JP2016021292A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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- 荷電粒子源から放出される荷電粒子ビームを集束する対物レンズと、当該対物レンズによって集束される荷電粒子ビームが照射される試料を載置ための試料台と、前記試料に対して電圧を印加する電圧印加電源と、前記対物レンズ及び前記電圧印加電源を制御する制御装置を備えた荷電粒子線装置において、
前記制御装置は、前記電圧印加電源から前記試料に電圧を印加した後、所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化、或いは時定数を計測し、前記所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化情報、或いは時定数が所定の条件を満たす場合に、前記電圧印加電源の調整に基づいて、前記荷電粒子ビームの焦点調整を実行することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化、或いは時定数を計測し、前記所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化情報、或いは時定数が、前記所定の条件を満たさない場合に、前記荷電粒子線装置を用いた測定、又は検査を中止、或いはエラー信号を発生することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化、或いは時定数を計測し、前記所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化情報、或いは時定数が、前記所定の条件を満たさない場合に、前記対物レンズを用いた焦点調整を実行することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記試料裏面の絶縁膜を除去する除去機構を備え、前記制御装置は、所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化、或いは時定数を計測し、前記所定時間後の試料表面電位、電圧を印加した後の試料表面電位の変化情報、或いは時定数が、前記所定の条件を満たさない場合に、前記除去機構を用いた絶縁膜除去を実行することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4において、
前記除去機構は、試料裏面に接触する複数の接触端子と、当該接触端子間に電位差を発生させるための電源を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4において、
前記除去機構は、前記試料裏面にレーザを照射するレーザ光源を備えていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記試料の電位を測定する電位計を備え、前記制御装置は、当該電位計によって計測された電位に基づいて、前記電圧印加電源を用いた焦点調整を実行するか否かを決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料を保持するためのステージを備えた荷電粒子線装置において、
前記ステージには前記試料を積載したさいに前記試料に弾性的に接触する接触端子を備え、該接触端子は前記試料にリターディング電圧を印加するためのリターディング電源に接続され、前記荷電粒子線装置には前記試料の表面電位を測定するための表面電位計を備え、前記リターディング電圧を変化させた時の前記試料の電位変動を前記表面電位計で測定し、該電位変動の時定数にもとづいて、前記荷電粒子ビームによる測定、或いは検査の実行継続、または中止を決定するように前記荷電粒子線装置を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料を保持するためのステージを備えた荷電粒子線装置において、
前記ステージには前記試料を積載したさいに前記試料に弾性的に接触する接触端子を複数個備え、該複数個の接触端子間には電位差を印加できるように直流電源を接続し、かつ該複数個の接触端子は前記試料にリターディング電圧を印加するためのリターディング電源に接続され、前記荷電粒子線装置には前記試料の表面電位を測定するための表面電位計を備え、前記リターディング電圧を変化させた時の前記試料の電位変動を前記表面電位計で測定し、該電位変動の時定数にもとづいて、前記荷電粒子ビームによる測定、或いは検査の実行継続、または前記直流電源に電圧を印加することで前記試料表面に形成された絶縁膜を絶縁破壊するように前記荷電粒子線装置を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料を保持するためのステージを備えた荷電粒子線装置において、
前記ステージには前記試料を積載したさいに前記試料に弾性的に接触する接触端子を備え、該接触端子には前記試料にリターディング電圧を印加するためのリターディング電源に接続され、前記荷電粒子線装置には前記試料の表面電位を測定するための表面電位計を備え、前記荷電粒子線装置には前記接触端子と接触する前記試料面付近にレーザを照射可能なレーザ照射装置を備え、前記リターディング電圧を変化させた時の前記試料の電位変動を前記表面電位計で測定し、該電位変動の時定数にもとづいて、前記荷電粒子ビームによる測定、或いは検査の実行継続、または前記レーザ照射装置により前記試料にレーザを照射することで前記試料表面に形成された絶縁膜を除去するように前記荷電粒子線装置を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
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