JP2016082002A - Wiring board and mounting board - Google Patents

Wiring board and mounting board Download PDF

Info

Publication number
JP2016082002A
JP2016082002A JP2014210173A JP2014210173A JP2016082002A JP 2016082002 A JP2016082002 A JP 2016082002A JP 2014210173 A JP2014210173 A JP 2014210173A JP 2014210173 A JP2014210173 A JP 2014210173A JP 2016082002 A JP2016082002 A JP 2016082002A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
metal substrate
light emitting
insulating layer
emitting component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014210173A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
浦 大 輔 松
Daisuke Matsuura
浦 大 輔 松
本 直 子 沖
Naoko Okimoto
本 直 子 沖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2014210173A priority Critical patent/JP2016082002A/en
Publication of JP2016082002A publication Critical patent/JP2016082002A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board capable of achieving good thermal conductivity on the side provided with a light-emitting component.SOLUTION: The wiring board includes a metal substrate, a mounting electrode part and wiring provided on a first surface side of the metal substrate, and an insulating layer disposed between the metal substrate and both the mounting electrode part and the wiring. The insulating layer is configured so that a clearance exists between a portion of the insulating layer and other portions of the insulating layer when viewed along a surface direction of the metal substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光部品が実装される配線基板、および発光部品が実装された実装基板に関する。   The present invention relates to a wiring board on which a light emitting component is mounted and a mounting board on which the light emitting component is mounted.

近年、発光ダイオードなどの、点光源として機能する発光素子を備えた発光部品を利用して、照明装置などの発光装置を構成することが提案されている。例えば特許文献1においては、発光部品を駆動するための端子や配線が形成された配線基板を準備し、この配線基板の上に発光部品を実装することにより、発光装置が構成されている。   In recent years, it has been proposed to configure a light-emitting device such as a lighting device using a light-emitting component including a light-emitting element that functions as a point light source, such as a light-emitting diode. For example, in Patent Document 1, a light-emitting device is configured by preparing a wiring board on which terminals and wiring for driving a light-emitting component are formed and mounting the light-emitting component on the wiring board.

ところで、発光ダイオードなどの発光素子から放射される光の指向性は、一般に、従来の蛍光灯から放射される光の指向性に比べて高い。このため、例えば発光ダイオードを照明装置において利用する場合、発光ダイオードの形状や配置が利用者によって視認されることを抑制し、かつ発光ダイオードからの直進光を低減するため、一般に、光拡散剤として機能する照明カバーが発光ダイオードを覆うように設けられる。また、発光部品が実装された配線基板の表面には、光の利用効率を高めるため、高い反射率で光を反射することができる反射層が形成されている。   Incidentally, the directivity of light emitted from a light emitting element such as a light emitting diode is generally higher than the directivity of light emitted from a conventional fluorescent lamp. For this reason, for example, when a light emitting diode is used in a lighting device, in order to suppress the shape and arrangement of the light emitting diode from being visually recognized by the user and reduce the straight light from the light emitting diode, in general, as a light diffusing agent. A functional lighting cover is provided to cover the light emitting diode. In addition, a reflection layer capable of reflecting light with high reflectivity is formed on the surface of the wiring board on which the light emitting component is mounted in order to increase the light use efficiency.

例えば特許文献1においては、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化亜鉛などの、高い反射率を実現することができるセラミックス材料の粉末などからなる白色顔料を用いて、配線基板に反射層を形成することが提案されている。このような反射層を備えた配線基板は、例えば、はじめに、配線基板を構成するための基板上に白色顔料を含むペーストを塗布する塗布工程を実施し、次に、ペーストを焼き固める焼成工程を実施することによって、形成される。   For example, in Patent Document 1, a reflective layer is formed on a wiring board using a white pigment made of a powder of a ceramic material that can realize high reflectivity, such as titanium oxide, calcium oxide, and zinc oxide. Proposed. A wiring board provided with such a reflective layer includes, for example, a coating process in which a paste containing a white pigment is first applied on a board for constituting the wiring board, and then a baking process in which the paste is baked and hardened. It is formed by performing.

特開2006−147999号公報JP 2006-147999 A

近年、配線基板として、ガラスエポキシ基板などのリジッド基板に代えて、可撓性を有する金属基板を備えたもの、いわゆるフレキシブル基板が用いられる傾向がある。フレキシブル基板は、軽量である点、円筒形や山形などの三次元的な形状に対応できる点など、様々な利点を有している。一般的なフレキシブル基板は、ポリエチレンテレフタラートなどの可撓性を有する樹脂材料から構成された金属基板と、金属基板の表面に形成された、金属製の実装用電極部と、を有している。   In recent years, instead of a rigid substrate such as a glass epoxy substrate, a wiring substrate having a flexible metal substrate, a so-called flexible substrate has been used. The flexible substrate has various advantages such as being lightweight and capable of supporting a three-dimensional shape such as a cylindrical shape or a mountain shape. A general flexible substrate has a metal substrate made of a flexible resin material such as polyethylene terephthalate, and a metal mounting electrode portion formed on the surface of the metal substrate. .

発光部品に電力を投入すると、発光部品から光が放射されるとともに、発光部品において熱が発生する。高い信頼性で発光部品を動作させるためには、発光部品において発生した熱を外部に適切に放熱する必要がある。一方、面方向におけるフレキシブル基板の熱伝導性は、従来のリジッド基板の熱伝導性よりも一般に低い。また上述のように、フレキシブル基板のうち発光部品が設けられる側には反射層が設けられている。従ってフレキシブル基板において、発光部品で発生した熱を基板の面方向において伝導させ、その後に反射層を介して大気に放熱する、という放熱経路の熱伝導性は低い。このため、発光部品で発生した熱は主に、フレキシブル基板のうち、発光部品が設けられる側からその反対側へフレキシブル基板の厚み方向に沿って伝導された後、フレキシブル基板に取り付けられたアルミ板などの支持部材を介して外部に放熱されている。フレキシブル基板の放熱性をより高めるためには、発光部品が設けられる側におけるフレキシブル基板の、面方向における熱伝導性を高め、これによって、熱を大気へ効率的に逃がすことが求められる。   When power is applied to the light emitting component, light is emitted from the light emitting component and heat is generated in the light emitting component. In order to operate the light emitting component with high reliability, it is necessary to appropriately dissipate heat generated in the light emitting component to the outside. On the other hand, the thermal conductivity of the flexible substrate in the surface direction is generally lower than the thermal conductivity of the conventional rigid substrate. Further, as described above, the reflective layer is provided on the side of the flexible substrate on which the light emitting component is provided. Therefore, in the flexible substrate, the heat conductivity of the heat dissipation path in which the heat generated in the light emitting component is conducted in the surface direction of the substrate and then radiated to the atmosphere through the reflective layer is low. For this reason, the heat generated in the light-emitting component is mainly conducted along the thickness direction of the flexible substrate from the side where the light-emitting component is provided to the opposite side of the flexible substrate, and then the aluminum plate attached to the flexible substrate The heat is radiated to the outside through a support member such as. In order to further improve the heat dissipation of the flexible substrate, it is required to increase the thermal conductivity in the surface direction of the flexible substrate on the side where the light emitting component is provided, thereby efficiently releasing heat to the atmosphere.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、発光部品が設けられる側において良好な熱伝導性を実現することができる配線基板および実装基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such points, and an object of the present invention is to provide a wiring board and a mounting board that can realize good thermal conductivity on the side where the light emitting component is provided.

本発明は、発光部品が実装される配線基板であって、第1面と、前記第1面の反対側に位置する第2面と、を含む金属基板と、前記金属基板の前記第1面側に設けられ、前記発光部品が実装される実装用電極部と、前記金属基板の前記第1面側に設けられ、前記実装用電極部に接続された配線と、前記金属基板の前記第1面と前記実装用電極部との間、および前記金属基板の前記第1面と前記配線との間に配置された絶縁層と、を備え、前記絶縁層は、前記金属基板の面方向に沿って見た場合に前記絶縁層の一部分と前記絶縁層のその他の部分との間に隙間部が存在するよう、構成されている、配線基板である。   The present invention is a wiring board on which a light-emitting component is mounted, and includes a metal substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and the first surface of the metal substrate. A mounting electrode portion on which the light emitting component is mounted, a wiring provided on the first surface side of the metal substrate and connected to the mounting electrode portion, and the first of the metal substrate. An insulating layer disposed between a surface and the mounting electrode portion and between the first surface of the metal substrate and the wiring, and the insulating layer extends along a surface direction of the metal substrate. The wiring board is configured such that a gap exists between a part of the insulating layer and the other part of the insulating layer when viewed from above.

本発明による配線基板は、第1の発光部品および前記第1の発光部品に隣接する第2の発光部品を含む複数の発光部品が実装されるよう構成されており、前記第1の発光部品が実装される前記実装用電極部と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、前記第2の発光部品が実装される前記実装用電極部と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、の間に、前記隙間部が存在していてもよい。   The wiring board according to the present invention is configured to mount a plurality of light-emitting components including a first light-emitting component and a second light-emitting component adjacent to the first light-emitting component. An insulating layer positioned between the mounting electrode portion to be mounted and the first surface of the metal substrate; the mounting electrode portion on which the second light emitting component is mounted; and the first of the metal substrate. The gap portion may be present between the insulating layer and the insulating layer.

本発明による配線基板において、前記配線は、互いに平行に延びる第1の配線および第2の配線を含んでおり、前記第1の配線と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、前記第2の配線と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層との間に、前記隙間部が存在していてもよい。   In the wiring board according to the present invention, the wiring includes a first wiring and a second wiring that extend in parallel with each other, and the insulation is located between the first wiring and the first surface of the metal substrate. The gap portion may be present between the layer and the insulating layer located between the second wiring and the first surface of the metal substrate.

本発明による配線基板において、前記金属基板が可撓性を有していてもよい。   In the wiring board according to the present invention, the metal substrate may have flexibility.

本発明による配線基板は、前記金属基板の前記第1面側に設けられ、白色顔料または気泡が分散された反射層をさらに備え、前記反射層は、少なくとも部分的に前記金属基板の前記第1面に接するように配置されていてもよい。   The wiring board according to the present invention further includes a reflective layer provided on the first surface side of the metal substrate, in which white pigments or bubbles are dispersed, and the reflective layer is at least partly the first of the metal substrate. You may arrange | position so that a surface may be contact | connected.

本発明は、発光部品が実装された実装基板であって、上記記載の配線基板と、前記配線基板の前記実装用電極部上に実装された発光部品と、を備える、実装基板である。   The present invention is a mounting board on which a light emitting component is mounted, and includes the wiring board described above and the light emitting component mounted on the mounting electrode portion of the wiring board.

本発明によれば、発光部品が設けられる側において良好な熱伝導性を実現することができる。   According to the present invention, good thermal conductivity can be realized on the side where the light emitting component is provided.

図1は、本発明の実施の形態による実装基板を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a mounting board according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す実装基板から便宜的に発光部品、実装用電極部、配線および取り出し用電極部を取り除いた場合を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a case where light emitting components, mounting electrode portions, wiring, and extraction electrode portions are removed from the mounting substrate shown in FIG. 1 for convenience. 図3は、図1の実装基板をIII−III方向から見た断面図。3 is a cross-sectional view of the mounting board of FIG. 1 as viewed from the III-III direction. 図4は、図1の実装基板をIV−IV方向から見た断面図。4 is a cross-sectional view of the mounting substrate of FIG. 1 as viewed from the IV-IV direction. 図5は、実装基板に実装される発光部品を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a light-emitting component mounted on a mounting board. 図6は、金属基板の第1面側に絶縁層を形成する工程を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a step of forming an insulating layer on the first surface side of the metal substrate. 図7は、絶縁層上に実装用電極部および配線を形成する工程を示す図。FIG. 7 is a diagram illustrating a process of forming a mounting electrode portion and wiring on an insulating layer. 図8は、金属基板の第1面側に反射層を形成する工程を示す図。FIG. 8 is a diagram illustrating a process of forming a reflective layer on the first surface side of the metal substrate. 図9は、発光部品を実装して実装基板を製造する方法を示す図。FIG. 9 is a diagram illustrating a method of manufacturing a mounting board by mounting light emitting components. 図10は、実装基板を備えた照明装置の一例を示す断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating an example of a lighting device including a mounting substrate. 図11は、本発明の実施の形態の変形例において、配線基板を作製するために用いられる積層体を示す図。FIG. 11 is a view showing a laminate used for manufacturing a wiring board in a modification of the embodiment of the present invention. 図12は、図11に示す積層体の導電層をパターニングすることによって得られた実装用電極部および配線を示す図。12 is a view showing a mounting electrode portion and wiring obtained by patterning the conductive layer of the laminate shown in FIG. 図13は、図12に示す実装用電極部および配線をマスクとして絶縁層をエッチングする工程を示す図。13 is a diagram showing a step of etching an insulating layer using the mounting electrode portion and the wiring shown in FIG. 12 as a mask.

以下、図1乃至図10を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。また本明細書において、「基板」や「シート」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones. Further, in this specification, the terms “substrate” and “sheet” are not distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, the “substrate” is a concept including a member that can be called a sheet or a film. Furthermore, as used in this specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as “parallel” and “orthogonal”, length and angle values, and the like are bound to a strict meaning. Therefore, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.

まず図1を参照して、配線基板に発光部品61を実装することによって得られる実装基板60について説明する。発光部品61を備える実装基板60は、後述するように、拡散板として構成された照明カバーや、ベースやハウジングなどの支持部材と組み合わされることによって、照明装置を構成することができる。図1は、実装基板60を、発光部品61が実装されている側から見た場合を示す平面図である。   First, a mounting board 60 obtained by mounting a light emitting component 61 on a wiring board will be described with reference to FIG. As will be described later, the mounting substrate 60 including the light emitting component 61 can be combined with an illumination cover configured as a diffusion plate and a support member such as a base or a housing to constitute an illumination device. FIG. 1 is a plan view showing a case where the mounting board 60 is viewed from the side where the light emitting component 61 is mounted.

実装基板
図1に示すように、実装基板60は、可撓性を有し、いわゆるフレキシブル基板として機能する配線基板40と、配線基板40の後述する実装用電極部41上に実装された複数の発光部品61と、を備えている。点光源として機能することができる発光素子を備える限りにおいて、発光部品61の構成が特に限られることはない。例えば発光素子としては、発光ダイオードを用いることができ、また発光部品61としては、表面実装型パッケージに収納された発光ダイオードを備えた表面実装型の部品を用いることができる。
As shown in FIG. 1, the mounting substrate 60 is flexible and has a wiring substrate 40 that functions as a so-called flexible substrate and a plurality of mounting electrodes 41 mounted on the wiring substrate 40, which will be described later. And a light emitting component 61. As long as a light emitting element that can function as a point light source is provided, the configuration of the light emitting component 61 is not particularly limited. For example, a light-emitting diode can be used as the light-emitting element, and a surface-mounted component including a light-emitting diode housed in a surface-mounted package can be used as the light-emitting component 61.

なお後述するように、実装基板60は、ロール状に巻かれた状態で供給される長尺状の金属基板21の上に絶縁層22や実装用電極部41を形成することによって配線基板40を作製し、この配線基板40上に発光部品61を実装し、また発光部品61を実装する前または後に配線基板40を切断することによって得られるものである。図1において、金属基板21および配線基板40の長尺方向が符号D1で表されており、長尺方向D1に直交する方向が符号D2で表されている。方向D2は、配線基板40を切断する方向に相当する。「長尺方向」とは、長尺状の金属基板21および配線基板40が延びる方向のことである。なお以下の説明において、長尺方向D1のことを第1方向D1と称し、第1方向D1に直交する方向D2のことを第2方向D2と称することもある。また以下の説明において、金属基板21の面のうち、発光部品61が設けられる側の面を第1面21aと称し、第1面21aの反対側にある面を第2面21bと称することもある。   As will be described later, the mounting substrate 60 is formed by forming the insulating layer 22 and the mounting electrode portion 41 on the long metal substrate 21 supplied in a rolled state. The light-emitting component 61 is manufactured and mounted on the wiring substrate 40, and the wiring substrate 40 is cut before or after the light-emitting component 61 is mounted. In FIG. 1, the longitudinal direction of the metal substrate 21 and the wiring substrate 40 is represented by the symbol D1, and the direction orthogonal to the longitudinal direction D1 is represented by the symbol D2. The direction D2 corresponds to a direction in which the wiring board 40 is cut. The “long direction” is a direction in which the long metal substrate 21 and the wiring substrate 40 extend. In the following description, the longitudinal direction D1 may be referred to as a first direction D1, and the direction D2 orthogonal to the first direction D1 may be referred to as a second direction D2. In the following description, the surface of the metal substrate 21 on the side where the light emitting component 61 is provided is also referred to as a first surface 21a, and the surface on the opposite side of the first surface 21a is also referred to as a second surface 21b. is there.

図1において、第1面21aと第2面21bの間で第1方向D1に沿って延びる金属基板21の一対の第1側部が符号21cで表されている。また第1方向D1に直交する第2方向D2に沿って延びる金属基板21の一対の第2側部が符号21dで表されている。   In FIG. 1, the pair of first side portions of the metal substrate 21 extending along the first direction D1 between the first surface 21a and the second surface 21b is represented by reference numeral 21c. A pair of second side portions of the metal substrate 21 extending along the second direction D2 orthogonal to the first direction D1 is represented by reference numeral 21d.

配線基板
次に図1,3,4を参照して、配線基板40の構成について詳細に説明する。図3は、図1の実装基板60をIII−III方向から見た断面図であり、図4は、図1の実装基板をIV−IV方向から見た断面図である。
Referring to the wiring board and then 1, 3, 4, a detailed description of the construction of the wiring board 40. 3 is a cross-sectional view of the mounting substrate 60 of FIG. 1 as viewed from the III-III direction, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the mounting substrate of FIG. 1 as viewed from the IV-IV direction.

図3,4に示すように、配線基板40は、可撓性を有する上述の金属基板21と、金属基板21の第1面21a側に設けられ、発光部品61が実装される実装用電極部41と、金属基板21の第1面21aに設けられ、実装用電極部41に接続された配線42と、金属基板21の第1面21aと実装用電極部41との間、および金属基板21の第1面21aと配線42との間に配置された絶縁層22と、を備えている。実装用電極部41は、発光部品61を実装するための部分であり、パッドやランドとも称されるものである。   As shown in FIGS. 3 and 4, the wiring substrate 40 is provided on the metal substrate 21 having flexibility and the first surface 21 a side of the metal substrate 21, and the mounting electrode portion on which the light emitting component 61 is mounted. 41, wiring 42 provided on the first surface 21a of the metal substrate 21 and connected to the mounting electrode portion 41, between the first surface 21a of the metal substrate 21 and the mounting electrode portion 41, and the metal substrate 21. And an insulating layer 22 disposed between the first surface 21 a and the wiring 42. The mounting electrode portion 41 is a portion for mounting the light emitting component 61 and is also referred to as a pad or a land.

図1に示すように、配線基板40は、配線42を介して発光部品61に電気的に接続されるよう金属基板21の第1面21a側に設けられた取り出し用電極部43を含んでいてもよい。この場合、図示はしないが、金属基板21の第1面21aと取り出し用電極部43との間にも絶縁層22が設けられる。   As shown in FIG. 1, the wiring substrate 40 includes an extraction electrode portion 43 provided on the first surface 21 a side of the metal substrate 21 so as to be electrically connected to the light emitting component 61 via the wiring 42. Also good. In this case, although not shown, the insulating layer 22 is also provided between the first surface 21 a of the metal substrate 21 and the extraction electrode portion 43.

本実施の形態において、「可撓性」とは、室温例えば25℃の環境下で配線基板40を直径30cmのロール状の形態に巻き取った場合に、配線基板40に折れ目が生じない程度の柔軟性を意味している。「折れ目」とは、配線基板40を巻き取る方向に交差する方向において配線基板40に現れる変形であって、変形を元に戻すように配線基板40を逆向きに巻き取ったとしても元には戻らない程度の変形を意味している。   In the present embodiment, “flexibility” refers to the degree that a fold does not occur in the wiring board 40 when the wiring board 40 is wound into a roll shape having a diameter of 30 cm in an environment of room temperature, for example, 25 ° C. Means flexibility. A “fold” is a deformation that appears on the wiring board 40 in a direction that intersects the winding direction of the wiring board 40, and even if the wiring board 40 is wound in the opposite direction so as to restore the deformation to the original state. Means deformation that does not return.

(金属基板)
金属基板21は、金属材料によって構成された、可撓性を有する基板である。金属基板21を構成する金属材料や、金属基板21の厚みは、配線基板40に求められる可撓性や強度などの特性に応じて適宜定められる。例えば、金属基板21は、銅、アルミニウム、銀または鉄の少なくともいずれか1つを含むことができる。放熱性をより高めるため、アルマイト処理が施されたアルミニウム箔が金属基板21として用いられてもよい。金属基板21の厚みは、例えば10μm〜200μmの範囲内になっている。
(Metal substrate)
The metal substrate 21 is a flexible substrate made of a metal material. The metal material constituting the metal substrate 21 and the thickness of the metal substrate 21 are appropriately determined according to characteristics such as flexibility and strength required for the wiring substrate 40. For example, the metal substrate 21 can include at least one of copper, aluminum, silver, or iron. In order to further improve the heat dissipation, an aluminum foil that has been anodized may be used as the metal substrate 21. The thickness of the metal substrate 21 is in the range of 10 μm to 200 μm, for example.

(実装用電極部、配線および取り出し用電極部)
実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43を構成する材料としては、導電性を有する材料が用いられ、例えば銅や銀などの金属材料が用いられる。なお、配線基板40の反射特性を高めることを考慮すると、銀が用いられることが好ましい。
(Mounting electrode, wiring, and extraction electrode)
As a material constituting the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43, a conductive material is used, and for example, a metal material such as copper or silver is used. In consideration of enhancing the reflection characteristics of the wiring board 40, silver is preferably used.

実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43を構成する材料は、いずれも同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43は、後述するように、同一の導電層をパターニングすることによって同時にかつ連続的に形成されるものであってもよい。所望の方向において配線基板40および実装基板60が可撓性を有する限りにおいて、実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43の厚みや幅などの寸法が特に限られることはない。   The materials constituting the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 may be the same or different. For example, the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 may be formed simultaneously and continuously by patterning the same conductive layer, as will be described later. As long as the wiring substrate 40 and the mounting substrate 60 have flexibility in a desired direction, the dimensions such as the thickness and width of the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43 are not particularly limited.

図1に示すように、配線42は、所定の方向に沿って線状に延びるよう構成されている。図1に示す例において、配線42は、第1方向D1や第2方向D2に沿って線状に延びる線状部分42aを含んでいる。ここで「線状」とは、幅方向における寸法に比べて、長さ方向における寸法が比較的に大きい、例えば10倍以上である形態を意味している。   As shown in FIG. 1, the wiring 42 is configured to extend linearly along a predetermined direction. In the example shown in FIG. 1, the wiring 42 includes a linear portion 42a extending linearly along the first direction D1 and the second direction D2. Here, “linear” means a form in which the dimension in the length direction is relatively larger than the dimension in the width direction, for example, 10 times or more.

図1に示すように、本実施の形態においては、金属基板21の第1側部21cが延びる第1方向D1に沿って複数の発光部品61が並ぶように、配線基板40に発光部品61が実装されており、また第1方向D1に沿って並ぶ複数の発光部品61が実装される実装用電極部41は、配線42を介して電気的に直列に接続されている。また配線42は、隣接する2つの発光部品61が実装される実装用電極部41を電気的に接続するように、第1方向D1に沿って断続的に延びる部分を含んでいる。このように断続的に配線42が延びている場合であっても、配線42の1つの線分を仮想的に延長した線がその他の配線42の線分に重なる場合、このような配線42も線状部分42aと称され得る。   As shown in FIG. 1, in the present embodiment, the light emitting components 61 are arranged on the wiring board 40 so that the plurality of light emitting components 61 are arranged along the first direction D1 in which the first side portion 21c of the metal substrate 21 extends. The mounting electrode portions 41 that are mounted and on which the plurality of light emitting components 61 arranged along the first direction D1 are mounted are electrically connected in series via the wiring. Further, the wiring 42 includes a portion that extends intermittently along the first direction D1 so as to electrically connect the mounting electrode portions 41 on which the two adjacent light emitting components 61 are mounted. Even when the wiring 42 is intermittently extended in this way, when the line virtually extending one line segment of the wiring 42 overlaps the line segment of the other wiring 42, such a wiring 42 is also used. It may be referred to as a linear portion 42a.

(絶縁層)
絶縁層22は、金属基板21と、実装用電極部41、配線42および取り出し用電極部43とが導通してしまうことを防ぐために設けられる層である。絶縁層22を構成する材料としては、絶縁性を有する樹脂材料を用いることができる。樹脂材料の例としては、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタラートなどのポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、または、ポリイミド樹脂などを挙げることができる。絶縁層22の厚みは、例えば1μm〜200μmの範囲内になっている。
(Insulating layer)
The insulating layer 22 is a layer provided to prevent the metal substrate 21 from being electrically connected to the mounting electrode portion 41, the wiring 42, and the extraction electrode portion 43. As a material constituting the insulating layer 22, an insulating resin material can be used. Examples of the resin material include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, epoxy resins, and polyimide resins. The insulating layer 22 has a thickness in the range of 1 μm to 200 μm, for example.

従来のフレキシブル基板においては一般に、実装用電極部や配線は、絶縁性を有する樹脂基板の上に形成されており、そして樹脂基板のうち実装用電極部や配線が形成されていない側の面には、放熱板として機能する金属基板が取り付けられている。この場合、樹脂基板が、金属基板と実装用電極部や配線とが導通してしまうことを防ぐための絶縁層として機能している。一方、樹脂基板の熱伝導性は、金属基板の熱伝導性に比べて低い。このため従来のフレキシブル基板においては、発光部品で発生した熱が金属基板に伝わり、そして金属基板において熱が面方向に拡散したとしても、その熱は、金属基板のうち樹脂基板に接していない側の面から大気へ放出される。すなわち、金属基板のうち樹脂基板に接する側の面から樹脂基板を介して大気に至る放熱経路は、有効には活用されていない。なぜなら、樹脂基板によって熱の伝導が妨げられるからである。   In a conventional flexible substrate, the mounting electrode portion and wiring are generally formed on an insulating resin substrate, and on the surface of the resin substrate on which the mounting electrode portion and wiring are not formed. The metal substrate which functions as a heat sink is attached. In this case, the resin substrate functions as an insulating layer for preventing the metal substrate from being electrically connected to the mounting electrode portion and the wiring. On the other hand, the thermal conductivity of the resin substrate is lower than that of the metal substrate. For this reason, in the conventional flexible substrate, the heat generated in the light emitting component is transmitted to the metal substrate, and even if the heat is diffused in the surface direction in the metal substrate, the heat is not in contact with the resin substrate in the metal substrate. Is released into the atmosphere from the surface. That is, the heat dissipation path from the surface of the metal substrate that contacts the resin substrate to the atmosphere via the resin substrate is not effectively utilized. This is because heat conduction is hindered by the resin substrate.

一方、金属基板と実装用電極部41や配線42とが導通してしまうことを防ぐという観点から考えると、樹脂基板などの絶縁層は、配線基板40の全域にわたって存在している必要は必ずしもない。すなわち、少なくとも実装用電極部41や配線42が設けられている位置において、金属基板と実装用電極部41や配線42との間に絶縁層が存在していればよい。このような背景のもと、本実施の形態においては、図1および図4に示すように、金属基板21の面方向に沿って見た場合に絶縁層22の一部分と絶縁層22のその他の部分との間に隙間部が存在するよう、絶縁層22を構成することを提案する。このような隙間部23を設けることにより、金属基板21の第1面21aのうち絶縁層22が設けられている面積の比率を小さくすることができる。これによって、金属基板21の第1面21a側からの放熱が絶縁層22によって妨げられてしまうことを抑制することができ、このことにより、金属基板21の第1面21aから大気へ熱を放出するという放熱経路をより有効に活用することができる。なお以下の説明において、金属基板21の第1面21aのうち絶縁層22が設けられている面積の比率のことを、「絶縁層22の面積率」とも称する。また「面方向」とは、金属基板21の法線方向に直交する方向のことである。「隙間部23」とは、金属基板21の第1面21a上の領域のうち絶縁層22が存在していない領域のことである。   On the other hand, from the viewpoint of preventing conduction between the metal substrate and the mounting electrode portion 41 and the wiring 42, an insulating layer such as a resin substrate does not necessarily have to exist over the entire area of the wiring substrate 40. . That is, it is only necessary that an insulating layer exists between the metal substrate and the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 at least at a position where the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 is provided. Against this background, in the present embodiment, as shown in FIG. 1 and FIG. 4, when viewed along the surface direction of the metal substrate 21, a part of the insulating layer 22 and other parts of the insulating layer 22. It is proposed that the insulating layer 22 be configured so that a gap exists between the portions. By providing such a gap 23, the ratio of the area where the insulating layer 22 is provided in the first surface 21 a of the metal substrate 21 can be reduced. As a result, it is possible to suppress the heat dissipation from the first surface 21a side of the metal substrate 21 from being hindered by the insulating layer 22, thereby releasing heat from the first surface 21a of the metal substrate 21 to the atmosphere. It is possible to more effectively utilize the heat dissipation path. In the following description, the ratio of the area of the first surface 21a of the metal substrate 21 where the insulating layer 22 is provided is also referred to as “the area ratio of the insulating layer 22”. The “plane direction” is a direction orthogonal to the normal direction of the metal substrate 21. The “gap portion 23” is a region where the insulating layer 22 is not present in the region on the first surface 21a of the metal substrate 21.

以下、絶縁層22の具体的な形状について、主に図1および図2を参照して説明する。図2は、図1に示す実装基板から便宜的に発光部品、実装用電極部、配線および取り出し用電極部を取り除いた場合を示す平面図である。   Hereinafter, a specific shape of the insulating layer 22 will be described mainly with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 2 is a plan view showing a case where the light emitting component, the mounting electrode portion, the wiring, and the extraction electrode portion are removed from the mounting substrate shown in FIG. 1 for convenience.

図1に示すように、絶縁層22は、実装用電極部41、配線42のパターンに対応したパターンで形成されている。具体的には、図1および図2に示すように、絶縁層22は、実装用電極部41に対応した形状を有し、金属基板21と実装用電極部41との間に配置された第1部分22aと、配線42に対応した形状を有し、金属基板21と配線42との間に配置された第2部分22bと、取り出し用電極部43に対応した形状を有し、金属基板21と取り出し用電極部43との間に配置された第3部分22cと、を含んでいる。第1部分22aは、例えば、実装用電極部41または発光部品61に相似した形状を有しており、具体的には矩形の形状を有している。第2部分22bは、例えば、配線42の線状部分42aと同様に線状に延びている。   As shown in FIG. 1, the insulating layer 22 is formed in a pattern corresponding to the pattern of the mounting electrode portion 41 and the wiring 42. Specifically, as shown in FIGS. 1 and 2, the insulating layer 22 has a shape corresponding to the mounting electrode portion 41, and is disposed between the metal substrate 21 and the mounting electrode portion 41. The first portion 22a has a shape corresponding to the wiring 42, the second portion 22b disposed between the metal substrate 21 and the wiring 42, and the shape corresponding to the extraction electrode portion 43. And a third portion 22c disposed between the electrode portion 43 and the extraction electrode portion 43. For example, the first portion 22a has a shape similar to the mounting electrode portion 41 or the light emitting component 61, and specifically has a rectangular shape. The second portion 22b extends, for example, in the same manner as the linear portion 42a of the wiring 42.

次に、絶縁層22の一部分と絶縁層22のその他の部分との間に形成される隙間部23の形状について説明する。例えば隙間部23は、第1の発光部品61、例えば図4において中央に位置する発光部品61が実装される実装用電極部41と金属基板21の第1面21aとの間に位置する絶縁層22と、第1の発光部品61に隣接する第2の発光部品61、例えば図4において左側に位置する発光部品61が実装される実装用電極部41と金属基板21の第1面21aとの間に位置する絶縁層22と、の間に存在している。なお図4に示す例においては、第1の発光部品61と第2の接合層62との間を横切るように2本の配線42が設けられており、このため第1の発光部品61と第2の発光部品61との間の隙間部23は、第1の発光部品61と配線42との間の隙間部23、2本の配線42の間の隙間部23、および配線42と第2の発光部品61との間の隙間部23に分断されている。   Next, the shape of the gap 23 formed between a part of the insulating layer 22 and the other part of the insulating layer 22 will be described. For example, the gap portion 23 is an insulating layer located between the first light emitting component 61, for example, the mounting electrode portion 41 on which the light emitting component 61 located at the center in FIG. 4 is mounted and the first surface 21 a of the metal substrate 21. 22, the second light emitting component 61 adjacent to the first light emitting component 61, for example, the mounting electrode portion 41 on which the light emitting component 61 located on the left side in FIG. 4 is mounted, and the first surface 21 a of the metal substrate 21. It exists between the insulating layer 22 located between them. In the example shown in FIG. 4, two wirings 42 are provided so as to cross between the first light-emitting component 61 and the second bonding layer 62. The gap 23 between the two light emitting components 61 is a gap 23 between the first light emitting component 61 and the wiring 42, a gap 23 between the two wires 42, and the wiring 42 and the second It is divided into a gap 23 between the light emitting component 61.

なお図4においては、第2方向D2において隣接する2つの発光部品61に対応する絶縁層22の間に隙間部23が存在する例が示されているが、これに限られることはない。第1方向D1において隣接する2つの発光部品61に対応する絶縁層22の間にも、隙間部23が存在していてもよい。   FIG. 4 shows an example in which the gap 23 exists between the insulating layers 22 corresponding to the two light emitting components 61 adjacent in the second direction D2, but the present invention is not limited to this. There may be a gap 23 between the insulating layers 22 corresponding to the two light emitting components 61 adjacent in the first direction D1.

また隙間部23は、互いに平行に延びる一対の配線42の間に存在していてもよい。例えば隙間部23は、図4に示すように、第1の発光部品61の近傍で第1方向D1に延びる第1の配線42と金属基板21の第1面21aとの間に位置する絶縁層22と、第2の発光部品61の近傍で第1の配線42に平行に第1方向D1に延びる第2の配線42と金属基板21の第1面21aとの間に位置する絶縁層22と、の間に存在していてもよい。この場合、隙間部23は、配線42と同様に線状に延びていてもよい。すなわち隙間部23は、細長く延びる隙間、すなわちスリットであってもよい。   The gap 23 may exist between a pair of wirings 42 extending in parallel to each other. For example, as shown in FIG. 4, the gap portion 23 is an insulating layer located between the first wiring 42 extending in the first direction D <b> 1 in the vicinity of the first light emitting component 61 and the first surface 21 a of the metal substrate 21. 22 and an insulating layer 22 positioned between the second wiring 42 extending in the first direction D1 in parallel with the first wiring 42 in the vicinity of the second light emitting component 61 and the first surface 21a of the metal substrate 21. , May exist between. In this case, the gap 23 may extend linearly like the wiring 42. That is, the gap 23 may be a long and narrow gap, that is, a slit.

(接合層)
図3,4において、符号62は、発光部品61を実装用電極部41に接合して発光部品61を実装用電極部41に電気的に接続するために発光部品61と実装用電極部41との間に介在される接合層を表している。接合層62を構成する材料としては、例えばリフロー工程において実装用電極部41上に塗布されるクリーム半田を挙げることができる。クリーム半田とは、フラックスなどのバインダー材と、バインダー材の中に分散され、リフロー工程の際に溶融する金属粉末と、を含むものである。なお図3,4においては、発光部品61と実装用電極部41との間に接合層62が明確に介在される例を示したが、これに限られることはない。発光部品61を実装用電極部41に結合して発光部品61を実装用電極部41に電気的にすることができる限りにおいて、接合層62の形状や配置が特に限られることはない。
(Bonding layer)
3 and 4, reference numeral 62 denotes a light emitting component 61 and a mounting electrode portion 41 for joining the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41 and electrically connecting the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41. It represents a bonding layer interposed between the two. Examples of the material constituting the bonding layer 62 include cream solder applied on the mounting electrode portion 41 in a reflow process. Cream solder includes a binder material such as flux, and metal powder that is dispersed in the binder material and melts during the reflow process. 3 and 4 show an example in which the bonding layer 62 is clearly interposed between the light emitting component 61 and the mounting electrode portion 41, but the present invention is not limited to this. The shape and arrangement of the bonding layer 62 are not particularly limited as long as the light emitting component 61 can be coupled to the mounting electrode portion 41 to electrically connect the light emitting component 61 to the mounting electrode portion 41.

ところでリフロー工程においては、配線基板40の少なくとも実装用電極部41およびその周辺部分が、少なくとも接合層62に含まれる半田の融点以上の温度まで加熱される。以下の記載において、加熱された配線基板40が到達する温度の最大値を、到達温度とも称する。本実施の形態による配線基板40においては、到達温度が高くなると、絶縁層22の変形やオリゴマーの析出が生じやすくなってしまうと考えられる。従って、リフロー工程を実施する際の温度を可能な限り低く設定し、これによって配線基板40の到達温度を低くすることが好ましい。   By the way, in the reflow process, at least the mounting electrode portion 41 and the peripheral portion of the wiring board 40 are heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder contained in the bonding layer 62. In the following description, the maximum temperature reached by the heated wiring board 40 is also referred to as the reached temperature. In wiring board 40 according to the present embodiment, it is considered that deformation of insulating layer 22 and oligomer precipitation tend to occur when the ultimate temperature increases. Therefore, it is preferable to set the temperature at the time of performing the reflow process as low as possible so that the temperature reached by the wiring board 40 is lowered.

このような点を考慮し、本件発明者らは、接合層62に含まれる半田として、180℃以下の温度で、より好ましくは150℃以下の温度で融解する低融点半田を用いることを提案する。この場合、配線基板40の到達温度を180℃以下に、より好ましくは150℃以下にすることができ、これによって、絶縁層22の特性が劣化してしまうことを抑制することができる。   In consideration of such points, the present inventors propose to use a low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, as the solder contained in the bonding layer 62. . In this case, the ultimate temperature of the wiring board 40 can be set to 180 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, and this can suppress the deterioration of the characteristics of the insulating layer 22.

後述するように、金属基板21の第1面21a側には反射層44が設けられることがある。低融点半田を用いることは、反射層44の変形や変色などの反射層44の特性劣化を抑制するという点でも有効である。   As will be described later, a reflective layer 44 may be provided on the first surface 21 a side of the metal substrate 21. The use of the low melting point solder is also effective in suppressing deterioration of the characteristics of the reflective layer 44 such as deformation or discoloration of the reflective layer 44.

180℃以下の温度で融解する限りにおいて、接合層62に含まれる低融点半田が特に限られることはない。例えば低融点半田として、42重量%〜43重量%の錫と、57重量%〜58重量%のビスマスと、を含む半田を用いることができる。その他にも、錫、ビスマスおよび銀を含む半田などを用いることもできる。   As long as melting is performed at a temperature of 180 ° C. or lower, the low melting point solder included in the bonding layer 62 is not particularly limited. For example, solder containing 42 wt% to 43 wt% tin and 57 wt% to 58 wt% bismuth can be used as the low melting point solder. In addition, a solder containing tin, bismuth, and silver can be used.

(発光部品)
次に発光部品61について、図5を参照して説明する。図5に示すように、発光部品61は、発光素子66と、発光素子66に電気的に接続されるとともに少なくとも部分的に外部に露出した端子67と、を含んでいる。端子67は、ボンディングワイヤ67aを介して接続されている。端子67は一般に、銅や銀などの金属材料から構成される。発光部品61において発生する熱は、端子67を介して実装用電極部41に伝導される。
(Light-emitting parts)
Next, the light emitting component 61 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the light emitting component 61 includes a light emitting element 66 and a terminal 67 that is electrically connected to the light emitting element 66 and at least partially exposed to the outside. The terminal 67 is connected via a bonding wire 67a. The terminal 67 is generally made of a metal material such as copper or silver. Heat generated in the light emitting component 61 is conducted to the mounting electrode portion 41 via the terminal 67.

図5に示すように、発光素子66の周囲には、発光素子66から出射された光の波長を変換するための蛍光体68が設けられていてもよい。また図5に示すように、蛍光体68の周囲には、光を反射する反射板69が配置されていてもよい。これによって、発光素子66から出射された光を高い効率で取り出すことが可能になる。また蛍光体68上には透明樹脂65が設けられていてもよい。   As shown in FIG. 5, a phosphor 68 for converting the wavelength of light emitted from the light emitting element 66 may be provided around the light emitting element 66. As shown in FIG. 5, a reflector 69 that reflects light may be disposed around the phosphor 68. Thereby, the light emitted from the light emitting element 66 can be extracted with high efficiency. A transparent resin 65 may be provided on the phosphor 68.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用および効果について説明する。ここでは、長尺状の金属基板21を用いて上述の配線基板40を作製し、配線基板40上に発光部品61を実装して上述の実装基板60を作製する方法について説明する。   Next, the operation and effect of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, a method of manufacturing the above-described mounting substrate 60 by manufacturing the above-described wiring substrate 40 using the long metal substrate 21 and mounting the light emitting component 61 on the wiring substrate 40 will be described.

(配線基板の製造方法)
はじめに、長尺状の金属基板21を準備する。次に、図6に示すように、金属基板21の第1面21a上に、実装用電極部41に対応した形状を有する第1部分22aと、配線42に対応した形状を有する第2部分22bと、を含む絶縁層22を形成する。例えば、はじめに、絶縁層22を構成する材料を含むペーストを準備し、次に、スクリーン印刷法などを用いて、実装用電極部41および配線42に対応したパターンでペーストを金属基板21の第1面21a上に塗布する。これによって、少なくとも部分的に上述の隙間部23が存在するように、金属基板21の第1面21a上に絶縁層22を形成することができる。図示はしないが、この際、取り出し用電極部43に対応する形状を有する絶縁層22の第3部分22cが同時に形成されてもよい。
(Method for manufacturing a wiring board)
First, a long metal substrate 21 is prepared. Next, as shown in FIG. 6, on the first surface 21 a of the metal substrate 21, a first portion 22 a having a shape corresponding to the mounting electrode portion 41 and a second portion 22 b having a shape corresponding to the wiring 42. Are formed. For example, first, a paste containing a material constituting the insulating layer 22 is prepared, and then the paste is applied to the first pattern of the metal substrate 21 in a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 using a screen printing method or the like. It is applied on the surface 21a. As a result, the insulating layer 22 can be formed on the first surface 21a of the metal substrate 21 so that the gap 23 described above exists at least partially. Although not shown, at this time, the third portion 22 c of the insulating layer 22 having a shape corresponding to the extraction electrode portion 43 may be formed at the same time.

次に、図7に示すように、絶縁層22上に実装用電極部41および配線42を形成する。実装用電極部41および配線42を形成する方法が特に限られることはなく、公知の方法が適宜用いられる。例えば、はじめに、実装用電極部41および配線42を構成するための金属材料を含む導電層を金属基板21の第1面21a側に設け、次に、実装用電極部41および配線42に対応するパターンを有する感光層を導線層の上に設ける。その後、感光層をマスクとして導電層をエッチングすることにより、絶縁層22上に実装用電極部41および配線42を形成することができる。また、実装用電極部41や配線42に対応したパターンで導電層22にレーザーを照射するレーザーアブレーション法を用いて、絶縁層22上に実装用電極部41および配線42を形成してもよい。その他にも、絶縁層22上に導電性ペーストを印刷することによって、絶縁層22上に実装用電極部41および配線42を形成してもよい。このようにして、長尺状の配線基板40を作製することができる。得られた長尺状の配線基板40は、巻き取ってロール状にされる。   Next, as shown in FIG. 7, the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 are formed on the insulating layer 22. A method for forming the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 is not particularly limited, and a known method is appropriately used. For example, first, a conductive layer containing a metal material for constituting the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 is provided on the first surface 21 a side of the metal substrate 21, and then corresponds to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42. A photosensitive layer having a pattern is provided on the conductive layer. Thereafter, the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 can be formed on the insulating layer 22 by etching the conductive layer using the photosensitive layer as a mask. Further, the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 may be formed on the insulating layer 22 by using a laser ablation method in which the conductive layer 22 is irradiated with a laser in a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42. In addition, the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 may be formed on the insulating layer 22 by printing a conductive paste on the insulating layer 22. In this manner, a long wiring board 40 can be manufactured. The obtained long wiring board 40 is wound up into a roll shape.

なお図8に示すように、実装用電極部41や配線42を形成した後、金属基板21の第1面21a側に、白色顔料または気泡が分散された反射層44を形成してもよい。反射層44は、後述するように、拡散板などによって反射されて配線基板40に戻ってきた光を反射して再び外方へ向かわせるために金属基板21の第1面21a側に設けられる層である。後述する図10においても、配線基板40が反射層44を備える場合について説明する。   As shown in FIG. 8, after forming the mounting electrode portion 41 and the wiring 42, a reflective layer 44 in which white pigments or bubbles are dispersed may be formed on the first surface 21 a side of the metal substrate 21. As will be described later, the reflective layer 44 is a layer provided on the first surface 21a side of the metal substrate 21 in order to reflect the light reflected by the diffuser plate or the like and returned to the wiring substrate 40 and to go outward again. It is. The case where the wiring board 40 includes the reflective layer 44 will also be described with reference to FIG.

好ましくは図8に示すように、反射層44は、少なくとも部分的に金属基板21の第1面21aに直接的に接するよう、配置される。これによって、金属基板21の第1面21aから反射層44へ効率的に熱を伝導させることができ、このことにより、金属基板21の第1面21a側から大気へ熱を効率的に逃がすことができる。   Preferably, as shown in FIG. 8, the reflective layer 44 is disposed so as to be at least partially in direct contact with the first surface 21 a of the metal substrate 21. Thereby, heat can be efficiently conducted from the first surface 21a of the metal substrate 21 to the reflective layer 44, and thus heat can be efficiently released from the first surface 21a side of the metal substrate 21 to the atmosphere. Can do.

光を反射し、これによって照明装置における光の利用効率を高めることができる限りにおいて、反射層44の構成が特に限られることはない。例えば反射層44は、白色のセラミックス材料や金属粉末などの反射性を有する白色顔料や、気泡が分散された層として構成され得る。白色顔料が用いられる場合、反射層44は、はじめに、白色のセラミックス材料や金属粉末など反射性を有する白色顔料を含むペーストを金属基板21の第1面21a側に設け、次に、ペーストを焼き固めることによって形成される。金属基板21の第1面21a上や配線42上にペーストを設ける方法が特に限られることはなく、スクリーン印刷法などを適宜用いることができる。白色顔料としては、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛などの白色のセラミックス材料を用いることができる。その他にも、白色の染料など、白色を呈することができる様々な材料が、反射層44に含まれる白色顔料として用いられ得る。   The configuration of the reflective layer 44 is not particularly limited as long as it can reflect light and thereby increase the light use efficiency in the lighting device. For example, the reflective layer 44 can be configured as a layer in which white pigments having reflectivity, such as white ceramic material or metal powder, or bubbles are dispersed. When a white pigment is used, the reflective layer 44 first provides a paste containing a reflective white pigment such as a white ceramic material or metal powder on the first surface 21a side of the metal substrate 21, and then baked the paste. It is formed by hardening. The method for providing the paste on the first surface 21a of the metal substrate 21 or the wiring 42 is not particularly limited, and a screen printing method or the like can be used as appropriate. As the white pigment, white ceramic materials such as titanium oxide, calcium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide can be used. In addition, various materials that can exhibit a white color, such as a white dye, can be used as the white pigment contained in the reflective layer 44.

好ましくは、反射層44は、光波長380nm〜780nmの範囲内における全光線反射率が60%〜99%の範囲内となるよう、構成される。ここで「全光線反射率」とは、正反射率と拡散反射率の合計である。全光線反射率は、JIS K7375の全光線反射率測定法に準拠して求められ得る。具体的には、全光線反射率は、角度をつけて光を反射層44に入射させた場合の反射率を、分光光度計と、積分球試験台とを用いて光波長380nm〜780nmにおいて10nm間隔で測定し、それらの平均値を算出することによって求められ得る。なお、全光線反射率は、硫酸バリウムを含む標準白色板の反射率を100%とした相対値として求められる。   Preferably, the reflective layer 44 is configured such that the total light reflectance in the light wavelength range of 380 nm to 780 nm is in the range of 60% to 99%. Here, the “total light reflectance” is the sum of regular reflectance and diffuse reflectance. The total light reflectance can be obtained in accordance with the total light reflectance measurement method of JIS K7375. Specifically, the total light reflectivity is 10 nm at a light wavelength of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer and an integrating sphere test stand when the light is incident on the reflection layer 44 at an angle. It can be determined by measuring at intervals and calculating their average value. The total light reflectance is obtained as a relative value with the reflectance of a standard white plate containing barium sulfate as 100%.

好ましくは、反射層44の厚みは、上述の全光線反射率の値を実現するとともに、金属基板21の第1面21aから大気への放熱を阻害しないように設定される。例えば反射層44の厚みは、1μm〜200μmの範囲内になっている。   Preferably, the thickness of the reflective layer 44 is set so as to realize the above-described value of total light reflectance and not to inhibit heat radiation from the first surface 21a of the metal substrate 21 to the atmosphere. For example, the thickness of the reflective layer 44 is in the range of 1 μm to 200 μm.

図8に示すように、金属基板21の第2面21b側には、粘着層24が設けられてもよい。粘着層24は、配線基板40や実装基板60を後述する支持部材81に取り付けるためのものである。粘着層24を予め設けておくことにより、支持部材81の取付工程を容易化することができる。図8に示すように、粘着層24上には、粘着層24の粘着面を保護するための剥離シート25が設けられていてもよい。粘着層24を構成する材料としては、例えばアクリル、エポキシ、ウレタンなどを用いることができる。   As shown in FIG. 8, an adhesive layer 24 may be provided on the second surface 21 b side of the metal substrate 21. The adhesive layer 24 is for attaching the wiring board 40 and the mounting board 60 to a support member 81 described later. By providing the adhesive layer 24 in advance, the attachment process of the support member 81 can be facilitated. As shown in FIG. 8, a release sheet 25 for protecting the adhesive surface of the adhesive layer 24 may be provided on the adhesive layer 24. As a material constituting the adhesive layer 24, for example, acrylic, epoxy, urethane or the like can be used.

(実装基板の製造方法)
次に図9を参照して、実装基板製造装置50を用いて実装基板60を製造する方法について説明する。
(Manufacturing method of mounting substrate)
Next, a method for manufacturing the mounting board 60 using the mounting board manufacturing apparatus 50 will be described with reference to FIG.

はじめに図9に示すように、ロール状に巻かれた長尺状の配線基板40を保持する巻出部51を準備する。次に、巻出部51から配線基板40を巻き出す。次に図9に示すように、配線基板40の実装用電極部41上に接合層62を設ける。例えば、塗布部52を用いて、接合層62を構成するためのクリーム半田を実装用電極部41上に塗布する。その後、実装部53を用いて、接合層62が設けられた実装用電極部41上に発光部品61を実装する実装工程、いわゆるリフロー工程を実施する。具体的には、はじめに、接合層62が設けられた実装用電極部41上に発光部品61を載置し、次に、配線基板40のうち少なくとも発光部品61が載置された実装用電極部41の部分を加熱して接合層62を溶融させる。これによって、発光部品61が実装用電極部41に接合される。次に、切断部54を用いて、発光部品61が実装された配線基板40を、第1方向D1に直交する第2方向D2において切断する。これによって、発光部品61が実装された実装基板60を得ることができる。   First, as shown in FIG. 9, an unwinding portion 51 that holds a long wiring substrate 40 wound in a roll shape is prepared. Next, the wiring board 40 is unwound from the unwinding portion 51. Next, as shown in FIG. 9, a bonding layer 62 is provided on the mounting electrode portion 41 of the wiring board 40. For example, cream solder for forming the bonding layer 62 is applied onto the mounting electrode part 41 using the application part 52. Thereafter, using the mounting portion 53, a mounting step of mounting the light emitting component 61 on the mounting electrode portion 41 provided with the bonding layer 62, a so-called reflow step is performed. Specifically, first, the light emitting component 61 is placed on the mounting electrode portion 41 provided with the bonding layer 62, and then the mounting electrode portion on which at least the light emitting component 61 of the wiring board 40 is placed. The portion 41 is heated to melt the bonding layer 62. As a result, the light emitting component 61 is joined to the mounting electrode portion 41. Next, the wiring board 40 on which the light emitting component 61 is mounted is cut in the second direction D2 orthogonal to the first direction D1 using the cutting unit 54. Thereby, the mounting substrate 60 on which the light emitting component 61 is mounted can be obtained.

(照明装置の製造方法)
その後、図10に示すように、発光部品61が実装された実装基板60に、粘着層24を介して支持部材81を取り付けてもよい。支持部材81の例としては、金属製のベース、ハウジングや、放熱板として機能する金属製の板を挙げることができる。以下の説明において、金属基板21の第2面21b側で配線基板40に取り付けられた支持部材81をさらに備える実装基板60のことを、照明装置80と称することもある。このような支持部材81を取り付けることにより、金属基板21の第2面21b側から大気への放熱をより効率的に実施できるようになる。
(Manufacturing method of lighting device)
Thereafter, as shown in FIG. 10, a support member 81 may be attached to the mounting substrate 60 on which the light emitting component 61 is mounted via the adhesive layer 24. Examples of the support member 81 include a metal base, a housing, and a metal plate that functions as a heat sink. In the following description, the mounting substrate 60 further including the support member 81 attached to the wiring substrate 40 on the second surface 21b side of the metal substrate 21 may be referred to as a lighting device 80. By attaching such a support member 81, it is possible to more efficiently dissipate heat from the second surface 21b side of the metal substrate 21 to the atmosphere.

また本実施の形態によれば、上述のように、金属基板21の第1面21aと実装用電極部41や配線42との間に設けられる絶縁層22は、絶縁層22の一部分と絶縁層22のその他の部分との間に隙間部23が存在するように構成されている。このため、従来のフレキシブル基板に比べて、金属基板21の第1面21a側に設けられる絶縁層22の面積率が小さくなっている。これによって、金属基板21の第1面21a側から大気への放熱が絶縁層22によって妨げられてしまうことを抑制することができる。すなわち、金属基板21の第1面21a側から大気に至る放熱経路における配線基板40の熱伝導率を低くすることができる。このため、発光部品61で発生し、実装用電極部41および絶縁層22の第1部分22aを介して金属基板21に伝えられ、そして金属基板21において面方向に拡散した熱を、金属基板21の第1面21a側から大気へ効率的に放熱することができる。このように本実施の形態によれば、配線基板40全体としての熱伝導性を高めることができ、このことにより、実装用電極部41およびその周辺の部分の温度が局所的に高くなってしまうことを抑制することができる。従って、発光部品41の寿命や信頼性を高めることができる。   In addition, according to the present embodiment, as described above, the insulating layer 22 provided between the first surface 21a of the metal substrate 21 and the mounting electrode portion 41 or the wiring 42 is formed by a part of the insulating layer 22 and the insulating layer. The gap portion 23 exists between the other portions of 22. For this reason, the area ratio of the insulating layer 22 provided in the 1st surface 21a side of the metal substrate 21 is small compared with the conventional flexible substrate. Thereby, it is possible to suppress the heat dissipation from the first surface 21 a side of the metal substrate 21 to the atmosphere from being hindered by the insulating layer 22. That is, the thermal conductivity of the wiring substrate 40 in the heat dissipation path from the first surface 21a side of the metal substrate 21 to the atmosphere can be lowered. For this reason, the heat generated in the light emitting component 61, transmitted to the metal substrate 21 through the mounting electrode portion 41 and the first portion 22 a of the insulating layer 22, and diffused in the surface direction in the metal substrate 21 is transferred to the metal substrate 21. It is possible to efficiently dissipate heat from the first surface 21a side to the atmosphere. As described above, according to the present embodiment, it is possible to increase the thermal conductivity of the wiring board 40 as a whole, and as a result, the temperature of the mounting electrode portion 41 and its peripheral portion is locally increased. This can be suppressed. Therefore, the lifetime and reliability of the light emitting component 41 can be improved.

また本実施の形態によれば、絶縁層22の面積率を低減することにより、配線基板40を曲げる際に、絶縁層22の存在に起因して生じる、曲げに抵抗する力の大きさを低減することができる。このことにより、配線基板40の巻き取り易さを向上させることができる。また、配線基板40や実装基板60が取り付けられる支持部材81が湾曲した形状を有する場合に、そのような湾曲形状に沿うように配線基板40や実装基板60を変形させることが容易になる。   Further, according to the present embodiment, by reducing the area ratio of the insulating layer 22, the magnitude of the force resisting bending caused by the presence of the insulating layer 22 is reduced when the wiring board 40 is bent. can do. As a result, the ease of winding the wiring board 40 can be improved. Further, when the support member 81 to which the wiring board 40 and the mounting board 60 are attached has a curved shape, it is easy to deform the wiring board 40 and the mounting board 60 so as to follow such a curved shape.

また本実施の形態によれば、絶縁層22の面積率を低減することにより、絶縁層22を構成する材料の使用量を削減することができる。これによって、配線基板40や実装基板60の製造に要するコストを削減することができる。   Moreover, according to this Embodiment, the usage-amount of the material which comprises the insulating layer 22 can be reduced by reducing the area ratio of the insulating layer 22. FIG. Thereby, the cost required for manufacturing the wiring board 40 and the mounting board 60 can be reduced.

また本実施の形態によれば、上述のように、実装用電極部41上に塗布されるクリーム半田として、180℃以下の温度で融解する低融点半田を含むものが用いられる。このため、実装工程の際に配線基板40が到達する到達温度を180℃以下にすることができる。これによって、実装工程の際の加熱に起因して絶縁層22や反射層44の特性が劣化してしまうことを抑制することができる。また、絶縁層22や反射層44に含まれる樹脂材料として、比較的に低い耐熱性を有する樹脂材料を用いることが可能になる。   Further, according to the present embodiment, as described above, the cream solder applied onto the mounting electrode portion 41 includes a solder containing a low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or lower. For this reason, the ultimate temperature which the wiring board 40 reaches | attains in the case of a mounting process can be 180 degrees C or less. As a result, it is possible to suppress deterioration of the characteristics of the insulating layer 22 and the reflective layer 44 due to heating during the mounting process. In addition, a resin material having relatively low heat resistance can be used as the resin material included in the insulating layer 22 and the reflective layer 44.

照明装置80は、図10に示すように、実装基板60のうち発光部品61が実装されている側で実装基板60との間に間隔を空けて設けられた拡散板82をさらに備えていてもよい。拡散板82としては、光拡散剤として機能する照明カバーなどが用いられ得る。この場合、以下に説明するように、照明装置80における光の利用効率を高めるという効果も期待される。   As illustrated in FIG. 10, the lighting device 80 may further include a diffusion plate 82 provided with a space between the mounting substrate 60 and the mounting substrate 60 on the side where the light emitting component 61 is mounted. Good. As the diffusing plate 82, an illumination cover or the like that functions as a light diffusing agent can be used. In this case, as described below, an effect of increasing the light use efficiency in the illumination device 80 is also expected.

図10において、符号L1が付された矢印は、発光部品61から出射された光を表している。発光部品61から出射された光L1のうち、拡散板82の法線方向にほぼ沿って拡散板82に入射した光の大部分は、拡散板82を透過して利用者側に至る。一方、発光部品61から出射された光L1のうち、拡散板82の法線方向から傾斜した方向に沿って拡散板82に入射する光は、拡散板82によって反射されて実装基板60に戻ることがある。このような戻り光の大半は、図10において矢印L21で示すように、反射層44によって反射されて再び拡散板82へ向かい、そして拡散板82を透過して利用者側に至る。またその他の戻り光は、図10において矢印L22で示すように、反射層44を透過した後に金属基板21で反射されて再び拡散板82へ向かい、そして拡散板82を透過して利用者側に至る。このように本実施の形態によれば、反射層44における光の反射率が十分に高くない場合であっても、反射層44を透過した光を金属基板21によって反射することができるので、照明装置80における光の利用効率を十分に高くすることができる。   In FIG. 10, an arrow with a symbol L <b> 1 represents light emitted from the light emitting component 61. Of the light L 1 emitted from the light emitting component 61, most of the light incident on the diffusion plate 82 substantially along the normal direction of the diffusion plate 82 passes through the diffusion plate 82 and reaches the user side. On the other hand, of the light L1 emitted from the light emitting component 61, the light incident on the diffusion plate 82 along the direction inclined from the normal direction of the diffusion plate 82 is reflected by the diffusion plate 82 and returns to the mounting substrate 60. There is. As shown by an arrow L21 in FIG. 10, most of such return light is reflected by the reflection layer 44, travels again to the diffusion plate 82, and passes through the diffusion plate 82 to reach the user side. Further, as shown by an arrow L22 in FIG. 10, the other return light is reflected by the metal substrate 21 after being transmitted through the reflective layer 44, is directed again toward the diffusion plate 82, and is transmitted through the diffusion plate 82 to the user side. It reaches. As described above, according to the present embodiment, the light transmitted through the reflective layer 44 can be reflected by the metal substrate 21 even when the reflectance of the light in the reflective layer 44 is not sufficiently high. The light use efficiency in the device 80 can be sufficiently increased.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted. In addition, when it is clear that the operational effects obtained in the above-described embodiment can be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.

(配線基板の製造方法の変形例)
上述の本実施の形態においては、樹脂材料を含むペーストを、実装用電極部41および配線42に対応したパターンで金属基板21の第1面21a上に塗布することにより、絶縁層22が形成される例を示した。しかしながら、はじめに、金属基板21の第1面21a側に絶縁層22を設け、その後にエッチング法などを用いて絶縁層22をパターニングすることにより、実装用電極部41および配線42に対応したパターンを有する絶縁層22を形成してもよい。
(Modification of manufacturing method of wiring board)
In the present embodiment described above, the insulating layer 22 is formed by applying a paste containing a resin material on the first surface 21 a of the metal substrate 21 in a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42. An example was given. However, first, by providing the insulating layer 22 on the first surface 21a side of the metal substrate 21, and then patterning the insulating layer 22 using an etching method or the like, a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 is obtained. The insulating layer 22 may be formed.

この場合、例えば図11に示すように、はじめに、金属基板21と、金属基板21の第1面21a上に設けられた絶縁層22と、絶縁層22上に設けられた導電層26と、を含む積層体20を準備する。導電層26は、実装用電極部41および配線42を構成する金属材料を含む層である。   In this case, for example, as shown in FIG. 11, first, the metal substrate 21, the insulating layer 22 provided on the first surface 21a of the metal substrate 21, and the conductive layer 26 provided on the insulating layer 22 are provided. The laminated body 20 containing is prepared. The conductive layer 26 is a layer containing a metal material that constitutes the mounting electrode portion 41 and the wiring 42.

次に導電層26をパターニングすることによって、図12に示すように、絶縁層22上に実装用電極部41および配線42を形成する。この際、同時に導電層26から取り出し用電極部43が形成されてもよい。   Next, the conductive layer 26 is patterned to form the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 on the insulating layer 22 as shown in FIG. At this time, the extraction electrode portion 43 may be formed from the conductive layer 26 at the same time.

導電層26をパターニングする方法としては、実装用電極部41や配線42に対応したパターンで導電層26上に設けられた感光層をマスクとして導電層26をエッチングする方法や、実装用電極部41や配線42に対応したパターンで導電層26にレーザーを照射するレーザーアブレーション法など、公知の方法が適宜用いられ得る。   As a method of patterning the conductive layer 26, a method of etching the conductive layer 26 using a photosensitive layer provided on the conductive layer 26 in a pattern corresponding to the mounting electrode portion 41 and the wiring 42, or a mounting electrode portion 41 is used. Alternatively, a known method such as a laser ablation method in which the conductive layer 26 is irradiated with a laser in a pattern corresponding to the wiring 42 can be appropriately used.

その後、実装用電極部41および配線42をマスクとして絶縁層22をエッチングする。これによって、図13に示すように、実装用電極部41および配線42とほぼ同一のパターンを有する絶縁層22を、実装用電極部41および配線42と金属基板21の第1面21aとの間に形成することができる。   Thereafter, the insulating layer 22 is etched using the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 as a mask. As a result, as shown in FIG. 13, the insulating layer 22 having substantially the same pattern as the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 is formed between the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 and the first surface 21 a of the metal substrate 21. Can be formed.

本変形例によれば、実装用電極部41および配線42のパターンと絶縁層22のパターンとを精度良く一致させることができる。このため、実装用電極部41および配線42と金属基板21とが導通してしまうことを防ぐために必要になる絶縁層22の面積を、最小限のものとすることができる。これによって、金属基板21の第1面21a側から大気への放熱が絶縁層22によって妨げられてしまうことをさらに抑制することができる。このことにより、配線基板40全体としての熱伝導性をさらに高めることができる。   According to this modification, the pattern of the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 and the pattern of the insulating layer 22 can be matched with high accuracy. For this reason, the area of the insulating layer 22 required to prevent the mounting electrode portion 41 and the wiring 42 from conducting to the metal substrate 21 can be minimized. Thereby, it is possible to further suppress the heat dissipation from the first surface 21 a side of the metal substrate 21 to the atmosphere by the insulating layer 22. Thereby, the thermal conductivity of the wiring board 40 as a whole can be further increased.

(金属基板の変形例)
また上述の本実施の形態においては、金属基板21として、可撓性を有する程度に小さな厚みを有するものが用いられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、金属基板21として、可撓性を有さない程度の厚みを有するものを用いてもよい。すなわち、配線基板40がいわゆるリジッド基板として構成されていてもよい。この場合であっても、絶縁層22に隙間部23を形成することにより、配線基板40全体としての熱伝導性を高めることができる。
(Metal substrate modification)
In the above-described embodiment, an example in which the metal substrate 21 has a thickness small enough to be flexible has been shown. However, the present invention is not limited to this, and the metal substrate 21 may have a thickness that does not have flexibility. That is, the wiring board 40 may be configured as a so-called rigid board. Even in this case, the thermal conductivity of the entire wiring board 40 can be improved by forming the gap 23 in the insulating layer 22.

(その他の変形例)
また上述の本実施の形態においては、接合層62に含まれる半田として、180℃以下の温度で融解する低融点半田が用いられ、この結果、実装工程の際の配線基板40の到達温度が180℃以下になる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、接合層62に含まれる半田として、融点が約260℃の一般的な鉛フリー半田を用いてもよい。
(Other variations)
In the above-described embodiment, low melting point solder that melts at a temperature of 180 ° C. or lower is used as the solder included in the bonding layer 62. As a result, the ultimate temperature of the wiring board 40 in the mounting process is 180. An example of lowering the temperature was shown. However, the present invention is not limited to this, and a general lead-free solder having a melting point of about 260 ° C. may be used as the solder contained in the bonding layer 62.

また上述の本実施の形態においては、長尺状の配線基板40の上に発光部品61が実装される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、配線基板40を切断した後、枚葉の配線基板40上に発光部品61を実装してもよい。   In the above-described embodiment, the example in which the light emitting component 61 is mounted on the long wiring board 40 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the light emitting component 61 may be mounted on the single-layer wiring board 40 after the wiring board 40 is cut.

また上述の本実施の形態においては、発光部品61が実装された後の配線基板40に対して、すなわち実装基板60に対して支持部材81が取り付けられる例を示したが、これに限られることはない。例えば、発光部品61が実装される前の配線基板40に対して支持部材81を取り付け、その後、配線基板40の実装用電極部41に発光部品61を実装してもよい。   In the above-described embodiment, the example in which the support member 81 is attached to the wiring board 40 after the light emitting component 61 is mounted, that is, the mounting board 60 is shown. There is no. For example, the support member 81 may be attached to the wiring substrate 40 before the light emitting component 61 is mounted, and then the light emitting component 61 may be mounted on the mounting electrode portion 41 of the wiring substrate 40.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although some modified examples with respect to the above-described embodiment have been described, naturally, a plurality of modified examples can be applied in combination as appropriate.

21 金属基板
22 絶縁層
23 隙間部
24 粘着層
26 導電層
40 配線基板
41 実装用電極部
42 配線
43 取り出し用電極部
44 反射層
60 実装基板
61 発光部品
62 接合層
80 照明装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Metal substrate 22 Insulating layer 23 Gap part 24 Adhesive layer 26 Conductive layer 40 Wiring board 41 Mounting electrode part 42 Wiring 43 Extraction electrode part 44 Reflective layer 60 Mounting board 61 Light emitting component 62 Joining layer 80 Illumination device

Claims (6)

発光部品が実装される配線基板であって、
第1面と、前記第1面の反対側に位置する第2面と、を含む金属基板と、
前記金属基板の前記第1面側に設けられ、前記発光部品が実装される実装用電極部と、
前記金属基板の前記第1面側に設けられ、前記実装用電極部に接続された配線と、
前記金属基板の前記第1面と前記実装用電極部との間、および前記金属基板の前記第1面と前記配線との間に配置された絶縁層と、を備え、
前記絶縁層は、前記金属基板の面方向に沿って見た場合に前記絶縁層の一部分と前記絶縁層のその他の部分との間に隙間部が存在するよう、構成されている、配線基板。
A wiring board on which light emitting components are mounted,
A metal substrate including a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface;
A mounting electrode portion provided on the first surface side of the metal substrate and on which the light emitting component is mounted;
Wiring provided on the first surface side of the metal substrate and connected to the mounting electrode portion;
An insulating layer disposed between the first surface of the metal substrate and the mounting electrode unit and between the first surface of the metal substrate and the wiring;
The wiring board, wherein the insulating layer is configured such that a gap exists between a part of the insulating layer and another part of the insulating layer when viewed along the surface direction of the metal substrate.
前記配線基板は、第1の発光部品および前記第1の発光部品に隣接する第2の発光部品を含む複数の発光部品が実装されるよう構成されており、
前記第1の発光部品が実装される前記実装用電極部と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、前記第2の発光部品が実装される前記実装用電極部と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、の間に、前記隙間部が存在している、請求項1に記載の配線基板。
The wiring board is configured to mount a plurality of light emitting components including a first light emitting component and a second light emitting component adjacent to the first light emitting component,
An insulating layer positioned between the mounting electrode portion on which the first light emitting component is mounted and the first surface of the metal substrate; and the mounting electrode portion on which the second light emitting component is mounted; The wiring board according to claim 1, wherein the gap portion exists between the insulating layer positioned between the first surface of the metal substrate and the insulating layer.
前記配線は、互いに平行に延びる第1の配線および第2の配線を含んでおり、
前記第1の配線と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層と、前記第2の配線と前記金属基板の前記第1面との間に位置する絶縁層との間に、前記隙間部が存在している、請求項1または2に記載の配線基板。
The wiring includes a first wiring and a second wiring extending in parallel with each other,
Between the insulating layer positioned between the first wiring and the first surface of the metal substrate, and the insulating layer positioned between the second wiring and the first surface of the metal substrate. The wiring board according to claim 1, wherein the gap is present.
前記金属基板が可撓性を有する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the metal board has flexibility. 前記金属基板の前記第1面側に設けられ、白色顔料または気泡が分散された反射層をさらに備え、
前記反射層は、少なくとも部分的に前記金属基板の前記第1面に接するように配置されている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の配線基板。
A reflection layer provided on the first surface side of the metal substrate, in which white pigments or bubbles are dispersed;
The wiring board according to claim 1, wherein the reflective layer is disposed so as to be at least partially in contact with the first surface of the metal substrate.
発光部品が実装された実装基板であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の配線基板と、
前記配線基板の前記実装用電極部上に実装された発光部品と、を備える、実装基板。
A mounting board on which light emitting components are mounted,
The wiring board according to any one of claims 1 to 5,
And a light emitting component mounted on the mounting electrode portion of the wiring board.
JP2014210173A 2014-10-14 2014-10-14 Wiring board and mounting board Pending JP2016082002A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014210173A JP2016082002A (en) 2014-10-14 2014-10-14 Wiring board and mounting board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014210173A JP2016082002A (en) 2014-10-14 2014-10-14 Wiring board and mounting board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016082002A true JP2016082002A (en) 2016-05-16

Family

ID=55959134

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014210173A Pending JP2016082002A (en) 2014-10-14 2014-10-14 Wiring board and mounting board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016082002A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6429049B1 (en) * 2017-08-04 2018-11-28 鼎展電子股▲分▼有限公司 Flexible LED element and flexible LED display panel
JP2019129305A (en) * 2018-01-26 2019-08-01 鼎展電子股▲分▼有限公司 Flexible micro light-emitting diode display module
JP2020167378A (en) * 2019-01-29 2020-10-08 日亜化学工業株式会社 Manufacturing method of light-emitting device
US11380817B2 (en) 2019-01-29 2022-07-05 Nichia Corporation Method for manufacturing light-emitting device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6429049B1 (en) * 2017-08-04 2018-11-28 鼎展電子股▲分▼有限公司 Flexible LED element and flexible LED display panel
JP2019033240A (en) * 2017-08-04 2019-02-28 鼎展電子股▲分▼有限公司 Flexible LED element and flexible LED display panel
JP2019129305A (en) * 2018-01-26 2019-08-01 鼎展電子股▲分▼有限公司 Flexible micro light-emitting diode display module
JP2020167378A (en) * 2019-01-29 2020-10-08 日亜化学工業株式会社 Manufacturing method of light-emitting device
US11380817B2 (en) 2019-01-29 2022-07-05 Nichia Corporation Method for manufacturing light-emitting device
US11888088B2 (en) 2019-01-29 2024-01-30 Nichia Corporation Method for manufacturing light-emitting device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4728346B2 (en) Lighting assembly and method of making the same
JP3872490B2 (en) Light emitting element storage package, light emitting device, and lighting device
JP6484972B2 (en) Mounting board on which light emitting parts are mounted, and wiring board on which light emitting parts are mounted
CN107454985A (en) Periphery radiating arrangement for high brightness luminescence device
JP5766122B2 (en) Manufacturing method of light emitting means
JP2016082002A (en) Wiring board and mounting board
JP2010109119A (en) Light emitting module, and method of manufacturing the same
JP6191224B2 (en) WIRING BOARD AND LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME
TW396647B (en) Configuration and installation for display devices
JP2016522963A (en) Circuit board including at least one fold
TWI343665B (en)
JP6642552B2 (en) Light emitting device
JP2009302127A (en) Led substrate, led mounting module and method of manufacturing led substrate
JP6104946B2 (en) Light emitting device and manufacturing method thereof
JP6634668B2 (en) Manufacturing method of mounting board and mounting board
KR100647867B1 (en) Light emitting device and package structure thereof
JP6138814B2 (en) Light emitting device and method for manufacturing light emitting device
JP2016018896A (en) Mounting substrate and method for manufacturing mounting substrate
JP2020047565A (en) Lamp fitting unit and vehicle lamp fitting
JP6579419B2 (en) Wiring board and mounting board
JP2016082164A (en) Wiring board and mounting board
JP2016039183A (en) Method of manufacturing lighting fixture and lighting fixture
JP6603301B2 (en) Light emitting module
JP6565153B2 (en) WIRING BOARD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, MOUNTING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND LIGHTING DEVICE PROVIDED WITH MOUNTING BOARD
JP5914839B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND LIGHTING APPARATUS HAVING THE SAME