JP2009147397A - Inspection mark structure, substrate sheet laminate, multilayer circuit board, method of inspecting lamination matching precision of multilayer circuit board, and method of designing substrate sheet laminate - Google Patents

Inspection mark structure, substrate sheet laminate, multilayer circuit board, method of inspecting lamination matching precision of multilayer circuit board, and method of designing substrate sheet laminate Download PDF

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Yoji Ueda
洋二 上田
Tsukasa Shiraishi
司 白石
Yoshitake Hayashi
林  祥剛
Rikiya Okimoto
力也 沖本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection mark structure for objectively inspecting lamination matching precision. <P>SOLUTION: The inspection mark structure 90 includes: a via hole 1a for inspection provided in one of substrate sheets for composing at least two layers of substrate sheet laminates; a land pattern electrode 1b that is formed at one side of the substrate sheet in which the via hole 1a is provided and is provided on the periphery of an end face 1f of the via hole 1a for inspection in contact with the end face 1f; and an electrode 1c for continuity formed at the other side of the substrate sheet where the via hole 1a for inspection is provided and electrically connected to the end face 1f of the via hole 1a for inspection. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、検査マーク構造、基板シート積層体、多層回路基板、多層回路基板の積層合致精度の検査方法、及び基板シート積層体の設計方法に関する。   The present invention relates to an inspection mark structure, a substrate sheet laminate, a multilayer circuit substrate, a method for inspecting the lamination match accuracy of a multilayer circuit substrate, and a method for designing a substrate sheet laminate.

電子機器の小型化、高密度化に伴い、産業用にとどまらず民生用の分野においても多層回路基板の需要が高まっている。   With the downsizing and higher density of electronic devices, the demand for multilayer circuit boards is increasing not only for industrial use but also for consumer use.

多層回路基板は、セラミック、プリプレグ等で構成された基板材料の内部に導電性のビアホールや、表面に電極パターンを設けてなる基板を複数積層して構成されるもので、回路の小型化、高密度化を図ることができる。   Multi-layer circuit boards are constructed by laminating a plurality of substrates with conductive via holes and electrode patterns on the surface of a substrate material made of ceramic, prepreg, etc. Densification can be achieved.

このような多層回路基板においては高歩留まりの確保が問題となる。多層回路基板は基板を複数積層し、熱処理及び圧着(以下熱プレス加工と呼ぶ)を行うことによって完成されるが、各基板の積層位置にずれが生じると、作成後の積層回路基板の内部においてビアホールや電極同士の短絡等の接続不良が生じ、不良品となってしまう。特に、ALIVH(登録商標)のように、導電性ペーストを用いて層間接続を行う構造の多層回路基板の場合は、熱プレス時に生ずる材料の延び等の原因により各基板のずれは一層生じやすい。   In such a multilayer circuit board, securing a high yield becomes a problem. A multilayer circuit board is completed by laminating a plurality of substrates and performing heat treatment and pressure bonding (hereinafter referred to as hot press processing). However, if a deviation occurs in the lamination position of each substrate, Connection failures such as via holes and short-circuiting between electrodes occur, resulting in defective products. In particular, in the case of a multilayer circuit board having a structure in which interlayer connection is performed using a conductive paste, such as ALIVH (registered trademark), the displacement of each board is more likely to occur due to the extension of the material that occurs during hot pressing.

完成後の多層回路基板において積層位置のずれは修正が不可能なので、各基板の積層合致精度を高めることは、多層回路基板の歩留まり向上において重要である。又、多層回路基板の高密度化の要求に伴い、基板の積層数の増大や回路パターンの微細化が進み、高歩留まりの確保のみならず、高性能化の観点からも、多層回路基板の積層合致精度を高めることが望まれている。   Since it is impossible to correct the misalignment of the stacked positions in the completed multilayer circuit board, it is important to improve the stacking matching accuracy of each board in improving the yield of the multilayer circuit board. In addition, with the demand for higher density of multilayer circuit boards, the number of stacked boards and circuit pattern miniaturization have progressed. It is desired to increase the matching accuracy.

そこで、多層回路基板の積層合致精度を確保すべく、様々な事前検査が行われている。その一例として、積層合致精度の検査に際しては、多層回路基板を構成する各層におけるビアホール又は回路パターン層の位置ずれを認識するためのマーク構造を用いたX線透過装置による検査が行われている(例えば、特許文献1を参照)。   Therefore, various preliminary inspections are performed in order to ensure the stacking matching accuracy of the multilayer circuit board. As an example, when inspecting the stacking match accuracy, an inspection is performed by an X-ray transmission device using a mark structure for recognizing a positional deviation of a via hole or a circuit pattern layer in each layer constituting a multilayer circuit board ( For example, see Patent Document 1).

以下、従来の多層回路基板の検査マーク構造及びそれを用いた積層合致精度の検査について説明する。   Hereinafter, a conventional inspection mark structure of a multilayer circuit board and an inspection of stacking match accuracy using the same will be described.

図18(a)は従来の検査マーク構造を設けた基板シート積層体を熱プレス加工してなる多層回路基板を示した図であり、検査マーク構造の配置が分かるように透視図として描いてある。又図18(b)は図18(a)の検査マーク構造を模式的に示す平面図である。   FIG. 18A is a view showing a multilayer circuit board formed by hot pressing a substrate sheet laminate provided with a conventional inspection mark structure, and is drawn as a perspective view so that the arrangement of the inspection mark structure can be understood. . FIG. 18B is a plan view schematically showing the inspection mark structure of FIG.

各図に示すように、多層回路基板100は、厚み方向の貫通孔に導電性材料を充填して形成されたビアホール101を有する基板が、回路電極102を介して複数層積層されて構成される。各基板のビアホール101が回路電極102と接続することにより内部に電気回路が形成される。   As shown in each figure, the multilayer circuit board 100 is configured by laminating a plurality of layers having via holes 101 formed by filling through-holes in the thickness direction with a conductive material via circuit electrodes 102. . By connecting the via hole 101 of each substrate to the circuit electrode 102, an electric circuit is formed inside.

又、各基板には上記ビアホール101の他、上記の積層合致精度を検査するための検査用マークとしての検査用ビアホール103、104、105、106、107が図18(b)に示す積層方向から見て、互いに重なり合わないような位置に配置され、これら検査用ビアホールにより検査マーク構造110が構成される。   Further, in addition to the via hole 101, each substrate has inspection via holes 103, 104, 105, 106, and 107 as inspection marks for inspecting the alignment accuracy of the stack from the stacking direction shown in FIG. The inspection mark structure 110 is configured by these inspection via holes arranged at positions that do not overlap each other.

積層合致精度検査では、多層回路基板100における検査マーク構造110をX線透過装置を用いて図18(b)の積層方向から観察する。検査用マーク構造の形状が、積層時における形状から歪んで見えたら位置ずれが生じていると判断する。又、検査用マーク構造の歪みの形状を観察することにより、位置ずれが生じた基板の方向や位置ずれの量を判別して、多層回路基板100の良不良を選別するようにしている。
特開2000−340950号公報
In the stacking alignment accuracy inspection, the inspection mark structure 110 on the multilayer circuit board 100 is observed from the stacking direction of FIG. 18B using an X-ray transmission device. If the shape of the inspection mark structure appears to be distorted from the shape at the time of lamination, it is determined that a positional shift has occurred. In addition, by observing the shape of the distortion of the inspection mark structure, the direction of the substrate where the positional deviation has occurred and the amount of the positional deviation are discriminated, and the quality of the multilayer circuit board 100 is selected.
JP 2000-340950 A

しかしながら、上述の従来の検査マーク構造を用いた積層合致精度検査には、以下のような課題があった。   However, the stacking alignment accuracy inspection using the above-described conventional inspection mark structure has the following problems.

上記従来の積層合致精度検査は、X線透過装置を用いるが、位置ずれの判断は最終的には検査者の目視により行われるため、位置ずれの発生、箇所を誤認識する可能性がある。又、位置ずれ量の大きさの判別等においても誤認識の可能性を含むものであった。   The conventional stacking alignment accuracy inspection uses an X-ray transmission device, but the determination of misalignment is ultimately made by visual inspection by the inspector, so there is a possibility that misalignment occurs and the location is erroneously recognized. In addition, there is a possibility of misrecognition in the determination of the amount of positional deviation.

本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、積層合致精度の検査を客観的に行うことができる、検査マーク構造、基板シート積層体、多層回路基板、多層回路基板の積層合致精度の検査方法、及び基板シート積層体の設計方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and can be used for objectively inspecting the stacking match accuracy, and the stacking match accuracy of the inspection mark structure, the substrate sheet laminate, the multilayer circuit board, and the multilayer circuit board. It is an object of the present invention to provide an inspection method and a design method for a substrate sheet laminate.

上記の目的を達成するために、第1の本発明は、少なくとも2層の基板シート積層体を構成する基板シートのいずれかに設けられた検査用ビアホールと、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの一方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触しない所定距離をおいて設けられた、ランドパターン電極と、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの他方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面と電気的に接続するように設けられた導通用電極とを備えた、検査マーク構造である。
In order to achieve the above object, the first aspect of the present invention includes an inspection via hole provided in any of the substrate sheets constituting the substrate sheet laminate of at least two layers,
A land pattern electrode formed on one surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole, and provided around the end surface of the inspection via hole with a predetermined distance not in contact with the end surface;
An inspection mark structure comprising a conduction electrode formed on the other surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole and provided to be electrically connected to an end surface of the inspection via hole; is there.

又、第2の本発明は、前記ランドパターン電極は、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む形状を有する、第1の本発明の検査マーク構造である。   A second aspect of the present invention is the inspection mark structure according to the first aspect of the present invention, wherein the land pattern electrode has a shape surrounding the end face of the inspection via hole without a break.

又、第3の本発明は、前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む形状は、前記検査用ビアホールの前記端面の形状と相似する形状を有する、第2の本発明の検査マーク構造である。   According to a third aspect of the present invention, the shape of the land pattern electrode surrounding the end face of the inspection via hole without a break is similar to the shape of the end face of the inspection via hole. It is an inspection mark structure of the present invention.

又、第4の本発明は、前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む形状は、前記検査用ビアホールの前記端面の形状と非相似の形状を有する、第2の本発明の検査マーク構造である。   According to a fourth aspect of the present invention, the shape of the land pattern electrode surrounding the end face of the inspection via hole seamlessly has a shape that is not similar to the shape of the end face of the inspection via hole. This is an inspection mark structure of the present invention.

又、第5の本発明は、前記ランドパターン電極は、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目をもって囲む形状を有する、第1の本発明の検査マーク構造である。   A fifth aspect of the present invention is the inspection mark structure according to the first aspect of the present invention, wherein the land pattern electrode has a shape surrounding the end surface of the inspection via hole with a cut.

又、第6の本発明は、前記ランドパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面の周囲に設けられた、複数のサブパターン電極から構成されている、第5の本発明の検査マーク構造である。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the inspection mark structure according to the fifth aspect, wherein the land pattern electrode is composed of a plurality of sub-pattern electrodes provided around the end face of the inspection via hole. .

又、第7の本発明は、前記サブパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面に対して点対称に配置されている、第6の本発明の検査マーク構造である。   A seventh aspect of the present invention is the inspection mark structure according to the sixth aspect of the present invention, wherein the sub-pattern electrode is arranged point-symmetrically with respect to the end face of the inspection via hole.

又、第8の本発明は、同一形状の2個又は4個の前記サブパターン電極が、前記検査用ビアホールの端面の周囲に等間隔で設けられている、第7の本発明の検査マーク構造である。   The eighth aspect of the present invention is the inspection mark structure according to the seventh aspect of the present invention, wherein two or four sub-pattern electrodes having the same shape are provided at equal intervals around the end face of the inspection via hole. It is.

又、第9の本発明は、第1の本発明の検査マーク構造を複数備えた検査マーク構造群であって、
前記ランドパターン電極と前記検査用ビアホールの端面の周囲との間の前記所定距離は、全部又は一部の前記検査マーク構造毎に異なっている、検査マーク構造群である。
The ninth aspect of the present invention is an inspection mark structure group comprising a plurality of inspection mark structures of the first aspect of the present invention,
The predetermined distance between the land pattern electrode and the periphery of the end face of the inspection via hole is an inspection mark structure group that is different for all or a part of the inspection mark structures.

又、第10の本発明は、第4の本発明の検査マーク構造を複数備えた検査マーク構造群であって、
それぞれの検査マーク構造の前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む前記形状は同一であって、
前記形状の配置は、互いに一致しない、検査マーク構造群である。
A tenth aspect of the present invention is an inspection mark structure group including a plurality of inspection mark structures of the fourth aspect of the present invention,
The land pattern electrode of each inspection mark structure has the same shape that surrounds the periphery of the end face of the inspection via hole seamlessly,
The arrangement of the shapes is a group of inspection mark structures that do not match each other.

又、第11の本発明は、それぞれの前記検査マーク構造において、
前記検査用ビアホールの前記端面の形状は円形であり、
前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む前記形状は長円又は楕円形状であり、
それぞれの前記形状の長円又は楕円は互いに直交している、第10の本発明の検査マーク構造群である。
Further, an eleventh aspect of the present invention is the above-described inspection mark structure,
The shape of the end face of the inspection via hole is circular,
The shape of the land pattern electrode surrounding the end face of the inspection via hole without interruption is an ellipse or an ellipse,
The ellipse or ellipse of each shape is a group of inspection mark structures according to the tenth aspect of the present invention, which are orthogonal to each other.

又、第12の本発明は、ビアホールを有する複数の基板シートと、
前記複数の基板シートの層に設けられた回路電極と、
前記複数の基板シートの層に形成された、第1の本発明の検査マーク構造を備えた、基板シート積層体である。
A twelfth aspect of the present invention includes a plurality of substrate sheets having via holes,
Circuit electrodes provided in layers of the plurality of substrate sheets;
It is a board | substrate sheet laminated body provided with the inspection mark structure of 1st this invention formed in the layer of the said some board | substrate sheet | seat.

又、第13の本発明は、前記検査マーク構造は複数であって、
前記検査マーク構造における前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む形状は、前記検査用ビアホールの前記端面の形状と非相似の形状を有し、
それぞれの検査マーク構造の前記ランドパターン電極の、前記検査用ビアホールの前記端面の周囲を切れ目無く囲む前記形状は同一であって、
前記形状の配置は、互いに一致しない、第12の本発明の基板シート積層体である。
Further, in the thirteenth aspect of the present invention, there are a plurality of the inspection mark structures,
The shape of the land pattern electrode in the inspection mark structure surrounding the end surface of the inspection via hole without a break has a shape that is not similar to the shape of the end surface of the inspection via hole,
The land pattern electrode of each inspection mark structure has the same shape that surrounds the periphery of the end face of the inspection via hole seamlessly,
The arrangement of the shapes is the substrate sheet laminate of the twelfth aspect of the present invention, which does not match each other.

又、第14の本発明は、第12の本発明の基板シート積層体を熱プレス加工して形成される、多層回路基板である。   The fourteenth aspect of the present invention is a multilayer circuit board formed by hot pressing the substrate sheet laminate of the twelfth aspect of the present invention.

又、第15の本発明は、少なくとも2層の基板シート積層体を構成する基板シートのいずれかに設けられた検査用ビアホールと、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの一方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触するように設けられた、ランドパターン電極と、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの他方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面と電気的に接続するように設けられた導通用電極とを備えた、検査マーク構造である。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided an inspection via hole provided in any one of the substrate sheets constituting the substrate sheet laminate of at least two layers;
A land pattern electrode formed on one surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole, provided around the end surface of the inspection via hole so as to be in contact with the end surface;
An inspection mark structure comprising a conduction electrode formed on the other surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole and provided to be electrically connected to an end surface of the inspection via hole; is there.

又、第16の本発明は、前記ランドパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面の周囲に設けられ、それぞれが前記端面と接触する複数のサブパターン電極から構成されている、第15の本発明の検査マーク構造である。   According to a sixteenth aspect of the present invention, the land pattern electrode includes a plurality of sub-pattern electrodes that are provided around the end face of the inspection via hole and each contact the end face. This is an inspection mark structure.

又、第17の本発明は、前記サブパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面に対して点対称に配置されている、第16の本発明の検査マーク構造である。   A seventeenth aspect of the present invention is the inspection mark structure according to the sixteenth aspect of the present invention, wherein the sub-pattern electrode is arranged point-symmetrically with respect to the end face of the inspection via hole.

又、第18の本発明は、第15の本発明の検査マーク構造を複数備えた検査マーク構造群であって、
前記検査用ビアホールの端面の外径は、全部又は一部の前記検査マーク構造毎に異なっている、検査マーク構造群である。
An eighteenth aspect of the present invention is an inspection mark structure group including a plurality of inspection mark structures of the fifteenth aspect of the present invention,
In the inspection mark structure group, the outer diameter of the end face of the inspection via hole is different for all or part of the inspection mark structures.

又、第19の本発明は、ビアホールを有する複数の基板シートと、
前記複数の基板シートの層に設けられた回路電極と、
前記複数の基板シートの層に形成された、第15の本発明の検査マーク構造を備えた、基板シート積層体である。
The nineteenth aspect of the present invention provides a plurality of substrate sheets having via holes,
Circuit electrodes provided in layers of the plurality of substrate sheets;
It is a board | substrate sheet | seat laminated body provided with the inspection mark structure of 15th this invention formed in the layer of the said some board | substrate sheet | seat.

又、第20の本発明は、前記検査マーク構造は複数であって、
前記検査マーク構造における前記検査用ビアホールの端面と前記ランドパターン電極との接触部分の大きさは、複数の前記検査マーク構造の全部又は一部毎に異なっている、第19の本発明の基板シート積層体である。
The twentieth aspect of the present invention is a plurality of the inspection mark structures,
The size of the contact portion between the end face of the inspection via hole in the inspection mark structure and the land pattern electrode differs for all or a part of the plurality of inspection mark structures. It is a laminate.

又、第21の本発明は、第18の本発明の基板シート積層体を熱プレス加工して形成される、多層回路基板である。   The 21st aspect of the present invention is a multilayer circuit board formed by hot pressing the substrate sheet laminate of the 18th aspect of the present invention.

又、第22の本発明は、ビアホールを有する複数の基板シートと、
前記複数の基板シートの層に設けられた回路電極と、
前記複数の基板シートの層に形成された、少なくとも2層の基板シート積層体を構成する基板シートのいずれかに設けられた検査用ビアホールと、前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの一方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触しない所定距離をおいて、又は前記端面と接触するように設けられた、ランドパターン電極と、前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの他方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面と電気的に接続するように設けられた導通用電極とを含む、検査マーク構造と
を有する多層回路基板の積層合致精度の検査方法であって、
前記検査マーク構造の前記導通用電極と前記ランドパターン電極とを電気的に接続する工程と、
(A)前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触しない所定距離をおいて前記ランドパターン電極を有する前記検査マーク構造の場合は、前記接続により導通がないときに、又、(B)前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触するように設けられた前記ランドパターン電極を有する前記検査マーク構造の場合は、前記接続により導通があるときに、
前記積層合致精度が保たれていると判断する工程とを備えた、多層回路基板の積層合致精度の検査方法である。
A twenty-second aspect of the present invention includes a plurality of substrate sheets having via holes,
Circuit electrodes provided in layers of the plurality of substrate sheets;
One of the inspection via holes provided in any of the substrate sheets constituting the substrate sheet laminate of at least two layers formed in the plurality of substrate sheet layers, and one of the substrate sheets provided with the inspection via holes A land pattern electrode formed on the surface side of the inspection via hole and provided around the end face of the inspection via hole at a predetermined distance not in contact with the end face or in contact with the end face; and the inspection via hole An inspection mark structure including a conduction electrode formed on the other surface side of the substrate sheet provided with a conductive electrode provided to be electrically connected to an end surface of the inspection via hole;
A method for inspecting the multilayer conformity of a multilayer circuit board having
Electrically connecting the conductive electrode of the inspection mark structure and the land pattern electrode;
(A) In the case of the inspection mark structure having the land pattern electrode at a predetermined distance not in contact with the end face around the end face of the inspection via hole, when there is no conduction due to the connection, (B In the case of the inspection mark structure having the land pattern electrode provided in contact with the end surface around the end surface of the inspection via hole,
A method of inspecting the multilayer matching accuracy of a multilayer circuit board, comprising the step of determining that the multilayer matching accuracy is maintained.

又、第23の本発明は、前記積層合致精度は、前記多層回路基板を構成する各基板間の位置ずれの有無、位置ずれの方向、位置ずれの大きさの少なくとも1つである、第22の本発明の多層回路基板の積層合致精度の検査方法である。   In the twenty-third aspect of the invention, the stacking matching accuracy is at least one of the presence / absence of a positional deviation, the direction of the positional deviation, and the magnitude of the positional deviation between the substrates constituting the multilayer circuit board. This is a method for inspecting the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board of the present invention.

又、第24の本発明は、所定の設計条件で、ビアホールを有する複数の基板シートの層に形成された、少なくとも2層の基板シート積層体を構成する基板シートのいずれかに設けられた検査用ビアホールと、前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの一方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触しない所定距離をおいて、又は前記端面と接触するように設けられた、ランドパターン電極と、前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの他方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面と電気的に接続するように設けられた導通用電極とを有する、検査マーク構造が形成された前記複数の基板シートを、その層間に回路電極が位置するように積層して、試験用基板シート積層体を作成する工程と、
前記試験用基板シート積層体を熱プレス加工して試験用多層回路基板を作成する工程と、
第22の本発明の多層回路基板の積層合致精度の検査方法を用いて、前記試験用多層回路基板の前記積層合致精度として、前記基板の位置ずれの方向又は位置ずれの大きさを取得する工程と、
取得した前記基板の位置ずれの方向又は位置ずれの大きさを用いて、前記所定の設計条件を修正する工程を備えた、基板シート積層体の設計方法である。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, there is provided an inspection provided on any of the substrate sheets constituting at least two layers of the substrate sheet laminate formed on the plurality of substrate sheet layers having via holes under predetermined design conditions. A predetermined distance not in contact with the end surface, or around the end surface of the inspection via hole formed on one surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole and the end surface Provided to be in electrical contact with an end face of the inspection via hole formed on the other surface side of the substrate sheet provided with the land pattern electrode and the inspection via hole provided in contact with each other. And stacking the plurality of substrate sheets having the inspection mark structure formed thereon so that the circuit electrodes are positioned between the plurality of substrate sheets. A step of forming,
A step of hot pressing the test substrate sheet laminate to create a test multilayer circuit board;
The step of acquiring the direction of misalignment or the magnitude of misalignment of the substrate as the laminating match accuracy of the test multilayer circuit board using the inspection method of the multilayer match accuracy of the multilayer circuit board according to the twenty-second aspect of the present invention. When,
It is a design method for a substrate sheet laminate, which includes a step of correcting the predetermined design condition using the acquired direction of displacement of the substrate or the magnitude of displacement.

又、第25の本発明は、前記所定の設計条件は、前記複数の基板シートのそれぞれの積層位置である、第24の本発明の基板シート積層体の設計方法である。   The twenty-fifth aspect of the present invention is the method for designing a substrate sheet laminate according to the twenty-fourth aspect of the present invention, wherein the predetermined design condition is a lamination position of each of the plurality of substrate sheets.

本発明によれば、積層合致精度の検査を客観的に行うことができる、検査マーク構造、基板シート積層体、多層回路基板、多層回路基板の積層合致精度の検査方法、及び基板シート積層体の設計方法を提供することができる。   According to the present invention, an inspection mark structure, a substrate sheet laminate, a multilayer circuit board, a multilayer circuit board inspection method for multilayer match accuracy, and a substrate sheet laminate can be objectively inspected. A design method can be provided.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1(a)は、本発明の実施の形態1に係る多層回路基板の検査マーク構造の構成を模式的に示す図であり、図1(b)は図1(a)の要部を模式的に示す拡大図である。ただし図18(a)と同一又は相当部には、同一符号を付した。
(Embodiment 1)
FIG. 1A is a diagram schematically showing a configuration of an inspection mark structure of a multilayer circuit board according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 1B is a schematic view of the main part of FIG. FIG. However, the same or corresponding parts as those in FIG.

図1に示すように、本実施の形態の多層回路基板の検査マーク構造は、熱プレス加工を行い完成する前の基板シート積層体10に設けられる。   As shown in FIG. 1, the inspection mark structure of the multilayer circuit board according to the present embodiment is provided in the board sheet laminate 10 before being completed by hot pressing.

基板シート積層体10は基板シート11a〜11eを積層してなり、各基板シートにはビアホール101が設けられ、又各基板シート層間には内部回路を構成する回路電極102が配置されている。各基板のビアホール101が回路電極102と接続することにより内部に電気回路12が形成される。   The substrate sheet laminate 10 is formed by laminating substrate sheets 11a to 11e, each substrate sheet is provided with a via hole 101, and circuit electrodes 102 constituting an internal circuit are arranged between the substrate sheet layers. By connecting the via hole 101 of each substrate to the circuit electrode 102, an electric circuit 12 is formed inside.

次に、検査マーク構造について、図1(a)に示す基板シート11cと11dの層間に形成された検査マーク構造1を例にとって説明する。図1(a)に示すように、検査マーク構造1は、基板シート11d内に設けられた検査用ビアホール1aと、基板シート11dの両主面にそれぞれ設けられたランドパターン電極1b及び導通用電極1cとから構成される。なお、検査マーク構造1を構成する各電極と、電気回路12を構成する各電極とは、基板シート11a〜11eの各面において同様のパターニングで形成される。   Next, the inspection mark structure will be described taking the inspection mark structure 1 formed between the substrate sheets 11c and 11d shown in FIG. 1A as an example. As shown in FIG. 1A, an inspection mark structure 1 includes an inspection via hole 1a provided in a substrate sheet 11d, land pattern electrodes 1b and conductive electrodes provided on both main surfaces of the substrate sheet 11d. 1c. In addition, each electrode which comprises the test mark structure 1 and each electrode which comprises the electric circuit 12 are formed by the same patterning in each surface of the board | substrate sheets 11a-11e.

導通用電極1cは外形が方形である平板状の形状を有し、検査用ビアホール1aの端面1fと接触している。   The conducting electrode 1c has a flat plate shape with a rectangular outer shape, and is in contact with the end face 1f of the inspection via hole 1a.

一方、図1(b)に示すように、ランドパターン電極1bは導通用電極と同様の平板状の形状を有し、基板シート11dの、導通用電極1cが形成されていない側の主面上に形成されるが、さらに中央に開口部1eが設けられ、検査用ビアホール1aの端面1fはこの開口部1e内に位置し、電極部分とは接触していないように配置される。   On the other hand, as shown in FIG. 1B, the land pattern electrode 1b has a flat plate shape similar to that of the conductive electrode, and on the main surface of the substrate sheet 11d on the side where the conductive electrode 1c is not formed. In addition, an opening 1e is provided in the center, and the end face 1f of the inspection via hole 1a is located in the opening 1e and is disposed so as not to contact the electrode portion.

次に、図2(a)に検査マーク構造1の模式的平面図を、又図2(b)に図2(a)のA−A′直線による模式的断面図を示す。図2(a)に示すように、検査用ビアホール1aの端面1fの形状、及びランドパターン電極1bの開口部1eの形状とは同心円上に位置し、検査用ビアホール1aとランドパターン電極1bとの間には等距離Dの間隔が設けられている。ここで、一般に、開口部1eの形状としては、回路電極102に用いられるランド電極の反転形状を用いる。   Next, FIG. 2A shows a schematic plan view of the inspection mark structure 1, and FIG. 2B shows a schematic cross-sectional view taken along the line AA 'of FIG. 2A. As shown in FIG. 2A, the shape of the end face 1f of the inspection via hole 1a and the shape of the opening 1e of the land pattern electrode 1b are located concentrically, and the inspection via hole 1a and the land pattern electrode 1b There is an equidistant distance D between them. Here, in general, as the shape of the opening 1e, an inverted shape of a land electrode used for the circuit electrode 102 is used.

一方、図1(b)に示すように、ランドパターン電極1b及び導通用電極1cには、基板シート積層体10の外部まで引き出される配線2aがそれぞれ設けられている。配線2aは、熱プレス加工後、多層回路基板として完成した状態にある基板シート積層体10において検流計と接続するのに用いられる。   On the other hand, as shown in FIG. 1B, the land pattern electrode 1 b and the conductive electrode 1 c are provided with wirings 2 a that are led out to the outside of the substrate sheet laminate 10. The wiring 2a is used to connect to a galvanometer in the board sheet laminate 10 in a state completed as a multilayer circuit board after hot pressing.

以上のような構成を有する本実施の形態の多層回路基板の検査マーク構造を用いた多層回路基板の積層合致精度の検査方法の原理について、図3(a)(b)を参照して、以下に説明する。   With reference to FIGS. 3 (a) and 3 (b), the principle of the method for inspecting the stacking alignment accuracy of the multilayer circuit board using the multilayer circuit board inspection mark structure of the present embodiment having the above-described configuration will be described below. Explained.

従来技術の項で説明したように、多層回路基板は、層間に回路電極102が所定位置に配置されるようにした複数の基板シートを積層して基板シート積層体を作成し、これを熱プレス加工することにより完成するが、熱プレス加工時に基板シート間にずれが生ずると、回路電極102間の接触不良を引き起こし、電気回路12の不良の原因となる。   As described in the section of the prior art, a multilayer circuit board is formed by laminating a plurality of board sheets in which circuit electrodes 102 are arranged at predetermined positions between layers to form a board sheet laminate, which is subjected to hot pressing. Although it is completed by processing, if a deviation occurs between the substrate sheets during hot press processing, a contact failure between the circuit electrodes 102 is caused, causing a failure of the electric circuit 12.

本実施の形態の多層回路基板の検査マーク構造においては、図3(a)に示すように、基板シート積層体10が作成された状態では、基板シート11cと基板シート11dとの間に、検査用ビアホール1aの端面1fとランドパターン電極1bとは距離Dをおいて接触しない配置となっている。   In the inspection mark structure of the multilayer circuit board according to the present embodiment, as shown in FIG. 3A, in the state where the substrate sheet laminate 10 is formed, the inspection is performed between the substrate sheet 11c and the substrate sheet 11d. The end face 1f of the via hole 1a for use and the land pattern electrode 1b are arranged so as not to contact each other at a distance D.

次に、熱プレス加工によって多層回路基板を完成させる際、基板シート間に位置ずれが生ずると、基板シート11d内に埋設されている検査用ビアホール1aは基板シート11dの移動に伴って移動する(基板シート11dに対しては移動しない)が、基板シート11c及び基板シート11dの層間に位置するランドパターン電極1bは、位置ずれが生ずると、基板シート11c又は基板シート11dのずれに引きずられて移動する。   Next, when a multilayer circuit board is completed by hot pressing, if a positional shift occurs between the board sheets, the inspection via hole 1a embedded in the board sheet 11d moves with the movement of the board sheet 11d ( The land pattern electrode 1b located between the substrate sheet 11c and the substrate sheet 11d is dragged by the displacement of the substrate sheet 11c or the substrate sheet 11d when the displacement occurs. To do.

このとき、移動距離が開口部1eと検査用ビアホール1aの端面1fとの距離Dより大きくなると、図3(b)に示すように、検査用ビアホール1aの端面1fとランドパターン電極1bと接触する。なお、図3(b)においては基板シート11cが元の位置からずれるものとした。   At this time, when the moving distance becomes larger than the distance D between the opening 1e and the end face 1f of the inspection via hole 1a, as shown in FIG. 3B, the end face 1f of the inspection via hole 1a and the land pattern electrode 1b come into contact with each other. . In FIG. 3B, the substrate sheet 11c is displaced from the original position.

したがって、完成後の多層回路基板の配線2aを検流計2bと接続し、導通の有無を検査することで、位置ずれの有無を判断することができる。すなわち、図3(a)に示すように、位置ずれが生じない場合は配線2a、ランドパターン電極1b、検査用ビアホール1a及び導通用電極1cがなす導通回路は検査用ビアホール1aの端面1fとランドパターン電極1bとが非接触であるため検流計2bを接続しても導通は生じない。   Therefore, it is possible to determine the presence or absence of positional deviation by connecting the wiring 2a of the completed multilayer circuit board to the galvanometer 2b and inspecting the presence or absence of conduction. That is, as shown in FIG. 3A, when there is no misalignment, the conduction circuit formed by the wiring 2a, the land pattern electrode 1b, the inspection via hole 1a, and the conduction electrode 1c is connected to the end face 1f of the inspection via hole 1a and the land. Since the pattern electrode 1b is not in contact with the galvanometer 2b, no conduction occurs even if the galvanometer 2b is connected.

一方、基板シート間の位置ずれにより検査用ビアホール1aの端面1fとランドパターン電極1bとが接触すると、導通回路は完成し検流計2bを接続すると導通が確認できる。   On the other hand, when the end face 1f of the inspection via hole 1a comes into contact with the land pattern electrode 1b due to the displacement between the substrate sheets, the conduction circuit is completed, and conduction can be confirmed when the galvanometer 2b is connected.

このように、本実施の形態の検査マーク構造を利用すると、目視等に基づく誤認識を排除して、客観的に位置ずれの有無を判断できる多層回路基板の積層合致精度の検査方法を実施することが可能となる。   As described above, when the inspection mark structure according to the present embodiment is used, an inspection method of the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board that can objectively determine the presence / absence of a positional deviation is performed by eliminating erroneous recognition based on visual observation or the like. It becomes possible.

ここで、位置ずれの許容度は開口部1eと検査用ビアホール1aの端面1fとの距離Dにより定められている。開口部1eの形状を、回路電極102のランド電極の反転形状として定めることにより、検流計2bによる位置ずれの有無は、完成後の多層回路基板における電気回路12の設計誤差の許容限界の逸脱の有無として検出されることになる。   Here, the tolerance of displacement is determined by the distance D between the opening 1e and the end face 1f of the inspection via hole 1a. By determining the shape of the opening 1e as the inverted shape of the land electrode of the circuit electrode 102, the presence or absence of misalignment due to the galvanometer 2b is a deviation from the allowable limit of the design error of the electric circuit 12 in the completed multilayer circuit board. It will be detected as the presence or absence of.

したがって、開口部1eの寸法又は検査用ビアホール1aの寸法を変更することによって距離Dを調整すれば、必要とする多層回路基板における個々の基板の積層数、回路パターンの微細化等に応じた積層合致精度に基づく検査を、客観的な判断に基づき実行することが可能となる。   Therefore, if the distance D is adjusted by changing the size of the opening 1e or the size of the inspection via hole 1a, the number of stacked layers in the required multilayer circuit board, the number of layers depending on the miniaturization of the circuit pattern, etc. An inspection based on the matching accuracy can be executed based on an objective judgment.

次に、上記の検査マーク構造の、基板シート積層体10上の配置について説明する。   Next, the arrangement of the inspection mark structure on the substrate sheet laminate 10 will be described.

図4は、基板シート積層体10の一例を示す平面図である。図4において、基板シート積層体10は、熱プレス加工後の余剰領域を定める矩形の境界40内に、8個の多層回路基板を一単位とする基板ユニット44をマトリックス状に配置するよう設計される。電気回路12は各多層回路基板に応じて基板シート積層体10内に各々形成される。検査マーク構造は、少なくとも境界40内の対角線上の位置42a及び42bに位置するよう作り込む。基板シート積層体10の位置ずれは縁部に出やすく、又互いに近い条件の位置に設けることによって、検査精度を上げることができる。   FIG. 4 is a plan view showing an example of the substrate sheet laminate 10. In FIG. 4, the substrate sheet laminate 10 is designed so that substrate units 44 each having eight multilayer circuit boards as a unit are arranged in a matrix within a rectangular boundary 40 that defines a surplus area after hot pressing. The The electric circuit 12 is formed in the substrate sheet laminate 10 according to each multilayer circuit board. The inspection mark structure is formed so as to be positioned at least at positions 42 a and 42 b on the diagonal line within the boundary 40. The positional deviation of the substrate sheet laminated body 10 is likely to occur at the edge, and the inspection accuracy can be increased by providing the substrate sheet laminated body 10 at positions close to each other.

又、検査マーク構造を設ける位置は、図中境界40よりも内側の境界41内の対角線上に位置43a及び43bとして設けるようにしてもよい。基板シート積層体10全体において縁部に近い境界40と、中心部に近い境界41とで、熱プレス加工による基板シートの平面上の位置における膨張率等に変化がある場合、位置42a(42b)における検査結果と位置43a(43b)における検査結果とが異なることがあるが、これを容易に検出することができる。   The positions where the inspection mark structure is provided may be provided as positions 43a and 43b on a diagonal line in the boundary 41 inside the boundary 40 in the drawing. When there is a change in the expansion coefficient or the like at a position on the plane of the substrate sheet by hot pressing between the boundary 40 near the edge and the boundary 41 near the center in the entire substrate sheet laminate 10, the position 42a (42b) In some cases, the inspection result at and the inspection result at the position 43a (43b) may be easily detected.

更に、検査マーク構造は、基板ユニット44毎に設ける構成としてもよく、さらに、基板ユニット44から切り出される個々の多層回路基板上に設ける構成としてもよい。この場合、基板ユニット単位、あるいは多層回路基板単位で検査を行うことができる。又、検査マーク構造そのものを製品の識別子として利用することができる。   Further, the inspection mark structure may be provided for each board unit 44, or may be provided on each multilayer circuit board cut out from the board unit 44. In this case, the inspection can be performed in units of board units or in units of multilayer circuit boards. Further, the inspection mark structure itself can be used as a product identifier.

又、図1(a)に示す例では、検査マーク構造における検査用ビアホール1a及びランドパターン電極1bは、回路電極102のパターニングに対応するため、積層前の各基板シートにおいて同一基板シートに設けられていたものと、対向する基板シートにそれぞれ設けられていたものとに分かれることになる。   In the example shown in FIG. 1A, the inspection via hole 1a and the land pattern electrode 1b in the inspection mark structure are provided on the same substrate sheet in each substrate sheet before lamination in order to correspond to the patterning of the circuit electrode 102. It is divided into what was provided, and what was each provided in the opposing board | substrate sheet | seat.

しかしながら、積層後の基板シート積層体においてランドパターン電極は必ず層間に配置されることになり、熱プレス加工による位置ずれの影響は、積層前の各基板シートにおける検査用ビアホール1a及びランドパターン電極1bの配置関係に依存せず生ずると考えてよい。本実施の形態においては、検査マーク構造1における検査用ビアホール1aは基板シート11dに、ランドパターン電極1bは基板シート11cにそれぞれ形成されていたものとしたが、これと隣接する、検査用ビアホール1a及びランドパターン電極1bが同一の基板シート11cに形成されていた構成においても、本発明の効果は同様に得られる。   However, the land pattern electrodes are necessarily arranged between the layers in the laminated substrate sheet, and the influence of misalignment due to hot press processing is caused by the inspection via holes 1a and the land pattern electrodes 1b in each substrate sheet before lamination. It can be considered that this occurs regardless of the arrangement relationship. In the present embodiment, the inspection via hole 1a in the inspection mark structure 1 is formed on the substrate sheet 11d and the land pattern electrode 1b is formed on the substrate sheet 11c. However, the inspection via hole 1a adjacent thereto is formed. Even in the configuration in which the land pattern electrode 1b is formed on the same substrate sheet 11c, the effects of the present invention can be obtained in the same manner.

(実施の形態2)
図5(a)は、本発明の実施の形態2による多層回路基板の検査マーク構造群の模式的平面図であり、図5(b)は、それぞれ図5(a)のA−A′直線による模式的断面図である。
(Embodiment 2)
FIG. 5A is a schematic plan view of the inspection mark structure group of the multilayer circuit board according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 5B is the AA ′ line of FIG. 5A, respectively. It is typical sectional drawing by.

各図に示すように、本実施の形態は、ランドパターン電極1bの開口部1eの形状として互いに直交する楕円形を有する一対の検査マーク構造50a及び50bを、同一基板シート11dに設けてなる検査マーク構造群としたものである。以下、詳細な説明を行う。   As shown in each drawing, in the present embodiment, a pair of inspection mark structures 50a and 50b having an elliptical shape orthogonal to each other as the shape of the opening 1e of the land pattern electrode 1b are provided on the same substrate sheet 11d. It is a mark structure group. Detailed description will be given below.

図5(a)に示すように、検査マーク構造50aにおいて、ランドパターン電極1bの開口部1eは、図中Y軸方向を長軸とする楕円形状を有し、検査用ビアホール1aの端面1fとランドパターン電極1bとの間の距離は、長軸側において実施の形態1と同様の距離Dとし、短軸側においては距離Dより大きい距離D′となるようにした。   As shown in FIG. 5A, in the inspection mark structure 50a, the opening 1e of the land pattern electrode 1b has an elliptical shape having the major axis in the Y-axis direction in the figure, and the end face 1f of the inspection via hole 1a. The distance from the land pattern electrode 1b was set to the same distance D as that of the first embodiment on the long axis side, and the distance D ′ larger than the distance D on the short axis side.

又、検査マーク構造50bにおいて、ランドパターン電極1b′の開口部1e′は、図中Y軸方向を短軸とする楕円形状を有し、検査用ビアホール1a′の端面1f′とランドパターン電極1b′との間の距離を、短軸側において実施の形態1と同様の距離Dとし、長軸側において距離dとした。   Further, in the inspection mark structure 50b, the opening 1e 'of the land pattern electrode 1b' has an elliptical shape having the minor axis in the Y-axis direction in the figure, and the end face 1f 'of the inspection via hole 1a' and the land pattern electrode 1b. The distance between the first axis and the second axis is a distance D similar to that of the first embodiment on the short axis side, and a distance d on the long axis side.

なお、開口部1eと1e′はランドパターン電極における配置以外の寸法は同一である。また、ランドパターン電極1bと1b′、導通用電極1cと1c′とは同一寸法を有する。又、各検査マーク構造はそれぞれ独立に配線が引き出され(図示省略)、導通をチェックすることが可能なものである。   The openings 1e and 1e 'have the same dimensions except for the arrangement in the land pattern electrode. The land pattern electrodes 1b and 1b 'and the conducting electrodes 1c and 1c' have the same dimensions. In addition, each inspection mark structure is such that wiring is drawn out independently (not shown), and continuity can be checked.

これにより、以下の効果が得られる。すなわち、基板シート間に位置ずれが生ずると、ランドパターン電極1b及び1b′の移動に対し、各開口部の楕円形状の長軸又は短軸側に対応する図中X軸方向及び図中Y軸方向とで端面間の距離が異なるため、位置ずれ検知の精度もX、Y両方向で異なる。   Thereby, the following effects are acquired. That is, when a positional deviation occurs between the substrate sheets, the X-axis direction in the drawing and the Y-axis in the drawing corresponding to the elliptical long axis or short axis side of each opening with respect to the movement of the land pattern electrodes 1b and 1b ′. Since the distance between the end faces is different depending on the direction, the accuracy of detecting the displacement is also different in both the X and Y directions.

したがって、検査マーク構造群として図5の一対の検査マーク構造50a、50bを備えた基板シート積層体10を作成し、これを熱プレス加工して多層回路基板を完成した後、検査マーク構造50a、50bについて個別に導通のチェックを行うことにより、位置ずれの方向を客観的に判断することが可能となる。   Therefore, after preparing the substrate sheet laminate 10 including the pair of inspection mark structures 50a and 50b of FIG. 5 as the inspection mark structure group and heat-pressing this to complete the multilayer circuit board, the inspection mark structure 50a, By individually checking the continuity for 50b, it is possible to objectively determine the direction of positional deviation.

チェック結果は(1)検査マーク構造50a、50bいずれにおいても導通が確認されない、(2)検査マーク構造50aのみ導通が確認される、(3)検査マーク構造50bのみ導通が確認される、(4)検査マーク構造50a、50bいずれにおいても導通が確認される、の4通りとなる。   As a result of the check, (1) conduction is not confirmed in either of the inspection mark structures 50a and 50b, (2) conduction is confirmed only in the inspection mark structure 50a, (3) conduction is confirmed only in the inspection mark structure 50b, (4 4) There are four ways in which conduction is confirmed in both the inspection mark structures 50a and 50b.

このうち(2)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれは図中X軸方向に生じたものであることを判断することが可能となる。又、(3)のチェック結果からは、基板シート11dの位置ずれは図中Y軸方向に生じたものであることを判断することが可能となる。なお、(1)のチェック結果は位置ずれの発生がないことを示し、(4)のチェック結果は図中X軸、Y軸の双方において、許容限界を遙かに超えた位置ずれが生じていることを示す。   Of these, from the check result of (2), it is possible to determine that the positional deviation of the substrate sheet 11d has occurred in the X-axis direction in the figure. Further, from the check result of (3), it can be determined that the positional deviation of the substrate sheet 11d has occurred in the Y-axis direction in the figure. The check result in (1) indicates that no misalignment occurs, and the check result in (4) shows that a misalignment far exceeding the allowable limit occurs on both the X axis and Y axis in the figure. Indicates that

このように、本実施の形態の検査マーク構造群によれば、位置ずれの発生の有無の他に、位置ずれの方向も客観的に判断することが可能となる。   As described above, according to the inspection mark structure group of the present embodiment, it is possible to objectively determine the direction of misalignment in addition to the presence or absence of misalignment.

なお、上記の構成においては、開口部1e(1e′)の形状は楕円状としたが、長円、すなわち対向する半円を直線でつないだ形状、若しくは小判状の形状であってもよい。さらに矩形であってもよい。要するに、開口部の形状は、一対の検査マーク構造において、互いに直交する2方向において検査用ビアホールとランドパターン電極との間の距離が互いに異なっており、かつ互いに距離の異なりの向きが異なっているものであれば、図5の構成と同様の効果が得られる。   In the above configuration, the shape of the opening 1e (1e ') is an ellipse, but it may be an ellipse, that is, a shape in which opposing semicircles are connected by a straight line, or an oval shape. Furthermore, a rectangle may be sufficient. In short, in the shape of the opening, in the pair of inspection mark structures, the distance between the inspection via hole and the land pattern electrode is different from each other in two directions orthogonal to each other, and the directions of the distances are different from each other. If it is a thing, the effect similar to the structure of FIG. 5 is acquired.

又、開口部1e(1e′)における、検査用ビアホール1a(1a′)の端面1f(1f′)とランドパターン電極1b(1b′)との間の距離の異なりは、直交する2方向に限定されない。   Further, the difference in distance between the end face 1f (1f ') of the inspection via hole 1a (1a') and the land pattern electrode 1b (1b ') in the opening 1e (1e') is limited to two orthogonal directions. Not.

図6(a)(b)は、本実施の形態の検査マーク構造群の他の構成を示す図である。図6(a)に示すように、開口部の形状として、向きが異なる正三角形の開口部1e及び1e′がそれぞれ設けられたランドパターン電極1b、1b′を有する一対の検査マーク構造51a、51bとしたことにより、基板シート間の位置ずれが図6(a)中の座標(α、β、γ)により記述される3軸方向において生じたものか、この座標を60°回転してなる座標(α′、β′、γ′)により記述される3軸方向において生じたものかを判別することが可能となる。   6A and 6B are diagrams showing another configuration of the inspection mark structure group according to the present embodiment. As shown in FIG. 6A, a pair of inspection mark structures 51a and 51b each having land pattern electrodes 1b and 1b 'provided with equilateral triangular openings 1e and 1e' having different orientations as the shapes of the openings. As a result, the positional deviation between the substrate sheets has occurred in the three-axis directions described by the coordinates (α, β, γ) in FIG. 6A, or coordinates obtained by rotating these coordinates by 60 °. It is possible to determine whether it has occurred in the three-axis directions described by (α ′, β ′, γ ′).

(実施の形態3)
図7(a)は、本発明の実施の形態3による多層回路基板の検査マーク構造の模式的平面図であり、図7(b)は、図7(a)のA−A′直線による模式的断面図である。
(Embodiment 3)
FIG. 7A is a schematic plan view of the inspection mark structure of the multilayer circuit board according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 7B is a schematic view taken along the line AA ′ in FIG. FIG.

又、図8は、図7(a)の要部を模式的に示す斜視図である。各図において、図1、図2と同一又は相当部には、同一符号を付した。   FIG. 8 is a perspective view schematically showing the main part of FIG. In each figure, the same or corresponding parts as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals.

本実施の形態3による検査マーク構造70は、検査用ビアホール1aの端面1fの周囲に、実施の形態1のランドパターン電極1bの代わりに4つのサブパターン電極3a〜3dを設けた点を特徴とする。   The inspection mark structure 70 according to the third embodiment is characterized in that four sub-pattern electrodes 3a to 3d are provided around the end face 1f of the inspection via hole 1a in place of the land pattern electrode 1b of the first embodiment. To do.

図7(a)に示すように、サブパターン電極3a〜3dは、4つの電極全体がなす外形はランドパターン電極1bと略同一であるが、方形形状の対角線に沿って分割されたことにより、独立した電極を構成している。また、各サブパターン電極3a〜3dの端部と検査用ビアホール1aの端面1fとの間隔は等距離Dとなっている。   As shown in FIG. 7A, the sub-pattern electrodes 3a to 3d are substantially the same in outline as the land pattern electrode 1b, but are divided along a diagonal of the square shape. An independent electrode is formed. Further, the distance between the end portion of each of the sub-pattern electrodes 3a to 3d and the end face 1f of the inspection via hole 1a is equal distance D.

又、図8に示すように、本実施の形態3による検査マーク構造において、各サブパターン電極3a〜3dは、それぞれ独立した配線4a〜4dに接続されている。一方、検査用ビアホール1a及び導通用電極1cは実施の形態1と同様の構造を有し、導通用電極1cからは一本の配線5が接続されている。配線4a〜4dと配線5とは、基板シート積層体を熱プレス加工した後の多層回路基板において外部の検流計2bに接続可能である。   As shown in FIG. 8, in the inspection mark structure according to the third embodiment, the sub-pattern electrodes 3a to 3d are connected to independent wirings 4a to 4d, respectively. On the other hand, the inspection via hole 1a and the conducting electrode 1c have the same structure as that of the first embodiment, and one wiring 5 is connected from the conducting electrode 1c. The wirings 4a to 4d and the wiring 5 can be connected to the external galvanometer 2b in the multilayer circuit board after hot pressing the board sheet laminate.

以上のような構成を有する、本実施の形態3による検査マーク構造70を用いることにより、多層回路基板の積層合致精度の検査方法において以下の効果が得られる。   By using the inspection mark structure 70 according to the third embodiment having the above-described configuration, the following effects can be obtained in the inspection method of the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board.

すなわち、多層基板回路内にて基板シート間に位置ずれが生じ、検査用ビアホール1aの端面1fと、ランドパターン電極を構成する各サブパターン電極3a〜3dのいずれかとが接触すれば、検流計2bは導通があることを検出するが、各サブパターン電極3a〜3dはそれぞれ独立しており、また独立した配線4a〜4dによって検流計2bに接続されているため、サブパターン電極3a〜3d毎に導通のチェックを行うことができる。   That is, if a displacement occurs between the substrate sheets in the multilayer substrate circuit and the end face 1f of the inspection via hole 1a comes into contact with any one of the sub-pattern electrodes 3a to 3d constituting the land pattern electrode, the galvanometer 2b detects that there is continuity, but the sub-pattern electrodes 3a to 3d are independent of each other and are connected to the galvanometer 2b by independent wirings 4a to 4d. A continuity check can be performed every time.

したがって、サブパターン電極3a〜3dの配置位置を予め定めておくことにより、サブパターン電極3a〜3d毎の導通のチェックを行う結果から、基板シート間の位置ずれの方向を客観的に判断することが可能となる。   Therefore, by determining the arrangement positions of the sub-pattern electrodes 3a to 3d in advance, the direction of displacement between the substrate sheets can be objectively determined from the result of checking the conduction for each of the sub-pattern electrodes 3a to 3d. Is possible.

本実施の形態の場合、チェック結果は(1)各サブパターン電極3a〜3dいずれにおいても導通が確認されない、(2)各サブパターン電極3a〜3dのいずれか1つにおいて導通が確認される、(3)各サブパターン電極3a〜3dのうち、隣接する一対のサブパターン電極(3a、3b)、(3b、3c)、(3c、3d)、(3d、3a)の組のいずれか1つにおいて導通が確認される、の3通りとなる。   In the case of the present embodiment, the check results are as follows: (1) conduction is not confirmed in any of the sub-pattern electrodes 3a to 3d, and (2) conduction is confirmed in any one of the sub-pattern electrodes 3a to 3d. (3) Any one of a pair of adjacent sub-pattern electrodes (3a, 3b), (3b, 3c), (3c, 3d), (3d, 3a) among the sub-pattern electrodes 3a to 3d There are three ways in which conduction is confirmed.

このうち(2)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれは図中X、Y軸方向のいずれかにおいて生じたものであることを判断することが可能となる。一例として、サブパターン電極3aとの導通が確認された場合は、図中X軸下向きの方向に基板シート11cが移動していると判断することができる。   Among these, from the check result of (2), it is possible to determine that the positional deviation of the substrate sheet 11d has occurred in either the X or Y axis direction in the figure. As an example, when conduction with the sub-pattern electrode 3a is confirmed, it can be determined that the substrate sheet 11c is moving in the downward direction on the X axis in the drawing.

又、(3)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれは図中X、Y軸方向を45°回転させた図中X′、Y′軸方向のいずれかにおいて生じたものであることを判断することが可能となる。一例として、サブパターン電極(3a、3b)との導通が確認された場合は、図中X′軸下向き(紙面において斜め左下)の方向に基板シート11cが移動していると判断することができる。   Further, from the check result of (3), it is found that the positional deviation of the substrate sheet 11d is caused in either the X ′ or Y ′ axis direction in the drawing, which is rotated by 45 ° in the X or Y axis direction in the drawing. It becomes possible to judge. As an example, when continuity with the sub-pattern electrodes (3a, 3b) is confirmed, it can be determined that the substrate sheet 11c is moving in the downward direction of the X 'axis in the drawing (slightly lower left in the drawing). .

このように、本実施の形態においては、ランドパターン電極を各々独立したサブパターン電極として検査用ビアホールの端面の周囲に配置した構成とすることにより、位置ずれの発生の有無の他に、位置ずれの方向も客観的に判断することが可能となる。   As described above, in the present embodiment, the land pattern electrode is arranged as an independent sub-pattern electrode around the end face of the inspection via hole, so that in addition to the occurrence of misalignment, misalignment occurs. It is possible to objectively determine the direction of the.

なお、上記の構成においては、サブパターン電極3a〜3dは、ランドパターン電極の方形形状を対角線に沿って4分割した形状としたが、2分割した形状としてもよい。図9(a)(b)は、図中X軸と平行な方向にサブパターン電極6a及び6bを配置した検査マーク構造71である。この場合、各サブパターン電極6a又は6bのいずれかにおいて導通が確認されることで、基板シート11dの位置ずれが図中Y軸方向において生じたものであると判断することができる。   In the above configuration, the sub-pattern electrodes 3a to 3d are formed by dividing the square shape of the land pattern electrode into four along the diagonal line, but may be divided into two. 9A and 9B show an inspection mark structure 71 in which sub-pattern electrodes 6a and 6b are arranged in a direction parallel to the X axis in the drawing. In this case, it is possible to determine that the positional deviation of the substrate sheet 11d has occurred in the Y-axis direction in the drawing by confirming conduction in either of the sub-pattern electrodes 6a or 6b.

又、図10(a)(b)は、図9の検査マーク構造71とは分割位置を90°回転させて、図中Y軸と平行な方向にサブパターン電極7a及び7bを配置した検査マーク構造72である。この場合、各サブパターン電極7a又は7bのいずれかにおいて導通が確認されることで、基板シート11dの位置ずれが図中X軸方向において生じたものであると判断することができる。   10 (a) and 10 (b) show inspection marks in which the sub-pattern electrodes 7a and 7b are arranged in a direction parallel to the Y axis in the drawing by rotating the dividing position by 90 ° from the inspection mark structure 71 of FIG. Structure 72. In this case, it is possible to determine that the displacement of the substrate sheet 11d has occurred in the X-axis direction in the figure by confirming conduction in either of the sub-pattern electrodes 7a or 7b.

さらに、図9、図10の各検査マーク構造71、72を、実施の形態2と同様に基板シートの同一層間に並列して配置することにより、各サブパターン電極の導通チェック結果の組み合わせに基づき、図7の構成と同様、位置ずれの方向をより細かく判断することができる。   Further, by arranging the inspection mark structures 71 and 72 of FIGS. 9 and 10 in parallel between the same layers of the substrate sheet as in the second embodiment, based on the combination of the continuity check results of the sub-pattern electrodes. As in the configuration of FIG. 7, the direction of misalignment can be determined more finely.

なお、上記の説明においては、4つ又は2つの同一形状のサブパターン電極が検査用ビアホール1aの周囲に形成されるとしたが、サブパターン電極の個数はこれに限定されない。判断したい位置ずれの方向に応じて、奇数としてもよいし、5個以上の任意の数としても良い。又、各サブパターン電極は同一形状であるとしたが、互いに異なる形状であるとしてもよい。さらに、サブパターン電極を検査用ビアホール1aの周囲に点対称に設ける構成としたが、非対称に設ける構成としても良い。これらのバリエーションは、基板シート積層体の作成時、又は検査マーク構造の配置に応じて用いることができる。   In the above description, four or two sub-pattern electrodes having the same shape are formed around the inspection via hole 1a. However, the number of sub-pattern electrodes is not limited to this. Depending on the direction of misalignment to be determined, the number may be an odd number or may be an arbitrary number of 5 or more. Further, although the sub-pattern electrodes have the same shape, they may have different shapes. Further, although the sub-pattern electrode is provided point-symmetrically around the inspection via hole 1a, the sub-pattern electrode may be provided asymmetrically. These variations can be used when creating the substrate sheet laminate or depending on the arrangement of the inspection mark structure.

(実施の形態4)
図11(a)(b)は、本発明の実施の形態4の検査マーク構造群を示す図である。各図において、図1、図2と同一又は相当部には、同一符号を付した。
(Embodiment 4)
FIGS. 11A and 11B are diagrams showing the inspection mark structure group according to the fourth embodiment of the present invention. In each figure, the same or corresponding parts as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals.

検査マーク構造群は、複数の検査マーク構造80〜83を、基板シートの同一層間に並列して配置した構成を有する。図中では基板シート11dと11cとの間に設けられるものとした。又、各検査マーク構造はそれぞれ独立に配線が引き出され(図示省略)、導通をチェックすることが可能なものである。   The inspection mark structure group has a configuration in which a plurality of inspection mark structures 80 to 83 are arranged in parallel between the same layers of the substrate sheet. In the drawing, it is provided between the substrate sheets 11d and 11c. In addition, each inspection mark structure is such that wiring is drawn out independently (not shown), and continuity can be checked.

又、各検査マーク構造80〜83は、開口部の寸法を除いた各部は同一の形状を有する。開口部80e、81e、82e、83eは、その直径L1、L2、L3、L4の間にL1<L2<L3<L4の関係がある。   Further, in each of the inspection mark structures 80 to 83, each part except for the dimension of the opening has the same shape. The openings 80e, 81e, 82e, and 83e have a relationship of L1 <L2 <L3 <L4 among the diameters L1, L2, L3, and L4.

なお、最小の開口部80eの直径L1と検査用ビアホール1aの外形Vとの差は実施の形態1にて定義した所定距離D1の2倍とする。これにより、開口部80eは実施の形態1の検査マーク構造の開口部1eと同一寸法として定義され、他の開口部81e、82e、83eはこれより大きい開口部であるとされる。又、具体例としては、V=130μm、L1=300μm、L2=350μm、L3=400μm、L4=450μm、D=20μmとした。   The difference between the diameter L1 of the smallest opening 80e and the outer shape V of the inspection via hole 1a is twice the predetermined distance D1 defined in the first embodiment. Accordingly, the opening 80e is defined as the same size as the opening 1e of the inspection mark structure of the first embodiment, and the other openings 81e, 82e, and 83e are larger than this. As specific examples, V = 130 μm, L1 = 300 μm, L2 = 350 μm, L3 = 400 μm, L4 = 450 μm, and D = 20 μm.

以上のような構成を有する、本実施の形態4による検査マーク構造群を用いることにより、多層回路基板の積層合致精度の検査方法において以下の効果が得られる。   By using the inspection mark structure group according to the fourth embodiment having the above-described configuration, the following effects can be obtained in the inspection method of the stacking match accuracy of the multilayer circuit board.

すなわち、各検査マーク構造80〜83の開口部の寸法を定めておくことにより、各検査マーク構造80〜83の導通のチェックの結果から、位置ずれの許容限度を示す所定距離D、及び既知である開口部の寸法の差分を利用して、基板シート間の位置ずれの大きさを客観的に判断することが可能となる。   That is, by determining the dimensions of the openings of the respective inspection mark structures 80 to 83, the predetermined distance D indicating the allowable limit of misalignment and the known distance from the result of checking the conduction of the respective inspection mark structures 80 to 83 are known. It is possible to objectively determine the size of the positional deviation between the substrate sheets using the difference in dimension of a certain opening.

本実施の形態の場合、チェック結果は(1)各検査マーク構造80〜83いずれにおいても導通が確認されない、(2)検査マーク構造80のみ導通が確認される、(3)検査マーク構造80及び81の導通が確認される、(4)検査マーク構造80〜82の導通が確認される、(5)各検査マーク構造80〜83すべての導通が確認される、の5通りとなる。ここで(3)のチェック結果は、図11に示す例に対応するものである。   In the case of the present embodiment, the check results are as follows: (1) conduction is not confirmed in any of the inspection mark structures 80 to 83, (2) conduction is confirmed only in the inspection mark structure 80, (3) the inspection mark structure 80 and 81 is confirmed, (4) conduction of the inspection mark structures 80 to 82 is confirmed, and (5) conduction of all the inspection mark structures 80 to 83 is confirmed. Here, the check result of (3) corresponds to the example shown in FIG.

このうち(2)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれの大きさは、D=20μm以上であって、検査マーク構造81の開口部81eの直径L2と検査マーク構造80の開口部80eの直径L1との差分(L2−L1)=50μmより小さい値の範囲内であることが分かる。   Among these, from the check result of (2), the size of the positional deviation of the substrate sheet 11d is D = 20 μm or more, and the diameter L2 of the opening 81e of the inspection mark structure 81 and the opening 80e of the inspection mark structure 80 are. It can be seen that the difference from the diameter L1 (L2−L1) = within a range of values smaller than 50 μm.

又、(3)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれの大きさは、上記(2)のチェック結果に基づく大きさ50μm以上であって、検査マーク構造82の開口部82eの直径L3と検査マーク構造80の開口部80eの直径L1との差分(L3−L1)=100μmより小さい値の範囲内であることが分かる。   Also, from the check result of (3), the size of the positional deviation of the substrate sheet 11d is 50 μm or more based on the check result of (2), and the diameter L3 of the opening 82e of the inspection mark structure 82 is It can be seen that the difference (L3−L1) from the diameter L1 of the opening 80e of the inspection mark structure 80 is within a range of values smaller than 100 μm.

同様に、(4)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれの大きさは、上記(3)のチェック結果に基づく大きさ100μm以上であって、検査マーク構造83の開口部83eの直径L4と検査マーク構造80の開口部80eの直径L1との差分(L4−L1)=150μmより小さい値の範囲内であることが分かる。   Similarly, from the check result of (4), the size of the positional deviation of the substrate sheet 11d is 100 μm or more based on the check result of (3) above, and the diameter L4 of the opening 83e of the inspection mark structure 83. It can be seen that the difference between the diameter L1 of the opening 80e of the inspection mark structure 80 and the diameter L1 (L4−L1) is within a range of values smaller than 150 μm.

このように、本実施の形態においては、開口部の直径がそれぞれ異なる複数のランドパターン電極をそれぞれ有する複数の検査マーク構造からなる検査マーク構造群としたことにより、位置ずれの発生の有無の他に、位置ずれの大きさも客観的かつ定量的に判断することが可能となる。完成後の多層回路基板の精度を定量的に知ることができるため、良不良の判定をよりきめ細かく行うことができる。例えば、精度をより必要とする高密度な多層回路基板と、低密度の多層回路基板との間で製造条件を違えた場合に、製品の良否を判断するのに用いることができる。又、開口部の形状はそのままランド電極の形状として用いることができるため、回路電極102のランド電極の適切な寸法を定量的に知ることができる。   As described above, in the present embodiment, the inspection mark structure group including a plurality of inspection mark structures each having a plurality of land pattern electrodes having different diameters of the openings is used to determine whether or not misalignment has occurred. In addition, it is possible to objectively and quantitatively determine the magnitude of the positional deviation. Since the accuracy of the completed multilayer circuit board can be known quantitatively, it is possible to make a finer determination of good or bad. For example, it can be used to determine the quality of a product when manufacturing conditions are different between a high-density multilayer circuit board that requires higher accuracy and a low-density multilayer circuit board. Moreover, since the shape of the opening can be used as it is as the shape of the land electrode, the appropriate size of the land electrode of the circuit electrode 102 can be quantitatively known.

なお、上記の説明においては、基板シートは等方的に位置ずれを生ずるものとして説明を行ったが、隣接するビアホール間程度の距離であれば、位置ずれの原因となる基板シートの膨張あるいは収縮は等方的かつ一様な大きさで生ずるとみなしてよい。   In the above description, the substrate sheet is described as being isotropically displaced. However, if the distance is between adjacent via holes, the substrate sheet expands or contracts causing the displacement. May be considered to occur in an isotropic and uniform size.

又、上記の説明においては、検査マーク構造群は、実施の形態1の検査マーク構造を複数備えた構成であるとして説明を行ったが、開口部の大きさを個別に異ならせた構成であれば、実施の形態2又は3の検査マーク構造を複数備えたものであるとしてもよい。この場合は、位置ずれの方向及び大きさの両方を客観的に判断することが可能となる。   In the above description, the inspection mark structure group has been described as having a plurality of inspection mark structures according to the first embodiment. However, the size of the openings may be different. For example, a plurality of inspection mark structures according to the second or third embodiment may be provided. In this case, it is possible to objectively determine both the direction and size of the positional deviation.

又、上記の説明においては、検査マーク構造群を構成する全ての検査マーク構造が、互いに開口部の寸法が異なるものとして説明を行ったが、一部のみ異ならせるとしてもよい。同一寸法のものを複数備えたことにより、検査の精度を高める効果がある。   In the above description, all the inspection mark structures constituting the inspection mark structure group have been described as having different opening sizes. However, only a part of the inspection mark structures may be different. By providing a plurality of ones having the same dimensions, there is an effect of improving the inspection accuracy.

(実施の形態5)
図12(a)は、本発明の実施の形態5による多層回路基板の検査マーク構造の模式的平面図であり、図12(b)は、図12(a)のA−A′直線による模式的断面図である。
(Embodiment 5)
FIG. 12A is a schematic plan view of the inspection mark structure of the multilayer circuit board according to the fifth embodiment of the present invention, and FIG. 12B is a schematic view taken along the line AA ′ in FIG. FIG.

又、図13は、図12(a)の要部を模式的に示す斜視図である。各図において、図1、図2と同一又は相当部には、同一符号を付した。   FIG. 13 is a perspective view schematically showing the main part of FIG. In each figure, the same or corresponding parts as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals.

本実施の形態5による検査マーク構造70は、検査用ビアホール1aの端面1fの周囲に、独立した4つの、方形形状のサブパターン電極8a〜8dを設けている。本実施の形態5のサブパターン電極8a〜8dは、その各端部が検査用ビアホール1aの端面1fに重なりあって接触するような位置な構成となっている点で実施の形態1〜4と相違する。   In the inspection mark structure 70 according to the fifth embodiment, four independent rectangular sub-pattern electrodes 8a to 8d are provided around the end face 1f of the inspection via hole 1a. The sub-pattern electrodes 8a to 8d of the fifth embodiment are different from those of the first to fourth embodiments in that each end thereof is positioned so as to overlap and contact the end surface 1f of the inspection via hole 1a. Is different.

図13に示すように、本実施の形態5による検査マーク構造において、各サブパターン電極8a〜8dは、それぞれ独立した配線4a〜4dに接続されている。一方、検査用ビアホール1a及び導通用電極1cは実施の形態1と同様の構造を有し、導通用電極1cからは一本の配線5が接続されている。配線8a〜8dと配線5とは、基板シート積層体を熱プレス加工した後の多層回路基板において外部の検流計2bに接続可能である。   As shown in FIG. 13, in the inspection mark structure according to the fifth embodiment, the sub-pattern electrodes 8a to 8d are connected to independent wirings 4a to 4d, respectively. On the other hand, the inspection via hole 1a and the conducting electrode 1c have the same structure as that of the first embodiment, and one wiring 5 is connected from the conducting electrode 1c. The wirings 8a to 8d and the wiring 5 can be connected to the external galvanometer 2b in the multilayer circuit board after hot pressing the board sheet laminate.

以上のような構成を有する、本実施の形態5による検査マーク構造70を用いることによる、多層回路基板の積層合致精度の検査方法は、以下のようなものである。   A method for inspecting the stacking alignment accuracy of a multilayer circuit board by using the inspection mark structure 70 according to the fifth embodiment having the above-described configuration is as follows.

すなわち、本実施の形態の多層回路基板の検査マーク構造においては、図12及び図14(a)に示すように、基板シート積層体10が作成された状態では、2枚の基板シートの間で、検査用ビアホール1aの端面1fとサブパターン電極8a〜8dの端部と重なり長Lをもって接触した配置となっているが、熱プレス加工によって基板シート間に位置ずれが生じ、基板シート同士の位置ずれ量が重なり長Lより大きくなると、サブパターン電極8a〜8dのいずれか一部、又は電極全部と、検査用ビアホール1aの端面1fとの接触が解除される。   That is, in the inspection mark structure of the multilayer circuit board according to the present embodiment, as shown in FIGS. 12 and 14 (a), in the state where the board sheet laminate 10 is formed, it is between two board sheets. The end face 1f of the inspection via hole 1a and the end portions of the sub-pattern electrodes 8a to 8d are in contact with each other with an overlap length L. However, the positional deviation between the substrate sheets is caused by the hot press processing. When the amount of deviation becomes larger than the overlap length L, the contact between any part or all of the sub-pattern electrodes 8a to 8d and the end face 1f of the inspection via hole 1a is released.

この場合、完成後の多層回路基板の配線2dと検流計2bと接続し導通の有無を検査することで、位置ずれの有無を判断することができる。すなわち、図14(a)に示すように、位置ずれが生じない場合は配線4a〜4d、サブパターン電極8a〜8d、検査用ビアホール1a及び導通用電極1cがなす導通回路においては、検査用ビアホール1aの端面1fと全てのサブパターン電極8a〜8dとは接触しているため検流計2bの接続により導通が確認される。   In this case, it is possible to determine the presence or absence of misalignment by connecting the wiring 2d of the completed multilayer circuit board and the galvanometer 2b and inspecting the presence or absence of conduction. That is, as shown in FIG. 14A, in the case where no positional deviation occurs, in the conduction circuit formed by the wirings 4a to 4d, the sub-pattern electrodes 8a to 8d, the inspection via hole 1a and the conduction electrode 1c, Since the end face 1f of 1a and all the sub-pattern electrodes 8a to 8d are in contact with each other, conduction is confirmed by connection of the galvanometer 2b.

一方、基板シート間の位置ずれにより検査用ビアホール1aの端面1fとサブパターン電極8a〜8dとの接触が解除されると、接触が解除されたサブパターン電極に関する導通回路はオープンとなり、検流計2bを接続すると導通がないことが確認される。図14(b)示す場合においては、図中X軸方向に位置ずれが生じたため、検査用ビアホール1aの端面1fとサブパターン電極8dとの接触が解除されることで、検流計2bは導通がないことが確認される。   On the other hand, when the contact between the end face 1f of the inspection via hole 1a and the sub-pattern electrodes 8a to 8d is released due to the positional deviation between the substrate sheets, the conduction circuit related to the sub-pattern electrode whose contact is released becomes open, and the galvanometer It is confirmed that there is no conduction when 2b is connected. In the case shown in FIG. 14 (b), since the positional deviation has occurred in the X-axis direction in the drawing, the contact between the end face 1f of the inspection via hole 1a and the sub-pattern electrode 8d is released, so that the galvanometer 2b becomes conductive. It is confirmed that there is no.

このように、本実施の形態5の検査マーク構造を利用しても、目視等に基づく誤認識を排除して、客観的に位置ずれの有無を判断できる多層回路基板の積層合致精度の検査方法を実施することが可能となる。   As described above, even when the inspection mark structure of the fifth embodiment is used, a method of inspecting the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board that can objectively determine the presence or absence of misalignment by eliminating erroneous recognition based on visual observation or the like Can be carried out.

さらに、本実施の形態においては、実施の形態3と同様、各サブパターン電極8a〜8dはそれぞれ独立しており、また独立した配線4a〜4dによって検流計2bに接続されているため、サブパターン電極8a〜8d毎に導通のチェックを行うことができる。したがって、サブパターン電極8a〜8dの配置位置を予め定めておくことにより、各サブパターン電極3a〜3d毎の導通のチェック結果から、基板シート間の位置ずれの方向を客観的に判断することが可能となる。   Further, in the present embodiment, as in the third embodiment, each of the sub-pattern electrodes 8a to 8d is independent and is connected to the galvanometer 2b by the independent wirings 4a to 4d. A continuity check can be performed for each of the pattern electrodes 8a to 8d. Therefore, by determining the arrangement positions of the sub-pattern electrodes 8a to 8d in advance, it is possible to objectively determine the direction of positional deviation between the substrate sheets from the result of checking the conduction for each of the sub-pattern electrodes 3a to 3d. It becomes possible.

本実施の形態の場合、チェック結果は(1)各サブパターン電極8a〜8dの全てにおいて導通が確認される、(2)各サブパターン電極8a〜8dのいずれか1つ以外の3つの電極において導通が確認される、(3)各サブパターン電極8a〜8dのうち、隣接する一対のサブパターン電極(8a、8b)、(8b、8c)、(8c、8d)、(8d、8a)の組のいずれか1つにおいて導通が確認される、(4)各サブパターン電極8a〜8dのいずれか1つにおいて導通が確認される、の4通りとなる。   In the case of the present embodiment, the check results are as follows: (1) conduction is confirmed in all the sub-pattern electrodes 8a to 8d, and (2) in three electrodes other than any one of the sub-pattern electrodes 8a to 8d. Conductivity is confirmed. (3) Of the sub-pattern electrodes 8a to 8d, the adjacent sub-pattern electrodes (8a, 8b), (8b, 8c), (8c, 8d), (8d, 8a) Conduction is confirmed in any one of the sets, and (4) conduction is confirmed in any one of the sub-pattern electrodes 8a to 8d.

このうち(2)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれは図中X、Y軸方向のいずれかにおいて生じたものであることを判断することが可能となる。上述したように、図14(b)に示す例は、サブパターン電極8dとの導通が断たれたことが確認された場合であり、図中X軸の方向に基板シートが移動していると判断することができる。   Among these, from the check result of (2), it is possible to determine that the positional deviation of the substrate sheet 11d has occurred in either the X or Y axis direction in the figure. As described above, the example shown in FIG. 14B is a case where it is confirmed that the conduction with the sub-pattern electrode 8d has been cut off, and the substrate sheet has moved in the X-axis direction in the figure. Judgment can be made.

又、(3)のチェック結果から、基板シート11dの位置ずれは図中X、Y軸方向を45°回転させた図中X′、Y′軸方向のいずれかにおいて生じたものであることを判断することが可能となる。図14(c)に示す例は、サブパターン電極8a、8dとの導通が断たれたことが確認された場合であり、図中X′軸の方向に基板シート11が移動していると判断することができる。   Further, from the check result of (3), it is found that the positional deviation of the substrate sheet 11d is caused in either the X ′ or Y ′ axis direction in the drawing, which is rotated by 45 ° in the X or Y axis direction in the drawing. It becomes possible to judge. The example shown in FIG. 14C is a case where it is confirmed that the conduction with the sub-pattern electrodes 8a and 8d is cut off, and it is determined that the substrate sheet 11 is moving in the direction of the X ′ axis in the figure. can do.

更に、(4)のチェック結果から、基板シートの位置ずれは図中X、Y軸方向のいずれかにおいて生じたものであって、かつ上記(2)の場合よりもずれ量が大きいことを判断することが可能となる。図14(d)に示す例は、サブパターン電極8a、8c、8dとの導通が断たれたことが確認された場合であり、基板シートの移動が図中X軸の方向において生じており、かつ基板シートのずれ量が大きいことを判断することができる。   Further, from the check result of (4), it is determined that the positional deviation of the substrate sheet has occurred in either the X-axis or Y-axis direction in the figure, and the deviation amount is larger than in the case of (2) above. It becomes possible to do. The example shown in FIG. 14 (d) is a case where it was confirmed that the conduction with the sub-pattern electrodes 8a, 8c, 8d was cut off, and the movement of the substrate sheet occurred in the X-axis direction in the figure, In addition, it can be determined that the shift amount of the substrate sheet is large.

このように、本実施の形態においては、検査マーク構造90として、独立した導通回路を構成するサブパターン電極のそれぞれの端部を検査用ビアホールの端面の周囲に重ねるように接触して配置した構成とすることにより、位置ずれの発生の有無の他に、位置ずれの方向及び位置ずれの大きさの程度を客観的に判断することが可能となる。   As described above, in the present embodiment, the inspection mark structure 90 is configured such that the respective end portions of the sub-pattern electrodes constituting the independent conduction circuit are in contact with each other so as to overlap the periphery of the end surface of the inspection via hole. By doing so, it is possible to objectively determine the direction of misalignment and the degree of misalignment in addition to the occurrence of misalignment.

更に、本実施の形態においては、サブパターン電極8a〜8dが検査用ビアホールと導通を保つ状態が正常状態となるような構成としたことにより、以下のような利点がある。すなわち、検査マーク構造90を利用した導通検査においては導通を確認できる状態が正常状態であるため、導通回路は接触しているのに導通自体を検出できないといった、検流器2d等の測定機器の動作不良といった、判定の不安要因を取り除き、より信頼性の高い検査を行うことができる。更に、導通状態が正常状態であることを利用して、検査用ビアホール1a及びサブパターン電極8a〜8dを、図1に示す回路電極の一部として用いることも可能となる。   Further, in the present embodiment, the configuration in which the state in which the sub-pattern electrodes 8a to 8d are electrically connected to the inspection via hole is in a normal state has the following advantages. That is, in the continuity inspection using the inspection mark structure 90, since the state where the continuity can be confirmed is a normal state, the continuity itself cannot be detected even though the continuity circuit is in contact with the measuring device such as the galvanometer 2d. It is possible to remove a factor of anxiety of determination such as malfunction and perform a more reliable inspection. Further, the inspection via hole 1a and the sub-pattern electrodes 8a to 8d can be used as a part of the circuit electrode shown in FIG. 1 by utilizing the normal state of the conduction state.

なお、上記の構成においては、サブパターン電極8a〜8dは、検査用ビアホール1aの端面1fの周囲4方向に均等となる交差角(90度)毎に設けた形状としたが、サブパターン電極の配置位置及び個数はこれに限定されない。図15に示す例は、サブパターン電極8a〜8dに加えて、サブパターン電極8e〜8hを追加した構成である。サブパターン電極8e〜8hは、サブパターン電極8a〜8d全体に対して45度回転した、交差角90度の4本一組の電極であり、各端部は、サブパターン電極8a〜8dの重なり幅Lよりも深い重なり幅LLで検査用ビアホール1aの端面1fと重なって接続されている。重なり幅及び重なりの角度が異なる複数のサブパターン電極を用いたことで、位置ずれの検出の精度を高めることができる。又、サブパターン電極は形状によって限定されるものではなく、任意の形状であってもよい。   In the above configuration, the sub-pattern electrodes 8a to 8d have a shape provided at every crossing angle (90 degrees) that is uniform in the four directions around the end surface 1f of the inspection via hole 1a. The arrangement position and the number are not limited to this. The example shown in FIG. 15 has a configuration in which sub-pattern electrodes 8e to 8h are added in addition to the sub-pattern electrodes 8a to 8d. The sub-pattern electrodes 8e to 8h are a set of four electrodes having a crossing angle of 90 degrees rotated by 45 degrees with respect to the entire sub-pattern electrodes 8a to 8d, and each end portion overlaps the sub-pattern electrodes 8a to 8d. The overlap width LL is deeper than the width L and is connected so as to overlap with the end face 1f of the inspection via hole 1a. By using a plurality of sub-pattern electrodes having different overlapping widths and overlapping angles, it is possible to improve the accuracy of detection of displacement. Further, the sub-pattern electrode is not limited by the shape, and may have any shape.

また、上記の説明においては、4つの同一形状のサブパターン電極が検査用ビアホール1aの周囲に形成されるとしたが、サブパターン電極の個数はこれに限定されない。判断したい位置ずれの方向に応じて、奇数としてもよいし、5個以上の任意の数としても良い。又、各サブパターン電極は同一形状であるとしたが、互いに異なる形状であるとしてもよい。さらに、サブパターン電極を検査用ビアホール1aの周囲に点対称に設ける構成としたが、非対称に設ける構成としても良い。これらのバリエーションは、基板シート積層体の作成時、又は検査マーク構造の配置に応じて用いることができる。又、実施の形態3の図9に示す構成と同様、異なる角度で配置されたサブパターン電極を有する検査マーク構造の組み合わせである検査マーク構造群として実施してもよい。又、図11に示す構成と同様、検査用ビアホール1aの端面1fと、サブパターン電極との重なり長が互いに異なる検査マーク構造の組み合わせである検査マーク構造群として実施してもよい。   In the above description, four sub-pattern electrodes having the same shape are formed around the inspection via hole 1a. However, the number of sub-pattern electrodes is not limited to this. Depending on the direction of misalignment to be determined, the number may be an odd number or may be an arbitrary number of 5 or more. Further, although the sub-pattern electrodes have the same shape, they may have different shapes. Further, although the sub-pattern electrode is provided point-symmetrically around the inspection via hole 1a, the sub-pattern electrode may be provided asymmetrically. These variations can be used when creating the substrate sheet laminate or depending on the arrangement of the inspection mark structure. Further, as in the configuration shown in FIG. 9 of the third embodiment, the inspection mark structure group may be implemented as a combination of inspection mark structures having sub-pattern electrodes arranged at different angles. Further, similarly to the configuration shown in FIG. 11, the inspection mark structure group may be implemented by a combination of inspection mark structures in which the end face 1f of the inspection via hole 1a and the sub-pattern electrode have different overlapping lengths.

(実施の形態6)
本発明の実施の形態6として、上述した本発明の各実施の形態の検査マーク構造又は検査マーク構造群を用いた検査方法を用いた多層回路基板の製造方法を、図1に示す電気回路12を備えた5層の多層回路基板の製造を例に取り、図16のフローチャートを参照して説明する。
(Embodiment 6)
As a sixth embodiment of the present invention, a method of manufacturing a multilayer circuit board using the above-described inspection method using the inspection mark structure or inspection mark structure group according to each embodiment of the present invention is shown in FIG. An example of the manufacture of a 5-layer multilayer circuit board having the above will be described with reference to the flowchart of FIG.

ステップS1として、電気回路12に対応するビアホール101を各基板シート11a〜11eに設ける。具体的には、プリプレグやセラミックを基板シートとして、これにレーザなどによって貫通穴を加工し、その貫通穴にCu粉末と熱硬化型エポキシ樹脂からなる導電ペーストを充填してビアホール101を作成する。   As step S1, via holes 101 corresponding to the electric circuit 12 are provided in the substrate sheets 11a to 11e. Specifically, a prepreg or ceramic is used as a substrate sheet, a through hole is processed by a laser or the like, and the via hole 101 is formed by filling the through hole with a conductive paste made of Cu powder and a thermosetting epoxy resin.

次にステップS2として、ビアホール101と同様の手順で検査用ビアホール1aを作成する。なお、ステップS1及びS2は同時並行して行っても良い。   Next, as step S <b> 2, an inspection via hole 1 a is created in the same procedure as the via hole 101. Steps S1 and S2 may be performed in parallel.

次にステップS3として、第1に、基板シート11a〜11eの各主面に回路電極102及び導通用電極1cを設け、個別に両面回路基板を完成させる。   Next, as step S3, first, the circuit electrodes 102 and the conductive electrodes 1c are provided on the main surfaces of the substrate sheets 11a to 11e, and the double-sided circuit boards are individually completed.

ステップS3の詳細は以下の通りである。ビアホールが設けられた各基板シート11a〜11eの各主面に12μmの銅箔を配置し熱プレスで加熱加圧(200℃、50kg/
cm)したあと、エッチングにて回路パターンを形成する。第2に、両面回路基板を積層して基板シート積層体を完成する。具体的には、作業ステージに厚さ12μmの金属箔、プリプレグ、両面回路基板、プリプレグ、金属箔の順で積層する。それぞれの位置決めには位置決めパターンを用いて画像認識などによって位置決めして重ねる。
Details of step S3 are as follows. A 12 μm copper foil is placed on each main surface of each of the substrate sheets 11a to 11e provided with via holes, and heated and pressurized by a hot press (200 ° C., 50 kg /
cm 2 ), and then a circuit pattern is formed by etching. Second, a double-sided circuit board is laminated to complete a board sheet laminate. Specifically, the metal foil having a thickness of 12 μm, the prepreg, the double-sided circuit board, the prepreg, and the metal foil are laminated in this order on the work stage. Each positioning is performed by positioning by image recognition or the like using a positioning pattern.

次に最外面の金属箔の上から加熱したヒータチップなどで加熱加圧し各基板シート11a〜11eの樹脂成分を溶融させ、その後樹脂成分の硬化により両面回路基板と金属箔とを接着して、基板シート積層体10を完成する。この段階で基板シート積層体10内に電気回路12及び検査マーク構造1が形成されることになる。また、この段階までに検査マーク構造1には配線2aを設けておくようにする。   Next, by heating and pressing with a heater chip or the like heated from above the outermost metal foil, the resin component of each of the substrate sheets 11a to 11e is melted, and then the double-sided circuit board and the metal foil are bonded by curing the resin component, The board sheet laminate 10 is completed. At this stage, the electric circuit 12 and the inspection mark structure 1 are formed in the substrate sheet laminate 10. Further, by this stage, the inspection mark structure 1 is provided with the wiring 2a.

次にステップS4として、基板シート積層体10を熱プレス加工して多層回路基板を完成する。具体的には、基板シート積層体10の全面を加熱加圧(200℃、50kg/c
)することにより、各基板シート11a〜11eの各層と金属箔を接着するとともに、両面回路基板の回路パターンと銅箔間を、それぞれの間に挟まれた貫通孔に充填された導電性ペーストによりインナビア接続する。さらに、最外層の金属箔を選択的にエッチングして回路パターンを形成することで多層回路基板が作成される。
Next, as step S4, the substrate sheet laminate 10 is hot-pressed to complete a multilayer circuit board. Specifically, the entire surface of the substrate sheet laminate 10 is heated and pressurized (200 ° C., 50 kg / c
m 2 ), each layer of the substrate sheets 11a to 11e is bonded to the metal foil, and the conductive pattern filled in the through-holes sandwiched between the circuit pattern of the double-sided circuit board and the copper foil is provided. Internal via connection with paste. Furthermore, a multilayer circuit board is created by selectively etching the outermost metal foil to form a circuit pattern.

次に、ステップS5として、完成後の多層回路基板の配線2aに検流計2bを接続し、検査マーク構造1の導通をチェックする。これに基づきステップS6として、多層回路基板の積層合致精度を判断する。   Next, as step S5, the galvanometer 2b is connected to the wiring 2a of the completed multilayer circuit board, and the continuity of the inspection mark structure 1 is checked. Based on this, as step S6, the stacking matching accuracy of the multilayer circuit board is determined.

このとき、実施の形態1の検査マーク構造を用いた場合は、積層合致精度として位置ずれの有無が判断される。又、実施の形態2、3又は5の検査マーク構造を用いた場合は、積層合致精度として位置ずれの有無及び位置ずれの方向が判断される。又、実施の形態4の検査マーク構造を用いた場合は、積層合致精度として位置ずれの有無及び位置ずれの大きさが判断される。   At this time, when the inspection mark structure of the first embodiment is used, the presence / absence of misalignment is determined as the stacking alignment accuracy. When the inspection mark structure according to the second, third, or fifth embodiment is used, the presence / absence of misalignment and the direction of misalignment are determined as the stacking alignment accuracy. Further, when the inspection mark structure of the fourth embodiment is used, the presence / absence of misalignment and the size of misalignment are determined as the stacking matching accuracy.

積層合致精度が好適であると判断された場合は、完成後の多層回路基板は良品なので、ステップS7として、上述の各ステップを繰り返すことにより多層回路基板の製造を継続する。ここでの積層合致精度は位置ずれの有無であって、多層回路基板の個別検査を容易に実現することが可能となる。   If it is determined that the stacking matching accuracy is suitable, the completed multilayer circuit board is a non-defective product. Therefore, as step S7, the production of the multilayer circuit board is continued by repeating the above steps. The stacking alignment accuracy here is the presence / absence of misalignment, and the individual inspection of the multilayer circuit board can be easily realized.

一方、積層合致精度が好適でないと判断された場合は、完成後の多層回路基板は不良品なので破棄される。   On the other hand, when it is determined that the stacking matching accuracy is not suitable, the completed multilayer circuit board is discarded because it is a defective product.

ここで検査マーク構造として、実施の形態2〜5の検査マーク構造を用いて積層合致精度を判断した場合、判断結果に基づき、位置ずれの方向、又は位置ずれの大きさが判明している。そこで、ステップS8として、これら判明した位置ずれの方向、又は位置ずれの大きさを利用して、両面回路基板である各基板シート11a〜11eの積層位置を修正して、基板シート積層体10を作成する。   Here, when the stacking alignment accuracy is determined using the inspection mark structures of Embodiments 2 to 5 as the inspection mark structure, the direction of displacement or the size of displacement is known based on the determination result. Therefore, as step S8, the position of each of the substrate sheets 11a to 11e, which are double-sided circuit boards, is corrected using the direction of displacement or the magnitude of the displacement that has been found, and the substrate sheet laminated body 10 is formed. create.

後はステップS4以後の動作を継続し、積層位置が修正された後の基板シート積層体10に基づき多層回路基板を完成する。   Thereafter, the operation after step S4 is continued, and the multilayer circuit board is completed based on the board sheet laminate 10 after the lamination position is corrected.

なお、上記の各工程において、ステップS4及びS5は本発明の多層回路基板の積層合致精度の検査方法に相当し、ステップS8は本発明の基板シート積層体の設計方法に相当する。   In each of the above steps, steps S4 and S5 correspond to the inspection method of the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board of the present invention, and step S8 corresponds to the design method of the substrate sheet laminate of the present invention.

以上のように、本実施の形態の多層回路基板の製造方法によれば、実施の形態1〜5の検査マーク構造を用いた積層合致精度の検査方法を一連の製造工程に含むことによって、多層回路基板の良否を客観的に判断することができる。   As described above, according to the method for manufacturing a multilayer circuit board of the present embodiment, the multilayer matching accuracy inspection method using the inspection mark structure of Embodiments 1 to 5 is included in a series of manufacturing steps, thereby providing a multilayer The quality of the circuit board can be judged objectively.

さらに、積層合致精度の検査結果から取得した位置ずれの方向、大きさを、次回製造する多層回路基板の製造条件にフィードバックさせることで、多層回路基板の歩留まりを向上させることができる。   Further, the yield and the yield of the multilayer circuit board can be improved by feeding back the direction and size of the positional deviation obtained from the inspection result of the stacking match accuracy to the manufacturing conditions of the multilayer circuit board to be manufactured next time.

なお、上記の説明においては、本発明の所定の設計条件としての修正の対象は、各基板シート11a〜11eの積層位置であるとしたが、設計条件は、各基板シートにおけるビアホール又は回路電極の配置、大きさ等であっても良い。積層する基板シートの層数であってもよい。要するに、多層回路基板の製造に必要なパラメータであれば、任意の数値を設計条件として良い。   In the above description, the correction target as the predetermined design condition of the present invention is the stacking position of each of the substrate sheets 11a to 11e, but the design condition is that of the via hole or the circuit electrode in each substrate sheet. Arrangement, size, etc. may be sufficient. It may be the number of layers of the substrate sheet to be laminated. In short, any numerical value may be used as a design condition as long as it is a parameter necessary for manufacturing a multilayer circuit board.

なお、上記の各実施の形態において、検査マーク構造1、50a、50b、51a、51b、70〜72、80〜83、及び90は本発明の検査マーク構造に相当する。   In each of the above embodiments, inspection mark structures 1, 50a, 50b, 51a, 51b, 70 to 72, 80 to 83, and 90 correspond to the inspection mark structure of the present invention.

又、検査用ビアホール1aは本発明の検査用ビアホールに相当する。   The inspection via hole 1a corresponds to the inspection via hole of the present invention.

又、ランドパターン電極1b、1b′は本発明のランドパターン電極に相当する。   The land pattern electrodes 1b and 1b 'correspond to the land pattern electrodes of the present invention.

又、サブパターン電極3a〜3d、6a、6b、7a、7b、8a〜8d、8e〜8hは本発明のサブパターン電極に相当する。   The sub-pattern electrodes 3a to 3d, 6a, 6b, 7a, 7b, 8a to 8d, and 8e to 8h correspond to the sub-pattern electrodes of the present invention.

又、導通用電極1c、1c′は本発明の導通用電極に相当する。   Conductive electrodes 1c and 1c 'correspond to the conductive electrodes of the present invention.

又、実施の形態1、2及び4の検査マーク構造又は検査マーク構造群のランドパターン電極における開口部1e、1e′80e〜83eは、本発明の、検査用ビアホールの端面を切れ目無く囲む形状に相当する。   Further, the openings 1e and 1e'80e to 83e in the land pattern electrodes of the inspection mark structure or the inspection mark structure group according to the first, second, and fourth embodiments have a shape that seamlessly surrounds the end face of the inspection via hole according to the present invention. Equivalent to.

又、実施の形態3の検査マーク構造のランドパターン電極における、サブパターン電極3a〜3d、6a、6b、7a、7bと、検査用ビアホール1aとの間に形成される領域は、本発明の、検査用ビアホールの端面を切れ目をもって囲む形状に相当する。   In the land pattern electrode having the inspection mark structure of the third embodiment, the region formed between the sub-pattern electrodes 3a to 3d, 6a, 6b, 7a, 7b and the inspection via hole 1a is formed according to the present invention. This corresponds to a shape surrounding the end face of the inspection via hole with a cut.

しかしながら、本発明は上記の各実施の形態に限定されるものではない。   However, the present invention is not limited to the above embodiments.

実施の形態1において、開口部1eの形状として検査用ビアホールの端面を切れ目無く囲む形状とした。例えば、図17に示すように、ランドパターン電極1bの端部の一部に切り欠を設けても良い。この場合開口部は、本発明の、検査用ビアホールの端面を切れ目をもって囲む形状に相当することになる。   In the first embodiment, the shape of the opening 1e is a shape that surrounds the end face of the inspection via hole without a break. For example, as shown in FIG. 17, a notch may be provided in a part of the end portion of the land pattern electrode 1b. In this case, the opening corresponds to a shape surrounding the end face of the inspection via hole with a cut.

又、検査用ビアホールの1aの端面1fの形状はいずれも円形であるとしたが、方形、矩形等の任意の形状であってよい。対応するランドパターン電極の開口部の形状が、端面形状と相似であれば、実施の形態1、4の検査マーク構造又は検査マーク構造群を実現することができる。   Moreover, although the shape of the end face 1f of the inspection via hole 1a is all circular, it may be any shape such as a square or a rectangle. If the shape of the opening of the corresponding land pattern electrode is similar to the end face shape, the inspection mark structure or the inspection mark structure group of the first and fourth embodiments can be realized.

又、対応するランドパターン電極の開口部の形状が、検査用ビアホールの端面の形状と非相似であっても、開口部自身の形状はいずれも同一であって、ランドパターン電極内における配置が、互いに一致しない関係があれば、実施の形態2の検査マーク構造群を実現することができる。   In addition, even if the shape of the opening of the corresponding land pattern electrode is not similar to the shape of the end face of the inspection via hole, the shape of the opening itself is the same, and the arrangement in the land pattern electrode is If there is a relationship that does not match each other, the inspection mark structure group of the second embodiment can be realized.

又、上記の各実施の形態においては、複数の基板シート11a〜11eを積層する基板シート積層体及びこれを熱プレス加工してなる多層回路基板を例として本発明が実施されるものとして説明を行ったが、本発明は、これに限定されるものではなく、完成した複数の多層回路基板同士を積層してなるモジュールの製造において実施しても良い。   Also, in each of the above embodiments, the description is given on the assumption that the present invention is implemented by taking, as an example, a substrate sheet laminate in which a plurality of substrate sheets 11a to 11e are laminated and a multilayer circuit board formed by hot pressing the same. However, the present invention is not limited to this, and may be carried out in the manufacture of a module formed by stacking a plurality of completed multilayer circuit boards.

各多層回路基板同士の積層合致精度を検査することが可能だからである。このとき、積層される各多層回路基板は、表面又は層間に半導体素子等の電気部品、電子部品を備えたものであってもよく、これら電気部品、電子部品の位置あわせの調整においても、本発明は効果を発揮する。   This is because it is possible to inspect the stacking match accuracy between the multilayer circuit boards. At this time, each multilayer circuit board to be laminated may be provided with electric parts and electronic parts such as semiconductor elements on the surface or between layers. The invention is effective.

又、電気回路12を有さない基板シートのみからなる基板シート積層体の焼成物の検査において実施するものとしてもよい。この場合、基板シートに用いるプリプレグやセラミックの熱プレス加工時における伸性、縮性等の物性を検査するのに用いることができる。   Moreover, it is good also as what implements in the test | inspection of the baked material of the board | substrate sheet | seat laminated body which consists only of a board | substrate sheet | seat which does not have the electric circuit 12. FIG. In this case, it can be used for inspecting physical properties such as extensibility and shrinkage at the time of hot pressing of a prepreg or ceramic used for a substrate sheet.

本発明に係る検査マーク構造は、積層合致精度の検査を客観的に行うことができる効果を有し、例えば、検査マーク構造、基板シート積層体、多層回路基板、多層回路基板の積層合致精度の検査方法、及び基板シート積層体の設計方法等として有効である。   The inspection mark structure according to the present invention has an effect that it is possible to objectively perform the inspection of the lamination matching accuracy. For example, the inspection mark structure, the substrate sheet laminate, the multilayer circuit board, the multilayer matching accuracy of the multilayer circuit board can be improved. This is effective as an inspection method, a design method for a substrate sheet laminate, and the like.

(a)本発明の実施の形態1に係る多層回路基板の検査マーク構造の構成を模式的に示す図、(b)図1(a)の要部を模式的に示す拡大図(A) The figure which shows typically the structure of the test | inspection mark structure of the multilayer circuit board based on Embodiment 1 of this invention, (b) The enlarged view which shows typically the principal part of Fig.1 (a). (a)検査マーク構造1の模式的平面図、(b)図2(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) Schematic plan view of inspection mark structure 1 (b) Schematic cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG. (a)本発明の実施の形態1に係る多層回路基板の積層合致精度の検査方法の原理を説明するための図、(b)本発明の実施の形態1に係る多層回路基板の積層合致精度の検査方法の原理を説明するための図(A) The figure for demonstrating the principle of the inspection method of the lamination | stacking matching precision of the multilayer circuit board concerning Embodiment 1 of this invention, (b) The lamination | stacking matching precision of the multilayer circuit board concerning Embodiment 1 of this invention For explaining the principle of the inspection method 基板シート積層体10の一例を示す平面図The top view which shows an example of the substrate sheet laminated body 10 (a)本発明の実施の形態2に係る多層回路基板の検査マーク構造群の構成を模式的に示す図、(b)図5(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the structure of the test mark structure group of the multilayer circuit board concerning Embodiment 2 of this invention, (b) Typical sectional drawing by the AA 'straight line of Fig.5 (a) (a)本発明の実施の形態2に係る多層回路基板の検査マーク構造群の他の構成例を模式的に示す図、(b)図6(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the other structural example of the test mark structure group of the multilayer circuit board based on Embodiment 2 of this invention, (b) The typical cross section by the AA 'line of Fig.6 (a) Figure (a)本発明の実施の形態3に係る多層回路基板の検査マーク構造の構成を模式的に示す図、(b)図7(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the structure of the test | inspection mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 3 of this invention, (b) The typical sectional drawing by the AA 'line of Fig.7 (a) 本発明の実施の形態3に係る多層回路基板の検査マーク構造の要部を模式的に示す拡大図The enlarged view which shows typically the principal part of the inspection mark structure of the multilayer circuit board which concerns on Embodiment 3 of this invention. (a)本発明の実施の形態3に係る多層回路基板の検査マーク構造の他の構成例を模式的に示す図、(b)図9(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the other structural example of the test | inspection mark structure of the multilayer circuit board based on Embodiment 3 of this invention, (b) Typical sectional drawing by the AA 'straight line of Fig.9 (a) (a)本発明の実施の形態3に係る多層回路基板の検査マーク構造の他の構成例を模式的に示す図、(b)図10(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the other structural example of the test | inspection mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 3 of this invention, (b) The typical sectional drawing by the AA 'line of Fig.10 (a) (a)本発明の実施の形態4に係る多層回路基板の検査マーク構造群の構成を模式的に示す図、(b)図7(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the structure of the test mark structure group of the multilayer circuit board based on Embodiment 4 of this invention, (b) The typical sectional drawing by the AA 'straight line of Fig.7 (a) (a)本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造の構成を模式的に示す図、(b)図12(a)のA−A′直線による模式的断面図(A) The figure which shows typically the structure of the test | inspection mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 5 of this invention, (b) The typical sectional drawing by the AA 'straight line of Fig.12 (a) 本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造の要部を模式的に示す拡大図The enlarged view which shows typically the principal part of the inspection mark structure of the multilayer circuit board which concerns on Embodiment 5 of this invention. (a)本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造による検査の説明を模式的に示す図、(b)本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造による検査の説明を模式的に示す図、(c)本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造による検査の説明を模式的に示す図、(d)本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造による検査の説明を模式的に示す図(A) The figure which shows typically description of the test | inspection by the test mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 5 of this invention, (b) By the test mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 5 of this invention The figure which shows description of a test | inspection typically, (c) The figure which shows typically description of the test | inspection by the test mark structure of the multilayer circuit board based on Embodiment 5 of this invention, (d) Embodiment 5 of this invention The figure which shows typically description of the test | inspection by the test mark structure of the multilayer circuit board which concerns on 本発明の実施の形態5に係る多層回路基板の検査マーク構造の他の構成例を模式的に示す図The figure which shows typically the other structural example of the test mark structure of the multilayer circuit board concerning Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6に係る多層回路基板の製造方法を説明するためのフローチャートを示す図The figure which shows the flowchart for demonstrating the manufacturing method of the multilayer circuit board based on Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る多層回路基板の検査マーク構造のランドパターン電極1bの他の構成例を示す図The figure which shows the other structural example of the land pattern electrode 1b of the inspection mark structure of the multilayer circuit board which concerns on Embodiment 1 of this invention. (a)は従来の検査マーク構造を設けた基板シート積層体を熱プレス加工してなる多層回路基板を示す図、(b)従来の検査マーク構造を模式的に示す平面図である。(A) is a figure which shows the multilayer circuit board formed by heat-pressing the board | substrate sheet | seat laminated body which provided the conventional inspection mark structure, (b) The top view which shows typically the conventional inspection mark structure.

1、50a、50b、51a、51b、70〜72、80〜83、90 検査マーク構造
1a 検査用ビアホール
1b、1b′ ランドパターン電極
1c、1c′ 導通用電極
1e、1e′ 開口部
1f 端面
2a、4a、5 配線
2b 検流計
3a〜3d、6a、6b、7a、7b、8a〜8d、8e〜8h サブパターン電極
10 基板シート積層体
11a〜11e 基板シート
12 電気回路
40、41 境界
42a、42b、43a、43b 位置
101 ビアホール
102 回路電極
1, 50a, 50b, 51a, 51b, 70-72, 80-83, 90 Inspection mark structure 1a Inspection via hole 1b, 1b 'Land pattern electrode 1c, 1c' Conduction electrode 1e, 1e 'Opening
1f End face 2a, 4a, 5 Wiring 2b Galvanometer 3a-3d, 6a, 6b, 7a, 7b, 8a-8d, 8e-8h Sub-pattern electrode 10 Substrate sheet laminate 11a-11e Substrate sheet 12 Electric circuit 40, 41 Boundary 42a, 42b, 43a, 43b Position 101 Via hole 102 Circuit electrode

Claims (11)

少なくとも2層の基板シート積層体を構成する基板シートのいずれかに設けられた検査用ビアホールと、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの一方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面の周囲に、前記端面と接触するように設けられたランドパターン電極と、
前記検査用ビアホールが設けられた前記基板シートの他方の面側に形成された、前記検査用ビアホールの端面と電気的に接続するように設けられた導通用電極とを備えた、検査マーク構造。
An inspection via hole provided in any of the substrate sheets constituting at least two layers of the substrate sheet laminate,
Around the end face of the inspection via hole formed on one surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole, a land pattern electrode provided so as to be in contact with the end face;
An inspection mark structure comprising: a conduction electrode formed on the other surface side of the substrate sheet provided with the inspection via hole and provided to be electrically connected to an end surface of the inspection via hole.
前記ランドパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面の周囲に設けられ、それぞれが前記端面と接触する複数のサブパターン電極から構成されている、請求項1に記載の検査マーク構造。   2. The inspection mark structure according to claim 1, wherein the land pattern electrode is formed around a plurality of sub-pattern electrodes that are provided around an end face of the inspection via hole and each contact with the end face. 前記サブパターン電極は、前記検査用ビアホールの端面に対して点対称に配置されている、請求項2に記載の検査マーク構造。   The inspection mark structure according to claim 2, wherein the sub-pattern electrode is arranged point-symmetrically with respect to an end face of the inspection via hole. 請求項1に記載の検査マーク構造を複数備えた検査マーク構造群であって、
前記検査用ビアホールの端面の外径は、全部又は一部の前記検査マーク構造毎に異なっている、検査マーク構造群。
An inspection mark structure group comprising a plurality of inspection mark structures according to claim 1,
An inspection mark structure group in which an outer diameter of an end face of the inspection via hole is different for all or a part of the inspection mark structures.
ビアホールを有する複数の基板シートと、
前記複数の基板シートの層に設けられた回路電極と、
前記複数の基板シートの層に形成された、請求項1に記載の検査マーク構造を備えた、基板シート積層体。
A plurality of substrate sheets having via holes;
Circuit electrodes provided in layers of the plurality of substrate sheets;
The board | substrate sheet laminated body provided with the test | inspection mark structure of Claim 1 formed in the layer of these board | substrate sheets.
前記検査マーク構造は複数であって、
前記検査マーク構造における前記検査用ビアホールの端面と前記ランドパターン電極との接触部分の大きさは、複数の前記検査マーク構造の全部又は一部毎に異なっている、請求項5に記載の基板シート積層体。
The inspection mark structure is plural,
6. The substrate sheet according to claim 5, wherein a size of a contact portion between an end face of the inspection via hole and the land pattern electrode in the inspection mark structure is different for all or a part of the plurality of the inspection mark structures. Laminated body.
請求項5に記載の基板シート積層体を熱プレス加工して形成される、多層回路基板。   A multilayer circuit board formed by hot pressing the board sheet laminate according to claim 5. ビアホールを有する複数の基板シートと、
前記複数の基板シートの層に設けられた回路電極と、
前記複数の基板シートの層に形成された請求項1に記載の検査マーク構造と
を有する多層回路基板の積層合致精度の検査方法であって、
前記検査マーク構造の前記導通用電極と前記ランドパターン電極とを電気的に接続する工程と、
前記接続により導通があるときに、前記積層合致精度が保たれていると判断する工程とを備えた、多層回路基板の積層合致精度の検査方法。
A plurality of substrate sheets having via holes;
Circuit electrodes provided in layers of the plurality of substrate sheets;
The inspection mark structure according to claim 1, wherein the inspection mark structure is formed in a layer of the plurality of substrate sheets.
A method for inspecting the multilayer conformity of a multilayer circuit board having
Electrically connecting the conductive electrode of the inspection mark structure and the land pattern electrode;
And a step of determining that the stacking match accuracy is maintained when the connection is conductive.
前記積層合致精度は、前記多層回路基板を構成する各基板間の位置ずれの有無、位置ずれの方向、位置ずれの大きさの少なくとも1つである、請求項8に記載の多層回路基板の積層合致精度の検査方法。   The multilayer circuit board stacking according to claim 8, wherein the stacking matching accuracy is at least one of the presence / absence of a positional deviation, a direction of the positional deviation, and a magnitude of the positional deviation between the substrates constituting the multilayer circuit board. Inspection method for conformity accuracy. 所定の設計条件で、ビアホールを有する複数の基板シートの層に形成された請求項1に記載の検査マーク構造を有する前記複数の基板シートを、その層間に回路電極が位置するように積層して、試験用基板シート積層体を作成する工程と、
前記試験用基板シート積層体を熱プレス加工して試験用多層回路基板を作成する工程と、
請求項8に記載の多層回路基板の積層合致精度の検査方法を用いて、前記試験用多層回路基板の前記積層合致精度として、前記基板の位置ずれの方向又は位置ずれの大きさを取得する工程と、
取得した前記基板の位置ずれの方向又は位置ずれの大きさを用いて、前記所定の設計条件を修正する工程を備えた、基板シート積層体の設計方法。
The plurality of substrate sheets having the inspection mark structure according to claim 1, wherein the plurality of substrate sheets are formed on a plurality of substrate sheet layers having via holes under predetermined design conditions, so that circuit electrodes are positioned between the layers. A step of creating a test substrate sheet laminate,
A step of hot pressing the test substrate sheet laminate to create a test multilayer circuit board;
A step of acquiring a direction of misalignment or a magnitude of misalignment of the board as the laminating match accuracy of the test multilayer circuit board using the multilayer circuit board stacking precision testing method according to claim 8. When,
A method for designing a substrate sheet laminate, comprising a step of correcting the predetermined design condition using the obtained direction of displacement of the substrate or the magnitude of displacement.
前記所定の設計条件は、前記複数の基板シートのそれぞれの積層位置である、請求項10に記載の基板シート積層体の設計方法。   The method for designing a substrate sheet laminate according to claim 10, wherein the predetermined design condition is a lamination position of each of the plurality of substrate sheets.
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