JP2016092358A - 電子部品搭載用基板、及び、電子部品搭載用基板の製造方法 - Google Patents

電子部品搭載用基板、及び、電子部品搭載用基板の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 孔に挿嵌された金属ブロックを備えた電子部品搭載用基板であって、金属ブロックと第2導体層の間の導通が良好に確保された電子部品搭載用基板を提供すること。【解決手段】 電子部品を搭載する電子部品搭載用基板であって、上記電子部品搭載用基板は、第1の主面及び上記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材と、上記基材の第1の主面に形成された第1導体層と、上記基材の第2の主面に形成された第2導体層と、上記第1導体層と上記基材、及び、上記第2導体層を貫通する孔と、上記孔に挿嵌された金属ブロックとからなり、上記基材は上記第2導体層側へ屈曲して上記金属ブロックと接する屈曲部を有し、上記金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分は曲面形状であり、上記孔は、上記第1導体層側の第1嵌入口と、上記第2導体層側の第2嵌入口とを有していて、上記金属ブロックは上記第2嵌入口と接していることを特徴とする電子部品搭載用基板。【選択図】 図1

Description

本発明は、電子部品搭載用基板、及び、電子部品搭載用基板の製造方法に関する。
LED(発光ダイオード)等の発光素子は、携帯電話や液晶テレビのバックライトとして用いられている。このような発光素子は、発光素子搭載用部材に搭載されて用いられることになる。
このような発光素子搭載用部材としては種々の形態のものがあり、例えば、端子部材を樹脂モールド成形によって一体化して構成したものや、リードフレームを屈曲形成することによって構成したもの、更にはプリント配線基板をベースとしたもの等がある。この中で、放熱性、小型化、コスト等を勘案すると、プリント配線基板をベースとした発光素子搭載用基板が望まれることが多い。
近年、高輝度に発光する発光素子の需要があり、複数のLEDをモジュール化し輝度を向上させる研究や、LED自身の輝度を向上させる研究が進んでいる。
LEDをモジュール化し輝度を向上させるために高密度にLEDを発光素子搭載用基板に実装することが行われている。LEDは発熱量が少ない発光素子として知られているが、このように高密度化すると無視できない程度の発熱を生じることになる。
発光素子からの発熱を好適に放出するための基板として特許文献1には、以下の構成を有する発光素子搭載用基板が開示されている。
すなわち、特許文献1には、面発光型の発光素子を搭載する素子搭載面と、上記発光素子が発する光を反射するリフレクター面とを備えた発光素子搭載用基板であって、上記素子搭載面側に凹状部、背面側に凸状部をそれぞれ形成するように屈曲したキャビティ形成部を備えた絶縁樹脂からなる基材と、該基材の上記素子搭載面側に形成された第1導体層と、上記基材の背面側に形成された第2導体層と、上記凹状部の底面及び上記凸状部の頂面にそれぞれ露出するように上記基材を貫通する金属ブロックとを有し、上記素子搭載面の周囲における上記凹状部の内表面に、上記リフレクター面が形成されていることを特徴とする発光素子搭載用基板が開示されている。
特許文献1の発光素子搭載用基板は、基材を貫通する金属ブロックを有している。金属ブロックは、熱伝導性が高く、発光素子から発生した熱を発光素子搭載用基板の背面へ放熱するための経路としての役割を果たすことができる。そのため、LED等から発熱が生じたとしても、その熱を好適に放熱できる。つまり、特許文献1の発光素子搭載用基板は放熱性に優れる基板である。
特開2014−135306号公報
特許文献1の発光素子搭載用基板は、両面導体層付基材を打ち抜いて挿嵌孔を形成し、さらに金属ブロックを挿嵌孔に挿嵌することによって作製される。
挿嵌孔を形成する際には、通常は第1導体層側からパンチングによる打ち抜きを行い、金属ブロックを第1導体層側から挿嵌孔に挿嵌する。
図13(a)、図13(b)、図13(c)及び図13(d)は、第1導体層側からパンチングによる打ち抜きを行い、金属ブロックを第1導体層側から挿嵌孔に挿嵌する工程により発光素子搭載用基板を製造する工程を模式的に示す工程図である。
まず、図13(a)に示すように、基材2に第1導体層21及び第2導体層31が形成された両面導体基板5を準備する。そして、パンチ80により第1導体層21側からパンチングによる打ち抜きを行う。
その結果、図13(b)に示すように孔50が形成されるが、この際、基材2が打ち抜きにより第2導体層31側に屈曲して屈曲部2bが形成される。
そして、図13(c)に示すように金属ブロック60を第1導体層21側から孔50に挿嵌すると、図13(d)に示すように基材2が第2導体層31側にさらに屈曲して屈曲部2cが形成される。
その結果、基材2(屈曲部2c)が両面導体基板の第2導体層31側の表面にまで到達して、結果的に金属ブロック60と第2導体層31の間に入ってしまい、金属ブロックと第2導体層の間の導通が妨げられるという問題が生じることがあった。
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、本発明は、孔に挿嵌された金属ブロックを備えた電子部品搭載用基板であって、金属ブロックと第2導体層の間の導通が良好に確保された電子部品搭載用基板を提供すること、及び、該電子部品搭載用基板の製造方法を提供することを目的とする。
すなわち、本発明の電子部品搭載用基板は、電子部品を搭載する電子部品搭載用基板であって、
上記電子部品搭載用基板は、
第1の主面及び上記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材と、
上記基材の第1の主面に形成された第1導体層と、
上記基材の第2の主面に形成された第2導体層と、
上記第1導体層と上記基材、及び、上記第2導体層を貫通する孔と、
上記孔に挿嵌された金属ブロックとからなり、
上記基材は上記第2導体層側へ屈曲して上記金属ブロックと接する屈曲部を有し、
上記金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分は曲面形状であり、
上記孔は、上記第1導体層側の第1嵌入口と、上記第2導体層側の第2嵌入口とを有していて、上記金属ブロックは上記第2嵌入口と接していることを特徴とする。
本発明の電子部品搭載用基板は、上記第1導体層、上記基材及び上記第2導体層を貫通する金属ブロックを備えている。
金属ブロックは、めっき等のケミカルプロセスを経てスルーホール内に形成されるフィルドビアとは異なり、内部にボイドが形成されることがない。そのため、金属ブロックの伝熱効率が小さくなることもなく、放熱性を確保することができる。
上記電子部品搭載用基板は、基材が第2導体層側へ屈曲している屈曲部を有しているものの、その屈曲の度合いが小さく、金属ブロックと第2導体層の間の導通を妨げない程度の屈曲になっている。
そして、金属ブロックが第2嵌入口と接している。第2嵌入口は第2導体層を貫通する孔の一部であるので、金属ブロックが第2嵌入口と接しているということは金属ブロックと第2導体層とが接していて金属ブロックと第2導体層の間の導通が良好に確保された状態であることを意味している。すなわち、本発明の電子部品搭載用基板は金属ブロックと第2導体層の間の導通が良好に確保された電子部品搭載用基板となる。
また、金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分は曲面形状となっている。金属ブロックの孔への挿嵌時に金属ブロックを第2導体層側から挿嵌すると金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分が側壁抵抗により引っ張られてこのような形状となる。第1導体層側の表面の外周部分が曲面形状であることで、容易にめっき条件を調整して電子部品搭載用基板の第1導体層側の表面に凹部を形成することができる。そのため、電子部品実装時に電子部品が横ずれなどをおこしても凹部で電子部品が引っ掛かるため、大きくずれることがなく、電子部品と基板との導通を確保することができる。
本発明の電子部品搭載用基板において、上記金属ブロックの上記第1導体層側の表面の先端部分は平坦面であることが好ましい。
第1導体層側の表面の先端部分が平坦面であると、この部分をパッドとして使用する際に搭載する電子部品が傾くことを防止することができる。
本発明の電子部品搭載用基板において、上記曲面形状は、上記孔に上記金属ブロックを挿嵌する工程により形成されていることが好ましい。
本発明の電子部品搭載用基板においては、上記基材が上記屈曲部となっている部分において上記第2導体層は厚さを有しており、その部分の厚さは上記第2導体層の他の部分の厚さよりも小さいことが好ましい。
本発明の電子部品搭載用基板においては、上記基材の上記屈曲部はパンチングにより形成されていることが好ましい。パンチングだと複数の異なる加工も一度に行うことができ、効率的に生産が可能となる。また、パンチングの際に電子部品搭載用基板を積層させることで、加工バリを制御することができる。
本発明の電子部品搭載用基板において、上記金属ブロックの上記第1導体層側の先端部分は上記第1導体層と同平面に形成され、上記第2導体層側の先端部分は上記第2導体層と同平面に形成されていることが好ましい。
本発明の電子部品搭載用基板において、上記金属ブロックは、上記第2導体層の表面から突出する第2突出部を有し、
上記第2突出部は、上記第2嵌入口の周囲を覆うように広がっている第2延設部を有することが好ましい。
上記部位に第2延設部が形成されていると、第2延設部が、金属ブロックが電子部品搭載用基板から分離し抜け落ちることを防ぐアンカーとして機能する。そのため、本発明の電子部品搭載用基板を折り曲げた場合に、金属ブロックが第1導体層側から分離し抜け落ちることを防ぐことができる。
また、基材が屈曲している部分の第2導体層は薄くなっているため、第2延設部が第2導体層上に形成されることによって、第2導体層の屈曲部以外の厚みと、第2導体層の屈曲部の厚みとの差を小さくすることができる。そのため、電流が流れた際、第2導体層内での電流密度の分布が小さくなり、発熱も抑制される。
本発明の電子部品搭載用基板において、上記第1導体層側には素子搭載部が形成されており、
上記素子搭載部を露出するように上記第1導体層側の最表面に形成された光反射層をさらに備えることが好ましい。
本発明の電子部品搭載用基板に発光素子を搭載する場合には、通常、その発光素子を保護する目的で発光素子は透明なカバーで覆われることになる。発光素子が光を発する場合、大部分の光はカバーを透過することになるが、一部の光は、カバーにより反射されることになる。電子部品搭載用基板において第1導体層側の最表面に光反射層が形成されていると、その反射された光を再反射することができる。
従って、輝度を高めることができる。
本発明の電子部品搭載用基板の製造方法は、電子部品を搭載する電子部品搭載用基板を製造する方法であって、
第1の主面及び上記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材の上記第1の主面に第1導体層が形成され、上記第2の主面に第2導体層が形成された両面導体基板を準備する両面導体基板準備工程と、
上記第1導体層側からパンチングにより上記第1導体層、上記基材及び上記第2導体層を貫通する孔を形成する孔形成工程と、
上記第2導体層側から金属ブロックを上記孔に挿嵌する挿嵌工程とを行うことを特徴とする。
本発明の電子部品搭載用基板の製造方法では、第1導体層側からパンチングにより孔を形成し、第2導体層側から金属ブロックを穴に挿嵌する。
パンチングにより基材は第2導体層側に屈曲するが、第2導体層側から金属ブロックを挿嵌すると基材が第1導体層側に引っ張られて第1導体層側に戻る。そのため、金属ブロックの挿嵌の際に基材が第2導体層側にさらに屈曲するということはなく、基材の位置はパンチング前の位置に近づくことになる。
そのため、基材が金属ブロックと第2導体層の間に入ることが防止されて、金属ブロックと第2導体層の間の導通が良好に確保された電子部品搭載用基板を製造することができる。
本発明の電子部品搭載用基板の製造方法では、上記挿嵌工程の後、所定の形状を有する金型を用いて上記金属ブロックが挿嵌された上記電子部品搭載用基板をプレス加工することにより、上記第1導体層の表面及び上記第2導体層の表面に対する上記金属ブロックの表面の位置を制御するプレス工程と、
上記第1導体層の表面の平面度を向上させるコイニング工程をさらに行うことが好ましい。
プレス加工することにより、第1導体層の表面及び第2導体層の表面に対する金属ブロックの表面の位置を制御することができる。
また、コイニングすることにより、第1導体層の表面の平面度を高めると、この部分をパッドとして使用する際に電子部品の実装性を高めることができる。さらに、第1導体層の表面の平面度が高いと、発光素子を搭載した場合の光軸が揃う。
なお、コイニングとは部分的に圧力を加える事で内部塑性変形を起こさせて、圧力を加えた部分の平面度を改善する方法である。
図1は、本発明の電子部品搭載用基板の一例を模式的に示す断面図である。 図2は、金属めっき層、金めっき層及び光反射層を設けた電子部品搭載用基板の一例を模式的に示す断面図である。 図3は、本発明の電子部品搭載用基板に発光素子を搭載してなる発光装置の一例を模式的に示す断面図である。 図4は、光反射層の作用を模式的に説明する図である。 図5は、本発明の電子部品搭載用基板の他の一例を模式的に示す断面図である。 図6(a)、図6(b)及び図6(c)は、本発明の電子部品搭載用基板が用いられた発光素子モジュールの一例を模式的に示す平面図である。 図7(a)、図7(b)、図7(c)及び図7(d)は、本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一例を模式的に示す工程図である。 図8(a)、図8(b)及び図8(c)は、パターン形成工程の一例を模式的に示す図である。 図9は、プレス工程を模式的に示す図である。 図10は、金属めっき工程を模式的に示す図である。 図11は、金めっき工程を模式的に示す図である。 図12は、光反射層形成工程を模式的に示す図である。 図13(a)、図13(b)、図13(c)及び図13(d)は、第1導体層側からパンチングによる打ち抜きを行い、金属ブロックを第1導体層側から挿嵌孔に挿嵌する工程により発光素子搭載用基板を製造する工程を模式的に示す工程図である。
以下、本発明の電子部品搭載用基板及び電子部品搭載用基板の製造方法について具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の記載に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
本発明の電子部品搭載用基板について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の電子部品搭載用基板の一例を模式的に示す断面図である。
図1に示す電子部品搭載用基板は、後述する光反射層を備えていない基板である。
図1に示すように、電子部品搭載用基板1は、絶縁樹脂からなり、第1の主面11及び第1の主面11と反対側の第2の主面12を備える基材2と、基材2の第1の主面11に形成された第1導体層21と、基材2の第2の主面12に形成された第2導体層31とを備えている。
基材2を構成する絶縁樹脂としては、特に限定されないが、柔軟性を備える絶縁樹脂であることが好ましい。このような絶縁樹脂の構成材料は、ポリイミド、ガラスエポキシ等が挙げられ、これらの中ではポリイミドであることが好ましい。絶縁樹脂がポリイミドであると、その絶縁樹脂は柔軟性と絶縁性との双方を兼ね備える。従って、充分な絶縁性を確保しつつ用途に応じて形状を変形させることができる。
基材2の厚さは特に限定されないが、30〜70μmであることが好ましい。30μmよりも小さいと曲がりやすく、さらに屈曲しやすい基板となるため、配線や電子部品との接合が破壊されやすくなる。また、70μmよりも大きいと、パンチングによって屈曲部を形成する際に、貫通屈曲部の周辺にクラックが生じやすくなり、信頼性を低下させることがある。
第1導体層21及び第2導体層31の構成材料は、特に限定されないが、銅、ニッケル等であることが好ましい。
これら構成材料は、電気伝導率が良好であり導体として適している。
第1導体層21及び第2導体層31の厚さは特に限定されないが、基材2よりも厚いことが好ましい。また、10〜300μmであることが好ましい。10μmよりも小さいと、ハンドリングの際に導体層が破壊され易くなり、不良率が増加してしまう。また、300μmよりも大きいと、電子部品搭載用基板を曲げて使用する際に、曲げることで基材への導体層からの圧縮応力が大きくかかるため、基材が破壊されやすくなる。
図1に示すように、さらに、電子部品搭載用基板1は、第1導体層21、基材2及び第2導体層31を貫通する孔50と、孔50に嵌入された金属ブロック60とを備えている。
金属ブロック60は、めっき等のケミカルプロセスを経てスルーホール内に形成されるフィルドビアとは異なり、内部にボイドが形成されたり、表面に陥没や盛り上がり等が生じたりすることがない。内部にボイドが形成されることがないため、金属ブロック60の伝熱効率が小さくなることもなく、放熱性を確保することができる。
金属ブロック60の構成材料は、特に限定されないが、電気伝導率及び熱伝導率に優れる銅であることが好ましい。
また、金属ブロック60の形状は、特に限定されないが、底面(表面)が平坦な柱状であることが好ましい。このような形状としては、例えば、円柱、四角柱、六角柱、八角柱等が挙げられる。
基材2と第1導体層21、第2導体層31及び金属ブロック60の基本構成は上記のとおりであるが、さらに以下の構成を有している。
基材2は、第2導体層31の側に屈曲して金属ブロック60と接する屈曲部2aを有する。
屈曲部2aは第2導体層31側へ屈曲しているものの、その屈曲の度合いは小さく、電子部品搭載用基板の表面には到達しておらず、金属ブロック60と第2導体層31の間の導通を妨げない程度の屈曲になっている。
基材2が屈曲部2aとなっている部分において、第2導体層31は厚さ(図1において両矢印tで示す厚さ)を有している。この部分の厚さは第2導体層31の他の部分の厚さ(図1において両矢印Tで示す厚さ)よりも小さい。
そして、孔50の第2導体層31側の入口である第2嵌入口32と金属ブロック60とが接している。第2嵌入口32は第2導体層31の一部であるともいえるので、金属ブロック60が第2嵌入口32と接しているということは金属ブロック60と第2導体層31とが接していて金属ブロック60と第2導体層31の間の導通が良好に確保された状態であることを意味する。
また、金属ブロック60は第1導体層21とも電気的に接続されていることが好ましい。
金属ブロック60の第2導体層31側の表面につき、その外周部分63は曲面形状とはなっていない。また、金属ブロック60の第2導体層31側の表面の先端部分64は平坦面となっている。
すなわち、金属ブロック60の第2導体層31側の表面は全体が平坦面となっている。
さらに、金属ブロック60の第2導体層31側の表面の先端部分64が第2導体層31の表面35と同平面を形成している。
金属ブロック60の第1導体層21側の表面の外周部分61は曲面形状となっている。
一方、孔50の第1導体層21側の入口は第1嵌入口22である。
ここで金属ブロック60と孔50について、第1導体層21側での位置関係をみると、孔50の第1嵌入口22と、金属ブロック60の外周部分61との間には凹部(隙間)が生じている。
このような凹部が生じていると、電子部品実装時に電子部品が横ずれなどをおこしても凹部で電子部品が引っ掛かるため、大きくずれることがなく、電子部品と基板との導通を確保することができる。
また、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62は平坦面となっている。
第1導体層側の表面の先端部分が平坦面であると、この部分をパッドとして使用する際に搭載する電子部品が傾くことを防止することができる。
さらに、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62が第1導体層21の表面25と同平面を形成している。同平面だと電子部品の実装時の横ずれを抑制し、実装精度を向上させることができる。
金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62は、発光素子等の電子部品の実装パッドとして使用可能であり、この上に電子部品の電極を配置することができる。
金属ブロックの表面を実装パッドとして使用する場合、金属ブロックの表面を実装パッドの最表面としてもよいし、金属ブロックの表面の上に金属めっき、金めっきによる導体層が形成されてなる実装パッドであってもよい。
金属ブロックの表面の上に導体層が形成されてなる実装パッドの構成については後述する。
金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62は、同一基板内に複数個所存在している。図1には金属ブロックが2つ示されており、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62も2個所示されている。
そして、同一基板面内に複数個所存在している第1導体層側の表面の先端部分が構成する仮想平面のコプラナリティーが3〜20μmであることが好ましい。3μm未満の場合、発光素子を搭載して発光させたときに光が乱反射不足となってしまう。また、20μmよりも大きいと電子部品を実装する際に傾いて、実装不良になってしまう。
仮想平面のコプラナリティーは、電子部品搭載用基板を水平面に載置して金属ブロックの第1導体層側の表面の先端部分の高さを測定した際の、金属ブロックの第1導体層側の表面の先端部分の高さの最高点と最低点の差として定める。
金属ブロックの第1導体層側の表面の先端部分の高さの測定は、3次元形状測定装置等で行うことができる。
また、金属ブロックの表面に導体層が形成されている場合、導体層の最表面(実装パッドの最表面)の高さを測定した値を金属ブロックの第1導体層側の表面の先端部分の高さとして仮想平面のコプラナリティーを算出する。
上記コプラナリティーがこのような範囲であるということは、複数の実装パッドの高さが揃った基板であるということを意味する。そのため、電子部品搭載用基板に発光素子を搭載させた場合に、全ての実装パッドが発光素子の電極と接続されるため、接続不良が防止される。また、搭載した発光素子の傾きが生じないので、発光素子の光軸が傾くという問題も生じない。
図2は、金属めっき層、金めっき層及び光反射層を設けた電子部品搭載用基板の一例を模式的に示す断面図である。
図2に示す電子部品搭載用基板10は、図1に示す本発明の電子部品搭載用基板1の第1導体層21側に金属めっき層70、金めっき層82及び光反射層51を設けた基板であり、電子部品搭載用基板10も本発明の電子部品搭載用基板である。
電子部品搭載用基板10では、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面25に、金属めっき層70が形成されている。
金属めっき層70が形成されていると、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面25が金属めっき層70により保護されることになり、金属ブロック60及び第1導体層21を腐食から保護することができる。
また、金属めっき層70は、金属ブロック60の第1導体層21側の表面と第1導体層21の表面25とを覆うように形成されていることが好ましい。
金属ブロック60は、孔50に挿嵌されているものの、衝撃等により孔50から飛び出ることがある。
しかし、金属ブロック60の第1導体層21側の表面と第1導体層21の表面25とを覆うように金属めっき層70が形成されていると、金属めっき層70が金属ブロック60を固定し、金属ブロック60が孔50から飛び出にくくすることができる。
金属めっき層70は、ニッケル及び銀からなる群から選択される少なくとも一種の金属からなることが好ましい。
金属めっき層70がこれらの金属からなると、金属めっき層70があることの効果が好適に発揮される。
また、金属めっき層70の厚さは特に限定されないが、1.0〜10μmであることが好ましい。
金属めっき層の厚さが1.0μmよりも小さいと、ハンドリングの際に導体層が破壊され易くなり、不良率が増加してしまう。また、金属めっき層の厚さが10μmよりも大きいと、電子部品搭載用基板を曲げて使用する際に、曲げることで金属めっき層や導体層から圧縮応力が大きくかかるため、基材が破壊されやすくなる。
また、電子部品搭載用基板10では、金属めっき層70は、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面に、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の外周部分61と第1嵌入口22とを繋げるように形成されている。
電子部品搭載用基板10では、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62の上で実装パッドとなる部分において、金属めっき層70の上に金層としての金めっき層82が設けられている。
実装パッドの最表面が金めっき層であると、金が金属めっき層の酸化を防止することができる。
金層の厚さは、特に限定されないが、0.5〜3.0μmであることが好ましい。
また、金層に替えてスズ層が形成されていてもよい。
金層又はスズ層の厚さが0.5μmよりも小さいと、厚さが小さすぎるため、酸化を防止することができない。また、金やスズは柔らかい金属であるので変形しやすい。そのため、金層又はスズ層の厚さが3.0μmよりも大きいと、変形した際に周囲へと広がり、圧縮応力を発生させるため、剥離などの不良原因となる可能性がある。
さらに、電子部品搭載用基板10は、第1導体層側の最表面に光反射層51を備えている。
電子部品搭載用基板では、金めっき層82が形成された部分が実装パッドであり、この実装バッドの上に電子部品が搭載されるので、この部分が素子搭載部となる。
光反射層51は、素子搭載部である金めっき層82を露出するように設けられている。
また、光反射層51の構成材料は特に限定されないが、酸化チタンを顔料として含む絶縁層であることが好ましく、酸化チタンを顔料に含むソルダーレジスト層であることがより好ましい。
酸化チタンは白色顔料であり、酸化チタンを含む光反射層51は、好適に光を反射することができる。従って、好適に光反射層51があることの効果を奏することができる。
また、光反射層51が酸化チタンを顔料に含むソルダーレジスト層であると、上記の効果に加え、同時にソルダーレジストとしても機能する。
光反射層51の厚さは、特に限定されるものではないが、発光素子等の電子部品の厚さの2倍〜10倍であることが好ましい。厚さの具体的な値としては50〜300μmであることが好ましい。光反射層の厚さが50μmよりも小さいと、電子部品からでる熱劣化が進行してクラックや欠損がおきてしまう。また、300μmよりも大きいと、基板を屈曲などして利用する際に、曲げによる変形に追従できなくなり、クラックが生じる可能性がある。
図3は、本発明の電子部品搭載用基板に発光素子を搭載してなる発光装置の一例を模式的に示す断面図である。
図3には、図2に示す電子部品搭載用基板10に発光素子7を搭載した発光装置100を示している。
発光素子7としては、LED(発光ダイオード)素子、LD(レーザーダイオード)を用いることができる。発光素子は面実装型の素子であることが好ましい。
面実装型の発光素子は、実装の密度を高くすることができるので電子部品搭載用基板に複数個の発光素子を実装した場合に発光装置から発せられる光の輝度を高めることができる。
発光素子7の電極は、金めっき層82が最表面に形成された実装パッドと電気的に接続されている。発光素子の電極としては、その最表面が金層又はスズ層であるものが好ましい。
発光素子の電極と実装パッドとの接続方法は特に限定されるものではなく、例えば半田(図示は省略)を用いて接続することができる。
なお、実装パッドの最表面が金めっき層からなる場合、発光素子の電極表面にスズ層を形成すると、金とスズとの共晶接続により発光素子と実装パッドとを接続することができる。
なお、本発明の電子部品搭載用基板に搭載する電子部品は、発光素子に限定されるものではなく、トランジスタ、コンデンサ、ICチップ等であってもよい。これらの電子部品の場合も面実装型であることが好ましい。
図4は、光反射層の作用を模式的に説明する図である。
電子部品搭載用基板10に発光素子7が搭載された発光装置100は、発光装置を保護する目的で透明なカバー8で覆われることになる。
図4に示すように、光反射層51を備える発光装置100では、発光素子7が光を発すると、大部分の光はカバー8を透過することになるが、一部の光は、カバー8により反射されることになる(図4中、矢印の向きは光の進む方向を示し、矢印の太さは光の量を示している)。電子部品搭載用基板に光反射層が形成されていると、その反射された光を再反射することができる。従って、輝度を高めることができる。
なお、カバー8の構成材料は特に限定されないがアクリル樹脂(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、ガラス等であることが好ましい。
図5は、本発明の電子部品搭載用基板の他の一例を模式的に示す断面図である。
図5に示す電子部品搭載用基板20では、金属ブロック60が第2導体層31の表面から突出する第2突出部66を有しており、第2突出部66は、第2嵌入口32の周囲を覆うように広がっている第2延設部67を有している。
その他の構成は図1に示す電子部品搭載用基板1と同様の構成であるためその詳細な説明は省略する。
このように第2延設部67が形成されていると、第2延設部67が、金属ブロック60が電子部品搭載用基板20から分離し抜け落ちることを防ぐアンカーとして機能する。そのため、電子部品搭載用基板20を折り曲げた場合に、金属ブロック60が第1導体層21側から分離し抜け落ちることを防ぐことができる。
次に、本発明の電子部品搭載用基板に発光素子を搭載してなる発光装置が用いられた発光素子モジュールについて説明する。
図6(a)、図6(b)及び図6(c)は、本発明の電子部品搭載用基板が用いられた発光素子モジュールの一例を模式的に示す平面図である。
図6(a)に示す、発光素子モジュール101は、図2に示す電子部品搭載用基板10に複数の素子搭載部(金めっき層82が最表面に形成された実装パッド)が形成されており、その上に発光素子7がそれぞれ実装されている。すなわち、発光装置100には複数個の発光素子7が搭載されており、発光素子モジュール101は発光素子7が複数個搭載された発光装置100を備えている。
図6(b)に示す、発光素子モジュール102では、電子部品搭載用基板10に発光素子7が1個搭載されて発光装置100となっている。そして、電子部品搭載用基板10に発光素子7が1個搭載された発光装置100が一列に複数個並べられることにより発光素子モジュール102となっている。
図6(c)に示す、発光素子モジュール103は、図6(b)と同様の、電子部品搭載用基板10に発光素子7が1個搭載された発光装置100が格子状に複数個並べられている。
このように、電子部品搭載用基板10を用いて発光素子7をモジュール化することにより、発光素子7の密度を上げることができ、輝度を向上させることができる。
なお、これらの中では、図6(a)に示すような、電子部品搭載用基板に複数の素子搭載部が形成されており、その上に発光素子が実装されている発光素子モジュールであることが望ましい。
このような発光素子モジュール101、102及び103は、例えば、液晶表示板のバックライト、照明装置等に好適に用いることができる。
次に、本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一例について説明する。
本発明の電子部品搭載用基板の製造方法は、電子部品を搭載する電子部品搭載用基板を製造する方法であって、
第1の主面及び上記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材の上記第1の主面に第1導体層が形成され、上記第2の主面に第2導体層が形成された両面導体基板を準備する両面導体基板準備工程と、
上記第1導体層側からパンチングにより上記第1導体層、上記基材及び上記第2導体層を貫通する孔を形成する孔形成工程と、
上記第2導体層側から金属ブロックを上記孔に挿嵌する挿嵌工程とを行うことを特徴とする。
以下、各工程について図面を用いて説明する。
図7(a)、図7(b)、図7(c)及び図7(d)は、本発明の電子部品搭載用基板の製造方法の一例を模式的に示す工程図である。
(1)両面導体基板準備工程
まず、図7(a)に示すように、絶縁樹脂からなり、第1の主面11及び第1の主面11と反対側の第2の主面12を備えた基材2の第1の主面11に第1導体層21が形成され、第2の主面12に第2導体層31が形成された両面導体基板5を準備する。
基材2、第1導体層21、第2導体層31を構成する材料としては電子部品搭載用基板の説明で述べたものと同様であるためその説明は省略する。
(2)孔形成工程
次に、第1導体層21側からパンチングにより第1導体層21、基材2、第2導体層31を貫通する孔を形成する。図7(a)にはパンチングに用いるパンチ80が第1導体層21側に配置された様子を示している。
図7(b)には、孔50が形成された両面導体基板を示している。
この際、第1導体層21側には第1嵌入口22が形成され、第2導体層31側には第2嵌入口32が形成される。
そして、基材2はパンチングにより第2導体層31側に屈曲して、屈曲部2bが形成される。
(3)挿嵌工程
次に、図7(c)に示すように、第2導体層31側の第2嵌入口32から金属ブロック60を孔50に挿嵌する。
第2導体層31側から金属ブロック60を孔50に挿嵌すると、第2導体層31側に屈曲していた屈曲部2bは第1導体層21側に屈曲する。その結果、第2導体層31側に屈曲しているものの屈曲の程度が屈曲部2bよりも小さい屈曲部2aとなる。
図7(d)には、金属ブロック60を孔50に挿嵌した後の屈曲部2aを示している。
このようにして形成される屈曲部2aの形状は、金属ブロック60と第2導体層31の間の導通を妨げない程度の屈曲になっている。
また、孔50に金属ブロック60を挿嵌すると、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の外周部分61が側壁抵抗により引っ張られて曲面形状となる。
また、第2嵌入口32と金属ブロック60は接した状態となる。
上記工程により本発明の電子部品搭載基板を製造することができる。
上記工程(1)〜(3)のみにより製造される本発明の電子部品搭載基板は、本発明の電子部品搭載基板の基本構成のみを有するものであるため、さらに以下の工程を行うことが好ましい。
(4)パターン形成工程
図8(a)、図8(b)及び図8(c)は、パターン形成工程の一例を模式的に示す図である。
図8(a)に示すように、第1導体層21の表面25、金属ブロック60、第2導体層31の表面35にエッチングレジスト91を形成する。
次に、図8(b)に示すように、エッチングによりエッチングレジスト91が形成されていない部分の第1導体層21及び第2導体層31をエッチングにより除去する。
その後、図8(c)に示すようにエッチングレジスト91を除去する。このような方法により任意のパターンを形成することができる。
エッチング液としては、例えば、硫酸−過酸化水素水溶液、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩水溶液、塩化第二鉄、塩化第二銅、塩酸等が挙げられる。また、エッチング液として第二銅錯体と有機酸とを含む混合溶液を用いてもよい。
(5)プレス工程
図9は、プレス工程を模式的に示す図である。
次に、図9に示すように、所定の形状を有する金型92を用いて電子部品搭載基板をプレス加工することにより、第1導体層21の表面25に対する金属ブロック60の表面の位置を制御する。
また、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62が平坦面となる。
(6)コイニング工程
次に、第1導体層21の表面25及び金属ブロック60の第1導体層21側の表面の平面度を向上させるためコイニングを行う。
コイニングすることにより、第1導体層21の表面25及び金属ブロック60の第1導体層21側の表面の平面度を高めると、電子部品の実装性を高めることができる。さらに、第1導体層21の表面25及び金属ブロック60の第1導体層21側の表面の平面度が高いと、発光素子を搭載した場合の光軸が揃い輝度を高めることができる。
上記工程(1)〜(6)までを行って製造した電子部品搭載用基板が、図1に示した電子部品搭載用基板1である。
(7)金属めっき工程
図10は、金属めっき工程を模式的に示す図である。
次に、図10に示すように、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面25に金属めっき層70を形成する金属めっき工程を行う。
金属めっき層70を形成すると、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面25が金属めっき層70により保護されることになり、金属ブロック60及び第1導体層21を腐食から保護することができる。
また、金属めっき工程では、ニッケル及び銀からなる群から選択される少なくとも一種の金属を用いて金属めっきを行うことが好ましい。
金属めっき層をニッケルめっき層とすることにより後の工程で金めっき層を形成する際に、ニッケルめっき層により第1導体層と金めっき層との接続性を向上させることができる。
また、金属めっき工程においては、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面25を覆うように、かつ、金属ブロック60の第1導体層21側の表面及び第1導体層21の表面に、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の外周部分61と第1嵌入口22とを繋げるように金属めっき層70を形成することが好ましい。
(8)金めっき工程
図11は、金めっき工程を模式的に示す図である。
次に、金属ブロック60の第1導体層21側の表面の先端部分62の上で実装パッドとなる部分において、金属めっき層70の上に金めっき層82を形成して、最表面に金層が形成された実装パッドとする。
金属めっき工程でニッケルを用いて金属めっき層70を形成している場合には、金属めっき層70の表面に酸化皮膜が生じ、実装パッドと電子部品の電極との電気的な接続が悪くなりやすい。
そこで、最表面に金層が形成された実装パッドとすることによって電子部品の電極との接続性が向上する。
ニッケル酸化皮膜の除去は、通常用いられるニッケル酸化皮膜除去剤を用いて行うことができる。ニッケル酸化皮膜除去剤としては従来公知の試薬を用いることができる。
また、金めっきは無電解金めっき液を用いて行うことが好ましい。
(9)光反射層形成工程
図12は、光反射層形成工程を模式的に示す図である。
次に、図12に示すように、素子搭載部(金めっき層82)が露出するように第1導体層21側の最表面となる位置に光反射層51を形成する。
光反射層51を形成する際には、顔料として酸化チタンを含み、形成された光反射層51が絶縁層となるような材料を用いて光反射層51を形成することが望ましい。
また、光反射層51は、ソルダーレジスト層となるように形成することがより望ましい。
酸化チタンは白色顔料であり、酸化チタンを含む光反射層51は、好適に光を反射することができる。
光反射層51が酸化チタンを顔料に含むソルダーレジスト層であると、上記の効果に加え、同時にソルダーレジストとしても機能する。
上記工程(1)〜(9)までをすべて行うことにより、図2に示した電子部品搭載用基板10を製造することができる。
なお、図5に示す電子部品搭載用基板20を製造する場合、両面導体基板の厚さよりも長い金属ブロックを使用して、挿嵌工程の後に第2導体層の表面から金属ブロックの端部が突出するようにする。この突出した金属ブロックの部分が第2突出部となる。
そして、第2嵌入口の周囲を覆うように第2突出部を伸ばして広げ第2延設部を形成する。
第2延設部を形成する方法は特に限定されないが、第2突出部の頂部に圧力を加え第2突出部を伸ばして広げ第2延設部を形成することが望ましい。
金属ブロックには可塑性があるので、第2突出部の頂部に金型により圧力を加えることにより、容易に第2延設部を形成することができる。
1、10、20 電子部品搭載用基板
2 基材
2a 屈曲部
5 両面導体基板
7 発光素子(電子部品)
11 第1の主面
12 第2の主面
21 第1導体層
22 第1嵌入口
25 第1導体層の表面
31 第2導体層
32 第2嵌入口
50 孔
51 光反射層
60 金属ブロック
61 金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分
62 金属ブロックの第1導体層側の表面の先端部分
66 第2突出部
67 第2延設部
70 金属めっき層
80 パンチ
82 金めっき層(素子搭載部となる部分)
92 金型
100 発光装置
101、102、103 発光素子モジュール

Claims (10)

  1. 電子部品を搭載する電子部品搭載用基板であって、
    前記電子部品搭載用基板は、
    第1の主面及び前記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材と、
    前記基材の第1の主面に形成された第1導体層と、
    前記基材の第2の主面に形成された第2導体層と、
    前記第1導体層と前記基材、及び、前記第2導体層を貫通する孔と、
    前記孔に挿嵌された金属ブロックとからなり、
    前記基材は前記第2導体層側へ屈曲して前記金属ブロックと接する屈曲部を有し、
    前記金属ブロックの第1導体層側の表面の外周部分は曲面形状であり、
    前記孔は、前記第1導体層側の第1嵌入口と、前記第2導体層側の第2嵌入口とを有していて、前記金属ブロックは前記第2嵌入口と接していることを特徴とする電子部品搭載用基板。
  2. 前記金属ブロックの前記第1導体層側の表面の先端部分は平坦面である請求項1に記載の電子部品搭載用基板。
  3. 前記曲面形状は、前記孔に前記金属ブロックを挿嵌する工程により形成されている請求項1又は2に記載の電子部品搭載用基板。
  4. 前記基材が前記屈曲部となっている部分において前記第2導体層は厚さを有しており、その部分の厚さは前記第2導体層の他の部分の厚さよりも小さい請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品搭載用基板。
  5. 前記基材の前記屈曲部はパンチングにより形成されている請求項1〜4のいずれかに記載の電子部品搭載用基板。
  6. 前記金属ブロックの前記第1導体層側の先端部分は前記第1導体層と同平面に形成され、前記第2導体層側の先端部分は前記第2導体層と同平面に形成されている請求項1〜5のいずれかに記載の電子部品搭載用基板。
  7. 前記金属ブロックは、前記第2導体層の表面から突出する第2突出部を有し、
    前記第2突出部は、前記第2嵌入口の周囲を覆うように広がっている第2延設部を有する請求項1〜6のいずれかに記載の電子部品搭載用基板。
  8. 前記第1導体層側には素子搭載部が形成されており、
    前記素子搭載部を露出するように前記第1導体層側の最表面に形成された光反射層をさらに備える請求項1〜7のいずれかに記載の電子部品搭載用基板。
  9. 電子部品を搭載する電子部品搭載用基板を製造する方法であって、
    第1の主面及び前記第1の主面と反対側の第2の主面を備える絶縁樹脂からなる基材の前記第1の主面に第1導体層が形成され、前記第2の主面に第2導体層が形成された両面導体基板を準備する両面導体基板準備工程と、
    前記第1導体層側からパンチングにより前記第1導体層、前記基材及び前記第2導体層を貫通する孔を形成する孔形成工程と、
    前記第2導体層側から金属ブロックを前記孔に挿嵌する挿嵌工程とを行うことを特徴とする電子部品搭載用基板の製造方法。
  10. 前記挿嵌工程の後、所定の形状を有する金型を用いて前記金属ブロックが挿嵌された前記電子部品搭載用基板をプレス加工することにより、前記第1導体層の表面及び前記第2導体層の表面に対する前記金属ブロックの表面の位置を制御するプレス工程と、
    前記第1導体層の表面の平面度を向上させるコイニング工程をさらに行う請求項9に記載の電子部品搭載用基板の製造方法。
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