JP2023079049A - Method for producing thionoacyloxysilane - Google Patents

Method for producing thionoacyloxysilane Download PDF

Info

Publication number
JP2023079049A
JP2023079049A JP2021192454A JP2021192454A JP2023079049A JP 2023079049 A JP2023079049 A JP 2023079049A JP 2021192454 A JP2021192454 A JP 2021192454A JP 2021192454 A JP2021192454 A JP 2021192454A JP 2023079049 A JP2023079049 A JP 2023079049A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
reaction
thionoacyloxysilanes
groups
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021192454A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
浩 山下
Hiroshi Yamashita
真紀子 羽鳥
Makiko Hatori
訓久 深谷
Kunihisa Fukaya
一彦 佐藤
Kazuhiko Sato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority to JP2021192454A priority Critical patent/JP2023079049A/en
Publication of JP2023079049A publication Critical patent/JP2023079049A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

To provide a method for efficiently producing a thionoacyloxysilane.SOLUTION: A method for producing a thionoacyloxysilane includes a reaction step of reacting an alkoxysilane with a diacylsulfide.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、チオノアシロキシシラン類の効率的な製造方法に関する。 The present invention relates to an efficient method for producing thionoacyloxysilanes.

チオノアシロキシシラン類は、医薬、農薬、電子材料等の精密合成用試薬、その合成中間体等として利用される機能性化学品である。
チオノアシロキシシラン類の製造方法としては、たとえば、(A)ビスシリルシラザンとチオカルボン酸を反応させる方法(非特許文献1)、(B)クロロシランとチオカルボン酸を塩基存在下で反応させる方法(非特許文献1)、(C)クロロシランとチオカルボン酸カリウム塩を反応させる方法(非特許文献2)等が知られている。
The thionoacyloxysilanes are functional chemicals that are used as reagents for precision synthesis of pharmaceuticals, agricultural chemicals, electronic materials and the like, intermediates for their synthesis, and the like.
Methods for producing thionoacyloxysilanes include, for example, (A) a method of reacting bissilylsilazane and thiocarboxylic acid (Non-Patent Document 1), and (B) a method of reacting chlorosilane and thiocarboxylic acid in the presence of a base (Non-Patent Document 1). Patent Document 1), (C) a method of reacting chlorosilane and potassium thiocarboxylic acid (Non-Patent Document 2), and the like are known.

J. Org. Chem. 1966, 31, 10, 3439-3440J. Org. Chem. 1966, 31, 10, 3439-3440 Bull.Chem.Soc.Jpn.,46,244-248 (1973)Bull.Chem.Soc.Jpn.,46,244-248 (1973)

しかし、ビスシリルシラザンを用いる方法(方法A)では、原料のシラザン化合物が加水分解しやすく取扱いに注意を要する、入手容易な市販化合物の種類が少ない等の問題点がある。また、クロロシランを用いる方法(方法B、C)でも、加水分解により腐食性の塩化水素を発生するクロロシランを使用するため、原料の取り扱いが容易でない等の問題点がある。さらに、ビスシリルシラザン又はクロロシランを用いる方法(方法A~C)では、反応で大量の塩が生じるため、塩を濾過等の方法により除去する工程に時間とコストがかかる等の問題がある。これらのことから、工業的により有利な製造方法が求められている。 However, in the method using bissilylsilazane (Method A), there are problems such as that the silazane compound used as the starting material is easily hydrolyzed, requiring careful handling, and that there are only a few types of readily available commercially available compounds. The methods using chlorosilane (Methods B and C) also have problems such as difficulty in handling raw materials because chlorosilane is used which generates corrosive hydrogen chloride by hydrolysis. Furthermore, in the methods using bissilylsilazane or chlorosilane (Methods A to C), a large amount of salt is generated in the reaction, and the process of removing the salt by a method such as filtration is time-consuming and costly. For these reasons, there is a demand for an industrially more advantageous production method.

本発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであって、チオノアシロキシシラン類をより効率的に製造する方法を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and an object of the present invention is to provide a method for producing thionoacyloxysilanes more efficiently.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、アルコキシシラン類とジアシルスルフィド類を反応させることにより、大量の塩等の生成を伴うことなく、チオノアシロキシシラン類が効率よく生成することを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors have found that by reacting alkoxysilanes and diacyl sulfides, thionoacyloxysilanes can be produced efficiently without producing a large amount of salts. The inventors have found that it produces well, and have completed the present invention.

本発明の製造方法は、次のような特徴を有する。
(1)原料が入手し易く、取り扱いが比較的容易で安全性も高い。
(2)本反応系では塩を生じることはなく、大量の塩の分離工程を必要としない。
(3)酸性の固体触媒を使用する場合は、濾過、遠心分離等により触媒の分離を容易に行うことができる。
本発明の製造方法は、製造プロセスの低コスト化、高効率化を可能にするもので、従来技術に比べて経済性、環境負荷等の面で大きな利点を有すると考える。
The manufacturing method of the present invention has the following features.
(1) Raw materials are readily available, handling is relatively easy, and safety is high.
(2) This reaction system does not produce salts and does not require a large amount of salt separation step.
(3) When an acidic solid catalyst is used, the catalyst can be easily separated by filtration, centrifugation, or the like.
The manufacturing method of the present invention makes it possible to reduce the cost and increase the efficiency of the manufacturing process, and is considered to have great advantages in terms of economic efficiency, environmental burden, etc., compared to conventional techniques.

すなわち、この出願は以下の発明を提供するものである。
<1>
アルコキシシラン類とジアシルスルフィド類とを反応させる反応工程を含む、チオノアシロキシシラン類の製造方法。
<2>
前記反応工程が、触媒存在下で行われる、<1>に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
<3>
前記アルコキシシラン類が、下記一般式(I)で表され、前記ジアシルスルフィド類が、下記一般式(II)で表され、前記チオノアシロキシシラン類が、下記一般式(III)で表される、<1>又は<2>に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
Si(OR4-(p+q+r) (I)
(式中、p、q、及びrは、それぞれ独立に0以上3以下の整数であり;p+q+rは、0以上3以下の整数であり;R、R、及びRは、それぞれ独立に炭素数1~24の炭化水素基又は水素原子であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよく;Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキル基である。)
(RCO)S (II)
(式中、Rは、炭素数1~24の炭化水素基であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。)
Si(OR4-(p+q+r+s)[OC(=S)R
(III)
(式中、p、q、r、R、R、R、R、及びRは、それぞれ前記と同義であり;sは、1以上4-(p+q+r)以下の整数である。)
<4>
前記触媒が、酸性触媒である、<1>~<3>の何れかに記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
<5>
前記酸性触媒が、ビス(パーフルオロアルカンスルホニル)イミド及びその金属塩から選ばれる酸性化合物である、<4>に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
<6>
前記酸性触媒が、モンモリロナイト及びゼオライトから選ばれる固体酸触媒である、<4>に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
That is, this application provides the following inventions.
<1>
A method for producing thionoacyloxysilanes, comprising a reaction step of reacting alkoxysilanes and diacylsulfides.
<2>
The method for producing thionoacyloxysilanes according to <1>, wherein the reaction step is performed in the presence of a catalyst.
<3>
The alkoxysilanes are represented by the following general formula (I), the diacyl sulfides are represented by the following general formula (II), and the thionoacyloxysilanes are represented by the following general formula (III). , <1> or <2>, the method for producing thionoacyloxysilanes.
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4-(p+q+r) (I)
(Wherein, p, q, and r are each independently an integer of 0 to 3; p+q+r is an integer of 0 to 3; R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a hydrogen atom, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group may be substituted with groups that do not participate in the reaction; Each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
( R5CO ) 2S (II)
(In the formula, R 5 is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group may be substituted with groups that do not participate in the reaction. .)
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4−(p+q+r+s) [OC(=S)R 5 ] s
(III)
(In the formula, p, q, r, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 have the same definitions as above; s is an integer of 1 or more and 4-(p+q+r) or less. )
<4>
The method for producing thionoacyloxysilanes according to any one of <1> to <3>, wherein the catalyst is an acidic catalyst.
<5>
The method for producing thionoacyloxysilanes according to <4>, wherein the acidic catalyst is an acidic compound selected from bis(perfluoroalkanesulfonyl)imides and metal salts thereof.
<6>
The method for producing thionoacyloxysilanes according to <4>, wherein the acidic catalyst is a solid acid catalyst selected from montmorillonite and zeolite.

本発明によれば、チオノアシロキシシラン類を従来の方法に比べより効率的に製造できる。 According to the present invention, thionoacyloxysilanes can be produced more efficiently than conventional methods.

以下、本発明について詳細に説明する。なお、特段の記載がない限り、本明細書中のある式中の記号が他の式においても用いられる場合、同一の記号は同一の意味を示す。
本発明の一実施形態に係るチオノアシロキシシラン類の製造方法は、アルコキシランシラン類とジアシルスルフィド類とを反応させる反応工程を含む。
その反応工程は、反応を促進するための触媒存在下で行うことができる。
The present invention will be described in detail below. Unless otherwise specified, the same symbols have the same meanings when symbols in formulas in this specification are also used in other formulas.
A method for producing thionoacyloxysilanes according to one embodiment of the present invention includes a reaction step of reacting alkoxysilanes and diacylsulfides.
The reaction step can be performed in the presence of a catalyst to promote the reaction.

本実施形態において、原料として使用するアルコキシシラン類は、たとえば、下記一般式(I)で表される(以下、一般式(I)で表されるアルコキシシラン類を「アルコキシシラン(I)」と称することがある。)。
Si(OR4-(p+q+r) (I)
一般式(I)において、p、q、及びrは、それぞれ独立に0以上3以下の整数であり;p+q+rは、0以上3以下の整数である。また、R、R、及びRは、それぞれ独立に炭素数1~24の炭化水素基又は水素原子であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキル基である。
なお、本明細書において「反応に関与しない」とは、目的とする反応に反応物質として直接関与せず、また、当該反応を阻害しないことを意味する。
In the present embodiment, the alkoxysilanes used as raw materials are, for example, represented by the following general formula (I) (hereinafter, the alkoxysilanes represented by the general formula (I) are referred to as "alkoxysilanes (I)" sometimes referred to as).
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4-(p+q+r) (I)
In general formula (I), p, q, and r are each independently an integer of 0 or more and 3 or less; p+q+r is an integer of 0 or more and 3 or less. R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a hydrogen atom, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group react may be substituted with groups that do not participate in Each R 4 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
As used herein, the term "does not participate in the reaction" means that it does not directly participate in the target reaction as a reactant and does not inhibit the reaction.

、R、及びRで表される炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基等が挙げられる。
炭化水素基がアルキル基の場合、アルキル基の炭素数は、好ましくは1~20、より好ましくは1~18、さらに好ましくは1~10であり、特に好ましくは1~4である。アルキル基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。
Examples of hydrocarbon groups represented by R 1 , R 2 and R 3 include alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups and alkenyl groups.
When the hydrocarbon group is an alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, still more preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the alkyl group may be substituted with groups that do not participate in the reaction.

反応に関与しない基としては、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~6のアルコキシカルボニル基、炭素数1~6のジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子をより具体的に示せば、炭素数1~6のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ヘキソキシ基等が挙げられ;炭素数1~6のアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられ;炭素数1~6のジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられ;ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Groups that do not participate in the reaction include alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 1 to 6 carbon atoms, dialkylamino groups having 1 to 6 carbon atoms, cyano groups, nitro groups, and halogen atoms. More specifically, alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, dialkylamino groups, and halogen atoms, specific examples of alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms include methoxy, ethoxy, and hexoxy groups; Specific examples of alkoxycarbonyl groups having 1 to 6 include methoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group and the like; dialkylamino groups having 1 to 6 carbon atoms include dimethylamino group, diethylamino group and the like; halogen atom Specific examples of include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and the like.

反応に関与しない基で置換されていてもよいアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、デシル基、2-メトキシエチル基、3-エトキシプロピル基、2-メトキシカルボニルエチル基、2-ジメチルアミノエチル基、2-シアノエチル基、トリフルオロメチル基、3-クロロプロピル基等が挙げられる。 Specific examples of alkyl groups optionally substituted with groups that do not participate in the reaction include methyl, ethyl, propyl, butyl, sec-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, octyl and decyl. group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-dimethylaminoethyl group, 2-cyanoethyl group, trifluoromethyl group, 3-chloropropyl group and the like.

また、炭化水素基がアリール基の場合、前記アリール基としては、炭化水素環系又は複素環系の1価の芳香族有機基を使用できる。アリール基が炭化水素環系の1価の芳香族有機基である場合、その炭素数は、好ましくは6~22、より好ましくは6~14、さらに好ましくは6~10である。炭化水素環系の1価の芳香族有機基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、ペリレニル基、ペンタセニル基等が挙げられる。また、アリール基が複素環系の1価の芳香族有機基である場合、複素環中のヘテロ原子は硫黄、酸素原子等である。また、複素環系の1価の芳香族有機基の炭素数は、好ましくは4~12、より好ましくは4~8である。複素環系の1価の芳香族有機基の具体例としては、チエニル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、フリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基等が挙げられる。
アリール基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部は、反応に関与しない基で置換されていてもよい。反応に関与しない基としては、前記のアルキル基に置換していてもよい反応に関与しない基として示したもの等を挙げることができる。また、その他の反応に関与しない基として、環上の2つの炭素原子を結合させる2価の基であるオキシエチレン基、オキシエチレンオキシ基等が挙げられる。
反応に関与しない基で置換されていてもよいアリール基の具体例としては、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、オクトキシフェニル基、メチル(メトキシ)フェニル基、フルオロ(メチル)フェニル基、クロロ(メトキシ)フェニル基、ブロモ(メトキシ)フェニル基、2,3-ジヒドロベンゾフラニル基、1,4-ベンゾジオキサニル基等が挙げられる。
When the hydrocarbon group is an aryl group, the aryl group can be a monovalent aromatic organic group of a hydrocarbon ring system or a heterocyclic ring system. When the aryl group is a monovalent aromatic organic group of a hydrocarbon ring system, it preferably has 6-22 carbon atoms, more preferably 6-14 carbon atoms, and still more preferably 6-10 carbon atoms. Specific examples of monovalent aromatic organic groups having a hydrocarbon ring system include phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, pyrenyl, perylenyl, and pentacenyl groups. When the aryl group is a heterocyclic monovalent aromatic organic group, the heteroatom in the heterocyclic ring is sulfur, oxygen, or the like. The number of carbon atoms in the heterocyclic monovalent aromatic organic group is preferably 4-12, more preferably 4-8. Specific examples of heterocyclic monovalent aromatic organic groups include thienyl, benzothienyl, dibenzothienyl, furyl, benzofuryl and dibenzofuryl groups.
Some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the aryl group may be substituted with groups that do not participate in the reaction. Examples of the non-reaction-involved group include those shown as the non-reaction-involved group which may be substituted on the alkyl group. Examples of other groups that do not participate in the reaction include an oxyethylene group, an oxyethyleneoxy group, etc., which are divalent groups that bond two carbon atoms on a ring.
Specific examples of the aryl group optionally substituted with groups that do not participate in the reaction include methylphenyl, ethylphenyl, hexylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxyphenyl, octoxyphenyl, methyl (Methoxy)phenyl group, fluoro(methyl)phenyl group, chloro(methoxy)phenyl group, bromo(methoxy)phenyl group, 2,3-dihydrobenzofuranyl group, 1,4-benzodioxanyl group and the like. .

さらに、炭化水素基がアラルキル基の場合には、アラルキル基の炭素数は、好ましくは7~23、より好ましくは7~16である。また、アラルキル基の炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。
反応に関与しない基としては、前記のアルキル基に置換していてもよい反応に関与しない基として示したもの等を挙げることができる。
反応に関与しない基で置換されていてもよいアラルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、2-ナフチルメチル基、9-アントリルメチル基、(4-クロロフェニル)メチル基、1-(4-メトキシフェニル)エチル基等が挙げられる。
Furthermore, when the hydrocarbon group is an aralkyl group, the aralkyl group preferably has 7 to 23 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms. Also, some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the aralkyl group may be substituted with groups that do not participate in the reaction.
Examples of the non-reaction-involved group include those shown as the non-reaction-involved group which may be substituted on the alkyl group.
Specific examples of the aralkyl group optionally substituted with groups that do not participate in the reaction include a benzyl group, a phenethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 9-anthrylmethyl group, a (4-chlorophenyl)methyl group, a 1-( 4-methoxyphenyl)ethyl group and the like.

また、炭化水素基がアルケニル基の場合には、アルケニル基の炭素数は、好ましくは2~23、より好ましくは2~20であるまた、アルケニル基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。
反応に関与しない基としては、前記のアルキル基に置換していてもよい反応に関与しない基として示したものの他、前記アリール基等を挙げることができる。
反応に関与しない基で置換されていてもよいアルケニル基の具体例としては、ビニル基、2-プロペニル基、3-ブテニル基、5-ヘキセニル基、9-デセニル基、2-フェニルエテニル基、2-(メトキシフェニル)エテニル基、2-ナフチルエテニル基、2-アントリルエテニル基等が挙げられる。
When the hydrocarbon group is an alkenyl group, the alkenyl group preferably has 2 to 23 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms. All may be substituted with groups that do not participate in the reaction.
Examples of the non-reaction-involved group include the groups shown as the non-reaction-involved groups which may be substituted on the alkyl group, as well as the above-mentioned aryl groups.
Specific examples of the alkenyl group optionally substituted with groups that do not participate in the reaction include vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 5-hexenyl group, 9-decenyl group, 2-phenylethenyl group, 2-(methoxyphenyl)ethenyl group, 2-naphthylethenyl group, 2-anthrylethenyl group and the like.

で表される炭素数1~6のアルキル基の炭素数は、好ましくは1~4、より好ましくは1~3である。
炭素数1~6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
The carbon number of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 4 is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3.
Specific examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, sec-butyl group, pentyl group, hexyl group and cyclohexyl group.

アルコキシシラン(I)の具体例としては、(メトキシ)トリメチルシラン(MeSiOMe)、(エトキシ)トリメチルシラン(MeSiOEt)、(エトキシ)トリエチルシラン(EtSiOEt)、(エトキシ)ジメチル(フェニル)シラン(MePhSiOEt)、(エトキシ)メチルジ(フェニル)シラン(MePhSiOEt)、(エトキ
シ)ジメチル(ビニル)シラン(MeViSiOEt)、メチルフェニルジ(メトキシ)シラン(MePhSi(OMe))、ジメチルジ(メトキシ)シラン(MeSi(OMe))、ジ(エトキシ)ジメチルシラン(MeSi(OEt))、ジ(エトキシ)(フェニル)ビニルシラン(PhViSi(OEt))、メチルトリ(メトキシ)シラン(MeSi(OMe))、トリ(エトキシ)メチルシラン(MeSi(OEt))、フェニルトリ(メトキシ)シラン(PhSi(OMe))、フェニルトリ(エトキシ)シラン(PhSi(OEt))、ビニルトリ(メトキシ)シラン(ViSi(OMe))、ビニルトリ(エトキシ)シラン(ViSi(OEt))、トリ(メトキシ)シラン(HSi(OMe))、トリ(エトキシ)シラン(HSi(OEt))、テトラ(メトキシ)シラン(Si(OMe))、テトラ(エトキシ)シラン(Si(OEt))、テトラ(プロポキシ)シラン(Si(OPr))、テトラ(ブトキシ)シラン(Si(OBu))等を挙げることができる。
Specific examples of the alkoxysilane (I) include (methoxy)trimethylsilane (Me 3 SiOMe), (ethoxy)trimethylsilane (Me 3 SiOEt), (ethoxy)triethylsilane (Et 3 SiOEt), (ethoxy)dimethyl(phenyl ) silane ( Me2PhSiOEt ), (ethoxy)methyldi(phenyl)silane ( MePh2SiOEt), (ethoxy)dimethyl(vinyl)silane ( Me2ViSiOEt ), methylphenyldi(methoxy)silane (MePhSi(OMe) 2 ) , dimethyldi(methoxy)silane (Me 2 Si(OMe) 2 ), di(ethoxy)dimethylsilane (Me 2 Si(OEt) 2 ), di(ethoxy)(phenyl)vinylsilane (PhViSi(OEt) 2 ), methyltri( methoxy)silane (MeSi(OMe) 3 ), tri(ethoxy)methylsilane (MeSi(OEt) 3 ), phenyltri(methoxy)silane (PhSi(OMe) 3 ), phenyltri(ethoxy)silane (PhSi(OEt) 3 ), vinyltri(methoxy)silane (ViSi(OMe) 3 ), vinyltri(ethoxy)silane (ViSi(OEt) 3 ), tri(methoxy)silane (HSi(OMe) 3 ), tri(ethoxy)silane (HSi(OEt ) 3 ), tetra(methoxy)silane (Si(OMe) 4 ), tetra(ethoxy)silane (Si(OEt) 4 ), tetra(propoxy)silane (Si(OPr) 4 ), tetra(butoxy)silane (Si (OBu) 4 ) and the like.

一方、前記アルコキシシラン類と反応させるジアシルスルフィド類は、たとえば、下記一般式(II)で表される(以下、一般式(II)で表されるジアシルスルフィド類を「ジアシルスルフィド(II)」と称することがある。)。
(RCO)S (II)
On the other hand, diacyl sulfides to be reacted with the alkoxysilanes are represented by, for example, the following general formula (II) (hereinafter, diacyl sulfides represented by general formula (II) are referred to as "diacyl sulfides (II)" sometimes referred to as).
( R5CO ) 2S (II)

一般式(II)において、Rは、炭素数1~24の炭化水素基であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。
で表される炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基等が挙げられ、これらは、R、R、及びRの説明において示したアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基等と同様に定義される。また、反応に関与し
ない基としては、前記一般式(I)のR、R、及びRの説明において示した反応に関与しない基等を挙げることができる。
炭化水素基中の炭素数に関しては、炭化水素基がアルキル基の場合には、好ましくは1~20、より好ましくは1~18、さらに好ましくは1~12、特に好ましくは1~6であり;炭化水素基がアリール基の場合には、好ましくは4~20、より好ましくは4~18であり;炭化水素基がアラルキル基の場合には、好ましくは5~21、より好ましくは5~19であり;炭化水素基がアルケニル基の場合には、好ましくは2~20、より好ましくは2~18である。
これらの炭化水素基の具体例としては、前記一般式(I)のR、R、及びRの説明において示した炭化水素基等を挙げることができる。
In general formula (II), R 5 is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group are substituted with groups that do not participate in the reaction. may
Examples of the hydrocarbon group represented by R 5 include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, etc. These are the alkyl groups and aryl groups shown in the description of R 1 , R 2 and R 3 , aralkyl group, alkenyl group and the like. Examples of groups that do not participate in the reaction include groups that do not participate in the reaction shown in the description of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I).
Regarding the number of carbon atoms in the hydrocarbon group, when the hydrocarbon group is an alkyl group, it is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 18, even more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 6; When the hydrocarbon group is an aryl group, it is preferably 4 to 20, more preferably 4 to 18; when the hydrocarbon group is an aralkyl group, it is preferably 5 to 21, more preferably 5 to 19. Yes; preferably 2 to 20, more preferably 2 to 18 when the hydrocarbon group is an alkenyl group.
Specific examples of these hydrocarbon groups include the hydrocarbon groups shown in the description of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I).

ジアシルスルフィド(II)の具体例としては、ジアセチルスルフィド((MeCO)S)、ジプロピオニルスルフィド((EtCO)S)、ジブチリルスルフィド((PrCO)S)、ジイソブチリルスルフィド((PrCO)S)、ジヘキサノイルスルフィド((PentCO)S)、ジベンゾイルスルフィド((PhCO)S)、ビス(ベンジルカルボニル)スルフィド((PhCHCO)S)、ジクロトノイルスルフィド((MeCH=CHCO)S)等が挙げられる。 Specific examples of diacyl sulfide (II) include diacetyl sulfide ((MeCO) 2 S), dipropionyl sulfide ((EtCO) 2 S), dibutyryl sulfide ((PrCO) 2 S), diisobutyryl sulfide (( i PrCO) 2 S), dihexanoyl sulfide ((PentCO) 2 S), dibenzoyl sulfide ((PhCO) 2 S), bis(benzylcarbonyl) sulfide ((PhCH 2 CO) 2 S), dicrotonoyl sulfide ( (MeCH=CHCO) 2 S) and the like.

アルコキシシラン類に対するジアシルスルフィド類のモル比は任意に選ぶことができるが、アルコキシシラン類を基準としたチオノアシロキシシラン類の収率を考慮すれば、通常0.4以上300以下であり、より好ましくは0.5以上200以下であり、さらに好ましくは0.5以上150以下であり、また、0.5以上100以下、0.5以上50以下、0.5以上10以下、又は0.5以上5以下であってもよい。 The molar ratio of diacyl sulfides to alkoxysilanes can be arbitrarily selected, but considering the yield of thionoacyloxysilanes based on alkoxysilanes, it is usually 0.4 or more and 300 or less. It is preferably 0.5 to 200, more preferably 0.5 to 150, and 0.5 to 100, 0.5 to 50, 0.5 to 10, or 0.5 It may be more than or equal to 5 or less.

本実施形態においては、アルコキシシラン類(I)と、ジアシルスルフィド類(II)との反応により、下記一般式(III)で表されるチオノアシロキシシラン類を製造できる(以下、一般式(III)で表されるチオノアシロキシシラン類を「チオノアシロキシシラン(III)」と称することがある。)。
Si(OR4-(p+q+r+s)[OC(=S)R (III)
In the present embodiment, thionoacyloxysilanes represented by the following general formula (III) can be produced by reacting alkoxysilanes (I) with diacylsulfides (II) (hereinafter, general formula (III ) is sometimes referred to as "thionoacyloxysilane (III)").
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4-(p+q+r+s) [OC(=S)R 5 ] s (III)

一般式(III)中のp、q、r、s、R、R、R、R、R、及びRは、それぞれ前記と同義であり、それらの具体例としては、前記一般式(I)及び(II)で示したもの等を挙げることができる。また、sは、1以上4-(p+q+r)以下の整数であり、好ましくは1以上2以下の整数であり、より好ましくは1である。 p, q, r, s, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 in general formula (III) have the same meanings as defined above, and specific examples thereof include Examples include those represented by general formulas (I) and (II). Further, s is an integer of 1 or more and 4−(p+q+r) or less, preferably 1 or more and 2 or less, more preferably 1.

チオノアシロキシシラン(III)の具体例を示すと、トリメチル(チオノアセトキシ)シラン(MeSiOC(=S)Me)、トリエチル(チオノアセトキシ)シラン(EtSiOC(=S)Me)、ジメチル(フェニル)(チオノアセトキシ)シラン(MePhSiOC(=S)Me)、メチルジ(フェニル)(チオノアセトキシ)シラン(MePhSiOC(=S)Me)、ジメチル(ビニル)(チオノアセトキシ)シラン(MeViSiOC(=S)Me)、(エトキシ)ジメチル(チオノアセトキシ)シラン(MeSi(OEt)[OC(=S)Me])、ジメチルビス(チオノアセトキシ)シラン(MeSi[OC(=S)Me])、ジ(エトキシ)メチル(チオノアセトキシ)シラン(MeSi(OEt)[OC(=S)Me])、トリ(エトキシ)(チオノアセトキシ)シラン(Si(OEt)[OC(=S)Me])、ジ(エトキシ)ビス(チオノアセトキシ)シラン(Si(OEt)[OC(=S)Me])、トリ(メトキシ)(チオノアセトキシ)シラン(Si(OMe)[OC(=S)Me])、ジ(メトキシ)ビス(チオノアセトキシ)シラン(Si(OMe)[OC(=S)Me])、トリメチル(チオベンゾイルオキシ)シラン(MeSiOC(=S)Ph)、トリ(エトキ
シ)(チオベンゾイルオキシ)シラン(Si(OEt)[OC(=S)Ph])、トリ(メトキシ)(チオベンゾイルオキシ)シラン(Si(OMe)[OC(=S)Ph])等が挙げられる。
Specific examples of thionoacyloxysilane (III) include trimethyl(thionoacetoxy)silane (Me 3 SiOC(=S)Me), triethyl(thionoacetoxy)silane (Et 3 SiOC(=S)Me), dimethyl(phenyl)(thionoacetoxy)silane ( Me2PhSiOC (=S)Me), methyldi(phenyl)(thionoacetoxy)silane ( MePh2SiOC (=S)Me), dimethyl(vinyl)(thionoacetoxy) ) silane ( Me2ViSiOC ( =S)Me), (ethoxy)dimethyl(thionoacetoxy)silane (Me2Si(OEt)[OC(=S)Me]), dimethylbis(thionoacetoxy)silane (Me 2 Si[OC(=S)Me] 2 ), di(ethoxy)methyl(thionoacetoxy)silane (MeSi(OEt) 2 [OC(=S)Me]), tri(ethoxy)(thionoacetoxy)silane (Si(OEt) 3 [OC(=S)Me]), di(ethoxy)bis(thionoacetoxy)silane (Si(OEt) 2 [OC(=S)Me] 2 ), tri(methoxy)(thio Noacetoxy)silane (Si(OMe) 3 [OC(=S)Me]), di(methoxy)bis(thionoacetoxy)silane (Si(OMe) 2 [OC(=S)Me] 2 ), trimethyl ( thiobenzoyloxy)silane ( Me3SiOC (=S)Ph), tri(ethoxy)(thiobenzoyloxy)silane (Si(OEt) 3 [OC(=S)Ph]), tri(methoxy)(thiobenzoyloxy) ) silane (Si(OMe) 3 [OC(=S)Ph]) and the like.

本実施形態における反応工程では、アルコキシ基を有する原料であるアルコキシシラン類に対するジアシルスルフィド類による求核的置換反応を伴う。
たとえば、モノアルコキシシランとジアシルスルフィド類とを反応させる場合、反応工程は、カルボン酸エステルの脱離を伴う。本実施形態における反応工程は、第3族~第15族の元素の陽イオン(Mm+)を含むルイス酸触媒の存在下では、下記反応式(スキーム1)のように反応が進行すると考えられる。
The reaction step in the present embodiment involves a nucleophilic substitution reaction of alkoxysilanes, which are raw materials having alkoxy groups, with diacylsulfides.
For example, when monoalkoxysilane and diacyl sulfides are reacted, the reaction step involves elimination of carboxylic acid ester. In the reaction process of the present embodiment, in the presence of a Lewis acid catalyst containing cations (M m+ ) of elements of Groups 3 to 15, the reaction proceeds as shown in the following reaction formula (Scheme 1). .

Figure 2023079049000001

スキーム1に示されるように、ルイス酸触媒の陽イオンは、ジアシルスルフィド類の酸素原子に配位することによって、カルボニル基の炭素原子の求核性を高め、反応を促進していると考えられる。
Figure 2023079049000001

As shown in Scheme 1, the cation of the Lewis acid catalyst is believed to promote the reaction by increasing the nucleophilicity of the carbon atom of the carbonyl group by coordinating with the oxygen atom of the diacyl sulfides. .

また、アルコキシシラン類としては、モノアルコキシシランだけでなく、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランも使用できる。
すなわち、本実施形態に係る製造方法により得られるチオノアシロキシシラン類は、モノアルコキシシランを原料とする場合は1種類であるが、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランを原料とする場合は、1種類のチオノアシロキシシラン類に限られるものではない。たとえばジアルコキシシラン類を原料とする場合、製造されるチオノアシロキシシラン類は、アルコキシ基が1つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が2つ置換されたチオノアシロキシシラン類、又はこれらの混合物であってもよいことを意味する。さらに、トリアルコキシシランを原料とする場合、製造されるチオノアシロキシシラン類は、アルコキシ基が1つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が2つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が3つ置換されたチオノアシロキシシラン類、又はこれらの混合物であってもよい。加えて、テトラアルコキシシランを原料とする場合、製造されるチオノアシロキシシラン類は、アルコキシ基が1つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が2つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が3つ置換されたチオノアシロキシシラン類、アルコキシ基が4つ置換されたチオノアシロキシシラン類、又はこれらの混合物であってもよいことを意味する。
As alkoxysilanes, not only monoalkoxysilane but also dialkoxysilane, trialkoxysilane, and tetraalkoxysilane can be used.
That is, the number of thionoacyloxysilanes obtained by the production method according to the present embodiment is one when monoalkoxysilane is used as a raw material, but when dialkoxysilane, trialkoxysilane, and tetraalkoxysilane are used as raw materials, is not limited to one type of thionoacyloxysilanes. For example, when dialkoxysilanes are used as raw materials, the thionoacyloxysilanes to be produced are thionoacyloxysilanes substituted with one alkoxy group, thionoacyloxysilanes substituted with two alkoxy groups, or It means that it may be a mixture of these. Furthermore, when trialkoxysilane is used as a raw material, the thionoacyloxysilanes to be produced include thionoacyloxysilanes substituted with one alkoxy group, thionoacyloxysilanes substituted with two alkoxy groups, and thionoacyloxysilanes substituted with two alkoxy groups. It may be thionoacyloxysilanes substituted with three groups, or a mixture thereof. In addition, when tetraalkoxysilane is used as a raw material, the thionoacyloxysilanes to be produced include thionoacyloxysilanes substituted with one alkoxy group, thionoacyloxysilanes substituted with two alkoxy groups, This means that it may be thionoacyloxysilanes substituted with three alkoxy groups, thionoacyloxysilanes substituted with four alkoxy groups, or a mixture thereof.

チオノアシロキシシラン類を製造する本実施形態における反応工程では、反応を促進するために触媒を使用することもできる。
好適な触媒としては、酸性触媒が挙げられる。酸性触媒としては、従来公知の各種の酸性化合物を使用できる。
従来公知の酸性化合物としては、スルホン酸化合物、そのイミド化合物、及び第3族~第15族の元素を含むルイス酸化合物から選ばれる化合物が好ましい。
In the reaction step in this embodiment for producing thionoacyloxysilanes, a catalyst can also be used to promote the reaction.
Suitable catalysts include acidic catalysts. Various conventionally known acidic compounds can be used as the acidic catalyst.
As the conventionally known acidic compound, compounds selected from sulfonic acid compounds, imide compounds thereof, and Lewis acid compounds containing elements of Groups 3 to 15 are preferred.

スルホン酸化合物又はそのイミド化合物としては、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸等のパーフルオロアルカンスルホン酸;ビス(トリフルオ
ロメタンスルホニル)イミド、ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド等のビス(パーフルオロアルカンスルホニル)イミド
;等が好ましく使用される。これらのうち、スルホン酸化合物又はそのイミド化合物は、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド等であることがより好ましい。
Sulfonic acid compounds or imide compounds thereof include perfluoroalkanesulfonic acids such as trifluoromethanesulfonic acid and pentafluoroethanesulfonic acid; bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, bis(pentafluoroethanesulfonyl)imide, bis(nonafluorobutane) Bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide such as sulfonyl)imide; and the like are preferably used. Among these, the sulfonic acid compound or its imide compound is more preferably bis(trifluoromethanesulfonyl)imide, bis(nonafluorobutanesulfonyl)imide, or the like.

また、第3族~第15族の元素を含むルイス酸化合物としては、それらの元素のハロゲン化物、過塩素酸塩、スルホン酸塩、ビス(パーフルオロアルカンスルホニル)イミド塩、ヘキサフルオロアンチモン酸塩、チオシアン酸塩等を使用できる。 Lewis acid compounds containing elements of Groups 3 to 15 include halides, perchlorates, sulfonates, bis(perfluoroalkanesulfonyl)imide salts, and hexafluoroantimonates of these elements. , thiocyanate, etc. can be used.

第3族~第15族の元素に関しては、好ましくは第3族、第8族、第13族~第15族から選ばれ、より好ましくは第3族、第8族、第13族、又は第15族から選ばれ、さらに好ましくは第8族又は第13族から選ばれる元素である。
それらの元素をより具体的に示すと、好ましくはスカンジウム、イットリウム、サマリウム、イットリビウム、鉄、ルテニウム、銅、アルミニウム、ガリウム、インジウム、スズ、及びビスマスから選ばれ、より好ましくはスカンジウム、鉄、ルテニウム、アルミニウム、ガリウム、インジウム、スズ、及びビスマスから選ばれ、さらに好ましくは鉄、ルテニウム、アルミニウム、ガリウム、及びインジウムから選ばれる元素である。
With respect to the elements of Groups 3-15, they are preferably selected from Groups 3, 8, 13-15, more preferably Groups 3, 8, 13 or It is an element selected from Group 15, more preferably from Group 8 or Group 13.
More specifically, those elements are preferably selected from scandium, yttrium, samarium, yttrium, iron, ruthenium, copper, aluminum, gallium, indium, tin, and bismuth, more preferably scandium, iron, ruthenium, It is an element selected from aluminum, gallium, indium, tin and bismuth, more preferably selected from iron, ruthenium, aluminum, gallium and indium.

したがって、それらの元素を含むルイス酸化合物をより具体的に示すと、塩化スカンジウム(III)、塩化チタン(III)、塩化チタン(IV)、塩化鉄(III)、臭化鉄(III)、塩化ルテニウム(III)、塩化アルミニウム(III)、塩化ガリウム(III)、塩化インジウム(III)、塩化スズ(IV)、過塩素酸鉄(III)、トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム(III)、トリフルオロメタンスルホン酸イットリビウム(III)、トリフルオロメタンスルホン酸鉄(III)、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、トリフルオロメタンスルホン酸アルミニウム(III)、トリフルオロメタンスルホン酸ガリウム(III)、トリフルオロメタンスルホン酸インジウム(III)、トリフルオロメタンスルホン酸スズ(IV)、トリフルオロメタンスルホン酸ビスマス(IV)、トリフルオロメタンスルホン酸ランタン(III)、トリフルオロメタンスルホン酸プラセオジム(IV)、トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(IV)、トリフルオロメタンスルホン酸イットリビウム(IV)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドスカンジウム(III)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド亜鉛(II)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドインジウム(III)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドスズ(IV)、トリス[ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド]インジウム(III)、ヘキサフルオロアンチモン酸鉄(III)、ヘキサフルオロアンチモン酸インジウム(III)、チオシアン酸鉄(III)、チオシアン酸インジウム(III)等が挙げられる。これらの化合物においては、結晶水を含むもの(水和物)も使用できる。
これらのルイス酸化合物の中でも、触媒は、鉄、インジウム等を含むルイス酸化合物であることが好ましく、より具体的には、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドイ
ンジウム(III)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドスカンジウム(III)、過塩素酸鉄(III)等であることが好ましい。
Therefore, more specifically, Lewis acid compounds containing these elements are scandium chloride (III), titanium chloride (III), titanium chloride (IV), iron chloride (III), iron bromide (III), chloride Ruthenium (III), aluminum (III) chloride, gallium (III) chloride, indium (III) chloride, tin (IV) chloride, iron (III) perchlorate, scandium (III) trifluoromethanesulfonate, trifluoromethanesulfonic acid yttrium (III), iron (III) trifluoromethanesulfonate, copper (II) trifluoromethanesulfonate, aluminum (III) trifluoromethanesulfonate, gallium (III) trifluoromethanesulfonate, indium (III) trifluoromethanesulfonate, tin (IV) trifluoromethanesulfonate, bismuth (IV) trifluoromethanesulfonate, lanthanum (III) trifluoromethanesulfonate, praseodymium (IV) trifluoromethanesulfonate, neodymium (IV) trifluoromethanesulfonate, yttrium trifluoromethanesulfonate (IV), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide scandium (III), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide zinc (II), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide indium (III), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide tin (IV) , tris[bis(trifluoromethanesulfonyl)imide]indium (III), iron (III) hexafluoroantimonate, indium hexafluoroantimonate (III), iron (III) thiocyanate, indium thiocyanate (III), etc. be done. In these compounds, those containing water of crystallization (hydrates) can also be used.
Among these Lewis acid compounds, the catalyst is preferably a Lewis acid compound containing iron, indium, etc. More specifically, bis(trifluoromethanesulfonyl)imide indium (III), bis(trifluoromethanesulfonyl) Imidoscandium (III), iron perchlorate (III) and the like are preferred.

また、酸性触媒としては、触媒の分離及び回収等が容易な、従来公知の各種の固体酸触媒を使用することもできる。固体酸触媒としては、無機系及び有機系のものを使用できる。
無機系の固体酸触媒としては、金属塩、金属酸化物等の固体無機物等が挙げられ、より具体的に示せば、前記ルイス酸化合物の説明において示したような第3族~第15族の元素の陽イオン又はプロトン性水素原子を有する、ゼオライト、メソポーラスシリカ、モンモリロナイト;シリカゲル、ヘテロポリ酸、カーボン系素材等を担体とする無機系固体酸;等が挙げられる。
ゼオライトの種類としては、たとえば、USY系、Y系、ベータ系、モルデナイト系、ZSM-5系等が挙げられ、シリカ/アルミナ比については、一般的には、3~2000等の範囲である。
Further, as the acidic catalyst, various conventionally known solid acid catalysts, which are easy to separate and recover, can be used. Inorganic and organic solid acid catalysts can be used.
Examples of inorganic solid acid catalysts include solid inorganic substances such as metal salts and metal oxides. zeolite, mesoporous silica, and montmorillonite having cations of elements or protic hydrogen atoms; inorganic solid acids using silica gel, heteropolyacid, carbon-based materials, etc. as carriers; and the like.
Types of zeolites include, for example, USY series, Y series, beta series, mordenite series, ZSM-5 series, etc., and the silica/alumina ratio is generally in the range of 3 to 2,000.

これらの無機系固体酸の中では、モンモリロナイト及びゼオライトから選ばれる1種以上が好ましく使用される。また、第3族~第15族の元素の陽イオンとしては、スズ(IV)、インジウム(III)、アルミニウム(III)、鉄(III)、及びスカンジウム(III)から選ばれる陽イオンが好ましく使用される。
好ましい無機系固体酸をより具体的に示すと、モンモリロナイトに関しては、スズ(IV)、インジウム(III)、スカンジウム(III)から選ばれる陽イオンを有するモンモリロナイト;プロトン性水素原子を有するモンモリロナイトK10(メルク社より入手可能);等が挙げられる。また、ゼオライトに関しては、プロトン性水素原子を有する、CBV780、CBV760、CBV720、CBV600(いずれもゼオリスト社より入手可能)から選ばれるUSY系ゼオライト等が挙げられる。
Among these inorganic solid acids, one or more selected from montmorillonite and zeolite are preferably used. In addition, as the cation of an element of Groups 3 to 15, a cation selected from tin (IV), indium (III), aluminum (III), iron (III), and scandium (III) is preferably used. be done.
More specifically, preferred inorganic solid acids include montmorillonite having cations selected from tin (IV), indium (III), and scandium (III); montmorillonite K10 having protic hydrogen atoms (Merck available from the company); Zeolites include USY zeolites having protic hydrogen atoms and selected from CBV780, CBV760, CBV720, and CBV600 (all available from Zeolist).

さらに、固体酸触媒としては、前記の無機系固体酸のほかに、酸性官能基を有する有機系固体酸も使用できる。有機系固体酸は、酸性官能基を有するポリマー等である。酸性官能基の種類としては、スルホ基、カルボキシ基、ホスホリル基等が挙げられ、ポリマーの種類としては、パーフルオロ側鎖を有するテフロン(登録商標)骨格ポリマー、スチレン-ジビニルベンゼン共重合ポリマー等が挙げられる。有機系固体酸の具体例としては、スルホ基を有する、ナフィオン(NAFION(登録商標)、デュポン社、メルク社より入手可能)、ダウエックス(DOWEX(登録商標)、ダウ・ケミカル社、メルク社より入手可能)、アンバーライト(AMBERLITE(登録商標)、ローム&ハス社、メルク社より入手可能)、アンバーリスト(AMBERLYST(登録商標)、ダウ・ケミカル社、メルク社より入手可能)等が挙げられる。それらをより具体的に示せば、ナフィオンNR50、ダウエックス50WX2、ダウエックス50WX4、ダウエックス50WX8、アンバーライトIR120、アンバーライトIRP-64、アンバーリスト15、アンバーリスト36等を挙げることができる。
本実施形態に係る製造方法で使用する触媒は、単独で使用するだけでなく、複数の触媒を任意の組み合わせ及び比率で使用することもできる。
Furthermore, as the solid acid catalyst, in addition to the above inorganic solid acids, organic solid acids having an acidic functional group can also be used. An organic solid acid is a polymer or the like having an acidic functional group. Types of acidic functional groups include sulfo group, carboxyl group, phosphoryl group, etc. Types of polymer include Teflon (registered trademark) backbone polymer having perfluoro side chain, styrene-divinylbenzene copolymer polymer, and the like. mentioned. Specific examples of organic solid acids include Nafion (NAFION (registered trademark), available from DuPont and Merck), Dowex (DOWEX (registered trademark), Dow Chemical and Merck), which have a sulfo group. available from), AMBERLITE (registered trademark), available from Rohm & Hass, Merck), Amberlyst (available from Dow Chemical Company, Merck), and the like. More specific examples include Nafion NR50, Dowex 50WX2, Dowex 50WX4, Dowex 50WX8, Amberlite IR120, Amberlite IRP-64, Amberlyst 15, and Amberlyst 36.
The catalyst used in the production method according to the present embodiment can be used not only singly, but also in any combination and ratio of multiple catalysts.

原料に対する触媒量は、任意に決めることができるが、モル比又は重量比では、通常0.0001~10程度で、好ましくは0.001~8程度、より好ましくは0.001~6程度である。 The amount of the catalyst to the starting material can be determined arbitrarily, but the molar ratio or weight ratio is usually about 0.0001 to 10, preferably about 0.001 to 8, more preferably about 0.001 to 6. .

反応工程における反応は、反応温度、反応圧力等に応じて、液相又は気相状態で行うことができる。また、反応装置の形態としては、バッチ型、フロー型等、従来知られている各種形態で行うことができる。
反応温度は、通常-20℃以上、好ましくは-10~300℃、より好ましくは-10
~200℃、さらに好ましくは0~150℃である。また、室温で反応を行う場合には、室温の温度範囲としては、通常0~40℃、好ましくは5~40℃、より好ましくは10~35℃である。
さらに、反応圧力は、通常0.1~100気圧で、好ましくは0.1~50気圧、より好ましくは0.1~10気圧、さらに好ましくは0.5~5気圧である。
反応時間は、原料の量、触媒の量、反応温度、反応装置の形態等に依存するが、生産性及び効率を考慮すると、通常0.1~1200分、好ましくは0.1~600分、より好ましくは0.1~300分、さらに好ましくは30~240分程度である。
The reaction in the reaction step can be carried out in a liquid phase or gas phase depending on the reaction temperature, reaction pressure and the like. Moreover, as a form of a reaction apparatus, various conventionally known forms such as a batch type and a flow type can be used.
The reaction temperature is usually −20° C. or higher, preferably −10 to 300° C., more preferably −10° C.
to 200°C, more preferably 0 to 150°C. When the reaction is carried out at room temperature, the temperature range of room temperature is usually 0 to 40°C, preferably 5 to 40°C, more preferably 10 to 35°C.
Furthermore, the reaction pressure is generally 0.1 to 100 atmospheres, preferably 0.1 to 50 atmospheres, more preferably 0.1 to 10 atmospheres, and still more preferably 0.5 to 5 atmospheres.
The reaction time depends on the amount of raw materials, the amount of catalyst, the reaction temperature, the form of the reactor, etc., but in consideration of productivity and efficiency, it is usually 0.1 to 1200 minutes, preferably 0.1 to 600 minutes, It is more preferably about 0.1 to 300 minutes, still more preferably about 30 to 240 minutes.

また、反応を液相系で行う場合、溶媒の有無にかかわらず実施できる。溶媒を用いる場合、溶媒としては、デカリン(デカヒドロナフタレン)、デカン等の炭化水素;クロロベンゼン、1,2-ジクロロベンゼン、1,3-ジクロロベンゼン、1,2,3-トリクロロベンゼン、1,2,4-トリクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;tert-ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル;等のように、原料及び生成物と反応しない各種の溶媒が使用可能である。溶媒は、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いることもできる。また、反応を気相で行う場合には、窒素等の不活性ガスを混合して反応を行うこともできる。 Also, when the reaction is carried out in a liquid phase system, it can be carried out with or without a solvent. When a solvent is used, hydrocarbons such as decalin (decahydronaphthalene) and decane; chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,2,3-trichlorobenzene, , 4-trichlorobenzene and other halogenated hydrocarbons; tert-butyl methyl ether, dibutyl ether and other ethers; and the like. Two or more solvents can be used in any combination and ratio. Further, when the reaction is carried out in the gas phase, the reaction can be carried out by mixing an inert gas such as nitrogen.

反応工程は、マイクロ波照射下で行うこともできる。本反応系では、ジアシルスルフィド類、酸触媒等の誘電損失係数が比較的大きく、マイクロ波を効率よく吸収するため、マイクロ波照射下ではジアシルスルフィド類、触媒等が活性化され、反応をより効率的に行うことができる。 The reaction step can also be performed under microwave irradiation. In this reaction system, diacyl sulfides, acid catalysts, etc. have relatively large dielectric loss coefficients and absorb microwaves efficiently. can be done systematically.

マイクロ波照射反応では、接触式又は非接触式の温度センサーを備えた各種の市販装置等を使用できる。また、マイクロ波照射の出力、キャビティの種類(マルチモード、シングルモード)、照射の形態(連続的、断続的)等は、反応のスケール、原料の種類、触媒の種類等に応じて任意に決めることができる。マイクロ波の周波数としては、通常、0.3~30GHzである。その中で好ましいのは、産業分野、科学分野、医療分野等で使用するために割り当てられたIMS周波数帯で、さらにその中でも、2.45GHz帯、5.8GHz帯等がより好ましい。 Various commercially available devices equipped with a contact or non-contact temperature sensor can be used in the microwave irradiation reaction. In addition, the power of microwave irradiation, the type of cavity (multimode, single mode), the mode of irradiation (continuous, intermittent), etc., can be arbitrarily determined according to the scale of the reaction, the type of raw material, the type of catalyst, etc. be able to. The frequency of microwaves is usually 0.3 to 30 GHz. Preferred among these are the IMS frequency bands allocated for use in the industrial, scientific, medical, and other fields, and more preferred are the 2.45 GHz band, the 5.8 GHz band, and the like.

また、マイクロ波照射反応では、反応系をより効率よく加熱するために、マイクロ波を吸収して発熱する加熱材(サセプター)を反応系に添加することができる。加熱材の種類としては、活性炭、黒鉛、炭化ケイ素、炭化チタン等、従来公知の各種のものを使用できる。また、先に記載した触媒と加熱材の粉末を混合して、セピオライト、ホルマイト等の適当なバインダーを利用して焼成加工した成形触媒を用いることもできる。 In the microwave irradiation reaction, a heating material (susceptor) that generates heat by absorbing microwaves can be added to the reaction system in order to heat the reaction system more efficiently. As the type of heating material, various conventionally known ones such as activated carbon, graphite, silicon carbide, and titanium carbide can be used. Also, a molded catalyst obtained by mixing the above-described catalyst and heating material powder and firing the mixture using an appropriate binder such as sepiolite or formite can also be used.

本実施形態における反応工程は、密閉系の反応装置でも進行するが、反応装置を開放系にして、反応生成物を反応系外に連続的に除去することにより、反応をより効率的に進行させることもできる。 The reaction process in the present embodiment proceeds even in a closed system reactor, but the reaction proceeds more efficiently by making the reactor an open system and continuously removing the reaction product out of the reaction system. can also

本実施形態に係る製造方法で、固体酸触媒を用いる場合、反応工程後の触媒の分離及び回収は、濾過、遠心分離等の方法により容易に行うことができる。
また、生成したチオノアシロキシシラン類の精製も、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の有機化学上通常用いられる手段により容易に達せられる。
When a solid acid catalyst is used in the production method according to the present embodiment, separation and recovery of the catalyst after the reaction step can be easily performed by a method such as filtration or centrifugation.
Purification of the produced thionoacyloxysilanes can also be easily accomplished by means commonly used in organic chemistry, such as distillation, recrystallization, and column chromatography.

次に、本発明を実施例及び比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例で使用した主な分析装置等は、以下の通りである。
・核磁気共鳴スペクトル分析(以下、NMRと称する場合がある。):ブルカー製 AVANCE III HD 600MHz(クライオプローブ装着)
・ガスクロマトグラフ分析(以下、GCと称する場合がある。):島津製作所製 GC-2014
・ガスクロマトグラフ質量分析(以下、GC-MSと称する場合がある。):島津製作所製 GCMS-QP2010Plus
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
The main analyzers and the like used in the following examples are as follows.
・ Nuclear magnetic resonance spectroscopy (hereinafter sometimes referred to as NMR): Bruker AVANCE III HD 600 MHz (with cryoprobe)
・ Gas chromatograph analysis (hereinafter sometimes referred to as GC): GC-2014 manufactured by Shimadzu Corporation
・ Gas chromatograph mass spectrometry (hereinafter sometimes referred to as GC-MS): GCMS-QP2010Plus manufactured by Shimadzu Corporation

(実施例1)
(エトキシ)トリメチルシラン(MeSiOEt)1.0mmol、ジアセチルスルフィド((MeCO)S)1.1mmol、及び、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(TfNH)0.01mmolを反応管に入れ、約25℃(室温)で0.5時間攪拌した。生成物をGC、GC-MS、及びNMRで分析し、収率をNMRにより算出した結果、トリメチル(チオノアセトキシ)シラン(MeSi[OC(=S)Me])が83%の収率で生成したことがわかった(表1、2参照)。
(Example 1)
(Ethoxy)trimethylsilane (Me 3 SiOEt) 1.0 mmol, diacetyl sulfide ((MeCO) 2 S) 1.1 mmol, and bis(trifluoromethanesulfonyl)imide (Tf 2 NH) 0.01 mmol were placed in a reaction tube, Stirred at about 25° C. (room temperature) for 0.5 hour. The product was analyzed by GC, GC-MS, and NMR, and the yield was calculated by NMR. As a result, trimethyl(thionoacetoxy)silane (Me Si [OC(=S)Me]) yielded 83%. (see Tables 1 and 2).

(実施例2~22)
反応条件(触媒、原料等)を表1に示す通りに変えて、実施例1と同様に反応及び分析を行い、生成物の収率を算出した。結果を表1に示す。
また、得られたチオノアシロキシシラン類のスペクトルデータを表2に示す。
(Examples 2 to 22)
The reaction conditions (catalyst, raw materials, etc.) were changed as shown in Table 1, and the reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 1, and the yield of the product was calculated. Table 1 shows the results.
Table 2 shows spectral data of the obtained thionoacyloxysilanes.

Figure 2023079049000002
Figure 2023079049000002

表1中の注釈を以下に示す。
1) Me3SiOEt:(エトキシ)トリメチルシラン
Et3SiOEt:(エトキシ)トリエチルシラン
Me2PhSiOEt:(エトキシ)ジメチル(フェニル)シラン
MePh2SiOEt:(エトキシ)メチルジ(フェニル)シラン
Me2ViSiOEt:(エトキシ)ジメチル(ビニル)シラン
Me2Si(OEt)2:ジ(エトキシ)ジメチルシラン
MeSi(OEt)3:トリ(エトキシ)メチルシラン
Me3SiOMe:(メトキシ)トリメチルシラン
2) (MeCO)2S:ジアセチルスルフィド
3) Tf2NH:ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド
(C4F9SO2)2NH:ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド
In(NTf2)3:トリス[ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド]インジウム(
III)
Sc(NTf2)3:トリス[ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド]スカンジウム
(III)
Fe(ClO4)3・6H2O:過塩素酸鉄(III)六水和物
Sc(OTf)3:トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム(III)
Mont-Sn4+:Sn4+含有モンモリロナイト(Na+型モンモリロナイト(クニミネ工業社製クニピアF)を、Sn4+を含む水溶液(SnCl4・5H2Oを水に溶解した溶液)で処理して、Na+
をSn4+に交換するカチオン交換反応により調製)。
Mont-K10:モンモリロナイトK10(メルク社製)
CBV780:H-SDUSY型ゼオライトCBV780(ゼオリスト社製、500℃で焼成して使用)
Amberlyst15:H+型陽イオン交換樹脂アンバーリスト15(メルク社製)
4) Me3SiOC(=S)Me:トリメチル(チオノアセトキシ)シラン
Et3SiOC(=S)Me:トリエチル(チオノアセトキシ)シラン
Me2PhSiOC(=S)Me:ジメチル(フェニル)(チオノアセトキシ)シラン
MePh2SiOC(=S)Me:メチルジ(フェニル)(チオノアセトキシ)シラン
Me2ViSiOC(=S)Me:ジメチル(ビニル)(チオノアセトキシ)シラン
Me2Si(OEt)[OC(=S)Me]:(エトキシ)ジメチル(チオノアセトキシ)シラン
Me2Si[OC(=S)Me]2:ジメチルビス(チオノアセトキシ)シラン
MeSi(OEt)2[OC(=S)Me]:ジ(エトキシ)メチル(チオノアセトキシ)シラン
5) 収率はNMRにより算出した。
6) 1置換体と2置換体が生成した。括弧内は生成比を示し、収率は合計収率を示す。
Notes in Table 1 are shown below.
1) Me3SiOEt : (ethoxy)trimethylsilane
Et 3 SiOEt: (ethoxy)triethylsilane
Me2PhSiOEt : (ethoxy)dimethyl(phenyl)silane
MePh2SiOEt : (ethoxy)methyldi(phenyl)silane
Me2ViSiOEt : (ethoxy)dimethyl(vinyl)silane
Me2Si (OEt) 2 : Di(ethoxy)dimethylsilane
MeSi(OEt) 3 : Tri(ethoxy)methylsilane
Me3SiOMe : (methoxy)trimethylsilane
2) (MeCO) 2 S: diacetyl sulfide
3) Tf 2 NH: bis(trifluoromethanesulfonyl)imide
( C4F9SO2 ) 2NH : bis ( nonafluorobutanesulfonyl )imide
In(NTf 2 ) 3 : tris[bis(trifluoromethanesulfonyl)imide]indium (
III)
Sc(NTf 2 ) 3 : tris[bis(trifluoromethanesulfonyl)imide]scandium(III)
Fe( ClO4 ) 3.6H2O : Iron (III) perchlorate hexahydrate
Sc(OTf) 3 : scandium trifluoromethanesulfonate (III)
Mont-Sn 4+ : Sn 4+ -containing montmorillonite (Na + -type montmorillonite (Kunipia F manufactured by Kunimine Kogyo Co., Ltd.) is treated with an aqueous solution containing Sn 4+ (SnCl 4 5H 2 O dissolved in water) , Na +
(prepared by a cation-exchange reaction to exchange for Sn 4+ ).
Mont-K10: Montmorillonite K10 (manufactured by Merck)
CBV780: H-SDUSY type zeolite CBV780 (manufactured by Zeolyst, used after firing at 500°C)
Amberlyst15: H + type cation exchange resin Amberlyst 15 (manufactured by Merck)
4) Me 3 SiOC(=S)Me: trimethyl(thionoacetoxy)silane
Et 3 SiOC(=S)Me: triethyl(thionoacetoxy)silane
Me 2 PhSiOC(=S)Me: dimethyl(phenyl)(thionoacetoxy)silane
MePh 2 SiOC(=S)Me: methyldi(phenyl)(thionoacetoxy)silane
Me 2 ViSiOC(=S)Me: dimethyl(vinyl)(thionoacetoxy)silane
Me 2 Si(OEt)[OC(=S)Me]: (ethoxy)dimethyl(thionoacetoxy)silane
Me 2 Si[OC(=S)Me] 2 : dimethylbis(thionoacetoxy)silane
MeSi(OEt) 2 [OC(=S)Me]: di(ethoxy)methyl(thionoacetoxy)silane
5) Yield was calculated by NMR.
6) 1-substituted and 2-substituted forms were produced. The numbers in parentheses indicate the product ratio, and the yield indicates the total yield.

Figure 2023079049000003
Figure 2023079049000003

表2中の注釈を以下に示す。
1) チオノアシロキシシラン(III)の名称は、表1の注4参照
2) 重クロロホルム中の測定値
3) GC-MS (EI, 70eV)
Notes in Table 2 are shown below.
1) See Note 4 in Table 1 for the name of thionoacyloxysilane (III)
2) Measured value in deuterated chloroform
3) GC-MS (EI, 70eV)

本発明の製造方法により、機能性化学品として有用なチオノアシロキシシラン類をより効率的かつ安全に製造できるため、本発明の利用価値は高く、その工業的意義は多大である。
また、本発明の製造方法により提供されるチオノアシロキシシラン類は、アルコキシ基よりも反応性が高いチオノアシロキシ基を有するもので、原料であるアルコキシシラン類に比べて高い反応性を有するとともに、硫黄原子を有するという特徴がある。そのため、チオノアシロキシ基の他の官能基等への変換、シロキサン系の化合物を用いる機能性材料の物性制御等をより効率的に行うことができると考えられ、機能性化学品として高い利用価値を有する。
Since thionoacyloxysilanes useful as functional chemicals can be produced more efficiently and safely by the production method of the present invention, the utility value of the present invention is high and its industrial significance is great.
In addition, the thionoacyloxysilanes provided by the production method of the present invention have thionoacyloxy groups with higher reactivity than alkoxy groups, and have higher reactivity than the raw material alkoxysilanes. , is characterized by having a sulfur atom. Therefore, it is thought that conversion of thionoacyloxy groups to other functional groups, etc., and physical property control of functional materials using siloxane-based compounds can be performed more efficiently, and high utility value as functional chemicals. have

Claims (6)

アルコキシシラン類とジアシルスルフィド類とを反応させる反応工程を含む、チオノアシロキシシラン類の製造方法。 A method for producing thionoacyloxysilanes, comprising a reaction step of reacting alkoxysilanes and diacylsulfides. 前記反応工程が、触媒存在下で行われる、請求項1に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。 2. The method for producing thionoacyloxysilanes according to claim 1, wherein said reaction step is carried out in the presence of a catalyst. 前記アルコキシシラン類が、下記一般式(I)で表され、前記ジアシルスルフィド類が、下記一般式(II)で表され、前記チオノアシロキシシラン類が、下記一般式(III)で表される、請求項1又は2に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。
Si(OR4-(p+q+r) (I)
(式中、p、q、及びrは、それぞれ独立に0以上3以下の整数であり;p+q+rは、0以上3以下の整数であり;R、R、及びRは、それぞれ独立に炭素数1~24の炭化水素基又は水素原子であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよく;Rは、それぞれ独立に炭素数1~6のアルキル基である。)
(RCO)S (II)
(式中、Rは、炭素数1~24の炭化水素基であり、前記炭化水素基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部が反応に関与しない基で置換されていてもよい。)
Si(OR4-(p+q+r+s)[OC(=S)R
(III)
(式中、p、q、r、R、R、R、R、及びRは、それぞれ前記と同義であり;sは、1以上4-(p+q+r)以下の整数である。)
The alkoxysilanes are represented by the following general formula (I), the diacyl sulfides are represented by the following general formula (II), and the thionoacyloxysilanes are represented by the following general formula (III). The method for producing thionoacyloxysilanes according to claim 1 or 2.
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4-(p+q+r) (I)
(Wherein, p, q, and r are each independently an integer of 0 to 3; p+q+r is an integer of 0 to 3; R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms or a hydrogen atom, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group may be substituted with groups that do not participate in the reaction; Each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
( R5CO ) 2S (II)
(In the formula, R 5 is a hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of the hydrocarbon group may be substituted with groups that do not participate in the reaction. .)
R 1 p R 2 q R 3 r Si(OR 4 ) 4−(p+q+r+s) [OC(=S)R 5 ] s
(III)
(In the formula, p, q, r, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 have the same definitions as above; s is an integer of 1 or more and 4-(p+q+r) or less. )
前記触媒が、酸性触媒である、請求項1~3の何れか1項に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。 The method for producing thionoacyloxysilanes according to any one of claims 1 to 3, wherein the catalyst is an acidic catalyst. 前記酸性触媒が、ビス(パーフルオロアルカンスルホニル)イミド及びその金属塩から選ばれる酸性化合物である、請求項4に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。 5. The method for producing thionoacyloxysilanes according to claim 4, wherein said acidic catalyst is an acidic compound selected from bis(perfluoroalkanesulfonyl)imides and metal salts thereof. 前記酸性触媒が、モンモリロナイト及びゼオライトから選ばれる固体酸触媒である、請求項4に記載のチオノアシロキシシラン類の製造方法。 5. The method for producing thionoacyloxysilanes according to claim 4, wherein said acidic catalyst is a solid acid catalyst selected from montmorillonite and zeolite.
JP2021192454A 2021-11-26 2021-11-26 Method for producing thionoacyloxysilane Pending JP2023079049A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021192454A JP2023079049A (en) 2021-11-26 2021-11-26 Method for producing thionoacyloxysilane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021192454A JP2023079049A (en) 2021-11-26 2021-11-26 Method for producing thionoacyloxysilane

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023079049A true JP2023079049A (en) 2023-06-07

Family

ID=86646127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021192454A Pending JP2023079049A (en) 2021-11-26 2021-11-26 Method for producing thionoacyloxysilane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023079049A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7582788B2 (en) Process for preparation of alkoxysilanes
JP7157998B2 (en) Method for producing siloxane compound, novel siloxane compound, and use thereof
JP6099283B2 (en) Process for producing alkoxysilanes
JP2545705B2 (en) Sulfonium salt and method for producing the same
JP6739733B2 (en) Process for producing acyloxysilanes, acyloxysilanes obtained thereby, and uses thereof
CN111995554B (en) Method for preparing asymmetric organic selenium ether compound by metal-free chemical oxidation method
JP2023079049A (en) Method for producing thionoacyloxysilane
JP2021169417A (en) Method for producing acyloxysilane
JP7370053B2 (en) Method for producing silanols and new silanols
JP7129693B2 (en) Method for producing silanes having alkoxy group and acyloxy group, novel silanes, and uses thereof
JP6631907B2 (en) Alkoxysilanes, oligosiloxanes and method for producing the same
JP2022059855A (en) Method for producing sulfonic acid silyl ester and novel silicon compound
JP2023110137A (en) Method for producing halosilane
JP2023083771A (en) Method for producing acyloxysilane
Prakash et al. Convenient preparation of aryl methyl and aryl phenyl sulfides from arenediazonium tetrafluoroborates and trimethyl (methylthio)-and trimethyl (phenylthio) silanes
JP2022055604A (en) Method for producing sulfonic acid silyl ester and novel silicon compound
JP2022056597A (en) Method for producing acyloxysilane
JP5886876B2 (en) Novel (triorganosilyl) alkynes and derivatives thereof, and novel catalytic methods for obtaining novel and conventional substituted (triorganosilyl) alkynes and derivatives thereof
JP7219434B2 (en) Method for producing cyclic siloxane compound, cyclic siloxane compound, composition, and heat-resistant material
CN109824710B (en) Disiloxane organic compound and preparation method thereof
JP2021130642A (en) Method for producing siloxane compound, novel siloxane compound, and use thereof
JP2004175784A (en) Method for producing norbornene derivative having organosilyl group
KR20200054896A (en) Method for producing iodine-containing silicon compound
JPH0748387A (en) Tert-butylakoxysilane and production thereof
JP2022022505A (en) Method for producing alkynyl silane