JP2016108774A - ガスハイドレート回収システムおよびその回収方法 - Google Patents
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Abstract
Description
は、水深が深くなるほど必要となるエネルギー量が著しく増大する。
ているので、ライザー管内のおける原料ガスの溶解度の低下に応じて、原料ガス濃度が低い水をライザー管内に供給できる。これによりに、塊状のガスハイドレートの融解を抑制しつつ、再ハイドレート化によるライザー管の閉塞を回避することができる。
ガス等を原料ガスということがある。
てガスハイドレートmを破砕して水底2から分離させ、塊状のガスハイドレートmをカバーにより捕集する構成にすることもできる。
2 水底
3 掘削手段
4 ライザー管
5 収集船
6 支援船
7 搬送ホース
8 水供給手段
9 貫通孔
10 ホース
11 ウェイト
12 水中重機
13 ビット
14 カバー
15 ポンプ
16 補助ポンプ
17 フロート
18 T型パイプ
19 共通管
m ガスハイドレート
g 原料ガス
w 原料ガス濃度が低い水
Claims (9)
- 水底を掘削して塊状のガスハイドレートを捕集する掘削手段と、捕集された前記塊状のガスハイドレートを水上に搬送するライザー管とを備え、前記ガスハイドレートを構成する原料ガスが溶解した水とともに前記塊状のガスハイドレートを回収するガスハイドレート回収システムにおいて、前記掘削手段から前記ライザー管の水上側端部に至るガスハイドレートの搬送経路の途中に、この搬送経路を通過する水の原料ガス濃度よりも原料ガス濃度が低い水を前記搬送経路内に供給する水供給手段を複数備えることを特徴とするガスハイドレート回収システム。
- 前記水供給手段が、前記ライザー管の水底側から水上側に向かう軸方向に沿って間隔をあけて複数設置される請求項1に記載のガスハイドレート回収システム。
- 前記掘削手段が、水底を掘削するビットと、このビットの周囲に配置され水底から分離したガスハイドレートを捕集するカバーとを備え、前記水供給手段が、前記カバー内の水の原料ガス濃度よりも原料ガス濃度が低い水を前記ビットの近傍に供給する請求項1または2に記載のガスハイドレート回収システム。
- 前記水供給手段が、前記搬送経路の内側と外側とを連通する貫通孔で構成される請求項1〜3のいずれかに記載のガスハイドレート回収システム。
- 前記水供給手段が、前記貫通孔と、この貫通孔に連通する状態で一端が連結されるホースとで構成され、このホースの他端が前記原料ガス濃度の低い水が存在する領域に配置される請求項4に記載のガスハイドレート回収システム。
- 水底を掘削して塊状のガスハイドレートを捕集して、前記ガスハイドレートを構成する原料ガスが溶解した水とともに前記塊状のガスハイドレートを水上に搬送する搬送経路の途中の複数地点で、この搬送経路を通過する水の原料ガス濃度と比べて原料ガス濃度が低い水を前記搬送経路内に供給することを特徴とするガスハイドレート回収方法。
- 前記搬送経路の一部が、水底側から水上側に向かう軸方向に延びるライザー管で構成され、このライザー管の軸方向に沿って間隔をあけた複数の地点から前記原料ガス濃度が低い水を供給する請求項6に記載のガスハイドレート回収方法。
- ビットおよびカバーを有する掘削手段を用いて前記塊状のガスハイドレートを掘削、捕集するとともに、前記ビットにより水底を掘削して、このビットの周囲に配置されるカバーにより前記塊状のガスハイドレートを捕集し、前記ビットの近傍に前記原料ガス濃度が低い水を供給する請求項6または7に記載のガスハイドレート回収方法。
- 前記原料ガス濃度が低い水を、連続的または間欠的に供給する請求項6〜8のいずれかに記載のガスハイドレート回収方法。
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- 2014-12-03 JP JP2014245192A patent/JP2016108774A/ja active Pending
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