JP2016061261A - 遠心圧縮機 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる遠心圧縮機を提供する。
【解決手段】入口及び出口を有するメインケーシングと、前記メインケーシングの内部に回転可能に配置された少なくとも一つのインペラと、前記入口に接続され、前記入口から軸線方向に離隔した位置に吸込口を有する吸込ケーシングと、前記吸込ケーシングの内部における前記吸込口側に配置可能な洗浄液噴射装置と、前記洗浄液噴射装置に洗浄液を供給する洗浄液供給装置とを備え、前記洗浄液噴射装置は、前記吸込ケーシングの内部において、前記軸線方向と交差する面に沿って延在するように配置可能なパイプと、前記パイプに設けられた複数の噴射孔とを有する。
【選択図】 図１

Description

本開示は遠心圧縮機に関する。

特許文献１には、入口及び出口を有するメインケーシングと、メインケーシングの内部に回転可能に配置されたインペラと、を備えた遠心圧縮機が開示されている。かかる遠心圧縮機は、インペラを洗浄対象とし、洗浄液を供給する供給配管と、メインケーシングの入口側に設けられ、供給配管から供給された洗浄液をインペラ表面に噴射する洗浄液噴射ノズルと、を備えている。かかる遠心圧縮機によれば、インペラ表面に付着したダストが洗浄液によって洗い流されるものとされている。

特開平８−３３８３９７号公報

特許文献１が開示する遠心圧縮機では、メインケーシングの入口付近に設けられた一つの洗浄液噴射ノズルから洗浄液が噴射されている。この場合、洗浄液噴射ノズルが一つしかなく、且つ、洗浄液噴射ノズルからインペラまでの距離が短いため、洗浄液噴射ノズルから噴射された洗浄液がインペラに到達するまでに十分に広がらない。このため、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡らず、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができない虞がある。

上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる遠心圧縮機を提供することを目的とする。

（１）本発明の少なくとも一実施形態に係る遠心圧縮機は、
入口及び出口を有するメインケーシングと、
前記メインケーシングの内部に回転可能に配置された少なくとも一つのインペラと、
前記入口に接続され、前記入口から軸線方向に離隔した位置に吸込口を有する吸込ケーシングと、
前記吸込ケーシングの内部における前記吸込口側に配置可能な洗浄液噴射装置と、
前記洗浄液噴射装置に洗浄液を供給する洗浄液供給装置と
を備え、
前記洗浄液噴射装置は、
前記吸込ケーシングの内部において、前記軸線方向と交差する面に沿って延在するように配置可能なパイプと、
前記パイプに設けられた複数の噴射孔と
を有する。

上記（１）の構成によれば、複数の噴射孔から洗浄液が噴射されることで、吸込ケーシング内で洗浄液を分散させることができる。そして、吸込ケーシング内で分散された洗浄液がインペラに到達するまでに十分に広がるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（２）幾つかの実施形態では、上記（１）の構成において、
前記パイプは、前記吸込ケーシングの内部の作動位置と前記吸込ケーシングの外部の待避位置との間を往復可能である。
上記（２）の構成によれば、インペラの洗浄時にパイプを作動位置に位置させ、通常時にパイプを待避位置に待避させることができるので、通常時にはインペラ洗浄時よりも吸込ケーシング内の流路抵抗を減少させることができる。

（３）幾つかの実施形態では、上記（１）又は（２）の構成において、
前記パイプは、平面視円環状の円環部を含み、
前記複数の噴射孔は、前記円環部の周方向に分布して前記円環部に設けられる。
上記（３）の構成によれば、円環部の周方向に分布して円環部に設けられた複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、洗浄液を、吸込ケーシング内において、円環部の周方向に分散させることができる。そして、周方向に分散した洗浄液は、インペラに到達するまでに拡散することができる。この結果、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（４）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、
前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記円環部の内周面に設けられる。
上記（４）の構成によれば、円環部の内周面に設けられた複数の噴射孔から円環部の中心に向けて洗浄液が噴射されることで、洗浄液を、円環部の内側にて、周方向に均一に分散させることができる。そして、洗浄液の噴射方向が流体の流れ方向に対し交差しているので、周方向に均一に分散した洗浄液が流体の流れにより拡散される。このため、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。また、円環部から径方向内側に向かって洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシングの内壁面に洗浄液が付着するのを抑制できる。これにより、インペラの洗浄に用いられない洗浄液の無駄を少なくすることができる。

（５）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、
前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記円環部の上流側に設けられる。
上記（５）の構成によれば、円環部の上流側に設けられた複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシングの内部を流れる流体によって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（６）幾つかの実施形態では、上記（３）〜（５）の何れか一つの構成において、
前記パイプは、前記円環部よりも小径で且つ前記円環部と同心上に配置される平面視円環状の小径円環部を含み、
前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記小径円環部の周方向に分布して前記小径円環部に設けられる。
上記（６）の構成によれば、小径円環部の周方向に分布して小径円環部に設けられた複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、円環部から離れた吸込ケーシングの内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、小径円環部に設けられた噴射孔から噴射された洗浄液は、吸込ケーシングの内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（７）幾つかの実施形態では、上記（３）〜（５）の何れか一つの構成において、
前記パイプは、前記円環部の円周上の二点を結ぶ少なくとも一つの直線部を含み、
前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記少なくとも一つの直線部の長手方向に分布して前記直線部に設けられる。
上記（７）の構成によれば、円環部のニ点を結ぶ直線部の長手方向に分布して設けられた複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、円環部から離れた吸込ケーシングの内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、直線部に設けられた噴射孔から噴射された洗浄液は、吸込ケーシングの内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（８）幾つかの実施形態では、上記（３）〜（５）の何れか一つの構成において、
前記パイプは、前記円環部から径方向中心に向けて突出する少なくとも一つの突出部を含み、
前記噴射孔のうち少なくとも一部は、前記突出部に設けられる。
上記（８）の構成によれば、突出部に設けられた噴射孔から洗浄液が噴射されるので、円環部から離れた吸込ケーシングの内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、突出部に設けられた噴射孔から噴射された洗浄液は、吸込ケーシングの内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（９）幾つかの実施形態では、上記（１）又は（２）の何れか一つの構成において、
前記パイプは、少なくとも一つの直線状の直線部を含み、
前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の長手方向に分布して前記少なくとも一つの直線部に設けられる。
上記（９）の構成によれば、直線部に分布して設けられる複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、洗浄液を、吸込ケーシング内において、直線部の長手方向に分散させることができる。そして、長手方向に分散した洗浄液は、インペラに到達するまでに拡散することができる。この結果、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（１０）幾つかの実施形態では、上記（９）の構成において、
前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の上流側に設けられる。
上記（１０）の構成によれば、少なくとも一つの直線部の上流側に設けられる複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシングの内部を流れる流体によって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

（１１）幾つかの実施形態では、上記（９）又は（１０）の構成において、
前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の幅方向にて両方の側に設けられる。
上記（１１）の構成によれば、少なくとも一つの直線部の幅方向にて両方の側に設けられる複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、洗浄液を、吸込ケーシング内において、直線部の長手方向に沿って均一に分散させることができる。そして、直線部の長手方向に沿って均一に分散された洗浄液が、インペラに到達するまでに拡散することができる。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

本発明の少なくとも一実施形態によれば、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

本発明の一実施形態に係る遠心圧縮機の構成を概略的に示す縦断面図である。 図１に示した洗浄液洗噴射装置を作動位置に進出させた状態を実線で示し、洗浄液噴射装置を待避位置に待避させた状態を仮想線で示した縦断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す横断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。 一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す横断面図である。

以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
また例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。

図１は、本発明の一実施形態に係る遠心圧縮機１の構成を概略的に示す断面図である。
図１に示すように、本発明の実施形態に係る遠心圧縮機１は、一軸多段式の遠心圧縮機であり、メインケーシング２、少なくとも一つのインペラ３、吸込ケーシング４１，４２、吐出ケーシング５１，５２、洗浄液噴射装置６、及び、洗浄液供給装置７を備えている。

メインケーシング２は入口２１，２２及び出口２３，２４を有する。本実施形態に係るメインケーシング２は、入口２１，２２及び出口２３，２４をそれぞれ二箇所ずつ有する。

一方、メインケーシング２を貫通して、回転軸３７が回転可能に配置されている。具体的には、回転軸３７はメインケーシング２の両側にそれぞれ設置されたジャーナルベアリング２７Ａ，２７Ｂ及びスラストベアリング２８Ａ，２８Ｂによって回転可能に支持されている。
入口２１，２２及び出口２３，２４は、回転軸３７に沿って配列され、図１において、左側から順に、入口２１、出口２３、出口２４及び入口２２が配置されている。隣り合う入口２１と出口２３が対をなし、隣り合う入口２２と出口２４が対をなす。出口２３と入口２２が図示しない配管によって相互に接続される。

メインケーシング２の内部には、少なくとも一つのインペラ３として、インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６が回転可能に配置されている。
インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の各々は、回転軸３７に対し同心上に固定されている。具体的には、インペラ３１〜３３は、入口２１と出口２３との間を延びる回転軸３７の部分に直列に固定され、インペラ３４〜３６は、入口２２と出口２４との間を延びる回転軸３７の部分に直列に固定されている。
インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の各々は、メインケーシング２の内部に流路Ｒを形成している。メインケーシング２の内部には、インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の流路Ｒを直列に接続する静止流路として、ディフューザ２５，２６が設けられている。

吸込ケーシング４１，４２は、入口２１，２２に接続され、入口２１，２２から軸線Ｍ，Ｎ方向、例えば下方に離隔した位置に吸込口４１Ａ，４２Ａを有する。吸込ケーシング４１，４２は、吸込口４１Ａ，４２Ａから入口２１，２２に向けて徐々に縮径され、吸込口４１Ａ，４２Ａから入口２１，２２に向けて流路断面積が徐々に減少する。本実施形態では、吸込ケーシング４１，４２は、吸込口４１Ａ，４２Ａ側の流路断面形状が円形形状となり、入口２１，２２側の流路断面形状が矩形形状となるように、吸込口４１Ａ，４２Ａ側から入口２１，２２側に向けて吸込ケーシング４１，４２の流路断面形状が円形形状から矩形形状に徐々に変形する。

吐出ケーシング５１，５２は、出口２３，２４に接続され、出口２３，２４から軸線方向、例えば下方に離隔した位置に吐出口５１Ａ，５２Ａを有する。
遠心圧縮機１では、回転軸３７を回転させることにより、圧縮対象の流体が吸込口４１Ａから吸込ケーシング４１内に流入する。圧縮対象の流体は、入口２１を経て、回転するインペラ３１〜３３の流路Ｒ及びディフューザ２５を通過して圧縮される。この後、圧縮された流体は、出口２３及び吐出ケーシング５１を通過し、一旦メインケーシング２の外に吐出される。

吐出ケーシング５１から吐出された流体は、例えば図示しない冷却装置により冷却された後、吸込口４２Ａから吸込ケーシング４２内に流入する。流入した流体は、入口２２を経て、回転するインペラ３４〜３６の流路Ｒ及びディフューザ２６を通過して圧縮される。この後、圧縮された流体は、出口２４及び吐出ケーシング５２を通過して、メインケーシング２の外に吐出される。

洗浄液噴射装置６は、一方の吸込ケーシング４１の内部における吸込口４１Ａ側に配置可能であり、洗浄液噴射装置６には洗浄液供給装置７から洗浄液が供給される。
洗浄液噴射装置６では、遠心圧縮機１を稼働した状態で間欠的に洗浄液供給装置７から洗浄液噴射装置６に洗浄液を供給する。洗浄液噴射装置６に供給された洗浄液は、流入した流体に噴射され、流入した流体に分散されて、流入した流体とともにインペラ３１〜３３の表面に到達する。インペラ３１〜３３の表面に到達した洗浄液は、インペラ３１〜３３の表面に付着したダストを洗い落として、インペラ３１〜３３の表面を洗浄する。

また、幾つかの実施形態では、吸込ケーシング４１の内部において、軸線Ｍ方向と交差する面に沿って延在するように配置可能なパイプ６１と、パイプ６１に設けられた複数の噴射孔６２（図３参照）とを有する。

この構成によれば、複数の噴射孔６２から洗浄液が噴射されることで、吸込ケーシング４１内で洗浄液を分散させることができる。そして、吸込ケーシング４１内で分散された洗浄液がインペラ３に到達するまでに十分に広がるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図２は、図１に示したパイプ６１を吸込ケーシング４１の内部の作動位置に位置させた状態を実線で示し、吸込ケーシング４１の外部の待避位置に待避させた状態を仮想線（二点鎖線）で示した縦断面図である。

図２に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、吸込ケーシング４１の内部の作動位置と吸込ケーシング４１の外部の待避位置との間を往復可能である。
この構成によれば、インペラ洗浄時にパイプ６１を作動位置に位置させ、通常時にパイプ６１を待避位置に待避させることができる。これにより、通常時にはインペラ洗浄時よりも吸込ケーシング４１内の流路抵抗を減少させることができる。

パイプ６１の往復は、手動あるいは動力装置（図示せず）により行うことができ、例えば、手動による場合にはハンドル（図示せず）を回転操作することによりパイプ６１を往復させることができ、動力装置の場合には動力装置を運転することによりパイプ６１を往復させることができる。

図３〜図６は、一実施形態に係る洗浄液噴射装置を示す平断面図である。
図３〜図６に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、平面視円環状の円環部６３を含み、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部６２Ａは、円環部６３の周方向に分布して円環部６３に設けられている。
この構成によれば、円環部６３の周方向に分布して円環部６３に設けられた複数の噴射孔６２Ａから洗浄液が噴射されるので、洗浄液を、吸込ケーシング４１内において、円環部６３の周方向に分散させることができる。そして、周方向に分散した洗浄液は、インペラ３１に到達するまでに拡散することができる。この結果、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

円環部６３の径及び設置位置は、任意に設定できるが、例えば、吸込ケーシング４１の内壁に沿うように大きな径としてもよいし、入口２１に内接する大きさの径とし、流路中心に対し同心上に設置してもよい。吸込ケーシング４１の内壁に沿うように大きな径とすれば、洗浄液が吸込ケーシング４１の内壁に沿って流れることになり、洗浄液を流路幅の両側に行き渡らせることができる。一方、入口２１に内接する大きさの径とし、流路中心（断面中心）に対し同心上に設置すれば、洗浄液が吸込ケーシング４１の内壁に付着するのを抑制することができ、インペラ３１〜３３の洗浄に用いられない洗浄液の無駄を少なくできる。

図３に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ａは、円環部６３の内周面に設けられている。
この構成によれば、円環部６３の内周面に設けられた複数の噴射孔６２Ａから円環部６３の中心に向けて洗浄液が噴射されることで、洗浄液を、円環部６３の内側にて、周方向に均一に分散させることができる。そして、洗浄液の噴射方向が流体の流れ方向に対し交差しているので、周方向に均一に分散した洗浄液が流体の流れにより拡散される。このため、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。また、円環部６３から径方向内側に向かって洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシング４１の内壁面に洗浄液が付着するのを抑制できる。これにより、インペラ３１〜３３の洗浄に用いられない洗浄液の無駄を少なくすることができる。

円環部６３の内周面に設けられる複数の噴射孔６２Ａの周方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射されるように、複数の噴射孔６２Ａの分布を、円環部６３の周方向にて均一にし、複数の噴射孔６２Ａの径を同一にしてもよい。或いは、円環部６３内での圧力低下を考慮して、複数の噴射孔６２Ａの分布を、洗浄液を供給する供給部６４に近い領域で粗にし、供給部６４から離れた領域で密としてもよい。このようにすれば、洗浄液が吸込ケーシング４１内において均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図７は、一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す横断面図である。
図７に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｂは、円環部６３の上流側に設けられ、斜め上流に向かって開口している。
この構成によれば、円環部６３の上流側に設けられた複数の噴射孔６２Ｂから洗浄液が斜め上流に向かって噴射されるので、吸込ケーシング４１の内部を流れる流体Ｈによって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

円環部６３の上流側に設けられる複数の噴射孔６２Ｂの周方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射されるように、複数の噴射孔６２Ｂの分布を、円環部６３にて均一にし、複数の噴射孔６２Ｂの径を同一にしてもよい。或いは、円環部６３内での圧力低下を考慮して、複数の噴射孔６２Ａの分布を、洗浄液を供給する供給部６４に近い領域で粗とし供給部６４から離れた領域で密としてもよい。このようにすれば、洗浄液が吸込ケーシング４１内において均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図４に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、円環部６３よりも小径で且つ円環部６３と同心上に配置される平面視円環状の小径円環部６５を含み、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｃは、小径円環部６５の周方向に分布して小径円環部６５に設けられている。
この構成によれば、小径円環部６５の周方向に分布して小径円環部６５に設けられた複数の噴射孔６２Ｃから洗浄液が噴射されるので、円環部６３から離れた吸込ケーシング４１の内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、小径円環部６５に設けられた噴射孔６２Ｃから噴射された洗浄液は、吸込ケーシング４１の内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

小径円環部６５の径は、円環部６３よりも小径であれば任意に設定できる。したがって、例えば、円環部６３を吸込ケーシング４１の内壁に沿うように大きな径とし、小径円環部６５を入口２１に内接する大きさの径とし、流路中心に設置してもよい。また、小径円環部６５は、円環部と同一平面である必要はなく、例えば、小径円環部６５を円環部６３の下流側に設置してもよい。

また、小径円環部６５に設けられる複数の噴射孔６２Ｃの周方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射されるように、複数の噴射孔６２Ｃの分布を、小径円環部６５の周方向にて均一にし、複数の噴射孔６２Ｃの径を同一にしてもよい。或いは、小径円環部６５の圧力低下を考慮して、複数の噴射孔６２Ａの分布を、洗浄液を供給する供給部６４に近い領域で粗にし、供給部６４から離れた領域で密としてもよい。このようにすれば、洗浄液が吸込ケーシング４１内において均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図５に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、円環部６３の円周上の二点を結ぶ少なくとも一つの直線部６６を含み、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｄは、直線部６６の長手方向に分布して直線部６６に設けられている。
この構成によれば、円環部６３の二点を結ぶ直線部６６の長手方向に分布して設けられた複数の噴射孔６２Ｄから洗浄液が噴射されるので、円環部６３から離れた吸込ケーシング４１の内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、直線部６６に設けられた噴射孔６２Ｄから噴射された洗浄液は、吸込ケーシング４１の内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

直線部６６に設けられる複数の噴射孔６２Ｄの周方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射するように、等間隔で設けてもよし、供給部６４に近い領域で粗とし供給部から離れた領域で密となるように設けてもよい。この場合において、複数の噴射孔６２Ｄの径は同一であり、各噴射孔６２Ｄからは同一の流量の洗浄液が噴射される。このようにすれば、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

また、幾つかの形態では、パイプ６１は、円環部の中心を通る第１直線部６６Ａと、第１直線部６６Ａの両側に第１直線部６６Ａと平行に設けられた第２直線部６６Ｂと、を含んでいる。そして、複数の噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｄは、第１直線部６６Ａ及び第２直線部６６Ｂの長手方向に分布して第１直線部６６Ａ及び第２直線部６６Ｂに設けられている。また、複数の噴射孔６２Ｄは、少なくとも第１直線部６６Ａの幅方向にて両方の側に設けられる。このようにすれば、第１直線部６６Ａの長手方向に分布して設けられた複数の噴射孔６２Ｄから洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシング４１の内部中央を流れる流体によって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

また、第１直線部６６Ａ及び第２直線部６６Ｂの長手方向に設けられる噴射孔６２Ｄの周方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射するように、複数の噴射孔６２Ｄを第１直線部６６Ａ及び第２直線部６６Ｂの長手方向に分布して第１直線部６６Ａ及び第２直線部６６Ｂに設けてもよい。この場合において、複数の噴射孔６２Ｄの径は同一であり、各噴射孔６２Ｄからは同一の流量の洗浄液が噴射される。このようにすれば、洗浄液が均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図６に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、円環部６３から径方向中心に向けて突出する少なくとも一つの突出部６７を含み、噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｅは、突出部６７に設けられている。
この構成によれば、突出部６７に設けられた噴射孔６２Ｅから洗浄液が噴射されるので、円環部６３から離れた吸込ケーシング４１の内部中央にも洗浄液を確実に供給することができる。そして、突出部６７に設けられた噴射孔６２Ｅから噴射された洗浄液は、吸込ケーシング４１の内部中央を流れる流体によって十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

具体的には、パイプ６１は、円環部６３を周方向に四等分する位置（円環部６３）のそれぞれから径方向中心に向けて突出する四つの突出部６７を含み、噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｅは、突出部６７に設けられている。より詳細には、噴射孔６２のうち少なくとも一部の噴射孔６２Ｅは、突出部６７の先端と、突出部６７の幅方向にて両方の側に設けられる。このようにすれば、突出部６７に設けられた噴射孔６２Ｅから洗浄液が噴射されるので、吸込ケーシング４１の内部中央を流れる流体によって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図８は、一実施形態に係る洗浄液噴射装置を概略的に示す平断面図である。
図８に示すように、幾つかの実施形態では、パイプ６１は、少なくとも一つの直線状の直線部６８を含み、複数の噴射孔６２Ｅは、少なくとも一つの直線部６８の長手方向に分布して少なくとも一つの直線部６８に設けられている。
この構成によれば、直線部６８に分布して設けられる複数の噴射孔６２Ｅから洗浄液が噴射されるので、洗浄液を吸込ケーシング４１内において、直線部の長手方向に分散させることができる。そして、長手方向に分散した洗浄液は、インペラ３１〜３３に到達するまでに拡散することができる。この結果、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

直線部６８の設置位置は、任意に設定できるが、例えば、吸込ケーシング４１の流路を横切るように設置してもよい。吸込ケーシング４１の流路を横切るように設置すれば、洗浄液が吸込ケーシング４１の流路中央にも均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図９は、一実施形態に係る洗浄噴射装置を概略的に示す横断面図である。
図９に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔６２Ｆは、少なくとも一つの直線部６８の上流側に設けられ、斜め上流に向かって開口している。
この構成によれば、少なくとも一つの直線部６８の上流側に設けられる複数の噴射孔６２Ｆから洗浄液が斜め上流に向かって噴射されるので、吸込ケーシング４１の内部を流れる流体Ｈによって洗浄液が十分に拡散される。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

直線部６８の上流側に設けられる複数の噴射孔６２Ｆの長手方向位置及び径は、任意に設定できるが、例えば、洗浄液が均一に噴射するように、複数の噴射孔６２Ｆを等間隔に設けてもよい。また、中央領域で密としその両側となる両側領域で粗となるように設けてもよいし、中央領域で粗としその両側となる両側領域で密となるように設けてもよい。この場合において、複数の噴射孔６２Ｆの径は同一であり、各噴射孔６２Ｆからは同一の流量の洗浄液が噴射される。このようにすれば、洗浄液が均一に噴射されるので、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

図９に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔６２Ｆは、少なくとも一つの直線部６８の幅方向にて両方の側に設けられる。
この構成によれば、少なくとも一つの直線部６８の幅方向にて両方の側に設けられる複数の噴射孔６２Ｆから洗浄液が噴射されるので、洗浄液を、吸込ケーシング４１内において、直線部６８の長手方向に沿って均一に分散させることができる。そして、直線部６８の長手方向に沿って均一に分散された洗浄液が、インペラ３１〜３３に到達するまでに拡散することができる。これにより、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１〜３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。

上述したパイプ６１、円環部６３、小径円環部６５、直線部６６、第１直線部６６Ａ、第２直線部６６Ｂ、突出部６７、及び、直線部６８の断面形状は、洗浄液の噴射に適した形状であれば任意に選択可能であり、例えば、円形状、楕円形状、長円形状、流線形状、又は、涙滴形状等が任意に選択可能である。

また、パイプ６１、円環部６３、小径円環部６５、直線部６６、第１直線部６６Ａ、第２直線部６６Ｂ、突出部６７、及び、直線部６８の流路断面積は洗浄液の噴射に適した大きさであれば任意に設定可能であり、例えば、複数の噴射孔６２、６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅから噴射される洗浄液の流量又は圧力が均一となる大きさに設定される。具体的には、パイプ６１、円環部６３、小径円環部６５、直線部６６、第１直線部６６Ａ、第２直線部６６Ｂ、突出部６７、及び、直線部６８の断面形状を円形形状とした場合に、パイプ６１、円環部６３、小径円環部６５、直線部６６、第１直線部６６Ａ、第２直線部６６Ｂ、突出部６７、及び、直線部６８の流路断面積を噴射孔６２、６２Ａ、６２Ｂ、６２Ｃ、６２Ｄ、６２Ｅの断面積の１０倍以上に設定される。

本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。
例えば、パイプ６１は、円環部６３と直線部６８とを含むものでもよく、例えば、軸線Ｍ方向に位置をずらして設置してもよい。この場合において、円環部６３を入口２１に設置し、直線部６８を円環部と入口２１との間に設置することが好ましい。

１ 遠心圧縮機
２ メインケーシング
２１，２２ 入口
２３，２４ 出口
２５，２６ ディフューザ（静止流路）
２７Ａ，２７Ｂ ジャーナルベアリング
２８Ａ，２８Ｂ スラストベアリング
３，３１〜３６ インペラ
３７ 回転軸
６ 洗浄液噴射装置
７ 洗浄液供給装置
４１，４２ 吸込ケーシング
４１Ａ，４２Ａ 吸込口
５１，５２ 吐出ケーシング
５１Ａ，５２Ａ 吐出口
６１ パイプ
６２，６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃ，６２Ｄ，６２Ｅ，６２Ｆ 噴射孔
６３ 円環部
６４ 供給部
６５ 小径円環部
６６ 直線部
６６Ａ 第１直線部
６６Ｂ 第２直線部
６７ 突出部
６８ 直線部
Ｒ 流路
Ｍ 軸線
Ｎ 軸線

Claims (11)

1. 入口及び出口を有するメインケーシングと、
   前記メインケーシングの内部に回転可能に配置された少なくとも一つのインペラと、
   前記入口に接続され、前記入口から軸線方向に離隔した位置に吸込口を有する吸込ケーシングと、
   前記吸込ケーシングの内部における前記吸込口側に配置可能な洗浄液噴射装置と、
   前記洗浄液噴射装置に洗浄液を供給する洗浄液供給装置と
   を備え、
   前記洗浄液噴射装置は、
   前記吸込ケーシングの内部において、前記軸線方向と交差する面に沿って延在するように配置可能なパイプと、
   前記パイプに設けられた複数の噴射孔と
   を有する
   こと特徴とする遠心圧縮機。
2. 前記パイプは、前記吸込ケーシングの内部の作動位置と前記吸込ケーシングの外部の待避位置との間を往復可能であることを特徴とする請求項１に記載の遠心圧縮機。
3. 前記パイプは、平面視円環状の円環部を含み、
   前記複数の噴射孔は、前記円環部の周方向に分布して前記円環部に設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載の遠心圧縮機。
4. 前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記円環部の内周面に設けられることを特徴とする請求項３に記載の遠心圧縮機。
5. 前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記円環部の上流側に設けられることを特徴とする請求項３に記載の遠心圧縮機。
6. 前記パイプは、前記円環部よりも小径で且つ前記円環部と同心上に配置される平面視円環状の小径円環部を含み、
   前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記小径円環部の周方向に分布して前記小径円環部に設けられることを特徴とする請求項３〜５の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
7. 前記パイプは、前記円環部の円周上の二点を結ぶ少なくとも一つの直線部を含み、
   前記複数の噴射孔のうち少なくとも一部は、前記少なくとも一つの直線部の長手方向に分布して前記直線部に設けられることを特徴とする請求項３〜５の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
8. 前記パイプは、前記円環部から径方向中心に向けて突出する少なくとも一つの突出部を含み、
   前記噴射孔のうち少なくとも一部は、前記突出部に設けられることを特徴とする請求項３〜５の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
9. 前記パイプは、少なくとも一つの直線状の直線部を含み、
   前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の長手方向に分布して前記少なくとも一つの直線部に設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載の遠心圧縮機。
10. 前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の上流側に設けられることを特徴とする請求項９に記載の遠心圧縮機。
11. 前記複数の噴射孔は、前記少なくとも一つの直線部の幅方向にて両方の側に設けられることを特徴とする請求項９又は１０に記載の遠心圧縮機。

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