JP2016058722A - 熱処理方法及び熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
10 載置台
11 処理容器
11a 天板
11b 垂下部
12 熱処理部
13 ガス拡散部
20 支持ピン
21 熱源
30 発光素子ユニット
31 電極
32 支持板
33 発光素子
34 反射層
40 電源
41 処理ガス供給管
42 排気管
43 光透過部材
50 照度モニタ
51 反射光モニタ
150 制御部
151 入力部
152 演算部
153 記憶部
154 出力部
W ウェハ
R 反射率
Q 相関関係
U 第1の照度
Ux 第2の照度
Tc 温度
Claims (8)
- 複数の発光素子を熱源に用いて被処理体を熱処理する熱処理方法であって、
前記発光素子から第1の照度で被処理体に光を照射し、
前記被処理体の反射率を求め、
前記被処理体の反射率と、予め求められた、前記第1の照度における前記被処理体の昇温カーブと前記被処理体の反射率との相関関係に基づいて、前記発光素子からの光の照度を、前記第1の照度から第2の照度に補正することを特徴とする、熱処理方法。 - 前記被処理体の反射率は、前記発光素子から前記第1の照度で光を照射したときに、前記被処理体によって反射された光の照度を測定することにより求められることを特徴とする、請求項1に記載の熱処理方法。
- 前記被処理体によって反射された光の照度の測定は、前記被処理体と前記発光素子との間の空間で行われることを特徴とする、請求項2に記載の熱処理方法。
- 前記発光素子は前記被処理体の裏面に対向する位置に配置され、
前記発光素子からの光の照射は前記被処理体の裏面に対して行われることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の熱処理方法。 - 被処理体に光を照射して熱処理する熱処理装置であって、
前記被処理体を支持する支持部材と、
前記支持部材に支持された被処理体に対向して設けられ、前記被処理体に光を照射する複数の発光素子と、
前記被処理体に対して第1の照度で光を照射するように前記複数の発光素子を制御するように構成された制御部と、を有し、
前記制御部は、前記被処理体の反射率と、予め求められた、前記第1の照度における前記被処理体の昇温カーブと前記被処理体の反射率との関係に基づいて、前記発光素子からの光の照度を、前記第1の照度から第2の照度に補正することを特徴とする、熱処理装置。 - 前記被処理体によって反射された前記発光素子からの光の照度を測定する反射光モニタをさらに有し、
前記制御部は、前記発光素子から前記第1の照度で光を照射したときに、前記反射光モニタで測定された光の照度に基づいて前記被処理体の反射率を求めることを特徴とする、請求項5に記載の熱処理装置。 - 前記反射光モニタは、前記被処理体と前記発光素子との間の空間において、前記被処理体によって反射された前記発光素子からの光の照度を測定するように配置されていることを特徴とする、請求項6に記載の熱処理装置。
- 前記発光素子は前記被処理体の裏面に対向する位置に配置されていることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の熱処理装置。
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