JP2016061657A - 絶縁材料のラマン散乱スペクトルを用いた2次元薄膜原子構造の積層数決定装置及び積層数決定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
この方法では、グラフェンのGバンドと2Dバンドの相対強度比、2Dバンドの波数(エネルギー)、2Dバンドの形状などを基にグラフェン積層数を決定する。
この方法における観察の原理は、基板と基板上のグラフェンの光学反射によるコントラスト差である。グラフェンを酸化膜付きシリコン基板に貼り付け、そのグラフェンの光学顕微鏡像を取得した後、SiO2表面とグラフェンの光学顕微鏡像のコントラスト比を比較する。
Ia:絶縁材料に支持された積層数未知の2次元薄膜原子構造に入射レーザー光を照射して測定した、絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度であり、顕微ラマン分光計によって測定した絶対強度である。
Ib:絶縁材料に支持された積層数既知の2次元薄膜原子構造に入射レーザー光を照射して測定した、絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度であり、顕微ラマン分光計によって測定した絶対強度である。
I0:2次元薄膜原子構造を配置しない絶縁材料に入射レーザー光を照射して測定した、絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度であり、顕微ラマン分光計によって測定した絶対強度である。
前記絶縁材料に支持された積層数既知の2次元薄膜原子構造に前記入射レーザー光を照射して発生する前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ib/I0と、前記2次元薄膜原子構造の積層数nとの関係を示す標準曲線に基づいて、前記分光ピーク強度比Ia/I0を前記標準曲線と照合し、前記積層数未知の2次元薄膜原子構造の積層数を決定する積層数決定機構とを備えている。
前記絶縁材料に支持された積層数既知の2次元薄膜原子構造に入射レーザー光を照射して発生する前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ib/I0と、前記2次元薄膜原子構造の積層数nとの関係を示す標準曲線を取得する工程;
前記絶縁材料に支持された積層数未知の2次元薄膜原子構造に前記入射レーザー光を照射し、前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ia/I0を取得する工程;及び
前記分光ピーク強度比Ia/I0を前記標準曲線と照合し、前記積層数未知の2次元薄膜原子構造の積層数を決定する工程。
Ib/I0=T2n
で表わされる。
2 測定部(顕微ラマン分光計)
3 積層数決定部(積層数決定機構)
10 レーザー光源
11 入射レーザー光
12 ハーフミラー
13 顕微鏡対物レンズ
14 レイリー散乱光の除去フィルター
15 スリット
16 分光器
17 検出器
18 X−Yステージ
20 絶縁材料
21 2次元薄膜原子構造
30 外部接続部
31 制御部
32 記憶部
33 入力部
34 出力部
35 バス
40 絶縁材料からのラマン散乱光
Claims (6)
- 絶縁材料上の2次元薄膜原子構造の積層数決定装置であって、
前記絶縁材料に支持された積層数未知の2次元薄膜原子構造に入射レーザー光を照射し、前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ia/I0を取得するための測定を行う顕微ラマン分光計と、
前記絶縁材料に支持された積層数既知の2次元薄膜原子構造に前記入射レーザー光を照射して発生する前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ib/I0と、前記2次元薄膜原子構造の積層数nとの関係を示す標準曲線に基づいて、前記分光ピーク強度比Ia/I0を前記標準曲線と照合し、前記積層数未知の2次元薄膜原子構造の積層数を決定する積層数決定機構とを備える2次元薄膜原子構造の積層数決定装置。 - 前記標準曲線は、前記積層数既知の2次元薄膜原子構造の単層に対する前記入射レーザー光の透過率T及び積層数nより、次の関係式:
Ib/I0=T2n
で表わされる、請求項1に記載の2次元薄膜原子構造の積層数決定装置。 - 前記標準曲線は、前記絶縁材料に支持され、それぞれ積層数nが異なる前記積層数既知の2次元薄膜原子構造を複数用意して前記分光ピーク強度比Ib/I0を取得し、これと前記2次元薄膜原子構造の積層数nとの関係に基づいて取得される、請求項1に記載の2次元薄膜原子構造の積層数決定装置。
- 前記2次元薄膜原子構造はグラフェンである、請求項1から3のいずれかに記載の2次元薄膜原子構造の積層数決定装置。
- 前記絶縁材料は、金属以外のラマン活性を示す物質である、請求項1から4のいずれかに記載の2次元薄膜原子構造の積層数決定装置。
- 次の工程を含む、絶縁材料上の2次元薄膜原子構造の積層数決定方法:
前記絶縁材料に支持された積層数既知の2次元薄膜原子構造に入射レーザー光を照射して発生する前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ib/I0と、前記2次元薄膜原子構造の積層数nとの関係を示す標準曲線を取得する工程;
前記絶縁材料に支持された積層数未知の2次元薄膜原子構造に前記入射レーザー光を照射し、前記絶縁材料由来のラマン散乱光の分光ピーク強度比Ia/I0を取得する工程;及び
前記分光ピーク強度比Ia/I0を前記標準曲線と照合し、前記積層数未知の2次元薄膜原子構造の積層数を決定する工程。
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