JP2016094512A - Method of producing near-infrared absorber fluid dispersion and near-infrared absorber fluid dispersion, and use thereof - Google Patents

Method of producing near-infrared absorber fluid dispersion and near-infrared absorber fluid dispersion, and use thereof Download PDF

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巨樹 岩間
Masaki Iwama
巨樹 岩間
町田 克一
Katsuichi Machida
克一 町田
岳志 島
Takeshi Shima
岳志 島
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a near-infrared absorber fluid dispersion capable of providing a resin composition excellent in light resistance, and a method of producing the fluid dispersion.SOLUTION: The method of producing the near-infrared absorber fluid dispersion has a step A of reacting at least one of copper organic acid salt and hydrate of the copper organic acid salt with a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) [in the formula, Rrepresents a monovalent group represented by -CHCH-R, Rrepresents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms], in a solvent to obtain a reaction mixture containing a near-infrared absorber, a step B of removing at least a part of a liquid component in the reaction mixture, a step C of obtaining the near-infrared absorber fluid dispersion from a reaction mixture obtained by removing at least a part of liquid component obtained in the step B and a dispersant and a step D of removing at least a part of organic acid from a near-infrared absorber in the near-infrared absorber fluid dispersion and the resulting fluid dispersion contains a refined near-infrared absorber.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は近赤外線吸収剤分散液の製造方法および近赤外線吸収剤分散液並びにその用途に関する。   The present invention relates to a method for producing a near-infrared absorbent dispersion, a near-infrared absorbent dispersion, and uses thereof.

銅イオンは、近赤外領域の光(以下、「近赤外線」ともいう)の吸収特性に優れており、銅イオンが有する近赤外線の吸収特性を利用した近赤外線吸収剤が従来から提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Copper ions are excellent in absorption characteristics of light in the near-infrared region (hereinafter also referred to as “near-infrared rays”), and near-infrared absorbers utilizing the absorption characteristics of near-infrared light possessed by copper ions have been proposed. (For example, refer to Patent Document 1).

また、特許文献1には、特定のホスホン酸化合物と、特定のリン酸エステル化合物と、銅塩とを反応させて近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得た後に、特定の方法により精製することにより得られる精製された近赤外線吸収剤を含有する近赤外線吸収剤分散液の製造方法が開示されている。特許文献1には、該製造方法で得られる近赤外線吸収剤分散液は、近赤外線吸収剤の分散性に優れていること、該分散液から作製された樹脂組成物は、耐熱性に優れることが開示されている。   In Patent Document 1, a specific phosphonic acid compound, a specific phosphate ester compound, and a copper salt are reacted to obtain a reaction mixture containing a near-infrared absorber, and then purified by a specific method. Discloses a method for producing a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent obtained by the method described above. In Patent Document 1, the near-infrared absorbent dispersion obtained by the production method is excellent in dispersibility of the near-infrared absorbent, and the resin composition prepared from the dispersion is excellent in heat resistance. Is disclosed.

近赤外線吸収剤を製造する際の原料や、精製方法により近赤外線吸収剤の物性を向上させることは従来から検討されてきたが、各種用途により好適に用いるために、近赤外線吸収剤の物性をより向上させることが望まれていた。   Although it has been studied in the past to improve the properties of near-infrared absorbers by the raw materials used in the production of near-infrared absorbers and purification methods, the properties of near-infrared absorbers have been improved in order to be used more appropriately for various applications. It was desired to improve it further.

国際公開第2014/038035号International Publication No. 2014/038035

本発明は上記従来技術を鑑みてされたものであり、耐光性に優れる樹脂組成物を得ることが可能な近赤外線吸収剤分散液、該分散液の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above prior art, and an object thereof is to provide a near-infrared absorbent dispersion capable of obtaining a resin composition excellent in light resistance and a method for producing the dispersion.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の方法で得られた近赤外線吸収剤分散液を用いて得られた樹脂組成物は、耐光性に優れることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the resin composition obtained using the near-infrared absorbent dispersion obtained by a specific method is excellent in light resistance. The headline and the present invention were completed.

すなわち、本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、下記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させ、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得る工程A、
前記反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程B、
前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程C、および、
前記近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去する工程Dを有する、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液の製造方法である。
That is, the method for producing a near-infrared absorber dispersion of the present invention comprises at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate and a phosphonic acid compound represented by the following general formula (1) as a solvent. In step A to obtain a reaction mixture containing a near infrared absorber,
Removing at least a portion of the liquid components in the reaction mixture, B
Step C for obtaining a near-infrared absorbent dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in Step B has been removed, and a dispersion medium, and
It is a manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion containing the refine | purified near-infrared absorber which has the process D which removes at least one part of an organic acid from the near-infrared absorber in the said near-infrared absorber dispersion.

Figure 2016094512
[一般式(1)中、R1は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 2016094512
[In General Formula (1), R 1 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]

前記工程Dが、下記(1)〜(9)から選択される少なくとも1種の工程であることが好ましい。
(1)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(2)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(3)近赤外線吸収剤分散液を、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(4)近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上超音波照射を行い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(5)近赤外線吸収剤分散液に前記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(6)近赤外線吸収剤分散液を、0〜40℃で20〜200日保持し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(7)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(8)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(9)前記工程Cにおいて分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
前記工程Aにおける反応が分散剤存在下で行われることが好ましい。
The step D is preferably at least one step selected from the following (1) to (9).
(1) Step of adding a near-infrared absorbent dispersion to obtain a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent (2) Adding an alcohol to the near-infrared absorbent dispersion and a temperature of 40 to 150 The process of obtaining the near-infrared absorber dispersion containing the refined near-infrared absorber by heating at 0 ° C. (3) The near-infrared absorber purified by heating the near-infrared absorber dispersion at a temperature of 40 to 150 ° C. (4) A step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by irradiating the near-infrared absorbent dispersion with ultrasonic waves for 4 hours or more (4) 5) Step of adding a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) to the near-infrared absorber dispersion to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber (6) Near-infrared absorption The agent dispersion is 20 at 0-40 ° C. Step of obtaining a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber for 200 days (7) A near-infrared ray containing a purified near-infrared absorber by adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion Step of obtaining an absorbent dispersion (8) Step of adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion and heating at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber. (9) A step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorber using alcohol as at least a part of the dispersion medium in the step C. The reaction in the step A is performed in the presence of a dispersant. Is preferred.

前記工程Aで用いられる分散剤が、下記一般式(2)で表されるリン酸モノエステルおよび下記一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物であることが好ましい。   The dispersant used in Step A is at least selected from a phosphoric acid monoester represented by the following general formula (2), a phosphoric acid diester represented by the following general formula (3), and alkali metal salts thereof. It is preferable that it is one type of phosphate ester compound.

Figure 2016094512
[一般式(2)および(3)中、R2、R3およびR4は、−(CH2CH2O)n12で表される1価の基であり、nは2〜65の整数であり、R12は、炭素数6〜35のアルキル基または炭素数6〜35のアルキルフェニル基を示す。ただし、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2016094512
[In General Formulas (2) and (3), R 2 , R 3 and R 4 are monovalent groups represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 12 , and n is from 2 to 65. It is an integer and R 12 represents an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 35 carbon atoms. However, R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different. ]

本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法では、さらに、工程Dで得られた近赤外線吸収剤分散液中の、分散媒および有機酸の一部を除去する工程Eを有していてもよい。
本発明の近赤外線吸収剤分散液は、前記製造方法で得られる。
本発明の近赤外線吸収剤は、前記近赤外線吸収剤分散液から得られる。
本発明の樹脂組成物は、前記近赤外線吸収剤と樹脂とを含む。
本発明の合わせガラス用中間膜は、前記樹脂組成物から形成される。
本発明の合わせガラスは、前記合わせガラス用中間膜を有する。
The method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention may further include a step E of removing a part of the dispersion medium and the organic acid in the near-infrared absorbent dispersion obtained in the step D. Good.
The near-infrared absorber dispersion liquid of the present invention is obtained by the above production method.
The near-infrared absorber of the present invention is obtained from the near-infrared absorber dispersion.
The resin composition of this invention contains the said near-infrared absorber and resin.
The interlayer film for laminated glass of the present invention is formed from the resin composition.
The laminated glass of the present invention has the interlayer film for laminated glass.

本発明の製造方法により得られる精製された近赤外線吸収剤分散液を用いることにより、耐光性に優れる樹脂組成物を得ることが可能である。   By using the purified near-infrared absorbent dispersion obtained by the production method of the present invention, it is possible to obtain a resin composition having excellent light resistance.

次に本発明について具体的に説明する。
[近赤外線吸収剤分散液の製造方法]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、下記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させ、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得る工程A、前記反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程B、前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程C、および、前記近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去する工程Dを有する。本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法では、工程Dを有するため、従来の近赤外線吸収剤分散液の製造方法と比べて、近赤外線吸収剤自体が含有する有機酸の含量を低減することが可能である。すなわち、本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法で得られる分散液は、精製された近赤外線吸収剤を含む。
Next, the present invention will be specifically described.
[Method for producing near-infrared absorbent dispersion]
The method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention comprises at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate and a phosphonic acid compound represented by the following general formula (1) in a solvent. Step A for obtaining a reaction mixture containing a near-infrared absorber, Step B for removing at least part of the liquid component in the reaction mixture, and at least part of the liquid component obtained in Step B were removed. It has the process C which obtains a near-infrared absorber dispersion liquid from a reaction mixture and a dispersion medium, and the process D which removes at least one part of an organic acid from the near-infrared absorber in the said near-infrared absorber dispersion liquid. In the manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of the present invention, since the process D is included, the content of the organic acid contained in the near-infrared absorber itself is reduced as compared with the conventional manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid. It is possible. That is, the dispersion obtained by the method for producing a near-infrared absorber dispersion of the present invention contains a purified near-infrared absorber.

Figure 2016094512
[一般式(1)中、R1は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 2016094512
[In General Formula (1), R 1 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]

本発明者らは、従来の有機酸銅塩あるいはその水和物と、ホスホン酸化合物とを反応させて近赤外線吸収剤を得る方法では、近赤外線吸収剤中に、有機酸銅塩あるいはその水和物に由来する有機酸が残存すること、該有機酸は、近赤外線吸収剤中に配位結合等によって結合した状態で存在していると考えられ、近赤外線吸収剤を単に真空乾燥する等の方法では除去することが困難なこと、該有機酸が近赤外線吸収剤を含む樹脂組成物に、光を照射した際等に起こる黒化の原因であることを見出した。本発明の製造方法では、近赤外線吸収剤中に存在する有機酸を低減することが可能であり、本発明の近赤外線吸収剤を含む樹脂組成物は、黒化が抑制されており耐光性に優れる。   In the method of obtaining a near-infrared absorber by reacting a conventional organic acid copper salt or a hydrate thereof with a phosphonic acid compound, the present inventors include an organic acid copper salt or water thereof in the near-infrared absorber. It is considered that the organic acid derived from the Japanese product remains, the organic acid is present in a state bonded by a coordination bond or the like in the near-infrared absorber, and the near-infrared absorber is simply vacuum-dried, etc. It was found that this method is difficult to remove, and that the organic acid is a cause of blackening that occurs when a resin composition containing a near infrared absorber is irradiated with light. In the production method of the present invention, it is possible to reduce the organic acid present in the near-infrared absorber, and the resin composition containing the near-infrared absorber of the present invention is suppressed from blackening and has light resistance. Excellent.

[工程A]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させ、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得る工程Aを有する。
[Step A]
The method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention comprises reacting at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate with a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) in a solvent. Step A to obtain a reaction mixture containing a near-infrared absorber.

工程Aでは、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させることにより、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得るが、さらに他の原料を用いて反応を行ってもよい。他の原料としては、例えば分散剤を用いることができる。   In step A, a near-infrared absorber is contained by reacting at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate with a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) in a solvent. Although a reaction mixture is obtained, the reaction may be performed using other raw materials. As another raw material, for example, a dispersant can be used.

前記分散剤としては、リン酸系分散剤、スルホン酸系分散剤などの陰イオン性分散剤が挙げられ、リン酸系分散剤が好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸エステル系分散剤が好ましい。前記リン酸エステル系分散剤としては、下記一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、下記一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物が好ましい。   Examples of the dispersing agent include anionic dispersing agents such as a phosphoric acid dispersing agent and a sulfonic acid dispersing agent, and a phosphoric acid dispersing agent is preferable. As the phosphate dispersant, a phosphate ester dispersant is preferable. The phosphate ester dispersant is at least selected from a phosphoric acid monoester represented by the following general formula (2), a phosphoric acid diester represented by the following general formula (3), and alkali metal salts thereof. One type of phosphate compound is preferred.

Figure 2016094512
[一般式(2)および(3)中、R2、R3およびR4は、−(CH2CH2O)n12で表される1価の基であり、nは2〜65の整数であり、R12は、炭素数6〜35のアルキル基または炭素数6〜35のアルキルフェニル基を示す。ただし、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
なお、本発明において、「一般式(1)で表されるホスホン酸化合物」を、「特定のホスホン酸化合物」とも記す。
Figure 2016094512
[In General Formulas (2) and (3), R 2 , R 3 and R 4 are monovalent groups represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 12 , and n is from 2 to 65. It is an integer and R 12 represents an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 35 carbon atoms. However, R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different. ]
In the present invention, the “phosphonic acid compound represented by the general formula (1)” is also referred to as “specific phosphonic acid compound”.

工程Aで得られる反応今後物中に含まれる近赤外線吸収剤は、主として前記特定のホスホン酸化合物と、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方とが反応することにより得られるホスホン酸銅塩が有する銅イオンによって、近赤外線吸収特性を有すると考えられる。なお、該ホスホン酸銅塩は、下記一般式(4)で表わされる。   The near-infrared absorber contained in the reaction product obtained in step A is obtained mainly by the reaction between the specific phosphonic acid compound and at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate. It is thought that it has a near-infrared absorption characteristic with the copper ion which the phosphonic acid copper salt which is obtained. The copper phosphonate is represented by the following general formula (4).

工程Aで得られる近赤外線吸収剤は、下記一般式(4)で表わされる構造を有しており、他の原料を用いた場合には、該原料に由来する構造も有している。
例えば、分散剤を用いた場合には、近赤外線吸収剤は、銅イオンに対して主として前記特定のホスホン酸化合物が配位し、さらにその周りに分散剤が存在すると考えられる。また、分散剤として、リン酸エステル系分散剤を用いた場合には、銅イオンの一部には、前記リン酸エステル系分散剤が配位していると考えられる。
The near-infrared absorber obtained in the step A has a structure represented by the following general formula (4), and when other raw materials are used, it also has a structure derived from the raw materials.
For example, when a dispersant is used, the near-infrared absorber is considered that the specific phosphonic acid compound is mainly coordinated with copper ions, and further a dispersant is present therearound. Moreover, when the phosphate ester type | system | group dispersing agent is used as a dispersing agent, it is thought that the said phosphate ester type | system | group dispersing agent coordinates to some copper ions.

このため、近赤外線吸収剤中の銅イオンは、熱等に対する安定性に優れ、例えば該近赤外線吸収剤を、樹脂と共に用いた場合、近赤外線吸収剤と樹脂とを含む樹脂組成物は、熱成形を行った場合でも樹脂が銅イオンの影響を受けず、着色が少なく透明性に優れる。   For this reason, the copper ion in the near-infrared absorber is excellent in stability to heat or the like. For example, when the near-infrared absorber is used together with a resin, the resin composition containing the near-infrared absorber and the resin Even when the molding is performed, the resin is not affected by copper ions, and is less colored and excellent in transparency.

Figure 2016094512
[一般式(4)中、R1は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 2016094512
[In General Formula (4), R 1 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]

前記一般式(1)および(4)におけるR11としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロ−n−ブチル基、パーフルオロへキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基等が挙げられる。 R 11 in the general formulas (1) and (4) is hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl. Group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoro-n-butyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl Group, perfluorodecyl group and the like.

また、工程Aにより近赤外線吸収剤を含む反応混合物を製造する際には、前記一般式(1)および(4)における前記R11が炭素数の大きな基、分子鎖の長い基であると、分散性が低下する傾向があるため、R11としては、水素原子または炭素数が1〜12のアルキル基であることが好ましく、炭素数が2〜10のアルキル基であることがより好ましい。 Further, when producing a reaction mixture containing a near-infrared absorber in step A, the R 11 in the general formulas (1) and (4) is a group having a large number of carbon atoms or a group having a long molecular chain. Since dispersibility tends to decrease, R 11 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms.

本発明に用いられることが可能なリン酸エステル系分散剤としては、分散剤として用いられるリン酸エステル化合物であればよく、特に限定はないが、好ましくは下記一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、下記一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物が用いられる。   The phosphate ester-based dispersant that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a phosphate ester compound used as a dispersant, and is preferably represented by the following general formula (2). At least one phosphoric acid ester compound selected from phosphoric acid monoesters, phosphoric acid diesters represented by the following general formula (3), and alkali metal salts thereof is used.

Figure 2016094512
[一般式(2)および(3)中、R2、R3およびR4は、−(CH2CH2O)n12で表される1価の基であり、nは2〜65の整数であり、R12は、炭素数6〜35のアルキル基または炭素数6〜35のアルキルフェニル基を示す。ただし、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2016094512
[In General Formulas (2) and (3), R 2 , R 3 and R 4 are monovalent groups represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 12 , and n is from 2 to 65. It is an integer and R 12 represents an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 35 carbon atoms. However, R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different. ]

なお、本発明において、「一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物」を、「特定のリン酸エステル化合物」とも記す。   In the present invention, “at least one phosphoric acid selected from a phosphoric acid monoester represented by the general formula (2), a phosphoric acid diester represented by the general formula (3), and an alkali metal salt thereof” “Ester compound” is also referred to as “specific phosphate ester compound”.

前記一般式(2)および(3)において、R2、R3およびR4は、−(CH2CH2O)n12で表される1価の基(ポリオキシアルキル基)である。nは2〜65の整数であり、好ましくは4〜65の整数であり、より好ましくは4〜45であり、特に好ましくは6〜45の整数である。nが2未満である場合には、近赤外線吸収剤を樹脂と共に用いて、成形体を製造した際に、該成形体の透明性が不充分となる場合がある。また、nが65を超えると、充分な透明性を有する成形体を得るために必要な、リン酸エステル化合物の量が増え、コスト高の原因となる。 In the general formulas (2) and (3), R 2 , R 3 and R 4 are monovalent groups (polyoxyalkyl groups) represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 12 . n is an integer of 2 to 65, preferably an integer of 4 to 65, more preferably 4 to 45, and particularly preferably an integer of 6 to 45. When n is less than 2, when a molded product is produced using a near-infrared absorber together with a resin, the molded product may have insufficient transparency. On the other hand, if n exceeds 65, the amount of the phosphoric acid ester compound necessary for obtaining a molded article having sufficient transparency increases, resulting in high costs.

また、R12は、炭素数6〜35のアルキル基または炭素数6〜35のアルキルフェニル基であり、炭素数6〜35のアルキル基であることが好ましく、炭素数6〜25のアルキル基であることがより好ましく、8〜20のアルキル基であることが特に好ましく、12〜20のアルキル基であることが最も好ましい。R12が、炭素数6未満の基であると、成形体の透明性が不充分となる場合がある。また、R12が、炭素数35を超える基であると、充分な透明性を有する成形体を得るために必要な、リン酸エステル化合物の量が増え、コスト高の原因となる。 R 12 is an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 35 carbon atoms, preferably an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms, and an alkyl group having 6 to 25 carbon atoms. More preferably, it is particularly preferably an 8-20 alkyl group, and most preferably 12-20 alkyl group. If R 12 is a group having less than 6 carbon atoms, the transparency of the molded product may be insufficient. Further, if R 12 is a group having more than 35 carbon atoms, the amount of a phosphoric acid ester compound necessary for obtaining a molded article having sufficient transparency increases, resulting in high costs.

工程Aにおいて近赤外線吸収剤を得る際に、一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物を用いる場合には、一般式(2)で表されるリン酸モノエステルのみを用いても、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルのみを用いても、一般式(2)で表されるリン酸モノエステルのアルカリ金属塩のみを用いても、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルのアルカリ金属塩のみを用いてもよいが、一般式(2)で表されるリン酸モノエステルと、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルとを併用するか、一般式(2)で表されるリン酸モノエステルのアルカリ金属塩と、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルのアルカリ金属塩のアルカリ金属塩とを併用することが好ましい。   When obtaining the near-infrared absorber in step A, at least selected from the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2), the phosphoric acid diester represented by the general formula (3), and alkali metal salts thereof. When using one kind of phosphoric acid ester compound, either using only the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) or using only the phosphoric acid diester represented by the general formula (3), Only the alkali metal salt of the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) may be used, or only the alkali metal salt of the phosphoric acid diester represented by the general formula (3) may be used. 2) The phosphoric acid monoester represented by formula (3) and the phosphoric acid diester represented by formula (3) are used together, or the alkali metal salt of the phosphoric acid monoester represented by formula (2), Phosphoric acid die represented by the formula (3) It is preferable to use an alkali metal salt of an alkali metal salt of ether.

前記一般式(2)で表されるリン酸モノエステルと、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルとを用いる、あるいは一般式(2)で表されるリン酸モノエステルのアルカリ金属塩と、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルのアルカリ金属塩のアルカリ金属塩とを用いると、成形体の透明性、耐熱性に優れる傾向があり好ましい。これらの場合には一般式(2)で表されるリン酸モノエステルと、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルとの割合は、特に限定されないが、通常はモル比((2):(3))で10:90〜90:10である。   The phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) and the phosphoric acid diester represented by the general formula (3), or the alkali metal salt of the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) And the alkali metal salt of the alkali metal salt of the phosphoric acid diester represented by the general formula (3) is preferred because the molded article tends to be excellent in transparency and heat resistance. In these cases, the ratio of the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) and the phosphoric acid diester represented by the general formula (3) is not particularly limited, but usually a molar ratio ((2) : (3)) is 10:90 to 90:10.

また、前記一般式(2)で表されるリン酸モノエステルとしては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよく、前記一般式(3)で表されるリン酸ジエステルとしては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよい。   Moreover, as a phosphoric acid monoester represented by the said General formula (2), it may be used individually by 1 type, or 2 or more types may be used, As phosphoric acid diester represented by the said General formula (3), These may be used alone or in combination of two or more.

また、前記アルカリ金属塩を用いる場合には、前記一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、一般式(3)で表されるリン酸ジエステルを、アルカリ金属化合物で中和することにより得ることが可能である。   When the alkali metal salt is used, the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2) and the phosphoric acid diester represented by the general formula (3) are neutralized with an alkali metal compound. It is possible to obtain.

前記アルカリ金属化合物としては、アルカリ金属の酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、水素化物や、炭酸水素塩、炭酸塩、硝酸塩、硫酸水素塩、硫酸塩、ギ酸塩、酢酸塩などの有機酸塩等が挙げられ、アルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩、炭酸塩が好ましい。   Examples of the alkali metal compounds include alkali metal oxides, hydroxides, halides, hydrides, and organic acid salts such as hydrogen carbonate, carbonate, nitrate, hydrogen sulfate, sulfate, formate, and acetate. And alkali metal hydroxides, bicarbonates and carbonates are preferred.

また、アルカリ金属化合物を構成する金属種としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウムが挙げられるが、ナトリウム、カリウム、セシウムが好ましく、ナトリウムがより好ましい。すなわち、前記アルカリ金属化合物としてはナトリウム塩、カリウム塩、およびセシウム塩から選択される少なくとも1種の塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。   Examples of the metal species constituting the alkali metal compound include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, and francium. Sodium, potassium, and cesium are preferable, and sodium is more preferable. That is, the alkali metal compound is preferably at least one salt selected from a sodium salt, a potassium salt, and a cesium salt, and more preferably a sodium salt.

なお、アルカリ金属化合物としては一種を用いても、二種以上を用いてもよい。
また、分散剤としては、他のリン酸エステルを用いることも可能である。他のリン酸エステルとしては、例えばリン酸トリエステルが挙げられ、該リン酸トリエステルは、単独で用いても、前記特定のリン酸エステル化合物と共に用いてもよい。
In addition, as an alkali metal compound, 1 type may be used or 2 or more types may be used.
Further, as the dispersant, other phosphate esters can be used. Examples of other phosphate esters include phosphate triesters, and these phosphate triesters may be used alone or together with the specific phosphate ester compound.

前記下記一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、下記一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物としては、市販されているリン酸エステル化合物を用いることもできる。   As the phosphoric acid monoester represented by the following general formula (2), the phosphoric acid diester represented by the following general formula (3), and at least one phosphoric acid ester compound selected from these alkali metal salts: Commercially available phosphate ester compounds can also be used.

前記有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方としては、2価の銅イオンを供給することが可能な有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方が通常用いられる。前記有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物としては例えば、酢酸銅無水物、蟻酸銅無水物、ステアリン酸銅無水物、安息香酸銅無水物、エチルアセト酢酸銅無水物、ピロリン酸銅無水物、ナフテン酸銅無水物、クエン酸銅無水物等の有機酸銅塩、該有機酸銅塩の水和物が挙げられる。なお、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方としては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよい。   As at least one of the organic acid copper salt and organic acid copper salt hydrate, at least one of organic acid copper salt and organic acid copper salt hydrate capable of supplying divalent copper ions is usually used. Used. Examples of the hydrates of the organic acid copper salt and the organic acid copper salt include, for example, copper acetate anhydride, copper formate anhydride, copper stearate anhydride, copper benzoate anhydride, copper ethyl acetoacetate anhydride, copper pyrophosphate anhydride Products, organic acid copper salts such as copper naphthenate anhydride and copper citrate anhydride, and hydrates of the organic acid copper salts. In addition, as at least one of the organic acid copper salt and the hydrate of the organic acid copper salt, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used.

有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方としては、酢酸銅無水物、酢酸銅1水和物が、溶解性や副生成物の除去の点から好ましく用いられる。なお、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方として、酢酸銅無水物、酢酸銅1水和物を用いた場合には、工程Aで得られる近赤外線吸収剤中には、有機酸である酢酸が配位結合等によって結合した状態で存在すると考えられる。   As at least one of the organic acid copper salt and the organic acid copper salt hydrate, copper acetate anhydride and copper acetate monohydrate are preferably used in terms of solubility and removal of by-products. In addition, when copper acetate anhydride and copper acetate monohydrate are used as at least one of organic acid copper salt and organic acid copper salt hydrate, the near-infrared absorber obtained in step A contains It is considered that acetic acid, which is an organic acid, exists in a state of being bound by a coordination bond or the like.

また、工程Aで用いる前記各成分の量は以下のとおりである。
前記特定のホスホン酸化合物は、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物中の銅1モルあたり、0.4モル以上であることが好ましく、0.5〜1.5モルであることがより好ましく、0.7〜1.2モルであることが特に好ましい。前記範囲内では、成形体の透明性、耐熱性が特に優れるため好ましい。
Moreover, the quantity of each said component used at the process A is as follows.
The specific phosphonic acid compound is preferably 0.4 mol or more and 0.5 to 1.5 mol per 1 mol of copper in the organic acid copper salt and the hydrate of the organic acid copper salt. Is more preferable, and 0.7 to 1.2 mol is particularly preferable. Within the said range, since the transparency and heat resistance of a molded object are especially excellent, it is preferable.

また、分散剤として、特定のリン酸エステル化合物を用いる場合には、前記特定のホスホン酸化合物を、前記リン酸エステル化合物1モルあたり、5モル以上用いることが好ましく、8〜100モル用いることがより好ましく、10〜80モル用いることが特に好ましい。   Moreover, when using a specific phosphoric acid ester compound as a dispersing agent, it is preferable to use the said specific phosphonic acid compound 5 mol or more with respect to 1 mol of said phosphoric acid ester compounds, and using 8-100 mol. It is more preferable to use 10 to 80 mol.

反応に用いる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、およびテトラヒドロフラン(THF)から選択される少なくとも1種の有機溶媒を含むことが好ましい。また、反応性の観点からメタノール、エタノール、THF、およびDMFから選択される少なくとも1種の有機溶媒を含むことが好ましく、メタノール、およびエタノールから選択される少なくとも1種の有機溶媒を含むことがより好ましい。前記有機溶媒としては、これらの有機溶媒のみでもよく、それ以外の有機溶媒を含んでいてもよい。   The solvent used for the reaction preferably includes at least one organic solvent selected from methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, N, N-dimethylformamide (DMF), and tetrahydrofuran (THF). Further, from the viewpoint of reactivity, it preferably contains at least one organic solvent selected from methanol, ethanol, THF, and DMF, and more preferably contains at least one organic solvent selected from methanol and ethanol. preferable. As said organic solvent, only these organic solvents may be contained and the other organic solvent may be included.

反応に用いる溶媒の量は、銅塩(有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方)100質量部に対して、通常は500〜20000質量部であり、好ましくは1000〜15000質量部である。   The amount of the solvent used for the reaction is usually 500 to 20000 parts by mass, preferably 1000 to 15000 parts per 100 parts by mass of the copper salt (at least one of organic acid copper salt and organic acid copper salt hydrate). Part by mass.

前記有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、DMF、およびTHFから選択される少なくとも1種の有機溶媒(好ましくは、メタノール、エタノール、THF、およびDMFから選択される少なくとも1種の有機溶媒、より好ましくはメタノール、およびエタノールから選択される少なくとも1種の有機溶媒)100質量部に対して、それ以外の有機溶媒が、通常は0〜50質量部、好ましくは0〜30質量部含まれていてもよい。有機溶媒として、二種以上の有機溶媒を用いる場合に、その具体例としては、エタノールと、少量のその他の有機溶媒とを含む、変性エタノールが挙げられる。変性エタノールは、エタノール100質量部に対してその他の有機溶媒を、通常は3〜50質量部、好ましくは3〜30質量部含んでいる。変性エタノールとしては、メタノール変性エタノール、イソプロピルアルコール変性エタノール、トルエン変性エタノールが挙げられる。   The organic solvent is at least one organic solvent selected from methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, DMF, and THF (preferably at least one selected from methanol, ethanol, THF, and DMF). The organic solvent is usually 0 to 50 parts by mass, preferably 0 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organic solvent, more preferably at least one organic solvent selected from methanol and ethanol. May be included. When two or more organic solvents are used as the organic solvent, specific examples thereof include denatured ethanol containing ethanol and a small amount of other organic solvents. The denatured ethanol usually contains 3 to 50 parts by mass, preferably 3 to 30 parts by mass of other organic solvents with respect to 100 parts by mass of ethanol. Examples of the modified ethanol include methanol-modified ethanol, isopropyl alcohol-modified ethanol, and toluene-modified ethanol.

また、工程Aは、通常は0〜80℃、好ましくは10〜60℃、より好ましくは室温〜60℃、特に好ましくは20〜40℃の温度条件で、通常は0.5〜60時間、好ましくは0.5〜30時間、より好ましくは0.5〜20時間、特に好ましくは1〜15時間行われる。   Step A is usually 0 to 80 ° C., preferably 10 to 60 ° C., more preferably room temperature to 60 ° C., particularly preferably 20 to 40 ° C., usually 0.5 to 60 hours, preferably Is carried out for 0.5 to 30 hours, more preferably 0.5 to 20 hours, particularly preferably 1 to 15 hours.

該工程Aによって、近赤外線吸収剤を含む反応混合物が得られる。反応混合物には、近赤外線吸収剤以外に、溶媒、用いる原料に依存する有機酸等の副生成物、未反応の原料等が含まれ得る。   By the step A, a reaction mixture containing a near infrared absorber is obtained. In addition to the near-infrared absorber, the reaction mixture may contain a solvent, a by-product such as an organic acid depending on the raw material used, an unreacted raw material, and the like.

[工程B]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、工程Aで得られた前記反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程Bを有する。
[Step B]
The manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of this invention has the process B which removes at least one part of the liquid component in the said reaction mixture obtained at the process A. FIG.

工程Aで得られた反応混合物の液体成分の少なくとも一部を除去する方法としては、例えば反応混合物中の固形分を沈降させ、液体成分を上澄み液として除去する方法、反応混合物を蒸留することにより液体成分を留分として除去する方法が挙げられる。   As a method for removing at least a part of the liquid component of the reaction mixture obtained in step A, for example, a method in which the solid content in the reaction mixture is settled and the liquid component is removed as a supernatant, or the reaction mixture is distilled. The method of removing a liquid component as a fraction is mentioned.

固形分を沈降させる方法としては、例えば反応混合物を静置することにより固形分を沈降させる方法や、反応混合物を遠心分離し、固形分を沈降させる方法が挙げられる。
なお、固形分を沈降させる際には、遠心分離を行うことが沈降に必要な時間を短くする観点から好ましい。また、固形分の粒径が小さいほど、沈降に必要な時間が長くなる。固形分を凝集させ、沈降に必要な時間を早める目的で、アセトン、エタノール、水等を、反応混合物に添加してもよい。アセトン、エタノール、水等を、反応混合物に添加する場合には、固形分100質量部あたり、10〜20000質量部添加することが好ましく、20〜15000質量部添加することがより好ましい。
Examples of the method for precipitating the solid content include a method for precipitating the solid content by allowing the reaction mixture to stand, and a method for precipitating the solid content by centrifuging the reaction mixture.
In addition, when solid content is settled, it is preferable to perform centrifugation from the viewpoint of shortening the time required for sedimentation. Further, the smaller the particle size of the solid content, the longer the time required for sedimentation. Acetone, ethanol, water or the like may be added to the reaction mixture for the purpose of aggregating the solid content and increasing the time required for sedimentation. When adding acetone, ethanol, water, etc. to a reaction mixture, it is preferable to add 10-20000 mass parts per 100 mass parts of solid content, and it is more preferable to add 20-15000 mass parts.

溶媒を除去する方法としては、一般的な装置を使用できる観点から、反応混合物を蒸留することにより溶媒を留分として除去する方法が好ましい。
蒸留は、反応混合物の熱劣化を防止する観点から減圧下で行われることが好ましい。すなわち、工程Bは、反応混合物を減圧蒸留することにより、留分として液体成分を除去する工程であることが好ましい。
As a method of removing the solvent, a method of removing the solvent as a fraction by distilling the reaction mixture is preferable from the viewpoint that a general apparatus can be used.
Distillation is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of preventing thermal deterioration of the reaction mixture. That is, step B is preferably a step of removing the liquid component as a fraction by distillation of the reaction mixture under reduced pressure.

減圧蒸留を行う場合には、有機溶媒の種類によっても異なるが、減圧蒸留の条件としては通常は圧力0.01〜15kPaで行われる。なお留分の流出温度は、有機溶媒等の液体成分の種類、圧力によって異なるが通常は30〜150℃である。   When performing vacuum distillation, although it changes with kinds of organic solvent, as conditions of vacuum distillation, it is normally performed by the pressure of 0.01-15 kPa. In addition, although the outflow temperature of a fraction changes with kinds and pressures of liquid components, such as an organic solvent, it is 30-150 degreeC normally.

工程Bにより、液体成分をほぼすべて除去した場合には、近赤外線吸収剤を、固形分として得ることができる。また、工程Bにおいて、溶媒の一部を除去した場合には、近赤外線吸収剤を、工程Aで得られた反応混合物よりも高い濃度で含む、近赤外線吸収剤の分散液が得られる。   When almost all liquid components are removed by the step B, the near-infrared absorber can be obtained as a solid content. In Step B, when a part of the solvent is removed, a near-infrared absorber dispersion containing the near-infrared absorber at a higher concentration than the reaction mixture obtained in Step A is obtained.

工程Bでは、反応混合物中に液体として存在する有機酸を除去することは可能であるが、近赤外線吸収剤自体に配位結合等によって結合した状態で存在している有機酸を除去することは出来なかった。このため、従来の近赤外線吸収剤分散液の製造方法で得られた近赤外線吸収剤には、近赤外線吸収剤の粒子中に有機酸が取り込まれており、該近赤外線吸収剤を樹脂組成物等として使用すると、有機酸により黒化が起こることがあった。それに対して、本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法では、後述の工程Dを行うことにより、有機酸の含量が低減された近赤外線吸収剤を得ることができるため、黒化が抑制されており、耐光性に優れる。   In Step B, it is possible to remove the organic acid present as a liquid in the reaction mixture, but it is possible to remove the organic acid present in a state of being bound to the near-infrared absorber itself by a coordination bond or the like. I could not do it. For this reason, the near-infrared absorbent obtained by the conventional method for producing a near-infrared absorbent dispersion contains an organic acid in the particles of the near-infrared absorbent, and the near-infrared absorbent is used as a resin composition. In some cases, blackening may occur due to organic acids. On the other hand, in the method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention, blackening is suppressed because a near-infrared absorbent with a reduced organic acid content can be obtained by performing Step D described later. It has excellent light resistance.

[工程C]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程Cを有する。
[Step C]
The method for producing a near-infrared absorber dispersion of the present invention comprises a step C of obtaining a near-infrared absorber dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in the step B has been removed and a dispersion medium. Have.

工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る方法としては、例えば該反応混合物が固形分である場合には、固形分に分散媒を加え、撹拌、超音波処理等の方法により固形分を分散させ、近赤外線吸収剤分散液を得る方法が挙げられ、該反応混合物が、近赤外線吸収剤を、工程Aで得られた反応混合物よりも高い濃度で含む、近赤外線吸収剤の分散液である場合には、該分散液にさらに分散媒を加え、撹拌、超音波処理等を行い、近赤外線吸収剤分散液を得る方法が挙げられる。なお、超音波処理を行う場合には、超音波の照射が、通常0.5〜7時間、好ましくは1〜6時間行われる。   As a method for obtaining a near-infrared absorber dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in Step B has been removed and the dispersion medium, for example, when the reaction mixture is a solid, A dispersion medium is added to the mixture, and the solid content is dispersed by a method such as stirring and ultrasonic treatment to obtain a near-infrared absorbent dispersion, and the reaction mixture is obtained in step A as a near-infrared absorbent. In the case of a near-infrared absorbent dispersion containing a higher concentration than the reaction mixture, a dispersion medium is further added to the dispersion, followed by stirring, ultrasonic treatment, etc. to obtain a near-infrared absorbent dispersion. A method is mentioned. In addition, when performing an ultrasonic treatment, irradiation of an ultrasonic wave is normally performed for 0.5 to 7 hours, Preferably it is 1 to 6 hours.

なお、前記分散媒としては、トルエン、キシレン、アルコール、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルホルムアミド(DMF)、塩化メチレン、クロロホルム、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)等が挙げられ、分散媒としては、一種単独で用いても、二種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the dispersion medium include toluene, xylene, alcohol, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), methylene chloride, chloroform, triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), and the like. May be used singly or in combination of two or more.

前記アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール等が挙げられる。
なお、工程Dとして、後述する(9)の工程を行う場合には、分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用いる。
Examples of the alcohol include methanol, ethanol, propanol and the like.
In addition, when performing the process of (9) mentioned later as the process D, alcohol is used as at least one part of a dispersion medium.

工程Cで得られる近赤外線吸収剤分散液は、近赤外線吸収剤1質量部に対して、分散媒が、1〜100質量部であることが好ましく、3〜50質量部であることがより好ましい。   In the near-infrared absorbent dispersion obtained in Step C, the dispersion medium is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 3 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the near-infrared absorbent. .

本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法では、前記工程BおよびCを繰り返し行ってもよい。例えば、一度目の工程Cの後、二度目の工程Bおよび二度目の工程Cを行った後に工程Dを行ってもよい。   In the method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention, the steps B and C may be repeated. For example, after the first process C, the process D may be performed after performing the second process B and the second process C.

なお、得られる近赤外線吸収剤中の不純物を低減する観点から、少なくとも前記工程BおよびCを1回繰り返す、すなわち、一度目の工程B、工程Cを行った後、少なくとももう一度工程B、工程Cを行うことが好ましい。工程Bおよび工程Cを繰り返す場合には、工程BおよびCを1〜5回繰り返すことが好ましい。なお、二度目以降の工程Bは、工程B’とも表し、二度目以降の工程Cは、工程C’とも表す。   In addition, from the viewpoint of reducing impurities in the obtained near-infrared absorber, at least the steps B and C are repeated once. That is, after performing the first step B and step C, at least once again step B and step C. It is preferable to carry out. When step B and step C are repeated, steps B and C are preferably repeated 1 to 5 times. The second and subsequent processes B are also referred to as processes B ', and the second and subsequent processes C are also referred to as processes C'.

なお、工程Bは、反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程であるが、工程B’は、近赤外線吸収剤分散液中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程となる。また、工程Cは、前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程であるが、工程C’は、前記工程B’で得られた液体成分の少なくとも一部が除去された近赤外線吸収剤またはその分散液と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。   The step B is a step of removing at least a part of the liquid component in the reaction mixture, but the step B 'is a step of removing at least a part of the liquid component in the near infrared absorbent dispersion. Step C is a step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in Step B has been removed and a dispersion medium. In this step, a near-infrared absorber dispersion is obtained from the near-infrared absorber from which at least a part of the liquid component obtained in step B ′ has been removed or a dispersion thereof and a dispersion medium.

本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法において、工程BおよびCを1回繰り返す場合には、本発明の製造方法は、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させ、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得る工程A、前記反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程B、前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程C、近赤外線吸収剤分散液中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程B’、前記工程B’で得られた液体成分の少なくとも一部が除去された近赤外線吸収剤またはその分散液と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程C’および、前記近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去する工程Dを有する。   In the method for producing a near-infrared absorber dispersion of the present invention, when Steps B and C are repeated once, the production method of the present invention includes at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate. Step A in which a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) is reacted in a solvent to obtain a reaction mixture containing a near-infrared absorber; Step B in which at least a part of the liquid component in the reaction mixture is removed Step C for obtaining a near-infrared absorbent dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in Step B has been removed, and a dispersion medium, at least one of the liquid components in the near-infrared absorbent dispersion Step B ′ for removing a part, Step C for obtaining a near-infrared absorber dispersion from a near-infrared absorber or a dispersion thereof from which at least a part of the liquid component obtained in Step B ′ has been removed, and a dispersion medium 'And the near infrared A step D of removing at least a portion of the organic acids from the near-infrared absorbing material of adsorbents dispersion.

本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法では、工程Dを有するため、従来の近赤外線吸収剤分散液の製造方法と比べて、有機酸の含量の少ない近赤外線吸収剤を得ることができる。   In the manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of the present invention, since the process D is included, a near-infrared absorber having a low organic acid content can be obtained as compared with the conventional manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid. .

[工程D]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、前記近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去する工程Dを有する。
[Step D]
The manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of this invention has the process D which removes at least one part of an organic acid from the near-infrared absorber in the said near-infrared absorber dispersion liquid.

本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、工程Dにより、近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去するため、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能であり、精製された近赤外線吸収剤を用いることにより、耐光性に優れる樹脂組成物を得ることができる。   In the method for producing a near-infrared absorbent dispersion of the present invention, a purified near-infrared absorbent is used to remove at least a part of the organic acid from the near-infrared absorbent in the near-infrared absorbent dispersion in Step D. It is possible to obtain a resin composition that is excellent in light resistance by using a purified near infrared absorber.

工程Dでは、近赤外線吸収剤から、有機酸の少なくとも一部が除去できればよく、除去された有機酸は、近赤外線吸収剤分散液中に存在してもよい。すなわち、工程Dでは、固形分である近赤外線吸収剤から、液体成分である分散媒に有機酸が移動すればよい。   In Step D, it is sufficient that at least a part of the organic acid can be removed from the near infrared absorbent, and the removed organic acid may be present in the near infrared absorbent dispersion. That is, in the step D, the organic acid may be transferred from the near-infrared absorber that is a solid content to the dispersion medium that is a liquid component.

工程Dとしては、有機酸の除去が可能であればよく、特に限定はないが、例えば下記(1)〜(9)から選択される少なくとも1種の工程であることが好ましい。
(1)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(2)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(3)近赤外線吸収剤分散液を、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(4)近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上超音波照射を行い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(5)近赤外線吸収剤分散液に前記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(6)近赤外線吸収剤分散液を、0〜40℃で20〜200日保持し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(7)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(8)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(9)前記工程Cにおいて分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
以下(1)〜(9)の工程について説明する。
The step D is not particularly limited as long as the organic acid can be removed. For example, the step D is preferably at least one step selected from the following (1) to (9).
(1) Step of adding a near-infrared absorbent dispersion to obtain a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent (2) Adding an alcohol to the near-infrared absorbent dispersion and a temperature of 40 to 150 The process of obtaining the near-infrared absorber dispersion containing the refined near-infrared absorber by heating at 0 ° C. (3) The near-infrared absorber purified by heating the near-infrared absorber dispersion at a temperature of 40 to 150 ° C. (4) A step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by irradiating the near-infrared absorbent dispersion with ultrasonic waves for 4 hours or more (4) 5) Step of adding a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) to the near-infrared absorber dispersion to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber (6) Near-infrared absorption The agent dispersion is 20 at 0-40 ° C. Step of obtaining a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber for 200 days (7) A near-infrared ray containing a purified near-infrared absorber by adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion Step of obtaining an absorbent dispersion (8) Step of adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion and heating at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber. (9) Step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorber using alcohol as at least a part of the dispersion medium in Step C. Steps (1) to (9) are described below.

((1)の工程)
(1)の工程は、近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(Step (1))
The step (1) is a step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by adding alcohol to the near-infrared absorbent dispersion.

(1)の工程は、工程Cで得られた近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加えるが、アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。   In the step (1), alcohol is added to the near-infrared absorbent dispersion obtained in step C. Examples of the alcohol include methanol, ethanol, propanol, and butanol.

近赤外線吸収剤分散液に加えられるアルコールの量は、近赤外線吸収剤100質量部あたり、10〜2000質量部であることが好ましく、30〜1000質量部であることがより好ましい。   The amount of alcohol added to the near-infrared absorbent dispersion is preferably 10 to 2000 parts by mass, more preferably 30 to 1000 parts by mass, per 100 parts by mass of the near-infrared absorbent.

(1)の工程では、アルコールを添加することで、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、特定のホスホン酸化合物とから、近赤外線吸収剤を得る反応の平衡が生成系側に移動すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(1)の工程では、アルコールを加えた後、撹拌等を行ってもよい。
In the step (1), by adding an alcohol, the equilibrium of the reaction for obtaining a near-infrared absorber from at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate and a specific phosphonic acid compound is achieved. It is thought that it moves to the production system side, and since the organic acid moves from the near-infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side, the organic acid content of the near-infrared absorber itself decreases, and a purified near-infrared absorber is used. It is possible to obtain.
In the step (1), stirring may be performed after adding alcohol.

((2)の工程)
(2)の工程は、近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(2)の工程は、工程Cで得られた近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加えるが、アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。
(Step (2))
Step (2) is a step of adding a near-infrared absorbent dispersion and heating at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent.
In the step (2), alcohol is added to the near-infrared absorbent dispersion obtained in step C. Examples of the alcohol include methanol, ethanol, propanol, and butanol.

近赤外線吸収剤分散液に加えられるアルコールの量は、近赤外線吸収剤100質量部あたり、10〜2000質量部であることが好ましく、30〜1000質量部であることがより好ましい。   The amount of alcohol added to the near-infrared absorbent dispersion is preferably 10 to 2000 parts by mass, more preferably 30 to 1000 parts by mass, per 100 parts by mass of the near-infrared absorbent.

(2)の工程では、アルコールを添加して加熱することで、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、特定のホスホン酸化合物とから、近赤外線吸収剤を得る反応の平衡が生成系側に移動すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。また、(2)の工程では、加熱を行うことにより、有機酸が容易に液体側に移動する。   In the step (2), a reaction for obtaining a near-infrared absorber from at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate and a specific phosphonic acid compound by adding alcohol and heating. It is thought that the equilibrium of the product moves to the production system side, and the organic acid moves from the near-infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side. It is possible to obtain an absorbent. In the step (2), the organic acid easily moves to the liquid side by heating.

(2)の工程では、アルコールを加えた後、近赤外線吸収剤分散液を温度40〜150℃で加熱する。加熱は50〜120℃であることがより好ましい。また、加熱時間は0.5〜12時間が好ましく、2〜7時間がより好ましい。
(2)の工程では、アルコールを加えた後、撹拌等を行ってもよい。
In the step (2), after adding the alcohol, the near-infrared absorbent dispersion is heated at a temperature of 40 to 150 ° C. The heating is more preferably 50 to 120 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 2 to 7 hours.
In the step (2), after adding alcohol, stirring or the like may be performed.

((3)の工程)
(3)の工程は、近赤外線吸収剤分散液を、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(3)の工程では、近赤外線吸収剤分散液を加熱することにより、未反応で系中に存在していた特定のホスホン酸や分散剤が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(Step (3))
The step (3) is a step of heating the near-infrared absorber dispersion at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near-infrared absorber dispersion containing the purified near-infrared absorber.
In the step (3), by heating the near-infrared absorber dispersion liquid, the specific phosphonic acid and the dispersant that were present in the system in an unreacted state are combined with the organic acid in the near-infrared absorber. It is thought that the organic acid moves to the liquid side from the near-infrared absorber in which the organic acid is a solid content, so that the organic acid content of the near-infrared absorber itself is reduced and a purified near-infrared absorber is obtained. It is possible.

(3)の工程では、近赤外線吸収剤分散液を温度40〜150℃で加熱する。加熱は50〜120℃であることがより好ましい。また、加熱時間は0.5〜12時間が好ましく、2〜7時間がより好ましい。
(3)の工程では、加熱と同時に、撹拌等を行ってもよい。
In the step (3), the near-infrared absorbent dispersion is heated at a temperature of 40 to 150 ° C. The heating is more preferably 50 to 120 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 2 to 7 hours.
In the step (3), stirring or the like may be performed simultaneously with the heating.

((4)の工程)
(4)の工程は、近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上超音波照射を行い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(4)の工程では、近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上超音波照射を行うことにより、未反応で系中に存在していた特定のホスホン酸や分散剤が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(Step (4))
The step (4) is a step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by irradiating the near-infrared absorbent dispersion with ultrasonic waves for 4 hours or more.
In the step (4), the near-infrared absorbent dispersion is subjected to ultrasonic irradiation for 4 hours or more, so that the specific phosphonic acid and the dispersant that are present in the system unreacted are contained in the near-infrared absorbent. It is thought that it reacts with the part where the organic acid is bonded, and the organic acid moves from the near infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side, so that the organic acid content of the near infrared absorber itself is reduced and purified. It is possible to obtain a near infrared absorber.

(4)の工程では、近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上、好ましくは4〜24時間、より好ましくは6〜18時間、特に好ましくは10〜16時間の超音波照射を行う。
なお、超音波照射を行う際の温度としては特に限定はないが、通常は5〜40℃、好ましくは10〜35℃である。
In the step (4), the near-infrared absorbent dispersion is irradiated with ultrasonic waves for 4 hours or longer, preferably 4 to 24 hours, more preferably 6 to 18 hours, and particularly preferably 10 to 16 hours.
In addition, although it does not specifically limit as temperature at the time of performing ultrasonic irradiation, Usually, 5-40 degreeC, Preferably it is 10-35 degreeC.

((5)の工程)
(5)の工程は、近赤外線吸収剤分散液に前記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
近赤外線吸収剤分散液に添加される前記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物の量は、近赤外線吸収剤100質量部あたり、0.1〜10質量部であることが好ましく、0.5〜5質量部であることがより好ましい。該ホスホン酸化合物は、ホスホン酸化合物の溶液として添加してもよい。
(Step (5))
The step (5) is a step of adding a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) to the near-infrared absorber dispersion to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber. is there.
The amount of the phosphonic acid compound represented by the general formula (1) added to the near-infrared absorber dispersion is preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the near-infrared absorber. More preferably, it is 5-5 mass parts. The phosphonic acid compound may be added as a solution of the phosphonic acid compound.

ホスホン酸化合物の溶液として添加する場合、その溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。
一般式(1)で表されるホスホン酸化合物としては、工程Aで使用したものと同じホスホン酸化合物を用いることが、コスト抑制、不純物の種類抑制のため好ましい。
When added as a solution of a phosphonic acid compound, examples of the solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol and the like.
As the phosphonic acid compound represented by the general formula (1), it is preferable to use the same phosphonic acid compound as used in Step A for cost reduction and impurity type suppression.

(5)の工程では、一般式(1)で表されるホスホン酸化合物が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(5)の工程では、ホスホン酸化合物を加えた後、撹拌等を行ってもよい。
In the step (5), it is considered that the phosphonic acid compound represented by the general formula (1) reacts with a portion to which the organic acid in the near-infrared absorbent is bonded, and the near-infrared in which the organic acid is a solid content. Since it moves from the absorber to the liquid side, the organic acid content of the near-infrared absorber itself is reduced, and a purified near-infrared absorber can be obtained.
In the step (5), stirring may be performed after adding the phosphonic acid compound.

((6)の工程)
(6)の工程は、近赤外線吸収剤分散液を、0〜40℃で20〜200日保持し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(6)の工程では、近赤外線吸収剤分散液を、0〜40℃で20〜200日保持することにより、未反応で系中に存在していた特定のホスホン酸や分散剤が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(Step (6))
Step (6) is a step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by holding the near-infrared absorbent dispersion at 0 to 40 ° C. for 20 to 200 days.
In the step (6), the near-infrared absorbent dispersion is kept at 0 to 40 ° C. for 20 to 200 days, so that the specific phosphonic acid and the dispersant that are present in the system in an unreacted state are near infrared. The organic acid in the absorber is considered to react with the bonded part, and the organic acid moves from the solid near-infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side, so the organic acid content of the near-infrared absorber itself decreases. It is possible to obtain a purified near-infrared absorber.

(6)の工程では、近赤外線吸収剤分散液を保持する温度は0〜40℃であり、好ましくは10〜35℃であり、保持する時間は20〜200日であり、好ましくは25〜150日である。   In the step (6), the temperature for holding the near-infrared absorbent dispersion is 0 to 40 ° C., preferably 10 to 35 ° C., and the holding time is 20 to 200 days, preferably 25 to 150. Day.

((7)の工程)
(7)の工程は、近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
近赤外線吸収剤分散液に添加される分散剤の量は、近赤外線吸収剤100質量部あたり、3〜150質量部であることが好ましく、5〜100質量部であることがより好ましい。該分散剤は、分散剤の溶液として添加してもよい。
(Step (7))
The process of (7) is a process of adding a dispersing agent to a near-infrared absorber dispersion liquid, and obtaining the near-infrared absorber dispersion liquid containing the refined near-infrared absorber.
The amount of the dispersant added to the near-infrared absorber dispersion is preferably 3 to 150 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass, per 100 parts by mass of the near-infrared absorber. The dispersant may be added as a dispersant solution.

分散剤の溶液として添加する場合、その溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。   When added as a dispersant solution, the solvent includes methanol, ethanol, propanol, butanol, toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, and the like.

分散剤としては、リン酸系分散剤、スルホン酸系分散剤などの陰イオン性分散剤が挙げられ、リン酸系分散剤が好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸エステル系分散剤が好ましい。リン酸エステル系分散剤としては、一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物が好ましい。また、工程Aで分散剤を使用した場合には、(7)の工程においても同様の分散剤を用いることが好ましい。   Examples of the dispersing agent include anionic dispersing agents such as a phosphoric acid dispersing agent and a sulfonic acid dispersing agent, and a phosphoric acid dispersing agent is preferable. As the phosphate dispersant, a phosphate ester dispersant is preferable. As the phosphate ester dispersant, at least one selected from the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2), the phosphoric acid diester represented by the general formula (3), and alkali metal salts thereof. Phosphate ester compounds are preferred. When a dispersant is used in step A, it is preferable to use the same dispersant in step (7).

(7)の工程では、分散剤が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。
(7)の工程では、分散剤を加えた後、撹拌等を行ってもよい。
In the step (7), it is considered that the dispersant reacts with the portion where the organic acid in the near infrared absorber is bonded, and the organic acid moves from the near infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side. In addition, the organic acid content of the near-infrared absorber itself is reduced, and a purified near-infrared absorber can be obtained.
In the step (7), stirring may be performed after adding the dispersant.

((8)の工程)
(8)の工程は、赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
近赤外線吸収剤分散液に添加される分散剤の量は、近赤外線吸収剤100質量部あたり、3〜150質量部であることが好ましく、5〜100質量部であることがより好ましい。該分散剤は、分散剤の溶液として添加してもよい。
(Step (8))
The step (8) is a step of adding a dispersant to the infrared absorbent dispersion and heating at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near infrared absorbent dispersion containing a purified near infrared absorbent.
The amount of the dispersant added to the near-infrared absorber dispersion is preferably 3 to 150 parts by mass, more preferably 5 to 100 parts by mass, per 100 parts by mass of the near-infrared absorber. The dispersant may be added as a dispersant solution.

分散剤の溶液として添加する場合、その溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。   When added as a dispersant solution, the solvent includes methanol, ethanol, propanol, butanol, toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, and the like.

分散剤としては、リン酸系分散剤、スルホン酸系分散剤などの陰イオン性分散剤が挙げられ、リン酸系分散剤が好ましい。リン酸系分散剤としては、リン酸エステル系分散剤が好ましい。リン酸エステル系分散剤としては、一般式(2)で表されるリン酸モノエステル、一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物が好ましい。また、工程Aで分散剤を使用した場合には、(8)の工程においても同様の分散剤を用いることが好ましい。   Examples of the dispersing agent include anionic dispersing agents such as a phosphoric acid dispersing agent and a sulfonic acid dispersing agent, and a phosphoric acid dispersing agent is preferable. As the phosphate dispersant, a phosphate ester dispersant is preferable. As the phosphate ester dispersant, at least one selected from the phosphoric acid monoester represented by the general formula (2), the phosphoric acid diester represented by the general formula (3), and alkali metal salts thereof. Phosphate ester compounds are preferred. When a dispersant is used in step A, it is preferable to use the same dispersant in step (8).

(8)の工程では、分散剤が、近赤外線吸収剤中の有機酸が結合している部分と反応すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。また、(8)の工程では、加熱を行うことにより、有機酸が容易に液体側に移動する。   In the step (8), it is considered that the dispersant reacts with the portion where the organic acid in the near infrared absorber is bonded, and the organic acid moves from the near infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side. In addition, the organic acid content of the near-infrared absorber itself is reduced, and a purified near-infrared absorber can be obtained. In the step (8), the organic acid easily moves to the liquid side by heating.

(8)の工程では、分散剤を添加した後、近赤外線吸収剤分散液を温度40〜150℃で加熱する。加熱は50〜120℃であることがより好ましい。また、加熱時間は0.5〜12時間が好ましく、2〜7時間がより好ましい。
(8)の工程では、分散剤を加えた後、撹拌等を行ってもよい。
In the step (8), after adding the dispersant, the near-infrared absorbent dispersion is heated at a temperature of 40 to 150 ° C. The heating is more preferably 50 to 120 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 2 to 7 hours.
In the step (8), stirring may be performed after adding the dispersant.

((9)の工程)
(9)の工程は、前記工程Cにおいて分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程である。
(9)の工程では、その前提として、工程Cにおいて、分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用いる。
前記アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。工程Cにおいて分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用いる場合には、分散媒100質量部中、アルコールが5〜100質量部であることが好ましく、10〜90質量部であることがより好ましい。
(Step (9))
The step (9) is a step of obtaining a near-infrared absorber dispersion liquid containing a purified near-infrared absorber by using alcohol as at least a part of the dispersion medium in the step C.
In the process (9), alcohol is used as at least a part of the dispersion medium in the process C as a premise.
Examples of the alcohol include methanol, ethanol, propanol, butanol and the like. When alcohol is used as at least a part of the dispersion medium in Step C, the alcohol is preferably 5 to 100 parts by mass and more preferably 10 to 90 parts by mass in 100 parts by mass of the dispersion medium.

(9)の工程では、アルコールを添加することで、有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、特定のホスホン酸化合物とから、近赤外線吸収剤を得る反応の平衡が生成系側に移動すると考えられ、有機酸が固形分である近赤外線吸収剤から、液体側に移動するため、近赤外線吸収剤自体の有機酸含量が減少し、精製された近赤外線吸収剤を得ることが可能である。   In the step (9), by adding an alcohol, the equilibrium of the reaction for obtaining a near-infrared absorber from at least one of an organic acid copper salt and a hydrate of an organic acid copper salt and a specific phosphonic acid compound is achieved. It is thought that it moves to the production system side, and since the organic acid moves from the near-infrared absorber, which is a solid content, to the liquid side, the organic acid content of the near-infrared absorber itself decreases, and a purified near-infrared absorber is used. It is possible to obtain.

(9)の工程では、撹拌等を行ってもよい。
工程Dでは、前記(1)〜(9)の工程の少なくとも1種が行われ、複数の工程が行われてもよく、各工程を複数回行ってもよい。
In the step (9), stirring or the like may be performed.
In step D, at least one of the steps (1) to (9) is performed, a plurality of steps may be performed, and each step may be performed a plurality of times.

前記(1)〜(9)の工程のうち、操作の容易性、耐光性の改善効果の観点から、(1)〜(5)、(7)、(8)の工程が好ましく、(1)、(2)、(5)、(7)、(8)の工程がより好ましく、(2)、(5)、(7)、(8)の工程が特に好ましい。   Of the steps (1) to (9), the steps (1) to (5), (7), and (8) are preferable from the viewpoint of ease of operation and light resistance improvement effect. , (2), (5), (7), (8) are more preferred, and (2), (5), (7), (8) are particularly preferred.

また、長期耐熱性の改善効果の観点からは、前記(1)〜(9)の工程のうち、(1)〜(4)、(6)、(7)、(9)の工程が好ましい。工程(5)では、近赤外線吸収剤を含む樹脂組成物を調製した時等に、工程(5)で用いたホスホン酸化合物が樹脂組成物中に存在する場合があるが、該成分が、長期耐熱性を悪化させる場合がある。また、工程(8)では、分散剤を用いるが、該分散剤が加熱により変性することがある。近赤外線吸収剤を含む樹脂組成物を調製した時等に、分散剤の変性物が、樹脂組成物中に存在する場合があるが、該成分が長期耐熱性を悪化させる場合がある。なお、分散剤として例えば、リン酸エステル系分散剤を用いた場合には加熱により、一部が変性されリン酸となる場合がある。このため、前記(1)〜(9)の工程のうち、(1)〜(4)、(6)、(7)、(9)の工程が好ましい。また、工程(5)、(8)を実施する場合には、後述の工程Eにおいて、分散媒および有機酸等の液体成分を上澄み液として除去する方法を行うことが好ましい。該方法を行うことにより、工程(5)で用いたホスホン酸化合物や、工程(8)で用いた分散剤の変性物が樹脂組成物中に存在することを防ぐことが可能であり、長期耐熱性の観点から好ましい。   Moreover, from the viewpoint of the effect of improving long-term heat resistance, among the steps (1) to (9), the steps (1) to (4), (6), (7), and (9) are preferable. In step (5), the phosphonic acid compound used in step (5) may be present in the resin composition when a resin composition containing a near infrared absorber is prepared. Heat resistance may be deteriorated. In step (8), a dispersant is used, and the dispersant may be modified by heating. When a resin composition containing a near-infrared absorber is prepared, a modified product of the dispersant may be present in the resin composition, but the component may deteriorate long-term heat resistance. For example, when a phosphate ester dispersant is used as the dispersant, it may be partially modified by heating to become phosphoric acid. For this reason, among the steps (1) to (9), the steps (1) to (4), (6), (7), and (9) are preferable. Moreover, when implementing process (5) and (8), it is preferable to perform the method of removing liquid components, such as a dispersion medium and an organic acid, as a supernatant liquid in process E mentioned later. By carrying out this method, it is possible to prevent the phosphonic acid compound used in step (5) and the modified product of the dispersant used in step (8) from being present in the resin composition, and long-term heat resistance From the viewpoint of sex.

[工程E]
本発明の近赤外線吸収剤分散液の製造方法は、前述の工程A〜工程Dを有するが、さらに工程Eを有していてもよい。
[Step E]
Although the manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of this invention has the above-mentioned process A-process D, it may have the process E further.

工程Eは、工程Dで得られた近赤外線吸収剤分散液中の、分散媒および有機酸の一部を除去する工程である。
工程Eにおいて、分散媒および有機酸の一部を除去することにより、近赤外線吸収剤分散液の液体成分からも有機酸を減少させることが可能であるため、後述の樹脂組成物を得た際に、容易に組成物に含まれる有機酸の量を減少させることが可能である。
Step E is a step of removing a part of the dispersion medium and the organic acid in the near-infrared absorbent dispersion obtained in Step D.
In Step E, by removing a part of the dispersion medium and the organic acid, it is possible to reduce the organic acid from the liquid component of the near-infrared absorbent dispersion liquid. In addition, the amount of organic acid contained in the composition can be easily reduced.

分散媒および有機酸の一部を除去する方法としては特に限定はないが、例えば固形分である近赤外線吸収剤を沈降させ、分散媒および有機酸等の液体成分を上澄み液として除去する方法、蒸留することにより分散媒および有機酸等の液体成分を留分として除去する方法が挙げられる。これらの方法により分散媒および有機酸の少なくとも一部を除去する際には、分散媒および有機酸以外の液体成分も同時に除去されてもよい。   The method for removing a part of the dispersion medium and the organic acid is not particularly limited, for example, a method of precipitating a near-infrared absorber that is a solid content and removing a liquid component such as the dispersion medium and the organic acid as a supernatant, The method of removing liquid components, such as a dispersion medium and an organic acid, as a fraction by distilling is mentioned. When removing at least a part of the dispersion medium and the organic acid by these methods, liquid components other than the dispersion medium and the organic acid may be removed at the same time.

近赤外線吸収剤を沈降させる方法としては、例えば近赤外線吸収剤分散液を静置することにより近赤外線吸収剤を沈降させる方法や、近赤外線吸収剤分散液を遠心分離し、近赤外線吸収剤を沈降させる方法が挙げられる。   As a method for precipitating the near-infrared absorber, for example, a method of precipitating the near-infrared absorber by allowing the near-infrared absorber dispersion to stand, or a method of precipitating the near-infrared absorber dispersion, The method of making it settle is mentioned.

分散媒および有機酸等の液体成分の一部を除去する方法としては、分散性向上の観点から、近赤外線吸収剤を沈降させ、分散媒および有機酸等の液体成分を上澄み液として除去する方法が好ましい。   As a method for removing a part of the liquid component such as the dispersion medium and the organic acid, from the viewpoint of improving dispersibility, a method of removing the liquid component such as the dispersion medium and the organic acid as a supernatant liquid by precipitating the near infrared absorber. Is preferred.

なお、近赤外線吸収剤を沈降させる際には、遠心分離を行うことが沈降に必要な時間を短くする観点から好ましい。また、近赤外線吸収剤の粒径が小さいほど、沈降に必要な時間が長くなる。近赤外線吸収剤を凝集させ、沈降に必要な時間を早める目的で、アセトン、エタノール、水等を、近赤外線吸収剤分散液に添加してもよい。アセトン、エタノール、水等を、近赤外線吸収剤分散液に添加する場合には、近赤外線吸収剤100質量部あたり、10〜20000質量部添加することが好ましく、20〜15000質量部添加することがより好ましい。   In addition, when the near-infrared absorber is allowed to settle, it is preferable to perform centrifugation from the viewpoint of shortening the time required for sedimentation. Further, the smaller the particle size of the near infrared absorber, the longer the time required for sedimentation. Acetone, ethanol, water or the like may be added to the near-infrared absorber dispersion for the purpose of aggregating the near-infrared absorber and increasing the time required for sedimentation. When adding acetone, ethanol, water or the like to the near-infrared absorbent dispersion, it is preferably added in an amount of 10 to 20000 parts by mass per 100 parts by mass of the near-infrared absorber, and 20 to 15000 parts by mass may be added. More preferred.

分散媒および有機酸等の液体成分を除去する方法としては、一般的な装置を使用できる観点からは、近赤外線吸収剤分散液を蒸留することにより分散媒を留分として除去する方法が好ましい。   As a method for removing the liquid component such as the dispersion medium and the organic acid, a method of removing the dispersion medium as a fraction by distilling the near-infrared absorbent dispersion from the viewpoint that a general apparatus can be used is preferable.

蒸留は、近赤外線吸収剤の熱劣化を防止する観点から減圧下で行われることが好ましい。すなわち、近赤外線吸収剤分散液を減圧蒸留することにより、留分として分散媒および有機酸等の液体成分を除去することが好ましい。   Distillation is preferably performed under reduced pressure from the viewpoint of preventing thermal degradation of the near infrared absorber. That is, it is preferable to remove liquid components such as a dispersion medium and an organic acid as a fraction by distilling the near-infrared absorbent dispersion under reduced pressure.

減圧蒸留を行う場合には、分散媒および有機酸の種類によっても異なるが、減圧蒸留の条件としては通常は圧力0.01〜15kPaで行われる。なお留分の流出温度は、液体成分の種類、圧力によって異なるが通常は30〜150℃である。   When performing vacuum distillation, although it changes with kinds of a dispersion medium and an organic acid, as conditions for vacuum distillation, it is normally performed by the pressure of 0.01-15 kPa. In addition, although the outflow temperature of a fraction changes with kinds and pressures of a liquid component, it is 30-150 degreeC normally.

工程Eでは、分散媒および有機酸の一部を除去することにより、近赤外線吸収剤分散液を得るが、分散媒および有機酸等を除去する際に、液体成分を(ほぼ)すべて除去した場合には、精製された近赤外線吸収剤を固形分として得ることができる。   In step E, the dispersion medium and part of the organic acid are removed to obtain a near-infrared absorbent dispersion. When removing the dispersion medium and the organic acid, etc., (almost) all of the liquid components are removed. The purified near-infrared absorber can be obtained as a solid content.

なお、工程Dが(5)の工程である場合には、添加されたホスホン酸化合物は、分散媒および有機酸の一部を除去する際に、同時に除去されてもよく、除去されなくてもよい。分散媒および有機酸の一部を除去する方法が、蒸留することにより分散媒および有機酸等の液体成分を留分として除去する方法である場合には、通常ホスホン酸化合物は除去されず、固形分である近赤外線吸収剤を沈降させ、分散媒および有機酸等の液体成分を上澄み液として除去する方法である場合には、通常ホスホン酸化合物も除去される。   In addition, when the process D is the process of (5), the added phosphonic acid compound may or may not be removed at the same time when the dispersion medium and a part of the organic acid are removed. Good. When the method of removing a part of the dispersion medium and the organic acid is a method of removing the liquid component such as the dispersion medium and the organic acid as a fraction by distillation, usually the phosphonic acid compound is not removed and the solid In the case of a method in which a near-infrared absorber, which is a component, is allowed to settle and a liquid component such as a dispersion medium and an organic acid is removed as a supernatant, the phosphonic acid compound is also usually removed.

なお、工程Dが(7)の工程あるいは(8)の工程である場合には、添加された分散剤は、分散媒および有機酸の一部を除去する際に、同時に除去されてもよく、除去されなくてもよい。分散媒および有機酸の一部を除去する方法が、蒸留することにより分散媒および有機酸等の液体成分を留分として除去する方法である場合には、通常分散剤は除去されず、固形分である近赤外線吸収剤を沈降させ、分散媒および有機酸等の液体成分を上澄み液として除去する方法である場合には、通常分散剤も除去される。   In addition, when the process D is the process of (7) or the process of (8), the added dispersant may be removed simultaneously when removing a part of the dispersion medium and the organic acid, It does not have to be removed. When the method of removing a part of the dispersion medium and the organic acid is a method of removing liquid components such as the dispersion medium and the organic acid as a fraction by distillation, the dispersant is usually not removed and the solid content is removed. In the case of a method in which the near-infrared absorber is settled and the liquid component such as the dispersion medium and the organic acid is removed as a supernatant, the dispersant is also usually removed.

[近赤外線吸収剤分散液]
本発明の近赤外線吸収剤分散液は、前記近赤外線吸収剤分散液の製造方法で得られる。
近赤外線吸収剤を含む分散液としては、近赤外線吸収剤1質量部に対して、分散媒が、1〜100質量部であることが好ましく、3〜50質量部であることがより好ましい。
[Near-infrared absorber dispersion]
The near-infrared absorbent dispersion of the present invention is obtained by the method for producing the near-infrared absorbent dispersion.
As a dispersion containing a near infrared absorber, the dispersion medium is preferably 1 to 100 parts by mass, and more preferably 3 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the near infrared absorber.

本発明の近赤外線吸収剤分散液が含有する近赤外線吸収剤は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で測定した有機酸量が、近赤外線吸収剤を構成する銅塩1モルに対して、すなわち銅原子1モルに対して、0.0075モル以下であることが好ましく、0.0001〜0.0070モルであることがより好ましい。   The near-infrared absorbent contained in the near-infrared absorbent dispersion of the present invention is such that the amount of organic acid measured by high-performance liquid chromatography (HPLC) is 1 mol of copper salt constituting the near-infrared absorbent, that is, copper. It is preferable that it is 0.0075 mol or less with respect to 1 mol of atoms, and it is more preferable that it is 0.0001-0.0070 mol.

本発明の近赤外線吸収剤分散液は、前記製造方法で得られるため、従来の近赤外線吸収剤分散液の製造方法と比べて、近赤外線吸収剤中に含まれる有機酸の量が低減されている。このため、本発明の樹脂組成物は、光を照射した際等に起こる黒化が抑制されており、耐光性に優れる。   Since the near-infrared absorbent dispersion of the present invention is obtained by the above production method, the amount of organic acid contained in the near-infrared absorbent is reduced compared to the conventional production method of a near-infrared absorbent dispersion. Yes. For this reason, the resin composition of the present invention has excellent light resistance because blackening that occurs when irradiated with light is suppressed.

[近赤外線吸収剤]
本発明の近赤外線吸収剤は、前記近赤外線吸収剤分散液から得られる。本発明の近赤外線吸収剤は、通常は前記近赤外線吸収剤分散液から、近赤外線吸収剤を固形分として回収することにより得られる。
[Near infrared absorber]
The near-infrared absorber of the present invention is obtained from the near-infrared absorber dispersion. The near-infrared absorber of the present invention is usually obtained by recovering the near-infrared absorber as a solid content from the near-infrared absorber dispersion.

近赤外線吸収剤を得る方法としては、例えば前記工程Eで記載した方法において、液体成分を(ほぼ)すべて除去することにより得ることができる。また、液体成分を除去した後、常圧下、あるいは減圧下で乾燥を行ってもよい。   As a method for obtaining a near-infrared absorber, for example, in the method described in the step E, it can be obtained by removing (almost) all liquid components. Further, after removing the liquid component, drying may be performed under normal pressure or under reduced pressure.

なお、本発明の近赤外線吸収剤は、再度分散媒に分散させた近赤外線吸収剤分散液として、各種用途に用いてもよい。近赤外線吸収剤分散液としては、近赤外線吸収剤1質量部に対して、分散媒が、1〜100質量部であることが好ましく、3〜50質量部であることがより好ましい。近赤外線吸収剤分散液が含有する近赤外線吸収剤は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)で測定した有機酸量が、近赤外線吸収剤を構成する銅塩1モルに対して、すなわち銅原子1モルに対して、0.0075モル以下であることが好ましく、0.0001〜0.0070モルであることがより好ましい。   In addition, you may use the near-infrared absorber of this invention as a near-infrared absorber dispersion liquid again disperse | distributed to the dispersion medium for various uses. As a near-infrared absorber dispersion liquid, it is preferable that a dispersion medium is 1-100 mass parts with respect to 1 mass part of near-infrared absorbers, and it is more preferable that it is 3-50 mass parts. The near-infrared absorbent contained in the near-infrared absorbent dispersion is such that the amount of organic acid measured by high-performance liquid chromatography (HPLC) is 1 mole of copper atom relative to 1 mole of copper salt constituting the near-infrared absorbent. The amount is preferably 0.0075 mol or less, and more preferably 0.0001 to 0.0070 mol.

[樹脂組成物および樹脂溶液]
本発明の樹脂組成物は、前記近赤外線吸収剤と、樹脂とを含む。
樹脂組成物を製造する方法としては、前記近赤外線吸収剤分散液と、樹脂とを含む樹脂溶液の分散媒や溶媒等の液体成分を除去する方法、前記近赤外線吸収剤分散液と、樹脂とを溶融混練する方法、前記近赤外線吸収剤と、樹脂とを混合する方法が挙げられる。近赤外線吸収剤が再度凝集することを防ぐ観点から、樹脂組成物を製造する方法としては、前記樹脂溶液の液体成分を除去する方法が好ましい。すなわち、本発明の樹脂組成物は樹脂溶液から得られることが好ましい。
[Resin composition and resin solution]
The resin composition of this invention contains the said near-infrared absorber and resin.
As a method for producing a resin composition, the near infrared absorbent dispersion, a method of removing a liquid component such as a dispersion medium or a solvent of a resin solution containing a resin, the near infrared absorbent dispersion, and a resin And a method of mixing the near-infrared absorber and a resin. From the viewpoint of preventing the near-infrared absorber from aggregating again, the method for producing the resin composition is preferably a method for removing the liquid component of the resin solution. That is, the resin composition of the present invention is preferably obtained from a resin solution.

前記樹脂溶液を製造する方法としては例えば、前記近赤外線吸収剤分散液と樹脂とを混合する方法、前記近赤外線吸収剤分散液と樹脂の溶液とを混合する方法、前記近赤外線吸収剤分散液と樹脂と、溶媒とを混合する方法が挙げられる。   Examples of the method for producing the resin solution include a method of mixing the near-infrared absorber dispersion and the resin, a method of mixing the near-infrared absorber dispersion and the resin solution, and the near-infrared absorber dispersion. And a method of mixing a resin and a solvent.

なお、前記樹脂溶液の製造に溶媒を用いる場合には、樹脂を溶解できればよく、特に限定はないが例えばトルエン、エタノール、メタノール、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。溶媒としては一種単独でも、二種以上を用いてもよい。   In addition, when using a solvent for manufacture of the said resin solution, what is necessary is just to be able to melt | dissolve resin, For example, toluene, ethanol, methanol, a methylene chloride, chloroform etc. are mentioned. As the solvent, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used.

前記液体成分の除去を行う際には、その除去方法としては特に限定はないが、通常は常圧下での乾燥、真空乾燥等の乾燥により行われる。なお、近赤外線吸収剤分散液の液体成分中に有機酸が存在する場合には、樹脂溶液の液体成分を除去する際に同時に除去することが可能である。   When the liquid component is removed, the removal method is not particularly limited, but it is usually performed by drying such as drying under normal pressure or vacuum drying. In addition, when an organic acid exists in the liquid component of a near-infrared absorber dispersion liquid, when removing the liquid component of a resin solution, it is possible to remove simultaneously.

なお、該樹脂組成物からなる成形体を得る場合には、該樹脂組成物の製造と成形を同時に行うことにより成形体を得てもよく、該樹脂組成物をペレット等として製造した後に、所望の形状に成形することにより、成形体を得てもよく、樹脂組成物をペレット等のマスターバッチとして得た後に、該マスターバッチおよび樹脂を用い、押出成形、キャスト成形、射出成形等の様々な成形法により、合わせガラス用中間膜等の成形体を得てもよい。   In addition, when obtaining the molded object which consists of this resin composition, you may obtain a molded object by performing manufacture and shaping | molding of this resin composition simultaneously, and after manufacturing this resin composition as a pellet etc., desired A molded body may be obtained by molding into a shape of, and after obtaining the resin composition as a master batch such as pellets, the master batch and the resin are used to perform various processes such as extrusion molding, cast molding, injection molding, etc. A molded body such as an interlayer film for laminated glass may be obtained by a molding method.

なお、前記樹脂としては、前述の近赤外線吸収剤を分散することが可能であればよく特に限定はないが、例えば以下の樹脂を用いることができる。
本発明に用いる樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン‐酢酸ビニル共重合体、(メタ)アクリル酸樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびノルボルネン樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂が、近赤外線吸収剤を良好に分散することが可能であり、かつ可視光の透過性に優れることが好ましい。
The resin is not particularly limited as long as it can disperse the above-described near-infrared absorber. For example, the following resins can be used.
The resin used in the present invention is selected from polyvinyl acetal resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, (meth) acrylic acid resin, polyester resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and norbornene resin. It is preferable that at least one type of resin can disperse the near-infrared absorber well and is excellent in visible light transmittance.

本発明に用いる樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、またはエチレン‐酢酸ビニル共重合体から選択される少なくとも1種の樹脂であることがより好ましく、ポリビニルブチラール樹脂(PVB)、またはエチレン‐酢酸ビニル共重合体から選択される少なくとも1種の樹脂であることが特に好ましい。ポリビニルアセタール樹脂を用いると、前述の近赤外線吸収剤の分散性に優れ、本発明の樹脂組成物を用いて、例えば合わせガラス用中間膜を製造した場合には、ガラス等への密着性に優れ、また、樹脂組成物が柔軟であり好ましい。また、ポリビニルアセタール樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂(PVB)を用いることが、ガラス密着性、分散性、透明性、耐熱性、耐光性などの観点から好ましい。   The resin used in the present invention is more preferably at least one resin selected from polyvinyl acetal resin or ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral resin (PVB), or ethylene-vinyl acetate copolymer. Particularly preferred is at least one resin selected from coalescence. When polyvinyl acetal resin is used, it is excellent in dispersibility of the above-mentioned near-infrared absorber, and, for example, when an interlayer film for laminated glass is produced using the resin composition of the present invention, it has excellent adhesion to glass or the like. In addition, the resin composition is preferable because it is flexible. Moreover, as polyvinyl acetal resin, it is preferable to use polyvinyl butyral resin (PVB) from the viewpoints of glass adhesion, dispersibility, transparency, heat resistance, light resistance, and the like.

ポリビニルアセタール樹脂は、必要な物性に応じて、二種以上を組み合わせたブレンド物であってもよく、アセタール化時にアルデヒドを組み合わせてアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂であってもよい。   The polyvinyl acetal resin may be a blend of two or more types depending on the required physical properties, or may be a polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing by combining aldehydes during acetalization.

アルデヒドとしては特に限定されず、例えば、炭素数が1〜10のアルデヒド等が挙げられ、より具体的には、例えば、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、2−エチルブチルアルテヒド、n−へキシルアルデヒド、n−オクチルアルデヒド、n−ノニルアルデヒド、n−デシルアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。なかでも、n−ブチルアルデヒド、n−へキシルアルデヒド、n−バレルアルデヒド等が好ましい。より好ましくは、炭素数が4のブチルアルデヒドである。   The aldehyde is not particularly limited, and examples thereof include aldehydes having 1 to 10 carbon atoms, and more specifically, for example, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valeraldehyde, 2-ethylbutylartaldehyde. N-hexylaldehyde, n-octylaldehyde, n-nonylaldehyde, n-decylaldehyde, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde and the like. Of these, n-butyraldehyde, n-hexylaldehyde, n-valeraldehyde and the like are preferable. More preferred is butyraldehyde having 4 carbon atoms.

また、エチレン‐酢酸ビニル共重合体を用いると、前述の近赤外線吸収剤の分散性に優れ、ガラス密着性、分散性、透明性、耐熱性、耐光性などの観点から好ましい。
また、本発明の樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。前記可塑剤としては特に限定はないが、例えばトリエチレングリコールビス(2-エチルヘキサノエート)、トリエチレングリコールビス(2-エチルブチラート)、テトラエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジヘキシルアジペート、トリブトキシエチルホスフェート、イソデシルフェニルホスフェート等が挙げられる。
Use of an ethylene-vinyl acetate copolymer is preferable from the viewpoints of excellent dispersibility of the above-mentioned near-infrared absorber and glass adhesion, dispersibility, transparency, heat resistance, light resistance, and the like.
Moreover, the resin composition of this invention may contain a plasticizer. The plasticizer is not particularly limited. For example, triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), triethylene glycol bis (2-ethylbutyrate), tetraethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), Examples include tetraethylene glycol diheptanoate, dihexyl adipate, tributoxyethyl phosphate, and isodecylphenyl phosphate.

本発明の樹脂組成物は、前記樹脂100質量部あたり、近赤外線吸収剤を0.5〜30質量部含有することが好ましく、1〜25質量部含有することがより好ましい。0.5質量部より少ないと充分な近赤外線吸収特性が得られない可能性があり、30質量部より多すぎると樹脂の耐熱性、耐光性、透明性やガラスとの接着性が大幅に低下するおそれがある。   It is preferable that the resin composition of this invention contains 0.5-30 mass parts of near-infrared absorbers per 100 mass parts of said resin, and it is more preferable to contain 1-25 mass parts. If the amount is less than 0.5 parts by mass, sufficient near-infrared absorption characteristics may not be obtained. If the amount is more than 30 parts by mass, the heat resistance, light resistance, transparency, and adhesion to glass of the resin are greatly reduced. There is a risk.

本発明の樹脂組成物が前記可塑剤を含有する場合には、前記樹脂100質量部あたり、可塑剤を10〜60質量部含有することが好ましく、20〜50質量部含有することがより好ましい。   When the resin composition of this invention contains the said plasticizer, it is preferable to contain 10-60 mass parts of plasticizers per 100 mass parts of said resin, and it is more preferable to contain 20-50 mass parts.

本発明の樹脂組成物は、耐光性に優れており、合わせガラス等の構造材料用の中間膜として好適に使用することが可能である。
また、本発明の樹脂組成物には、各種添加剤が含有されていてもよい。添加剤としては、例えば分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等が挙げられる。これらの添加剤は、本発明の樹脂組成物を製造する際に、添加されてもよく、近赤外線吸収剤や樹脂を製造する際に添加されてもよい。
The resin composition of the present invention is excellent in light resistance and can be suitably used as an intermediate film for structural materials such as laminated glass.
Moreover, various additives may be contained in the resin composition of the present invention. Examples of the additive include a dispersant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. These additives may be added when manufacturing the resin composition of the present invention, or may be added when manufacturing a near-infrared absorber or resin.

〔樹脂組成物の用途〕
本発明の樹脂組成物は、近赤外線を吸収することが望まれる用途に通常は用いられる。
本発明の樹脂組成物から形成される樹脂膜は、耐光性に優れているため、合わせガラス用中間膜等の構造材料用中間膜として好適に用いることが可能である。
[Use of resin composition]
The resin composition of the present invention is usually used for applications where it is desired to absorb near infrared rays.
Since the resin film formed from the resin composition of the present invention is excellent in light resistance, it can be suitably used as an intermediate film for structural materials such as an intermediate film for laminated glass.

また、本発明の合わせガラスは、前記合わせガラス用中間膜を有している。本発明の合わせガラスを構成するガラスとしては特に限定はなく、従来公知のものを用いることができる。   Moreover, the laminated glass of this invention has the said intermediate film for laminated glasses. There is no limitation in particular as glass which comprises the laminated glass of this invention, A conventionally well-known thing can be used.

次に本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕
後述の実施例、比較例で得られた近赤外線吸収剤分散液中の、近赤外線吸収剤が含有する酢酸量は以下の方法で測定した。
EXAMPLES Next, although an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited by these.
[Measurement of acetic acid content of near-infrared absorber]
The amount of acetic acid contained in the near-infrared absorbent in the near-infrared absorbent dispersions obtained in Examples and Comparative Examples described below was measured by the following method.

容量50mlのガラス製遠沈管に、各実施例、比較例で得られた銅塩トルエン分散液(近赤外線吸収剤分散液)を1.91g取り、アセトン20gを加えた。テーブルトップ遠心機4000(久保田商事)を用い、4200rpmで30分遠心分離を行い、透明になった上澄み液を除去した。但し、実施例6で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6)については、1.91gではなく、4.57g用い、比較例2で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)および実施例7で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(7)については、1.91gではなく5.21g用いた。   To a glass centrifuge tube having a capacity of 50 ml, 1.91 g of the copper salt toluene dispersion (near infrared absorber dispersion) obtained in each of the examples and comparative examples was taken, and 20 g of acetone was added. Using a table top centrifuge 4000 (Kubota Corp.), centrifugation was performed at 4200 rpm for 30 minutes to remove the transparent supernatant. However, n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (6) obtained in Example 6 was used instead of 1.91 g, 4.57 g, and n-butylphosphonic acid copper salt obtained in Comparative Example 2. For the toluene dispersion (c2) and the n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (7) obtained in Example 7, 5.21 g was used instead of 1.91 g.

上澄みが透明にならなかった場合は、透明になるまで遠心分離を続けた後、上澄み液を除去した。
得られた沈殿物にアセトン20gを添加し、撹拌振とう機、超音波洗浄機を使用して、沈殿の塊を砕き、懸濁液とした。
When the supernatant did not become transparent, the centrifugation was continued until it became transparent, and then the supernatant was removed.
20 g of acetone was added to the resulting precipitate, and the precipitate lump was crushed using a stirring shaker and an ultrasonic washer to obtain a suspension.

該懸濁液を、4200rpmで30分遠心分離を行い、透明になった上澄み液を除去した。得られた沈殿物を、真空乾燥機を使用して40℃で1時間乾燥し、乾燥固体を175mg得た。   The suspension was centrifuged at 4200 rpm for 30 minutes to remove the transparent supernatant. The obtained precipitate was dried at 40 ° C. for 1 hour using a vacuum dryer to obtain 175 mg of a dried solid.

この固体(近赤外線吸収剤)を10mlメスフラスコに100mgとり、35%塩酸を300mg加えた。固形分が溶解しない場合は超音波洗浄機を使用して溶解し、水でメスアップした。
この液を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)(島津製作所、LC−1000)に20μl打ち込み、近赤外線吸収剤の酢酸量を算出した。
100 mg of this solid (near infrared absorber) was taken in a 10 ml volumetric flask, and 300 mg of 35% hydrochloric acid was added. When solid content did not melt | dissolve, it melt | dissolved using the ultrasonic cleaner and was made up with water.
20 μl of this liquid was injected into high performance liquid chromatography (HPLC) (Shimadzu Corporation, LC-1000), and the amount of acetic acid in the near infrared absorbent was calculated.

〔比較例1〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
1Lのナスフラスコに、酢酸銅一水和物10.0g(50.09mmol)、エタノール500gを加え、25℃で1時間攪拌し、A液を得た。
[Comparative Example 1]
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
To a 1 L eggplant-shaped flask, 10.0 g (50.09 mmol) of copper acetate monohydrate and 500 g of ethanol were added and stirred at 25 ° C. for 1 hour to obtain a liquid A.

別の容器に、プライサーフA219B(第一工業製薬)2.0g、n−ブチルホスホン酸6.85gをエタノール50gに溶解した溶液(B液)を作成した。
B液を、A液に対して3時間かけて滴下した。この反応液を25℃で18時間撹拌した。
In a separate container, a solution (Liquid B) in which 2.0 g of Prisurf A219B (Daiichi Kogyo Seiyaku) and 6.85 g of n-butylphosphonic acid were dissolved in 50 g of ethanol was prepared.
B liquid was dripped over 3 hours with respect to A liquid. The reaction was stirred at 25 ° C. for 18 hours.

その後、エバポレーター(水浴40〜60℃)で溶媒を留去した。
これにトルエン440gを加え、恒量になり、酢酸臭がしなくなるまでエバポレーターで留去した。
Then, the solvent was distilled off with an evaporator (water bath 40-60 ° C.).
To this was added 440 g of toluene, and it was distilled off with an evaporator until it became a constant weight and no acetic acid odor occurred.

収量12.0g(収率100%)の青緑色固体が得られた。これにトルエン103.5gを加え、超音波照射を3.5時間行い、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。   A blue-green solid with a yield of 12.0 g (yield 100%) was obtained. To this, 103.5 g of toluene was added, and ultrasonic irradiation was performed for 3.5 hours to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0077mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0077 mol with respect to 1 mol of the acid copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
300ml三角フラスコに、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)1.90g、エタノール40g、トルエン100g、ポリビニルブチラール(PVB)5.00gを加えた。25℃で10時間撹拌し、PVBが完全に溶解したことを確認した。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
To a 300 ml Erlenmeyer flask, 1.90 g of triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), 40 g of ethanol, 100 g of toluene, and 5.00 g of polyvinyl butyral (PVB) were added. It stirred at 25 degreeC for 10 hours, and confirmed that PVB melt | dissolved completely.

これに前記n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を添加した。この分散液をテフロン(登録商標)製バットに広げ、12時間25℃で風乾した。さらに40℃で5時間、70℃で3.5時間真空乾燥を行って溶媒を完全に除去し、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)(樹脂組成物)を得た。   To this was added 1.35 g of the n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (containing 0.583 mmol of copper salt and 140 mg of a near infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)). This dispersion was spread on a Teflon (registered trademark) vat and air-dried at 25 ° C. for 12 hours. Further, vacuum drying was performed at 40 ° C. for 5 hours and at 70 ° C. for 3.5 hours to completely remove the solvent, thereby obtaining a PVB resin (c1) (resin composition) in which copper salt fine particles were dispersed.

(評価)
前記銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、厚さ0.8mmの型枠および(株)神藤金属工業所製の圧縮成形機を用い、120℃、3MPaで予熱1分間を行った後、15MPaで3分間プレスし、樹脂シート(c1)を得た。
(Evaluation)
After the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles are dispersed is preheated at 120 ° C. and 3 MPa for 1 minute using a 0.8 mm thick formwork and a compression molding machine manufactured by Shinto Metal Industries, Ltd. Were pressed at 15 MPa for 3 minutes to obtain a resin sheet (c1).

<測定サンプル(c1)の作成>
前記樹脂シート(c1)の両面を、スライドガラス(厚み1.2〜1.5mm)で挟み、70℃のプレート上で合わせガラス(c1)とした。
<Preparation of measurement sample (c1)>
Both surfaces of the resin sheet (c1) were sandwiched between slide glasses (thickness 1.2 to 1.5 mm), and laminated glass (c1) on a 70 ° C. plate.

該合わせガラス(c1)をオートクレーブ内で、窒素雰囲気下、圧力1.5MPa、130℃で0.5時間加熱し、樹脂シートの両面にスライドガラスが配設された測定サンプル(c1)を得た。   The laminated glass (c1) was heated in an autoclave under a nitrogen atmosphere at a pressure of 1.5 MPa and 130 ° C. for 0.5 hours to obtain a measurement sample (c1) in which slide glasses were disposed on both surfaces of the resin sheet. .

<測定サンプル(c2)の作成>
前記樹脂シート(c1)を、さらに厚さ0.8mmの型枠および(株)神藤金属工業所製の圧縮成形機を用い、200℃、3MPaで予熱1分間を行った後、10MPaで5分間プレスし、樹脂シート(c2)を得た。
<Preparation of measurement sample (c2)>
The resin sheet (c1) was further preheated at 200 ° C. and 3 MPa for 1 minute using a 0.8 mm-thick mold and a compression molding machine manufactured by Shindo Metal Industry Co., Ltd., and then at 10 MPa for 5 minutes. The resin sheet (c2) was obtained by pressing.

樹脂シート(c1)を樹脂シート(c2)に代えた以外は、前記測定サンプル(c1)の作成と同様に行い、樹脂シートの両面にスライドガラスが配設された測定サンプル(c2)を得た。   Except that the resin sheet (c1) was replaced with the resin sheet (c2), the measurement sample (c2) was obtained in the same manner as the measurement sample (c1). .

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(c1)および(c2)の分光をそれぞれ以下の方法で測定した。
該測定サンプルの分光は、250〜2500nmの波長範囲で、分光光度計(U−4100形、(株)日立製作所製)を使用して測定した。C光源を使用し、三刺激値(X,Y,Z)の値を計算した。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement samples (c1) and (c2) were measured by the following methods, respectively.
The spectrum of the measurement sample was measured using a spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi, Ltd.) in the wavelength range of 250 to 2500 nm. Tristimulus values (X, Y, Z) were calculated using a C light source.

測定サンプル(c1)のYI(黄色度指数)は、3.5であり、測定サンプル(c2)のYIは、5.8であった。なおYIの値の計算は、下式により行った。
YI=(128X−106Z)/Y
測定サンプル(c1)のYIと測定サンプル(c2)のYIとの差(測定サンプル(c2)のYI−測定サンプル(c1)のYI)をΔYIとすると、ΔYIは2.3であった。
The measurement sample (c1) had a YI (yellowness index) of 3.5, and the measurement sample (c2) had a YI of 5.8. The YI value was calculated according to the following formula.
YI = (128X−106Z) / Y
When the difference between the YI of the measurement sample (c1) and the YI of the measurement sample (c2) (YI of the measurement sample (c2) −YI of the measurement sample (c1)) is ΔYI, ΔYI was 2.3.

<長期耐熱性の評価>
長期耐熱性試験は以下の方法で行った。100℃のオーブンに測定サンプル(c1)を入れ、1000時間保管した後、分光を測定してYIを求めた。
1000時間後のYIは10.4であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、6.9(10.4−3.5)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
The long-term heat resistance test was conducted by the following method. The measurement sample (c1) was put in an oven at 100 ° C. and stored for 1000 hours, and then the spectrum was measured to obtain YI.
YI after 1000 hours was 10.4, and ΔYI was 6.9 (10.4−3.5), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
耐光性試験は以下の方法で行った。スーパーキセノンウェザーメーター(スガ試験機(株)製)に測定サンプル(c2)を入れ、照射する光の強度は180W/m2、降雨なしの条件で150時間保管した後、分光を測定してYI、Tvis(可視光透過率)を求めた。
<Evaluation of light resistance>
The light resistance test was conducted by the following method. Put the measurement sample (c2) in a super xenon weather meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), store it for 180 hours under the conditions of 180 W / m 2 , no rain, and then measure the spectrum to measure YI , Tvis (visible light transmittance) was determined.

150時間後のTvisは38.0%であり、耐光性試験前の測定サンプル(c2)のTvisは86.7%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、48.7であった。
150時間後のYIは23.9であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、18.1(23.9−5.8)であった。
Tvis after 150 hours was 38.0%, and Tvis of the measurement sample (c2) before the light resistance test was 86.7%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 48 .7.
YI after 150 hours was 23.9, and ΔYI was 18.1 (23.9-5.8), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔実施例1〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)にメタノール0.3gを添加し、70℃で6時間撹拌し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(1)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
[Example 1]
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
0.3 g of methanol was added to 3.28 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)), The mixture was stirred at 70 ° C. for 6 hours to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (1) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(1)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0022mol含まれていた。   For the obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (1), the amount of acetic acid in the near-infrared absorber was measured in accordance with the above item [Measurement of acetic acid amount in near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0022 mol with respect to 1 mol of the acid copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(1)1.47g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(1)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt Toluene dispersion (1) 1.47 g (copper salt 0.583 mmol, including near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent 140 mg included)) A PVB resin (1) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(1)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(1)、測定サンプル(2)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (1) and the measurement sample (2) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (1) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(1)、測定サンプル(2)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(1)のYIは、4.6であり、測定サンプル(2)のYIは、6.6であった。測定サンプル(1)と測定サンプル(2)のΔYIは2.0であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (1) and the measurement sample (2) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (1) was 4.6, and YI of the measurement sample (2) was 6.6. ΔYI of the measurement sample (1) and the measurement sample (2) was 2.0.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(1)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは10.0であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、5.4(10.0−4.6)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (1).
YI after 1000 hours was 10.0, and ΔYI was 5.4 (10.0-4.6), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(2)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは62.5%であり、耐光性試験前の測定サンプル(2)のTvisは86.7%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、24.2であった。
150時間後のYIは15.5であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、8.9(15.5−6.6)であった。
<Evaluation of light resistance>
YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (2).
The Tvis after 150 hours was 62.5%, and the Tvis of the measurement sample (2) before the light resistance test was 86.7%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 24 .2.
YI after 150 hours was 15.5, and ΔYI was 8.9 (15.5-6.6) when the difference from YI before the light resistance test was ΔYI.

〔実施例2〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)にメタノール0.9gを添加し、25℃で4時間撹拌し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(2)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
[Example 2]
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
0.9 g of methanol was added to 3.28 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of a near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)), The mixture was stirred at 25 ° C. for 4 hours to prepare n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (2) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(2)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0062mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (2) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. The acetic acid was contained 0.0062 mol with respect to 1 mol of acid copper salts.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(2)1.72g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(2)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt The same procedure as in Comparative Example 1 was carried out except that 1.72 g of toluene dispersion (2) (0.583 mmol of copper salt and 140 mg of near-infrared absorber (copper salt of phosphonic acid and dispersant) was included) was obtained. A PVB resin (2) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(2)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(3)、測定サンプル(4)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (3) and the measurement sample (4) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (2) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(3)、測定サンプル(4)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(3)のYIは、4.1であり、測定サンプル(4)のYIは、6.2であった。測定サンプル(3)と測定サンプル(4)のΔYIは2.1であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (3) and the measurement sample (4) were measured by the same method as that shown in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (3) was 4.1, and YI of the measurement sample (4) was 6.2. ΔYI of the measurement sample (3) and the measurement sample (4) was 2.1.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(3)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは10.0であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、5.9(10.0−4.1)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (3).
YI after 1000 hours was 10.0, and ΔYI was 5.9 (10.0-4.1), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(4)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは46.8%であり、耐光性試験前の測定サンプル(4)のTvisは86.6%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、39.8であった。
150時間後のYIは21.8であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、15.6(21.8−6.2)であった。
<Evaluation of light resistance>
YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (4).
The Tvis after 150 hours was 46.8%, and the Tvis of the measurement sample (4) before the light resistance test was 86.6%. Therefore, if the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 39 .8.
YI after 150 hours was 21.8, and ΔYI was 15.6 (21.8-6.2), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔実施例3〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)を、120℃で6.5時間撹拌し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(3)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
Example 3
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
3.28 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)) at 120 ° C. for 6.5 hours The mixture was stirred to prepare n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (3) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(3)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0068mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (3) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0068 mol per 1 mol of the acid copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(3)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(3)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt Toluene dispersion (3) The same procedure as in Comparative Example 1 was conducted except that 1.35 g (0.583 mmol of copper salt and 140 mg of near-infrared absorber (copper salt of phosphonic acid and dispersant) was included) was obtained. A PVB resin (3) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(3)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(5)、測定サンプル(6)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (5) and the measurement sample (6) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (3) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(5)、測定サンプル(6)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(5)のYIは、3.9であり、測定サンプル(6)のYIは、6.1であった。測定サンプル(5)と測定サンプル(6)のΔYIは2.2であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (5) and the measurement sample (6) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (5) was 3.9, and YI of the measurement sample (6) was 6.1. ΔYI of the measurement sample (5) and the measurement sample (6) was 2.2.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(5)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは9.4であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、5.5(9.4−3.9)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (5).
YI after 1000 hours was 9.4, and ΔYI was 5.5 (9.4-3.9), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(6)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは46.5%であり、耐光性試験前の測定サンプル(6)のTvisは86.1%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、39.6であった。
150時間後のYIは19.4であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、13.3(19.4−6.1)であった。
<Evaluation of light resistance>
Except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (6), YI and Tvis were obtained in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1.
Tvis after 150 hours was 46.5%, and Tvis of the measurement sample (6) before the light resistance test was 86.1%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 39 .6.
YI after 150 hours was 19.4, and ΔYI was 13.3 (19.4-6.1), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔実施例4〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)に対し、12.5時間超音波照射を行い、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(4)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
Example 4
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
12.5 hours of ultrasonic waves for 3.28 g of the n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)) Irradiation was performed to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (4) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(4)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0041mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (4) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. The acetic acid was contained 0.0041 mol with respect to 1 mol of acid copper salts.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(4)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(4)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt Toluene dispersion (4) 1.35g (0.583mmol of copper salt, 140mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersant) included) A PVB resin (4) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(4)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(7)、測定サンプル(8)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (7) and the measurement sample (8) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (4) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(7)、測定サンプル(8)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(7)のYIは、5.4であり、測定サンプル(8)のYIは、8.0であった。測定サンプル(7)と測定サンプル(8)のΔYIは2.6であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (7) and the measurement sample (8) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (7) was 5.4, and YI of the measurement sample (8) was 8.0. ΔYI of the measurement sample (7) and the measurement sample (8) was 2.6.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(7)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは11.8であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、6.4(11.8−5.4)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (7).
YI after 1000 hours was 11.8, and ΔYI was 6.4 (11.8-5.4), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(8)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは58.2%であり、耐光性試験前の測定サンプル(8)のTvisは86.0%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、27.8であった。
150時間後のYIは15.8であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、7.8(15.8−8.0)であった。
<Evaluation of light resistance>
Except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (8), YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1.
The Tvis after 150 hours was 58.2%, and the Tvis of the measurement sample (8) before the light resistance test was 86.0%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 27 .8.
YI after 150 hours was 15.8, and ΔYI was 7.8 (15.8−8.0), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔実施例5〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)に対し、n−ブチルホスホン酸7.9mgをエタノール0.2mlに溶解した溶液を添加し、25℃で2時間撹拌し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(5)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
Example 5
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
N-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) 3.28 g obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)), n-butylphosphonic acid 7 A solution prepared by dissolving 9 mg in 0.2 ml of ethanol was added and stirred at 25 ° C. for 2 hours to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (5) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(5)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0005mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (5) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0005 mol with respect to 1 mol of the acid copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(5)1.41g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を143mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(5)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt The same procedure as in Comparative Example 1 was conducted except that the toluene dispersion (5) was replaced with 1.41 g (containing 0.583 mmol of copper salt and 143 mg of a near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersant)). A PVB resin (5) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(5)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(9)、測定サンプル(10)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (9) and the measurement sample (10) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (5) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(9)、測定サンプル(10)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(9)のYIは、7.3であり、測定サンプル(10)のYIは、9.5であった。測定サンプル(9)と測定サンプル(10)のΔYIは2.2であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (9) and the measurement sample (10) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (9) was 7.3, and YI of the measurement sample (10) was 9.5. ΔYI of the measurement sample (9) and the measurement sample (10) was 2.2.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(9)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは15.0であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、7.7(15.0−7.3)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (9).
YI after 1000 hours was 15.0, and ΔYI was 7.7 (15.0-7.3), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(10)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは81.1%であり、耐光性試験前の測定サンプル(10)のTvisは83.0%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、1.9であった。
150時間後のYIは11.3であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、1.8(11.3−9.5)であった。
<Evaluation of light resistance>
Except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (10), YI and Tvis were obtained in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1.
The Tvis after 150 hours was 81.1%, and the Tvis of the measurement sample (10) before the light resistance test was 83.0%. Therefore, when the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 1 .9.
YI after 150 hours was 11.3, and ΔYI was 1.8 (11.3-9.5), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔実施例6〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例1で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)3.28g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を340mg含む)に対し、プライサーフA219B(第一工業製薬)143.1mgをトルエン5mlに溶解した溶液を添加し、70℃で2.5時間撹拌し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
Example 6
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
Plysurf A219B (first) with respect to 3.28 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) obtained in Comparative Example 1 (containing 340 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)) Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.) Add a solution of 143.1 mg in 5 ml of toluene and stir at 70 ° C. for 2.5 hours to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (6) (near infrared absorber dispersion). did.

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0028mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (6) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0028 mol with respect to 1 mol of the acid copper salt.

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6)3.19gについて、エバポレーター(水浴40℃)で溶媒を留去した。これにトルエンを2.8g添加し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6’)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。   About 3.19 g of the obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (6), the solvent was distilled off with an evaporator (water bath 40 ° C.). To this was added 2.8 g of toluene to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (6 ') (near infrared absorber dispersion).

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c1)1.35g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を140mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(6’)3.00g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を199mg含む)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(6)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
1.35 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c1) (0.583 mmol of copper salt, 140 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent) included), n-butylphosphonic acid copper salt The same procedure as in Comparative Example 1 was repeated except that 3.00 g of toluene dispersion (6 ′) (0.583 mmol of copper salt and 199 mg of near-infrared absorber (copper salt of phosphonic acid and dispersant) was included) was performed. A PVB resin (6) (resin composition) in which salt fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(6)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(11)、測定サンプル(12)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (11) and the measurement sample (12) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (6) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(11)、測定サンプル(12)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(11)のYIは、4.2であり、測定サンプル(12)のYIは、6.3であった。測定サンプル(11)と測定サンプル(12)のΔYIは2.1であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (11) and the measurement sample (12) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
YI of the measurement sample (11) was 4.2, and YI of the measurement sample (12) was 6.3. ΔYI of the measurement sample (11) and the measurement sample (12) was 2.1.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(11)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは14.6であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、10.4(14.6−4.2)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (11).
YI after 1000 hours was 14.6, and ΔYI was 10.4 (14.6-4.2), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(12)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは48.4%であり、耐光性試験前の測定サンプル(12)のTvisは87.4%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、39.0であった。
150時間後のYIは6.6であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、0.3(6.6−6.3)であった。
<Evaluation of light resistance>
YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (12).
The Tvis after 150 hours was 48.4%, and the Tvis of the measurement sample (12) before the light resistance test was 87.4%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 39 0.0.
YI after 150 hours was 6.6, and ΔYI was 0.3 (6.6-6.3), where ΔYI was the difference from YI before the light resistance test.

〔比較例2〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
500mlナスフラスコに、酢酸銅一水和物7.00g(35.06mmol)、メタノール140gを加え、20℃で1時間攪拌し、A液を得た。
[Comparative Example 2]
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
To a 500 ml eggplant flask, 7.00 g (35.06 mmol) of copper acetate monohydrate and 140 g of methanol were added and stirred at 20 ° C. for 1 hour to obtain Liquid A.

別の容器に、プライサーフA219B(第一工業製薬)1.75g、n−ブチルホスホン酸4.82gをメタノール100gに溶解した溶液(B液)を作成した。
B液を、A液に対して3時間かけて滴下した。この反応液を20℃で10時間撹拌した。
In a separate container, a solution (Liquid B) in which 1.75 g of Prisurf A219B (Daiichi Kogyo Seiyaku) and 4.82 g of n-butylphosphonic acid were dissolved in 100 g of methanol was prepared.
B liquid was dripped over 3 hours with respect to A liquid. The reaction was stirred at 20 ° C. for 10 hours.

その後、エバポレーター(水浴60℃)で溶媒を留去した。
これにトルエン100gを加え、恒量になり、酢酸臭がしなくなるまでエバポレーターで留去した。
Then, the solvent was distilled off with an evaporator (water bath 60 ° C.).
Toluene (100 g) was added thereto, and the mixture was made constant, and distilled off with an evaporator until the acetic acid odor disappeared.

収量8.75g(収率100%)の青緑色固体が得られた。これにトルエン211gを加え、超音波照射を6時間行い、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。   A blue-green solid with a yield of 8.75 g (100% yield) was obtained. To this was added 211 g of toluene, and ultrasonic irradiation was performed for 6 hours to prepare an n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c2) (near infrared absorber dispersion).

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0049mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c2) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. The acetic acid was contained 0.0049 mol with respect to 1 mol of acid copper salts.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
300ml三角フラスコに、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)1.90g、トルエン250ml、ポリビニルブチラール(PVB)5.00gを加えた。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
To a 300 ml Erlenmeyer flask, 1.90 g of triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), 250 ml of toluene, and 5.00 g of polyvinyl butyral (PVB) were added.

これに前記n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)3.65g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を145mg含む)を添加し、20℃で10時間撹拌後、1.5時間超音波照射し、PVBを均一に溶解させた。   To this, 3.65 g of the n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c2) (containing 0.583 mmol of copper salt and 145 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)) was added, and 20 ° C. After stirring for 10 hours, ultrasonic irradiation was performed for 1.5 hours to uniformly dissolve PVB.

この分散液をテフロン(登録商標)製バットに広げ、12時間20℃で風乾した。さらに40℃で5時間、70℃で3.5時間真空乾燥を行って溶媒を完全に除去し、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c2)(樹脂組成物)を得た。   This dispersion was spread on a Teflon (registered trademark) vat and air-dried at 20 ° C. for 12 hours. Further, vacuum drying was performed at 40 ° C. for 5 hours and at 70 ° C. for 3.5 hours to completely remove the solvent, thereby obtaining a PVB resin (c2) (resin composition) in which copper salt fine particles were dispersed.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c2)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(c3)、測定サンプル(c4)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (c3) and the measurement sample (c4) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (c2) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(c3)、測定サンプル(c4)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
測定サンプル(c3)のYIは、5.5であり、測定サンプル(c4)のYIは、8.1であった。測定サンプル(c3)と測定サンプル(c4)のΔYIは2.6であった。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (c3) and the measurement sample (c4) were measured by the same method as the method described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.
The YI of the measurement sample (c3) was 5.5, and the YI of the measurement sample (c4) was 8.1. ΔYI of the measurement sample (c3) and the measurement sample (c4) was 2.6.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(c3)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは11.0であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、5.5(11.0−5.5)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (c3).
YI after 1000 hours was 11.0, and ΔYI was 5.5 (11.0-5.5) when the difference from YI before the long-term heat resistance test was ΔYI.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(c4)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは44.0%であり、耐光性試験前の測定サンプル(c4)のTvisは86.3%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、42.3であった。
150時間後のYIは、24.6であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、16.5(24.6−8.1)であった。
<Evaluation of light resistance>
YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (c4).
The Tvis after 150 hours was 44.0%, and the Tvis of the measurement sample (c4) before the light resistance test was 86.3%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 42 .3.
YI after 150 hours was 24.6, and ΔYI was 16.5 (24.6-8.1) when the difference from YI before the light resistance test was ΔYI.

〔実施例7〕
(銅塩分散液(近赤外線吸収剤分散液)の調製)
比較例2で得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)8.86g(近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を352mg含む)を、室温で3か月間保管し、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(7)(近赤外線吸収剤分散液)を作成した。
Example 7
(Preparation of copper salt dispersion (near infrared absorber dispersion))
8.86 g of the n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c2) obtained in Comparative Example 2 (containing 352 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)) was stored at room temperature for 3 months. , N-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (7) (near infrared absorber dispersion) was prepared.

得られたn−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(7)について、前記〔近赤外線吸収剤の酢酸量の測定〕の項目に従い、近赤外線吸収剤の酢酸量を測定したところ、n−ブチルホスホン酸銅塩1molに対して、酢酸は0.0018mol含まれていた。   The obtained n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (7) was measured for the amount of acetic acid in the near-infrared absorber in accordance with the item [Measurement of acetic acid amount in the near-infrared absorber]. Acetic acid was contained in an amount of 0.0018 mol per 1 mol of the acid copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂(樹脂組成物)の調製)
n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(c2)3.65g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を145mg含む)を、n−ブチルホスホン酸銅塩トルエン分散液(7)3.65g(銅塩を0.583mmol、近赤外線吸収剤(ホスホン酸銅塩および分散剤)を145mg含む)に代えた以外は、比較例2と同様に行い、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(7)(樹脂組成物)を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (resin composition))
3.65 g of n-butylphosphonic acid copper salt toluene dispersion (c2) (containing 0.583 mmol of copper salt and 145 mg of near-infrared absorber (phosphonic acid copper salt and dispersing agent)), n-butylphosphonic acid copper salt Toluene dispersion (7) 3.65 g (0.583 mmol of copper salt, 145 mg of near-infrared absorbing agent (copper phosphonate and dispersant) included) A PVB resin (7) (resin composition) in which fine particles were dispersed was obtained.

(評価)
銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(c1)を、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂(7)に代えた以外は、比較例1と同様に行い、測定サンプル(13)、測定サンプル(14)を作成した。
(Evaluation)
The measurement sample (13) and the measurement sample (14) were performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that the PVB resin (c1) in which the copper salt fine particles were dispersed was replaced with the PVB resin (7) in which the copper salt fine particles were dispersed. Created.

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(13)、測定サンプル(14)の分光を比較例1の<耐熱性の評価>の項に示した方法と同様の方法で測定した。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement sample (13) and the measurement sample (14) were measured by the same method as that described in the section <Evaluation of heat resistance> of Comparative Example 1.

測定サンプル(13)のYIは、10.4であり、測定サンプル(14)のYIは、13.2であった。測定サンプル(13)と測定サンプル(14)のΔYIは2.8であった。   YI of the measurement sample (13) was 10.4, and YI of the measurement sample (14) was 13.2. ΔYI of the measurement sample (13) and the measurement sample (14) was 2.8.

<長期耐熱性の評価>
測定サンプル(c1)を測定サンプル(13)に代えた以外は、比較例1の<長期耐熱性の評価>の項と同様に行い、YIを求めた。
1000時間後のYIは13.8であり、長期耐熱性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、3.4(13.8−10.4)であった。
<Evaluation of long-term heat resistance>
YI was determined in the same manner as in the section <Evaluation of long-term heat resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c1) was replaced with the measurement sample (13).
YI after 1000 hours was 13.8, and ΔYI was 3.4 (13.8-10.4), where ΔYI was the difference from YI before the long-term heat resistance test.

<耐光性の評価>
測定サンプル(c2)を測定サンプル(14)に代えた以外は、比較例1の<耐光性の評価>の項と同様に行い、YI、Tvisを求めた。
150時間後のTvisは73.5%であり、耐光性試験前の測定サンプル(14)のTvisは82.4%であったので、試験前後のTvisの差をΔTvisとすると、ΔTvisは、8.9であった。
<Evaluation of light resistance>
YI and Tvis were determined in the same manner as in the section <Evaluation of light resistance> in Comparative Example 1 except that the measurement sample (c2) was replaced with the measurement sample (14).
Tvis after 150 hours was 73.5%, and Tvis of the measurement sample (14) before the light resistance test was 82.4%. Therefore, assuming that the difference in Tvis before and after the test is ΔTvis, ΔTvis is 8 .9.

150時間後のYIは、17.7であり、耐光性試験前のYIとの差をΔYIとすると、ΔYIは、4.5(17.7−13.2)であった。
比較例1と実施例1〜6とを比較、比較例2と実施例7とを比較すると、工程Dを行うことにより、樹脂組成物の耐光性が向上していることがわかる。
YI after 150 hours was 17.7, and ΔYI was 4.5 (17.7-13.2) when the difference from YI before the light resistance test was ΔYI.
When Comparative Example 1 is compared with Examples 1 to 6 and Comparative Example 2 and Example 7 are compared, it is understood that the light resistance of the resin composition is improved by performing Step D.

Claims (10)

有機酸銅塩および有機酸銅塩の水和物の少なくとも一方と、下記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物とを溶媒中で反応させ、近赤外線吸収剤を含む反応混合物を得る工程A、
前記反応混合物中の液体成分の少なくとも一部を除去する工程B、
前記工程Bで得られた液体成分の少なくとも一部が除去された反応混合物と、分散媒とから近赤外線吸収剤分散液を得る工程C、および、
前記近赤外線吸収剤分散液中の近赤外線吸収剤から有機酸の少なくとも一部を除去する工程Dを有する、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液の製造方法。
Figure 2016094512
[一般式(1)中、R1は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
A step of reacting at least one of an organic acid copper salt and an organic acid copper salt hydrate with a phosphonic acid compound represented by the following general formula (1) in a solvent to obtain a reaction mixture containing a near-infrared absorber. A,
Removing at least a portion of the liquid components in the reaction mixture, B
Step C for obtaining a near-infrared absorbent dispersion from the reaction mixture from which at least a part of the liquid component obtained in Step B has been removed, and a dispersion medium, and
The manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion containing the refine | purified near-infrared absorber which has the process D which removes at least one part of an organic acid from the near-infrared absorber in the said near-infrared absorber dispersion.
Figure 2016094512
[In General Formula (1), R 1 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]
前記工程Dが、下記(1)〜(9)から選択される少なくとも1種の工程である請求項1に記載の近赤外線吸収剤分散液の製造方法。
(1)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(2)近赤外線吸収剤分散液にアルコールを加え、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(3)近赤外線吸収剤分散液を、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(4)近赤外線吸収剤分散液に、4時間以上超音波照射を行い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(5)近赤外線吸収剤分散液に前記一般式(1)で表されるホスホン酸化合物を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(6)近赤外線吸収剤分散液を、0〜40℃で20〜200日保持し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(7)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(8)近赤外線吸収剤分散液に分散剤を添加し、温度40〜150℃で加熱し、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
(9)前記工程Cにおいて分散媒の少なくとも一部としてアルコールを用い、精製された近赤外線吸収剤を含む近赤外線吸収剤分散液を得る工程
The method for producing a near-infrared absorbent dispersion according to claim 1, wherein the step D is at least one step selected from the following (1) to (9).
(1) Step of adding a near-infrared absorbent dispersion to obtain a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent (2) Adding an alcohol to the near-infrared absorbent dispersion and a temperature of 40 to 150 The process of obtaining the near-infrared absorber dispersion containing the refined near-infrared absorber by heating at 0 ° C. (3) The near-infrared absorber purified by heating the near-infrared absorber dispersion at a temperature of 40 to 150 ° C. (4) A step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorbent by irradiating the near-infrared absorbent dispersion with ultrasonic waves for 4 hours or more (4) 5) Step of adding a phosphonic acid compound represented by the general formula (1) to the near-infrared absorber dispersion to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber (6) Near-infrared absorption The agent dispersion is 20 at 0-40 ° C. Step of obtaining a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber for 200 days (7) A near-infrared ray containing a purified near-infrared absorber by adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion Step of obtaining an absorbent dispersion (8) Step of adding a dispersant to the near-infrared absorber dispersion and heating at a temperature of 40 to 150 ° C. to obtain a near-infrared absorber dispersion containing a purified near-infrared absorber. (9) A step of obtaining a near-infrared absorbent dispersion containing a purified near-infrared absorber using alcohol as at least a part of the dispersion medium in the step C.
前記工程Aにおける反応が分散剤存在下で行われる請求項1または2に記載の近赤外線吸収剤分散液の製造方法。   The manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of Claim 1 or 2 with which reaction in the said process A is performed in dispersing agent presence. 前記工程Aで用いられる分散剤が、下記一般式(2)で表されるリン酸モノエステルおよび下記一般式(3)で表されるリン酸ジエステル、およびこれらのアルカリ金属塩から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物である、請求項3に記載の近赤外線吸収剤分散液の製造方法。
Figure 2016094512
[一般式(2)および(3)中、R2、R3およびR4は、−(CH2CH2O)n12で表される1価の基であり、nは2〜65の整数であり、R12は、炭素数6〜35のアルキル基または炭素数6〜35のアルキルフェニル基を示す。ただし、R2、R3およびR4は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
The dispersant used in Step A is at least selected from a phosphoric acid monoester represented by the following general formula (2), a phosphoric acid diester represented by the following general formula (3), and alkali metal salts thereof. The manufacturing method of the near-infrared absorber dispersion liquid of Claim 3 which is 1 type of phosphate ester compounds.
Figure 2016094512
[In General Formulas (2) and (3), R 2 , R 3 and R 4 are monovalent groups represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 12 , and n is from 2 to 65. It is an integer and R 12 represents an alkyl group having 6 to 35 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 35 carbon atoms. However, R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different. ]
さらに、工程Dで得られた近赤外線吸収剤分散液中の、分散媒および有機酸の一部を除去する工程Eを有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の近赤外線吸収剤分散液の製造方法。   Furthermore, the near-infrared absorber as described in any one of Claims 1-4 which has the process E which removes a part of dispersion medium and organic acid in the near-infrared absorber dispersion liquid obtained at the process D. A method for producing a dispersion. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の製造方法で得られる近赤外線吸収剤分散液。   The near-infrared absorber dispersion liquid obtained with the manufacturing method as described in any one of Claims 1-5. 請求項6記載の近赤外線吸収剤分散液から得られる近赤外線吸収剤。   The near-infrared absorber obtained from the near-infrared absorber dispersion liquid of Claim 6. 請求項7に記載の近赤外線吸収剤と樹脂とを含む樹脂組成物。   The resin composition containing the near-infrared absorber of Claim 7, and resin. 前記請求項8に記載の樹脂組成物から形成される合わせガラス用中間膜。   An interlayer film for laminated glass formed from the resin composition according to claim 8. 前記請求項9に記載の合わせガラス用中間膜を有する合わせガラス。   A laminated glass having the interlayer film for laminated glass according to claim 9.
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