the printed wiring board according to claim 2 or 3,
A plating resist film having an opening at a predetermined position is formed on the metal film and the conductor layer, and a copper plating layer is formed by electroplating in the opening of the plating resist film, thereby forming the conductor post. Form.
金属膜と、
前記金属膜の第1面に貼り付けられるキャリア金属箔と、
前記金属膜の前記第1面と反対面の第2面に付着される保護フィルム
とを有している。 A metal film with a carrier metal foil attached to the surface of a support plate used to produce a printed wiring board,
A metal film,
A carrier metal foil attached to the first surface of the metal film;
A protective film attached to the second surface opposite to the first surface of the metal film.
前記キャリア金属箔と前記保護フィルムとの付着力は、前記金属膜と前記キャリア金属箔との接着力より弱い。 A metal film with a carrier metal foil according to claim 9,
The adhesive force between the carrier metal foil and the protective film is weaker than the adhesive force between the metal film and the carrier metal foil.
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JP2014247103A JP2016111189A (en) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | Method of manufacturing printed wiring board and metal film with metal foil for use therein |
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