JP2016053021A - Alkoxysilanes, and oligosiloxanes and method for producing the same - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 78
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 119
- -1 2-phenoxyethyl group Chemical group 0.000 claims description 85
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 125000001844 prenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 45
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 abstract description 38
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 abstract description 34
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 abstract description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 20
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 abstract description 9
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 28
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 27
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 26
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 23
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 17
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 16
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 16
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 15
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 13
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 13
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 12
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000007960 acetonitrile Chemical class 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 10
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 7
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 7
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 6
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FOWVKADRSCHDHU-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-methoxyethyl silicate Chemical compound COCCO[Si](OCC)(OCC)OCC FOWVKADRSCHDHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000557 Nafion® Polymers 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LAMUXTNQCICZQX-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropan-1-ol Chemical compound OCCCCl LAMUXTNQCICZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 101150083678 IL2 gene Proteins 0.000 description 4
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 4
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- BFHQRFGIJIMMQL-UHFFFAOYSA-N bis(3-chloropropyl) diethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OCC BFHQRFGIJIMMQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SKISWZUCSPFIGR-UHFFFAOYSA-N bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl] dimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCOCCOC)(OCCOCCOC)OC SKISWZUCSPFIGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AJBUULSSSLAURP-UHFFFAOYSA-N diethyl bis(2-methoxyethyl) silicate Chemical compound COCCO[Si](OCC)(OCC)OCCOC AJBUULSSSLAURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BIRPGLPNLZYDSJ-UHFFFAOYSA-N dimethyl bis(oxolan-2-ylmethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OC)(OCC1CCCO1)OCC2CCCO2 BIRPGLPNLZYDSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- ASUAYTHWZCLXAN-UHFFFAOYSA-N prenol Chemical compound CC(C)=CCO ASUAYTHWZCLXAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- BWKDYMLIYYCNHM-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-phenoxyethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCCOC1=CC=CC=C1 BWKDYMLIYYCNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AOMQWMRKWCLRFZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl oxolan-2-ylmethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCC1OCCC1)(OC)OC AOMQWMRKWCLRFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUXQNRSLZMMNBJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl trimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCOCCOC)(OC)OC SUXQNRSLZMMNBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEJHQAZGYDJZHI-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound COCCO[SiH](C)C1=CC=CC=C1 UEJHQAZGYDJZHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- MEJSEHYVCKHXCX-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](OCCS)(OCCS)OCC Chemical compound C(C)O[Si](OCCS)(OCCS)OCC MEJSEHYVCKHXCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- ZOXWLSHXANAQBV-UHFFFAOYSA-N bis(3-chloropropyl) dimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OC ZOXWLSHXANAQBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTVDBKLAKYIKAD-UHFFFAOYSA-N butoxy-methoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](OCCCC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZTVDBKLAKYIKAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GGQKXISBXKGFFZ-UHFFFAOYSA-N diethoxy-(2-methoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound COCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 GGQKXISBXKGFFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RECJVUVMDRZCPY-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxysilane Chemical group C(C)OC(O[SiH3])OCC RECJVUVMDRZCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLNNZTZHODDWQG-UHFFFAOYSA-N dimethyl bis(2-phenoxyethyl) silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCCO[Si](OC)(OC)OCCOC1=CC=CC=C1 JLNNZTZHODDWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- DNOQAFSUOWBVDG-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-(3-methylbut-2-enoxy)-phenylsilane Chemical compound C[Si](OCC=C(C)C)(OC)C1=CC=CC=C1 DNOQAFSUOWBVDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCYULBSZCJMWTR-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-phenylsilane Chemical compound C[Si](OC(C)(C)C)(OC)C1=CC=CC=C1 HCYULBSZCJMWTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBYDDQSCDLOHNF-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-octoxy-phenylsilane Chemical compound C[Si](OCCCCCCCC)(OC)C1=CC=CC=C1 OBYDDQSCDLOHNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVECOWOGXKZUEX-UHFFFAOYSA-N methyl tris(2-phenoxyethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCOC1=CC=CC=C1)(OCCOC1=CC=CC=C1)OCCOC1=CC=CC=C1 VVECOWOGXKZUEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRLBICHXRCOJDU-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silane Chemical compound C[SiH2]C1=CC=CC=C1 QRLBICHXRCOJDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical group CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZZFFRVPXSULDJ-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-sulfanylethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCCS RZZFFRVPXSULDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYAJINRPVSTQNT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxy-methyl-phenylsilyl)oxy-N,N-dimethylethanamine Chemical compound C[Si](OCCN(C)C)(OC)C1=CC=CC=C1 SYAJINRPVSTQNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXMOOUVVULRKOQ-UHFFFAOYSA-N 2-[diethoxy(phenyl)silyl]oxyethanethiol Chemical compound SCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 WXMOOUVVULRKOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJHBTWBZRFNBEV-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethoxy(phenyl)silyl]oxyethanethiol Chemical compound SCCO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 QJHBTWBZRFNBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEKHORDEGRZZHH-UHFFFAOYSA-N 2-[ethenyl-methoxy-(2-sulfanylethoxy)silyl]oxyethanethiol Chemical compound CO[Si](C=C)(OCCS)OCCS PEKHORDEGRZZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUSGEFBMZCBQPK-UHFFFAOYSA-N 2-[ethoxy-phenyl-(2-sulfanylethoxy)silyl]oxyethanethiol Chemical compound C(C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCS)OCCS IUSGEFBMZCBQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAQWHZMQNPJOPX-UHFFFAOYSA-N 2-[methoxy(dimethyl)silyl]oxyethanethiol Chemical compound CO[Si](C)(C)OCCS QAQWHZMQNPJOPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004777 2-fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- PDSHPFREJVIDNV-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl trimethyl silicate Chemical compound COCCO[Si](OC)(OC)OC PDSHPFREJVIDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VDNKCQQBFIQPRM-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropoxy-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCCBr)OC VDNKCQQBFIQPRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXUANSXFPRCFEU-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropoxy-methoxy-diphenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)OCCCBr TXUANSXFPRCFEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRJCIDFLIOLTNH-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropoxy-methoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCCBr IRJCIDFLIOLTNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIYOCIPXHPTXNX-UHFFFAOYSA-N 3-bromopropyl trimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCBr)(OC)OC UIYOCIPXHPTXNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGPGLKYXSSCSG-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropoxy-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound ClCCCO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 JLGPGLKYXSSCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWCAGLRDQREAR-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropoxy-ethenyl-diethoxysilane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCCCl)OCC MEWCAGLRDQREAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIZAUISNMXTYEV-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropoxy-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)OCCCCl KIZAUISNMXTYEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNMDACNLGPUBZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropoxy-methoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCCCl MNNMDACNLGPUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQACJXMBWJNUTL-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl triethyl silicate Chemical compound ClCCCO[Si](OCC)(OCC)OCC DQACJXMBWJNUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPCXPILSHOGSN-UHFFFAOYSA-N 6-bromohexyl triethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCBr)(OCC)OCC AAPCXPILSHOGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFGOOOPEBJSIPJ-UHFFFAOYSA-N 6-bromohexyl trimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCCCCBr)(OC)OC BFGOOOPEBJSIPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWIPBEVIYGNIFR-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl triethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCCl)(OCC)OCC DWIPBEVIYGNIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYDIGSWQWXZZSE-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexyl trimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OCCCCCCCl UYDIGSWQWXZZSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000269350 Anura Species 0.000 description 1
- AHLIWFKZUQCDDB-UHFFFAOYSA-N BrCCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound BrCCCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 AHLIWFKZUQCDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- WHWZMECPFUBUCA-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](OCCS)(OCCS)OCCS Chemical compound C(C)O[Si](OCCS)(OCCS)OCCS WHWZMECPFUBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIUDCPMOTRJTAU-UHFFFAOYSA-N COCCO[Si](OCC)(OCC)C=C Chemical compound COCCO[Si](OCC)(OCC)C=C QIUDCPMOTRJTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLQJLMSYXNVNJA-UHFFFAOYSA-N CO[SiH2]OC(C)CC Chemical compound CO[SiH2]OC(C)CC HLQJLMSYXNVNJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZFCQQSZXSENP-UHFFFAOYSA-N CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCSC Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCSC SJZFCQQSZXSENP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAHHDYHMTUVRED-UHFFFAOYSA-N CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)OCCSC Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)OCCSC OAHHDYHMTUVRED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBTINKMYWBFS-UHFFFAOYSA-N CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCS)OCCS Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCS)OCCS VCCBTINKMYWBFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGKBVCJDZXDSQV-UHFFFAOYSA-N CO[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OC.CO[Si](OCCCCl)(OC)OC Chemical compound CO[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OC.CO[Si](OCCCCl)(OC)OC MGKBVCJDZXDSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAAUXCZUNQBHLK-UHFFFAOYSA-N CO[Si](OCCSC)(OC)OC Chemical compound CO[Si](OCCSC)(OC)OC BAAUXCZUNQBHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJBCHKBXYPAUHI-UHFFFAOYSA-N CO[Si](OCCSC1=CC=CC=C1)(OCCSC1=CC=CC=C1)OCCSC1=CC=CC=C1 Chemical compound CO[Si](OCCSC1=CC=CC=C1)(OCCSC1=CC=CC=C1)OCCSC1=CC=CC=C1 RJBCHKBXYPAUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 239000004113 Sepiolite Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- SCFCURUEQMUTTP-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethoxy)-methyl-phenylsilane Chemical compound COCCO[Si](C)(OCCOC)C1=CC=CC=C1 SCFCURUEQMUTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISLMBAHTDPOEPV-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) dimethyl silicate Chemical compound COCCO[Si](OC)(OC)OCCOC ISLMBAHTDPOEPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFRCUZGZFKPHZ-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropoxy)-ethenyl-ethoxysilane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCCBr)OCCCBr AFFRCUZGZFKPHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDJJWXLNHWSXLQ-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropoxy)-ethoxy-phenylsilane Chemical compound C(C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCCBr)OCCCBr MDJJWXLNHWSXLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJRPKZILPSVAR-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropoxy)-methoxy-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCCBr)OCCCBr XGJRPKZILPSVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHAKYTLCPZLPAY-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropyl) diethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCBr)(OCCCBr)OCC SHAKYTLCPZLPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIJLEBGSHSXLNP-UHFFFAOYSA-N bis(3-bromopropyl) dimethyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCBr)(OCCCBr)OC GIJLEBGSHSXLNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUYGBMZXWMEFLG-UHFFFAOYSA-N bis(3-chloropropoxy)-ethenyl-ethoxysilane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCCCl)OCCCCl WUYGBMZXWMEFLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZICARTPZJLSBPZ-UHFFFAOYSA-N bis(3-chloropropoxy)-methoxy-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCCCl)OCCCCl ZICARTPZJLSBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWYNCJFXYGABDV-UHFFFAOYSA-N bis(6-bromohexyl) diethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCBr)(OCCCCCCBr)OCC HWYNCJFXYGABDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEUBZXRSXFSPBQ-UHFFFAOYSA-N bis(6-chlorohexyl) diethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCCl)(OCCCCCCCl)OCC JEUBZXRSXFSPBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- SBDWRTVMEGCOTG-UHFFFAOYSA-N butan-2-yloxy-methoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](OC(C)CC)(OC)C1=CC=CC=C1 SBDWRTVMEGCOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- BPXBKMQIUWHGLF-UHFFFAOYSA-N diethyl bis(2-phenoxyethyl) silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCCO[Si](OCC)(OCC)OCCOC1=CC=CC=C1 BPXBKMQIUWHGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYFCVDVGNFIMFK-UHFFFAOYSA-N diethyl bis(oxolan-2-ylmethyl) silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCC1OCCC1)(OCC1OCCC1)OCC IYFCVDVGNFIMFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRMASVAJKCVQL-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-(2-methoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound COCCO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ANRMASVAJKCVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHXKWSGGGSFQMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-(2-methylsulfanylethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCSC)OC ZHXKWSGGGSFQMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBSWHGDRFXWDPX-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-(2-phenoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCOC1=CC=CC=C1)OC QBSWHGDRFXWDPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJALFIIQYWDKRP-UHFFFAOYSA-N dimethyl bis(2-methylsulfanylethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCSC)(OCCSC)OC WJALFIIQYWDKRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCMKEOKQFCKFSB-UHFFFAOYSA-N dimethyl bis(2-phenylsulfanylethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCSC1=CC=CC=C1)(OCCSC1=CC=CC=C1)OC XCMKEOKQFCKFSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIERQAYEEMACHJ-UHFFFAOYSA-N dimethyl bis(2-sulfanylethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCS)(OCCS)OC VIERQAYEEMACHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHYOSGKEYDFAD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(propoxy)silane Chemical compound CCCO[SiH2]C=C XRHYOSGKEYDFAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXFWYRUYUVICBE-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-(2-methylsulfanylethoxy)silane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCSC)OCC OXFWYRUYUVICBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNIWMXGXTWXTEU-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-(2-phenoxyethoxy)silane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCOC1=CC=CC=C1)OCC GNIWMXGXTWXTEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPGZGBVCRKFBPS-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-(2-phenylsulfanylethoxy)silane Chemical compound CO[Si](C=C)(OCCSC1=CC=CC=C1)OC GPGZGBVCRKFBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMOYXIYKGGJFLN-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-bis(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound C(=C)[Si](OCC)(OCCOC)OCCOC UMOYXIYKGGJFLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHRAMKDUARYSV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-bis(2-methylsulfanylethoxy)silane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCSC)OCCSC LDHRAMKDUARYSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGWOCLDQRDLOMY-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-bis(2-phenoxyethoxy)silane Chemical compound C(C)O[Si](C=C)(OCCOC1=CC=CC=C1)OCCOC1=CC=CC=C1 SGWOCLDQRDLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- VCGSPSNNOLMYJO-UHFFFAOYSA-N ethoxy-bis(2-methoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound C(C)O[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCOC)OCCOC VCGSPSNNOLMYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APKIMBMPRDSPGD-UHFFFAOYSA-N ethyl tris(2-methoxyethyl) silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCOC)(OCCOC)OCCOC APKIMBMPRDSPGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNTIACPUHHOQER-UHFFFAOYSA-N ethyl tris(2-phenoxyethyl) silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCOC1=CC=CC=C1)(OCCOC1=CC=CC=C1)OCCOC1=CC=CC=C1 FNTIACPUHHOQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJYNYUBHHKCSCU-UHFFFAOYSA-N ethyl tris(oxolan-2-ylmethyl) silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCC1OCCC1)(OCC1OCCC1)OCC1OCCC1 KJYNYUBHHKCSCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQCEPNASKVAJF-UHFFFAOYSA-N ethyl tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl] silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCOCCOC)(OCCOCCOC)OCCOCCOC YJQCEPNASKVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011964 heteropoly acid Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- OMZWKUVFQXZQDO-UHFFFAOYSA-N methoxy-(2-methoxyethoxy)-dimethylsilane Chemical compound COCCO[Si](C)(C)OC OMZWKUVFQXZQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDRWEOZFDFRNSY-UHFFFAOYSA-N methoxy-(2-methoxyethoxy)-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCOC BDRWEOZFDFRNSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJGHNEDPUVYSMC-UHFFFAOYSA-N methoxy-bis(2-methoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCOC)OCCOC UJGHNEDPUVYSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFAMCMBLKYYZLZ-UHFFFAOYSA-N methoxy-bis(2-methylsulfanylethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCSC)OCCSC PFAMCMBLKYYZLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZCJHVFAOYYXIW-UHFFFAOYSA-N methoxy-bis(2-phenoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(OCCOC1=CC=CC=C1)OCCOC1=CC=CC=C1 SZCJHVFAOYYXIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCCIBDWUWIWKMZ-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-(2-phenoxyethoxy)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OCCOC1=CC=CC=C1 GCCIBDWUWIWKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDNPVRABALPZCZ-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-(2-phenylsulfanylethoxy)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OCCSC1=CC=CC=C1 VDNPVRABALPZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYOGQKPIEUUPLP-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-(2-methylbutan-2-yloxy)-phenylsilane Chemical compound C[Si](OC(C)(C)CC)(OC)C1=CC=CC=C1 MYOGQKPIEUUPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBKHZXCQGSULOD-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-(2-methylbutoxy)-phenylsilane Chemical compound C[Si](OCC(CC)C)(OC)C1=CC=CC=C1 FBKHZXCQGSULOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMKMYUGEMPWAST-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-(2-phenoxyethoxy)-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCOC1=CC=CC=C1 OMKMYUGEMPWAST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBAXNXUQNPQNNR-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-phenyl-(2-phenylsulfanylethoxy)silane Chemical compound CO[Si](C1=CC=CC=C1)(C)OCCSC1=CC=CC=C1 GBAXNXUQNPQNNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXCPHZRZVBLJTB-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-phenyl-phenylmethoxysilane Chemical compound C[Si](OCC1=CC=CC=C1)(OC)C1=CC=CC=C1 RXCPHZRZVBLJTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEKLNVCMXVHBH-UHFFFAOYSA-N methoxy-methyl-phenyl-prop-2-ynoxysilane Chemical compound C[Si](OCC#C)(OC)C1=CC=CC=C1 MYEKLNVCMXVHBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJHOMYMSOQSPIB-UHFFFAOYSA-N methyl tris(2-methylsulfanylethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCSC)(OCCSC)OCCSC JJHOMYMSOQSPIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDCRAHPKLITPEI-UHFFFAOYSA-N methyl tris(2-sulfanylethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCCS)(OCCS)OCCS RDCRAHPKLITPEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZIDDSJUYGXOQZ-UHFFFAOYSA-N methyl tris(oxolan-2-ylmethyl) silicate Chemical compound CO[Si](OCC1OCCC1)(OCC1OCCC1)OCC1OCCC1 YZIDDSJUYGXOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000019355 sepiolite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052624 sepiolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCUNYLLBVWCBSJ-UHFFFAOYSA-N triethyl 2-(2-methoxyethoxy)ethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCOCCOC)(OCC)OCC XCUNYLLBVWCBSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOOCGMKNZUAOM-UHFFFAOYSA-N triethyl oxolan-2-ylmethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCC1OCCC1)(OCC)OCC UTOOCGMKNZUAOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPABSYFZZWGWCH-UHFFFAOYSA-N trimethyl 2-phenoxyethyl silicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OCCOC1=CC=CC=C1 XPABSYFZZWGWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIDHKLKXRKUDBE-UHFFFAOYSA-N trimethyl 2-sulfanylethyl silicate Chemical compound SCCO[Si](OC)(OC)OC MIDHKLKXRKUDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDOKHGODTLMMNC-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyethyl) methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCOC)(OCCOC)OCCOC FDOKHGODTLMMNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GARLGPAQBVYMPD-UHFFFAOYSA-N tris(3-bromopropyl) ethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCBr)(OCCCBr)OCCCBr GARLGPAQBVYMPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWFVXTRXGUUAEV-UHFFFAOYSA-N tris(3-bromopropyl) methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCBr)(OCCCBr)OCCCBr ZWFVXTRXGUUAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INHWMSDTYUFNBG-UHFFFAOYSA-N tris(3-chloropropyl) ethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OCCCCl INHWMSDTYUFNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSYRKGFBTQRZMD-UHFFFAOYSA-N tris(3-chloropropyl) methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCCl)(OCCCCl)OCCCCl VSYRKGFBTQRZMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRDPSFAYZGJDNB-UHFFFAOYSA-N tris(6-bromohexyl) ethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCBr)(OCCCCCCBr)OCCCCCCBr CRDPSFAYZGJDNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLMFBROSIMVKGM-UHFFFAOYSA-N tris(6-bromohexyl) methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCCCCBr)(OCCCCCCBr)OCCCCCCBr LLMFBROSIMVKGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSNAMNXNOLPRV-UHFFFAOYSA-N tris(6-chlorohexyl) ethyl silicate Chemical compound C(C)O[Si](OCCCCCCCl)(OCCCCCCCl)OCCCCCCCl SYSNAMNXNOLPRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSPFZHYIJSWUHC-UHFFFAOYSA-N tris(6-chlorohexyl) methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCCCCCCl)(OCCCCCCCl)OCCCCCCCl FSPFZHYIJSWUHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJKWAXXGMOCSKA-UHFFFAOYSA-N tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl] methyl silicate Chemical compound CO[Si](OCCOCCOC)(OCCOCCOC)OCCOCCOC CJKWAXXGMOCSKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、アルコキシシラン類、それを水と反応させて得られるオリゴシロキサン類とその製造方法に関する。 The present invention relates to alkoxysilanes, oligosiloxanes obtained by reacting them with water, and methods for producing the same.
アルコキシシラン類は、たとえば、トリアルコキシシラン類が無機材料の表面修飾を行うためのシランカップリング剤等として利用されている他、テトラアルコキシシラン類がゾル・ゲル法によるシリカ、ゼオライト、セラミックや有機・無機ハイブリッド材料の原料として広範に利用されている。また、有機基や水素原子で置換されたシラン類は、医・農薬、電子材料等の精密合成用試薬、合成中間体として利用される機能性化学品である。
トリまたはテトラアルコキシシラン類などのアルコキシ基としてはエトキシ基またはメトキシ基がよく使用されているが、プロポキシ基、ブトキシ基などその他のアルコキシ基を持つアルコキシシラン類も知られている。しかしながら、それらは通常、同一のアルコキシ基を複数個有するもので、市販されている化合物も同一のアルコキシ基を複数個有する特定のものに限定されていた。
一方、複数のエトキシ基またはメトキシ基を有するアルコキシシラン類の反応性制御あるいは機能性付与のために、エトキシ基またはメトキシ基の一部を他のアルコキシ基で置換することが考えられる。そのようなアルコキシシラン類(以下、一部置換型アルコキシシラン類と称する)は、分子内にメトキシ基またはエトキシ基をまだ有しているため、それらの反応性を残したまま、新しく導入されたアルコキシ基により、融点、沸点、粘度、屈折率等の物理的物性や、親水性・疎水性、他の有機分子との会合性、金属原子や金属イオンに対する配位性、反応性等の化学的物性を制御することや付与することなどを期待できる。
Alkoxysilanes include, for example, trialkoxysilanes that are used as silane coupling agents for surface modification of inorganic materials, and tetraalkoxysilanes that are silica, zeolite, ceramics and organic by sol-gel method. -Widely used as a raw material for inorganic hybrid materials. Silanes substituted with organic groups or hydrogen atoms are functional chemicals used as reagents for precision synthesis and synthetic intermediates such as medicine / agrochemicals and electronic materials.
As an alkoxy group such as tri- or tetraalkoxysilane, an ethoxy group or a methoxy group is often used, but alkoxysilanes having other alkoxy groups such as a propoxy group and a butoxy group are also known. However, they usually have a plurality of the same alkoxy groups, and the commercially available compounds are limited to specific ones having a plurality of the same alkoxy groups.
On the other hand, in order to control the reactivity of alkoxysilanes having a plurality of ethoxy groups or methoxy groups or to provide functionality, it is conceivable to substitute a part of ethoxy groups or methoxy groups with other alkoxy groups. Such alkoxysilanes (hereinafter referred to as “partially substituted alkoxysilanes”) are newly introduced while retaining their reactivity because they still have methoxy or ethoxy groups in the molecule. Depending on the alkoxy group, chemical properties such as physical properties such as melting point, boiling point, viscosity, refractive index, hydrophilicity / hydrophobicity, association with other organic molecules, coordination to metal atoms and metal ions, reactivity, etc. It can be expected to control or impart physical properties.
しかしながら、一部置換型アルコキシシラン類の種類はまだ多くなく、テトラエトキシまたはテトラメトキシシランなどに対して、エトキシ基またはメトキシ基の一部を、比較的短鎖の有機基である、ブトキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブトキシ基、2−(メタクリロキシ)エトキシ基、2−(メタクリロキシ)プロポキシ基、グリドキシ基や、オクトキシ基、デカノキシ基など特定のアルコキシ基で置換した構造の一部置換型アルコキシシランが報告されている程度であった(非特許文献1、特許文献1〜4)。一方、有機基として、オキシアルキル基あるいはチオアルキル基を含むものは、酸素原子あるいは硫黄原子を含むことから、それら原子の特性に基づいて、分子の極性、溶媒溶解性や、他の分子、金属イオン等に対する会合性、配位性等を制御できると考えられる。また、ハロゲノアルキル基を含むものは、ハロゲン原子の性質や反応性に基づいて、他の分子との相互作用や他の官能基への変換等を期待できる。しかしながら、オキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルコキシ基を有する一部置換型アルコキシシラン類はほとんど知られていなかった。
また、テトラエトキシまたはテトラメトキシシランに比べ、ジエトキシまたはジメトキシシランやトリエトキシまたはトリメトキシシランに対しては、一部置換型アルコキシシラン類の種類はさらに少ないという問題点があった。とくに、二つの異なる有機基を有する、ジエトキシまたはジメトキシシランのエトキシ基またはメトキシ基の一つを他のアルコキシ基に変換したものは、四つの異なる置換基を有するもので、四つの置換基による物性や反応性の制御ができる、ケイ素原子が不斉中心になるため光・電子材料や医・農薬の設計に有利である、等の利点があるにも関わらず製造例がほとんどなかった。これらのことから、有機基として、オキシアルキル基、チオアルキル基、ハロゲノアルキル基等の機能性基を有する一部置換型アルコキシシラン類や、ケイ素原子に結合する四つの置換基がすべて異なる一部置換型アルコキシシラン類について、構造や純度等が確かな化合物を提
供するとともに、それらの効果的な利用法を提供することが求められていた。
一方、メトキシ基またはエトキシ基とそれら以外のアルコキシ基を有するオリゴシロキサン類は、メトキシ基またはエトキシ基に基づく反応性とそれら以外のアルコキシ基に基づく機能性をあわせもつ化合物であり、樹脂材料、ゾル・ゲル材料や有機無機ハイブリッド材料用の原料、表面修飾・処理剤等としての利用が期待されている。たとえば、メトキシ基とブトキシ基等のアルコキシ基を有するポリシロキサン類については、それらの製造法や硬化性樹脂としての応用が知られていた(特許文献5)。一方、オキシアルキル基、チオアルキル基、ハロゲノアルキル基のような置換基は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子を有することから、それらの原子の性質に基づいて、前記に示したような機能性を期待できるが、メトキシ基またはエトキシ基と、他のアルコキシ基中の有機基として、オキシアルキル基、チオアルキル基、ハロゲノアルキル基等の機能性基を有するオリゴシロキサン類やそれらを製造する方法については知られていなかった。
However, there are not many kinds of partially substituted alkoxysilanes yet, and a part of ethoxy group or methoxy group is substituted with a relatively short-chain organic group, such as tetraethoxy or tetramethoxysilane, butoxy group, Partially substituted alkoxysilane having a structure substituted with a specific alkoxy group such as isobutyloxy group, sec-butoxy group, 2- (methacryloxy) ethoxy group, 2- (methacryloxy) propoxy group, glydoxy group, octoxy group, decanoxy group Has been reported (Non-patent Document 1, Patent Documents 1 to 4). On the other hand, an organic group containing an oxyalkyl group or thioalkyl group contains an oxygen atom or a sulfur atom, and therefore, based on the characteristics of these atoms, the polarity of the molecule, solvent solubility, other molecules, metal ions It is considered that the associativeness, coordination, etc. can be controlled. In addition, those containing a halogenoalkyl group can be expected to interact with other molecules or convert to other functional groups based on the properties and reactivity of the halogen atom. However, few partially substituted alkoxysilanes having an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or a halogenoalkoxy group have been known.
Further, compared to tetraethoxy or tetramethoxysilane, there is a problem that there are fewer types of partially substituted alkoxysilanes for diethoxy or dimethoxysilane or triethoxy or trimethoxysilane. In particular, one obtained by converting one of the ethoxy groups or methoxy groups of diethoxy or dimethoxysilane having two different organic groups into another alkoxy group has four different substituents. In spite of advantages such as the ability to control the reactivity and the asymmetric center of the silicon atom, which is advantageous for the design of optical / electronic materials and medicine / agrochemicals, there were few production examples. From these facts, as organic groups, partially substituted alkoxysilanes having functional groups such as oxyalkyl groups, thioalkyl groups, halogenoalkyl groups, and partially substituted groups in which all four substituents bonded to silicon atoms are different. As for the type alkoxysilanes, it has been demanded to provide compounds having a certain structure, purity, and the like, and to provide effective use thereof.
On the other hand, oligosiloxanes having a methoxy group or an ethoxy group and other alkoxy groups are compounds having both reactivity based on methoxy groups or ethoxy groups and functionality based on other alkoxy groups.・ It is expected to be used as a raw material for gel materials and organic-inorganic hybrid materials, and as a surface modification / treatment agent. For example, polysiloxanes having an alkoxy group such as a methoxy group and a butoxy group have been known for their production methods and application as curable resins (Patent Document 5). On the other hand, substituents such as oxyalkyl groups, thioalkyl groups, and halogenoalkyl groups have an oxygen atom, a sulfur atom, and a halogen atom, respectively. Oligosiloxanes having functional groups such as oxyalkyl groups, thioalkyl groups and halogenoalkyl groups as organic groups in methoxy groups or ethoxy groups and other alkoxy groups, and methods for producing them Was not known.
本発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであって、有機基として、オキシアルキル基、チオアルキル基、ハロゲノアルキル基から選ばれる有機基等を有する一部置換型アルコキシシラン類およびそれから得られるオリゴシロキサン類を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and partially substituted alkoxysilanes having an organic group or the like selected from an oxyalkyl group, a thioalkyl group, and a halogenoalkyl group as an organic group, and the like. The object is to provide the resulting oligosiloxanes.
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、(1)メトキシ基またはエトキシ基含有シラン類と、オキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルキル基から選ばれる有機基等を有するアルコールの反応が、規則的細孔構造等を有する無機系固体酸触媒存在下でスムーズに進行し、対応する一部置換型アルコキシシラン類が効率よく得られること、(2)得られた一部置換型アルコキシシラン類が加水分解による縮重合により、エトキシ基またはメトキシ基と、オキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルキル基から選ばれる有機基等を有するオリゴシロキサン類を与えることなどを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は、次のような特徴を有する。
(1)原料のアルコール等が入手容易であるため、目的とする一部置換型アルコキシシラン類を低コストで提供できる。
(2)一部置換型アルコキシシラン類を製造する反応の触媒が入手し易く、取り扱いが容易で安全性も高い。また、触媒が固体で反応が不均一系のため、触媒の分離・回収等も容易である。
(3)一部置換型アルコキシシラン類の加水分解による縮重合は、従来法と同様の条件で容易に進行し、エトキシ基またはメトキシ基と、オキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルキル基から選ばれる有機基等を有するオリゴシロキサン類を効率よく提
供できる。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have (1) an organic group selected from a methoxy group or ethoxy group-containing silane, an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or a halogenoalkyl group. The reaction of the alcohol having proceeds smoothly in the presence of an inorganic solid acid catalyst having a regular pore structure, etc., and corresponding partially substituted alkoxysilanes can be obtained efficiently; (2) It has been found that partially substituted alkoxysilanes give oligosiloxanes having an ethoxy group or a methoxy group and an organic group selected from an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or a halogenoalkyl group by condensation polymerization by hydrolysis, The present invention has been completed.
The present invention has the following features.
(1) Since the starting alcohol is easily available, the desired partially substituted alkoxysilanes can be provided at low cost.
(2) A catalyst for a reaction for producing a partially substituted alkoxysilane is easily available, easy to handle, and high in safety. In addition, since the catalyst is solid and the reaction is heterogeneous, it is easy to separate and recover the catalyst.
(3) Condensation polymerization by hydrolysis of partially substituted alkoxysilanes proceeds easily under the same conditions as in the conventional method, and is selected from ethoxy groups or methoxy groups, oxyalkyl groups, thioalkyl groups, or halogenoalkyl groups. It is possible to efficiently provide oligosiloxanes having organic groups and the like.
すなわち、この出願は以下の発明を提供するものである。
〈1〉下記一般式(I)で表されるアルコキシシラン類。
R1 pR2 qSi(OR3)r(OR4)s (I)
(式(I)中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、r、sは1以上の整数、p+q+r+s=4である。R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R3はそれぞれ独立にエチル基またはメチル基、R4はそれぞれ独立に炭素数2〜10の有機基である。
さらに、前記R1およびR2の有機基は、炭素数4〜10のアリール基、炭素数1〜10のアルキル基、または炭素数2〜10のアルケニル基である。
加えて、p、q、r、およびsがいずれも1である場合以外は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、または炭素数2〜10のハロゲノアルキル基である。
また、p、q、r、およびsがいずれも1である場合は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。)
〈2〉前記R1およびR2の有機基において、炭素数4〜10のアリール基がフェニル基であり、炭素数1〜10のアルキル基がメチル基であり、炭素数2〜10のアルケニル基がビニル基であり、炭素数3〜10のオキシアルキル基が、2−メトキシエチル基、2−フェノキシエチル基、(2−テトラヒドロフリル)メチル基、または2−(2−メトキシエトキシ)エチル基であり、前記R4の有機基において、炭素数2〜10のチオアルキル基が、2−メルカプトエチル基、2−(メチルチオ)エチル基、または2−(フェニルチオ)エチル基であり、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基が3−クロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、6−クロロヘキシル基、または6−ブロモヘキシル基であり、炭素数3〜10のアルキル基が、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、2−メチルブチル基、tert−アミル基、またはオクチル基であり、炭素数3〜10のアルケニル基が3−メチル−2−ブテニル基であり、炭素数3〜10のアルキニル基がプロパルギル基であり、炭素数5〜10のアラルキル基がベンジル基であり、炭素数3〜10のアミノアルキル基が2−(ジメチルアミノ)エチル基である、〈1〉に記載のアルコキシシラン類。
〈3〉〈1〉または〈2〉に記載のアルコキシシラン類を含む組成物。
〈4〉前記アルコキシシラン類の含有量が、50質量%以上である、〈3〉に記載の組成物。
〈5〉シロキサン類製造用または表面処理用である、〈3〉または〈4〉に記載の組成物。
〈6〉〈1〉に記載のアルコキシシラン類と水を反応させる反応工程を含むオリゴシロキサン類の製造方法。
〈7〉前記反応工程が、酸または塩基が共存する工程である、〈5〉に記載のオリゴシロキサン類の製造方法。
〈8〉下記一般式(II)で表される構造を有するオリゴシロキサン類。
R1 pR2 q(R5O)tSi−O−Si(OR5)tR1 pR2 q (II)
(式(II)中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R5はそれぞれ独立にエチル基、メチル基、炭素数2〜10の有機基、またはシリル基であり、R5の少なくとも1つは炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキ
ル基である。tは1以上3以下の整数、p+q+t=3である。)
That is, this application provides the following inventions.
<1> Alkoxysilanes represented by the following general formula (I).
R 1 p R 2 q Si ( OR 3) r (OR 4) s (I)
(In the formula (I), p, q and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, r and s are integers of 1 or more and p + q + r + s = 4. R 1 and R 2 are each independently of 1 to 10 carbon atoms. An organic group or a hydrogen atom, R 3 is each independently an ethyl group or a methyl group, and R 4 is each independently an organic group having 2 to 10 carbon atoms.
Further, the organic group of R 1 and R 2 is an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.
In addition, except that p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or carbon It is a halogenoalkyl group of several 2 to 10.
When p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 10 halogenoalkyl groups, alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkynyl groups having 3 to 10 carbon atoms, aralkyl groups having 5 to 10 carbon atoms, or amino acids having 3 to 10 carbon atoms It is an alkyl group. )
<2> In the organic group of R 1 and R 2 , the aryl group having 4 to 10 carbon atoms is a phenyl group, the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is a methyl group, and the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. Is a vinyl group, and the oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms is a 2-methoxyethyl group, a 2-phenoxyethyl group, a (2-tetrahydrofuryl) methyl group, or a 2- (2-methoxyethoxy) ethyl group. In the organic group represented by R 4 , the thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms is a 2-mercaptoethyl group, a 2- (methylthio) ethyl group, or a 2- (phenylthio) ethyl group, and has 2 to 10 carbon atoms. The halogenoalkyl group is a 3-chloropropyl group, a 3-bromopropyl group, a 6-chlorohexyl group, or a 6-bromohexyl group, and the alkyl group having 3 to 10 carbon atoms is a butyl group a sec-butyl group, a tert-butyl group, a 2-methylbutyl group, a tert-amyl group, or an octyl group, an alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms is a 3-methyl-2-butenyl group, and has 3 to 3 carbon atoms. <1>, wherein the 10 alkynyl group is a propargyl group, the aralkyl group having 5 to 10 carbon atoms is a benzyl group, and the aminoalkyl group having 3 to 10 carbon atoms is a 2- (dimethylamino) ethyl group. Alkoxysilanes.
<3> A composition comprising the alkoxysilane according to <1> or <2>.
<4> The composition according to <3>, wherein the content of the alkoxysilane is 50% by mass or more.
<5> The composition according to <3> or <4>, which is for producing siloxanes or for surface treatment.
<6> A method for producing oligosiloxanes comprising a reaction step of reacting the alkoxysilanes according to <1> with water.
<7> The method for producing an oligosiloxane according to <5>, wherein the reaction step is a step in which an acid or a base coexists.
<8> Oligosiloxanes having a structure represented by the following general formula (II).
R 1 p R 2 q (R 5 O) t Si-O-Si (OR 5) t R 1 p R 2 q (II)
(In the formula (II), p, q and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, R 1 and R 2 are each independently an organic group or hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, R 5 is each independently an ethyl group, A methyl group, an organic group having 2 to 10 carbon atoms, or a silyl group, and at least one of R 5 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a 2 to 10 carbon atom. A halogenoalkyl group, an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 3 to 10 carbon atoms T is an integer of 1 to 3, and p + q + t = 3.)
本発明により、エトキシ基またはメトキシ基と、オキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルキル基を有する一部置換型アルコキシシラン類、それらより得られるオリゴシロキサン類およびその製造方法を提供でき、機能性材料の開発に資することができるという効果を有する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a partially substituted alkoxysilane having an ethoxy group or a methoxy group and an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or a halogenoalkyl group, oligosiloxanes obtained therefrom, and a method for producing the same, and a functional material. Has the effect of contributing to the development of
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の一態様であるアルコキシシラン類は、下記一般式(I)で表されることを特徴とする。
R1 pR2 qSi(OR3)r(OR4)s (I)
一般式(I)中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、r、sは1以上の整数、p+q+r+s=4である。R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R3はそれぞれ独立にエチル基またはメチル基、R4はそれぞれ独立に炭素数2〜10の有機基である。さらに、前記R1およびR2の有機基は、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数4〜10のアリール基、または炭素数2〜10のアルケニル基である。
加えて、p、q、r、およびsがいずれも1である場合以外は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、または炭素数2〜10のハロゲノアルキル基である。
また、p、q、r、およびsがいずれも1である場合は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。
特に一般式(I)で表されるアルコキシシラン類は、親水性・疎水性の制御、無機原子や金属カチオン等との相互作用、他の官能基や機能性基への変換、光・電子材料や医・農薬の中間原料としての応用性等に優れた化合物であり、例えばシロキサン類製造用の原料、表面処理用の原料、ゾル・ゲル法による有機・無機ハイブリッド材料製造用の原料等に利用した場合には、表面の親水性・疎水性を広い範囲で制御できる、さまざまな無機原子や金属カチオン等の捕捉や吸着等が可能になる、他の機能性基等の導入によりさらなる高性能化や多機能化を図ることができる、等の優れた利点を発揮することができる。
また、その製造方法としては、たとえば、複数のエトキシ基またはメトキシ基を有するシラン類をアルコールと反応させ、複数のエトキシ基またはメトキシ基の一部を他のアルコキシ基で置換する方法が考えられる。具体的には、下記一般式(III)で表されるエトキシ基またはメトキシ基を有するシラン類を、下記一般式(IV)で表されるアルコール類と反応させることにより製造できる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The alkoxysilane which is one embodiment of the present invention is represented by the following general formula (I).
R 1 p R 2 q Si ( OR 3) r (OR 4) s (I)
In general formula (I), p, q, and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, r and s are integers of 1 or more, and p + q + r + s = 4. R 1 and R 2 are each independently an organic group or hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, R 3 is each independently an ethyl group or methyl group, and R 4 is each independently an organic group having 2 to 10 carbon atoms. Further, the organic group of R 1 and R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.
In addition, except that p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or carbon It is a halogenoalkyl group of several 2 to 10.
When p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 10 halogenoalkyl groups, alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkynyl groups having 3 to 10 carbon atoms, aralkyl groups having 5 to 10 carbon atoms, or amino acids having 3 to 10 carbon atoms It is an alkyl group.
In particular, alkoxysilanes represented by the general formula (I) are used to control hydrophilicity / hydrophobicity, interaction with inorganic atoms, metal cations, etc., conversion to other functional groups and functional groups, photo / electronic materials It is a compound with excellent applicability as an intermediate material for medicine, agrochemicals, and agricultural chemicals. For example, it is used as a raw material for the production of siloxanes, a raw material for surface treatment, a raw material for the production of organic / inorganic hybrid materials by the sol-gel method, etc. In this case, the hydrophilicity and hydrophobicity of the surface can be controlled over a wide range, and various inorganic atoms and metal cations can be captured and adsorbed. In addition, it is possible to exhibit excellent advantages such as being able to achieve multiple functions.
Moreover, as a manufacturing method thereof, for example, a method of reacting a silane having a plurality of ethoxy groups or methoxy groups with an alcohol and substituting a part of the plurality of ethoxy groups or methoxy groups with another alkoxy group is conceivable. Specifically, it can be produced by reacting a silane having an ethoxy group or a methoxy group represented by the following general formula (III) with an alcohol represented by the following general formula (IV).
R1 pR2 qSi(OR3)4−(p+q) (III)
R4OH (IV)
一般式(III)、(IV)において、pおよびq、R1、R2、R3、およびR4は前記と同じ意味である。
一般式(I)および一般式(III)のR1およびR2における有機基としては、炭素数4〜10のアリール基、炭素数1〜10のアルキル基、または炭素数2〜10のアルケニル
基が挙げられる。
R1またはR2が炭素数4〜10のアリール基の場合、炭化水素環系または複素環系の1価の芳香族有機基を使用できる。炭化水素環系の有機基の場合には、炭素数が好ましくは6〜8であり、それら炭素環系の芳香族有機基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
また、アリール基が複素環系の有機基の場合には、ヘテロ原子は硫黄、酸素原子等であり、炭素数が好ましくは4〜10、より好ましくは4〜8である。それら複素環系の芳香族有機基の具体例としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフリル基等が挙げられる。
R 1 p R 2 q Si (OR 3 ) 4- (p + q) (III)
R 4 OH (IV)
In the general formulas (III) and (IV), p and q, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 have the same meaning as described above.
As the organic group in R 1 and R 2 of the general formula (I) and the general formula (III), an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms Is mentioned.
When R 1 or R 2 is an aryl group having 4 to 10 carbon atoms, a hydrocarbon ring system or a heterocyclic monovalent aromatic organic group can be used. In the case of a hydrocarbon ring organic group, the number of carbon atoms is preferably 6 to 8. Specific examples of these carbocyclic aromatic organic groups include a phenyl group and a naphthyl group.
Moreover, when an aryl group is a heterocyclic organic group, a hetero atom is a sulfur, an oxygen atom, etc., Preferably carbon number is 4-10, More preferably, it is 4-8. Specific examples of these heterocyclic aromatic organic groups include thienyl group, benzothienyl group, furyl group, and benzofuryl group.
一方、R1またはR2が炭素数1〜10のアルキル基の場合、炭素数が好ましくは1〜8、より好ましくは1〜6である。それらのアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等を挙げることができる。 On the other hand, when R 1 or R 2 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6. Specific examples of these alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, sec-butyl, hexyl, cyclohexyl, octyl and decyl groups.
また、R1またはR2が炭素数2〜10のアルケニル基の場合には、炭素数が好ましくは2〜8、より好ましくは2〜6である。それらのアルケニル基の具体例としては、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、5−ヘキセニル基、9−デセニル基等を挙げることができる。 In addition, when R 1 or R 2 is an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6. Specific examples of these alkenyl groups include vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 5-hexenyl group, 9-decenyl group and the like.
したがって、それらのR1、R2の基を有する一般式(III)のシラン類の具体例としては、ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)ジ(メチル)シラン、ジ(エトキシ)ジ(メチル)シラン、トリ(メトキシ)(メチル)シラン、トリ(エトキシ)(メチル)シラン、トリ(メトキシ)(フェニル)シラン、トリ(エトキシ)(フェニル)シラン、トリ(メトキシ)(ビニル)シラン、トリ(エトキシ)(ビニル)シラン、トリ(メトキシ)シラン、トリ(エトキシ)シラン、テトラ(メトキシ)シラン、テトラ(エトキシ)シラン等が挙げられる。 Therefore, specific examples of the silanes of the general formula (III) having the groups R 1 and R 2 include di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane, di (methoxy) di (methyl) silane, di (Ethoxy) di (methyl) silane, tri (methoxy) (methyl) silane, tri (ethoxy) (methyl) silane, tri (methoxy) (phenyl) silane, tri (ethoxy) (phenyl) silane, tri (methoxy) ( Vinyl) silane, tri (ethoxy) (vinyl) silane, tri (methoxy) silane, tri (ethoxy) silane, tetra (methoxy) silane, tetra (ethoxy) silane and the like.
一方、一般式(IV)のアルコールにおいては、R4は炭素数2〜10の有機基である。さらに、pおよびqが1である場合以外は、その有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、または炭素数2〜10のハロゲノアルキル基である。また、pおよびqが1である場合は、その有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。
R4が素数3〜10のオキシアルキル基の場合、炭素数が好ましくは3〜9、より好ましくは3〜8である。したがって、それらの基の具体例としては、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、4−メトキシブチル基、6−メトキシヘキシル基、8−メトキシオクチル基、2−エトキシエチル基、2−フェノキシエチル基、(2−テトラヒドロフリル)メチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エチル基等を挙げることができる。
また、R4が炭素数2〜10のチオアルキル基の場合には、炭素数が好ましくは2〜8、より好ましくは2〜6である。したがって、それらの基の具体例としては、2−メルカプトエチル基、3−メルカプトプロピル基、4−メルカプトブチル基、6−メルカプトヘキシル基、2−(メチルチオ)エチル基、3−(メチルチオ)プロピル基、2−(フェニルチオ)エチル基等を挙げることができる。
さらに、R4が炭素数2〜10のハロゲノアルキル基の場合は、炭素数が好ましくは2〜9、より好ましくは2〜8である。それらの基の具体例としては、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3−ブロモプロピル基、4−クロロブチル基、4−ブロモブチル基、6−クロロヘキシル基、6−ブロモヘキシル基、8−クロロオクチル基、8−ブロモオクチル基等を挙げることができる。
On the other hand, in the alcohol of the general formula (IV), R 4 is an organic group having 2 to 10 carbon atoms. Further, except when p and q are 1, the organic group is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a halogenoalkyl group having 2 to 10 carbon atoms. When p and q are 1, the organic group is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, a halogenoalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. It is a 10 alkyl group, a C3-C10 alkenyl group, a C3-C10 alkynyl group, a C5-C10 aralkyl group, or a C3-C10 aminoalkyl group.
When R 4 is an oxyalkyl group having a prime number of 3 to 10, the carbon number is preferably 3 to 9, and more preferably 3 to 8. Accordingly, specific examples of these groups include 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 6-methoxyhexyl group, 8-methoxyoctyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-phenoxy group. An ethyl group, a (2-tetrahydrofuryl) methyl group, a 2- (2-methoxyethoxy) ethyl group, and the like can be given.
Further, when R 4 is a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6. Therefore, specific examples of these groups include 2-mercaptoethyl group, 3-mercaptopropyl group, 4-mercaptobutyl group, 6-mercaptohexyl group, 2- (methylthio) ethyl group, 3- (methylthio) propyl group. , 2- (phenylthio) ethyl group and the like.
Further, when R 4 is a halogenoalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 2 to 9, more preferably 2 to 8. Specific examples of these groups include 2-fluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3-bromopropyl group, 4-chlorobutyl group, 4-bromobutyl group, 6-chloro. A hexyl group, 6-bromohexyl group, 8-chlorooctyl group, 8-bromooctyl group, etc. can be mentioned.
一方、R4が炭素数3〜10のアルキル基の場合は、炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜8である。それらの基の具体例としては、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、アミル基、tert−アミル基、シクロヘキシル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基等を挙げることができる。
また、R4が炭素数3〜10のアルケニル基の場合は、炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜8である。それらの基の具体例としては、2−プロペニル基、3−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、5−ヘキセニル基、9−デセニル基等を挙げることができる。
さらに、R4が炭素数3〜10のアルキニル基の場合は、炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜8である。それらの基の具体例としては、プロパルギル基、2−ブチン−1−イル基、3−フェニル−2−プロピン−1−イル基等を挙げることができる。
加えて、R4が炭素数5〜10のアラルキル基の場合は、炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜8である。それらの基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、2−フェニルプロピル基等を挙げることができる。
また、R4が炭素数3〜10のアミノアルキル基の場合は、炭素数が好ましくは3〜10、より好ましくは3〜8である。それらの基の具体例としては、2−アミノエチル基、2−(ジメチルアミノ)エチル基、2−(ジエチルアミノ)エチル基、3−アミノプロピル基、2−(ジメチルアミノ)プロピル基、4−(ジメチルアミノ)ブチル基等を挙げることができる。
On the other hand, when R 4 is an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 3 to 10 and more preferably 3 to 8. Specific examples of these groups include propyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, amyl group, tert-amyl group, cyclohexyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, decyl group. Etc.
In addition, when R 4 is an alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 3 to 10 and more preferably 3 to 8. Specific examples of these groups include 2-propenyl group, 3-butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 5-hexenyl group, 9-decenyl group and the like.
Further, when R 4 is an alkynyl group having 3 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 3 to 10 and more preferably 3 to 8. Specific examples of these groups include propargyl group, 2-butyn-1-yl group, and 3-phenyl-2-propyn-1-yl group.
In addition, when R 4 is an aralkyl group having 5 to 10 carbon atoms, the number of carbon atoms is preferably 3 to 10, more preferably 3 to 8. Specific examples of these groups include benzyl group, phenethyl group, 2-phenylpropyl group and the like.
In addition, when R 4 is an aminoalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, the carbon number is preferably 3 to 10 and more preferably 3 to 8. Specific examples of these groups include 2-aminoethyl group, 2- (dimethylamino) ethyl group, 2- (diethylamino) ethyl group, 3-aminopropyl group, 2- (dimethylamino) propyl group, 4- ( And a dimethylamino) butyl group.
原料のシラン類に対するアルコールのモル比は任意に選ぶことができるが、原料シラン類に対する生成シラン類の収率を考慮すれば、通常0.4以上300以下であり、より好ましくは0.5以上200以下であり、さらに好ましくは0.5以上150以下である。 The molar ratio of the alcohol to the raw silanes can be arbitrarily selected, but considering the yield of the generated silanes relative to the raw silanes, it is usually 0.4 or more and 300 or less, more preferably 0.5 or more. It is 200 or less, More preferably, it is 0.5 or more and 150 or less.
上記一般式(III)のシラン類と上記一般式(IV)のアルコールの反応により、一般式(I)
R1 pR2 qSi(OR3)r(OR4)s (I)
で表される一部置換型シラン類を製造できる。
一般式(I)中のp、q、r、s、R3、およびR4それぞれ前記と同じ意味であり、R3およびR4の好ましい具体例としては、上記一般式(III)および(IV)で例示したもの等を挙げることができる。
By reaction of the silanes of the above general formula (III) with the alcohols of the above general formula (IV),
R 1 p R 2 q Si ( OR 3) r (OR 4) s (I)
Can be produced.
In general formula (I), p, q, r, s, R 3 and R 4 have the same meanings as described above, and preferred specific examples of R 3 and R 4 include the above general formulas (III) and (IV ) And the like.
したがって、R4として、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、または炭素数2〜10のハロゲノアルキル基を有する、一般式(I)の一部置換型アルコキシシラン類の好ましい具体例としては、(メトキシ)(2−メトキシエトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(2−フェノキシエトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(2−メルカプトエトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)[2−(メチルチオ)エトキシ] (メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)[2−(フェニルチオ)エトキシ] (メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(3−クロロプロポキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(3−ブロモプロポキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(2−メトキシエトキシ)ジ(メチル)シラン、(メトキシ)(2−フェノキシエトキシ)ジ(メチル)シラン、(メトキシ)(2−メルカプトエトキシ)ジ(メチル)シラン、(メトキシ)[2−(メチルチオ)エトキシ] ジ(フェニル)シラン、(メトキシ)[2−(フェニルチオ)エトキシ] ジ(メチル)シラン、(メトキシ)(3−クロロプロポキシ)ジ(メチル)シラン、(メトキシ)(3−ブロモプロポキシ)ジ(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)(2−メトキシエトキシ)(フェニル)シラン、(メトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)(2−フェノキシエトキシ)(フェニル)シラン、(メトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)(2−メルカプトエトキシ)(フェニル)シラン、(メトキシ
)ジ(2−メルカプトエトキシ)(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)[2−(メチルチオ)エトキシ](フェニル)シラン、(メトキシ)ジ[2−(メチルチオ)エトキシ](フェニル)シラン、ジ(メトキシ)[2−(フェニルチオ)エトキシ](フェニル)シラン、ジ(メトキシ)(3−クロロプロポキシ)(フェニル)シラン、(メトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)(フェニル)シラン、ジ(メトキシ)(3−ブロモプロポキシ)(フェニル)シラン、(メトキシ)ジ(3−ブロモプロポキシ)(フェニル)シラン、ジ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)(フェニル)シラン、(2−メトキシエトキシ)ジ(エトキシ)(フェニル)シラン、(エトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)(フェニル)シラン、ジ(エトキシ)(2−メルカプトエトキシ)(フェニル)シラン、(エトキシ)ジ(2−メルカプトエトキシ)(フェニル)シラン、ジ(エトキシ)(3−ブロモプロポキシ)(フェニル)シラン、(エトキシ)ジ(3−ブロモプロポキシ)(フェニル)シラン、ジ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)(ビニル)シラン、(エトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)(ビニル)シラン、ジ(エトキシ)(2−フェノキシエトキシ)(ビニル)シラン、(エトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)(ビニル)シラン、ジ(メトキシ)(2−メルカプトエトキシ)(ビニル)シラン、(メトキシ)ジ(2−メルカプトエトキシ)(ビニル)シラン、ジ(エトキシ)[2−(メチルチオ)エトキシ](ビニル)シラン、(エトキシ)ジ[2−(メチルチオ)エトキシ](ビニル)シラン、ジ(メトキシ)[2−(フェニルチオ)エトキシ](ビニル)シラン、ジ(エトキシ)(3−クロロプロポキシ)(ビニル)シラン、(エトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)(ビニル)シラン、ジ(エトキシ)(3−ブロモプロポキシ)(ビニル)シラン、(エトキシ)ジ(3−ブロモプロポキシ)(ビニル)シラン、トリ(メトキシ)(2−メトキシエトキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)シラン、(メトキシ)トリ(2−メトキシエトキシ)シラン、トリ(メトキシ)(2−フェノキシエトキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)シラン、(メトキシ)トリ(2−フェノキシエトキシ)シラン、トリ(エトキシ)(2−フェノキシエトキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)シラン、(メトキシ)トリ(2−フェノキシエトキシ)シラン、トリ(メトキシ)[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、ジ(メトキシ)ジ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、(メトキシ)トリ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、トリ(メトキシ)[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、ジ(メトキシ)ジ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、(メトキシ)トリ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、トリ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)シラン、(エトキシ)トリ(2−メトキシエトキシ)シラン、トリ(エトキシ)(2−フェノキシエトキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)シラン、(エトキシ)トリ(2−フェノキシエトキシ)シラン、トリ(エトキシ)(2−フェノキシエトキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(2−フェノキシエトキシ)シラン、(エトキシ)トリ(2−フェノキシエトキシ)シラン、トリ(エトキシ)[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、ジ(エトキシ)ジ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、(エトキシ)トリ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン、トリ(エトキシ)[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、ジ(エトキシ)ジ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、(エトキシ)トリ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン、トリ(メトキシ)(2−メルカプトエトキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(2−メルカプトエトキシ)シラン、(メトキシ)トリ(2−メルカプトエトキシ)シラン、トリ(メトキシ)[2−(メチルチオ)エトキシ] シラン、ジ(メトキシ)ジ[2−(メチルチオ)エトキシ] シラン、(メトキシ)トリ[2−(メチルチオ)エトキシ] シラン、トリ(メトキシ)[2−(フェニルチオ)エトキシ] シラン、ジ(メトキシ)ジ[2−(フェニルチオ)エトキシ] シラン、(メトキシ)トリ[2−(フェニルチオ)エトキシ] シラン、トリ(メトキシ)(3−クロロプロポキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)シラン、(メトキシ)トリ(3−クロロプロポキシ)シラン、トリ(メトキシ)(3−ブロモプロポキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(3−ブロモプロポキシ)シラン、(メトキシ)トリ(3−ブロモプロポキシ)シラン、トリ(エトキシ)(3−クロロプロポキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)シラン、(エトキシ)トリ(3−クロロプロポキシ)シラン、トリ(エトキシ)(3−ブロモプロポキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(3−ブロモプロポキシ)シラン、(エトキシ)トリ(3−ブロモプロポキシ)シラン、トリ(メトキシ)(6−クロロヘキ
ソキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(6−クロロヘキソキシ)シラン、(メトキシ)トリ(6−クロロヘキソキシ)シラン、トリ(メトキシ)(6−ブロモヘキソキシ)シラン、ジ(メトキシ)ジ(6−ブロモヘキソキシ)シラン、(メトキシ)トリ(6−ブロモヘキソキシ)シラン、トリ(エトキシ)(6−クロロヘキソキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(6−クロロヘキソキシ)シラン、(エトキシ)トリ(6−クロロヘキソキシ)シラン、トリ(エトキシ)(6−ブロモヘキソキシ)シラン、ジ(エトキシ)ジ(6−ブロモヘキソキシ)シラン、(エトキシ)トリ(6−ブロモヘキソキシ)シラン等が挙げられる。
Therefore, as R 4 , a partially substituted alkoxysilane of the general formula (I) having an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a halogenoalkyl group having 2 to 10 carbon atoms Preferred examples of the class include (methoxy) (2-methoxyethoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (2-phenoxyethoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (2-mercaptoethoxy) ) (Methyl) (phenyl) silane, (methoxy) [2- (methylthio) ethoxy] (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) [2- (phenylthio) ethoxy] (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (3-chloropropoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (3-bromopropoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (2-methoxyethoxy) di (methyl) silane, (methoxy) ( 2-phenoxyethoxy) di (methyl) silane, (methoxy) (2-mercaptoethoxy) di (methyl) silane, (methoxy) [2- (methylthio) ethoxy] di (phenyl) silane, (methoxy) [2- ( Phenylthio) ethoxy] di (methyl) silane, (methoxy) (3-chloropropoxy) di (methyl) silane, (methoxy) (3-bromopropoxy) di (phenyl) silane, di (methoxy) (2-methoxyethoxy) (Phenyl) silane, (methoxy) di (2-methoxyethoxy) (phenyl) silane, di (methoxy) (2-phenoxyethoxy) (phenyl) silane, (methoxy) di (2-phenoxyethoxy) (phenyl) silane, Di (methoxy) (2-mercaptoethoxy) (phenyl) silane, (methoxy
) Di (2-mercaptoethoxy) (phenyl) silane, di (methoxy) [2- (methylthio) ethoxy] (phenyl) silane, (methoxy) di [2- (methylthio) ethoxy] (phenyl) silane, di (methoxy ) [2- (phenylthio) ethoxy] (phenyl) silane, di (methoxy) (3-chloropropoxy) (phenyl) silane, (methoxy) di (3-chloropropoxy) (phenyl) silane, di (methoxy) (3 -Bromopropoxy) (phenyl) silane, (methoxy) di (3-bromopropoxy) (phenyl) silane, di (ethoxy) (2-methoxyethoxy) (phenyl) silane, (2-methoxyethoxy) di (ethoxy) ( Phenyl) silane, (ethoxy) di (2-methoxyethoxy) (phenyl) silane, di (ethoxy) (2-mercaptoethoxy) (phenyl) silane, (ethoxy) di (2-mercaptoethoxy) (phenyl) silane, di (Ethoxy) (3-bromopropoxy) (phenyl) silane, (ethoxy) di (3-bromopropoxy) (phenyl) silane, di (ethoxy) (2-methoxyethoxy) (vinyl) silane, (ethoxy) di (2 -Methoxyethoxy) (vinyl) silane, di (ethoxy) (2-phenoxyethoxy) (vinyl) silane, (ethoxy) di (2-phenoxyethoxy) (vinyl) silane, di (methoxy) (2-mercaptoethoxy) ( Vinyl) silane, (methoxy) di (2-mercaptoethoxy) (vinyl) silane, di (ethoxy) [2- (methylthio) ethoxy] (vinyl) silane, (ethoxy) di [2- (methylthio) ethoxy] (vinyl ) Silane, di (methoxy) [2- (phenylthio) ethoxy] (vinyl) silane, di (ethoxy) (3-chloropropoxy) (vinyl) silane, (ethoxy) di (3-chloropropoxy) (vinyl) silane, Di (ethoxy) (3-bromide (Propoxy) (vinyl) silane, (ethoxy) di (3-bromopropoxy) (vinyl) silane, tri (methoxy) (2-methoxyethoxy) silane, di (methoxy) di (2-methoxyethoxy) silane, (methoxy) Tri (2-methoxyethoxy) silane, tri (methoxy) (2-phenoxyethoxy) silane, di (methoxy) di (2-phenoxyethoxy) silane, (methoxy) tri (2-phenoxyethoxy) silane, tri (ethoxy) (2-phenoxyethoxy) silane, di (methoxy) di (2-phenoxyethoxy) silane, (methoxy) tri (2-phenoxyethoxy) silane, tri (methoxy) [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane, di ( Methoxy) di [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane, (methoxy) tri [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane, tri (methoxy) [2- (2- Toxiethoxy) ethoxy] silane, di (methoxy) di [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane, (methoxy) tri [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane, tri (ethoxy) (2-methoxy Ethoxy) silane, di (ethoxy) di (2-methoxyethoxy) silane, (ethoxy) tri (2-methoxyethoxy) silane, tri (ethoxy) (2-phenoxyethoxy) silane, di (ethoxy) di (2-phenoxy) Ethoxy) silane, (ethoxy) tri (2-phenoxyethoxy) silane, tri (ethoxy) (2-phenoxyethoxy) silane, di (ethoxy) di (2-phenoxyethoxy) silane, (ethoxy) tri (2-phenoxyethoxy) ) Silane, tri (ethoxy) [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane, di (ethoxy) di [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane, (ethoxy) tri [(2- Tetrahydrofuryl) methoxy] silane, tri (ethoxy) [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane, di (ethoxy) di [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane, (ethoxy) tri [2- ( 2-methoxyethoxy) ethoxy] silane, tri (methoxy) (2-mercaptoethoxy) silane, di (methoxy) di (2-mercaptoethoxy) silane, (methoxy) tri (2-mercaptoethoxy) silane, tri (methoxy) [2- (methylthio) ethoxy] silane, di (methoxy) di [2- (methylthio) ethoxy] silane, (methoxy) tri [2- (methylthio) ethoxy] silane, tri (methoxy) [2- (phenylthio) ethoxy Silane, di (methoxy) di [2- (phenylthio) ethoxy] silane, (methoxy) tri [2- (phenylthio) ethoxy] silane, tri (methoxy) (3-chloropropoxy) silane Di (methoxy) di (3-chloropropoxy) silane, (methoxy) tri (3-chloropropoxy) silane, tri (methoxy) (3-bromopropoxy) silane, di (methoxy) di (3-bromopropoxy) silane, (Methoxy) tri (3-bromopropoxy) silane, tri (ethoxy) (3-chloropropoxy) silane, di (ethoxy) di (3-chloropropoxy) silane, (ethoxy) tri (3-chloropropoxy) silane, tri (Ethoxy) (3-bromopropoxy) silane, di (ethoxy) di (3-bromopropoxy) silane, (ethoxy) tri (3-bromopropoxy) silane, tri (methoxy) (6-chlorohexoxy) silane, di (methoxy ) Di (6-chlorohexoxy) silane, (methoxy) tri (6-chlorohexoxy) silane, tri (methoxy) (6-bromohexoxy) silane, di (methoxy) di (6 Bromohexoxy) silane, (methoxy) tri (6-bromohexoxy) silane, tri (ethoxy) (6-chlorohexoxy) silane, di (ethoxy) di (6-chlorohexoxy) silane, (ethoxy) tri (6-chlorohexoxy) silane, tri (Ethoxy) (6-bromohexoxy) silane, di (ethoxy) di (6-bromohexoxy) silane, (ethoxy) tri (6-bromohexoxy) silane and the like.
一方、R4として、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基を有する、一般式(I)の一部置換型アルコキシシラン類の好ましい具体例としては、(メトキシ)(ブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(sec−ブトキシ)シラン、(メトキシ)(tert−ブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(2−メチルブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(tert−アミロキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(オクトキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(3−メチル−2−ブテノキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(プロパルギルオキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)(ベンジルオキシ)(メチル)(フェニル)シラン、(メトキシ)[2−(ジメチルアミノ)エトキシ](メチル)(フェニル)シラン等が挙げられる。 On the other hand, as R 4 , an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an amino group having 3 to 10 carbon atoms Preferable specific examples of the partially substituted alkoxysilane of the general formula (I) having an alkyl group include (methoxy) (butoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (sec-butoxy) silane, ( (Methoxy) (tert-butoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (2-methylbutoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (tert-amyloxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy ) (Octoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (3-methyl-2-butenoxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (propargyloxy) (methyl) (phenyl) silane, (methoxy) (Ben Yloxy) (methyl) (phenyl) silane, and (methoxy) [2- (dimethylamino) ethoxy] (methyl) (phenyl) silane.
一部置換型アルコキシシランを、複数のエトキシ基またはメトキシ基を有するシラン類とアルコールの反応で製造する場合、原料のシランが残存する場合や、エトキシ基またはメトキシ基の全部が置換された全置換型アルコキシシランが副生する場合がある。一部置換型アルコキシシランの用途によっては、原料や全置換型アルコキシシランのような副生物が混在しても大きな影響はないと考えられ、一部置換型アルコキシシランを精製せずに、反応液をそのまま組成物として使用することもできる。なお、一般式(I)のアルコキシシラン類を含む組成物も本発明の一態様である。 When a partially substituted alkoxysilane is produced by reacting a silane having a plurality of ethoxy groups or methoxy groups with an alcohol, if the raw material silane remains, or if all ethoxy groups or methoxy groups are substituted Type alkoxysilane may be produced as a by-product. Depending on the use of the partially substituted alkoxysilane, it is considered that there is no significant effect even if by-products such as raw materials and fully substituted alkoxysilane are mixed. Can be used as a composition as it is. Note that a composition containing the alkoxysilane of the general formula (I) is also an embodiment of the present invention.
組成物に含まれる一般式(I)のアルコキシシラン類の含有量は、50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上である。上記範囲内であると、一部置換型アルコキシシランに特徴的な性能や機能をより効果的に発現させることができる。なお、組成物に含まれる一般式(I)のアルコキシシラン類以外の化合物としては、原料のシランやエトキシ基またはメトキシ基の全部が置換された全置換型アルコキシシランが挙げられる。 The content of the alkoxysilane of the general formula (I) contained in the composition is 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. Within the above range, the performance and function characteristic of the partially substituted alkoxysilane can be expressed more effectively. Examples of the compounds other than the alkoxysilanes of the general formula (I) contained in the composition include raw material silanes and fully substituted alkoxysilanes in which all of ethoxy groups or methoxy groups are substituted.
組成物の用途としては、シロキサン類製造用の原料や表面処理用の原料が挙げられる。 Applications of the composition include raw materials for producing siloxanes and raw materials for surface treatment.
一般式(III)のシラン類を一般式(IV)のアルコールと反応させて、一般式(I)の一部置換型アルコキシシラン類を製造する反応では、反応を促進するために従来公知の各種の酸または塩基等の触媒を使用することができる。
たとえば、触媒として酸を使用する場合、触媒の分離・回収等が容易な固体酸触媒を用いることができる。それらの具体例としては、金属塩、金属酸化物等の固体無機物等が挙げられ、より具体的に示せば、プロトン性水素原子あるいは金属カチオン(アルミニウム、チタン、ガリウム、鉄、セリウム、スカンジウム等)を有する、ゼオライト、メソポーラスシリカ、モンモリロナイトなどのほか、シリカゲル、ヘテロポリ酸や、カーボン系素材を担体とする無機系固体酸が挙げられる。
これらの中では、触媒活性や生成物に対する選択性等の点で、規則的細孔および/または層状構造を有する無機系固体酸である、ゼオライト、メソポーラスシリカ、モンモリロナイト系等の固体酸が好ましく、ゼオライト、モンモリロナイト系の固体酸がより好ましく使用される。無機系固体酸の規則的細孔および/または層状構造の種類にとくに制限は
ないが、反応する分子や生成する分子の拡散のしやすさを考慮すると、細孔構造を有する固体酸触媒では、細孔径の範囲としては、0.2〜20nm、好ましくは、0.3〜15nm、より好ましくは0.3〜10nmの範囲内のものである。また、層状構造を有する固体酸触媒では、層間距離の範囲としては、0.2〜20nm、好ましくは、0.3〜15nm、より好ましくは0.3〜10nmの範囲内のものである。
In the reaction of producing the partially substituted alkoxysilane of the general formula (I) by reacting the silane of the general formula (III) with the alcohol of the general formula (IV) Catalysts such as acids or bases can be used.
For example, when an acid is used as the catalyst, a solid acid catalyst that can be easily separated and recovered can be used. Specific examples thereof include solid inorganic substances such as metal salts and metal oxides, and more specifically, protic hydrogen atoms or metal cations (aluminum, titanium, gallium, iron, cerium, scandium, etc.) In addition to zeolite, mesoporous silica, montmorillonite, and the like having silica, silica gel, heteropoly acid, and inorganic solid acid using a carbon-based material as a carrier can be mentioned.
Among these, solid acids such as zeolite, mesoporous silica, and montmorillonite, which are inorganic solid acids having regular pores and / or a layered structure, are preferable in terms of catalytic activity and selectivity for products. Zeolite and montmorillonite-based solid acids are more preferably used. There are no particular restrictions on the type of regular pores and / or layered structure of the inorganic solid acid, but in consideration of the ease of diffusion of the reacting molecules and the generated molecules, the solid acid catalyst having a pore structure The range of the pore diameter is 0.2 to 20 nm, preferably 0.3 to 15 nm, more preferably 0.3 to 10 nm. In the solid acid catalyst having a layered structure, the range of the interlayer distance is 0.2 to 20 nm, preferably 0.3 to 15 nm, more preferably 0.3 to 10 nm.
規則的細孔構造を有する無機系固体酸触媒としてゼオライトを使用する場合、その種類としては、Y型、ベータ型、ZSM−5型、モルデナイト型、SAPO型等の基本骨格を有する各種のゼオライトが使用可能である。また、Y型ゼオライト(Na−Y)を二次的処理して得られる、SUSY型(Super Ultrastable Y)、VUSY型(Very Ultrastable Y)、SDUSY型(Super dealuminated ultrastable Y)等として知られるUSY型(Ultrastable Y、超安定Y型)のものも好ましく使用できる(USY型については、たとえば、“Molecular Sieves”、Advances in Chemistry、Volume 121、American Chemical Society、1973、Chapter 19、等を参照)。 When a zeolite is used as an inorganic solid acid catalyst having a regular pore structure, various types of zeolites having basic skeletons such as Y type, beta type, ZSM-5 type, mordenite type, and SAPO type are used. It can be used. Further, USY type known as SUSY type (Super Ultrastable Y), VUSY type (Very Ultrastable Y), SDUSY type (Super delutable ultrastable Y), etc. obtained by secondary treatment of Y type zeolite (Na-Y) (Ultrastable Y, ultra-stable Y type) can also be used preferably (see, for example, “Molecular Sieves”, Advanceds in Chemistry, Volume 121, American Chemical Society, 1973, Chapter 19, etc.).
反応速度の点では、これらゼオライトの中で、USY型、ベータ型、Y型が好ましく、USY型、ベータ型がより好ましい。また、複数のエトキシ基またはメトキシ基の一部を選択的に他のアルコキシ基に変換するためのゼオライトとしては、反応速度および選択性の面で、USY型、Y型が好ましく、USY型がより好ましい。
これらゼオライトにおいては、プロトン性水素原子を有するブレンステッド酸型のものや金属カチオンを有するルイス酸型のものなど、各種のゼオライトを使用できる。この中で、プロトン性水素原子を有するプロトン型のものは、H−Y型、H−SDUSY型、H−SUSY型、H−ベータ型、H−モルデナイト型、H−ZSM−5型等で表される。また、アンモニウム型のものである、NH4−Y型、NH4−VUSY型、NH4−ベータ型、NH4−モルデナイト型、NH4−ZSM−5型等のゼオライトを焼成して、プロトン型に変換したものも使用することができる。
さらに、ゼオライトのシリカ/アルミナ比(物質量比)については、反応条件に応じて各種の比を選択できるが、通常は5〜1000であり、好ましくは5〜600、より好ましくは5〜300、さらに好ましくは5〜100である。
Of these zeolites, USY type, beta type, and Y type are preferable, and USY type and beta type are more preferable among these zeolites. Moreover, as a zeolite for selectively converting a part of a plurality of ethoxy groups or methoxy groups to other alkoxy groups, USY type and Y type are preferable in terms of reaction rate and selectivity, and USY type is more preferable. preferable.
In these zeolites, various types of zeolites such as Bronsted acid type having a protonic hydrogen atom and Lewis acid type having a metal cation can be used. Among these, the proton type having a protonic hydrogen atom is represented by HY type, H-SDUSY type, H-SUSY type, H-beta type, H-mordenite type, H-ZSM-5 type, etc. Is done. Furthermore, those of ammonium type, NH 4 -Y type, NH 4 -VUSY type, NH 4 - beta, NH 4 - mordenite, by firing the NH 4 -ZSM-5 type or the like of the zeolite, the proton type Those converted to can also be used.
Furthermore, about the silica / alumina ratio (substance amount ratio) of zeolite, various ratios can be selected according to the reaction conditions, but it is usually 5 to 1000, preferably 5 to 600, more preferably 5 to 300, More preferably, it is 5-100.
それらゼオライトとしては、市販品を含む各種のものを使用できる。市販品の具体例を示すと、USY型ゼオライトとしては、ゼオリスト社より市販されている、CBV760、CBV780、CBV720、CBV712、およびCBV600等、Y型ゼオライトとしては、東ソー社より市販されているHSZ−360HOAおよびHSZ−320HOA等が挙げられる。また、ベータ型ゼオライトとしては、ゼオリスト社より市販されている、CP811C、CP814N、CP7119、CP814E、CP7105、CP814CN、CP811TL、CP814T、CP814Q、CP811Q、CP811E−75、CP811E、およびCP811C−300等、東ソー社より市販されているHSZ−930HOAおよびHSZ−940HOA等、UOP社より市販されているUOP−Beta等が挙げられる。さらに、モルデナイト型ゼオライトとしては、ゼオリスト社より市販されているCBV21AおよびCBV90A等、東ソー社より市販されている、HSZ−660HOA、HSZ−620HOA、およびHSZ−690HOA等が挙げられ、ZSM−5型ゼオライトとしては、ゼオリスト社より市販されている、CBV5524G、CBV8020、およびCBV8014N等が挙げられる。 As these zeolites, various types including commercial products can be used. Specific examples of commercially available products include USZ-type zeolites, such as CBV760, CBV780, CBV720, CBV712, and CBV600, which are commercially available from Zeolis Corporation. Examples of Y-type zeolites are HSZ- 360HOA, HSZ-320HOA, etc. are mentioned. Moreover, as a beta-type zeolite, CP811C, CP814N, CP7119, CP814E, CP7105, CP814CN, CP811TL, CP814T, CP814Q, CP811Q, CP811E-75, CP811E, and CP811C-300 etc. are commercially available from Zeolist. Examples include HSZ-930HOA and HSZ-940HOA, which are more commercially available, and UOP-Beta, which is commercially available from UOP. Further, examples of the mordenite type zeolite include CBV21A and CBV90A commercially available from Zeolis Corporation, HSZ-660HOA, HSZ-620HOA, HSZ-690HOA and the like commercially available from Tosoh Corporation. ZSM-5 type zeolite Examples thereof include CBV5524G, CBV8020, and CBV8014N, which are commercially available from Zeolist.
また、マイクロ波照射を用いる反応では、上記の無機系固体酸のほかに、酸性官能基を有する有機系固体酸も効果的に使用できる。有機系固体酸は、酸性官能基を有するポリマー等であり、酸性官能基の種類としては、スルホ基、カルボキシ基、ホスホリル基等が挙
げられ、ポリマーの種類としては、パーフルオロ側鎖を有するテフロン(登録商標)骨格ポリマーやスチレン−ジビニルベンゼン共重合ポリマー等が挙げられる。それらの具体例としては、スルホ基を有する、ナフィオン(Nafion、登録商標、デュポン社より入手可能)、ダウエックス(Dowex、登録商標、ダウ・ケミカル社より入手可能)、アンバーライト(Amberlite、登録商標、ローム&ハス社より入手可能)、アンバーリスト(Amberlyst、登録商標、ダウ・ケミカル社より入手可能)等が挙げられる。それらをより具体的に示せば、ナフィオンNR50、ダウエックス50WX2、ダウエックス50WX4、ダウエックス50WX8、アンバーライトIR120、アンバーライトIRP−64、アンバーリスト15、アンバーリスト36等を挙げることができる。さらに、シリカ等の無機物にナフィオン等の有機系固体酸を担持した触媒(たとえば、ナフィオンSAC−13等)を用いることもでき、無機系固体酸と有機系固体酸を複数組み合わせて使用することもできる。
In addition, in the reaction using microwave irradiation, an organic solid acid having an acidic functional group can be effectively used in addition to the inorganic solid acid. The organic solid acid is a polymer having an acidic functional group. Examples of the acidic functional group include a sulfo group, a carboxy group, and a phosphoryl group. Examples of the polymer include Teflon having a perfluoro side chain. (Registered trademark) skeleton polymer, styrene-divinylbenzene copolymer, and the like. Specific examples include Nafion (Nafion, registered trademark, available from DuPont), Dowex (registered trademark, available from Dow Chemical), Amberlite (Amberlite, registered trademark) having a sulfo group. And Amberlyst (Amberlyst, registered trademark, available from Dow Chemical Company), and the like. More specifically, Nafion NR50, Dowex 50WX2, Dowex 50WX4, Dowex 50WX8, Amberlite IR120, Amberlite IRP-64, Amberlist 15, Amberlist 36, and the like can be given. Furthermore, a catalyst (for example, Nafion SAC-13) in which an organic solid acid such as Nafion is supported on an inorganic material such as silica can be used, and a combination of a plurality of inorganic solid acids and organic solid acids can be used. it can.
さらに、前記一般式(I)のアルコキシシラン類を水と反応させて得られることにより、新規なオリゴシロキサン類を製造することができる。
それらのオリゴシロキサン類は、下記一般式(II)
R1 pR2 q(R5O)tSi−O−Si(OR5)tR1 pR2 q (II)
の構造を有するもので、式中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R5はそれぞれ独立にエチル基、メチル基、炭素数2〜10の有機基、またはシリル基であり、R5の少なくとも1つは炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。tは1以上3以下の整数、p+q+t=3である。
R1、R2、R5の具体例およびオリゴシロキサン類を製造するために用いられる前記一般式(I)のアルコキシシラン類の具体例としては、前記で例示したもの等が挙げられる。
オリゴシロキサン類を製造する反応において、アルコキシシラン類に対する水のモル比は任意に選ぶことができるが、アルコキシシラン類に対する生成オリゴシロキサン類の収率等を考慮すれば、アルコキシシラン中のアルコキシ基1個当たり通常0.1以上20以下であり、より好ましくは0.1以上10以下であり、さらに好ましくは0.1以上5以下である。
また、オリゴシロキサン中のケイ素の数については、通常、2以上10000以下であるが、溶媒に対する可溶性等の物性や加工性、取り扱い性等を考慮すると、好ましくは2以上5000以下、より好ましくは2以上3000以下である。
一般式(II)で表される部分構造を有するアルコキシシラン類は、原料アルコキシシラン中のオキシアルキル基、チオアルキル基、またはハロゲノアルキル基を有しているため、親水性・疎水性の制御、無機原子や金属カチオン等との相互作用、他の官能基や機能性基への変換等に優れた化合物であり、例えば表面処理用の材料、ゾル・ゲル法による有機・無機ハイブリッド材料等に利用した場合に、表面の親水性・疎水性を広い範囲で制御できる、さまざまな無機原子や金属カチオン等の捕捉や吸着等が可能になる、他の機能性基等の導入によりさらなる高性能化や多機能化を図ることができる、等の優れた利点を発揮することができる。
Furthermore, novel oligosiloxanes can be produced by obtaining the alkoxysilanes of the general formula (I) by reacting with water.
These oligosiloxanes have the following general formula (II)
R 1 p R 2 q (R 5 O) t Si-O-Si (OR 5) t R 1 p R 2 q (II)
Wherein p, q and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, R 1 and R 2 are each independently an organic group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom, and R 5 are each independently An ethyl group, a methyl group, an organic group having 2 to 10 carbon atoms, or a silyl group, and at least one of R 5 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 2 carbon atoms. -10 halogenoalkyl groups, C3-C10 alkyl groups, C3-C10 alkenyl groups, C3-C10 alkynyl groups, C5-C10 aralkyl groups, or C3-C10 An aminoalkyl group. t is an integer of 1 to 3, and p + q + t = 3.
Specific examples of R 1 , R 2 , R 5 and specific examples of the alkoxysilanes of the general formula (I) used for producing oligosiloxanes include those exemplified above.
In the reaction for producing oligosiloxanes, the molar ratio of water to alkoxysilanes can be arbitrarily selected, but considering the yield of the generated oligosiloxanes relative to alkoxysilanes, etc., the alkoxy group 1 in alkoxysilanes Usually, it is 0.1 or more and 20 or less, more preferably 0.1 or more and 10 or less, and further preferably 0.1 or more and 5 or less.
In addition, the number of silicon in the oligosiloxane is usually 2 or more and 10,000 or less, but preferably 2 or more and 5000 or less, more preferably 2 in view of physical properties such as solubility in a solvent, processability, and handleability. It is 3000 or more.
Alkoxysilanes having a partial structure represented by the general formula (II) have an oxyalkyl group, a thioalkyl group, or a halogenoalkyl group in the raw material alkoxysilane, so that hydrophilic and hydrophobic control, inorganic It is a compound that excels in interaction with atoms and metal cations, conversion to other functional groups and functional groups, etc., for example, used for surface treatment materials, organic / inorganic hybrid materials by the sol-gel method, etc. In some cases, the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface can be controlled over a wide range, and various inorganic atoms and metal cations can be captured and adsorbed. It is possible to exhibit excellent advantages such as functionalization.
一部置換型アルコキシシラン類と水との反応では、酸または塩基を触媒として共存させることにより、オリゴシロキサン類を効率よく製造することができる。それらの酸または塩基の種類としては、一般的なアルコキシシラン類の加水分解反応で用いられる従来公知の各種のものを使用できる。
たとえば、酸の具体例としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸や、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。また
、一部置換型アルコキシシラン類の製造法で例示した固体酸を使用することもできる。
さらに、塩基の具体例としては、水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基や、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有機塩基が挙げられる。
In the reaction of partially substituted alkoxysilanes with water, oligosiloxanes can be efficiently produced by allowing an acid or base to coexist as a catalyst. As the types of these acids or bases, various conventionally known ones used in general hydrolysis reactions of alkoxysilanes can be used.
For example, specific examples of the acid include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and organic acids such as methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid. Moreover, the solid acid illustrated by the manufacturing method of partially substituted alkoxysilanes can also be used.
Specific examples of the base include inorganic bases such as ammonium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate, and organic bases such as trimethylamine, diethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, dimethylaniline, and pyridine.
一部置換型アルコキシシラン類やオリゴシロキサン類の製造において、原料に対する触媒量は任意に決めることができるが、たとえば重量比では、通常は0.0001〜10程度で、好ましくは0.001〜8程度、より好ましくは0.001〜6程度である。 In the production of partially substituted alkoxysilanes and oligosiloxanes, the amount of catalyst relative to the raw material can be arbitrarily determined. For example, the weight ratio is usually about 0.0001 to 10, preferably 0.001 to 8. The degree is more preferably about 0.001 to 6.
それらの製造反応は、反応を行う際の温度や圧力に応じて、液相または気相状態で行うことができる。また、反応装置の形態としては、バッチ型、フロー型等、従来知られている各種形態で行うことができる。
反応温度は、通常は−20℃以上、好ましくは−10〜300℃、より好ましくは、−10〜200℃である。また、反応性を制御するために、室温で反応を行う場合には、室温の温度範囲としては、通常は0〜40℃、好ましくは5〜40℃、より好ましくは10〜35℃である。
さらに、反応圧力は、通常は0.0001〜100気圧で、好ましくは0.001〜50気圧、より好ましくは0.001〜10気圧である。
反応時間は、原料や触媒の量、反応温度、反応装置の形態等に依存するが、生産性や効率を考慮すると、通常は0.1〜1200分、好ましくは0.1〜600分、より好ましくは0.1〜300分程度である。
These production reactions can be performed in a liquid phase or a gas phase depending on the temperature and pressure at the time of performing the reaction. Moreover, as a form of a reaction apparatus, it can carry out with various forms conventionally known, such as a batch type and a flow type.
The reaction temperature is usually −20 ° C. or higher, preferably −10 to 300 ° C., more preferably −10 to 200 ° C. Moreover, in order to control reactivity, when reacting at room temperature, it is 0-40 degreeC normally as a temperature range of room temperature, Preferably it is 5-40 degreeC, More preferably, it is 10-35 degreeC.
Furthermore, the reaction pressure is usually 0.0001 to 100 atm, preferably 0.001 to 50 atm, and more preferably 0.001 to 10 atm.
The reaction time depends on the amount of the raw material and catalyst, the reaction temperature, the form of the reaction apparatus, etc., but considering productivity and efficiency, it is usually 0.1 to 1200 minutes, preferably 0.1 to 600 minutes. Preferably it is about 0.1 to 300 minutes.
また、製造反応を液相系で行う場合、溶媒の有無にかかわらず実施できるが、溶媒を用いる場合には、デカリン(デカヒドロナフタレン)、デカン等の炭化水素、クロロベンゼン、1,2−または1,3−ジクロロベンゼン、1,2,3−または1,2,4−トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、tert−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル等、原料と反応するものを除いた各種の溶媒が使用可能で、2種以上混合して用いることもできる。また、反応を気相で行う場合には、窒素等の不活性ガスを混合して反応を行うこともできる。 Further, when the production reaction is carried out in a liquid phase system, it can be carried out with or without a solvent, but when a solvent is used, hydrocarbons such as decalin (decahydronaphthalene) and decane, chlorobenzene, 1,2- or 1 , 3-halogenated hydrocarbons such as 1,3-dichlorobenzene, 1,2,3- or 1,2,4-trichlorobenzene, ethers such as tert-butyl methyl ether, dibutyl ether, etc., except those that react with the raw material These solvents can be used, and a mixture of two or more of them can also be used. Moreover, when performing reaction in a gaseous phase, it can also react by mixing inert gas, such as nitrogen.
それらの製造反応は、マイクロ波照射下で行うこともできる。本反応系では、原料のアルコール、水や、アルコキシシラン、固体酸触媒等の誘電損失係数が比較的大きくマイクロ波を効率よく吸収するため、マイクロ波照射下では原料や触媒等が活性化され、反応をより効率的に行うことができる。 These production reactions can also be performed under microwave irradiation. In this reaction system, the raw material alcohol, water, alkoxysilane, solid acid catalyst, etc. have a relatively large dielectric loss coefficient and absorb microwaves efficiently, so the raw materials and catalysts are activated under microwave irradiation, The reaction can be performed more efficiently.
マイクロ波照射反応では、接触式または非接触式の温度センサーを備えた各種の市販装置等を使用できる。また、マイクロ波照射の出力、キャビティの種類(マルチモード、シングルモード)、照射の形態(連続的、断続的)等は、反応のスケールや種類等に応じて任意に決めることができる。マイクロ波の周波数としては、通常、0.3〜30GHzである。その中で好ましいのは、産業・科学・医療分野で使用するために割り当てられたIMS周波数帯で、さらにその中でも、2.45GHz帯、5.8GHz帯等がより好ましい。 In the microwave irradiation reaction, various commercially available devices equipped with contact-type or non-contact-type temperature sensors can be used. The output of microwave irradiation, the type of cavity (multimode, single mode), the form of irradiation (continuous, intermittent), etc. can be arbitrarily determined according to the scale and type of reaction. The frequency of the microwave is usually 0.3 to 30 GHz. Among them, the IMS frequency band allocated for use in the industrial, scientific, and medical fields is preferable, and among them, the 2.45 GHz band, the 5.8 GHz band, and the like are more preferable.
また、マイクロ波照射反応では、反応系をより効率よく加熱するために、マイクロ波を吸収して発熱する加熱材(サセプター)を反応系に添加することができる。加熱材の種類としては、活性炭、黒鉛、炭化ケイ素、炭化チタン等、従来公知の各種のものを使用できる。また、先に記載した触媒と加熱材の粉末を混合して、セピオライト、ホルマイト等の適当なバインダーを利用して焼成加工した成形触媒を用いることもできる。 In the microwave irradiation reaction, in order to heat the reaction system more efficiently, a heating material (susceptor) that absorbs microwaves and generates heat can be added to the reaction system. As the kind of the heating material, various conventionally known materials such as activated carbon, graphite, silicon carbide, titanium carbide and the like can be used. Further, a molded catalyst obtained by mixing the catalyst described above and the heating material powder and calcining using an appropriate binder such as sepiolite or holmite can also be used.
製造反応は密閉系の反応装置でも進行するが、反応装置を開放系にして、反応で共生成
物として生成するエタノールまたはメタノール等を反応系外に連続的に除去することにより、反応をより効率的に進行させることができる。
Although the production reaction proceeds even in a closed reactor, the reaction becomes more efficient by making the reactor open and continuously removing ethanol or methanol produced as a co-product in the reaction from the reaction system. Can be advanced.
また、製造反応で固体触媒を使用する場合、固体触媒が溶液に不溶のため、反応後の触媒の分離・回収は、濾過、遠心分離等の方法により容易に行うことができる。さらに、生成したシラン類の精製も、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の有機化学上通常用いられる手段により容易に達せられる。 Further, when a solid catalyst is used in the production reaction, since the solid catalyst is insoluble in the solution, the separation and recovery of the catalyst after the reaction can be easily performed by methods such as filtration and centrifugation. Furthermore, purification of the produced silanes can be easily achieved by means usually used in organic chemistry such as distillation, recrystallization and column chromatography.
次に、本発明を実施例等によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited to these Examples.
(実施例1)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 1.6mmol、2−メトキシエタノール(IVa) 3.2mmol、CBV780(ゼオリスト社製) 5mgの混合物を反応管に入れ、室温(25℃)で10分攪拌した。生成物をガスクロマトグラフ装置(GC)、ガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)、および核磁気共鳴スペクトル分析装置(NMR)で分析した結果、生成物として、一部置換型アルコキシシランの (メトキシ)(2−メトキシエトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Va−1)(=(Ia−1))と全置換型アルコキシシランのジ(2−メトキシエトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Va−2)が合計68%の収率(Va−1:Va−2=74:26)で生成し、その中の一部置換型アルコキシシラン(Ia−1)は50%の収率で生成したことがわかった(表1参照)。
(Example 1)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 1.6 mmol, 2-methoxyethanol (IVa) 3.2 mmol, CBV780 (manufactured by Zeolis) 5 mg of a mixture was placed in a reaction tube at room temperature (25 ° C.). Stir for 10 minutes. As a result of analyzing the product with a gas chromatograph (GC), gas chromatograph mass spectrometer (GC-MS), and nuclear magnetic resonance spectrum analyzer (NMR), the product was partially substituted alkoxysilane (methoxy). (2-Methoxyethoxy) (methyl) (phenyl) silane (Va-1) (= (Ia-1)) and di (2-methoxyethoxy) (methyl) (phenyl) silane (Va- 2) produced with a total yield of 68% (Va-1: Va-2 = 74: 26), and partially substituted alkoxysilane (Ia-1) was produced with a yield of 50%. (See Table 1).
(実施例2〜64)
反応条件(原料、触媒、温度、時間等)を変えて、実施例1と同様に反応および分析を行い、生成物の収率を測定した結果を表1に示す。
(Examples 2 to 64)
Table 1 shows the results obtained by carrying out the reaction and analysis in the same manner as in Example 1 while changing the reaction conditions (raw materials, catalyst, temperature, time, etc.) and measuring the yield of the product.
上記実施例で得られた一部置換型アルコキシシラン類(Ia−1)〜(Ian−1)の質
量分析スペクトルと29Si−NMRスペクトルのデータを表2に示す。
Table 2 shows data of mass spectrometry spectra and 29 Si-NMR spectra of partially substituted alkoxysilanes (Ia-1) to (Ian-1) obtained in the above Examples.
上記の製造方法では、原料シラン中の複数のエトキシ基またはメトキシ基の一部を選択的に他のアルコキシ基に変換することが可能で、触媒の種類や温度等の反応条件を制御することにより、一置換体型のモノアルコキシシラン類を主生成物として製造することができる。
このような選択的アルコキシ化用の触媒としては、反応速度および選択性の面で、USY型、Y型のゼオライト触媒が好ましく使用されるが、Y型はUSY型よりも反応速度や収率等の面で劣る場合が多く、USY型のものがより好ましく使用される。
また、選択的アルコキシ化における温度、時間等の反応条件については、原料や触媒の種類、量によって適宜調整するものであるが、触媒活性が比較的高いゼオライト触媒を用いる場合には、反応温度としては、通常は0〜70℃、好ましくは10〜60℃、より好ましくは10〜50℃程度であり、触媒活性が比較的低いゼオライト触媒を用いる場合は、通常は50〜150℃、好ましくは60〜140℃、より好ましくは70〜130℃程度である。また、反応時間については、反応温度等によっても変化するが、製造の効率を考えると、通常は0.5〜600分、好ましくは0.5〜300分、より好ましくは0.5〜180分程度である。
In the above production method, it is possible to selectively convert some of the plurality of ethoxy groups or methoxy groups in the raw material silane to other alkoxy groups, and by controlling reaction conditions such as the type of catalyst and temperature Monosubstituted alkoxysilanes can be produced as main products.
As such a catalyst for selective alkoxylation, USY type and Y type zeolite catalysts are preferably used in terms of reaction rate and selectivity, but Y type is more preferable than USY type in reaction rate and yield. In many cases, USY type is more preferably used.
In addition, the reaction conditions such as temperature and time in the selective alkoxylation are appropriately adjusted according to the kind and amount of the raw material and the catalyst. When a zeolite catalyst having a relatively high catalytic activity is used, the reaction temperature is Is usually about 0 to 70 ° C., preferably about 10 to 60 ° C., more preferably about 10 to 50 ° C. When a zeolite catalyst having a relatively low catalytic activity is used, it is usually 50 to 150 ° C., preferably 60 It is about -140 degreeC, More preferably, it is about 70-130 degreeC. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, but considering the production efficiency, it is usually 0.5 to 600 minutes, preferably 0.5 to 300 minutes, more preferably 0.5 to 180 minutes. Degree.
本反応では、加熱を行う場合、マイクロ波照射を用いることにより、アルコール等の原料や固体酸触媒をより効率的に加熱することができるため、オイルバス等を用いる通常の外部加熱の方法に比べて、反応を加速・促進させることができる。 In this reaction, when heating is performed, by using microwave irradiation, a raw material such as alcohol or a solid acid catalyst can be heated more efficiently, so compared with a normal external heating method using an oil bath or the like. Reaction can be accelerated and promoted.
また、本反応は、密閉系、開放系いずれの系でも進行するが、開放系で窒素等の不活性ガスを流しながら反応を行う、あるいは、減圧系で反応を行う、など、共生成物であるエタノールやメタノールを反応系外に積極的に除去する方法により、使用するアルコールの量を減らした場合でも、効率的に反応を行うことができる。 In addition, this reaction proceeds in either a closed system or an open system. However, the reaction is carried out with a co-product such as performing the reaction while flowing an inert gas such as nitrogen in the open system, or performing the reaction in a reduced pressure system. Even when the amount of alcohol to be used is reduced by a method of positively removing ethanol or methanol from the reaction system, the reaction can be carried out efficiently.
上記方法により得られた一部置換型アルコキシシラン(I)は、次の実施例に示すように、固体酸触媒を遠心分離、ろ過等で分離した後、蒸留、再結晶等の操作により、容易に単離精製することができる。 The partially substituted alkoxysilane (I) obtained by the above method is easily separated by operations such as distillation and recrystallization after separating the solid acid catalyst by centrifugation, filtration, etc., as shown in the following examples. It can be isolated and purified.
(実施例65)
テトラ(メトキシ)シラン(IIId)240mmol、(2−テトラヒドロフリル)メタノール(IVc)360mmol、CBV780(ゼオリスト社製)400mgの混合物をフラスコに入れ、窒素雰囲気下、オイルバス(理工科学社製R90)を用いて40℃で15分攪拌した。固体触媒を濾過で分離し、触媒をヘキサン5mLで洗浄した後、濾液と洗浄液を合わせて減圧下で蒸留を行った結果、トリ(メトキシ)[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン(Vl−1(Il−1))が96mmol(収率40%)と、ジ(メトキシ)ジ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン(Vl−2(Il−2))が72mmol(収率30%)得られた。
(Il−1)および(Il−2)の物性値、スペクトルデータ等は次の通りであった。
(Il−1)
沸点:104-106℃/10mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.65-1.72 (m, 1H, CH), 1.82-1.98 (m, 3H, CH), 3.59 (s, 9H, OCH3), 3.74-3.79 (m, 3H, OCH2 and OCH), 3.84-3.88 (m, 1H, OCH), 3.99-4.04 (m, 1H, OCH)
13C-NMR (CDCl3): δ 25.7, 27.6, 51.3, 66.0, 68.4, 78.9
29Si-NMR (CDCl3): δ -79.6
IR (液膜): 1459, 1195, 1091, 1003, 831 cm-1
(Il−2)
沸点:162-168℃/10mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.59-1.65 (m, 2H, CH), 1.75-1.91 (m, 6H, CH), 3.52 (s, 6H, OCH3), 3.67-3.73 (m, 6H, OCH2 and OCH), 3.76-3.82 (m, 2H, OCH), 3.92-3.97 (m, 2H, OCH)
13C-NMR (CDCl3): δ 25.5, 27.5, 51.1, 65.8, 68.2, 78.7
29Si-NMR (CDCl3): δ -80.6
IR (液膜): 1458, 1195, 1091, 1002, 832 cm-1
(Example 65)
A mixture of 240 mmol of tetra (methoxy) silane (IIId), 360 mmol of (2-tetrahydrofuryl) methanol (IVc) and 400 mg of CBV780 (Zeolist) was put in a flask, and an oil bath (R90 manufactured by Riko Kagaku) was placed in a nitrogen atmosphere. And stirred at 40 ° C. for 15 minutes. The solid catalyst was separated by filtration, and the catalyst was washed with 5 mL of hexane. The filtrate and the washing solution were combined and distilled under reduced pressure. As a result, tri (methoxy) [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane (Vl-1 96 mmol (yield 40%) of (Il-1)) and 72 mmol (yield 30%) of di (methoxy) di [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane (Vl-2 (Il-2)) were obtained. It was.
The physical property values and spectral data of (Il-1) and (Il-2) were as follows.
(Il-1)
Boiling point: 104-106 ℃ / 10mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.65-1.72 (m, 1H, CH), 1.82-1.98 (m, 3H, CH), 3.59 (s, 9H, OCH 3 ), 3.74-3.79 (m, 3H, OCH 2 and OCH), 3.84-3.88 (m, 1H, OCH), 3.99-4.04 (m, 1H, OCH)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 25.7, 27.6, 51.3, 66.0, 68.4, 78.9
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -79.6
IR (liquid film): 1459, 1195, 1091, 1003, 831 cm -1
(Il-2)
Boiling point: 162-168 ℃ / 10mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.59-1.65 (m, 2H, CH), 1.75-1.91 (m, 6H, CH), 3.52 (s, 6H, OCH 3 ), 3.67-3.73 (m, 6H, OCH 2 and OCH), 3.76-3.82 (m, 2H, OCH), 3.92-3.97 (m, 2H, OCH)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 25.5, 27.5, 51.1, 65.8, 68.2, 78.7
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -80.6
IR (liquid film): 1458, 1195, 1091, 1002, 832 cm -1
(実施例66)
テトラ(メトキシ)シラン(IIId)200mmol、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール(IVd)300mmol、CBV780(ゼオリスト社製)350mgの混合物をフラスコに入れ、窒素雰囲気下、オイルバス(理工科学社製R90)を用いて70℃で15分攪拌した。固体触媒を濾過で分離し、触媒をヘキサン5mLで洗浄した後、濾液と洗浄液を合わせて減圧下で蒸留を行った結果、トリ(メトキシ)[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン(Vm−1(Im−1))が80mmol(収率40%)と、ジ(メトキシ)ジ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン(Vm−2(Im−2))が40mmol(収率20%)得られた。
(Im−1)および(Im−2)の物性値、スペクトルデータ等は次の通りであった。
(Im−1)
沸点:91-93℃/1.6mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 3.32 (s, 3H, COCH3), 3.48-3.50 (m, 2H, OCH2), 3.53 (s, 9H, SiOCH3), 3.57 (t, J = 5.3 Hz, 2H, OCH2), 3.59-3.61 (m, 2H, OCH2), 3.88 (t, J = 5.3 Hz, 2H, OCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 51.1, 58.8, 62.8, 70.4, 71.8, 72.0
29Si-NMR (CDCl3): δ -79.6
IR (液膜): 1457, 1197, 1093, 968, 834 cm-1
(Im−2)
沸点:152-154℃/1.6mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 3.33 (s, 6H, COCH3), 3.49-3.52 (m, 4H, OCH2), 3.55 (s, 6H, SiOCH3), 3.58 (t, J = 5.3 Hz, 4H, OCH2), 3.60-3.63 (m, 4H, OCH2), 3.91 (t, J = 5
.3 Hz, 4H, OCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 51.2, 58.9, 62.8, 70.4, 71.9, 72.0
29Si-NMR (CDCl3): δ -80.6
IR (液膜): 1457, 1356, 1250, 1199, 1094, 972, 834 cm-1
Example 66
A mixture of 200 mmol of tetra (methoxy) silane (IIId), 300 mmol of 2- (2-methoxyethoxy) ethanol (IVd) and 350 mg of CBV780 (manufactured by Zeolis) was placed in a flask, and an oil bath (R90 manufactured by Riko Kagaku Co., Ltd.) was placed in a nitrogen atmosphere. ) At 70 ° C. for 15 minutes. The solid catalyst was separated by filtration, and the catalyst was washed with 5 mL of hexane, and then the filtrate and the washing solution were combined and distilled under reduced pressure. As a result, tri (methoxy) [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane (Vm -1 (Im-1)) is 80 mmol (yield 40%), and di (methoxy) di [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane (Vm-2 (Im-2)) is 40 mmol (yield). 20%).
The physical property values and spectral data of (Im-1) and (Im-2) were as follows.
(Im-1)
Boiling point: 91-93 ℃ / 1.6mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 3.32 (s, 3H, COCH 3 ), 3.48-3.50 (m, 2H, OCH 2 ), 3.53 (s, 9H, SiOCH 3 ), 3.57 (t, J = 5.3 Hz , 2H, OCH 2 ), 3.59-3.61 (m, 2H, OCH 2 ), 3.88 (t, J = 5.3 Hz, 2H, OCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 51.1, 58.8, 62.8, 70.4, 71.8, 72.0
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -79.6
IR (Liquid film): 1457, 1197, 1093, 968, 834 cm -1
(Im-2)
Boiling point: 152-154 ℃ / 1.6mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 3.33 (s, 6H, COCH 3 ), 3.49-3.52 (m, 4H, OCH 2 ), 3.55 (s, 6H, SiOCH 3 ), 3.58 (t, J = 5.3 Hz , 4H, OCH 2 ), 3.60-3.63 (m, 4H, OCH 2 ), 3.91 (t, J = 5
.3 Hz, 4H, OCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 51.2, 58.9, 62.8, 70.4, 71.9, 72.0
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -80.6
IR (liquid film): 1457, 1356, 1250, 1199, 1094, 972, 834 cm -1
(実施例67)
テトラ(エトキシ)シラン(IIIe)200mmol、2−メトキシエタノール(IVa)300mmol、CBV780(ゼオリスト社製)350mgの混合物をフラスコに入れ、窒素雰囲気下、オイルバス(理工科学社製R90)を用いて110℃で50分攪拌した。固体触媒を濾過で分離し、触媒をヘキサン5mLで洗浄した後、濾液と洗浄液を合わせて減圧下で蒸留を行った結果、トリ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)シラン(Vu−1(Iu−1))が80mmol(収率40%)、ジ(エトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)シラン(Vu−2(Iu−2))が40mmol(収率20%)と、(エトキシ)トリ(2−メトキシエトキシ)シラン(Vu−3(Iu−3))が10mmol(収率5%)、得られた。
(Iu−1)、(Iu−2)、および(Iu−3)の物性値、スペクトルデータ等は次の通りであった。
(Iu−1)
沸点:89-91℃/10mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 9H, OCCH3), 3.37 (s, 3H, OCH3), 3.50 (t, J = 5.2 Hz, 2H, OCH2), 3.84 (q, J = 7.0 Hz, 6H, OCH2), 3.90 (t, J = 5.2 Hz, 2H, OCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.0, 58.9, 59.2, 62.6, 73.5
29Si-NMR (CDCl3): δ -82.0
IR (液膜): 1455, 1391, 1296, 1200, 1169, 1105, 1084, 968, 845, 793 cm-1
(Iu−2)
沸点:114-117℃/10mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 6H, OCCH3), 3.37 (s, 6H, OCH3), 3.50 (t, J = 5.1 Hz, 4H, OCH2), 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 4H, OCH2), 3.91 (t, J = 5.2 Hz, 4H, OCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.0, 58.9, 59.3, 62.6, 73.5
29Si-NMR (CDCl3): δ -82.1
IR (液膜): 1456, 1392, 1296, 1201, 1104, 1086, 1029, 971, 845, 793 cm-1
(Iu−3)
沸点:141℃/10mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.20 (t, J = 7.0 Hz, 3H, OCCH3), 3.34 (s, 9H, OCH3), 3.48 (t, J = 5.1 Hz, 6H, OCH2), 3.84 (q, J = 7.0 Hz, 2H, OCH2), 3.90 (t, J = 5.1 Hz, 6H, OCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.0, 58.8, 59.3, 62.7, 73.4
29Si-NMR (CDCl3): δ -82.3
(Example 67)
A mixture of 200 mmol of tetra (ethoxy) silane (IIIe), 300 mmol of 2-methoxyethanol (IVa) and 350 mg of CBV780 (manufactured by Zeolis) was placed in a flask, and 110 using an oil bath (R90, manufactured by Riko Kagaku) under a nitrogen atmosphere. Stir at 50 ° C. for 50 minutes. The solid catalyst was separated by filtration, and the catalyst was washed with 5 mL of hexane. The filtrate and the washing solution were combined and distilled under reduced pressure. As a result, tri (ethoxy) (2-methoxyethoxy) silane (Vu-1 (Iu- 1)) is 80 mmol (yield 40%), di (ethoxy) di (2-methoxyethoxy) silane (Vu-2 (Iu-2)) is 40 mmol (yield 20%), (ethoxy) tri (2 10 mmol (yield 5%) of -methoxyethoxy) silane (Vu-3 (Iu-3)) were obtained.
The physical property values, spectral data, etc. of (Iu-1), (Iu-2), and (Iu-3) were as follows.
(Iu-1)
Boiling point: 89-91 ℃ / 10mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 9H, OCCH 3 ), 3.37 (s, 3H, OCH 3 ), 3.50 (t, J = 5.2 Hz, 2H, OCH 2 ), 3.84 (q, J = 7.0 Hz, 6H, OCH 2 ), 3.90 (t, J = 5.2 Hz, 2H, OCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.0, 58.9, 59.2, 62.6, 73.5
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -82.0
IR (Liquid membrane): 1455, 1391, 1296, 1200, 1169, 1105, 1084, 968, 845, 793 cm -1
(Iu-2)
Boiling point: 114-117 ℃ / 10mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 6H, OCCH 3 ), 3.37 (s, 6H, OCH 3 ), 3.50 (t, J = 5.1 Hz, 4H, OCH 2 ), 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 4H, OCH 2 ), 3.91 (t, J = 5.2 Hz, 4H, OCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.0, 58.9, 59.3, 62.6, 73.5
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -82.1
IR (liquid film): 1456, 1392, 1296, 1201, 1104, 1086, 1029, 971, 845, 793 cm -1
(Iu-3)
Boiling point: 141 ° C / 10mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.20 (t, J = 7.0 Hz, 3H, OCCH 3 ), 3.34 (s, 9H, OCH 3 ), 3.48 (t, J = 5.1 Hz, 6H, OCH 2 ), 3.84 (q, J = 7.0 Hz, 2H, OCH 2 ), 3.90 (t, J = 5.1 Hz, 6H, OCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.0, 58.8, 59.3, 62.7, 73.4
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -82.3
(実施例68)
テトラ(エトキシ)シラン(IIIe)220mmol、2−メルカプトエタノール(IVe)240mmol、CBV780(ゼオリスト社製)350mgの混合物をフラスコに入れ、減圧下(130mmHg)、オイルバス(理工科学社製R90)を用いて70℃で30分攪拌した。さらに、(IVe)を160mmol添加して、減圧下(130mmHg)、70℃で30分撹拌した。固体触媒を濾過で分離し、触媒をヘキサン5mLで洗浄した後、濾液と洗浄液を合わせて減圧下で蒸留を行った結果、トリ(エトキシ)(2−メルカプトエトキシ)シラン(Vy−1(Iy−1))が77mmol(収率35%)、ジ(エトキシ)ジ(2−メルカプトエトキシ)シラン(Vy−2(Iy−2))が100mmol(収率4
5%)と、(エトキシ)トリ(2−メルカプトエトキシ)シラン(Vy−3(Iy−3))が15mmol(収率7%)得られた。
(Iy−1)、(Iy−2)、および(Iy−3)の物性値、スペクトルデータ等は次の通りであった。
(Iy−1)
沸点:78-80℃/2.0mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.24 (t, J = 7.0 Hz, 9H, OCCH3), 1.53 (t, J = 8.4 Hz, 1H, SH), 2.66-2.71 (m, 2H, SCH2), 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 6H, OCH2), 3.88 (t, J = 6.6 Hz, 2H, SCCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.1, 26.6, 59.3, 65.3
29Si-NMR (CDCl3): δ -82.2
IR (液膜): 1391, 1298, 1169, 1103, 1081, 967, 835, 792 cm-1
(Iy−2)
沸点:118-119℃/2.0mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.24 (t, J = 7.0 Hz, 6H, OCCH3), 1.52 (t, J = 8.3 Hz, 2H, SH), 2.66-2.71 (m, 4H, SCH2), 3.86 (q, J = 7.0 Hz, 4H, OCH2), 3.89 (t, J = 6.5 Hz, 4H, SCCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.1, 26.6, 59.5, 65.3
29Si-NMR (CDCl3): δ -82.7
IR (液膜): 1390, 1299, 1169, 1099, 968, 835, 794 cm-1
(Iy−3)
沸点:148-150℃/2.0mmHg
1H-NMR (CDCl3): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 3H, OCCH3), 1.51 (t, J = 8.3 Hz, 3H, SH), 2.64-2.70 (m, 6H, SCH2), 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 2H, OCH2), 3.89 (t, J = 6.5 Hz, 6H, SCCH2)
13C-NMR (CDCl3): δ 18.0, 26.5, 59.6, 65.4
29Si-NMR (CDCl3): δ -83.2
Example 68
A mixture of 220 mmol of tetra (ethoxy) silane (IIIe), 240 mmol of 2-mercaptoethanol (IVe) and 350 mg of CBV780 (manufactured by Zeolis) was placed in a flask, and the oil bath (R90, manufactured by Riko Kagaku) was used under reduced pressure (130 mmHg). And stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Further, 160 mmol of (IVe) was added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 30 minutes under reduced pressure (130 mmHg). The solid catalyst was separated by filtration, the catalyst was washed with 5 mL of hexane, and the filtrate and the washing solution were combined and distilled under reduced pressure. As a result, tri (ethoxy) (2-mercaptoethoxy) silane (Vy-1 (Iy- 1)) was 77 mmol (35% yield), and di (ethoxy) di (2-mercaptoethoxy) silane (Vy-2 (Iy-2)) was 100 mmol (yield 4).
5%) and 15 mmol (yield 7%) of (ethoxy) tri (2-mercaptoethoxy) silane (Vy-3 (Iy-3)).
Physical property values, spectral data, etc. of (Iy-1), (Iy-2), and (Iy-3) were as follows.
(Iy-1)
Boiling point: 78-80 ℃ / 2.0mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.24 (t, J = 7.0 Hz, 9H, OCCH 3 ), 1.53 (t, J = 8.4 Hz, 1H, SH), 2.66-2.71 (m, 2H, SCH 2 ) , 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 6H, OCH 2 ), 3.88 (t, J = 6.6 Hz, 2H, SCCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.1, 26.6, 59.3, 65.3
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -82.2
IR (liquid film): 1391, 1298, 1169, 1103, 1081, 967, 835, 792 cm -1
(Iy-2)
Boiling point: 118-119 ℃ / 2.0mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.24 (t, J = 7.0 Hz, 6H, OCCH 3 ), 1.52 (t, J = 8.3 Hz, 2H, SH), 2.66-2.71 (m, 4H, SCH 2 ) , 3.86 (q, J = 7.0 Hz, 4H, OCH 2 ), 3.89 (t, J = 6.5 Hz, 4H, SCCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.1, 26.6, 59.5, 65.3
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -82.7
IR (Liquid membrane): 1390, 1299, 1169, 1099, 968, 835, 794 cm -1
(Iy-3)
Boiling point: 148-150 ℃ / 2.0mmHg
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.0 Hz, 3H, OCCH 3 ), 1.51 (t, J = 8.3 Hz, 3H, SH), 2.64-2.70 (m, 6H, SCH 2 ) , 3.85 (q, J = 7.0 Hz, 2H, OCH 2 ), 3.89 (t, J = 6.5 Hz, 6H, SCCH 2 )
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ 18.0, 26.5, 59.6, 65.4
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -83.2
(実施例69)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 5.0mmol、ブタノール(IVl) 19.9mmol、CBV600(ゼオリスト社製) 15mgの混合物を反応管に入れ密閉し、室温(23℃)で20分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、(メトキシ)(ブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Vae−1(Iae−1))が、3.6mmol(収率71%)得られた。
(Iae−1)の物性値、スペクトルデータ等は次の通りであった。
沸点:65-70℃/0.65mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
元素分析: C 63.96, H 8.98 (測定値); C 64.24, H 8.98 (計算値 C12H20O2Si)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.35 (s, 3H, SiCH3), 0.91 (t, J = 7.3 Hz, 3H, CCH3), 1.39 (sext, J = 7.3 Hz, 2H, OCCCH2), 1.58 (quint, J = 7.3 Hz, 2H, OCCH2), 3.54 (s, 3H,
OCH3), 3.70-3.79 (m, 2H, OCH2), 7.33-7.42 (m, 3H, 芳香環H), 7.59-7.65 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -4.7, 13.8, 19.0, 34.7, 50.5, 62.7, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3
29Si-NMR (CDCl3): δ -16.2
IR (液膜): 1592, 1465, 1430, 1387, 1258, 1190, 1121, 1087, 1039, 984, 894, 826, 802, 773, 738, 700, 652, 482, 437 cm-1
(Example 69)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 5.0 mmol, butanol (IVl) 19.9 mmol, CBV600 (manufactured by Zeolis) 15 mg in a reaction tube was sealed and sealed at room temperature (23 ° C.). Stir for minutes. After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation using an apparatus, 3.6 mmol (yield 71%) of (methoxy) (butoxy) (methyl) (phenyl) silane (Vae-1 (Iae-1)) was obtained.
The physical property values, spectral data, etc. of (Iae-1) were as follows.
Boiling point: 65-70 ℃ / 0.65mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
Elemental analysis: C 63.96, H 8.98 (measured value); C 64.24, H 8.98 (calculated value C 12 H 20 O 2 Si)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.35 (s, 3H, SiCH 3 ), 0.91 (t, J = 7.3 Hz, 3H, CCH 3 ), 1.39 (sext, J = 7.3 Hz, 2H, OCCCH 2 ), 1.58 (quint, J = 7.3 Hz, 2H, OCCH 2 ), 3.54 (s, 3H,
OCH 3 ), 3.70-3.79 (m, 2H, OCH 2 ), 7.33-7.42 (m, 3H, aromatic ring H), 7.59-7.65 (m, 2H, aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -4.7, 13.8, 19.0, 34.7, 50.5, 62.7, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -16.2
IR (Liquid film): 1592, 1465, 1430, 1387, 1258, 1190, 1121, 1087, 1039, 984, 894, 826, 802, 773, 738, 700, 652, 482, 437 cm -1
(実施例70)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 5.0mmol、sec−ブチルアルコール(IVm) 19.7mmol、CBV780(ゼオリスト社製) 15mgの混合物を反応管に入れ密閉し、室温(23℃)で20分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、 (メトキシ)(sec−ブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Vaf−1(Iaf−1))が、3.3mmol(収率65%)得られた。
(Iaf−1)の物性値、スペクトルデータは次の通りであった。
沸点:60-70℃/0.7mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
元素分析: C 63.95, H 8.93 (測定値); C 64.24, H 8.98 (計算値 C12H20O2Si)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.35 and 0.36 (each s, 3H, SiCH3), 0.89 and 0.91 (each t, J
= 7.3 Hz, 3H, CCH3), 1.19 and 1.20 (each d, each J = 6.1 Hz, 3H, CHCH3), 1.43-1.60 (m, 2H, CH2), 3.528 and 3.535 (each s, 3H, OCH3), 3.88-3.97 (m, 1H, OCH), 7.35-7.43 (m, 3H, 芳香環H), 7.62-7.66 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -4.20 and -4.13, 9.99 and 10.05, 23.05 and 23.07, 32.14 and 32.17, 50.5, 70.35 and 70.37, 127.78 and 127.79, 129.9, 134.06 and 134.07, 134.85 and 134.91
29Si-NMR (CDCl3): δ -18.1
IR (液膜): 1592, 1463, 1429, 1376, 1258, 1190, 1171, 1122, 1088, 1053, 1013, 952, 854, 822, 804, 783, 765, 738, 700, 656, 484, 460, 419 cm-1
(Example 70)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 5.0 mmol, sec-butyl alcohol (IVm) 19.7 mmol, CBV780 (manufactured by Zeolis) 15 mg in a reaction tube was sealed and sealed at room temperature (23 ° C. ) For 20 minutes. After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation using an apparatus, 3.3 mmol (yield 65%) of (methoxy) (sec-butoxy) (methyl) (phenyl) silane (Vaf-1 (Iaf-1)) was obtained.
The physical property values and spectral data of (Iaf-1) were as follows.
Boiling point: 60-70 ℃ / 0.7mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
Elemental analysis: C 63.95, H 8.93 (measured value); C 64.24, H 8.98 (calculated value C 12 H 20 O 2 Si)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.35 and 0.36 (each s, 3H, SiCH 3 ), 0.89 and 0.91 (each t, J
= 7.3 Hz, 3H, CCH 3 ), 1.19 and 1.20 (each d, each J = 6.1 Hz, 3H, CHCH 3 ), 1.43-1.60 (m, 2H, CH 2 ), 3.528 and 3.535 (each s, 3H, OCH 3 ), 3.88-3.97 (m, 1H, OCH), 7.35-7.43 (m, 3H, aromatic ring H), 7.62-7.66 (m, 2H, aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -4.20 and -4.13, 9.99 and 10.05, 23.05 and 23.07, 32.14 and 32.17, 50.5, 70.35 and 70.37, 127.78 and 127.79, 129.9, 134.06 and 134.07, 134.85 and 134.91
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -18.1
IR (liquid film): 1592, 1463, 1429, 1376, 1258, 1190, 1171, 1122, 1088, 1053, 1013, 952, 854, 822, 804, 783, 765, 738, 700, 656, 484, 460, 419 cm -1
(実施例71)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 3.3mmol、オクタノール(IVp) 13.2mmol、CBV780(ゼオリスト社製) 10mgの混合物を反応管に入れ密閉し、マイクロ波照射装置(バイオタージ製Initiator)を用いて、110℃で5分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、 (メトキシ)(オクトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Vai−1(Iai−1))が、2.2mmol(収率68%)得られた。
(Iai−1)の物性値、スペクトルデータは次の通りであった。
沸点:90-95℃/0.3mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
元素分析: C 68.90, H 9.77 (測定値); C 68.52, H 10.06 (計算値 C16H28O2Si)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.35 (s, 3H, SiCH3), 0.88 (t, J = 6.9 Hz, 3H, CCH3), 1.21-1.37 (m, 10H, OCC(CH2)5), 1.59 (quint, J = 6.9 Hz, 2H, OCCH2), 3.54 (s, 3H, OCH3), 3.68-3.78 (m, 2H, OCH2), 7.34-7.44 (m, 3H, 芳香環H), 7.59-7.64 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -4.7, 14.1, 22.7, 25.8, 29.3, 29.4, 31.8, 32.5, 50.5, 63.0, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3
29Si-NMR (CDCl3): δ -16.1
IR (液膜): 1467, 1429, 1258, 1190, 1121, 1089, 846, 804, 775, 738, 699, 482, 434 cm-1
(Example 71)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 3.3 mmol, octanol (IVp) 13.2 mmol, CBV 780 (manufactured by Zeolis) 10 mg of a mixture was put in a reaction tube and sealed, and a microwave irradiation apparatus (Biotage) The resulting mixture was stirred at 110 ° C. for 5 minutes. After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation using an apparatus, 2.2 mmol (yield 68%) of (methoxy) (octoxy) (methyl) (phenyl) silane (Vai-1 (Iai-1)) was obtained.
The physical property values and spectral data of (Iai-1) were as follows.
Boiling point: 90-95 ℃ / 0.3mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
Elemental analysis: C 68.90, H 9.77 (measured value); C 68.52, H 10.06 (calculated value C 16 H 28 O 2 Si)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.35 (s, 3H, SiCH 3 ), 0.88 (t, J = 6.9 Hz, 3H, CCH 3 ), 1.21-1.37 (m, 10H, OCC (CH 2 ) 5 ) , 1.59 (quint, J = 6.9 Hz, 2H, OCCH 2 ), 3.54 (s, 3H, OCH 3 ), 3.68-3.78 (m, 2H, OCH 2 ), 7.34-7.44 (m, 3H, aromatic ring H) , 7.59-7.64 (m, 2H, aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -4.7, 14.1, 22.7, 25.8, 29.3, 29.4, 31.8, 32.5, 50.5, 63.0, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -16.1
IR (liquid film): 1467, 1429, 1258, 1190, 1121, 1089, 846, 804, 775, 738, 699, 482, 434 cm -1
(実施例72)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 5.0mmol、3−メチル−2−ブテノール(IVq) 19.9mmol、CBV780(ゼオリスト社製) 15mgの混合物を反応管に入れ密閉し、室温(23℃)で1分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、 (メトキシ)(3−メチル−2−ブテノキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Vaj−1(I
aj−1))が、3.4mmol(収率68%)得られた。
(Iaj−1)の物性値、スペクトルデータは次の通りであった。
沸点:85-95℃/0.5mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.36 (s, 3H, SiCH3), 1.60 (s, 3H, CCH3), 1.72 (d, J = 1.0 Hz, 3H, CCH3), 3.56 (s, 3H, OCH3), 4.23-4.31 (m, 2H, OCH2), 5.36-5.40 (m, 1H, =CH), 7.36-7.43 (m, 3H, 芳香環H), 7.62-7.64 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -4.5, 17.8, 25.7, 50.5, 59.7, 123.5, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3, 135.0
29Si-NMR (CDCl3): δ -15.4
IR (液膜): 1679, 1592, 1447, 1430, 1380, 1259, 1191, 1121, 1083, 1065, 1029, 869, 827, 803, 773, 739, 700, 655, 481, 440 cm-1
(Example 72)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 5.0 mmol, 3-methyl-2-butenol (IVq) 19.9 mmol, CBV780 (manufactured by Zeolis) 15 mg was put in a reaction tube, sealed, and room temperature. (23 ° C.) for 1 minute. After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation in the apparatus, (methoxy) (3-methyl-2-butenoxy) (methyl) (phenyl) silane (Vaj-1 (I
3.4 mmol (68% yield) of aj-1)) was obtained.
The physical property values and spectral data of (Iaj-1) were as follows.
Boiling point: 85-95 ℃ / 0.5mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.36 (s, 3H, SiCH 3 ), 1.60 (s, 3H, CCH 3 ), 1.72 (d, J = 1.0 Hz, 3H, CCH 3 ), 3.56 (s, 3H , OCH 3 ), 4.23-4.31 (m, 2H, OCH 2 ), 5.36-5.40 (m, 1H, = CH), 7.36-7.43 (m, 3H, aromatic ring H), 7.62-7.64 (m, 2H, Aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -4.5, 17.8, 25.7, 50.5, 59.7, 123.5, 127.8, 130.0, 134.0, 134.3, 135.0
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -15.4
IR (Liquid film): 1679, 1592, 1447, 1430, 1380, 1259, 1191, 1121, 1083, 1065, 1029, 869, 827, 803, 773, 739, 700, 655, 481, 440 cm -1
(実施例73)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 3.3mmol、ベンジルアルコール(IVr) 13.3mmol、CBV600(ゼオリスト社製) 10mgの混合物を反応管に入れ密閉し、マイクロ波照射装置(バイオタージ製Initiator)を用いて、110℃で3.5分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、 (メトキシ)(ベンジルオキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Vak−1(Iak−1))が、1.8mmol(収率55%)得られた。
(Iak−1)の物性値、スペクトルデータは次の通りであった。
沸点:105-110℃/0.35mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
元素分析: C 69.52, H 7.04 (測定値); C 69.72, H 7.02 (計算値 C15H18O2Si)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.39 (s, 3H, SiCH3), 3.52 (s, 3H, OCH3), 4.83 (s, 1H, OCHaHb), 4.86 (s, 1H, OCHaHb), 7.23-7.28 (m, 1H, 芳香環H), 7.32-7.45 (m, 7H, 芳香環H), 7.64-7.67 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -4.6, 50.6, 64.7, 126.6, 127.2, 127.9, 128.3, 130.2, 133.9, 134.1, 140.4
29Si-NMR (CDCl3): δ -15.0
IR (液膜): 1592, 1496, 1454, 1429, 1379, 1259, 1208, 1190, 1121, 1086, 1028, 853, 809, 777, 738, 698, 659, 581, 482, 438 cm-1
(Example 73)
A mixture of di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 3.3 mmol, benzyl alcohol (IVr) 13.3 mmol, CBV600 (manufactured by Zeolis) 10 mg was put in a reaction tube and sealed, and a microwave irradiation apparatus (bio) The mixture was stirred at 110 ° C. for 3.5 minutes using Taji Initiator). After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation using an apparatus, 1.8 mmol (yield 55%) of (methoxy) (benzyloxy) (methyl) (phenyl) silane (Vak-1 (Iak-1)) was obtained.
The physical property values and spectral data of (Iak-1) were as follows.
Boiling point: 105-110 ℃ / 0.35mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
Elemental analysis: C 69.52, H 7.04 (measured value); C 69.72, H 7.02 (calculated value C 15 H 18 O 2 Si)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.39 (s, 3H, SiCH 3 ), 3.52 (s, 3H, OCH 3 ), 4.83 (s, 1H, OCH a H b ), 4.86 (s, 1H, OCH a H b ), 7.23-7.28 (m, 1H, aromatic ring H), 7.32-7.45 (m, 7H, aromatic ring H), 7.64-7.67 (m, 2H, aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -4.6, 50.6, 64.7, 126.6, 127.2, 127.9, 128.3, 130.2, 133.9, 134.1, 140.4
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -15.0
IR (Liquid membrane): 1592, 1496, 1454, 1429, 1379, 1259, 1208, 1190, 1121, 1086, 1028, 853, 809, 777, 738, 698, 659, 581, 482, 438 cm -1
(実施例74)
ジ(メトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(IIIa) 4.1mmol、tert−ブチルアルコール(IVs) 48.5mmol、CBV780(ゼオリスト社製) 13mgの混合物を反応管に入れ密閉し、マイクロ波照射装置(CEM製Discover)を用いて、70℃で15分攪拌した。触媒の固体を遠心分離で分離し、上澄み液を分離した後、触媒をヘキサンで洗浄し(0.8mLで2回)、先の上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下濃縮して、ショートパス蒸留装置で蒸留を行った結果、 (メトキシ)(tert−ブトキシ)(メチル)(フェニル)シラン(Val−1(Ial−1))が、2.7mmol(収率65%、ガスクロマトグラフ分析による純度は95%以上)得られた。
(Ial−1)の物性値、スペクトルデータは次の通りであった。
沸点:70-80℃/2.8mmHg(ショートパス蒸留での留出温度)
元素分析: C 63.85, H 8.86 (測定値); C 64.24, H 8.98 (計算値 C12H20O2Si)
1H-NMR (CDCl3): δ 0.36 (s, 3H, SiCH3), 1.34 (s, 9H, CCH3), 3.49 (s, 3H, OCH3), 7.34-7.41 (m, 3H, 芳香環H), 7.61-7.66 (m, 2H, 芳香環H)
13C-NMR (CDCl3): δ -1.7, 31.9, 50.3, 73.1, 127.7, 129.6, 134.0, 136.4
29Si-NMR (CDCl3): δ -23.5
IR (液膜): 1470, 1429, 1389, 1365, 1258, 1241, 1198, 1121, 1088, 1056, 1025, 8
36, 808, 785, 754, 738, 714, 700, 625, 483, 442, 420, 409 cm-1
(Example 74)
Di (methoxy) (methyl) (phenyl) silane (IIIa) 4.1 mmol, tert-butyl alcohol (IVs) 48.5 mmol, CBV780 (manufactured by Zeolis) 13 mg of a mixture was put in a reaction tube and sealed, and a microwave irradiation device (CEM Discover) was stirred at 70 ° C. for 15 minutes. After separating the catalyst solids by centrifugation and separating the supernatant, the catalyst is washed with hexane (twice with 0.8 mL), and the supernatant and washings are combined and concentrated under reduced pressure, and short pass distillation is performed. As a result of distillation in the apparatus, 2.7 mmol (yield 65%, purity by gas chromatographic analysis) of (methoxy) (tert-butoxy) (methyl) (phenyl) silane (Val-1 (Ial-1)) was 95% or more).
The physical property values and spectral data of (Ial-1) were as follows.
Boiling point: 70-80 ℃ / 2.8mmHg (distillation temperature in short pass distillation)
Elemental analysis: C 63.85, H 8.86 (measured value); C 64.24, H 8.98 (calculated value C 12 H 20 O 2 Si)
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 0.36 (s, 3H, SiCH 3 ), 1.34 (s, 9H, CCH 3 ), 3.49 (s, 3H, OCH 3 ), 7.34-7.41 (m, 3H, aromatic ring H), 7.61-7.66 (m, 2H, aromatic ring H)
13 C-NMR (CDCl 3 ): δ -1.7, 31.9, 50.3, 73.1, 127.7, 129.6, 134.0, 136.4
29 Si-NMR (CDCl 3 ): δ -23.5
IR (Liquid film): 1470, 1429, 1389, 1365, 1258, 1241, 1198, 1121, 1088, 1056, 1025, 8
36, 808, 785, 754, 738, 714, 700, 625, 483, 442, 420, 409 cm -1
また、上記方法により得られた一部置換型アルコキシシラン(I)は、次の実施例に示すように、水との反応により、対応するオリゴシロキサンに変換することができる。 Further, the partially substituted alkoxysilane (I) obtained by the above method can be converted into the corresponding oligosiloxane by reaction with water, as shown in the following examples.
(実施例75)
トリ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)シラン(Iu−1) 0.15mmolに、重アセトニトリル 0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRスペクトル分析装置で分析した結果、エタノールと2−メトキシエタノールが生成(エタノール:2−メトキシエタノール=約2.4:1、アルコキシ基全体の約45%が水と反応)するとともに、2−メトキシエトキシ基とエトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
オリゴシロキサン中に2−メトキシエトキシ基とエトキシ基が存在することは、反応液のNMRスペクトルを、トリ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)シランのかわりにテトラ(エトキシ)シランを用いて同様の条件で反応を行って得られた反応液のNMRスペクトルと比較することによって推定した(図1)。すなわち、29Si−NMRで、オリゴシロキサンの29Siシグナルの領域を比較すると、テトラ(エトキシ)シランの反応液では、−88.68、−88.61、−85.98、および−85.90ppm等にエトキシシリル基(Si−OEt)に由来すると考えられるシグナルが観察されたが、トリ(エトキシ)(2−メトキシエトキシ)シランの反応液では、それらの他に、−88.75、−88.57、−85.77、−85.67、−85.53、および−85.52ppm等に2−メトキシエトキシシリル基(Si−OCH2CH2OMe)に由来すると考えられるシグナルが観察され(表3)、エトキシ基と2−メトキシエトキシ基の両方が存在することが示唆された。
また、GPC(ポリスチレン標準)による分子量測定では、生成したオリゴシロキサンの分子量は、重量平均分子量(Mw)が500、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)が1.1であった(表3)。
得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 75)
To 0.15 mmol of tri (ethoxy) (2-methoxyethoxy) silane (Iu-1), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N aqueous hydrochloric acid solution were added, mixed well, and allowed to stand at room temperature for 14 hours. As a result of analyzing the reaction solution with an NMR spectrum analyzer, ethanol and 2-methoxyethanol were produced (ethanol: 2-methoxyethanol = about 2.4: 1, about 45% of the total alkoxy groups reacted with water), It was found that an oligosiloxane having a 2-methoxyethoxy group and an ethoxy group was produced.
The presence of 2-methoxyethoxy group and ethoxy group in the oligosiloxane indicates that the NMR spectrum of the reaction solution is obtained under the same conditions by using tetra (ethoxy) silane instead of tri (ethoxy) (2-methoxyethoxy) silane. It estimated by comparing with the NMR spectrum of the reaction liquid obtained by performing reaction by (FIG. 1). That is, by comparing the 29 Si signal region of oligosiloxane by 29 Si-NMR, the reaction liquid of tetra (ethoxy) silane was −88.68, −88.61, −85.98, and −85.90 ppm. In the reaction solution of tri (ethoxy) (2-methoxyethoxy) silane, in addition to those, −88.75, −88 were observed. .57, −85.77, −85.67, −85.53, and −85.52 ppm, and the like, signals that are considered to be derived from 2-methoxyethoxysilyl groups (Si—OCH 2 CH 2 OMe) were observed ( Table 3), suggesting the presence of both ethoxy and 2-methoxyethoxy groups.
Moreover, in the molecular weight measurement by GPC (polystyrene standard), the molecular weight of the produced oligosiloxane was 500 in weight average molecular weight (Mw) and 1.1 in weight average molecular weight / number average molecular weight (Mw / Mn) (Table). 3).
The obtained oligosiloxane solution could be applied onto a substrate such as an inorganic substance, and for example, could be applied onto a glass substrate by a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例76)
ジ(エトキシ)ジ(2−メトキシエトキシ)シラン(Iu−2)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、エタノールと2−メトキシエタノールが生成(エタノール:2−メトキシエタノール=約0.8:1、アルコキシ基全体の約50%が水と反応)するとともに、2−メトキシエトキシ基とエトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 76)
To 0.15 mmol of di (ethoxy) di (2-methoxyethoxy) silane (Iu-2), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added, mixed well, and then allowed to stand at room temperature for 14 hours. . As a result of analyzing the reaction solution by NMR, ethanol and 2-methoxyethanol were produced (ethanol: 2-methoxyethanol = about 0.8: 1, about 50% of the total alkoxy groups reacted with water), and 2-methoxy It was found that oligosiloxane having an ethoxy group and an ethoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例77)
トリ(メトキシ)[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン(Il−1)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、メタノールと(2−テトラヒドロフリル)メタノールが生成(メタノール:(2−テトラヒドロフリル)メタノール=約2.4:1、アルコキシ基全体の約45%が水と反応)するとともに、(2−テトラヒドロフリル)メトキシ基とメトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 77)
To 0.15 mmol of tri (methoxy) [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane (I1-1), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added and mixed well, then at room temperature for 14 hours. I left it alone. As a result of NMR analysis of the reaction solution, methanol and (2-tetrahydrofuryl) methanol were produced (methanol: (2-tetrahydrofuryl) methanol = about 2.4: 1, about 45% of the total alkoxy groups reacted with water). In addition, it was found that an oligosiloxane having a (2-tetrahydrofuryl) methoxy group and a methoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例78)
ジ(メトキシ)ジ[(2−テトラヒドロフリル)メトキシ]シラン(Il−2)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、メタノールと(2−テトラヒドロフリル)メタノールが生成(メタノール:(2−テトラヒドロフリル)メタノール=約1.9:1、アルコキシ基全体の約55%が水と反応)するとともに、(2−テトラヒドロフリル)メトキシ基とメトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 78)
To 0.15 mmol of di (methoxy) di [(2-tetrahydrofuryl) methoxy] silane (Il-2), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added and mixed well. Left for hours. As a result of analyzing the reaction solution by NMR, methanol and (2-tetrahydrofuryl) methanol were produced (methanol: (2-tetrahydrofuryl) methanol = about 1.9: 1, about 55% of the total alkoxy groups reacted with water). In addition, it was found that an oligosiloxane having a (2-tetrahydrofuryl) methoxy group and a methoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例79)
トリ(メトキシ)[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン(Im−1)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、メタノールと2−(2−メトキシエトキシ)エタノールが生成(メタノール:2−(2−メトキシエトキシ)エタノール=約2.3:1、アルコキシ基全体の約55%が水と反応)するとともに、2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ基とメトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3
の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 79)
To 0.15 mmol of tri (methoxy) [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane (Im-1), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added and mixed well. Left for 14 hours. As a result of analyzing the reaction solution by NMR, methanol and 2- (2-methoxyethoxy) ethanol were produced (methanol: 2- (2-methoxyethoxy) ethanol = about 2.3: 1, and about 55% of the total alkoxy groups were It was found that an oligosiloxane having a 2- (2-methoxyethoxy) ethoxy group and a methoxy group was produced.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the generated oligosiloxane are shown in Table 3.
It was as follows.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例80)
ジ(メトキシ)ジ[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]シラン(Im−2)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、メタノールと2−(2−メトキシエトキシ)エタノールが生成(メタノール:2−(2−メトキシエトキシ)エタノール=約0.6:1、アルコキシ基全体の約55%が水と反応)するとともに、2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ基とメトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 80)
To 0.15 mmol of di (methoxy) di [2- (2-methoxyethoxy) ethoxy] silane (Im-2), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added and mixed well. And left for 14 hours. As a result of analyzing the reaction solution by NMR, methanol and 2- (2-methoxyethoxy) ethanol were produced (methanol: 2- (2-methoxyethoxy) ethanol = about 0.6: 1, about 55% of the total alkoxy groups were It was found that an oligosiloxane having a 2- (2-methoxyethoxy) ethoxy group and a methoxy group was produced.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例81)
トリ(エトキシ)(2−メルカプトエトキシ)シラン(Iy−1)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、エタノールと2−メルカプトエタノールが生成(エタノール:2−メルカプトエタノール=約2.2:1、アルコキシ基全体の約50%が水と反応)するとともに、2−メルカプトエトキシ基とエトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 81)
0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added to 0.15 mmol of tri (ethoxy) (2-mercaptoethoxy) silane (Iy-1), mixed well, and left at room temperature for 14 hours. As a result of analyzing the reaction solution by NMR, ethanol and 2-mercaptoethanol were produced (ethanol: 2-mercaptoethanol = about 2.2: 1, about 50% of the total alkoxy groups reacted with water) and 2-mercapto. It was found that oligosiloxane having an ethoxy group and an ethoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例82)
ジ(エトキシ)ジ(2−メルカプトエトキシ)シラン(Iy−2)0.15mmolに、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、エタノールと2−メルカプトエタノールが生成(エタノール:2−メルカプトエタノール=約0.8:1、アルコキシ基全体の約50%が水と反応)するとともに、2−メルカプトエトキシ基とエトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 82)
To 0.15 mmol of di (ethoxy) di (2-mercaptoethoxy) silane (Iy-2), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added, mixed well, and then allowed to stand at room temperature for 14 hours. . As a result of analyzing the reaction solution by NMR, ethanol and 2-mercaptoethanol were produced (ethanol: 2-mercaptoethanol = about 0.8: 1, about 50% of the total alkoxy groups reacted with water) and 2-mercapto. It was found that oligosiloxane having an ethoxy group and an ethoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例83)
ジ(メトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)シラン(Iq−2)を主成分とするシラン混合物(Iq−1:Iq−2:Iq−3:IIId:Vq−4 = 28:38:23:7:4、合計量として約0.15mmol)に、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMR
で分析した結果、メタノールと3−クロロプロパノールが生成(メタノール:3−クロロプロパノール=約0.6:1、アルコキシ基全体の約60%が水と反応)するとともに、3−クロロプロポキシ基とメトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 83)
Silane mixture mainly composed of di (methoxy) di (3-chloropropoxy) silane (Iq-2) (Iq-1: Iq-2: Iq-3: IIId: Vq-4) = 28: 38: 23: 7 : 4, total amount of about 0.15 mmol) was added 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N aqueous hydrochloric acid solution, mixed well, and then allowed to stand at room temperature for 14 hours. NMR reaction solution
As a result, methanol and 3-chloropropanol were produced (methanol: 3-chloropropanol = about 0.6: 1, about 60% of the total alkoxy groups reacted with water), and 3-chloropropoxy group and methoxy It was found that an oligosiloxane having a group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
(実施例84)
ジ(エトキシ)ジ(3−クロロプロポキシ)シラン(Iaa−2)を主成分とするシラン混合物(Iaa−1:Iaa−2:Iaa−3:IIIe:Vaa−4 = 38:38:13:9:2、合計量として約0.15mmol)に、重アセトニトリル0.45mL、0.25N塩酸水溶液0.003mLを加え、よく混合した後、室温で14時間放置した。反応液をNMRで分析した結果、エタノールと3−クロロプロパノールが生成(エタノール:3−クロロプロパノール=約1.2:1、アルコキシ基全体の約55%が水と反応)するとともに、3−クロロプロポキシ基とエトキシ基を有するオリゴシロキサンが生成していることがわかった。
生成したオリゴシロキサンのNMR測定およびGPCによる分子量測定の結果は、表3の通りであった。
また、得られたオリゴシロキサンの溶液は、無機物等の基板上に塗布可能で、たとえば、スピンコート法(2000回転/分、60秒)により、ガラス基板上に塗布することができた。
(Example 84)
Silane mixture mainly composed of di (ethoxy) di (3-chloropropoxy) silane (Iaa-2) (Iaa-1: Iaa-2: Iaa-3: IIIe: Vaa-4 = 38: 38: 13: 9 : 2, to a total amount of about 0.15 mmol), 0.45 mL of deuterated acetonitrile and 0.003 mL of 0.25N hydrochloric acid aqueous solution were added, mixed well, and allowed to stand at room temperature for 14 hours. As a result of NMR analysis of the reaction solution, ethanol and 3-chloropropanol were produced (ethanol: 3-chloropropanol = about 1.2: 1, about 55% of the total alkoxy groups reacted with water) and 3-chloro It was found that an oligosiloxane having a propoxy group and an ethoxy group was formed.
The results of NMR measurement and molecular weight measurement by GPC of the produced oligosiloxane were as shown in Table 3.
The obtained oligosiloxane solution can be applied onto a substrate made of an inorganic substance or the like, and can be applied onto a glass substrate by, for example, a spin coating method (2000 rotations / minute, 60 seconds).
前記の実施例で得られたオリゴシロキサンの塗布膜は、原料アルコキシシラン中のアルコキシ基の種類に基づいた物理的・化学的特性を示す。
たとえば、親水性・疎水性に関しては、水の接触角を測定した結果、オキシアルキル基を含むオリゴシロキサンでは約20〜35の範囲、チオアルキル基またはハロゲノアルキル基を含むオリゴシロキサンでは約40〜55の範囲の数値が得られた。このことは、オキシアルキル基を含むアルコキシシランから得られたオリゴシロキサンが親水性の膜を形成する傾向があるのに対して、チオアルキル基やハロゲノアルキル基を含むアルコキシシランから得られたオリゴシロキサンは親水性が低い膜を形成する傾向があることを示すもので、表面の親水性・疎水性等の制御に有用であると考えられる。
また、オキシアルキル基やチオアルキル基を含むオリゴシロキサンでは、さまざまな無機原子や金属カチオン等の捕捉や吸着に対して優れた特性を期待できるとともに、ハロゲノアルキル基を含むオリゴシロキサンでは、ハロゲン原子の部分を他の官能基や機能性基に変換して高性能化や多機能化を図ることなども期待できる。
The coating film of the oligosiloxane obtained in the above example exhibits physical and chemical characteristics based on the type of alkoxy group in the raw material alkoxysilane.
For example, with respect to hydrophilicity / hydrophobicity, as a result of measuring the contact angle of water, the oligosiloxane containing an oxyalkyl group is in the range of about 20 to 35, and the oligosiloxane containing a thioalkyl group or a halogenoalkyl group is about 40 to 55. Range numbers were obtained. This is because oligosiloxanes obtained from alkoxysilanes containing oxyalkyl groups tend to form hydrophilic films, whereas oligosiloxanes obtained from alkoxysilanes containing thioalkyl groups or halogenoalkyl groups This indicates that there is a tendency to form a film having low hydrophilicity, and is considered useful for controlling the hydrophilicity / hydrophobicity of the surface.
In addition, oligosiloxanes containing oxyalkyl groups and thioalkyl groups can be expected to have excellent properties for capturing and adsorbing various inorganic atoms and metal cations. It can also be expected to improve the performance and multifunctionality by converting to other functional groups and functional groups.
本発明により、各種機能性化学品あるいはその合成中間体等として有用なアルコキシシラン類およびオリゴシロキサン類を、効率的かつ安全に提供できるため、本発明の利用価値は高く、その工業的意義は多大である。 According to the present invention, alkoxysilanes and oligosiloxanes useful as various functional chemicals or synthetic intermediates thereof can be provided efficiently and safely. Therefore, the utility value of the present invention is high, and its industrial significance is great. It is.
Claims (8)
R1 pR2 qSi(OR3)r(OR4)s (I)
(式(I)中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、r、sは1以上の整数、p+q+r+s=4である。R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R3はそれぞれ独立にエチル基またはメチル基、R4はそれぞれ独立に炭素数2〜10の有機基である。さらに、前記R1およびR2の有機基は、炭素数4〜10のアリール基、炭素数1〜10のアルキル基、または炭素数2〜10のアルケニル基である。
加えて、p、q、r、およびsがいずれも1である場合以外は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、または炭素数2〜10のハロゲノアルキル基である。
また、p、q、r、およびsがいずれも1である場合は、前記R4の有機基は、炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。) Alkoxysilanes represented by the following general formula (I).
R 1 p R 2 q Si ( OR 3) r (OR 4) s (I)
(In the formula (I), p, q and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, r and s are integers of 1 or more and p + q + r + s = 4. R 1 and R 2 are each independently of 1 to 10 carbon atoms. An organic group or a hydrogen atom, R 3 is each independently an ethyl group or a methyl group, R 4 is each independently an organic group having 2 to 10 carbon atoms, and the organic groups of R 1 and R 2 are carbon atoms It is a 4-10 aryl group, a C1-C10 alkyl group, or a C2-C10 alkenyl group.
In addition, except that p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or carbon It is a halogenoalkyl group of several 2 to 10.
When p, q, r, and s are all 1, the organic group of R 4 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. 10 halogenoalkyl groups, alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms, alkynyl groups having 3 to 10 carbon atoms, aralkyl groups having 5 to 10 carbon atoms, or amino acids having 3 to 10 carbon atoms It is an alkyl group. )
R1 pR2 q(R5O)tSi−O−Si(OR5)tR1 pR2 q (II)
(式(II)中、p、q、p+qは0以上2以下の整数、R1およびR2はそれぞれ独立に炭素数1〜10の有機基または水素原子、R5はそれぞれ独立にエチル基、メチル基、炭
素数2〜10の有機基、またはシリル基であり、R5の少なくとも1つは炭素数3〜10のオキシアルキル基、炭素数2〜10のチオアルキル基、炭素数2〜10のハロゲノアルキル基、炭素数3〜10のアルキル基、炭素数3〜10のアルケニル基、炭素数3〜10のアルキニル基、炭素数5〜10のアラルキル基、または炭素数3〜10のアミノアルキル基である。tは1以上3以下の整数、p+q+t=3である。) Oligosiloxanes having a structure represented by the following general formula (II).
R 1 p R 2 q (R 5 O) t Si-O-Si (OR 5) t R 1 p R 2 q (II)
(In the formula (II), p, q and p + q are integers of 0 or more and 2 or less, R 1 and R 2 are each independently an organic group or hydrogen atom having 1 to 10 carbon atoms, R 5 is each independently an ethyl group, A methyl group, an organic group having 2 to 10 carbon atoms, or a silyl group, and at least one of R 5 is an oxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a thioalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a 2 to 10 carbon atom. A halogenoalkyl group, an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 5 to 10 carbon atoms, or an aminoalkyl group having 3 to 10 carbon atoms T is an integer of 1 to 3, and p + q + t = 3.)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014179029 | 2014-09-03 | ||
JP2014179029 | 2014-09-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016053021A true JP2016053021A (en) | 2016-04-14 |
JP6631907B2 JP6631907B2 (en) | 2020-01-15 |
Family
ID=55744577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015172618A Active JP6631907B2 (en) | 2014-09-03 | 2015-09-02 | Alkoxysilanes, oligosiloxanes and method for producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6631907B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106349276A (en) * | 2016-08-12 | 2017-01-25 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | Ester exchange method for preparing vinyl tri-(2- methoxy ethyoxyl)-silane |
JP2019218305A (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | Method for producing silane having alkoxy group and acyloxy group, novel silane, and use thereof |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4005119A (en) * | 1975-04-22 | 1977-01-25 | The Procter And Gamble Company | Organosilane compounds |
JPS62181346A (en) * | 1986-02-05 | 1987-08-08 | Bridgestone Corp | Rubber composition |
JPH11100571A (en) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Ice-melting dehydrating agent and ice-melting dehydrating refrigerant composition |
JP2013533342A (en) * | 2010-06-24 | 2013-08-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Polymerizable composition not containing organic emulsifier, polymer and production method thereof |
CN103865390A (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-18 | 锜玮科技(深圳)有限公司 | Hydrophobic film-coating liquid and production process of anti-pollution anti-fingerprint film-coated layer prepared therefrom |
-
2015
- 2015-09-02 JP JP2015172618A patent/JP6631907B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4005119A (en) * | 1975-04-22 | 1977-01-25 | The Procter And Gamble Company | Organosilane compounds |
JPS62181346A (en) * | 1986-02-05 | 1987-08-08 | Bridgestone Corp | Rubber composition |
JPH11100571A (en) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Ice-melting dehydrating agent and ice-melting dehydrating refrigerant composition |
JP2013533342A (en) * | 2010-06-24 | 2013-08-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Polymerizable composition not containing organic emulsifier, polymer and production method thereof |
CN103865390A (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-18 | 锜玮科技(深圳)有限公司 | Hydrophobic film-coating liquid and production process of anti-pollution anti-fingerprint film-coated layer prepared therefrom |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
"CAS REGISTRY NO. 1035807-90-9", DATABASE REGISTRY, JPN6018051500, 24 July 2008 (2008-07-24) * |
"CAS REGISTRY NO. 18081-14-6", DATABASE REGISTRY, JPN6018051504, 16 November 1984 (1984-11-16) * |
"CAS REGISTRY NO. 83408-30-4", DATABASE REGISTRY, JPN6018051502, 16 November 1984 (1984-11-16) * |
BOEV, V. V. ET AL.: "Reactivity of tetraalkoxysilanes with siloxanes", KAUCUK I REZINA, vol. Vol. 3, JPN6018051498, 2009, pages pp. 29-32 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106349276A (en) * | 2016-08-12 | 2017-01-25 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | Ester exchange method for preparing vinyl tri-(2- methoxy ethyoxyl)-silane |
CN106349276B (en) * | 2016-08-12 | 2019-03-15 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | A kind of ester exchange method preparing vinyl three-(2- methoxyethoxy)-silane |
JP2019218305A (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | Method for producing silane having alkoxy group and acyloxy group, novel silane, and use thereof |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6631907B2 (en) | 2020-01-15 |
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