JP2016085129A - 排ガス分析システム及びポンプ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることで、排ガス分析システムを小型化する。
【解決手段】排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、ＰＭ捕集フィルタ６が設けられるメイン流路４と、メイン流路４のＰＭ捕集フィルタ６よりも上流側に接続されて、メイン流路４から希釈排ガスの一部を採取して、分析計７に導入する希釈排ガス採取流路５と、メイン流路４のＰＭ捕集フィルタ６よりも下流側に設けられた希釈排ガス流量調整機構４５と、希釈排ガス採取流路５を流れる希釈排ガスの採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構４５による設定流量を変更する制御機器とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、この排ガスを希釈して分析する排ガス分析システム、及び当該システムに好適に用いられるポンプ装置に関するものである。

従来、排ガスに含まれる粒子状物質（ＰＭ）の計測システムとして、特許文献１に示すように、ＰＭ捕集フィルタを用いたＰＭ捕集と、例えば拡散電荷センサ（ＤＣＳ）等の分析計を用いた粒子径濃度等の連続計測とを組み合わせたものが考えられている。

具体的にこの計測システムは、内燃機関から排出される排ガスの一部を排ガス導入管により分流採取してマイクロトンネル（希釈器）に導入し、希釈用ガスにより希釈する。そして、このマイクロトンネルで希釈された希釈排ガスをＰＭ捕集フィルタに導くとともに、ＰＭ捕集フィルタの上流側において、希釈排ガスの一部を希釈排ガス採取管により採取して例えば拡散電荷センサ（ＤＣＳ）等の分析計に導くように構成されている。

ここで、この計測システムは、マイクロトンネルに接続された希釈用ガス導入管に例えば電磁比例弁等の流量調整機構が設けられており、この流量調整機構を制御することにより、内燃機関から排出される排ガス流量に基づいた分流希釈制御が行われるように構成されている。つまり、この計測システムでは、内燃機関から排出される排ガス流量と、排ガス導入管に分流採取される排ガス流量との比（分流比）が一定となるように、マイクロトンネルに導入される希釈用ガスの流量が調整される。

このように分流希釈制御される計測システムでは、希釈排ガス採取管により採取される希釈排ガス流量が分流希釈制御の誤差となり、分析精度が低下してしまうため、希釈排ガス採取管による採取流量と同じ流量の補正ガス（例えば空気）をＰＭ捕集フィルタの下流側に戻すように構成されている。具体的には、ＰＭ捕集フィルタと当該ＰＭ捕集フィルタの下流側に設けられた吸引ポンプとの間に補正ガス導入管が接続されており、当該補正ガス導入管には、補正ガス流量を採取流量と同一流量に制御するためのマスフローコントローラが設けられている。

しかしながら、ＰＭ捕集フィルタの下流側にマスフローコントローラを介して補正ガスを流入させるためには、マスフローコントローラの上流側に圧縮空気源（コンプレッサ）が必要となってしまい、計測システムの小型化を推し進めることが難しいという問題がある。

国際公開第２０１０／００７９６５号

そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであり、排ガスの分析精度の低下を抑えつつ、圧縮空気源を有する補正ガス導入管を不要にすることをその主たる所期目的とするものである。

すなわち本発明に係る排ガス分析システムは、内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析する排ガス分析システムであって、前記排ガスが流れる排ガス流路と、前記希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路と、前記排ガス流路及び前記希釈用ガス流路が接続され、前記排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、前記排ガスを分析するための第１分析機器が設けられるメイン流路と、前記メイン流路の前記第１分析機器よりも上流側に接続されて、前記メイン流路から希釈排ガスの一部を採取して、前記排ガスを分析するための第２分析機器に導入する希釈排ガス採取流路と、前記メイン流路の前記第１分析機器よりも下流側に設けられ、前記メイン流路を流れる希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構と、前記希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更する制御機器と、を備えることを特徴とする。

このようなものであれば、希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更しているので、排ガス流路を流れる排ガス流量及び希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が採取流量に応じて変動することを防ぎつつ、圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることができる。これにより、排ガス分析システムの分析精度の低下を抑えつつ、小型化することができる。
なお、分流希釈制御する際に、希釈排ガス採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更しない場合には、希釈排ガス採取流量に応じて、前記合計流量（希釈排ガス採取流路よりも上流側の希釈排ガス流量）が変動してしまい、その結果、分流希釈制御に誤差が生じてしまう。

特に分流希釈制御における誤差を低減するためには、前記希釈用ガス流路に設けられ、前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量を調整する希釈用ガス流量調整機構をさらに備え、前記制御機器が、前記希釈排ガス流量調整機構及び前記希釈用ガス流量調整機構を制御して、前記排ガス流路を流れる排ガス流量及び前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が所定流量であり、且つ、前記内燃機関からの排ガス排出流量に対して前記排ガス流路を流れる排ガス流量が所定の比率となるように前記希釈用ガス流量を増減させるとともに、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を、前記合計流量から前記希釈排ガス採取流量を差し引いた値とすることが望ましい。

前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプを有し、前記制御機器が、前記吸引ポンプの回転数を制御することにより前記設定流量とすることが望ましい。
これならば、吸引ポンプの回転数を制御するだけなので、装置構成を簡単化することができる。

前記希釈排ガス流量調整機構が、ポンプと、当該ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記ポンプの出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構と、を有し、前記制御機器が、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる希釈排ガスの還流流量を調整することにより前記設定流量とするものであることが望ましい。
これならば、ポンプの脈動が無視できる程度の高速回転としつつ、還流流路に設けられた還流流路調整機構を制御するだけで、設定流量を所望の値にすることができる。また、流量調整機構（例えば比例弁）をポンプの入口側又は出口側に配置して流量調整をする必要が無いので、当該流量調整機構による圧損を考慮することなく、ポンプの能力限界まで負圧の流体を引くことができる。
また、排ガス分析中においてＰＭ捕集フィルタの目詰まりにより、ＰＭ捕集フィルタを通過する通過流量が低下した場合に、ポンプの回転数を変えることなく、還流流量調整機構を制御することで、通過流量の低下分を補正することができる。

前記第１分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を捕集するＰＭ捕集フィルタであり、前記第２分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定する分析計であることが望ましい。なお、分析計としては、粒子状物質の質量を間接的に示唆する物性、例えば、粒子状物質の表面積、数、粒子径分布などを連続測定するものが考えられる。
これならば、ＰＭ捕集フィルタにより得られたＰＭ質量と、分析計により得られた測定値との相関を取ることにより、ＰＭ質量の動的変化を求めることができる。

路上を実走行する車両に搭載されて、車両走行中における排ガス中の粒子状物質を測定するものであることが望ましい。
これならば、補正ガス流路を不要として小型化するという本発明の効果が顕著となる。

また、本発明に係るポンプ装置は、流入ポート及び流出ポートを有する流路と、前記流路に設けられたポンプと、前記ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記ポンプの出口側から入口側に流体の一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、流体の還流流量を調整するための還流流量調整機構とを備え、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる流体の還流流量を調整して、前記流入ポートから流入する流量又は前記流出ポートから流出する流量を調整することを特徴とする。
このようなものであれば、ポンプの回転数を一定回転としながらも、還流流量調整機構により還流流量を調整することにより、ポンプ装置による流量を制御することができる。なお、ポンプの回転数を可変としつつ、還流流量を調整することにより、ポンプ装置による流量の制御の自由度を増すこともできる。

このように構成した本発明によれば、排ガスの分析精度の低下を抑えつつ、圧縮空気源を有する補正ガス導入管を不要にすることができる。

本実施形態の排ガス分析システムの構成を示す模式図。 各流路を流れる流量を示す模式図。 変形実施形態の希釈排ガス流量調整機構（ポンプ装置）を示す模式図。

以下に本発明に係る排ガス分析システムの一実施形態について図面を参照して説明する。

本実施形態の排ガス分析システム１００は、例えば乗用車やトラックなどの自動車に搭載されて、路上走行中に内燃機関であるエンジンから排出される排ガス中に含まれる粒子状物質（ＰＭ）の質量濃度などを測定するものである。

具体的に排ガス分析システム１００は、図１に示すように、エンジンに接続された排気管を流れる排ガスの一部を分流採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析するものであり、排ガスが流れる排ガス流路２と、希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路３と、排ガス流路２及び希釈用ガス流路３が接続され、排ガス及び希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すメイン流路４と、メイン流路４から希釈排ガスの一部を採取する希釈排ガス採取流路５とを備えている。

以下、各流路２〜５とともに当該流路２〜５に設けられた機器について説明する。

排ガス流路２は、排気管又は排気管の開口を覆うアタッチメント管１０を流れる排ガスの一部を分流採取して希釈することなくメイン流路４に導入するものであり、一端が排気管又はアタッチメント管１０の内部に開口し、他端がメイン流路４に接続されている。本実施形態の排ガス流路２には、排ガス流量を測定する測定機器及び排ガス流量を制御する制御機器は設けられていない。

なお、排気管又はアタッチメント管１０において排ガス流路２の一端開口よりも下流側には、例えばピトー管式流量計等の排ガス流量センサ１１が設けられている。この排ガス流量センサ１１により、排気管又はアタッチメント管１０を流れる排ガス流量、すなわち内燃機関からの排ガス排出流量が測定される。

希釈用ガス流路３は、排ガスを希釈するための希釈用ガス（本実施形態では大気）をメイン流路４に導入するものであり、一端が大気を取り込み可能な位置に設けられ、他端がメイン流路４に接続されている。そして、希釈用ガス流路３には、メイン流路４に導入される希釈用ガス流量を調整するための希釈用ガス流量調整機構３１と、その希釈用ガス流量を測定するための希釈用ガス流量測定機構３２が、上流側からこの順で設けられている。

なお、希釈用ガス流路３において希釈用ガス流量調整機構３１よりも上流側には、大気に含まれる水分を除去するミストセパレータ３３、大気に含まれる有機成分を除去するための例えば活性炭吸着フィルタなどのフィルタ３４、大気に含まれる塵埃を除去する例えばＨＥＰAフィルタなどのフィルタ３５が、上流側からこの順で設けられている。

希釈用ガス流量調整機構３１は、例えばダイアフラム式の供給ポンプ３１ａと、当該供給ポンプ３１ａの上流側又は下流側（本実施形態では下流側）に設けられた電磁比例弁などの流量調整弁３１ｂとを有する。また、希釈用ガス流量測定機構３２は、差圧式のものであり、ベンチュリ３２ａと、当該ベンチュリ３２ａの入り口圧力を測定する圧力センサ３２ｂと、ベンチュリ３２ａの入り口及びノド部の圧力差を測定する差圧センサ３２ｃとを有する。なお、ベンチュリ３２ａ以外に、オリフィス、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。

このように構成された希釈用ガス流量測定機構３２により得られた希釈用ガス流量に基づいて、希釈用ガス流量調整機構３１の流量調整弁３１ｂの弁開度が、図示しない制御機器により制御されることによって、メイン流路４に導入される希釈用ガス流量が制御される。

メイン流路４は、前記排ガス流路２及び前記希釈用ガス流路３が接続されて排ガス及び希釈用ガスを混合するための希釈器（マイクロトンネル）４１と、当該希釈器４１の下流側に設けられ、希釈排ガス中の塵埃を除去する例えばサイクロン型のダスト除去器４２と、当該ダスト除去器４２の下流側に設けられ、第１分析機器であるＰＭ捕集フィルタ６が設置されるフィルタ設置部４３と、当該フィルタ設置部４３（ＰＭ捕集フィルタ６）の下流側に設けられ、メイン流路４を流れる希釈排ガス流量を測定する希釈排ガス流量測定機構４４と、当該希釈排ガス流量測定機構４４の下流側に設けられ、希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構４５とを有する。なお、希釈器４１、ダスト除去器４２、フィルタ設置部４３及びそれらの間の流路は、ヒータによって所定温度（例えば４７±５℃）に加熱されている。

希釈排ガス流量測定機構４４は、差圧式のものであり、ベンチュリ４４ａと、当該ベンチュリ４４ａの入り口圧力を測定する圧力センサ４４ｂと、ベンチュリ４４ａの入り口及びノド部の圧力差を測定する差圧センサ４４ｃとを有する。なお、ベンチュリ４４ａ以外に、オリフィス、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。

また、希釈排ガス流量調整機構４５は、例えばダイアフラム式の吸引ポンプであり、図示しない制御機器により、その回転数が制御されて吸引流量が変更可能に構成されたものである。なお、この吸引ポンプは、入口側の吸引流量と、出口側の吐出流量とが同一となるように構成されたものである。

希釈排ガス採取流路５は、メイン流路４から希釈排ガスの一部を採取して、第２分析機器である分析計７に導入するものであり、希釈排ガス採取流路５を流れる希釈排ガスの採取流量を測定する採取流量測定機構５１を有する。なお、本実施形態では、分析計７の内部に設けられた吸引ポンプ（不図示）により、希釈排ガス採取流路５に希釈排ガスが採取されるように構成されているが、分析計７とは別に採取流量測定機構５１の下流側に吸引ポンプを設けても良い。また、分析計７は、希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定するものであり、粒子状物質の質量を間接的に示唆する物性、例えば、粒子状物質の表面積、数、粒子径分布などを連続測定するものである。本実施形態の分析計としては、例えば、拡散電荷法センサ（ＤＣＳ）、水素炎イオン化法センサ（ＦＩＤ）、凝縮粒子カウンタ（ＣＰＣ）、電子式低圧インパクタ（ＥＬＰＩ）、走査型移動度パーティクルアナライザ（ＳＭＰＳ）等である。

採取流量測定機構５１は、差圧式のものであり、オリフィス５１ａと、当該オリフィス５１ａの上流側圧力を測定する圧力センサ５１ｂと、オリフィス５１ａの上流側及び下流側の圧力差を測定する差圧センサ５１ｃとを有する。なお、オリフィス５１ａ以外に、ベンチュリ、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。

そして、排ガス分析システム１００の制御機器は、希釈用ガス流量調整機構３１及び希釈排ガス流量調整機構４５を制御することによって、排ガス流量センサ１１により得られた排ガス排出流量と、排ガス流路２を流れる排ガス流量との比（分流比）が一定になるように、希釈器４１に導入される希釈用ガス流量をリアルタイムに制御（分流希釈制御）する。

具体的に制御機器は、図２に示すように、排ガス流路２を流れる排ガス流量（分流流量）Ｑ_Ｘ及び希釈用ガス流路３を流れる希釈用ガス流量Ｑ_１の合計流量Ｑ_Ｔ（＝Ｑ_Ｘ＋Ｑ_１）を一定にするとともに、排ガス排出流量Ｑ_ＥＸと分流流量Ｑ_Ｘが一定比率となるように希釈用ガス流量Ｑ_１を増減させる。つまり、制御機器は、排ガス流量センサ１１から排ガス排出流量データを取得して、当該排ガス排出流量データに基づいて、希釈用ガス流量Ｑ_１を増減させるべく、希釈用ガス流量調整機器３１の電磁比例弁３１ｂに制御信号を入力する。

さらに制御機器は、希釈排ガス採取流路５を流れる希釈排ガス採取流量ｑに応じて、希釈排ガス流量調整機構４５による設定流量Ｑ_２を変更する。つまり、制御機器は、採取流量測定機構５１から採取流量データを取得して、当該採取流量データに基づいて、希釈排ガス流量調整機構４５に設定流量Ｑ_２を変更すべく、制御信号を入力する。
なお、この設定流量Ｑ_２は、希釈排ガス採取流路５を有さないシステムの場合には、前記合計流量Ｑ_Ｔとなり、ＰＭ捕集フィルタ６を通過する流量Ｑ_３と一致する。

より詳細に制御機器は、前記設定流量Ｑ_２を、合計流量Ｑ_Ｔから採取流量ｑを差し引いた値（Ｑ_Ｔ−ｑ）とする。これにより、希釈排ガス採取流路５の採取流量ｑに関係なく、合計流量Ｑ_Ｔ（つまり希釈排ガス採取流量５の一端開口よりも上流側の希釈排ガス流量）を、設定値（一定値）に維持することができる。このとき、ＰＭ捕集フィルタを通過する流量Ｑ_３は、合計流量Ｑ_Ｔから採取流量ｑを差し引いた値（Ｑ_Ｔ−ｑ）となる。

本実施形態の希釈排ガス流量調整機構４５は回転数可変の吸引ポンプであるため、制御機器は、希釈排ガス採取流路５を流れる希釈排ガスの採取流量ｑに応じて、吸引ポンプの回転数を制御して設定流量Ｑ_２（＝Ｑ_Ｔ−ｑ）とする。

なお、この排ガス分析システム１００において、ＰＭ捕集フィルタ６に希釈排ガスを採取している間、分析計により得られた連続計測データ（例えば連続粒子径濃度データ）を保存しておく。そして、データ採取終了後に、有効なデータが得られている区間のみ粒子径濃度積分値と、全区間の粒子径濃度の積分値との比率を計算する。このとき、分析計により得られた濃度値とＰＭ質量との間に相関があると仮定すると、この比率を用いて、フィルタ重量法で得られた全区間のＰＭ捕集質量から有効区間のみのＰＭ質量を算出することができる。

このように構成した排ガス分析システム１００によれば、希釈排ガス採取流路５を流れる希釈排ガス採取流量ｑに応じて、希釈排ガス流量調整機構４５による設定流量Ｑ_２を変更しているので、排ガス流路２を流れる排ガス流量Ｑ_Ｘ及び希釈用ガス流路３を流れる希釈用ガス流量Ｑ_１の合計流量Ｑ_Ｔ（＝Ｑ_Ｘ＋Ｑ_１）が採取流量ｑに応じて変動することを防ぎつつ、圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることができる。これにより、分流希釈制御の誤差を抑えて分析精度の低下を抑えつつ、排ガス分析システム１００を小型化することができる。
また、ＰＭ捕集フィルタ６を通過した希釈排ガスには、外部からのガス（例えば従来の補正ガスや大気）が混じることが一切無いため、メイン流路４の排気（具体的には希釈排ガス流量調整機構４５の下流側）で、例えば希釈排ガスのＣＯ_２濃度などを測定することができ、容易に希釈比の精度を検証することができる。

なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態の希釈排ガス流量調整機構は、回転数可変の吸引ポンプにより構成しているのが、図３に示すポンプ装置８により構成しても良い。

このポンプ装置８は、流入ポートＰ１及び流出ポートＰ２を有する流路８１と、流路８１に設けられたポンプ８２と、ポンプ８２の入口側及び出口側を接続して、ポンプ８２の出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路８３と、還流流路８３に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構８４とを備えている。

ポンプ８２は、流路８１上において、入口側の吸引流量と、出口側の吐出流量とが同一となるように構成されたものである。また、還流流量調整機構８４は、電磁比例弁であり、制御機器により、希釈排ガス採取流路５の採取流量に応じてその弁開度が制御される。なお、図３においては、電磁比例弁の詰まりを防止するために、還流流路８３の還流流路調整機構８４の上流側に防塵フィルタ８５が設けられている。

そして、制御機器が、還流流量調整機構８４を制御することにより、還流流路８３を流れる希釈排ガスの還流流量を調整して、流入ポートＰ１から流入する希釈排ガスの流量又は流出ポートＰ２から流出する希釈排ガスの流量を調整する。

このポンプ装置８によれば、還流流路調整機構８４を制御するだけで設定流量を所望の値にすることができるようになる。また、ポンプ８２を例えば定格回転や脈動が無視できる程度の高速回転に固定することができ、ポンプ８２の脈動を最小限に抑えることができる。さらに、流量調整機構をポンプ８２の入口側又は出口側に配置して流量調整をする必要が無いので、当該流量調整機構による圧損を考慮することなく、ポンプ８２の能力限界まで負圧の流体を引くことができる。その上、希釈排ガス自体を還流させる構成であり、他のガスが混ざることが無く、ポンプ装置８の流入ポートＰ１の流量及び流出ポートＰ２の流量が同じとなる。このため、ポンプ装置８の上流側及び下流側の何れにも流量測定機構を配置することが可能となり、ポンプ装置８の下流側に分析計を接続して、希釈排ガスを分析することも可能となる。

また、排ガス分析においてＰＭ捕集フィルタの目詰まりにより、ＰＭ捕集フィルタを通過する通過流量が低下する場合があり、ポンプ８２の回転数を変更する必要がある。一般にポンプ８２の回転数を下げると脈動発生の原因となってしまう。この場合、ポンプ８２の回転数を変えることなく、還流流量調整機構８４を制御して通過流量の低下分を補正することで脈動発生を抑えつつ、目詰まりによる流量低下をキャンセルすることができる。

また、前記実施形態では、内燃機関からの排ガス排出流量に対して、一定比率で排ガスを分流採取してメイン流路に導入されるように希釈用ガス流量を制御する比例希釈制御を行うものであったが、排ガス流路により分流採取される分流流量と希釈用ガス流量との比が一定、すなわち希釈比が一定となるように、希釈用ガス流量を制御する一定希釈制御を行うものであっても良い。

さらに、前記実施形態では、内燃機関から排出される排ガスの一部を分流採取するものであったが、前記排ガスの全部を採取して、その採取した排ガスを希釈して分析するものであっても良い。

その上、前記実施形態の排ガス分析システムをシャシダイナモ上に設置された自動車のエンジンから排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析するものであっても良い。

加えて、前記実施形態では、自動車に搭載された内燃機関からの排ガスを分析するものであったが、その他、航空機や船舶等の移動体に搭載された内燃機関からの排ガスを分析するものであっても良い。

その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。

１００・・・排ガス分析システム
２ ・・・排ガス流路
３ ・・・希釈用ガス流路
３１ ・・・希釈用ガス流量調整機構
３２ ・・・希釈用ガス流量測定機構
４ ・・・メイン流路
４４ ・・・希釈排ガス流量測定機構
４５ ・・・希釈排ガス流量調整機構（吸引ポンプ）
５ ・・・希釈排ガス採取流路
５１ ・・・採取流量測定機構
６ ・・・第１分析機器（ＰＭ捕集フィルタ）
７ ・・・第２分析機器（分析計）
８ ・・・ポンプ装置
８２ ・・・ポンプ
８３ ・・・還流流路
８４ ・・・還流流量調整機構

Claims (7)

1. 内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析する排ガス分析システムであって、
   前記排ガスが流れる排ガス流路と、
   前記希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路と、
   前記排ガス流路及び前記希釈用ガス流路が接続され、前記排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、前記排ガスを分析するための第１分析機器が設けられるメイン流路と、
   前記メイン流路の前記第１分析機器よりも上流側に接続されて、前記メイン流路から希釈排ガスの一部を採取して、前記排ガスを分析するための第２分析機器に導入する希釈排ガス採取流路と、
   前記メイン流路の前記第１分析機器よりも下流側に設けられ、前記メイン流路を流れる希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構と、
   前記希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更する制御機器と、を備える排ガス分析システム。
2. 前記希釈用ガス流路に設けられ、前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量を調整する希釈用ガス流量調整機構をさらに備え、
   前記制御機器が、前記希釈排ガス流量調整機構及び前記希釈用ガス流量調整機構を制御して、前記排ガス流路を流れる排ガス流量及び前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が所定流量であり、且つ、前記内燃機関からの排ガス排出流量に対して前記排ガス流路を流れる排ガス流量が所定の比率となるように前記希釈用ガス流量を増減させるとともに、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を、前記合計流量から前記希釈排ガス採取流量を差し引いた値とする請求項１記載の排ガス分析システム。
3. 前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプを有し、
   前記制御機器が、前記吸引ポンプの回転数を制御することにより前記設定流量とするものである請求項１又は２記載の排ガス分析システム。
4. 前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプと、当該吸引ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記吸引ポンプの出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構と、を有し、
   前記制御機器が、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる希釈排ガスの還流流量を調整することにより前記設定流量とするものである請求項１又は２記載の排ガス分析システム。
5. 前記第１分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を捕集するＰＭ捕集フィルタであり、
   前記第２分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定する分析計である請求項１乃至４の何れか一項に記載の排ガス分析システム。
6. 路上を実走行する車両に搭載されて、車両走行中における排ガス中の粒子状物質を測定するものである請求項１乃至５の何れか一項に記載の排ガス分析システム。
7. 流入ポート及び流出ポートを有する流路と、
   前記流路に設けられたポンプと、
   前記ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記ポンプの出口側から入口側に流体の一部を戻す還流流路と、
   前記還流流路に設けられて、流体の還流流量を調整するための還流流量調整機構とを備え、
   前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる流体の還流流量を調整して、前記流入ポートから流入する流量又は前記流出ポートから流出する流量を調整することを特徴とするポンプ装置。