JP2016015359A - Method of evaluating dimension stability of metal-clad laminate and method of manufacturing circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば銅張積層体(CCL)に代表される金属張積層体の寸法安定性を評価する方法、及び、この評価方法を利用した回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for evaluating the dimensional stability of a metal-clad laminate represented by, for example, a copper-clad laminate (CCL), and a circuit board manufacturing method using this evaluation method.
近年、電子機器の小型化、軽量化、省スペース化の進展に伴い、薄く軽量で、可撓性を有し、屈曲を繰り返しても優れた耐久性を持つフレキシブルプリント配線板(FPC;Flexible Printed Circuits)の需要が増大している。FPCは、限られたスペースでも立体的かつ高密度の実装が可能であるため、例えば、HDD、DVD、携帯電話等の電子機器の可動部分の配線や、ケーブル、コネクター等の部品にその用途が拡大しつつある。 In recent years, with the progress of downsizing, weight reduction, and space saving of electronic devices, flexible printed wiring boards (FPCs) that are thin, light, flexible, and have excellent durability even after repeated bending are used. The demand for Circuits) is increasing. FPC can be mounted three-dimensionally and densely in a limited space. For example, it can be used for wiring of movable parts of electronic devices such as HDDs, DVDs, mobile phones, and parts such as cables and connectors. It is expanding.
FPCは、材料である金属張積層体の金属層をエッチングして配線加工することによって製造される。金属張積層体に対するフォトリソグラフィ工程や、FPC実装の過程では、金属張積層体に設けられたアライメントマークを基準に接合、切断、露光、エッチング等のさまざまな加工が行われる。これらの工程での加工精度は、FPCを搭載した電子機器の信頼性を維持する上で重要となる。 The FPC is manufactured by etching a metal layer of a metal-clad laminate, which is a material, to process the wiring. In the photolithography process and FPC mounting process for the metal-clad laminate, various processes such as bonding, cutting, exposure, and etching are performed based on the alignment marks provided on the metal-clad laminate. The processing accuracy in these steps is important for maintaining the reliability of an electronic device equipped with an FPC.
しかし、金属張積層体は、熱膨張係数が異なる金属層と樹脂層とを積層した構造を有するため、金属層と樹脂層との熱膨張係数の差によって、層間に応力が発生する。この応力は、その一部分又は全部が、金属層をエッチングして配線加工した場合に解放されることによって伸縮を生じさせ、配線パターンの寸法を変化させる要因となる。そのため、最終的にFPCの段階で寸法変化が生じてしまい、配線間もしくは配線と端子との接続不良を引き起こす原因となり、回路基板の信頼性や歩留まりを低下させる。 However, since the metal-clad laminate has a structure in which a metal layer and a resin layer having different thermal expansion coefficients are laminated, a stress is generated between the layers due to the difference in the thermal expansion coefficient between the metal layer and the resin layer. The stress is partly or wholly released when the metal layer is etched to process the wiring, thereby causing expansion and contraction and causing a change in the size of the wiring pattern. Therefore, a dimensional change finally occurs at the FPC stage, causing a connection failure between the wirings or between the wirings and the terminals, and reducing the reliability and yield of the circuit board.
FPCなどに加工される金属張積層体の寸法変化は、IPC−TM−650(The Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits Test Method 650) 2.2.4(B)に基づき評価されている。この方法は、金属張積層体から正方形に切り出した試験片の縁部に、縦横にマーキングを行い、対向する2つの辺におけるマーク間の距離の変化に基づき寸法変化率を算出するものである。 The dimensional change of the metal-clad laminate processed into FPC or the like is evaluated based on IPC-TM-650 (The Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits Test Method 650) 2.2.4 (B). In this method, the edge of a test piece cut out in a square shape from a metal-clad laminate is marked vertically and horizontally, and the dimensional change rate is calculated based on the change in the distance between the marks on two opposing sides.
配線基板の寸法精度の評価方法として、特許文献1では、多数個採り配線基板の捨て代領域の四隅の表面に、寸法測定領域として導体層による格子状のパターンを設けておき、母基板の設計寸法に基づき形成した貫通孔と、寸法測定領域の中心位置とのずれを測定することにより、母基板の寸法精度を評価する方法が提案されている。 As a method for evaluating the dimensional accuracy of a wiring board, in Patent Document 1, a lattice-like pattern made of a conductor layer is provided as a dimensional measurement area on the surface of four corners of a disposal allowance area of a large number of wiring boards. There has been proposed a method for evaluating the dimensional accuracy of a mother board by measuring a deviation between a through hole formed based on a dimension and the center position of a dimension measurement region.
また、特許文献2では、透明基板の寸法変化を測定する方法として、基準マーカーのアレイを形成した基準プレートと、基板マーカーのアレイを形成した透明基板とを重ね、透明基板の処理の前後における基準マーカーの座標に対する基板マーカーの座標を測定することによって、透明基板の寸法変化を評価する方法が提案されている。
In
金属張積層体からFPCを加工する場合は、一定の面積の金属張積層体から、複数のFPCを作る多数個採りが一般的である。従って、金属張積層体の面内での寸法変化のばらつきを正確に把握することは、FPCを組み込む電子機器の信頼性確保と歩留まりの向上のために重要となる。上記IPC−TM−650 2.2.4(B)では、試験片の対向する縁部に形成された2つのマーク間の距離を測定するため、試験片の面内において、寸法変化が大きい領域と小さな領域が存在する場合であっても、面内のばらつきを正確に評価することができない、という問題があった。 When processing FPC from a metal-clad laminate, it is common to take a large number of FPCs from a metal-clad laminate of a certain area. Therefore, accurately grasping the variation in the dimensional change in the plane of the metal-clad laminate is important for ensuring the reliability and improving the yield of electronic equipment incorporating the FPC. In the above IPC-TM-650 2.2.4 (B), in order to measure the distance between two marks formed on the opposite edges of the test piece, the area where the dimensional change is large in the plane of the test piece Even if there is a small area, there is a problem that in-plane variation cannot be accurately evaluated.
本発明は、金属張積層体の面内で寸法変化のばらつきが生じている場合でも、金属張積層体の寸法安定性を高精度に評価することが可能な金属張積層体の寸法安定性の評価方法を提供することを目的とする。 The present invention provides a dimensional stability of a metal-clad laminate that can evaluate the dimensional stability of the metal-clad laminate with high accuracy even when dimensional variation varies within the plane of the metal-clad laminate. The purpose is to provide an evaluation method.
本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、金属層と樹脂層とが積層された長尺な金属張積層体を、所定の長さに切断して試験片を準備する工程と、
前記金属張積層体の長手方向をMD方向、幅方向をTD方向としたとき、前記試験片において前記MD方向及び前記TD方向と平行な辺を有する仮想の正四角形を想定し、前記正四角形の中心を含む中心領域と、前記正四角形における前記TD方向の一辺を共有する2つの角部の1つずつを含む2つのコーナー領域とに、それぞれ、直線状の配列を含む複数のマークを形成する工程と、を含んでいる。
また、本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、前記複数のマークの位置を計測し、隣接するマークとマークの間の距離L0を算出する第1の計測工程と、
前記試験片の前記金属層の一部分又は全部をエッチングする工程と、
エッチング後に、前記複数のマークの位置を計測し、隣接するマークとマークの間の距離L1を算出する第2の計測工程と、を含んでいる。
さらに、本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、前記エッチングの前後で同じ2つのマークについて、前記第1の計測工程で得られた距離L0と、前記第2の計測工程で得られた距離L1との差分L1−L0を算出するとともに、2つ以上の前記間隔についての前記差分L1−L0を累積し、前記金属張積層体の前記MD方向及び/又は前記TD方向における累積寸法変化量を得る工程と、を含んでいる。
The method for evaluating the dimensional stability of a metal-clad laminate according to the present invention includes a step of preparing a test piece by cutting a long metal-clad laminate in which a metal layer and a resin layer are laminated into a predetermined length. ,
When the longitudinal direction of the metal-clad laminate is the MD direction and the width direction is the TD direction, a virtual regular square having sides parallel to the MD direction and the TD direction is assumed in the test piece. A plurality of marks each including a linear array are formed in a central region including the center and two corner regions including one each of two corners sharing one side of the regular rectangle in the TD direction. And a process.
Moreover, the evaluation method of the dimensional stability of the metal-clad laminate according to the present invention includes a first measurement step of measuring the positions of the plurality of marks and calculating a distance L0 between the adjacent marks,
Etching part or all of the metal layer of the specimen;
A second measuring step of measuring the positions of the plurality of marks after the etching and calculating a distance L1 between the adjacent marks.
Furthermore, the evaluation method of the dimensional stability of the metal-clad laminate according to the present invention includes the distance L0 obtained in the first measurement step and the second measurement step for the same two marks before and after the etching. The difference L1-L0 with respect to the obtained distance L1 is calculated, the difference L1-L0 for two or more of the intervals is accumulated, and the accumulation of the metal-clad laminate in the MD direction and / or the TD direction is accumulated. Obtaining a dimensional change amount.
本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、前記中心領域において、前記複数のマークを、前記中心を通る十字形に沿って前記MD方向及び前記TD方向に形成してもよく、前記コーナー領域において、前記複数のマークを、前記正四角形の辺に沿って前記MD方向及び前記TD方向に形成してもよい。 In the evaluation method of dimensional stability of the metal-clad laminate of the present invention, in the central region, the plurality of marks may be formed in the MD direction and the TD direction along a cross shape passing through the center. In the corner region, the plurality of marks may be formed in the MD direction and the TD direction along the sides of the regular square.
本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、さらに、前記差分L1−L0を、前記金属張積層体から形成する回路基板における配線パターンのスケールに換算して累積換算寸法変化量を求め、得られた累積換算寸法変化量を、前記配線パターンの配線幅と配線間隔との和に対する比率で表す工程を含んでいてもよい。 In the method for evaluating the dimensional stability of the metal-clad laminate of the present invention, the difference L1-L0 is further converted into a scale of a wiring pattern on a circuit board formed from the metal-clad laminate, and a cumulative conversion dimensional change amount is obtained. A step of representing the obtained and converted cumulative dimensional change amount as a ratio to the sum of the wiring width and the wiring interval of the wiring pattern may be included.
本発明の金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、前記直線状に配列されるマークの数が、前記MD方向及び前記TD方向のそれぞれにおいて、少なくとも11個以上であってもよく、10箇所以上の前記間隔についての前記差分を累積するものであってもよい。 In the method for evaluating the dimensional stability of the metal-clad laminate of the present invention, the number of marks arranged in a straight line may be at least 11 in each of the MD direction and the TD direction. You may accumulate the said difference about the said space | interval more than a location.
本発明の回路基板の製造方法は、金属張積層体から、複数の回路基板を作製する回路基板の製造方法であって、
前記回路基板における配線パターンの配線幅と配線間隔の寸法を決定する工程と、
前記金属張積層体について、請求項1から4のいずれか1項に記載の寸法安定性の評価方法により累積寸法変化量を算出する工程と、
前記累積寸法変化量に基づき、前記配線幅と前記配線間隔の寸法を補正する工程と、
補正された前記配線幅と前記配線間隔に基づき、配線加工を行う工程と、
を含むことを特徴とする。
The circuit board manufacturing method of the present invention is a circuit board manufacturing method for manufacturing a plurality of circuit boards from a metal-clad laminate,
Determining the wiring width and wiring spacing of the wiring pattern on the circuit board;
About the metal-clad laminate, a step of calculating a cumulative dimensional change amount by the dimensional stability evaluation method according to any one of claims 1 to 4,
Correcting the dimensions of the wiring width and the wiring interval based on the cumulative dimensional change amount;
A step of performing wiring processing based on the corrected wiring width and the wiring interval;
It is characterized by including.
本発明の寸法安定性の評価方法によれば、金属張積層体の寸法変化を、その面内でのばらつきを含めて高精度に評価することが可能になる。また、金属張積層体から多数個採りを行う場合であっても、回路基板への加工領域毎に、個別に寸法安定性を評価することが可能になる。従って、本発明の寸法安定性の評価方法を回路基板の製造に利用することによって、回路基板の信頼性と歩留まりの向上を実現できる。 According to the dimensional stability evaluation method of the present invention, it is possible to evaluate a dimensional change of a metal-clad laminate with high accuracy including in-plane variations. Further, even when a large number of metal-clad laminates are taken, it is possible to individually evaluate the dimensional stability for each processing region on the circuit board. Therefore, the reliability and yield of the circuit board can be improved by using the dimensional stability evaluation method of the present invention for manufacturing the circuit board.
次に、適宜図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。本発明の一実施の形態に係る金属張積層体の寸法安定性の評価方法は、以下の工程(1)〜(6)を備えている。なお、本実施の形態において、金属張積層体は、回路基板としてのFPCを製造する材料である。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. The dimensional stability evaluation method for a metal-clad laminate according to an embodiment of the present invention includes the following steps (1) to (6). In the present embodiment, the metal-clad laminate is a material for manufacturing an FPC as a circuit board.
(1)試験片を準備する工程:
本工程では、図1に例示するように、長尺な金属張積層体100を、所定の長さに切断することによって試験片10を準備する。なお、以下の説明では、長尺な金属張積層体100の長手方向をMD方向、幅方向をTD方向と定義する(試験片10についても同様である)。試験片10は、正方形に近い形状となるように、金属張積層体100の幅(TD方向の長さ)と切断間隔(MD方向の長さ)がほぼ等しくなるようにすることが好ましい。金属張積層体100は、図示は省略するが絶縁樹脂層と、この絶縁樹脂層の片側又は両側に積層された金属層とを有する。
(1) Step of preparing a test piece:
In this step, as illustrated in FIG. 1, a
金属張積層体100における金属層の材質としては、特に制限はなく、例えば、銅、ステンレス、鉄、ニッケル、ベリリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム、銀、金、スズ、ジルコニウム、タンタル、チタン、鉛、マグネシウム、マンガン及びこれらの合金等が挙げられる。この中でも、特に銅又は銅合金が好ましい。
The material of the metal layer in the metal-clad
絶縁樹脂層は、単層又は複数層から構成されていてもよい。絶縁樹脂層を構成する樹脂の材質としては、特に制限はなく、例えばポリイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、カルド樹脂(フルオレン樹脂)、ポリシロキサン樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。これらの中でも、例えばポリイミド樹脂が好ましい。 The insulating resin layer may be composed of a single layer or a plurality of layers. There is no restriction | limiting in particular as the material of resin which comprises an insulating resin layer, For example, a polyimide resin, a polyamic acid resin, a cardo resin (fluorene resin), a polysiloxane resin, an epoxy resin etc. can be mentioned. Among these, for example, a polyimide resin is preferable.
金属張積層体100の好ましい具体例としては、片面銅張積層体(片面CCL)もしくは両面銅張積層体(両面CCL)を挙げることができる。
Preferred examples of the metal-clad
金属張積層体100は、任意の方法で調製したものを使用できる。例えば、金属張積層体100は、樹脂フィルムを用意し、これに金属をスパッタリングしてシード層を形成した後、メッキによって金属層を形成することによって調製したものでもよい。また、金属張積層体100は、樹脂フィルムと金属箔とを熱圧着などの方法でラミネートすることによって調製したものでもよい。さらに、金属張積層体100は、金属箔の上に樹脂溶液を塗布して絶縁樹脂層を形成することによって調製したものでもよい。例えば、金属張積層体100の絶縁樹脂層がポリイミド樹脂からなる場合、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミド酸を含有する塗布液を金属箔上にキャストし、乾燥して塗布膜とした後、熱処理してイミド化し、ポリイミド層を形成する方法を挙げることができる。
The metal-clad
(2)試験片に複数のマークを形成する工程:
本工程では、図2に示すように、まず試験片10において、MD方向及びTD方向と平行な辺を有する仮想の正四角形20を想定する。この仮想の正四角形20の一辺の長さは、金属張積層体100の幅(TD方向の長さ)に応じた長さとすることができる。また、仮想の正四角形20の面積は、多数個採りの場合にFPCに加工する範囲の限界まで評価対象に含めるため、FPCに加工する範囲をカバーできる面積に設定することが好ましい。従って、正四角形20の一辺の長さは、試験片10におけるTD方向の長さ(金属張積層体100の幅)の60〜90%の範囲内とすることが好ましく、70〜80%の範囲内とすることがより好ましい。例えば、金属張積層体100の幅(TD方向の長さ)が250mmである場合には、仮想の正四角形20の一辺の長さは、150〜225mmの範囲内に設定することが好ましく、175〜200mmの範囲内に設定することがより好ましい。
(2) Step of forming a plurality of marks on the test piece:
In this step, as shown in FIG. 2, a virtual regular square 20 having sides parallel to the MD direction and the TD direction is first assumed in the
次に、図2〜図4に示すように、仮想の正四角形20の中心20aを含む中心領域21と、正四角形20におけるTD方向の一辺を共有する2つの角部20bの1つずつを含む2つのコーナー領域23a,23bとに、それぞれ、直線状の配列を含む複数のマークを形成する。本実施の形態において、マークは試験片10を貫通する丸い孔30である。複数の孔30は、等間隔に形成することが好ましい。なお、マークとしての孔30は、例えば三角形、長方形などの多角形状でもよい。また、マークは、その位置を識別可能であれば、貫通孔に限らず、例えば試験片10に溝、切り込みなどを形成したものであってもよいし、インクなどを利用して印刷した模様であってもよい。
Next, as shown in FIGS. 2 to 4, the
<中心領域>
仮想の正四角形20の中心20aは、試験片10の伸縮を測定するための座標の基準になることから、本実施の形態では、当該中心20aを含む中心領域21を測定対象とする。中心領域21においては、直線状の配列を含む限り、複数の孔30を形成する位置は任意であり、例えばT字形、L字形などに配列してもよいが、仮想の正四角形20の中心20aから、MD方向及びTD方向に均等に配列できる十字型が好ましい。すなわち、図3に示すように、複数の孔30を、仮想の正四角形20の中心20aを通る十字形に沿ってMD方向及びTD方向に形成することが好ましく、十字型の交差部分が、仮想の正四角形20の中心20aに重なるように配置することがより好ましい。この場合、中心20aに重なる孔30は、MD方向及びTD方向の両方向の配列を構成する孔30として重複してカウントされる。
<Central area>
Since the
また、中心領域21では、試験片10の面内での寸法変化のばらつきを含めた寸法安定性を正確に評価できるようにするため、正四角形20における中心20aからMD方向及びTD方向に、それぞれ、正四角形20の1辺の長さに対して、少なくとも12.5%以上、好ましくは12.5〜32.5%の範囲内、より好ましくは12.5〜25%の範囲内に亘って孔30を形成することがよい。
Further, in the
<コーナー領域>
正四角形20におけるTD方向の一辺を共有する2つの角部20bの周囲は、図1に示すような長尺な金属張積層体100において、最も伸縮しやすく、寸法変化が大きくなりやすい領域である。その理由の一つとして、例えば、金属張積層体100をロールプレス加工によって製造する場合に、TD方向の両端付近でロールによる圧力ムラが発生しやすいことが挙げられる。そのため、本実施の形態では、正四角形20におけるTD方向の一辺を共有する2つの角部20bの1つずつを含む2つのコーナー領域23a,23bの両方を測定対象とする。
<Corner area>
The periphery of the two
コーナー領域23a,23bにおいては、直線状の配列を含む限り、孔30を形成する位置は任意であるが、例えば図4に示すように、複数の孔30を、仮想の正四角形20の角部20bを挟む2つの辺に沿ってMD方向及びTD方向にL字形に形成することが好ましい。なお、図4は、片方のコーナー領域23bのみを示しているが、他方のコーナー領域23aについても同様である。この場合、角部20bに重なる孔30は、MD方向及びTD方向の両方向の配列を構成する孔30として重複してカウントされる。
In the
2つのコーナー領域23a,23bでは、試験片10の面内での寸法変化のばらつきを含めた寸法安定性を正確に評価できるようにするため、正四角形20におけるTD方向の一辺の両端(つまり、正四角形20の角部20b)からMD方向の中央側へ、それぞれ、MD方向の一辺の長さに対して、少なくとも12.5%以上、好ましくは12.5〜32.5%の範囲内、より好ましくは12.5〜25%の範囲内に亘って孔30を形成することがよい。
In the two
また、2つのコーナー領域23a,23bでは、試験片10の面内での寸法変化のばらつきを含めた寸法安定性を正確に評価できるようにするため、正四角形20におけるTD方向の一辺の両端(つまり、正四角形20の角部20b)からTD方向の中央側へ、それぞれ、TD方向の一辺の長さに対して、少なくとも12.5%以上、好ましくは12.5〜32.5%の範囲内、より好ましくは12.5〜25%の範囲内に亘って孔30を形成することがよい。
In addition, in the two
また、試験片10の面内を網羅し、部位毎の寸法変化を正確に把握できるようにするために、中心領域21において直線状に配列された両端の孔30間の配列範囲と、コーナー領域23a,23bにおいて同方向に直線状に配列された両端の孔30間の配列範囲とが、重なるようにしてもよい。
具体的には、少なくとも、中心領域21内でMD方向に配列される複数の孔30の両端の位置と、2つのコーナー領域23a,23b内でそれぞれMD方向に配列される複数の孔30の中で最も内側(角部20bから遠い側)の孔30の位置とが、TD方向に平行移動させたときにオーバーラップするように配置してもよい。
同様に、少なくとも、中心領域21内でTD方向に配列される複数の孔30の中で最もコーナー領域23a,23bに近接した孔30の位置と、2つのコーナー領域23a,23b内でTD方向にそれぞれ配列される複数の孔30の中で最も内側(角部20bから遠い側)の孔30の位置とが、MD方向に平行移動させたときにオーバーラップするように配置してもよい。
以上のような配置を考慮すると、中心領域21では、複数の孔30を十字形に配列することが最も合理的であり、また、2つのコーナー領域23a,23bでは、複数の孔30をL字形に配列することが最も合理的である。
In addition, in order to cover the in-plane of the
Specifically, at least the positions of both ends of the plurality of
Similarly, at least the position of the
Considering the above arrangement, it is most reasonable to arrange the plurality of
試験片10の仮想の正四角形20において、孔30を形成する範囲は、孔30の大きさ、孔30の数、孔30と孔30との間隔の長さによって調節することができる。
In the
孔30の大きさは、寸法変化の検出精度を高くするため、孔30と孔30との間隔の長さの20%以下の範囲内とすることが好ましい。
The size of the
上記中心領域21と2つのコーナー領域23a,23bに形成する複数の孔30は、試験片10の面内での寸法変化のばらつきを含めた寸法安定性を正確に評価できるようにするため、MD方向及びTD方向のそれぞれにおいて、少なくとも11個以上の直線状の配列を含むことが好ましく、20個以上の直線状の配列を含むことがより好ましい。ここで、孔30の数をn個とすると、後の工程(3)、工程(5)で計測の対象となる隣り合う孔30と孔30との間隔の数はn−1箇所となる。隣り合う孔30と孔30との間隔は、例えば、孔30の数が10個である場合には9箇所となり、孔30の数が21個である場合には20箇所となる。この場合、MD方向及びTD方向において、孔30の数は同じであることが好ましい。
The plurality of
孔30と孔30との間の距離は、寸法変化の検出精度を高くするため、2mm以上の範囲内とすることが好ましい。
The distance between the
(3)第1の計測工程:
本工程では、複数の孔30の位置を測定する。そして、各孔30の位置の測定結果から、隣接する孔30と孔30の間の距離L0を算出する。例えば孔30の数が21個であれば、隣接する孔30と孔30の間の20か所の間隔について距離L0を求める。ここで、隣接する孔30と孔30の間の距離L0は、図5に示すように、ある孔30の中心30aから、隣接する孔30の中心30aまでの距離を意味する。
(3) First measurement process:
In this step, the positions of the plurality of
孔30の位置の計測は、特に限定されるものではなく、例えば、試験片10の画像を元に孔30の位置を検出する方法によって実施できる。
The measurement of the position of the
本工程の孔30の位置の計測は、上記工程(2)に引き続いて実施してもよいが、計測前に、試験片10のコンディションを調整する工程を設けることが好ましい。試験片10のコンディション調整の一例として、調湿処理を挙げることができる。調湿処理は、一定の環境に一定時間(例えば23℃、50RH%の環境で24時間)、試験片10を静置することにより行うことができる。
Although the measurement of the position of the
(4)エッチング工程:
本工程では、試験片10の金属層の一部分又は全部をエッチングする。現実に即した寸法安定性を評価するため、エッチングの内容は、金属張積層体100から形成するFPCの配線パターンに準じて行うことが好ましい。試験片10が両面金属張積層体から調製したものである場合は、両側の金属層をエッチングしてもよい。なお、実際のFPCの加工において、熱処理を伴う場合は、エッチング後に、試験片10を任意の温度で加熱する処理を行ってもよい。
(4) Etching process:
In this step, a part or all of the metal layer of the
(5)第2の計測工程:
本工程は、上記(4)のエッチング後に、再度、複数の孔30の位置を測定する工程である。そして、各孔30の位置の測定結果から、隣接する孔30と孔30の間の距離L1を算出する。本工程における孔30の位置の計測は、上記工程(3)と同様の方法で行うことができる。
(5) Second measurement step:
This step is a step of measuring the positions of the plurality of
本工程の孔30の位置の計測は、上記工程(4)に引き続いて実施してもよいが、上記工程(3)と同様に、試験片10のコンディションを調整する工程を設けることが好ましい。特に、上記工程(3)でコンディション調整を行った場合は、本工程でも、計測前に、同様の条件でコンディション調整を実施することが好ましい。
Although the measurement of the position of the
(6)累積寸法変化量を得る工程:
本工程では、図5に示すように、エッチングの前後で同じ2つの孔30の間隔について、第1の計測工程で得られた距離L0と、第2の計測工程で得られた距離L1との差分L1−L0を算出する。そして、同一の直線状に配列された孔30と孔30との間隔の2箇所以上、好ましくは10箇所以上、より好ましくは全てについて、同様に差分L1−L0を算出する。この差分L1−L0を「寸法変化量Δ」とする。そして、それぞれの間隔における寸法変化量Δを累積し、累積寸法変化量Σを得る。この累積寸法変化量Σは、次の式によって算出することができる。
(6) Step of obtaining cumulative dimensional change:
In this step, as shown in FIG. 5, the distance L0 obtained in the first measurement step and the distance L1 obtained in the second measurement step are the same between the two
Σ=Δ1+Δ2+Δ3+・・・+Δi=Σi=1 iΔi Σ = Δ 1 + Δ 2 + Δ 3 +... + Δ i = Σ i = 1 i Δ i
上記式において、記号Σi=1 iは、1からiまでの総和を表す。また、寸法変化量Δは、エッチング後における第n番目の孔30と第n−1番目の孔30との距離L1から、エッチング前における第n番目の孔30と第n−1番目の孔30との距離L0を差し引いた値を表す(ここで、nは2以上の整数である)。Δ1は、第1番目の間隔の長さ(隣り合う2つの孔30間の距離)の寸法変化量であり、Δiは、第i番目(iは正の整数を意味する)の間隔の長さの寸法変化量である。
In the above formula, the symbol Σ i = 1 i represents the sum from 1 to i. Further, the dimensional change amount Δ is determined based on the distance L1 between the
累積寸法変化量Σは、金属張積層体100のMD方向、TD方向のいずれか片方、好ましくは両方について求めることができる。累積寸法変化量Σの大小によって、金属張積層体100のMD方向、TD方向の寸法安定性を評価できる。また、後記実施例(例えば、図10〜図13)に示すように、累積寸法変化量Σの実測値に基づき、スケールアップした近似直線が得られる。図10〜図13のグラフの横軸は複数の孔30の両端の距離(配列長)であり、縦軸は累積寸法変化量Σである。図10〜図13のグラフの傾きの大小は、寸法変化率の大小を意味し、グラフの傾きのばらつきの大小は、寸法変化率の面内ばらつきの大小を意味する。
The cumulative dimensional change amount Σ can be obtained for either one of the MD direction and the TD direction of the metal-clad
本実施の形態の寸法安定性の評価方法は、上記工程(1)〜(6)に加えて、任意の工程を含むことができる。例えば、本実施の形態の寸法安定性の評価方法は、さらに、次の工程(7)を含むことができる。 In addition to the steps (1) to (6), the dimensional stability evaluation method of the present embodiment can include an arbitrary step. For example, the dimensional stability evaluation method of the present embodiment can further include the following step (7).
(7)配線スケールに換算する工程:
本工程では、工程(6)で得られた寸法変化量Δを、金属張積層体100から形成するFPCにおける配線パターンのスケールに換算し、得られた換算値を、配線パターンの配線幅と配線間隔との和に対する比率で表す。本工程によって、試験に供した金属張積層体100を実際にFPCに加工した場合に、FPCの配線パターンに対し、金属張積層体100の寸法変化が与える影響をわかりやすく表現できる。
(7) Step to convert to wiring scale:
In this step, the dimensional change Δ obtained in step (6) is converted into the scale of the wiring pattern in the FPC formed from the metal-clad
本工程では、まず、寸法変化量Δを、金属張積層体100から形成する予定のFPCにおけるL/Sの配線パターンにおける配線幅/配線間隔のスケールに換算し、換算した寸法変化量を累積して累積換算寸法変化量を求める。例えばエッチング前の2つの孔30の間の距離L0がXmmであり、形成予定のFPCにおける配線パターンにおける配線幅と配線間隔が、それぞれ、距離L0の1/Yである場合、次式に基づき、寸法変化量Δを2×(1/Y)のスケールにダウンサイジングしたときの値に換算し、2×(1/Y)のスケールの累積換算寸法変化量を求める。
In this step, first, the dimensional change amount Δ is converted into a scale of the wiring width / interval in the L / S wiring pattern in the FPC scheduled to be formed from the metal-clad
累積換算寸法変化量=[Σi=1 i(2×Δi/Y)] Cumulative conversion dimensional change = [Σ i = 1 i (2 × Δ i / Y)]
なお、工程(6)で得られた寸法変化量Δを累積した後、累積寸法変化量を金属張積層体100から形成する予定のFPCにおけるL/Sの配線パターンにおける配線幅/配線間隔のスケールに換算し、累積換算寸法変化量を求めることもできる。
In addition, after accumulating the dimensional change amount Δ obtained in the step (6), the cumulative dimensional change amount is a scale of the wiring width / wiring interval in the L / S wiring pattern in the FPC to be formed from the metal-clad
次に、累積換算寸法変化量から、次式に基づき、配線の位置ずれ比率を求める。この配線の位置ずれ比率は、累積換算寸法変化量を、形成予定のL/Sの配線パターンにおける配線幅(Lmm)と配線間隔(Smm)との和に対する比率で表したものである。
配線の位置ずれ比率(%)=
{[Σi=1 i(2×Δi/Y)]/[L+S]}×100
Next, the wiring misalignment ratio is obtained from the cumulative conversion dimension change amount based on the following equation. The wiring misregistration ratio represents the cumulative conversion dimensional change amount as a ratio to the sum of the wiring width (Lmm) and the wiring interval (Smm) in the L / S wiring pattern to be formed.
Wiring misalignment ratio (%) =
{[Σ i = 1 i (2 × Δ i / Y)] / [L + S]} × 100
以上のようにして算出したFPCにおけるMD及びTDの配線の位置ずれ比率をグラフ上にプロットすることによって、後記実施例(例えば、図15〜図18)に示すように、FPCサイズに応じた近似直線が得られる。図15〜図18のグラフの横軸はFPCサイズであり、縦軸は配線の位置ずれ比率(%)である。ここで、「FPCサイズ」とは、FPCにおいて形成された複数の配線の中で最も離れた両端の配線間の距離を意味する。図15〜図18のグラフの傾きの大小は、配線の位置ずれの大小を意味し、グラフの傾きのばらつきの大小は、配線の位置ずれの面内ばらつきの大小を意味する。 By plotting the misalignment ratio of the MD and TD wirings in the FPC calculated as described above on a graph, as shown in the examples (for example, FIGS. 15 to 18) described below, approximation according to the FPC size is performed. A straight line is obtained. 15 to 18, the horizontal axis represents the FPC size, and the vertical axis represents the wiring misregistration ratio (%). Here, the “FPC size” means a distance between wirings at the farthest ends among a plurality of wirings formed in the FPC. 15 to 18 indicate the magnitude of the positional deviation of the wiring, and the magnitude of the variation in the inclination of the graph indicates the magnitude of the in-plane variation of the positional deviation of the wiring.
本工程によって、試験に供した金属張積層体100を実際に回路に加工した場合に、FPCの配線パターンに対し、金属張積層体100の寸法変化が与える影響をわかりやすく表現できる。また、図15〜図18に示すように、近似直線のグラフを作成することによって、FPCサイズに応じて、被試験体である金属張積層体100から作成される配線の位置ずれの大きさや面内のばらつきを可視化して表現できる。
By this step, when the metal-clad
[変形例]
次に、図6及び図7を参照して、本実施の形態の変形例について説明する。上記工程(2)では、マークとしての孔30を、MD方向及びTD方向に直線状に配列したが、複数の孔30は、MD方向及びTD方向に対して任意の角度で配列することも可能である。
[Modification]
Next, a modification of the present embodiment will be described with reference to FIGS. In the step (2), the
例えば、図6は、中心領域21において、直線状に配列された複数の孔30を、MD方向及びTD方向に対して45°の角度となるように十字形に形成した場合を示している。また、図7は、コーナー領域23bにおいて、直線状に配列された複数の孔30を、MD方向及びTD方向に対して45°の角度となるように形成した場合を示している。
For example, FIG. 6 shows a case where a plurality of
図6及び図7に示した例では、工程(6)における寸法変化量Δ及び累積寸法変化量Σは、以下の手順で求めることができる。まず、工程(3)及び工程(5)での計測結果から得られる、MD方向及びTD方向に対して斜め方向の寸法変化量Δから、MD方向の変化量とTD方向の変化量を抽出する。次に、抽出されたMD方向の変化量及びTD方向の変化量のそれぞれについて、累積寸法変化量Σを算出すればよい。本変形例における上記以外の工程は、工程(1)〜(6)又は工程(1)〜(7)と同様に実施できる。 In the example shown in FIGS. 6 and 7, the dimensional change Δ and the cumulative dimensional change Σ in the step (6) can be obtained by the following procedure. First, a change amount in the MD direction and a change amount in the TD direction are extracted from the dimensional change amount Δ in the oblique direction with respect to the MD direction and the TD direction obtained from the measurement results in the step (3) and the step (5). . Next, the accumulated dimensional change amount Σ may be calculated for each of the extracted MD direction change amount and TD direction change amount. Steps other than those described above in this modification can be performed in the same manner as steps (1) to (6) or steps (1) to (7).
以上のように、本実施の形態の寸法安定性の評価方法によれば、工程(1)〜(6)又は工程(1)〜(7)によって、金属張積層体100の寸法変化を、面内でのばらつきを含めて高精度に評価することが可能になる。また、金属張積層体100から多数個採りを行う場合であっても、FPCへの加工領域毎に、個別に寸法安定性を評価することが可能になる。
As described above, according to the dimensional stability evaluation method of the present embodiment, the dimensional change of the metal-clad
[回路基板の製造方法]
本実施の形態の回路基板の製造方法は、金属張積層体100から、複数の回路基板を作製する回路基板の製造方法である。以下、金属張積層体100から回路基板としてのFPCを製造する場合を例に挙げて説明する。本実施の形態の回路基板の製造方法は、以下の工程A〜D;
工程A:FPCにおける配線パターンの配線幅と配線間隔の寸法を決定する工程、
工程B:金属張積層体100について、上記実施の形態の寸法安定性の評価方法により累積寸法変化量を算出する工程、
工程C:累積寸法変化量に基づき、配線幅と配線間隔の寸法を補正する工程、
及び、
工程D:補正された配線幅と配線間隔に基づき、配線加工を行う工程、
を含むことができる。
[Circuit board manufacturing method]
The circuit board manufacturing method according to the present embodiment is a circuit board manufacturing method for manufacturing a plurality of circuit boards from the metal-clad
Step A: A step of determining the wiring width and wiring spacing of the wiring pattern in the FPC,
Step B: For the metal-clad
Step C: a step of correcting the dimensions of the wiring width and the wiring interval based on the accumulated dimensional change amount;
as well as,
Step D: A step of performing wiring processing based on the corrected wiring width and wiring interval,
Can be included.
工程Aは、FPCの使用目的等に応じて、配線パターンの配線幅と配線間隔の寸法を決定する工程であり、常法に従い実施できる。 Step A is a step of determining the width of the wiring pattern and the size of the wiring interval according to the purpose of use of the FPC, etc., and can be performed according to a conventional method.
工程Bは、上記工程(1)〜(6)を実施して、金属張積層体100のMD方向及びTD方向における累積寸法変化量Σを算出する工程である。必要に応じて上記工程(7)を実施してもよい。
Step B is a step of calculating the cumulative dimensional change Σ in the MD direction and the TD direction of the metal-clad
工程Cは、工程Bで得られた累積寸法変化量又は配線の位置ずれ比率に基づき、工程Aで決定した配線パターンの配線幅と配線間隔の寸法を補正する工程である。上記実施の形態の寸法安定性の評価方法は、金属張積層体100のMD方向及びTD方向の寸法変化を、FPCへの加工範囲内における面内でのばらつきを含めて正確に評価できる。そのため、例えば、金属張積層体100から多数個採りを行う場合であっても、FPCへの加工領域毎に、そこから加工されるFPCについて、個別にMD方向及びTD方向の最適な補正量を決定することができる。
Step C is a step of correcting the wiring width and wiring spacing dimensions of the wiring pattern determined in Step A based on the cumulative dimensional change amount or wiring positional deviation ratio obtained in Step B. The dimensional stability evaluation method of the above embodiment can accurately evaluate the dimensional change of the metal-clad
工程Dは、補正された配線幅と配線間隔に基づき、金属層のエッチングを行い、配線加工を行う工程であり、常法に従い実施できる。 Step D is a step of performing wiring processing by etching the metal layer based on the corrected wiring width and wiring interval, and can be performed according to a conventional method.
本実施の形態の回路基板の製造方法は、上記工程A〜工程Dによって、金属張積層体100の寸法変化の特徴に応じて、最適化された配線パターンの配線幅と配線間隔でFPCを作製できる。また、金属張積層体100から多数個採りを行う場合であっても、FPCへの加工領域毎に、そこから加工されるFPCについて、個別に最適化された配線パターンの配線幅と配線間隔でFPCを作製できる。従って、本実施の形態の回路基板の製造方法によれば、配線間もしくは配線と端子との接続不良を低減することが可能になり、FPCの信頼性と歩留まりの向上を実現できる。
In the method of manufacturing a circuit board according to the present embodiment, the FPC is manufactured with the wiring width and the wiring interval of the optimized wiring pattern according to the characteristics of the dimensional change of the metal-clad
本発明の効果を確認した実験結果について説明する。 Experimental results confirming the effects of the present invention will be described.
[評価用サンプルの調製]
(1)評価用サンプルの材料
評価用サンプルの材料として、下記の銅張積層板(端幅;250mm)を準備した。
銅張積層板1:長尺状、新日鉄住金化学社製、商品名;エスパネックス(登録商標)、絶縁層の厚さ;25μm、銅箔層;電解銅箔、銅箔層の厚さ;12μm、キャスティング法により片面銅張積層板を製造後、該片面銅張積層板の絶縁層側に銅箔を熱圧着したもの。
銅張積層板2:長尺状、汎用ラミネート材、絶縁層の厚さ;25μm、銅箔層;電解銅箔、銅箔層の厚さ;12μm、ラミネート法によりポリイミドフィルム(カネカ社製、商品名;ピクシオ)の両面に銅箔を熱圧着したもの。
[Preparation of sample for evaluation]
(1) Material of Evaluation Sample The following copper clad laminate (end width: 250 mm) was prepared as a material for the evaluation sample.
Copper-clad laminate 1: long, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., trade name: Espanex (registered trademark), insulating layer thickness: 25 μm, copper foil layer; electrolytic copper foil, copper foil layer thickness: 12 μm After manufacturing a single-sided copper-clad laminate by a casting method, a copper foil is thermocompression bonded to the insulating layer side of the single-sided copper-clad laminate.
Copper-clad laminate 2: long, general laminate material, insulating layer thickness: 25 μm, copper foil layer; electrolytic copper foil, copper foil layer thickness: 12 μm, polyimide film (product made by Kaneka Corporation, product) Name: Pixio) copper foil on both sides.
(2)評価用サンプルの調製
上記の銅張積層板をMD方向に長さ250mmに切断し、MD:250mm×TD:250mmとした。図8に示したとおり、切断後の銅張積層板におけるMD:200mm×TD:200mmの範囲に仮想の正四角形を想定した。この仮想の正四角形のTD方向の一辺を共有する2つの角部を1つずつ含む左右2つのコーナー領域(Left及びRight)並びに仮想の正四角形の中心を含む中央領域(Center)のそれぞれにおいて、MD及びTD方向に2.5mm間隔で連続して21個の孔あけ加工を行って、評価用サンプルを調製した。なお、孔あけ加工は、0.105mm径のドリルを用いた。
(2) Preparation of sample for evaluation Said copper clad laminated board was cut | disconnected to length 250mm in MD direction, and it was set as MD: 250mmxTD: 250mm. As shown in FIG. 8, a virtual regular square was assumed in the range of MD: 200 mm × TD: 200 mm in the copper-clad laminate after cutting. In each of the two left and right corner regions (Left and Right) each including two corners sharing one side in the TD direction of the virtual square, and the center region (Center) including the center of the virtual square Samples for evaluation were prepared by drilling 21 holes continuously in the MD and TD directions at intervals of 2.5 mm. In addition, the drilling process used the drill of a 0.105 mm diameter.
[寸法安定性の評価]
非接触CNC画像測定機(Mitutoyo社製、商品名;クイックビジョン QV−X404PIL−C)を使用して、評価用サンプルにおける両面の銅箔層の全部をエッチングして除去した前後における各孔の位置を測定した。測定値からエッチング前後における隣り合う2孔間距離の寸法変化量及び累積寸法変化量を算出した。
[Evaluation of dimensional stability]
The position of each hole before and after removing all the copper foil layers on both sides of the sample for evaluation using a non-contact CNC image measuring machine (trade name; Quick Vision QV-X404PIL-C, manufactured by Mitutoyo) Was measured. From the measured value, the dimensional change amount and cumulative dimensional change amount of the distance between two adjacent holes before and after etching were calculated.
ここで、累積寸法変化量の算出方法について説明する。累積寸法変化量(Σ)は、次の式(1)によって算出される。 Here, a method of calculating the cumulative dimensional change amount will be described. The cumulative dimensional change amount (Σ) is calculated by the following equation (1).
Σ=Δ1+Δ2+Δ3+・・・+Δ20=Σi=1 20Δi …(1) Σ = Δ 1 + Δ 2 + Δ 3 +... + Δ 20 = Σ i = 1 20 Δ i (1)
上記式(1)におけるΔiは、第i番目の隣り合う2孔間距離の寸法変化量である。すなわち、エッチング後における第n番目の孔と第n−1番目の孔との距離の値から、エッチング前における第n番目の孔と第n−1番目の孔との距離の値を差し引いた値を表す。ここで、nは2から21である。また、記号Σi=1 20は、iが1から20までの総和を表す。 Δ i in the above formula (1) is a dimensional change amount of the distance between the i-th adjacent two holes. That is, a value obtained by subtracting the value of the distance between the nth hole and the (n−1) th hole before etching from the value of the distance between the nth hole and the (n−1) th hole after etching. Represents. Here, n is 2 to 21. Further, the symbol sigma i = 1 20 is, i represents the sum from 1 to 20.
(実施例1)
長尺状の銅張積層板1を準備し、図9に示すように、評価用サンプル1〜3を調製した。
(Example 1)
A long copper-clad laminate 1 was prepared, and as shown in FIG. 9, evaluation samples 1 to 3 were prepared.
評価用サンプル1〜3のそれぞれについて、Center、Left、及びRightにおけるエッチング前後の各孔の位置を測定した。測定値からエッチング前後における隣り合う2孔間の距離の寸法変化量及びそれらの合計(20ケ所)の累積寸法変化量を算出した。評価用サンプル1の評価結果を表1〜6に示し、評価用サンプル2の評価結果を表7〜12に示し、評価用サンプル3の評価結果を表13〜18に示す。
The position of each hole before and after etching in Center, Left, and Right was measured for each of the samples for evaluation 1-3. From the measured value, the dimensional change amount of the distance between two adjacent holes before and after etching and the total dimensional change amount (20 places) were calculated. The evaluation results of the evaluation sample 1 are shown in Tables 1 to 6, the evaluation results of the
(実施例2)
長尺状の銅張積層板1の代わりに、長尺状の銅張積層板2を使用したこと以外、実施例1と同様にして、評価用サンプル4〜6を調製した。
(Example 2)
Evaluation samples 4 to 6 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the long copper-clad
評価用サンプル4〜6のそれぞれについて、Center、Left、及びRightにおけるエッチング前後の各孔の位置を測定した。測定値からエッチング前後における隣り合う2孔間の距離の寸法変化量及び累積寸法変化量を算出した。評価用サンプル4の評価結果を表19〜24に示し、評価用サンプル5の評価結果を表25〜30に示し、評価用サンプル6の評価結果を表31〜36に示す。 For each of the evaluation samples 4 to 6, the positions of the holes before and after etching in Center, Left, and Right were measured. A dimensional change amount and a cumulative dimensional change amount of the distance between two adjacent holes before and after etching were calculated from the measured values. The evaluation results of the evaluation sample 4 are shown in Tables 19 to 24, the evaluation results of the evaluation sample 5 are shown in Tables 25 to 30, and the evaluation results of the evaluation sample 6 are shown in Tables 31 to 36.
実施例1における評価結果をもとに、MD及びTDの累積寸法変化量をそれぞれ表37及び図10、並びに表39及び図12に示し、実施例2における評価結果をもとに、MD及びTDの累積寸法変化量をそれぞれ表38及び図11、並びに表40及び図13に示す。各図における横軸は第1番目の孔からの距離(mm)を示し、縦軸は累積寸法変化量(mm)を示す。また、各図のグラフは実測値をもとに算出した数値をプロットし、そのプロットをもとに近似直線を引いたものである。グラフの傾きの大小は、寸法変化率の大小を意味し、グラフの傾きのばらつきの大小(図中矢印の大小)は、寸法変化率の面内ばらつきの大小を意味する。 Based on the evaluation results in Example 1, the cumulative dimensional change amounts of MD and TD are shown in Table 37, FIG. 10, and Tables 39 and 12, respectively. Based on the evaluation results in Example 2, MD and TD Are shown in Table 38 and FIG. 11, and Table 40 and FIG. 13, respectively. In each figure, the horizontal axis indicates the distance (mm) from the first hole, and the vertical axis indicates the cumulative dimensional change (mm). The graphs in each figure are obtained by plotting numerical values calculated based on actual measurement values and drawing an approximate line based on the plots. The magnitude of the slope of the graph means the magnitude of the dimensional change rate, and the magnitude of the variation in the slope of the graph (the magnitude of the arrow in the figure) means the magnitude of the in-plane variation of the dimensional change rate.
表37(表39)及び図10(図12)と表38(表40)及び図11(図13)から、銅張積層板1(実施例1)は、銅張積層板2(実施例2)と比較すると、第1番目の孔からの距離が10mm、30mm、50mmのいずれの場合も累積寸法変化量が小さい、すなわちグラフの傾きが小さいことから、寸法変化率が小さいことが確認された。また、銅張積層板1(実施例1)は、銅張積層板2(実施例2)と比較して、Left、Center、Rightの累積寸法変化量の差が小さい、すなわちグラフの傾きのばらつき(矢印の幅)が小さいことから、寸法変化率の面内ばらつきも小さいことが確認された。 From Table 37 (Table 39) and FIG. 10 (FIG. 12) and Table 38 (Table 40) and FIG. 11 (FIG. 13), the copper-clad laminate 1 (Example 1) is the copper-clad laminate 2 (Example 2). ), The cumulative dimensional change amount is small in all cases where the distance from the first hole is 10 mm, 30 mm, and 50 mm, that is, the inclination of the graph is small, so it was confirmed that the dimensional change rate is small. . Further, the copper-clad laminate 1 (Example 1) has a smaller difference in the cumulative dimensional change amount of Left, Center, and Right than the copper-clad laminate 2 (Example 2), that is, variation in the slope of the graph. Since the (arrow width) is small, it was confirmed that the in-plane variation of the dimensional change rate was small.
比較例
銅張積層板1及び2のそれぞれの寸法変化率について、IPC−TM−650 2.2.4(B)に基づく方法で評価した。まず、銅張積層板のMD方向に250mmに切断し、MD:250mm×TD:250mmとした。図14に示したとおり、切断後の銅張積層板におけるMD:200mm×TD:200mmの範囲に、MD及びTD方向に50mm間隔でマーキングして、銅箔層のエッチング除去前後におけるマーキング位置を測定した。
Comparative example About each dimensional change rate of the copper clad
エッチング後の寸法変化率は、次の式(2)により算出できる。 The dimensional change rate after etching can be calculated by the following equation (2).
エッチング後の寸法変化率(%)=
{[(エッチング後の2点間距離)−(エッチング前の2点間距離)]
/エッチング前の2点間距離}×100 …(2)
Dimensional change rate after etching (%) =
{[(Distance between two points after etching) − (Distance between two points before etching)]
/ Distance between two points before etching} × 100 (2)
上記式により算出した3つの値(i)〜(iii)及び(iv)〜(vi)を平均して、MD及びTD方向における寸法変化率を算出した。その結果を表41に示す。 The three values (i) to (iii) and (iv) to (vi) calculated by the above formula were averaged to calculate the dimensional change rate in the MD and TD directions. The results are shown in Table 41.
表41の結果より、IPC規格に基づく従来法では、寸法変化率の差を見出しにくいことが確認された。また、寸法変化の面内ばらつきを明確にすることは困難であることも確認された。 From the results in Table 41, it was confirmed that it was difficult to find a difference in dimensional change rate in the conventional method based on the IPC standard. It was also confirmed that it is difficult to clarify the in-plane variation of the dimensional change.
[回路配線基板としての評価]
実施例1及び2の結果をもとに、銅張積層板1及び2のそれぞれを材料として形成した回路配線基板の評価を行った。その一例として、L/S(配線幅/配線間隔)=0.025mm/0.025mmの回路配線基板における配線位置ずれ及び面内ばらつきを評価した。
[Evaluation as circuit wiring board]
Based on the results of Examples 1 and 2, the circuit wiring board formed using the copper-clad
まず、エッチング前後における隣り合う2孔間距離(2.5mm間隔)の寸法変化量Δiから、L/S(配線幅/配線間隔)=0.025mm/0.025mmの配線パターンに換算(ダウンサイジング)したときのFPCサイズに対する配線の位置ずれを算出する。 First, the dimensional change delta i of 2 holes distance between adjacent before and after etching (2.5mm spacing), L / S (line width / line spacing) = 0.025 mm / 0.025 mm in terms of the wiring pattern (down The positional deviation of the wiring with respect to the FPC size when sizing is calculated.
ここで、ダウンサイジングは、2.5mm間隔の寸法変化量に1/50を乗じて換算し、FPCサイズに対する配線の位置ずれの算出は、次の式(3)によって算出した。 Here, the downsizing was converted by multiplying the dimensional change amount at intervals of 2.5 mm by 1/50, and the calculation of the positional deviation of the wiring with respect to the FPC size was calculated by the following equation (3).
配線の位置ずれ(%)={[Σi=1 20(Δi/50)]/0.05}×100 …(3) Misalignment of wiring (%) = {[Σ i = 1 20 (Δ i /50)]/0.05}×100 (3)
上記式(3)によって算出した銅張積層板1及び2のそれぞれを材料として形成した回路配線基板におけるMD及びTDの配線の位置ずれの結果をそれぞれ図15及び図16、並びに図17及び図18に示す。各図における横軸はFPCサイズ(mm)を示し、縦軸は配線の位置ずれ(%)を示す。また、各図のグラフは式(3)で算出した数値をプロットし、そのプロットをもとに近似直線を引いたものである。グラフの傾きの大小は、配線の位置ずれの大小を意味し、グラフの傾きのばらつきの大小は、配線の位置ずれの面内ばらつきの大小を意味する。
FIGS. 15 and 16 and FIGS. 17 and 18 show the results of misalignment of the MD and TD wirings on the circuit wiring board formed using the copper clad
上記の結果をもとに、FPCサイズが10mm、30mm及び50mmにおける配線ずれ(%)を表42及び44(材料;銅張積層板1)、並びに表43及び45(材料;銅張積層板2)にまとめた。表中の「範囲」の数値は、中央値±上下範囲を意味する。 Based on the above results, the wiring deviation (%) at FPC sizes of 10 mm, 30 mm and 50 mm is shown in Tables 42 and 44 (Material: Copper-clad laminate 1), and Tables 43 and 45 (Material: Copper-clad laminate 2). ). The numerical value of “range” in the table means median ± upper and lower ranges.
表42〜45の結果より、銅張積層板1及び2を料として形成した回路配線基板(L/S=0.025mm/0.0025mm)について、配線の位置ずれ及び面内ばらつきが評価できることを確認した。
From the results of Tables 42 to 45, it is possible to evaluate the positional deviation of the wiring and the in-plane variation for the circuit wiring board (L / S = 0.025 mm / 0.0025 mm) formed using the copper-clad
以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはなく、種々の変形が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail for the purpose of illustration, this invention is not restrict | limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.
10…試験片、20…仮想の正四角形、20a…中心、20b…角部、21…中心領域、23a,23b…コーナー領域、30…孔、100…金属張積層体
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記金属張積層体の長手方向をMD方向、幅方向をTD方向としたとき、前記試験片において前記MD方向及び前記TD方向と平行な辺を有する仮想の正四角形を想定し、前記正四角形の中心を含む中心領域と、前記正四角形における前記TD方向の一辺を共有する2つの角部の1つずつを含む2つのコーナー領域とに、それぞれ、直線状の配列を含む複数のマークを形成する工程と、
前記複数のマークの位置を計測し、隣接するマークとマークの間の距離L0を算出する第1の計測工程と、
前記試験片の前記金属層の一部分又は全部をエッチングする工程と、
エッチング後に、前記複数のマークの位置を計測し、隣接するマークとマークの間の距離L1を算出する第2の計測工程と、
前記エッチングの前後で同じ2つのマークについて、前記第1の計測工程で得られた距離L0と、前記第2の計測工程で得られた距離L1との差分L1−L0を算出するとともに、2つ以上の前記間隔についての前記差分L1−L0を累積し、前記金属張積層体の前記MD方向及び/又は前記TD方向における累積寸法変化量を得る工程と、
を含む金属張積層体の寸法安定性の評価方法。 A step of preparing a test piece by cutting a long metal-clad laminate in which a metal layer and a resin layer are laminated to a predetermined length;
When the longitudinal direction of the metal-clad laminate is the MD direction and the width direction is the TD direction, a virtual regular square having sides parallel to the MD direction and the TD direction is assumed in the test piece. A plurality of marks each including a linear array are formed in a central region including the center and two corner regions including one each of two corners sharing one side of the regular rectangle in the TD direction. Process,
A first measuring step of measuring positions of the plurality of marks and calculating a distance L0 between adjacent marks;
Etching part or all of the metal layer of the specimen;
A second measuring step of measuring the positions of the plurality of marks after etching and calculating a distance L1 between adjacent marks;
For the same two marks before and after the etching, a difference L1-L0 between the distance L0 obtained in the first measurement step and the distance L1 obtained in the second measurement step is calculated and The step of accumulating the difference L1-L0 for the interval described above to obtain an accumulated dimensional change amount in the MD direction and / or the TD direction of the metal-clad laminate,
Evaluation method of dimensional stability of metal-clad laminate including
前記コーナー領域において、前記複数のマークを、前記正四角形の辺に沿って前記MD方向及び前記TD方向に形成する請求項1に記載の寸法安定性の評価方法。 In the central region, the plurality of marks are formed in the MD direction and the TD direction along a cross shape passing through the center,
The dimensional stability evaluation method according to claim 1, wherein in the corner region, the plurality of marks are formed in the MD direction and the TD direction along the sides of the regular square.
前記回路基板における配線パターンの配線幅と配線間隔の寸法を決定する工程と、
前記金属張積層体について、請求項1から4のいずれか1項に記載の寸法安定性の評価方法により累積寸法変化量を算出する工程と、
前記累積寸法変化量に基づき、前記配線幅と前記配線間隔の寸法を補正する工程と、
補正された前記配線幅と前記配線間隔に基づき、配線加工を行う工程と、
を含むことを特徴とする回路基板の製造方法。
A circuit board manufacturing method for producing a plurality of circuit boards from a metal-clad laminate,
Determining the wiring width and wiring spacing of the wiring pattern on the circuit board;
About the metal-clad laminate, a step of calculating a cumulative dimensional change amount by the dimensional stability evaluation method according to any one of claims 1 to 4,
Correcting the dimensions of the wiring width and the wiring interval based on the cumulative dimensional change amount;
A step of performing wiring processing based on the corrected wiring width and the wiring interval;
A method for manufacturing a circuit board, comprising:
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