JP2016068556A - Laminate film, backlight unit, liquid crystal display device, and production method of laminate film - Google Patents

Laminate film, backlight unit, liquid crystal display device, and production method of laminate film Download PDF

Info

Publication number
JP2016068556A
JP2016068556A JP2015130130A JP2015130130A JP2016068556A JP 2016068556 A JP2016068556 A JP 2016068556A JP 2015130130 A JP2015130130 A JP 2015130130A JP 2015130130 A JP2015130130 A JP 2015130130A JP 2016068556 A JP2016068556 A JP 2016068556A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
layer
optical functional
functional layer
laminated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015130130A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6117283B2 (en
Inventor
内海 京久
Chikahisa Uchiumi
京久 内海
英二郎 岩瀬
Eijiro Iwase
英二郎 岩瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to US14/865,391 priority Critical patent/US9739926B2/en
Publication of JP2016068556A publication Critical patent/JP2016068556A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6117283B2 publication Critical patent/JP6117283B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate film capable of enhancing luminance, a backlight unit and a liquid crystal display device including the laminate film, and a production method of the laminate film.SOLUTION: A laminate film 7, 8 includes an optical functional layer 4 and a barrier layer 6 stacked on at least one surface of the optical functional layer 4, and the laminate film 7, 8 includes a film 5 having a refractive index larger than a refractive index of the optical functional layer 4, on a lateral surface of the optical functional layer 4. The optical functional layer 4 preferably contains at least one of a quantum dot and a quantum rod.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法に係り、特に、輝度を向上させることができる積層フィルム、および、この積層フィルムの製造方法に関する。更に、この積層フィルムを含むバックライトユニット、およびこのバックライトユニットを含む液晶表示装置にも関する。   The present invention relates to a laminated film, a backlight unit, a liquid crystal display device, and a method for producing a laminated film, and more particularly to a laminated film capable of improving luminance and a method for producing the laminated film. Further, the present invention relates to a backlight unit including the laminated film and a liquid crystal display device including the backlight unit.

液晶表示装置(LCD:liquid crystal display)(以下、LCDともいう)などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。   A flat panel display such as a liquid crystal display (LCD) (hereinafter also referred to as an LCD) has a low power consumption, and its use is expanding year by year as a space-saving image display device. The liquid crystal display device is composed of at least a backlight and a liquid crystal cell, and usually further includes members such as a backlight side polarizing plate and a viewing side polarizing plate.

フラットパネルディスプレイ市場では、LCD性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット(Quantum Dot、QD、量子点とも呼ばれる。)が注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。このような量子ドットを用いた3波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のTV(television)規格(FHD、NTSC(National Television System Committee))比72%から100%へと拡大している。   In the flat panel display market, color reproducibility is improving as LCD performance improvement. In this regard, in recent years, quantum dots (also referred to as Quantum Dot, QD, quantum dots) have attracted attention as light emitting materials. For example, when excitation light enters a light conversion member including quantum dots from a backlight, the quantum dots are excited and emit fluorescence. Here, by using quantum dots having different light emission characteristics, it is possible to realize white light by emitting light having a narrow half-value width of red light, green light, and blue light. Since the half-value width of the fluorescence due to quantum dots is narrow, it is possible to design white light obtained by appropriately selecting the wavelength to have high luminance or excellent color reproducibility. With the progress of the three-wavelength light source technology using such quantum dots, the color gamut has been expanded from 72% to 100% compared to the current TV (television) standard (FHD, NTSC (National Television System Committee)). ing.

しかしながら、QD粒子は、酸素により量子収率の劣化が起こるため、バリア性のフィルムで保護して使用する必要がある。QD粒子を含有する樹脂層をバリアフィルムで保護することで、樹脂層の表面は保護することができるが、端部から酸素が入り、性能が劣化することが課題となっていた。また、フィルム端部からの漏れ光により輝度が低下するという課題があった。   However, since QD particles are deteriorated in quantum yield due to oxygen, it is necessary to protect the QD particles with a barrier film. Although the surface of the resin layer can be protected by protecting the resin layer containing the QD particles with a barrier film, oxygen has entered from the end portion, and the performance has been a problem. Moreover, there existed a subject that a brightness | luminance fell by the leak light from a film edge part.

このような課題に対し、下記の特許文献1には、QD蛍光体材料層の側面にバリア層を含む量子ドットフィルムが開示されている。また、特許文献2には、複数の発光ナノ結晶を含む組成物上にバリア層を配置することで、気密封止し、酸素、水分などの劣化要因から保護することが記載されている。   In response to such a problem, the following Patent Document 1 discloses a quantum dot film including a barrier layer on the side surface of the QD phosphor material layer. Patent Document 2 describes that a barrier layer is disposed on a composition containing a plurality of light-emitting nanocrystals to hermetically seal and protect against deterioration factors such as oxygen and moisture.

特表2013−544018号公報Special table 2013-544018 gazette 特表2010−528118号公報Special table 2010-528118

しかしながら、特許文献1では、量子ドットフィルムの法線方向の輝度向上は記載されているが、量子ドットフィルム側面からの光漏れは検討されておらず、端面からの光漏れによる輝度低下の課題は改善されていなかった。特許文献2においても、組成物上にバリア層を配置するものであり、側面からの光漏れは検討されておらず、光の反射性が不十分で輝度の低下が見られた。   However, in Patent Document 1, although the luminance improvement in the normal direction of the quantum dot film is described, light leakage from the side surface of the quantum dot film has not been studied, and the problem of luminance reduction due to light leakage from the end surface is not It was not improved. Also in Patent Document 2, a barrier layer is disposed on the composition, light leakage from the side surface has not been studied, and the light reflectivity is insufficient, resulting in a decrease in luminance.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、バックライト内部に使用した時、輝度を向上させることができる積層フィルム、この積層フィルムを含むバックライトユニット、液晶表示装置、および、この積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and when used in a backlight, a laminated film capable of improving luminance, a backlight unit including the laminated film, a liquid crystal display device, and this It aims at providing the manufacturing method of a laminated | multilayer film.

本発明は、前記目的を達成するために、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなる積層フィルムであって、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する積層フィルムを提供する。   In order to achieve the above object, the present invention is a laminated film formed by laminating an optical functional layer and a barrier layer on at least one surface of the optical functional layer. Provided is a laminated film having a film having a refractive index greater than the refractive index of the layer.

本発明によれば、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有しているので、側面で光を反射させることができ、光路長を伸ばすことができる。したがって、輝度を向上させることができる。   According to the present invention, since the side surface of the optical functional layer has a film having a refractive index larger than that of the optical functional layer, light can be reflected by the side surface, and the optical path length can be increased. it can. Therefore, the luminance can be improved.

本発明の別の態様においては、光学機能層が量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。   In another aspect of the present invention, the optical functional layer preferably includes at least one of quantum dots and quantum rods.

この態様によれば、光学機能層に量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含んでいるので、波長変換部材として用いることができ、輝度ムラ、色度ムラを改善することができる。   According to this aspect, since at least one of quantum dots and quantum rods is included in the optical functional layer, it can be used as a wavelength conversion member, and luminance unevenness and chromaticity unevenness can be improved.

本発明の別の態様においては、膜が、ガスバリア性を有する膜であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the film is preferably a film having gas barrier properties.

この態様によれば、光学機能層の側面に有する膜が、ガスバリア性を有しているので、光学機能層の側面から酸素、水蒸気などが入り込むことを防止することができる。したがって、光学機能層の性能劣化を防止することができる。   According to this aspect, since the film provided on the side surface of the optical functional layer has gas barrier properties, oxygen, water vapor, and the like can be prevented from entering from the side surface of the optical functional layer. Therefore, it is possible to prevent performance deterioration of the optical functional layer.

本発明の別の態様においては、膜は、無機膜であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the membrane is preferably an inorganic membrane.

この態様によれば、膜を無機膜で形成することで、ガスバリア性を付与することができる。   According to this aspect, gas barrier properties can be imparted by forming the film with an inorganic film.

本発明の別の態様においては、膜が、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される1以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも1つを含むことが好ましい。   In another aspect of the invention, the film is an oxide, nitride and oxynitride of one or more metals selected from silicon, aluminum, indium, tin, zinc, titanium, chromium, nickel, copper, silver and gold. Preferably it comprises at least one of the objects.

この態様は、屈折率膜の材料を限定したものであり、上記の材料を用いることで、ガスバリア性を付与することができる。   In this embodiment, the material of the refractive index film is limited, and gas barrier properties can be imparted by using the above materials.

本発明の別の態様においては、膜が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属からなる第1の金属層と、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属の酸化物からなる金属酸化層と、の積層構造を1回以上繰り返した積層膜であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the film comprises a first metal layer made of one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper and silver, and aluminum, titanium, chromium, nickel, A laminated film in which a laminated structure of a metal oxide layer made of an oxide of one or more metals selected from tin, copper and silver is repeated one or more times is preferable.

この態様によれば、第1の金属層中のピンホールやクラックを金属酸化層で埋めることができるので、フィルム端面から光が漏れることを防止することができる。   According to this aspect, since pinholes and cracks in the first metal layer can be filled with the metal oxide layer, it is possible to prevent light from leaking from the film end face.

本発明の別の態様においては、積層膜の上に、さらに、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属からなる第2の金属層を有することが好ましい。   In another aspect of the present invention, it is preferable to further have a second metal layer made of one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper and silver on the laminated film. .

この態様によれば、積層膜の金属酸化層の上に第2の金属層を形成することで、第2の金属層を鏡面化することができる。したがって、フィルム端面から漏れる光を鏡面にて高い反射率で再利用することができ、輝度を向上させることができる。   According to this aspect, the second metal layer can be mirror-finished by forming the second metal layer on the metal oxide layer of the laminated film. Therefore, the light leaking from the film end face can be reused with high reflectivity on the mirror surface, and the luminance can be improved.

本発明の別の態様においては、第1の金属層の厚みが5nm以上50nm以下であり、金属酸化層の厚みが0.1nm以上5nm以下であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the thickness of the first metal layer is preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and the thickness of the metal oxide layer is preferably 0.1 nm or more and 5 nm or less.

本発明の別の態様においては、膜の厚みが、5〜500nmであることが好ましく、20〜200nmであることがより好ましい。   In another aspect of the present invention, the thickness of the film is preferably 5 to 500 nm, and more preferably 20 to 200 nm.

本発明の別の態様においては、第2の金属層の厚みが10nm以上200nm以下であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the thickness of the second metal layer is preferably 10 nm or more and 200 nm or less.

この態様は、膜の厚みを限定したものであり、上記範囲とすることで、輝度を向上させることができるとともに、光学機能層の経時劣化を防止することができる。また、積層膜とした場合の各層の厚みを上記範囲とすることにより、積層フィルムの端面の光反射効率を向上させることができ、輝度を向上させることができる。   In this aspect, the thickness of the film is limited, and by setting the film thickness within the above range, the luminance can be improved and deterioration of the optical functional layer with time can be prevented. Moreover, the light reflection efficiency of the end surface of a laminated film can be improved and the brightness | luminance can be improved by making the thickness of each layer at the time of setting it as a laminated film into the said range.

本発明の別の態様においては、光学機能層の屈折率が1.3以上1.6以下の範囲であることが好ましく、膜の屈折率が1.5以上であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the refractive index of the optical functional layer is preferably in the range of 1.3 to 1.6, and the refractive index of the film is preferably 1.5 or more.

この態様は、光学機能層の屈折率と、光学機能層の側面の膜の屈折率を規定したものであり、屈折率を上記範囲とすることにより、輝度を向上させることができる。   This aspect defines the refractive index of the optical functional layer and the refractive index of the film on the side surface of the optical functional layer, and the luminance can be improved by setting the refractive index within the above range.

本発明の別の態様においては、光学機能層の屈折率と膜の屈折率との差が0.2以上であることが好ましい。   In another aspect of the present invention, the difference between the refractive index of the optical functional layer and the refractive index of the film is preferably 0.2 or more.

この態様は、光学機能層の屈折率と、光学機能層の側面の膜の屈折率と、の差を規定したものであり、屈折率の差を上記範囲とすることで、輝度を向上させることができる。   In this embodiment, the difference between the refractive index of the optical functional layer and the refractive index of the film on the side surface of the optical functional layer is defined, and the luminance is improved by setting the difference in refractive index within the above range. Can do.

本発明は、前記目的を達成するために、上記記載の積層フィルムと、光源と、を少なくとも含む、バックライトユニットを提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a backlight unit including at least the laminated film described above and a light source.

上記の積層フィルムは側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有しているので、フィルム内部の光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができるので、バックライトユニットに好適に用いることできる。   Since the laminated film has a film having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer on the side surface, the optical path length inside the film can be extended and the luminance can be improved. It can be used suitably for a unit.

本発明は、前記目的を達成するために、上記記載のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a liquid crystal display device including at least the backlight unit described above and a liquid crystal cell.

上記のバックライトユニットは、液晶表示装置に組み込むことで好適に用いることができる。   The above backlight unit can be suitably used by being incorporated in a liquid crystal display device.

本発明は、前記目的を達成するために、光学機能層と、光学機能層の両面をバリア層で積層してなる積層フィルムを、複数枚重ね合わせ、重ね合わせた複数の積層フィルムの光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を形成する積層フィルムの製造方法を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides an optical functional layer comprising an optical functional layer and a plurality of laminated films formed by laminating both surfaces of the optical functional layer with a barrier layer, and a plurality of laminated films laminated. A method for producing a laminated film for forming a film having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer on the side surface is provided.

本発明の積層フィルムの製造方法によれば、光学機能層とバリア層とからなる積層フィルムを形成した後、この積層フィルムを複数枚重ね合わせ、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜を形成することで、輝度の向上した積層フィルムを製造することができる。また、複数枚の積層フィルムの側面に一度に膜を形成することができ、効率良く成膜することができる。   According to the method for producing a laminated film of the present invention, after forming a laminated film composed of an optical functional layer and a barrier layer, a plurality of the laminated films are overlapped, and the refractive index of the optical functional layer is determined on the side of the optical functional layer. By forming a film having a large refractive index, a laminated film with improved luminance can be manufactured. Moreover, a film can be formed at a time on the side surfaces of a plurality of laminated films, and the film can be formed efficiently.

本発明の別の態様においては、膜を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法で形成することが好ましい。   In another embodiment of the present invention, the film is preferably formed by sputtering, vacuum deposition, ion plating, or plasma CVD.

この態様は、光学機能層の側面に形成する膜の形成方法を規定したものであり、上記方法で形成することで、一度に複数枚の積層フィルムに形成することができる。   In this embodiment, a method for forming a film to be formed on the side surface of the optical functional layer is defined. By forming the film by the above method, a plurality of laminated films can be formed at a time.

本発明の積層フィルム、および、積層フィルムの製造方法によれば、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有するため、光学機能層の側面で光を反射させることができ、輝度を向上させることができる。また、この積層フィルムを含むバックライト、液晶表示装置によれば、光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができる。   According to the laminated film of the present invention and the method for producing the laminated film, the side surface of the optical functional layer has a film having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer. The luminance can be improved. Further, according to the backlight and the liquid crystal display device including the laminated film, the optical path length can be extended and the luminance can be improved.

積層フィルムの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of a laminated film. 有機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the manufacturing equipment used for formation of an organic layer. 無機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the manufacturing equipment used for formation of an inorganic layer. 積層フィルムの形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the manufacturing equipment used for formation of a laminated | multilayer film. 光学機能層の側面に膜を形成する製造設備の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the manufacturing equipment which forms a film | membrane in the side surface of an optical function layer. 積層フィルムを含むバックライトユニットの一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the backlight unit containing a laminated film. 液晶表示装置の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of a liquid crystal display device.

以下、添付図面に従って、本発明に係る積層フィルム、該積層フィルムを含むバックライトユニット、該バックライトユニットを含む液晶表示装置、および積層フィルムの製造方法について説明する。なお、本明細書において、「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。   Hereinafter, a laminated film according to the present invention, a backlight unit including the laminated film, a liquid crystal display device including the backlight unit, and a method for producing the laminated film will be described with reference to the accompanying drawings. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

[積層フィルム]
本発明の積層フィルムは、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなり、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する。
[Laminated film]
The laminated film of the present invention is formed by laminating an optical functional layer and a barrier layer on at least one surface of the optical functional layer, and has a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer on the side surface of the optical functional layer. Has a membrane.

図1は、積層フィルムの構成を示す断面図である。図1(a)は、支持体1、有機層2および無機層3からなるバリア層6が、光学機能層4を挟んで両面に設けられている積層フィルム7である。図1(b)は、支持体1、有機層2および無機層3からなるバリア層6が、光学機能層4の一方の面に形成されている積層フィルム8である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a laminated film. FIG. 1A shows a laminated film 7 in which a barrier layer 6 composed of a support 1, an organic layer 2, and an inorganic layer 3 is provided on both surfaces with an optical functional layer 4 interposed therebetween. FIG. 1B shows a laminated film 8 in which a barrier layer 6 composed of a support 1, an organic layer 2, and an inorganic layer 3 is formed on one surface of the optical functional layer 4.

(光学機能層)
光学機能層は、波長変換層、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層、防眩性反射防止層、中間層、ハードコート層などの層を意味する。本実施形態において、光学機能層は、特に、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドット、および、量子ロッドの少なくともいずれか一方を含む波長変換層として用いることが好ましい。
(Optical function layer)
The optical function layer means a layer such as a wavelength conversion layer, a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a low refractive index layer, an antiglare layer, an antiglare antireflection layer, an intermediate layer, or a hard coat layer. In the present embodiment, the optical functional layer is particularly preferably used as a wavelength conversion layer including at least one of quantum dots and quantum rods that are excited by incident excitation light to emit fluorescence.

光学機能層を波長変換層として用いる場合、光学機能層は、量子ドットまたは量子ロッド、硬化性化合物、チキソトロピー剤、重合開始剤、および、シランカップリング剤などを含んで形成される。光学機能層は、これら各成分を混合し、光学機能層形成用塗布液(以下、「塗布液」ともいう)を調製し、後述するバリア支持体(バリア層)に塗布液を塗布し、光照射により形成する。   When the optical functional layer is used as a wavelength conversion layer, the optical functional layer is formed including a quantum dot or quantum rod, a curable compound, a thixotropic agent, a polymerization initiator, a silane coupling agent, and the like. The optical functional layer mixes these components to prepare an optical functional layer forming coating liquid (hereinafter also referred to as “coating liquid”), and applies the coating liquid to a barrier support (barrier layer) described later, Formed by irradiation.

<量子ドット、量子ロッド>
量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
<Quantum dots and quantum rods>
The quantum dots emit fluorescence by being excited at least by incident excitation light.

本実施形態の光学機能層に含まれる量子ドットとしては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、600nm〜680nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(A)、500nm〜600nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(B)、400nm〜500nmの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(C)があり、量子ドット(A)は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット(B)は緑色光を、量子ドット(C)は青色光を発光する。例えば、量子ドット(A)と量子ドット(B)を含む光学機能層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット(A)により発光される赤色光、量子ドット(B)により発光される緑色光と、光学機能層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット(A)、(B)、および(C)を含む光学機能層を有する積層フィルムに励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット(A)により発光される赤色光、量子ドット(B)により発光される緑色光、および量子ドット(C)により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。   The quantum dots included in the optical functional layer of the present embodiment include at least one kind of quantum dot, and can also include two or more kinds of quantum dots having different emission characteristics. Known quantum dots include quantum dots (A) having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 nm to 680 nm, quantum dots (B) having an emission center wavelength in the wavelength band of 500 nm to 600 nm, and 400 nm to 500 nm. There is a quantum dot (C) having a light emission center wavelength in the wavelength band, and the quantum dot (A) is excited by excitation light to emit red light, the quantum dot (B) emits green light, and the quantum dot (C). Emits blue light. For example, when blue light is incident as excitation light on an optical functional layer including quantum dots (A) and quantum dots (B), red light emitted from the quantum dots (A) and light emitted from the quantum dots (B) White light can be realized by green light and blue light transmitted through the optical functional layer. Alternatively, the red light emitted from the quantum dot (A), quantum by making the ultraviolet light incident as the excitation light on the laminated film having the optical functional layer containing the quantum dots (A), (B), and (C) White light can be embodied by green light emitted by the dots (B) and blue light emitted by the quantum dots (C).

量子ドットについては、例えば特開2012−169271号公報段落0060〜0066を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。   Regarding quantum dots, for example, JP 2012-169271 A paragraphs 0060 to 0066 can be referred to, but are not limited to those described here. As the quantum dots, commercially available products can be used without any limitation. The emission wavelength of the quantum dots can usually be adjusted by the composition and size of the particles.

量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。ただし、塗布液が、実質揮発性の有機溶媒を含有しないことが好ましい。そのため、量子ドットを溶媒に分散した分散液の状態で塗布液に添加した場合は、塗布液をバリア支持体上に塗布して光学機能層を形成する前に、塗布液の溶媒を乾燥させる工程を含むことが好ましい。溶媒を乾燥させる工程を減らす観点からは、量子ドットを、塗布液に粒子の状態で添加することも好ましい。   The quantum dots may be added in the form of particles in the coating liquid, or may be added in the form of a dispersion dispersed in a solvent. The addition in the state of a dispersion is preferable from the viewpoint of suppressing the aggregation of the quantum dot particles. The solvent used here is not particularly limited. However, it is preferable that the coating solution does not contain a substantially volatile organic solvent. Therefore, when the quantum dots are added to the coating liquid in the state of dispersion in a solvent, the solvent of the coating liquid is dried before the coating liquid is applied on the barrier support to form the optical functional layer. It is preferable to contain. From the viewpoint of reducing the step of drying the solvent, it is also preferable to add the quantum dots to the coating liquid in the form of particles.

なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が160℃以下の、塗布液中の硬化性化合物と外部刺激により硬化しない化合物で20℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、160℃以下であり、115℃以下が更に好ましく、最も好ましくは30℃以上100℃以下である。   Note that the volatile organic solvent means a curable compound in the coating solution having a boiling point of 160 ° C. or less and a compound that is not cured by an external stimulus and is liquid at 20 ° C. The boiling point of the volatile organic solvent is 160 ° C. or lower, more preferably 115 ° C. or lower, and most preferably 30 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない場合、塗布液中、揮発性の有機溶媒の割合が10000ppm以下であることが好ましく、1000ppm以下であることがより好ましい。   When the coating solution does not contain a substantially volatile organic solvent, the ratio of the volatile organic solvent in the coating solution is preferably 10,000 ppm or less, and more preferably 1000 ppm or less.

量子ドットは、塗布液の全量100質量部に対して、例えば0.1〜10質量部程度添加することができる。   A quantum dot can be added about 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of whole quantity of a coating liquid, for example.

また、量子ドットに代えて量子ロッドを用いることができる。量子ロッドは、細長い形状の粒子であり、量子ドットと同様の性質を有する。量子ロッドの添加量、塗布液への添加方法などについては、量子ドットと同じ量、同様の方法により行うことができる。また、量子ドットと量子ロッドを組み合わせて用いることもできる。   Moreover, it can replace with a quantum dot and can use a quantum rod. Quantum rods are elongated particles and have properties similar to quantum dots. About the addition amount of a quantum rod, the addition method to a coating liquid, etc., it can carry out by the same amount and the same method as a quantum dot. A combination of quantum dots and quantum rods can also be used.

<硬化性化合物>
本実施形態で用いられる硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、(メタ)アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、(メタ)アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、2つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていてもよい。
<Curable compound>
As the curable compound used in the present embodiment, those having a polymerizable group can be widely employed. Although the kind of polymeric group is not specifically limited, Preferably, it is a (meth) acrylate group, a vinyl group, or an epoxy group, More preferably, it is a (meth) acrylate group, More preferably, it is an acrylate group. Moreover, as for the polymerizable monomer which has 2 or more polymeric groups, each polymeric group may be the same and may differ.

−(メタ)アクリレート系−
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能(メタ)アクリレートモノマー等の(メタ)アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明および本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「(メタ)アクリロイル」等も同様である。
-(Meth) acrylate-
From the viewpoint of transparency and adhesion of the cured film after curing, (meth) acrylate compounds such as monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate monomers, polymers thereof, prepolymers, and the like are preferable. In addition, in this invention and this specification, description with "(meth) acrylate" shall be used by the meaning of at least one of an acrylate and a methacrylate, or either. The same applies to “(meth) acryloyl” and the like.

−−2官能のもの−−
重合性基を2つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を2個有する2官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。2官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い(メタ)アクリレート系化合物が好ましい。
--2 Functional ones--
Examples of the polymerizable monomer having two polymerizable groups include a bifunctional polymerizable unsaturated monomer having two ethylenically unsaturated bond-containing groups. Bifunctional polymerizable unsaturated monomers are suitable for reducing the viscosity of the composition. In the present embodiment, (meth) acrylate compounds that are excellent in reactivity and have no problems such as residual catalyst are preferable.

特に、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート等が本発明に好適に用いられる。   In particular, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, This includes hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, etc. It is suitably used in the invention.

2官能(メタ)アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量100質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、5質量部以上とすることが好ましく、10〜80質量部とすることがより好ましい。   The amount of the bifunctional (meth) acrylate monomer used is 5 parts by mass or more from the viewpoint of adjusting the viscosity of the coating liquid to a preferable range with respect to 100 parts by mass of the total amount of the curable compound contained in the coating liquid. Is preferable, and it is more preferable to set it as 10-80 mass parts.

−−3官能以上のもの−−
重合性基を3つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を3個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い(メタ)アクリレート系化合物が好ましい。
--Three or more functional--
Examples of the polymerizable monomer having three or more polymerizable groups include polyfunctional polymerizable unsaturated monomers having three or more ethylenically unsaturated bond-containing groups. These polyfunctional polymerizable unsaturated monomers are excellent in terms of imparting mechanical strength. In the present embodiment, (meth) acrylate compounds that are excellent in reactivity and have no problems such as residual catalyst are preferable.

具体的には、ECH変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、EO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、PO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等が好適である。   Specifically, ECH-modified glycerol tri (meth) acrylate, EO-modified glycerol tri (meth) acrylate, PO-modified glycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, EO-modified phosphate triacrylate, tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaeryth Tall hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate and the like are suitable.

これらの中で特に、EO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、PO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートが本発明に好適に用いられる。   Among these, EO-modified glycerol tri (meth) acrylate, PO-modified glycerol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate are preferably used in the present invention.

多官能(メタ)アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量100質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、5質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、95質量部以下とすることが好ましい。   The amount of the polyfunctional (meth) acrylate monomer used is 5 parts by mass or more from the viewpoint of the coating strength of the optical functional layer after curing with respect to 100 parts by mass of the total amount of the curable compound contained in the coating liquid. It is preferable that it is 95 mass parts or less from a viewpoint of gelatinization suppression of a coating liquid.

−−単官能のもの−−
単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、(メタ)アクリル酸の重合性不飽和結合((メタ)アクリロイル基)を分子内に1個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。
--Monofunctional--
Monofunctional (meth) acrylate monomers include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, monomers having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present embodiment is not limited thereto.

メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル基の炭素数が1〜30であるアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル基の炭素数が7〜20であるアラルキル(メタ)アクリレート;ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が2〜30であるアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(モノアルキル又はジアルキル)アミノアルキル基の総炭素数が1〜20であるアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテルの(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜10で末端アルキルエーテルの炭素数が1〜10のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの(メタ)アクリレート;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30で末端アリールエーテルの炭素数が6〜20のポリアルキレングリコールアリールエーテルの(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数4〜30の(メタ)アクリレート;ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレート等の総炭素数4〜30のフッ素化アルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールのモノ又はジ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1〜30のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げら
れる。
Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( Alkyl (meth) acrylates having an alkyl group such as meth) acrylate having 1 to 30 carbon atoms; aralkyl (meth) acrylates having an aralkyl group such as benzyl (meth) acrylate having 7 to 20 carbon atoms; butoxyethyl (meta) ) An alkoxyalkyl (meth) acrylate having 2 to 30 carbon atoms of an alkoxyalkyl group such as acrylate; the total carbon number of a (monoalkyl or dialkyl) aminoalkyl group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate 1-20 Aminoalkyl (meth) acrylates; (meth) acrylates of diethylene glycol ethyl ether, (meth) acrylates of triethylene glycol butyl ether, (meth) acrylates of tetraethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylates of hexaethylene glycol monomethyl ether, octa Monomethyl ether (meth) acrylate of ethylene glycol, monomethyl ether (meth) acrylate of nonaethylene glycol, monomethyl ether (meth) acrylate of dipropylene glycol, monomethyl ether (meth) acrylate of heptapropylene glycol, monoethyl ether of tetraethylene glycol Alkylene chain such as (meth) acrylate has 1 to 10 carbon atoms and terminal alkyl (Meth) acrylate of polyalkylene glycol alkyl ether having 1 to 10 carbon atoms; alkylene chain such as (meth) acrylate of hexaethylene glycol phenyl ether having 1 to 30 carbon atoms and terminal aryl ether having 6 carbon atoms (Meth) acrylate of -20 polyalkylene glycol aryl ethers; alicyclic structures such as cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and methylene oxide-added cyclodecatriene (meth) acrylate (Meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms in total; fluorinated alkyl (meth) acrylate having 4 to 30 carbon atoms in total such as heptadecafluorodecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono ( (Meth) acrylate, (meth) acrylate having a hydroxyl group such as glycerol mono- or di (meth) acrylate; (meth) acrylate having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate; tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene Polyethylene glycol mono (meth) having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain such as glycol mono (meth) acrylate and octapropylene glycol mono (meth) acrylate Acrylate; (meth) acrylamide, N, N- dimethyl (meth) acrylamide, N- isopropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, acryloyl morpholine (meth) acrylamide and the like.

単官能(メタ)アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量100質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、10質量部以上とすることが好ましく、10〜80質量部とすることがより好ましい。   The amount of the monofunctional (meth) acrylate monomer used is 10 parts by mass or more from the viewpoint of adjusting the viscosity of the coating liquid to a preferable range with respect to 100 parts by mass of the total amount of the curable compound contained in the coating liquid. Is preferable, and it is more preferable to set it as 10-80 mass parts.

−エポキシ系化合物他−
本実施形態で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、(メタ)アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。
-Epoxy compounds, etc.-
Examples of the polymerizable monomer used in the present embodiment include compounds having a cyclic group such as a cyclic ether group capable of ring-opening polymerization such as an epoxy group and an oxetanyl group. More preferable examples of such a compound include compounds having an epoxy group-containing compound (epoxy compound). By using a compound having an epoxy group or an oxetanyl group in combination with a (meth) acrylate compound, the adhesion with the barrier layer tends to be improved.

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。   Examples of the compound having an epoxy group include polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, polyglycidyl ethers of aromatic polyols, and aromatics. Mention may be made, for example, of hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of polyols, urethane polyepoxy compounds and epoxidized polybutadienes. These compounds can be used alone or in combination of two or more thereof.

その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。   Other examples of the compound having an epoxy group that can be preferably used include, for example, an aliphatic cyclic epoxy compound, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, Brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol Glycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers; polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin; Diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols; monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding phenol, cresol, butylphenol or alkylene oxide to these; higher fatty acid Examples thereof include glycidyl esters.

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。   Among these components, aliphatic cyclic epoxy compounds, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether are preferred.

エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、UVR−6216(ユニオンカーバイド社製)、グリシドール、AOEX24、サイクロマーA200、セロキサイド2021P、セロキサイド8000(以上、ダイセル化学工業(株)製)、シグマアルドリッチ社製の4−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート828、エピコート812、エピコート1031、エピコート872、エピコートCT508(以上、油化シェル(株)製)、KRM−2400、KRM−2410、KRM−2408、KRM−2490、KRM−2720、KRM−2750(以上、旭電化工業(株)製)などを挙げることができる。これらは、1種単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。   Commercially available products that can be suitably used as compounds having an epoxy group or an oxetanyl group include UVR-6216 (manufactured by Union Carbide), glycidol, AOEX24, Cyclomer A200, Celoxide 2021P, Celoxide 8000 (above, Daicel Chemical Industries, Ltd.) ), 4-vinylcyclohexene dioxide manufactured by Sigma-Aldrich, Epicoat 828, Epicoat 812, Epicoat 1031, Epicoat 872, Epicoat CT508 (above, manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.), KRM-2400, KRM-2410, KRM -2408, KRM-2490, KRM-2720, KRM-2750 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.). These can be used alone or in combination of two or more.

また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213〜、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry OF heterocyclic compounds−Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11−100378号公報、特許第2906245号公報、特許第2926262号公報などの文献を参考にして合成できる。   The compounds having these epoxy groups and oxetanyl groups are not particularly limited in their production methods. For example, Maruzen KK Publishing Co., Ltd., Fourth Edition Experimental Chemistry Course 20 Organic Synthesis II, 213, 1992, Ed. by Alfred Hasfner, The Chemistry OF Heterocyclic compounds, Vol. 30, Bonds, Small Ring Heterocycles part3, Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Inc. No. 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 7, 42, 1986, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1000037, Japanese Patent No. 2906245, Japanese Patent No. 2926262, and the like.

本実施形態で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。   As the curable compound used in the present embodiment, a vinyl ether compound may be used.

ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開2009−73078号公報の段落番号0057に記載のものを好ましく採用することができる。   A well-known thing can be selected suitably for a vinyl ether compound, For example, the thing of paragraph number 0057 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-73078 can be employ | adopted preferably.

これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(4237)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは1種単独あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   These vinyl ether compounds are described in, for example, Stephen. C. Lapin, Polymers Paint Color Journal. 179 (4237), 321 (1988), that is, synthesis by reaction of polyhydric alcohol or polyhydric phenol and acetylene, or reaction of polyhydric alcohol or polyhydric phenol and halogenated alkyl vinyl ether. These can be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開2009−73078号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。   For the coating liquid of this embodiment, a silsesquioxane compound having a reactive group described in JP-A-2009-73078 can also be used from the viewpoint of lowering viscosity and increasing hardness.

<チキソトロピー剤>
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。
<Thixotropic agent>
The thixotropic agent is an inorganic compound or an organic compound.

−無機物−
チキソトロピー剤の好ましい1つの態様は無機物のチキソトロピー剤であり、たとえば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。
-Inorganic matter-
One preferred embodiment of the thixotropic agent is an inorganic thixotropic agent. For example, an acicular compound, a chain compound, a flat compound, or a layered compound can be preferably used. Of these, a layered compound is preferable.

層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト(カオリンクレー)、パイロフィライト(ろう石クレー)、セリサイト(絹雲母)、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類(モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど)、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。   There are no particular restrictions on the layered compound, but talc, mica, feldspar, kaolinite (kaolin clay), pyrophyllite (waxite clay), sericite (sericite), bentonite, smectite vermiculites (montmorillonite, beidellite, Nontronite, saponite, etc.), organic bentonite, organic smectite and the like.

これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー#60、バーゲスクレーKF、オプチホワイト(以上、白石工業(株)製)、カオリンJP−100、NNカオリンクレー、STカオリンクレー、ハードシル(以上、土屋カオリン工業(株)製)、ASP−072、サテントンプラス、トランスリンク37、ハイドラスデラミNCD(以上、エンジェルハード(株)製)、SYカオリン、OSクレー、HAクレー、MCハードクレー(以上、丸尾カルシウム(株)製)、ルーセンタイトSWN、ルーセンタイトSAN、ルーセンタイトSTN、ルーセンタイトSEN、ルーセンタイトSPN(以上コープケミカル社製)、スメクトン(クニミネ工業社製)、ベンゲル、ベンゲルFW、エスベン、エスベン74、オルガナイト、オルガナイトT(以上、ホージュン(株)製)、穂高印、オルベン、250M、ベントン34、ベントン38(以上、ウイルバー・エリス社製)、ラポナイト、ラポナイトRD、ラポナイトRDS(以上、日本シリカ工業(株)製)などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。   These can be used alone or in combination of two or more. Examples of commercially available layered compounds include, for example, crown clay, Burgess clay # 60, Burgess clay KF, Opti White (manufactured by Shiroishi Kogyo Co., Ltd.), Kaolin JP-100, NN Kaolin clay, ST kaolin. Clay, Hardsil (above, manufactured by Tsuchiya Kaolin Industry Co., Ltd.), ASP-072, Satinton Plus, Translink 37, Hydras Delami NCD (above, manufactured by Angelhard Co., Ltd.), SY Kaolin, OS clay, HA clay MC hard clay (above, manufactured by Maruo Calcium Co., Ltd.), Lucentite SWN, Lucentite SAN, Lucentite STN, Lucentite SEN, Lucentite SPN (above manufactured by Coop Chemical Co.), Smecton (produced by Kunimine Industries), Wenger, Wenger FW, S , Sven 74, Organite, Organite T (above, Hojun Co., Ltd.), Hotaka, Olven, 250M, Benton 34, Benton 38 (above, Wilber Ellis), Laponite, Laponite RD, Laponite RDS (Nippon Silica Industry Co., Ltd.). These compounds may be dispersed in a solvent.

塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、xM(I)O・ySiOで表される珪酸塩化合物(酸化数が2,3であるM(II)O、M(III)に相当するものもある。x、yは正の数を表す)であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。 In the thixotropic agent added to the coating solution, among the layered inorganic compounds, a silicate compound represented by xM (I) 2 O.ySiO 2 (M (II) O, M (III having an oxidation number of 2 or 3) ) 2 O 3. Some of them correspond to 2 O 3. x and y represent positive numbers), and more preferable compounds are swellable layered clay minerals such as hectorite, bentonite, smectite, and vermiculite.

特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状(粘土)化合物(珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの)が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム(ヘクトライト)のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。   Particularly preferably, a layered (clay) compound modified with an organic cation (a cation compound obtained by exchanging an interlayer cation such as sodium of a silicate compound with an organic cation compound) can be suitably used. For example, sodium silicate / magnesium (hectorite) ) In which the sodium ion is exchanged with the following ammonium ion.

アンモニウムイオンの例としては、炭素数6から18のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が4から18であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス(2−ヒドロキシエチル)ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が4から25であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of ammonium ions include monoalkyltrimethylammonium ions having 6 to 18 carbon atoms, dialkyldimethylammonium ions, trialkylmethylammonium ions, and dipolyoxyethylene coconut oil alkyls having 4 to 18 oxyethylene chains. Examples include methylammonium ion, bis (2-hydroxyethyl) coconut oil alkylmethylammonium ion, and polyoxypropylenemethyldiethylammonium ion having an oxopropylene chain of 4 to 25. These ammonium ions can be used alone or in combination of two or more.

珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、16時間以上放置し、4質量%の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して30質量%〜200質量%添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。   As a method for producing a silicate mineral modified with an organic cation obtained by exchanging sodium ions of sodium silicate / magnesium with ammonium ions, the sodium silicate / magnesium is dispersed in water and sufficiently stirred, and then allowed to stand for 16 hours or more. Adjust the dispersion. While stirring the dispersion, 30% to 200% by mass of a desired ammonium salt is added to sodium magnesium silicate. After the addition, cation exchange occurs, and hectorite containing an ammonium salt between layers becomes insoluble in water and precipitates. Therefore, the precipitate is collected by filtration and dried. During the preparation, heating may be performed in order to accelerate dispersion.

アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトSAN、ルーセンタイトSAN−316、ルーセンタイトSTN、ルーセンタイトSEN、ルーセンタイトSPN(以上コープケミカル社製)などが挙げられ、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of commercially available alkylammonium-modified silicate minerals include Lucentite SAN, Lucentite SAN-316, Lucentite STN, Lucentite SEN, and Lucentite SPN (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) alone or in combination of two or more. Can be used in combination.

本実施形態においては、無機物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。   In this embodiment, silica, alumina, silicon nitride, titanium dioxide, calcium carbonate, zinc oxide, or the like can be used as an inorganic thixotropic agent. If necessary, these compounds can be subjected to a treatment for adjusting hydrophilicity or hydrophobicity on the surface.

−有機物−
チキソトロピー剤は、有機物のチキソトロピー剤を用いることができる。
-Organic matter-
As the thixotropic agent, an organic thixotropic agent can be used.

有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。   Examples of organic thixotropic agents include polyolefin oxide and modified urea.

前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン4200−20(商品名、楠本化成(株)製)、フローノンSA300(商品名、共栄社化学(株)製)等があげられる。   The above-mentioned oxidized polyolefin may be prepared in-house or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include Disparon 4200-20 (trade name, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Flownon SA300 (trade name, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like.

前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、BYK410(ビッグケミー社製)等があげられる。   The aforementioned modified urea is a reaction product of an isocyanate monomer or an adduct thereof and an organic amine. The above-mentioned modified urea may be prepared in-house or a commercially available product may be used. As a commercial item, BYK410 (made by Big Chemie) etc. are mention | raise | lifted, for example.

−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物100質量部に対して0.15〜20質量部であることが好ましく、0.2〜10質量部であることがより好ましく、0.2〜8質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物100質量部に対して20質量以下であると、脆性が良化方向にある。
-Content-
The content of the thixotropic agent is preferably 0.15 to 20 parts by mass, more preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable compound in the coating solution, and 0.2 It is especially preferable that it is -8 mass parts. In particular, in the case of an inorganic thixotropic agent, brittleness tends to be improved when it is 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the curable compound.

<重合開始剤>
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開2013−043382号公報段落0037を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5〜2モル%であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量%として、0.1質量%〜10質量%含むことが好ましく、更に好ましくは0.2質量%〜8質量%である。
<Polymerization initiator>
The coating solution may contain a known polymerization initiator as a polymerization initiator. JP, 2013-043382, A paragraph 0037 can be referred to for a polymerization initiator, for example. The polymerization initiator is preferably 0.1 mol% or more of the total amount of the curable compound contained in the coating solution, and more preferably 0.5 to 2 mol%. Moreover, it is preferable to contain 0.1 mass%-10 mass% as mass% in all the curable compositions except a volatile organic solvent, More preferably, it is 0.2 mass%-8 mass%.

<シランカップリング剤>
シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐光性を示すことができる。これは主に、光学機能層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光学機能層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光学機能層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光学機能層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
<Silane coupling agent>
An optical functional layer formed from a coating solution containing a silane coupling agent can exhibit excellent light resistance because the silane coupling agent has strong adhesion to an adjacent layer. This is mainly due to the fact that the silane coupling agent contained in the optical functional layer forms a covalent bond with the surface of the adjacent layer and the constituent components of the optical functional layer by a hydrolysis reaction or a condensation reaction. In addition, when the silane coupling agent has a reactive functional group such as a radical polymerizable group, a monomer component constituting the optical functional layer and a crosslinked structure can also be formed, which improves the adhesion between the optical functional layer and the adjacent layer. Can contribute.

シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開2013−43382号公報に記載の下記一般式(1)で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。   As the silane coupling agent, a known silane coupling agent can be used without any limitation. As a preferable silane coupling agent from the viewpoint of adhesion, a silane coupling agent represented by the following general formula (1) described in JP2013-43382A can be exemplified.

Figure 2016068556
Figure 2016068556

(一般式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、R〜Rのうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。)
〜Rは、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。R〜Rは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。R〜Rは、メチル基が特に好ましい。
(In General Formula (1), R 1 to R 6 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group or an aryl group, provided that at least one of R 1 to R 6 is a radical polymerizable group. This is a substituent containing a carbon-carbon double bond.)
R 1 to R 6 are each independently a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. R 1 to R 6 are preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, except for a case where the R 1 to R 6 are a substituent containing a radically polymerizable carbon-carbon double bond. As an alkyl group, a C1-C6 alkyl group is preferable and a methyl group is more preferable. As the aryl group, a phenyl group is preferable. R 1 to R 6 are particularly preferably a methyl group.

〜Rのうち少なくとも1つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、R〜Rの2つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、R〜Rの中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であって、R〜Rのなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が1であることが特に好ましい。 At least one of R 1 to R 6, the carbon radical polymerizable - having a substituent containing a carbon double bond, two of R 1 to R 6 is a radical polymerizable carbon - carbon double bonds A substituent is preferred. Further, among R 1 to R 3 , the number of those having a substituent containing a radical polymerizable carbon-carbon double bond is 1, and among R 4 to R 6 , the radical polymerizable carbon-carbon It is particularly preferred that the number of those having a substituent containing a double bond is 1.

一般式(1)で表されるシランカップリング剤が2つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。   The substituents in which the silane coupling agent represented by the general formula (1) includes two or more radically polymerizable carbon-carbon double bonds may be the same or different. The same is preferable.

ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−X−Yで表されることが好ましい。ここで、Xは、単結合、炭素数1〜6のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Yは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基がより好ましい。   The substituent containing a radically polymerizable carbon-carbon double bond is preferably represented by -XY. Here, X is a single bond, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an arylene group, and preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, or a phenylene group. Y is a radically polymerizable carbon-carbon double bond group, and is preferably an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an acryloylamino group, a methacryloylamino group, a vinyl group, a propenyl group, a vinyloxy group, or a vinylsulfonyl group. ) An acryloyloxy group is more preferred.

また、R〜Rはラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、アシル基(例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等)、等が挙げられる。 R 1 to R 6 may have a substituent other than a substituent containing a radical polymerizable carbon-carbon double bond. Examples of the substituent include alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, tert-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group). Etc.), aryl groups (eg phenyl group, naphthyl group etc.), halogen atoms (eg fluorine, chlorine, bromine, iodine), acyl groups (eg acetyl group, benzoyl group, formyl group, pivaloyl group etc.), acyloxy Groups (for example, acetoxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl groups (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl groups (for example, phenyloxycarbonyl group, etc.), sulfonyl groups ( For example, methanesulfonyl group, benzene Honiru group), and the like.

シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、1〜30質量%の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは3〜30質量%であり、さらに好ましくは5〜25質量%である。   From the viewpoint of further improving the adhesion with the adjacent layer, the silane coupling agent is preferably contained in the coating liquid in the range of 1 to 30% by mass, more preferably 3 to 30% by mass. More preferably, it is 5 to 25% by mass.

本実施形態においては、塗布液中には、前述の揮発性有機溶媒を用いることができる。好ましい態様は、塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない態様である。また別の態様としては、揮発性の有機溶剤を塗布液中に含ませることが可能であり、例えば10質量%以上50質量%以下含むことが可能であり、10質量%以上40質量%含有することも可能である。用いることの出来る溶媒の具体例は、特開2013−105160号公報段落0038〜0041を参照できる。   In the present embodiment, the aforementioned volatile organic solvent can be used in the coating solution. In a preferred embodiment, the coating solution does not contain a substantially volatile organic solvent. As another aspect, a volatile organic solvent can be contained in the coating solution, and for example, it can be contained in an amount of 10% by mass or more and 50% by mass or less, and is contained in an amount of 10% by mass or more and 40% by mass. It is also possible. JP, 2013-105160, A paragraphs 0038-0041 can be referred to for the specific example of the solvent which can be used.

(バリア層)
本実施形態の積層フィルムにおいては、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層が積層されている。バリア層としては、公知のいずれのバリアフィルムであってもよい。図1は、少なくとも、支持体1、有機層2、無機層3と、を含んで形成されているバリア層6を示しているが本発明はこれに限定されない。バリア層6は、図1(a)に示すように、光学機能層4の両面に形成されていてもよく、図1(b)に示すように、いずれか一方に形成されていてもよい。バリア層6が光学機能層4の両面に形成されている場合、少なくとも一方のバリア層6の支持体1が、可撓性の支持体であることが好ましい。
(Barrier layer)
In the laminated film of this embodiment, a barrier layer is laminated on at least one surface of the optical functional layer. The barrier layer may be any known barrier film. Although FIG. 1 shows the barrier layer 6 formed including at least the support 1, the organic layer 2, and the inorganic layer 3, the present invention is not limited to this. The barrier layer 6 may be formed on both surfaces of the optical functional layer 4 as shown in FIG. 1A, or may be formed on either one as shown in FIG. When the barrier layer 6 is formed on both surfaces of the optical functional layer 4, it is preferable that the support 1 of at least one of the barrier layers 6 is a flexible support.

バリア層は少なくとも無機層を含んでいればよく、可撓性の支持体上に少なくとも無機層1層と少なくとも1層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリア層は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは80%以上であり、かつ、酸素透過度が1.00cm3/(m2・day・atm)以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。 The barrier layer only needs to include at least an inorganic layer, and may include at least one inorganic layer and at least one organic layer on a flexible support. Laminating a plurality of layers in this manner is preferable from the viewpoint of improving light resistance because the barrier property can be further enhanced. On the other hand, as the number of layers to be stacked increases, the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease. Therefore, it is desirable to increase the number of layers within a range in which good light transmittance can be maintained. Specifically, the barrier layer preferably has a total light transmittance in the visible light region of 80% or more and an oxygen permeability of 1.00 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. preferable. The total light transmittance is an average value of light transmittance over the visible light region.

バリア層の酸素透過度は、より好ましくは0.1cm3/(m2・day・atm)以下、特に好ましくは0.01cm3/(m2・day・atm)以下であり、より特に好ましいのは0.001cm3/(m2・day・atm)以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度23℃、相対湿度90%の条件下で、酸素ガス透過率測定装置(MOCON社製、OX−TRAN 2/20:商品名)を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、380〜780nmの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、光学機能層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。 The oxygen permeability of the barrier layer is more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, particularly preferably 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and particularly preferably. Is 0.001 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring device (manufactured by MOCON, OX-TRAN 2/20: trade name) under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 90%. It is. Further, the visible light region means a wavelength band of 380 to 780 nm, and the total light transmittance means an average value of light transmittance excluding contributions of light absorption and reflection of the optical functional layer.

可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは90%以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。   The total light transmittance in the visible light region is more preferably 90% or more. The lower the oxygen transmittance, the better. The higher the total light transmittance in the visible light region, the better.

−可撓性の支持体−
バリア層は、強度向上、成膜の容易性等のため、可撓性の支持体を有していてもよい。
-Flexible support-
The barrier layer may have a flexible support for improving strength, easiness of film formation, and the like.

図1においては、バリア層6は、無機層3、有機層2、および支持体1の順に形成されている。バリア層は、これに限定されず、無機層、および支持体の順となるように形成されていてもよい。また、有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間に、支持体を配置してもよい。さらに、支持体は、積層フィルム中に2つまたは3つ以上含まれていてもよい。   In FIG. 1, the barrier layer 6 is formed in the order of the inorganic layer 3, the organic layer 2, and the support 1. The barrier layer is not limited to this, and may be formed in the order of the inorganic layer and the support. In addition, a support may be disposed between the organic layer and the inorganic layer, between the two organic layers, or between the two inorganic layers. Furthermore, two or three or more supports may be included in the laminated film.

可撓性の支持体としては、可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、80%以上、好ましくは85%以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、JIS−K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。支持体については、特開2007−290369号公報段落0046〜0052、特開2005−096108号公報段落0040〜0055を参照できる。支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、10〜500μmの範囲内、中でも15〜300μmの範囲内、特に15〜120μmの範囲内、より特に15〜100μmの範囲内、更には25〜110μm、より更には25〜60μmであることが好ましい。可撓性の支持体として、市販品を用いてもよく、例えば易接着層付きポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである東洋紡(株)製 コスモシャインA4100などを用いることができる。   The flexible support is preferably a transparent support that is transparent to visible light. Here, “transparent to visible light” means that the linear transmittance in the visible light region is 80% or more, preferably 85% or more. The light transmittance used as a measure of transparency is measured by measuring the total light transmittance and the amount of scattered light using the method described in JIS-K7105, that is, using an integrating sphere light transmittance measuring device, and diffusing transmission from the total light transmittance. It can be calculated by subtracting the rate. JP, 2007-290369, A paragraphs 0046-0052 and JP, 2005-096108, A paragraphs 0040-0055 can be referred to for a support. The thickness of the support is in the range of 10 to 500 μm, particularly in the range of 15 to 300 μm, particularly in the range of 15 to 120 μm, more particularly in the range of 15 to 100 μm, from the viewpoints of gas barrier properties, impact resistance, etc. Furthermore, it is preferable that it is 25-110 micrometers, and also 25-60 micrometers. A commercially available product may be used as the flexible support, for example, Cosmo Shine A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd., which is a polyethylene terephthalate (PET) film with an easy adhesion layer.

支持体はバリア層のいずれか、または双方に用いることもできる。バリア層が支持体の両面に含む場合、同一であっても異なっていてもよい。   The support can be used for either or both of the barrier layers. When the barrier layer is included on both sides of the support, it may be the same or different.

−無機層−
バリア層は、無機層を含んでいてもよい。無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。
-Inorganic layer-
The barrier layer may include an inorganic layer. An inorganic layer is a layer which has an inorganic material as a main component, Preferably it is a layer formed only from an inorganic material.

無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、1.00cm3/(m2・day・atm)以下であることが好ましい。無機層の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。 The inorganic layer is preferably a layer having a gas barrier function of blocking oxygen. Specifically, the oxygen permeability of the inorganic layer is preferably 1.00 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. The oxygen permeability coefficient of the inorganic layer can be obtained by attaching a wavelength conversion layer to the detection part of an oxygen meter made by Orbis Fair Laboratories via silicon grease and converting the oxygen permeability coefficient from the equilibrium oxygen concentration value. It is also preferable that the inorganic layer has a function of blocking water vapor.

無機層は、バリア層中に2つまたは3つ以上含まれていてもよい。   Two or more inorganic layers may be contained in the barrier layer.

無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。   The inorganic material constituting the inorganic layer is not particularly limited, and for example, various inorganic compounds such as metals or inorganic oxides, nitrides, oxynitrides, and the like can be used. As an element constituting the inorganic material, silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium and cerium are preferable, and one or two or more of these may be included. Specific examples of the inorganic compound include silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide alloy, silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride. As the inorganic layer, a metal film such as an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, or a titanium film may be provided.

上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。   Among the above materials, the inorganic layer having the barrier property is particularly preferably an inorganic layer containing at least one compound selected from silicon nitride, silicon oxynitride, silicon oxide, and aluminum oxide. Since the inorganic layer made of these materials has good adhesion to the organic layer, even when the inorganic layer has pinholes, the organic layer can effectively fill the pinholes and suppress breakage. In addition, it is possible to form an extremely excellent inorganic layer film even in a case where an inorganic layer is further laminated, and to further increase the barrier property.

無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。   A method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and various film forming methods that can evaporate or scatter the film forming material and deposit it on the deposition surface can be used.

無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法;無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法;無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法;無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法)、酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法)等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。   Examples of the method for forming the inorganic layer include a vacuum evaporation method in which an inorganic material such as an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic oxynitride, or a metal is heated and evaporated; an inorganic material is used as a raw material, and oxygen gas is introduced. Oxidation reaction vapor deposition method for oxidizing and vapor-depositing; Sputtering method for vapor deposition by introducing and sputtering argon gas and oxygen gas using an inorganic material as a target raw material; When a vapor deposition film of silicon oxide or silicon nitride is formed by using a physical vapor deposition method (physical vapor deposition method) such as an ion plating method, which is heated by a plasma beam and deposited, an organic silicon compound is used as a raw material. Plasma Chemical Vapor Deposition (Chemical Vapor Deposition) ), And the like. Vapor deposition may be performed on the surface of a support, a substrate film, a wavelength conversion layer, an organic layer, etc. as a substrate.

酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン(TMOS)、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。   The silicon oxide film is preferably formed by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an organosilicon compound as a raw material. Specific examples of the organosilicon compound include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, and propyl. Examples thereof include silane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, and octamethylcyclotetrasiloxane. Among the organosilicon compounds, tetramethoxysilane (TMOS) and hexamethyldisiloxane (HMDSO) are preferably used. This is because these are excellent in handleability and vapor deposition film characteristics.

無機層の厚さは、1nm〜500nmであればよく、5nm〜300nmであることが好ましく、特に10nm〜150nmのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供することができるからである。   The thickness of the inorganic layer may be 1 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm, and particularly preferably 10 nm to 150 nm. When the film thickness of the adjacent inorganic layer is within the above-described range, it is possible to suppress the reflection in the inorganic layer while providing good barrier properties, and to provide a laminated film with higher light transmittance. Because it can.

積層フィルムにおいて、光学機能層に隣接している無機層が少なくとも一層含まれていることが好ましい。光学機能層の両面に無機層が直接接していることも好ましい。   In the laminated film, it is preferable that at least one inorganic layer adjacent to the optical functional layer is included. It is also preferable that the inorganic layer is in direct contact with both surfaces of the optical functional layer.

−有機層−
有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が50質量%以上、更には80質量%以上、特に90質量%以上を占める層を言うものとする。
-Organic layer-
The organic layer is a layer mainly composed of an organic material, and preferably refers to a layer in which the organic material occupies 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly 90% by mass or more.

有機層としては、特開2007−290369号公報段落0020〜0042、特開2005−096108号公報段落0074〜0105を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開2005−096108号公報段落0085〜0095を参照できる。有機層の膜厚は、0.05μm〜10μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5〜10μmの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、0.5〜10μmの範囲内、中でも1μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、0.05μm〜5μmの範囲内、中でも0.05μm〜1μmの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。   JP, 2007-290369, A paragraphs 0020-0042 and JP, 2005-096108, A paragraphs 0074-0105 can be referred to as an organic layer. The organic layer preferably contains a cardo polymer. Thereby, the adhesiveness between the organic layer and the adjacent layer, particularly the adhesiveness with the inorganic layer is improved, and a further excellent gas barrier property can be realized. For details of the cardo polymer, reference can be made to paragraphs 0085 to 0095 of the above-mentioned JP-A-2005-096108. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.05 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 10 μm. When the organic layer is formed by a wet coating method, the film thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 5 μm. Moreover, when formed by the dry coating method, it is preferable that it exists in the range of 0.05 micrometer-5 micrometers, especially in the range of 0.05 micrometer-1 micrometer. This is because when the film thickness of the organic layer formed by the wet coating method or the dry coating method is within the above-described range, the adhesion with the inorganic layer can be further improved.

無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開2007−290369号公報、特開2005−096108号公報、更にUS2012/0113672A1の記載を参照できる。   As for other details of the inorganic layer and the organic layer, reference can be made to the descriptions in JP-A-2007-290369, JP-A-2005-096108, and US2012 / 0113672A1.

[バリア層および光学機能層の形成方法]
次に積層フィルムの製造において、バリア層および光学機能層の形成方法について説明する。図2は、有機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図であり、図3は、無機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。また、図4は、光学機能層の製造に用いられる製造設備の一例の概略図である。なお、図2〜図4に示す装置は、一例であり、上述した方法で各層を形成することができる。
[Method for forming barrier layer and optical functional layer]
Next, a method for forming the barrier layer and the optical functional layer in the production of the laminated film will be described. FIG. 2 is a schematic view of an example of manufacturing equipment used for forming the organic layer, and FIG. 3 is a schematic view of an example of manufacturing equipment used for forming the inorganic layer. FIG. 4 is a schematic view of an example of manufacturing equipment used for manufacturing the optical functional layer. 2 to 4 is an example, and each layer can be formed by the method described above.

有機層形成においては、図2に示すように、まず、送出機12から支持体1が塗布部10へと連続搬送される。塗布部10では、連続搬送される支持体1の表面に有機層形成用塗布液が塗布され、有機層が形成される。   In forming the organic layer, as shown in FIG. 2, first, the support 1 is continuously conveyed from the delivery machine 12 to the coating unit 10. In the coating unit 10, an organic layer forming coating solution is applied to the surface of the support 1 that is continuously conveyed to form an organic layer.

塗布部10では、例えば、ダイコーター14と、ダイコーター14に対向配置されたバックアップローラ16とが設置されている。支持体1の有機層の形成される面と反対の面をバックアップローラ16に巻きかけて、連続搬送される支持体1の表面にダイコーター14の吐出口から有機層形成用塗布液が塗布され、有機層が形成される。   In the coating unit 10, for example, a die coater 14 and a backup roller 16 disposed to face the die coater 14 are installed. The surface of the support 1 opposite to the surface on which the organic layer is formed is wound around the backup roller 16, and the coating liquid for forming the organic layer is applied to the surface of the support 1 that is continuously conveyed from the discharge port of the die coater 14. An organic layer is formed.

有機層形成用塗布液が塗布された支持体1は、乾燥部20へと搬送される。乾燥部20は、乾燥装置22および加熱装置24を備え、支持体1上に塗布された有機層形成用塗布液を乾燥させる。乾燥装置22は、有機層に含まれる溶媒を蒸発させる。加熱装置24は必要により加熱して溶媒を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。   The support 1 coated with the organic layer forming coating solution is conveyed to the drying unit 20. The drying unit 20 includes a drying device 22 and a heating device 24, and dries the organic layer forming coating solution coated on the support 1. The drying device 22 evaporates the solvent contained in the organic layer. The heating device 24 may be used for heating to remove the solvent or to cure the film as necessary.

乾燥部20で乾燥された支持体1は、紫外線照射部30へと搬送される。紫外線照射部30は、紫外線照射装置32を備え、紫外線ランプによって有機層形成用塗布液に紫外線を照射する。紫外線により有機層形成用塗布液中のモノマー等を架橋させて、有機層を形成する。   The support 1 dried by the drying unit 20 is conveyed to the ultraviolet irradiation unit 30. The ultraviolet irradiation unit 30 includes an ultraviolet irradiation device 32 and irradiates the organic layer forming coating solution with ultraviolet rays by an ultraviolet lamp. The organic layer is formed by crosslinking monomers and the like in the coating solution for forming an organic layer with ultraviolet rays.

紫外線照射部30で有機層が形成された支持体1は、有機層上に保護フィルムが貼付され(不図示)、巻取機34で、支持体1をロール状に巻き取って回収する。なお、図2においては、支持体1に保護フィルムを貼付し、巻取機34で巻き取る装置で説明したが、保護フィルムを貼付せず、そのまま、次の工程(無機層の形成など)を行ってもよい。   The support 1 on which the organic layer is formed by the ultraviolet irradiation unit 30 has a protective film attached to the organic layer (not shown), and the support 1 is rolled up and collected by the winder 34. In addition, in FIG. 2, although the protective film was affixed on the support body 1 and demonstrated with the apparatus wound up with the winder 34, the protective film is not affixed and the next process (formation of an inorganic layer etc.) is performed as it is. You may go.

無機層は、図3に示すように、ロール・トゥ・ロールの真空成膜装置により形成することができる。図3に示す無機膜製造装置50は、有機層上に無機層を形成する装置である。   The inorganic layer can be formed by a roll-to-roll vacuum film forming apparatus as shown in FIG. An inorganic film manufacturing apparatus 50 shown in FIG. 3 is an apparatus that forms an inorganic layer on an organic layer.

有機層2が形成され、巻取機で巻き取られた支持体1は、支持体ロール52として、支持体供給室54の回転軸60に装填される。   The support 1 on which the organic layer 2 is formed and wound by the winder is loaded on the rotating shaft 60 of the support supply chamber 54 as a support roll 52.

支持体供給室54は図示しない駆動原によって回転軸60を図中反時計方向に回転して、支持体ロール52から支持体1を送り出しガイドローラ62によって、所定の経路を案内して、支持体1を無機成膜室56に送る。支持体1は、無機成膜室56に送られる途中で、有機層形成後に貼り付けられた保護フィルムが剥離される。支持体供給室54は、真空チャンバになっており、真空排気手段55によって所定の圧力(真空度)に排気される。無機膜製造装置50においては、これにより、支持体供給室54の圧力が、後述する無機成膜室56における無機膜の成膜に悪影響を与えることを防止している。   The support supply chamber 54 rotates the rotary shaft 60 counterclockwise in the figure by a driving source (not shown), feeds the support 1 from the support roll 52, and guides a predetermined path by the guide roller 62. 1 is sent to the inorganic film forming chamber 56. While the support 1 is being sent to the inorganic film forming chamber 56, the protective film attached after the organic layer is formed is peeled off. The support supply chamber 54 is a vacuum chamber, and is evacuated to a predetermined pressure (degree of vacuum) by the evacuation means 55. In the inorganic film manufacturing apparatus 50, this prevents the pressure in the support supply chamber 54 from adversely affecting the formation of the inorganic film in the inorganic film forming chamber 56 described later.

無機成膜室56は、ドラム66と、成膜手段68a、68b、68cおよび68dと、真空排気手段74とを有して構成される。また、無機膜をスパッタリングやプラズマCVDなどにより成膜を行う場合は、無機成膜室56には、高周波電源なども設置される。   The inorganic film forming chamber 56 includes a drum 66, film forming means 68a, 68b, 68c and 68d, and a vacuum exhaust means 74. In the case where an inorganic film is formed by sputtering, plasma CVD, or the like, a high frequency power source or the like is also installed in the inorganic film forming chamber 56.

支持体供給室54から搬送された支持体は、ドラム66の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム66に支持/案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段68a〜68dなどによって、支持体1の有機層2上に無機層が形成される。   The support transported from the support supply chamber 54 is wound around a predetermined area on the peripheral surface of the drum 66 and is transported through a predetermined transport path while being supported / guided by the drum 66, and film forming means 68a to 68d. Thus, an inorganic layer is formed on the organic layer 2 of the support 1.

成膜手段68a〜68dは、真空成膜法によって、支持体1の有機層2上に無機層3を形成するためのものであり、実施する真空成膜法に応じた、各種の部材で構成される。例えば、無機層をCVD法によって成膜を行うものであれば、成膜手段68a〜68dは、反応ガスの導入手段などを有して構成される。また、スパッタリング法により無機層の成膜を行うものであれば、成膜手段68a〜68dは、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段などを有して構成される。   The film forming means 68a to 68d are for forming the inorganic layer 3 on the organic layer 2 of the support 1 by a vacuum film forming method, and are composed of various members according to the vacuum film forming method to be performed. Is done. For example, if the inorganic layer is formed by the CVD method, the film forming means 68a to 68d are configured to include a reaction gas introduction means. Further, if the inorganic layer is formed by sputtering, the film forming means 68a to 68d are configured to include a target holding means, a high frequency electrode, a sputtering gas supply means, and the like.

無機層が形成された支持体1は、次に、支持体巻取室58に送られる。支持体巻取室58は、図示しない駆動原によって回転軸70を図中時計方向に回転して、支持体ロール72で支持体を巻き取る。無機層を形成後の支持体1の搬送経路には、タッチロール76が備えられており、タッチロール76で保護フィルム(不図示)を貼り合わせる。支持体巻取室58は、支持体供給室54と同様に、真空チャンバになっており、真空排気手段78によって所定の圧力(真空度)に排気されることで、無機層の形成に悪影響を与えることを防止している。   The support 1 on which the inorganic layer is formed is then sent to the support take-up chamber 58. The support take-up chamber 58 rotates the rotary shaft 70 in the clockwise direction in the drawing by a driving source (not shown), and takes up the support by the support roll 72. A touch roll 76 is provided on the transport path of the support 1 after the inorganic layer is formed, and a protective film (not shown) is bonded to the touch roll 76. The support take-up chamber 58 is a vacuum chamber, similar to the support supply chamber 54, and is evacuated to a predetermined pressure (degree of vacuum) by the vacuum exhaust means 78, thereby adversely affecting the formation of the inorganic layer. To prevent giving.

バリア層として支持体1上に、有機層2および無機層3が形成されたバリア支持体110は、次に、光学機能層の形成、および、形成された光学機能層上にバリア層を形成する。図4は、光学機能層を成膜する製造設備100の一例である。   The barrier support 110 in which the organic layer 2 and the inorganic layer 3 are formed on the support 1 as the barrier layer is next formed into an optical functional layer and a barrier layer is formed on the formed optical functional layer. . FIG. 4 is an example of a manufacturing facility 100 for forming an optical functional layer.

バリア支持体110(保護フィルムが貼合わされている場合は、保護フィルムを剥離する)が、図示しない送出機から塗布部120へと連続搬送される。送出機から、例えば、バリア支持体110が1〜50m/分の搬送速度で送り出される。ただし、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、バリア支持体110には、20〜150N/mの張力、好ましくは30〜100N/mの張力が加えられる。   The barrier support 110 (the protective film is peeled off when the protective film is bonded) is continuously conveyed from the unillustrated feeder to the application unit 120. For example, the barrier support 110 is sent out from the feeder at a conveyance speed of 1 to 50 m / min. However, it is not limited to this conveyance speed. When delivered, for example, a tension of 20 to 150 N / m, preferably 30 to 100 N / m, is applied to the barrier support 110.

塗布部120では、連続搬送されるバリア支持体110の表面に塗布液が塗布され、塗膜が形成される。塗布部120では、例えば、ダイコーター124と、ダイコーター124に対向配置されたバックアップローラ126とが設置されている。バリア支持体110の光学機能層が形成される面と反対の表面をバックアップローラ126に巻きかけて、連続搬送されるバリア支持体110の表面にダイコーター124の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜が形成される。ここで塗膜とは、バリア支持体110上に塗布された重合処理前の塗布液のことをいう。   In the application part 120, a coating liquid is apply | coated to the surface of the barrier support body 110 conveyed continuously, and a coating film is formed. In the application unit 120, for example, a die coater 124 and a backup roller 126 disposed to face the die coater 124 are installed. The surface of the barrier support 110 opposite to the surface on which the optical functional layer is formed is wound around the backup roller 126, and the coating liquid is applied from the discharge port of the die coater 124 to the surface of the barrier support 110 that is continuously conveyed. A coating film is formed. Here, the coating film refers to a coating solution applied on the barrier support 110 before polymerization.

図4においては、塗布装置として、エクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター124を示したが、これに限定されず、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法など、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。   In FIG. 4, the die coater 124 to which the extrusion coating method is applied is shown as the coating apparatus. However, the coating device is not limited to this, and various coating methods such as a curtain coating method, an extrusion coating method, a rod coating method, or a roll coating method can be used. A coating apparatus to which the method is applied can be used.

塗布部120を通過し、その上に塗膜が形成されたバリア支持体110は、ラミネート部130に連続搬送される。ラミネート部130では、塗膜の上に、バリア支持体150がラミネートされ、バリア支持体110とバリア支持体150で塗膜が挟持される。バリア支持体110およびバリア支持体150は、同じ組成、同じ構成のものでもよく、また、異なっていてもよい。   The barrier support 110 that has passed through the coating unit 120 and has a coating film formed thereon is continuously conveyed to the laminating unit 130. In the laminating unit 130, the barrier support 150 is laminated on the coating film, and the coating film is sandwiched between the barrier support 110 and the barrier support 150. The barrier support 110 and the barrier support 150 may have the same composition and the same configuration, or may be different.

ラミネートローラ132に対向する位置には、バックアップローラ162が配置されている。塗膜の形成されたバリア支持体110は、塗膜の形成面と反対の表面がバックアップローラ162に巻きかけられ、ラミネート位置Pへと連続搬送される。ラミネート位置Pはバリア支持体150と塗膜との接触が開始する位置を意味する。バリア支持体110はラミネート位置Pに到達する前にバックアップローラ162に巻きかけられることが好ましい。仮にバリア支持体110にシワが発生した場合でも、バックアップローラ162によりシワがラミネート位置Pに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、バリア支持体110がバックアップローラ162に巻きかけられた位置(接触位置)と、ラミネート位置Pまでの距離L1は長い方が好ましく、例えば、30mm以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ162の直径とパスラインとにより決定される。   A backup roller 162 is disposed at a position facing the laminating roller 132. The barrier support 110 on which the coating film is formed is wound around the backup roller 162 on the surface opposite to the coating film forming surface and is continuously conveyed to the laminating position P. Lamination position P means the position where the contact between the barrier support 150 and the coating starts. The barrier support 110 is preferably wound around the backup roller 162 before reaching the laminating position P. This is because even if wrinkles are generated in the barrier support 110, the wrinkles are corrected and removed by the backup roller 162 until they reach the laminate position P. Therefore, it is preferable that the distance L1 between the position (contact position) where the barrier support 110 is wound around the backup roller 162 and the laminate position P is longer, for example, 30 mm or more, and the upper limit value is usually backup. It is determined by the diameter of the roller 162 and the pass line.

本実施形態では重合処理部160で使用されるバックアップローラ162とラミネートローラ132とによりバリア支持体150のラミネートが行われる。即ち、重合処理部160で使用されるバックアップローラ162が、ラミネート部130で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部130に、バックアップローラ162と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ162を兼用しないようにすることもできる。   In this embodiment, the barrier support 150 is laminated by the backup roller 162 and the laminating roller 132 used in the polymerization processing unit 160. That is, the backup roller 162 used in the polymerization processing unit 160 is also used as a roller used in the laminating unit 130. However, the present invention is not limited to the above form, and a laminating roller may be installed in the laminating unit 130 in addition to the backup roller 162 so that the backup roller 162 is not used.

重合処理部160で使用されるバックアップローラ162をラミネート部130で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ162は、バリア支持体110に対するヒートローラとしても使用できる。   By using the backup roller 162 used in the polymerization processing unit 160 in the laminating unit 130, the number of rollers can be reduced. The backup roller 162 can also be used as a heat roller for the barrier support 110.

図示しない送出機から送出されたバリア支持体150は、ラミネートローラ132に巻きかけられ、ラミネートローラ132とバックアップローラ162との間に連続搬送される。バリア支持体150は、ラミネート位置Pで、バリア支持体110に形成された塗膜の上にラミネートされる。これにより、バリア支持体110とバリア支持体150とにより塗膜が挟持される。ラミネートとは、バリア支持体150を塗膜の上に重ねあわせ、積層することをいう。   The barrier support 150 delivered from a delivery machine (not shown) is wound around the laminating roller 132 and continuously conveyed between the laminating roller 132 and the backup roller 162. The barrier support 150 is laminated on the coating film formed on the barrier support 110 at the laminating position P. Thereby, the coating film is sandwiched between the barrier support 110 and the barrier support 150. Lamination refers to laminating the barrier support 150 on the coating film.

ラミネートローラ132とバックアップローラ162との距離は、バリア支持体110と、塗膜を重合硬化させた光学機能性層と、バリア支持体150と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、ラミネートローラ132とバックアップローラ162との距離はバリア支持体110と塗膜とバリア支持体150との合計厚みに5mmを加えた長さ以下であることが好ましい。ラミネートローラ132とバックアップローラ162との距離を合計厚みに5mmを加えた長さ以下にすることより、バリア支持体150と塗膜との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ132とバックアップローラ162との距離とは、ラミネートローラ132の外周面とバックアップローラ162の外周面との最短距離をいう。   The distance between the laminating roller 132 and the backup roller 162 is preferably equal to or greater than the total thickness of the barrier support 110, the optical functional layer obtained by polymerizing and curing the coating film, and the barrier support 150. The distance between the laminating roller 132 and the backup roller 162 is preferably equal to or shorter than the total thickness of the barrier support 110, the coating film, and the barrier support 150 plus 5 mm. By making the distance between the laminating roller 132 and the backup roller 162 equal to or less than the total thickness plus 5 mm, it is possible to prevent bubbles from entering between the barrier support 150 and the coating film. Here, the distance between the laminating roller 132 and the backup roller 162 is the shortest distance between the outer circumferential surface of the laminating roller 132 and the outer circumferential surface of the backup roller 162.

バックアップローラ162の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ162の温度を調整することができる。   By attaching a temperature controller to the main body of the backup roller 162, the temperature of the backup roller 162 can be adjusted.

塗膜の上にバリア支持体150を積層する工程では、線圧5〜300N/cmの間でニップして塗膜の上にバリア支持体150を貼り合わせていくことが好ましく、線圧10〜200N/cmの間でニップすることがより好ましく、線圧30〜100N/cmの間でニップすることが特に好ましい。また貼り合わせ方法に制約はなく、ニップロールを用いない貼り合わせ方法でもよい。   In the step of laminating the barrier support 150 on the coating film, it is preferable to nip between the linear pressures of 5 to 300 N / cm and bond the barrier support 150 onto the coating film. It is more preferable to nip between 200 N / cm, and it is particularly preferable to nip between linear pressures of 30 to 100 N / cm. Moreover, there is no restriction | limiting in the bonding method, The bonding method which does not use a nip roll may be used.

また、バリア支持体110とバリア支持体150とで塗膜を挟持した後の熱変形を抑制するため、重合処理部160のバックアップローラ162の温度とバリア支持体110の温度との差、およびバックアップローラ162の温度とバリア支持体150の温度との差は30℃以下であることが好ましく、より好ましくは15℃以下、最も好ましくは同じである。   Further, in order to suppress thermal deformation after the coating film is sandwiched between the barrier support 110 and the barrier support 150, the difference between the temperature of the backup roller 162 of the polymerization processing unit 160 and the temperature of the barrier support 110, and the backup The difference between the temperature of the roller 162 and the temperature of the barrier support 150 is preferably 30 ° C. or less, more preferably 15 ° C. or less, and most preferably the same.

バックアップローラ162の温度との差を小さくするため、加熱チャンバ134が設けられている場合には、バリア支持体110、およびバリア支持体150を加熱チャンバ134内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバ134には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、バリア支持体110、およびバリア支持体150を加熱することができる。   In order to reduce the difference from the temperature of the backup roller 162, when the heating chamber 134 is provided, it is preferable to heat the barrier support 110 and the barrier support 150 in the heating chamber 134. For example, hot air is supplied to the heating chamber 134 by a hot air generator (not shown), and the barrier support 110 and the barrier support 150 can be heated.

バリア支持体110が、温度調整されたバックアップローラ162に巻きかけられることにより、バックアップローラ162によってバリア支持体110を加熱してもよい。   The barrier support 110 may be heated by the backup roller 162 by being wound around the temperature-adjusted backup roller 162.

一方、バリア支持体150については、ラミネートローラ132をヒートローラとすることにより、バリア支持体150をラミネートローラ132で加熱することができる。ただし、加熱チャンバ134、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。   On the other hand, the barrier support 150 can be heated by the laminating roller 132 by using the laminating roller 132 as a heat roller. However, the heating chamber 134 and the heat roller are not essential, and can be provided as necessary.

なお、図4においては、光学機能層(塗膜)をバリア支持体110およびバリア支持体150とで両面を挟持し、両面にバリア層を設ける場合で説明しているが、光学機能層の一方の面のみバリア層である場合は、バリア支持体150を他のフィルムまたは支持体とすることもできる。   Note that FIG. 4 illustrates the case where the optical functional layer (coating film) is sandwiched between the barrier support 110 and the barrier support 150 and the barrier layer is provided on both surfaces. When only the surface is a barrier layer, the barrier support 150 can be another film or support.

バリア支持体110に塗膜を形成し、バリア支持体150をラミネートした後、光照射により塗膜を重合硬化させて、光学機能層を得ることができる。硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や塗布液の組成に応じて、適宜設定することができる。また、塗布液中に溶媒を含む場合は、重合処理を行う前に、溶媒除去のための乾燥処理を施してもよい。塗膜の重合処理は、塗膜を2枚のバリア支持体間に挟持した状態で行う。   After forming a coating film on the barrier support 110 and laminating the barrier support 150, the coating film is polymerized and cured by light irradiation to obtain an optical functional layer. Curing conditions can be appropriately set according to the type of curable compound to be used and the composition of the coating solution. Moreover, when a solvent is contained in the coating solution, a drying treatment for removing the solvent may be performed before the polymerization treatment. Polymerization treatment of the coating film is performed in a state where the coating film is sandwiched between two barrier supports.

図4に記載の装置において、バリア支持体110は、塗膜が形成され、バリア支持体150がラミネートされた状態で、重合処理部160に搬送される。重合処理部160は、バックアップローラ162と、バックアップローラ162に対向する位置に光照射装置164が設けられている。バックアップローラ162と光照射装置164との間を、塗膜を挟持したバリア支持体110とバリア支持体150とが連続搬送される。   In the apparatus illustrated in FIG. 4, the barrier support 110 is conveyed to the polymerization processing unit 160 in a state where a coating film is formed and the barrier support 150 is laminated. The polymerization processing unit 160 includes a backup roller 162 and a light irradiation device 164 at a position facing the backup roller 162. Between the backup roller 162 and the light irradiation device 164, the barrier support 110 and the barrier support 150 sandwiching the coating film are continuously conveyed.

光照射装置164により照射される光は、塗布液に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、LED、レーザー等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として10〜10000mJ/cmの照射量の紫外線を塗膜に向けて照射することができる。塗膜への光照射量は、一例として10〜10000mJ/cmとすることができ、10〜1000mJ/cmとすることが好ましく、50〜800mJ/cmとすることがより好ましい。 What is necessary is just to determine the light irradiated by the light irradiation apparatus 164 according to the kind of curable compound contained in a coating liquid, and an ultraviolet-ray is mentioned as an example. As a light source that generates ultraviolet rays, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an LED, a laser, or the like can be used. What is necessary is just to set the light irradiation amount to the range which can advance polymerization hardening of a coating film, for example, can irradiate the coating film with the ultraviolet-ray of the irradiation amount of 10-10000 mJ / cm < 2 > as an example. Light irradiation amount to the coating may be a 10 to 10000 mJ / cm 2 as an example, it is preferable to 10~1000mJ / cm 2, and more preferably set to 50 to 800 mJ / cm 2.

重合処理部160では、バリア支持体110とバリア支持体150とにより塗膜を挟持した状態で、バリア支持体110をバックアップローラ162に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置164から光照射を行い、塗膜を硬化させて光学機能層を形成することができる。   In the polymerization processing section 160, the barrier support 110 and the barrier support 150 sandwich the coating film, the barrier support 110 is wound around the backup roller 162, and light is irradiated from the light irradiation device 164 while continuously transporting. The optical functional layer can be formed by curing the coating film.

本実施の形態では、バリア支持体110側をバックアップローラ162に巻きかけて、連続搬送したが、バリア支持体150をバックアップローラ162に巻きかけて、連続搬送させることもできる。   In the present embodiment, the barrier support 110 side is wound around the backup roller 162 and continuously conveyed, but the barrier support 150 may be wound around the backup roller 162 and continuously conveyed.

バックアップローラ162に巻きかけるとは、バリア支持体110およびバリア支持体150の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ162の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、バリア支持体110およびバリア支持体150はバックアップローラ162の回転と同期して移動する。バックアップローラ162へ巻きかけは、少なくとも光が照射されている間であればよい。   Wrapping around the backup roller 162 means a state in which one of the barrier support 110 and the barrier support 150 is in contact with the surface of the backup roller 162 at a certain wrap angle. Therefore, the barrier support 110 and the barrier support 150 move in synchronization with the rotation of the backup roller 162 during continuous conveyance. The winding around the backup roller 162 may be performed at least while light is irradiated.

バックアップローラ162の温度は、光照射時の発熱と、塗膜の硬化効率と、バリア支持体110とバリア支持体150のバックアップローラ162上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ162は、例えば、10〜95℃の温度範囲に設定することが好ましく、15〜85℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。   The temperature of the backup roller 162 is determined in consideration of heat generation during light irradiation, curing efficiency of the coating film, and occurrence of wrinkle deformation on the backup roller 162 of the barrier support 110 and the barrier support 150. be able to. For example, the backup roller 162 is preferably set to a temperature range of 10 to 95 ° C, and more preferably 15 to 85 ° C. Here, the temperature related to the roller refers to the surface temperature of the roller.

ラミネート位置Pと光照射装置164との距離は、例えば30mm以上とすることができる。   The distance between the laminate position P and the light irradiation device 164 can be set to 30 mm or more, for example.

バリア支持体110とバリア支持体150とで挟持し、光照射により塗膜が硬化し光学機能層が形成されることで、両面にバリア層を含む積層フィルム170が製造される。積層フィルム170は、剥離ローラ180によりバックアップローラ162から剥離される。積層フィルム170は、図示しない巻取機に連続搬送され、ロール状に巻き取られる。   By sandwiching between the barrier support 110 and the barrier support 150 and curing the coating film by light irradiation to form an optical functional layer, a laminated film 170 including a barrier layer on both sides is manufactured. The laminated film 170 is peeled off from the backup roller 162 by the peeling roller 180. The laminated film 170 is continuously conveyed to a winder (not shown) and wound into a roll.

なお、図4では、重合処理を光照射により行う方法で説明したが、塗布液に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付けなどの加熱により重合処理を行うことができる。また、バリア支持体110とバリア支持体150の貼合方法は、上述した以外にニップローラによる貼合方法、ローラ間にクリアランスを設けた貼合方法を用いることができる。   In addition, in FIG. 4, although demonstrated by the method of performing a polymerization process by light irradiation, when the sclerosing | hardenable compound contained in a coating liquid is what superposes | polymerizes by heating, a polymerization process is performed by heating, such as blowing of warm air. It can be carried out. Moreover, the bonding method of the barrier support body 110 and the barrier support body 150 can use the bonding method by which the clearance gap was provided between the bonding method by a nip roller other than what was mentioned above.

(光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜)
本実施形態の積層フィルムは、さらに、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜5を備える(図1)。以下、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜5、および、該膜の形成方法について説明する。
(Film having a refractive index larger than that of the optical functional layer)
The laminated film of the present embodiment further includes a film 5 having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer on the side surface of the optical functional layer (FIG. 1). Hereinafter, the film 5 having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer and a method for forming the film will be described.

光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜5は、無機膜であることが好ましい。無機膜で形成することにより、膜5にガスバリア性を付与することができる。ガスバリア性としては、上述したバリア層と同様に、酸素透過度が、1.00cm3/(m2・day・atm)以下であることが好ましく、より好ましくは0.1cm3/(m2・day・atm)以下、さらに好ましくは0.1cm3/(m2・day・atm)以下、特に好ましくは0.001cm3/(m2・day・atm)以下である。 The film 5 having a refractive index larger than that of the optical function layer is preferably an inorganic film. By forming it with an inorganic film, the film 5 can be provided with a gas barrier property. As the gas barrier property, the oxygen permeability is preferably 1.00 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · m, as in the barrier layer described above. day · atm) or less, more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and particularly preferably 0.001 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less.

光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する無機膜を構成する材料としては、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される1以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも1つを含むことが好ましい。   The material constituting the inorganic film having a refractive index larger than that of the optical functional layer is one or more selected from silicon, aluminum, indium, tin, zinc, titanium, chromium, nickel, copper, silver and gold. It is preferable to include at least one of metal oxide, nitride, and oxynitride.

また、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜5は、第1の金属層と金属酸化層の積層構造を1回以上繰り返した積層膜であることが好ましい。第1の金属層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属であることが好ましい。金属酸化層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属の酸化物であることが好ましい。   The film 5 having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer is preferably a laminated film in which the laminated structure of the first metal layer and the metal oxide layer is repeated one or more times. The material for forming the first metal layer is preferably one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper, and silver. The material for forming the metal oxide layer is preferably an oxide of one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper and silver.

さらに、積層膜の上、すなわち、の金属酸化層の上に第2の金属層を有することが好ましい。第2の金属層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属であることが好ましい。第1の金属層、金属酸化層、第2の金属層を構成する金属は、それぞれ、同じ金属を用いてもよいし、異なっていてもよいが、同じ金属を用いることが好ましい。   Furthermore, it is preferable to have the second metal layer on the laminated film, that is, on the metal oxide layer. The material forming the second metal layer is preferably one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper, and silver. The metals constituting the first metal layer, the metal oxide layer, and the second metal layer may be the same metal or different from each other, but the same metal is preferably used.

光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜5を形成する方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法で形成することができる。これらの方法により形成することで、複数のフィルムを重ね合わせて、光学機能層の側面に膜5を付与することができるので、効率良く光学機能層の側面に膜を形成することができる。具体的には、上述したように、光学機能層にバリア層を積層してなる積層フィルム170を形成した後、この積層フィルム170を所定のサイズに切断し、複数枚重ね合わせる。また、複数枚重ね合わせた積層フィルムの上面に保護フィルムを積層する。そして、重ね合わせた積層フィルムを上記方法により成膜する装置内に入れ、成膜することで、効率良く光学機能層の側面に膜5を形成することができる。膜5を形成する装置としては、例えば、図5に示すスパッタリング装置を用いることができる。   As a method of forming the film 5 having a refractive index larger than that of the optical functional layer, it can be formed by sputtering, vacuum deposition, ion plating, or plasma CVD. By forming by these methods, a plurality of films can be overlapped and the film 5 can be provided on the side surface of the optical functional layer, so that the film can be efficiently formed on the side surface of the optical functional layer. Specifically, as described above, after the laminated film 170 formed by laminating the barrier layer on the optical functional layer is formed, the laminated film 170 is cut into a predetermined size, and a plurality of sheets are overlapped. Moreover, a protective film is laminated | stacked on the upper surface of the laminated | multilayer film laminated several sheets. And the film | membrane 5 can be efficiently formed in the side surface of an optical functional layer by putting in the apparatus which forms the laminated | stacked laminated film in the said method, and forming into a film. As an apparatus for forming the film 5, for example, a sputtering apparatus shown in FIG. 5 can be used.

膜5の厚みとしては、5〜500nmとすることが好ましく、より好ましくは、10〜200nmであり、さらに好ましくは、15〜100nmであり、20〜50nmとすることが好ましい。膜5の厚みを上記範囲とすることにより、積層フィルムの内部に水蒸気、酸素が侵入することを防止することができ、機能を長時間維持することができる。   The thickness of the film 5 is preferably 5 to 500 nm, more preferably 10 to 200 nm, still more preferably 15 to 100 nm, and preferably 20 to 50 nm. By setting the thickness of the film 5 within the above range, water vapor and oxygen can be prevented from entering the laminated film, and the function can be maintained for a long time.

また、膜5を第1の金属層、金属酸化層からなる積層膜とする場合、第1の金属層の厚みが5nm以上50nm以下であることが好ましく、金属酸化層の厚みが0.1nm以上5nm以下であることが好ましい。さらに、第2の金属層を有する場合は、第2の金属層の厚みが10nm以上200nm以下であることが好ましい。   Further, when the film 5 is a laminated film composed of the first metal layer and the metal oxide layer, the thickness of the first metal layer is preferably 5 nm or more and 50 nm or less, and the thickness of the metal oxide layer is 0.1 nm or more. It is preferable that it is 5 nm or less. Furthermore, when it has a 2nd metal layer, it is preferable that the thickness of a 2nd metal layer is 10 to 200 nm.

また、膜5の屈折率は1.5以上とすることが好ましい。また、光学機能層4の屈折率は、光学機能層4に含まれる量子ドットの保護樹脂(リガンド)と同等にする必要があり、1.3以上1.6以下の範囲であることが好ましい。光学機能層4の屈折率と膜5の屈折率との差は0.2以上とすることが好ましく、より好ましくは0.4以上である。光学機能層4の屈折率と膜5の屈折率との差をこの範囲とすることにより、積層フィルムの側面で光を反射することができるので、積層フィルム内部の光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができる。膜5の屈折率の上限は、特に限定されないが、膜5を構成する材料の点から3.0以下とすることが好ましい。同様に、光学機能層4の屈折率と膜5の屈折率との差の上限も、特に限定されないが、1.5以下とすることが好ましい。   The refractive index of the film 5 is preferably 1.5 or more. Further, the refractive index of the optical functional layer 4 needs to be equal to that of the protective resin (ligand) of the quantum dots contained in the optical functional layer 4, and is preferably in the range of 1.3 to 1.6. The difference between the refractive index of the optical functional layer 4 and the refractive index of the film 5 is preferably 0.2 or more, more preferably 0.4 or more. By making the difference between the refractive index of the optical functional layer 4 and the refractive index of the film 5 within this range, light can be reflected from the side surface of the laminated film, so that the optical path length inside the laminated film can be extended, Brightness can be improved. The upper limit of the refractive index of the film 5 is not particularly limited, but is preferably 3.0 or less in view of the material constituting the film 5. Similarly, the upper limit of the difference between the refractive index of the optical function layer 4 and the refractive index of the film 5 is not particularly limited, but is preferably 1.5 or less.

屈折率の調製は、真空成膜で膜を付与する場合、酸素導入量を調整することで、調製することができる。例えば、SiOの屈折率1.5に対し、酸素導入量を減らし、膜のSiOの割合を増やすことで、屈折率を1.6〜1.7と高くすることができる。 The refractive index can be adjusted by adjusting the amount of oxygen introduced when a film is formed by vacuum film formation. For example, the refractive index can be increased to 1.6 to 1.7 by reducing the amount of oxygen introduced and increasing the ratio of SiO in the film with respect to the refractive index of SiO 2 of 1.5.

[光学機能層の屈折率よりも高い屈折率を有する膜の成膜方法]
図5は、光学機能層の側面に光学機能層より屈折率の高い膜5を成膜する装置の一例である。図5は、スパッタリング法により成膜する図である。
[Method for depositing film having refractive index higher than that of optical functional layer]
FIG. 5 is an example of an apparatus for forming a film 5 having a refractive index higher than that of the optical functional layer on the side surface of the optical functional layer. FIG. 5 is a diagram illustrating a film formation by a sputtering method.

図5に示すように、スパッタリング装置200は、内部に、積層フィルムを保持するホルダ211と、プラズマを発生させるプラズマ電極(カソード電極)212とが備えられた真空容器210から概略構成されている。   As shown in FIG. 5, the sputtering apparatus 200 is generally configured by a vacuum vessel 210 provided therein with a holder 211 that holds a laminated film and a plasma electrode (cathode electrode) 212 that generates plasma.

図4で形成された積層フィルム170にスパッタリング法で側面に膜を形成するため、巻取機で巻き取られた積層フィルム170を所定の形状、サイズに切断する。なお、所定の形状、サイズとは、スパッタリング装置に入るサイズであり、かつ、積層フィルムの用途により決定することができる。   In order to form a film on the side surface of the laminated film 170 formed in FIG. 4 by a sputtering method, the laminated film 170 wound by a winder is cut into a predetermined shape and size. The predetermined shape and size are sizes that can enter the sputtering apparatus, and can be determined depending on the use of the laminated film.

また、積層フィルムは複数の積層フィルムを重ね合わせて、側面に膜を形成することが好ましい。複数の積層フィルムを重ね合わせて膜を形成することにより、複数膜の積層フィルムに処理した際、全体の処理時間を短くすることができる。光学機能層の側面に膜5を形成する際の積層フィルムを重ね合わせる枚数は、生産性を考慮すると、多いほど好ましい。最大枚数は、フィルムの厚み、膜の塗布幅、又は、真空チャンバとフィルム、固定治具の大きさ、把持力に依存する。一般的な工程を、取扱いを含めて考慮した場合、フィルムの厚みを150μmとすると、100枚〜3000枚程度が好ましい。なお、積層フィルムの上面は、膜の形成から保護するため保護フィルム216が積層される。   Moreover, it is preferable that a laminated film forms a film | membrane on a side surface by overlapping a some laminated film. By forming a film by superimposing a plurality of laminated films, the entire processing time can be shortened when processed into a laminated film having a plurality of films. In consideration of productivity, it is preferable that the number of the laminated films to be laminated when forming the film 5 on the side surface of the optical functional layer is larger. The maximum number of sheets depends on the thickness of the film, the coating width of the film, the size of the vacuum chamber and the film, the fixing jig, and the gripping force. Considering general processes including handling, when the film thickness is 150 μm, about 100 to 3000 sheets are preferable. In addition, the protective film 216 is laminated | stacked on the upper surface of a laminated film in order to protect from film formation.

ホルダ211とプラズマ電極212とは、互いに対向するように離間配置され、プラズマ電極212上にターゲットTが装着されるようになっている。プラズマ電極212はRF(Radio Freqyency)電源213に接続されている。   The holder 211 and the plasma electrode 212 are spaced apart so as to face each other, and the target T is mounted on the plasma electrode 212. The plasma electrode 212 is connected to an RF (Radio Frequency) power source 213.

真空容器210には、真空容器210内に成膜に必要なガスGを導入するガス導入管214と、真空容器210内のガスの排気Vを行うガス排出管215とが取り付けられている。ガスGとしては、Ar、Ar/O混合ガス、または、Ar/N混合ガスを用いることができる。ターゲットTとしては、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択され、反応ガスとして、酸素または窒素の少なくともいずれかを用いることで、酸化物、窒化物、酸化窒化物として膜を形成することができる。 A gas introduction pipe 214 for introducing a gas G necessary for film formation into the vacuum container 210 and a gas discharge pipe 215 for exhausting the gas V in the vacuum container 210 are attached to the vacuum container 210. As the gas G, Ar, Ar / O 2 mixed gas, or Ar / N 2 mixed gas can be used. The target T is selected from silicon, aluminum, indium, tin, zinc, titanium, chromium, nickel, copper, silver and gold. By using at least one of oxygen or nitrogen as a reaction gas, oxide, nitridation A film can be formed as an oxide or oxynitride.

積層フィルム170の側面に積層膜を形成する場合は、裁断された積層フィルム170の側面にスパッタリング法でアルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される少なくとも1つの金属からなる第1の金属層を形成する。次に、反応ガスとして、酸素を導入して、スパッタリング法により、第1の金属層上に金属酸化層を形成する。酸素の導入の有無を変更することで、第1の金属層と金属酸化層を繰り返し形成する。第2の金属層を有する場合は、金属酸化層を形成後、ガスG(反応ガス)をArとし、第2の金属層を形成する。第1の金属層上に金属酸化層を積層することで、第1の金属層中のピンホールやクラックを埋めることができ、フィルム端面から光が漏れることを防止することができる。また、金属酸化層上に第2の金属層を形成することで、第2の金属層で鏡面を得ることができる。したがって、積層フィルム端面から漏れる光を第2の金属層の鏡面にて、高い反射率で再利用できるため、波長変換部材として用いた場合に、輝度の高い波長変換部材を用いることができる。   In the case of forming a laminated film on the side surface of the laminated film 170, a first film made of at least one metal selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper, and silver is formed on the side surface of the cut laminated film 170 by a sputtering method. 1 metal layer is formed. Next, oxygen is introduced as a reaction gas, and a metal oxide layer is formed on the first metal layer by a sputtering method. By changing whether or not oxygen is introduced, the first metal layer and the metal oxide layer are repeatedly formed. In the case of having the second metal layer, after forming the metal oxide layer, the gas G (reactive gas) is Ar and the second metal layer is formed. By laminating the metal oxide layer on the first metal layer, pinholes and cracks in the first metal layer can be filled, and light can be prevented from leaking from the end face of the film. Moreover, a mirror surface can be obtained with the second metal layer by forming the second metal layer on the metal oxide layer. Therefore, since the light leaking from the end face of the laminated film can be reused with high reflectivity on the mirror surface of the second metal layer, when used as a wavelength conversion member, a wavelength conversion member with high luminance can be used.

[波長変換部材]
本実施形態の積層フィルムは、量子ドット、または、量子ロッドのいずれか一方を含むことで、波長変換部材として用いることができ、液晶表示装置などに組み込んで用いることができる。
[Wavelength conversion member]
The laminated film of this embodiment can be used as a wavelength conversion member by including either one of quantum dots or quantum rods, and can be used by being incorporated in a liquid crystal display device or the like.

波長変換部材として用いられる量子ドットまたは量子ロッドの少なくともいずれか(以下、「量子ドットなど」ともいう)を含む積層フィルムは、少なくとも入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットなどを含む波長変換層を有する。   The laminated film including at least one of quantum dots and quantum rods (hereinafter also referred to as “quantum dots”) used as a wavelength conversion member has a wavelength including quantum dots that are excited by incident excitation light and emit fluorescence. It has a conversion layer.

波長変換部材における波長変換層は、通常、量子ドットなどを有機マトリックス中に含む。有機マトリックスは、通常、硬化性化合物を光照射などにより重合させた重合体である。   The wavelength conversion layer in the wavelength conversion member usually contains quantum dots or the like in an organic matrix. The organic matrix is usually a polymer obtained by polymerizing a curable compound by light irradiation or the like.

波長変換層の膜厚は、好ましくは1〜500μmの範囲であり、より好ましくは10〜250μmの範囲であり、特に好ましくは30〜150μmの範囲である。また、波長変換層が複数の層から形成される場合、一層の膜厚は、好ましくは1〜300μmの範囲であり、より好ましくは10〜250μmの範囲である。   The film thickness of the wavelength conversion layer is preferably in the range of 1 to 500 μm, more preferably in the range of 10 to 250 μm, and particularly preferably in the range of 30 to 150 μm. When the wavelength conversion layer is formed from a plurality of layers, the thickness of one layer is preferably in the range of 1 to 300 μm, more preferably in the range of 10 to 250 μm.

[バックライトユニット]
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、本発明の積層フィルムと、光源と、を少なくとも含む。また、積層フィルムは、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。
[Backlight unit]
The backlight unit according to one embodiment of the present invention includes at least the laminated film of the present invention and a light source. The laminated film is preferably included as a constituent member of the backlight unit of the liquid crystal display device.

図6は、本発明の一態様にかかる積層フィルムを含むバックライトユニット300の一例の説明図である。図6中、バックライトユニット300は、光源300Aと、面光源とするための導光板300Bを備える。図6(a)に示す例では、波長変換部材としての積層フィルムは、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図6(b)に示す例では、波長変換部材としての積層フィルムは、導光板と光源との間に配置されている。   FIG. 6 is an explanatory diagram of an example of a backlight unit 300 including a laminated film according to one embodiment of the present invention. In FIG. 6, the backlight unit 300 includes a light source 300A and a light guide plate 300B for use as a surface light source. In the example shown in FIG. 6A, the laminated film as the wavelength conversion member is disposed on the path of light emitted from the light guide plate. On the other hand, in the example shown in FIG. 6B, the laminated film as the wavelength conversion member is disposed between the light guide plate and the light source.

そして図6(a)に示す例では、導光板300Bから出射される光が、波長変換部材300Cに入射する。図6(a)に示す例では、導光板300Bのエッジ部に配置された光源300Aから出射される光310は青色光であり、導光板300Bの液晶セル(図示せず)側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板300Bから出射された光(青色光310)の経路上に配置された波長変換部材300Cには、青色光310により励起され赤色光330を発光する量子ドット(A)と、青色光310により励起され緑色光320を発光する量子ドット(B)を、少なくとも含む(図中量子ドット(B)を符号321で示す)。このようにしてバックライトユニット300からは、励起され発光した緑色光320および赤色光330、ならびに量子ドット波長変換部材300Cを透過した青色光310が出射される。こうしてRGBの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。   In the example shown in FIG. 6A, the light emitted from the light guide plate 300B enters the wavelength conversion member 300C. In the example shown in FIG. 6A, the light 310 emitted from the light source 300A arranged at the edge portion of the light guide plate 300B is blue light, and the liquid crystal is applied from the surface on the liquid crystal cell (not shown) side of the light guide plate 300B. It is emitted toward the cell. The wavelength conversion member 300C disposed on the path of the light (blue light 310) emitted from the light guide plate 300B has the quantum dots (A) that are excited by the blue light 310 and emit the red light 330, and the blue light 310. It includes at least quantum dots (B) that are excited to emit green light 320 (the quantum dots (B) are indicated by reference numeral 321 in the figure). In this way, the backlight unit 300 emits green light 320 and red light 330 excited and emitted, and blue light 310 transmitted through the quantum dot wavelength conversion member 300C. By emitting RGB bright line light in this way, white light can be realized.

本実施形態においては、図6(a)の波長変換部材300Cの左右方向の側面に光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜を備えている。本発明の効果を量子ドット(B)321で説明する。導光板300Bから出射された光は、量子ドット(B)321により緑色光320を発光する。しかしながら、量子ドット(B)321で励起された緑色光のうち、斜めに出射された光は、波長変換部材300Cの界面で反射し、端面に到達する。従来においては、端面に膜が形成されていないため、端面に到達した光は、波長変換部材300Cの端面から漏れてしまう場合があるが、本実施形態においては、端面に膜を有し、反射させることができるので、輝度を向上させることができる。   In the present embodiment, a film having a refractive index larger than the refractive index of the optical functional layer is provided on the side surface in the left-right direction of the wavelength conversion member 300C in FIG. The effect of the present invention will be described with a quantum dot (B) 321. The light emitted from the light guide plate 300 </ b> B emits green light 320 by the quantum dots (B) 321. However, among the green light excited by the quantum dots (B) 321, the light emitted obliquely is reflected at the interface of the wavelength conversion member 300C and reaches the end face. Conventionally, since no film is formed on the end face, the light reaching the end face may leak from the end face of the wavelength conversion member 300C. However, in this embodiment, the end face has a film and is reflected. Therefore, the luminance can be improved.

図6(b)に示す例は、光変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図6(a)に示す態様と同様である。図6(b)に示す例では、波長変換部材300Cから、励起された緑色光320および赤色光330、ならびに波長変換部材300Cを透過した青色光310が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。   The example shown in FIG. 6B is the same as the embodiment shown in FIG. 6A except that the arrangement of the light conversion member and the light guide plate is different. In the example shown in FIG. 6B, the excited green light 320 and red light 330, and the blue light 310 transmitted through the wavelength conversion member 300C are emitted from the wavelength conversion member 300C and incident on the light guide plate. Realized.

<バックライトユニットの発光波長>
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。好ましい一態様としては、430〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する青色光と、500〜600nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する緑色光と、600〜680nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する赤色光と、を発光するバックライトユニットを挙げることができる。
<Light emission wavelength of backlight unit>
From the viewpoint of realizing high luminance and high color reproducibility, it is preferable to use a backlight unit that has been converted to a multi-wavelength light source. As a preferred embodiment, blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 to 480 nm, a peak of emission intensity having a half width of 100 nm or less, and an emission center wavelength in a wavelength band of 500 to 600 nm. Green light having an emission intensity peak with a half width of 100 nm or less, and red light having an emission center wavelength in a wavelength band of 600 to 680 nm and having an emission intensity peak with a half width of 100 nm or less. A backlight unit that emits light can be given.

より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、450〜480nmであることが好ましく、460〜470nmであることがより好ましい。   From the viewpoint of further improving luminance and color reproducibility, the wavelength band of the blue light emitted from the backlight unit is preferably 450 to 480 nm, and more preferably 460 to 470 nm.

同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、520〜550nmであることが好ましく、530〜540nmであることがより好ましい。   From the same viewpoint, the wavelength band of the green light emitted from the backlight unit is preferably 520 to 550 nm, and more preferably 530 to 540 nm.

また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、610〜680nmであることが好ましく、620〜640nmであることがより好ましい。   From the same viewpoint, the wavelength band of red light emitted from the backlight unit is preferably 610 to 680 nm, and more preferably 620 to 640 nm.

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも80nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、45nm以下であることがさらに好ましく、40nm以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が30nm以下であることが、特に好ましい。   From the same viewpoint, the half-value widths of the emission intensity of blue light, green light, and red light emitted from the backlight unit are all preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less, and 45 nm or less. It is more preferable that it is 40 nm or less. Among these, it is particularly preferable that the half-value width of each emission intensity of blue light is 30 nm or less.

バックライトユニットは、少なくとも、上記波長変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、430nm〜480nmの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、量子ドット含有積層体には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット(A)と、緑色光を発光する量子ドット(B)が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され量子ドット含有積層体を透過した青色光と、波長変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。   The backlight unit includes a light source together with at least the wavelength conversion member. In one embodiment, a light source that emits blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm, for example, a blue light emitting diode that emits blue light can be used. When using a light source that emits blue light, the quantum dot-containing laminate includes at least quantum dots (A) that are excited by excitation light and emit red light, and quantum dots (B) that emit green light. It is preferable. Thereby, white light can be embodied by blue light emitted from the light source and transmitted through the quantum dot-containing laminate, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.

または他の態様では、光源として、300nm〜430nmの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドット(A)、(B)とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット(C)が含まれることが好ましい。これにより、量子ドット含有積層体から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。   Alternatively, in another aspect, a light source that emits ultraviolet light having an emission center wavelength in a wavelength band of 300 nm to 430 nm, for example, an ultraviolet light emitting diode can be used. In this case, it is preferable that the wavelength conversion layer includes quantum dots (A) and (B) and quantum dots (C) that are excited by excitation light and emit blue light. Thereby, white light can be embodied by red light, green light, and blue light emitted from the quantum dot-containing laminate.

また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、量子ドット含有積層体に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、量子ドット含有積層体の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。   In another aspect, two types of light sources selected from the group consisting of a blue laser that emits blue light, a green laser that emits green light, and a red laser that emits red light are used. By having quantum dots that emit fluorescence having different emission wavelengths in the quantum dot-containing laminate, two types of light emitted from the light source and light emitted from the quantum dots of the quantum dot-containing laminate, White light can also be embodied.

<散乱粒子>
波長変換部材は、量子ドットの蛍光を効率よく外部に取り出すために光散乱機能を有することができる。光散乱機能は、波長変換層の内部に設けてもよいし、光散乱層として光散乱機能を有する層を別途設けてもよい。
<Scattering particles>
The wavelength conversion member can have a light scattering function in order to efficiently extract the fluorescence of the quantum dots to the outside. The light scattering function may be provided inside the wavelength conversion layer, or a layer having a light scattering function may be separately provided as the light scattering layer.

一態様として、波長変換層の内部に散乱粒子を添加することも好ましい。   As one aspect, it is also preferable to add scattering particles inside the wavelength conversion layer.

また別の一態様として、波長変換層の表面に光散乱層を設けることも好ましい。光散乱層での散乱は、散乱粒子に依ってもよいし、表面凹凸に依ってもよい。   As another aspect, it is also preferable to provide a light scattering layer on the surface of the wavelength conversion layer. Scattering in the light scattering layer may depend on scattering particles or surface irregularities.

<バックライトユニットの構成>
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図6には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。
<Configuration of backlight unit>
The configuration of the backlight unit may be an edge light system using a light guide plate, a reflection plate, or the like as a constituent member. Although FIG. 6 illustrates an example of an edge light type backlight unit, the backlight unit according to one embodiment of the present invention may be a direct type. Any known light guide plate can be used without any limitation.

また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許3416302号、特許3363565号、特許4091978号、特許3448626号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。   The backlight unit can also include a reflecting member at the rear of the light source. There is no restriction | limiting in particular as such a reflecting member, A well-known thing can be used, and it is described in patent 3416302, patent 3363565, patent 4091978, patent 3448626, etc., The content of these gazettes is this Incorporated into the invention.

バックライトユニットが、青色光のうち460nmよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。   It is also preferable that the backlight unit has a blue wavelength selection filter that selectively transmits light having a wavelength shorter than 460 nm of blue light.

また、バックライトユニットが、赤色光のうち630nmよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。   It is also preferable that the backlight unit has a red wavelength selection filter that selectively transmits light having a wavelength longer than 630 nm out of red light.

このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのようなフィルタは、特開2008−52067号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。   There is no restriction | limiting in particular as such a blue wavelength selection filter or a red wavelength selection filter, A well-known thing can be used. Such a filter is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-52067, etc., and the content of this publication is incorporated in the present invention.

バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート(例えば、住友スリーエム社製BEFシリーズなど)、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許3416302号、特許3363565号、特許4091978号、特許3448626号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。   In addition, the backlight unit preferably includes a known diffusion plate, diffusion sheet, prism sheet (for example, BEF series manufactured by Sumitomo 3M Limited), and a light guide. Other members are also described in Japanese Patent No. 3416302, Japanese Patent No. 3363565, Japanese Patent No. 4091978, Japanese Patent No. 3448626, and the contents of these publications are incorporated in the present invention.

[液晶表示装置]
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと、液晶セル、とを少なくとも含む。
[Liquid Crystal Display]
A liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention includes at least the backlight unit of the present invention and a liquid crystal cell.

<液晶表示装置の構成>
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、VAモード、OCBモード、IPSモード、またはTNモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。VAモードの液晶表示装置の構成としては、特開2008−262161号公報の図2に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
<Configuration of liquid crystal display device>
The driving mode of the liquid crystal cell is not particularly limited, and twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically compensated bend cell (OCB) Various modes such as can be used. The liquid crystal cell is preferably VA mode, OCB mode, IPS mode, or TN mode, but is not limited thereto. As an example of the configuration of the VA mode liquid crystal display device, the configuration shown in FIG. 2 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-262161 is given as an example. However, the specific configuration of the liquid crystal display device is not particularly limited, and a known configuration can be adopted.

液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは2枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに(又はそれに替えて)、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。   In one embodiment of the liquid crystal display device, a liquid crystal cell having a liquid crystal layer sandwiched between substrates provided with electrodes on at least one of the opposite sides is provided, and the liquid crystal cell is arranged between two polarizing plates. The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between upper and lower substrates, and displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage. Furthermore, it has an accompanying functional layer such as a polarizing plate protective film, an optical compensation member that performs optical compensation, and an adhesive layer as necessary. In addition to (or instead of) color filter substrates, thin layer transistor substrates, lens films, diffusion sheets, hard coat layers, antireflection layers, low reflection layers, antiglare layers, etc., forward scattering layers, primer layers, antistatic layers Further, a surface layer such as an undercoat layer may be disposed.

図7に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図7に示す液晶表示装置351は、液晶セル371のバックライト側の面にバックライト側偏光板364を有する。バックライト側偏光板364は、バックライト側偏光子362のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム361を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。   FIG. 7 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention. A liquid crystal display device 351 illustrated in FIG. 7 includes a backlight-side polarizing plate 364 on the backlight-side surface of the liquid crystal cell 371. The backlight side polarizing plate 364 may or may not include the polarizing plate protective film 361 on the surface on the backlight side of the backlight side polarizer 362, but it is preferable to include it.

バックライト側偏光板364は、バックライト側偏光子362が、2枚の偏光板保護フィルム361および363で挟まれた構成であることが好ましい。   The backlight side polarizing plate 364 preferably has a configuration in which a backlight side polarizer 362 is sandwiched between two polarizing plate protective films 361 and 363.

本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図7に示す例では、偏光板保護フィルム363がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム361がアウター側偏光板保護フィルムである。   In this specification, the polarizing plate protective film on the side closer to the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film on the side farther from the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the outer side polarizing plate. It is called a protective film. In the example shown in FIG. 7, the polarizing plate protective film 363 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 361 is an outer side polarizing plate protective film.

バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。   The backlight side polarizing plate may have a retardation film as an inner side polarizing plate protective film on the liquid crystal cell side. As such a retardation film, a known cellulose acylate film or the like can be used.

液晶表示装置351は、液晶セル371のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板394を有する。表示側偏光板394は、表示側偏光子392が、2枚の偏光板保護フィルム391および393で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム393がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム391がアウター側偏光板保護フィルムである。   The liquid crystal display device 351 has a display-side polarizing plate 394 on the surface of the liquid crystal cell 371 opposite to the surface on the backlight side. The display side polarizing plate 394 has a configuration in which a display side polarizer 392 is sandwiched between two polarizing plate protective films 391 and 393. The polarizing plate protective film 393 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 391 is an outer side polarizing plate protective film.

液晶表示装置351が有するバックライトユニット300については、先に記載した通りである。   The backlight unit 300 included in the liquid crystal display device 351 is as described above.

本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。   There is no particular limitation on the liquid crystal cell, the polarizing plate, the polarizing plate protective film, and the like constituting the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, and those prepared by known methods and commercially available products can be used without any limitation. it can. It is of course possible to provide a known intermediate layer such as an adhesive layer between the layers.

(カラーフィルター)
カラーフィルター基板のRGB画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびR、G、Bの画素パターンを形成することもできるし、また、R、G、Bの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリクス、およびn個置きにブラックマトリクスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内(凸部で囲まれた凹部)に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、R、G、Bのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素及びブラックマトリックスを完全に硬化させてもよい。
(Color filter)
Various known methods can be used as the RGB pixel forming method of the color filter substrate. For example, a desired black matrix and R, G, and B pixel patterns can be formed on a glass substrate by using a photomask and a photoresist, and colored inks for R, G, and B pixels can be used. Using a black matrix having a predetermined width and an area (a concave portion surrounded by convex portions) divided by a black matrix wider than the width of the black matrix every n pieces, using an inkjet printer It is also possible to produce a color filter composed of R, G, and B patterns by discharging the ink composition until the density reaches a predetermined density. After image coloring, each pixel and the black matrix may be completely cured by baking or the like.

カラーフィルターの好ましい特性は特開2008−083611号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。   Preferred characteristics of the color filter are described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-083611 and the like, and the content of this publication is incorporated in the present invention.

カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。   As the color filter pigment, known pigments can be used without any limitation. Currently, pigments are generally used. However, color filters using dyes may be used as long as they are pigments that can control spectroscopy and ensure process stability and reliability.

(ブラックマトリックス)
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
(Black matrix)
In the liquid crystal display device, it is preferable that a black matrix is disposed between the pixels. Examples of the material for forming the black stripe include a material using a sputtered film of a metal such as chromium, and a light-shielding photosensitive composition in which a photosensitive resin and a black colorant are combined. Specific examples of the black colorant include carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, graphite, and the like. Among these, carbon black is preferable.

(薄層トランジスタ)
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ(以下、TFTとも言う)を有するTFT基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が1×1014/cm未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開2011−141522号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
(Thin layer transistor)
The liquid crystal display device can further include a TFT substrate having a thin layer transistor (hereinafter also referred to as TFT). The thin film transistor preferably includes an oxide semiconductor layer having a carrier concentration of less than 1 × 10 14 / cm 3 . A preferred embodiment of the thin layer transistor is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-141522, and the content of this publication is incorporated in the present invention.

以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、高い光透過率を発揮し得る量子ドット含有積層体を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色再現性を実現することができるものである。   Since the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention described above includes a backlight unit including a quantum dot-containing stacked body that can exhibit high light transmittance, high luminance and high color reproducibility can be realized. Is.

以下に実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to this example, and materials, amounts used, ratios, processing contents, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. it can.

[積層フィルムの作成]
<支持体>
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム、東洋紡社製、商品名:コスモシャインA4300、厚さ50μmm、幅1000mm、長さ100m)を用いた。
[Creation of laminated film]
<Support>
A polyethylene terephthalate film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine A4300, thickness 50 μm, width 1000 mm, length 100 m) was used.

<有機層の形成>
上記支持体に、有機層の形成を行った。まず、有機層形成用塗布液の調整を行った。有機層形成用塗布液は、TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製)および光重合開始剤(ランベルティ社製、ESACUREKTO46)を用意し、TMPTA:光重合開始剤の重量比率が、95:5となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15%とした。
<Formation of organic layer>
An organic layer was formed on the support. First, the organic layer forming coating solution was adjusted. As the organic layer forming coating solution, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (Lamberti Co., ESACUREKTO46) are prepared, and the weight ratio of TMPTA: photopolymerization initiator is 95. : Weighed to 5 and dissolved them in methyl ethyl ketone to give a solid content concentration of 15%.

この有機層形成用塗布液を、ダイコーターを用いて、ロール・トゥ・ロールにより支持体であるPETフィルムに塗布した。塗布後のPETフィルムを50℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた後、紫外線を照射し(積算照射量約600mJ/cm)、UV硬化により硬化させた。UV硬化直後のパスロールにて保護フィルムのポリエチレンフィルム(PEフィルム、サンエー科研製、商品名:PAC2−30−T)を貼り付け、搬送し、巻き取った。支持体上に形成されて有機層の厚みは1μmであった。 This organic layer forming coating solution was applied to a PET film as a support by roll-to-roll using a die coater. The coated PET film was passed through a drying zone at 50 ° C. for 3 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ), and cured by UV curing. A polyethylene film (PE film, manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd., trade name: PAC2-30-T) as a protective film was attached to a pass roll immediately after UV curing, conveyed, and wound. The organic layer formed on the support had a thickness of 1 μm.

<無機層の形成>
次に、ロール・トゥ・ロールのCVD装置を用いて、有機層の表面に無機層(窒化ケイ素(SiN)層)を形成した。送出機より支持体を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層の上に無機層を形成した。無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス(流量160sccm)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)、および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。電源として、周波数13.56MHzの高周波電源を用いてSiN層を形成した。成膜圧力は40Pa、到達膜厚は50nmであった。
<Formation of inorganic layer>
Next, an inorganic layer (silicon nitride (SiN) layer) was formed on the surface of the organic layer using a roll-to-roll CVD apparatus. The support was sent out from the feeder, and the protective film was peeled off after passing through the final film surface touch roll before forming the inorganic layer, and an inorganic layer was formed on the exposed organic layer. In forming the inorganic layer, silane gas (flow rate 160 sccm), ammonia gas (flow rate 370 sccm), hydrogen gas (flow rate 590 sccm), and nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases. As a power source, a SiN layer was formed using a high frequency power source having a frequency of 13.56 MHz. The film formation pressure was 40 Pa, and the ultimate film thickness was 50 nm.

このようにして有機層の上に無機層を形成し、形成後の膜面タッチロール部にて、保護PEフィルムを貼り付け、無機膜がパスロールに触れることなく、搬送した後、巻き取った。   In this way, an inorganic layer was formed on the organic layer, and a protective PE film was attached to the formed film surface touch roll part, and the inorganic film was transported without touching the pass roll, and then wound.

<光学機能性層の形成>
上記のように形成した支持体、有機膜および無機膜からなるバリア支持体(バリア層)の保護PEフィルムを剥がし、光学機能層形成用塗布液を無機層上に塗布し、塗膜を形成した。光学機能層形成用塗布液は、以下の組成となるように調整した。光学機能層の塗膜を、上記と同様の方法で形成したバリア支持体で挟み込み、UV硬化をして複合フィルムをロール・トゥ・ロールで形成した。
<Formation of optical functional layer>
The protective PE film of the barrier support (barrier layer) composed of the support, the organic film and the inorganic film formed as described above was peeled off, and the coating solution was formed on the inorganic layer by applying the coating solution for forming the optical functional layer. . The coating solution for forming the optical functional layer was adjusted to have the following composition. The coating film of the optical functional layer was sandwiched between barrier supports formed by the same method as described above, and UV-cured to form a composite film by roll-to-roll.

(光学機能層形成用塗布液の組成)
・量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:520nm) 10質量部
・量子ドット2のトルエン分散液(発光極大:630nm) 1質量部
・ラウリルメタクリレート 2.4質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート 0.54質量部
・光重合開始剤 0.009質量部
(イルガキュア819(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製))
量子ドット1、2としては、下記のコア−シェル構造(InP/ZnS)を有するナノ結晶を用いた。
(Composition of coating solution for forming optical functional layer)
-Toluene dispersion of quantum dots 1 (luminescence maximum: 520 nm) 10 parts by mass-Toluene dispersion of quantum dots 2 (luminescence maximum: 630 nm) 1 part by weight-Lauryl methacrylate 2.4 parts by weight-Trimethylolpropane triacrylate 0. 54 parts by mass / photopolymerization initiator 0.009 parts by mass (Irgacure 819 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
As the quantum dots 1 and 2, nanocrystals having the following core-shell structure (InP / ZnS) were used.

・量子ドット1:INP530−10(NN−labs社製)
・量子ドット2:INP620−10(NN−labs社製)
光学機能層形成用塗布液の粘度は50mPa・sであった。
Quantum dot 1: INP530-10 (manufactured by NN-labs)
Quantum dot 2: INP620-10 (manufactured by NN-labs)
The viscosity of the coating solution for forming an optical functional layer was 50 mPa · s.

<シート加工>
形成した複合フィルムを、刃先角度17°のトムソン刃を使用し、A4サイズのシート状に抜き打ちを行った。
<Sheet processing>
The formed composite film was punched out into an A4 size sheet using a Thomson blade having a blade edge angle of 17 °.

<端面処理>
シート状にカットした複合フィルムを、1000枚重ね、スパッタリング装置を用いて、複合フィルムの積層体の側面に無機層を形成した。ターゲットとしてケイ素、放電ガスとしてアルゴン、反応ガスとして酸素を用いた。成膜圧力は0.1Pa、到達膜厚は50nmであった(実施例1)。
<End face treatment>
1000 sheets of composite films cut into a sheet were stacked, and an inorganic layer was formed on the side surface of the composite film laminate using a sputtering apparatus. Silicon was used as a target, argon was used as a discharge gas, and oxygen was used as a reaction gas. The film formation pressure was 0.1 Pa, and the ultimate film thickness was 50 nm (Example 1).

また、反応ガスの酸素導入量を減らし、側面の膜をSiOとした(実施例2)。ターゲットとしてアルミナを用い、側面の膜の厚みを変更し積層フィルムを作成した(実施例3〜6)。ターゲットとしてチタンを用いて側面の膜を形成した(実施例7)。   Further, the amount of oxygen introduced into the reaction gas was reduced, and the side film was made of SiO (Example 2). Alumina was used as a target, and the thickness of the side film was changed to create a laminated film (Examples 3 to 6). A side film was formed using titanium as a target (Example 7).

また、次のように積層フィルムの側面に積層膜を形成した。形成した複合フィルムをスパッタリング装置にセットするまでは、実施例1と同様の方法により行った。ターゲットとしてアルミニウム、放電ガスとしてアルゴンを用い、成膜圧力は0.5Paとし、第1の金属層として、膜厚が20nmのアルミニウム層を形成した。続いて、反応ガスとして、酸素を導入し、第1の金属層の上に、膜厚1nmの酸化アルミニウムの金属酸化層を形成した。このアルミニウム層と酸化アルミニウムの層の形成を5回繰り返し、合計膜厚105nmの積層膜を形成した(実施例8)。実施例8の積層膜上に、実施例8の第1の金属層の形成と同じ方法で、第2の金属層として、膜厚が200nmのアルミニウム層を形成した(実施例9)。合計膜厚は305nmであった。   Moreover, the laminated film was formed in the side surface of the laminated film as follows. The same procedure as in Example 1 was performed until the formed composite film was set in the sputtering apparatus. Aluminum was used as the target, argon was used as the discharge gas, the film forming pressure was 0.5 Pa, and an aluminum layer having a thickness of 20 nm was formed as the first metal layer. Subsequently, oxygen was introduced as a reaction gas, and a 1 nm-thick aluminum oxide metal oxide layer was formed on the first metal layer. The formation of the aluminum layer and the aluminum oxide layer was repeated 5 times to form a laminated film having a total film thickness of 105 nm (Example 8). On the laminated film of Example 8, an aluminum layer having a thickness of 200 nm was formed as the second metal layer by the same method as the formation of the first metal layer of Example 8 (Example 9). The total film thickness was 305 nm.

結果を表1に示す。なお、表1に記載の評価は、以下の方法、基準で行った。また、比較例1として、実施例1のフィルムの側面に膜を形成しないフィルムについても評価を行った。   The results are shown in Table 1. In addition, evaluation of Table 1 was performed with the following method and reference | standard. In addition, as Comparative Example 1, a film that does not form a film on the side surface of the film of Example 1 was also evaluated.

<屈折率、膜厚測定>
大塚電子株式会社 分光エリプソメータ FE−5000を用いて測定を行った。
<Refractive index and film thickness measurement>
Otsuka Electronics Co., Ltd. Measurement was performed using a spectroscopic ellipsometer FE-5000.

<輝度測定>
Kindle fire HDX 7inに実装し、目視で輝度を判定した。
<Brightness measurement>
It was mounted on Kindle fire HDX 7in and the luminance was judged visually.

側面に膜を有さない比較例をD:基準とし、C:輝度が少し向上した、B:輝度が向上した、A:輝度が大幅に向上した、により評価した。   A comparative example having no film on the side face was evaluated as D: reference, C: luminance slightly improved, B: luminance improved, and A: luminance significantly improved.

輝度半減時間は、温度60、湿度90%の環境下、所定の時間経過後にKindle fire HDX 7inに実装し、輝度が初期から半減した時間を確認した。   The luminance half time was mounted on Kindle fire HDX 7in after a predetermined time in an environment of temperature 60 and humidity 90%, and the time when the luminance was reduced by half from the initial stage was confirmed.

<曲げ>
φ100mmの円筒への巻き付けを100回繰り返し、積層フィルムの端部に割れが発生するか確認した。割れの確認は、光学顕微鏡を用い、400倍の倍率で確認し、以下の基準で評価を行った。
AA:表面が目視で鏡面である
A:端部の割れは見られない
B:一部割れが見られる
C:全体に割れが確認される
<Bending>
Winding around a φ100 mm cylinder was repeated 100 times, and it was confirmed whether cracks occurred at the end of the laminated film. The confirmation of the crack was confirmed using an optical microscope at a magnification of 400 times and evaluated according to the following criteria.
AA: The surface is a mirror surface visually. A: No crack at the end is observed. B: A partial crack is observed. C: A crack is confirmed throughout.

Figure 2016068556
Figure 2016068556

表1に示すように、光学機能層の側面に膜を形成していない比較例1に比べ、膜を形成した実施例1〜4は輝度が向上しており、側面の膜の屈折率を高くすることで、より輝度を向上させることができた。また、側面の膜の厚みを厚くすることで、輝度半減時間を延ばすことができたが、膜の厚みが厚くなると曲げ評価で端部に割れが生じるため、膜の厚みは、20nm以上50nm以下とすることが好ましい。   As shown in Table 1, compared with Comparative Example 1 in which no film is formed on the side surface of the optical functional layer, Examples 1 to 4 in which the film is formed have improved brightness, and the refractive index of the side film is increased. By doing so, the luminance could be improved. In addition, by increasing the thickness of the side film, it was possible to extend the luminance half-life. However, as the film thickness increases, cracks occur at the end in bending evaluation, so the film thickness is 20 nm to 50 nm. It is preferable that

20nm〜200nmの膜厚で膜を形成した実施例1〜4は、輝度半減時間が伸びており、機能を長時間維持できていることが確認できた。また、表面輝度も比較例1に比べ、向上していることが確認できた。膜の厚みは、厚い方が輝度半減時間、表面輝度の観点で好ましいが、膜の厚みが厚いと膜割れが生じるため、20nm以上100nm以下とすることが好ましい。   In Examples 1 to 4 in which the film was formed with a film thickness of 20 nm to 200 nm, the luminance half time was extended, and it was confirmed that the function could be maintained for a long time. Further, it was confirmed that the surface brightness was improved as compared with Comparative Example 1. A thicker film is preferable from the viewpoint of luminance half-life time and surface luminance. However, if the film is thick, film cracking occurs. Therefore, the thickness is preferably 20 nm or more and 100 nm or less.

また、実施例8から、側面の膜を第1の金属層と金属酸化層の積層膜とすることで、曲げ評価で良好な結果が得られ、強度の高い膜が形成できることが確認できた。さらに、実施例9より、第2の金属層を形成することで、輝度を向上させることができた。   Further, from Example 8, it was confirmed that a favorable result was obtained by bending evaluation by forming the side film as a laminated film of the first metal layer and the metal oxide layer, and a high strength film could be formed. Furthermore, from Example 9, the luminance could be improved by forming the second metal layer.

1…支持体、2…有機層、3…無機層、4…光学機能層、5…膜、6…バリア層、7、8…積層フィルム、10…塗布部、12…送出機、14…ダイコーター、16…バックアップローラ、20…乾燥部、22…乾燥装置、24…加熱装置、30…紫外線照射部、32…紫外線照射装置、34…巻取機、50…無機膜製造装置、52、72…支持体ロール、54…支持体供給室、55、74、78…真空排気手段、56…無機成膜室、58…支持体巻取室、60、70…回転軸、62…ガイドロール、66…ドラム、68…成膜手段、76…タッチロール、100…製造設備、110、150…バリア支持体、120…塗布部、124…ダイコーター、126、162…バックアップローラ、130…ラミネート部、132…ラミネートローラ、134…加熱チャンバ、160…重合処理部、164…光照射装置、170…積層フィルム、180…剥離ローラ、200…スパッタリング装置、210…真空容器、211…ホルダ、212…プラズマ電極、213…RF電源、214…ガス導入管、215…ガス排出管、216…保護フィルム、300…バックライトユニット、300A…光源、300B…導光板、300C…波長変換部材、310…青色光、320…緑色光、330…赤色光、351…液晶表示装置、361、363、391、393…偏光板保護フィルム、362…バックライト側偏光子、364…バックライト側偏光板、371…液晶セル、392…表示側偏光子、394…表示側偏光板   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support body, 2 ... Organic layer, 3 ... Inorganic layer, 4 ... Optical functional layer, 5 ... Film, 6 ... Barrier layer, 7, 8 ... Laminated film, 10 ... Coating part, 12 ... Delivery machine, 14 ... Daiko 16 ... backup roller, 20 ... drying section, 22 ... drying apparatus, 24 ... heating apparatus, 30 ... ultraviolet irradiation section, 32 ... ultraviolet irradiation apparatus, 34 ... winder, 50 ... inorganic film manufacturing apparatus, 52, 72 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Support body roll 54 ... Support body supply chamber 55, 74, 78 ... Vacuum exhaust means 56 ... Inorganic film forming chamber 58 ... Support body take-up chamber 60, 70 ... Rotating shaft 62 ... Guide roll 66 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Drum, 68 ... Film-forming means, 76 ... Touch roll, 100 ... Manufacturing equipment, 110, 150 ... Barrier support, 120 ... Application | coating part, 124 ... Die coater, 126, 162 ... Backup roller, 130 ... Laminating part, 132 ... Laminate low DESCRIPTION OF SYMBOLS 134 ... Heating chamber 160 ... Polymerization process part 164 ... Light irradiation apparatus 170 ... Laminated film 180 ... Peeling roller 200 ... Sputtering apparatus 210 ... Vacuum vessel 211 ... Holder 212 ... Plasma electrode 213 ... RF Power source, 214 ... gas introduction pipe, 215 ... gas discharge pipe, 216 ... protective film, 300 ... backlight unit, 300A ... light source, 300B ... light guide plate, 300C ... wavelength conversion member, 310 ... blue light, 320 ... green light, 330: Red light, 351: Liquid crystal display device, 361, 363, 391, 393 ... Polarizing plate protective film, 362 ... Back light side polarizer, 364 ... Back light side polarizing plate, 371 ... Liquid crystal cell, 392 ... Display side polarized light Child, 394 ... Display-side polarizing plate

Claims (17)

光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなる積層フィルムであって、
前記光学機能層の側面に、前記光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する積層フィルム。
A laminated film formed by laminating an optical functional layer and a barrier layer on at least one surface of the optical functional layer,
The laminated film which has a film | membrane which has a refractive index larger than the refractive index of the said optical functional layer on the side surface of the said optical functional layer.
前記光学機能層が量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含む請求項1に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 1, wherein the optical functional layer includes at least one of quantum dots and quantum rods. 前記膜が、ガスバリア性を有する膜である請求項1または2に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the film is a film having gas barrier properties. 前記膜は、無機膜である請求項1から3のいずれか1項に記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 3, wherein the film is an inorganic film. 前記膜が、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される1以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも1つを含む請求項4に記載の積層フィルム。   The film comprises at least one of one or more metal oxides, nitrides, and oxynitrides selected from silicon, aluminum, indium, tin, zinc, titanium, chromium, nickel, copper, silver, and gold. Item 5. The laminated film according to Item 4. 前記膜が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属からなる第1の金属層と、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属の酸化物からなる金属酸化層と、の積層構造を1回以上繰り返した積層膜である請求項4に記載の積層フィルム。   The film is selected from a first metal layer made of one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper and silver, and from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper and silver. The laminated film according to claim 4, which is a laminated film obtained by repeating a laminated structure of at least one metal oxide layer composed of one or more metal oxides at least once. 前記積層膜の上に、さらに、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される1以上の金属からなる第2の金属層を有する請求項6に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 6, further comprising a second metal layer made of one or more metals selected from aluminum, titanium, chromium, nickel, tin, copper, and silver on the laminated film. 前記第1の金属層の厚みが5nm以上50nm以下であり、前記金属酸化層の厚みが0.1nm以上5nm以下である請求項6または7に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 6 or 7, wherein the thickness of the first metal layer is 5 nm or more and 50 nm or less, and the thickness of the metal oxide layer is 0.1 nm or more and 5 nm or less. 前記膜の厚みが、5〜500nmである請求項1から8のいずれか1項に記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 8, wherein the film has a thickness of 5 to 500 nm. 前記膜の厚みが、20〜200nmである請求項1から9のいずれか1項に記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 9, wherein the film has a thickness of 20 to 200 nm. 前記第2の金属層の厚みが10nm以上200nm以下である請求項7に記載の積層フィルム。   The laminated film according to claim 7, wherein the thickness of the second metal layer is 10 nm or more and 200 nm or less. 前記光学機能層の屈折率が1.3以上1.6以下の範囲であり、前記膜の屈折率が1.5以上である請求項1から11のいずれか1項に記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 11, wherein the refractive index of the optical functional layer is in the range of 1.3 to 1.6, and the refractive index of the film is 1.5 or more. 前記光学機能層の屈折率と前記膜の屈折率との差が0.2以上である請求項1から12のいずれか1項に記載の積層フィルム。   The laminated film according to any one of claims 1 to 12, wherein a difference between a refractive index of the optical functional layer and a refractive index of the film is 0.2 or more. 請求項1から13のいずれか1項に記載の積層フィルムと、
光源と、を少なくとも含む、バックライトユニット。
The laminated film according to any one of claims 1 to 13,
A backlight unit including at least a light source.
請求項14に記載のバックライトユニットと、
液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置。
The backlight unit according to claim 14,
A liquid crystal display device comprising at least a liquid crystal cell.
光学機能層と、前記光学機能層の両面をバリア層で積層してなる積層フィルムを、複数枚重ね合わせ、
重ね合わせた複数の前記積層フィルムの前記光学機能層の側面に、前記光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を形成する積層フィルムの製造方法。
A plurality of laminated films formed by laminating both sides of the optical functional layer and the optical functional layer with a barrier layer,
The manufacturing method of the laminated | multilayer film which forms the film | membrane which has a refractive index larger than the refractive index of the said optical functional layer on the side surface of the said optical functional layer of the several laminated | multilayer film laminated | stacked.
前記膜を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法で形成する請求項16に記載の積層フィルムの製造方法。   The method for producing a laminated film according to claim 16, wherein the film is formed by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, or a plasma CVD method.
JP2015130130A 2014-09-26 2015-06-29 Multilayer film, backlight unit, liquid crystal display device, and method for producing multilayer film Active JP6117283B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/865,391 US9739926B2 (en) 2014-09-26 2015-09-25 Laminate film, backlight unit, and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014197282 2014-09-26
JP2014197282 2014-09-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016068556A true JP2016068556A (en) 2016-05-09
JP6117283B2 JP6117283B2 (en) 2017-04-19

Family

ID=55863704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015130130A Active JP6117283B2 (en) 2014-09-26 2015-06-29 Multilayer film, backlight unit, liquid crystal display device, and method for producing multilayer film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6117283B2 (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016204231A1 (en) * 2015-06-17 2016-12-22 富士フイルム株式会社 Laminate film, and laminate-film production method
WO2017010394A1 (en) * 2015-07-10 2017-01-19 富士フイルム株式会社 Laminated film and method for producing laminated film
JP2017049586A (en) * 2015-09-03 2017-03-09 迎輝科技股▲分▼有限公司 Optical film and light-emitting device having the same
WO2018021102A1 (en) * 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 Backlight film
WO2018186342A1 (en) * 2017-04-07 2018-10-11 シャープ株式会社 Optical sheet, backlight unit, method for manufacturing optical sheet, and device for manufacturing optical sheet
KR20190002162A (en) * 2017-06-29 2019-01-08 삼성에스디아이 주식회사 Quantum dot optical sheet, back light unit comprising the same and display apparatus
JP2019155704A (en) * 2018-03-13 2019-09-19 東レエンジニアリング株式会社 Barrier film and photoconversion member
CN111103720A (en) * 2018-10-29 2020-05-05 三星显示有限公司 Optical adjuster and display device including the same

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005212229A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Tomoegawa Paper Co Ltd Transparent gas barrier film and electroluminescence element
JP2007273440A (en) * 2006-03-09 2007-10-18 Adeka Corp Film containing coumarin compound, color conversion layer containing coumarin compound and matrix, color conversion filter containing color conversion layer, complementary color layer, complimentary color filter and multicolor light-emitting device
JP2010027429A (en) * 2008-07-22 2010-02-04 Fujifilm Corp Organic electroluminescent panel, and manufacturing method therefor
JP2011150697A (en) * 2009-12-24 2011-08-04 Nissha Printing Co Ltd Transparent conductive film layer sheet and method for manufacturing the same
US20120113672A1 (en) * 2008-12-30 2012-05-10 Nanosys, Inc. Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods
JP2013539598A (en) * 2010-08-11 2013-10-24 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド Quantum dot lighting
WO2014123724A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 3M Innovative Properties Company High color gamut quantum dot display

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005212229A (en) * 2004-01-29 2005-08-11 Tomoegawa Paper Co Ltd Transparent gas barrier film and electroluminescence element
JP2007273440A (en) * 2006-03-09 2007-10-18 Adeka Corp Film containing coumarin compound, color conversion layer containing coumarin compound and matrix, color conversion filter containing color conversion layer, complementary color layer, complimentary color filter and multicolor light-emitting device
JP2010027429A (en) * 2008-07-22 2010-02-04 Fujifilm Corp Organic electroluminescent panel, and manufacturing method therefor
US20120113672A1 (en) * 2008-12-30 2012-05-10 Nanosys, Inc. Quantum dot films, lighting devices, and lighting methods
JP2011150697A (en) * 2009-12-24 2011-08-04 Nissha Printing Co Ltd Transparent conductive film layer sheet and method for manufacturing the same
JP2013539598A (en) * 2010-08-11 2013-10-24 キユーデイー・ビジヨン・インコーポレーテツド Quantum dot lighting
JP2013544018A (en) * 2010-11-10 2013-12-09 ナノシス・インク. Quantum dot film, illumination device, and illumination method
WO2014123724A1 (en) * 2013-02-08 2014-08-14 3M Innovative Properties Company High color gamut quantum dot display
JP2016507165A (en) * 2013-02-08 2016-03-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー High color gamut quantum dot display

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2016204231A1 (en) * 2015-06-17 2018-04-26 富士フイルム株式会社 LAMINATED FILM AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED FILM
WO2016204231A1 (en) * 2015-06-17 2016-12-22 富士フイルム株式会社 Laminate film, and laminate-film production method
WO2017010394A1 (en) * 2015-07-10 2017-01-19 富士フイルム株式会社 Laminated film and method for producing laminated film
JP2017049586A (en) * 2015-09-03 2017-03-09 迎輝科技股▲分▼有限公司 Optical film and light-emitting device having the same
KR102129370B1 (en) * 2016-07-28 2020-07-03 후지필름 가부시키가이샤 Backlight Film
WO2018021102A1 (en) * 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 Backlight film
JP2018018973A (en) * 2016-07-28 2018-02-01 富士フイルム株式会社 Film for backlight
KR20180131619A (en) * 2016-07-28 2018-12-10 후지필름 가부시키가이샤 Backlight film
WO2018186342A1 (en) * 2017-04-07 2018-10-11 シャープ株式会社 Optical sheet, backlight unit, method for manufacturing optical sheet, and device for manufacturing optical sheet
KR20190002162A (en) * 2017-06-29 2019-01-08 삼성에스디아이 주식회사 Quantum dot optical sheet, back light unit comprising the same and display apparatus
KR102054274B1 (en) * 2017-06-29 2019-12-10 삼성에스디아이 주식회사 Quantum dot optical sheet, back light unit comprising the same and display apparatus
JP2019155704A (en) * 2018-03-13 2019-09-19 東レエンジニアリング株式会社 Barrier film and photoconversion member
JP7163041B2 (en) 2018-03-13 2022-10-31 東レエンジニアリング株式会社 Barrier film and light conversion material
CN111103720A (en) * 2018-10-29 2020-05-05 三星显示有限公司 Optical adjuster and display device including the same
JP2020071481A (en) * 2018-10-29 2020-05-07 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. Optical member and display device including the same
JP7423252B2 (en) 2018-10-29 2024-01-29 三星ディスプレイ株式會社 Optical member and display device including the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP6117283B2 (en) 2017-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6117283B2 (en) Multilayer film, backlight unit, liquid crystal display device, and method for producing multilayer film
JP6243872B2 (en) Method for producing quantum dot-containing laminate, quantum dot-containing laminate, backlight unit, liquid crystal display device, and quantum dot-containing composition
JP6117758B2 (en) Multilayer film, backlight unit, liquid crystal display device, and method for producing multilayer film
US10513655B2 (en) Wavelength conversion member, backlight unit including wavelength conversion member, liquid crystal display device, and method of manufacturing wavelength conversion member
JP6230974B2 (en) Light conversion member, backlight unit, liquid crystal display device, and method of manufacturing light conversion member
KR102153459B1 (en) Wavelength conversion member, backlight unit, and liquid crystal display device, and polymerizable composition containing quantum dot
JP6363526B2 (en) Wavelength conversion member, backlight unit including the same, liquid crystal display device, and method for manufacturing wavelength conversion member
KR102156138B1 (en) Wavelength conversion member, backlight unit, and liquid crystal display device and method for manufacturing wavelength conversion member
US9739926B2 (en) Laminate film, backlight unit, and liquid crystal display device
JP6334747B2 (en) Light conversion member, backlight unit, liquid crystal display device, and method of manufacturing light conversion member
KR102223409B1 (en) Backlight unit and liquid crystal display device
US20170242179A1 (en) Wavelength conversion member, backlight unit including wavelength conversion member, and liquid crystal display device
JP6475842B2 (en) Functional film manufacturing method and manufacturing apparatus
JP6714591B2 (en) Functional film and method for producing functional film
WO2016075950A1 (en) Wavelength conversion member, backlight unit including same, and liquid crystal display apparatus
JP6475843B2 (en) Functional film manufacturing method and functional film manufacturing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161025

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161027

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170316

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170322

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6117283

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250